JPH01111832A - 真空開閉器用電極材料 - Google Patents
真空開閉器用電極材料Info
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- JPH01111832A JPH01111832A JP63247661A JP24766188A JPH01111832A JP H01111832 A JPH01111832 A JP H01111832A JP 63247661 A JP63247661 A JP 63247661A JP 24766188 A JP24766188 A JP 24766188A JP H01111832 A JPH01111832 A JP H01111832A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は低サイダン電流特性が要求される真空開閉器に
関し、特にw4(以下Cuと凹<) とビスマス(以下
[1iと書()、鉛(以下pbと書<)、インジウム(
以下Inと書く)等の低融点金属との合金で形成される
電極材料に関するものである。
関し、特にw4(以下Cuと凹<) とビスマス(以下
[1iと書()、鉛(以下pbと書<)、インジウム(
以下Inと書く)等の低融点金属との合金で形成される
電極材料に関するものである。
従来この種の接点用合金として、銅−ビスマス合金(以
下Cu −Biと書く、他の元素の組合せの合金につい
ても、同様に元素記号の組合せで表示する。 )、Cu
−Pb、 Cu−3bやCu−Co−B1. Cu−C
r−B1等があった。低サイダン電流特性が要求されな
い場合は、Bi等の低融点金属の含有量は1%41%で
示す、以下同じ、)内外と低くおさえて低サイダン特性
よりはむしろ耐溶着性に重点がおかれ、一方IA以下の
低いサイダン電流特性が要求される場合には、Bi等の
低融点金属の含有量を10〜20%のオーダで多量に含
有させる事が行われていた。
下Cu −Biと書く、他の元素の組合せの合金につい
ても、同様に元素記号の組合せで表示する。 )、Cu
−Pb、 Cu−3bやCu−Co−B1. Cu−C
r−B1等があった。低サイダン電流特性が要求されな
い場合は、Bi等の低融点金属の含有量は1%41%で
示す、以下同じ、)内外と低くおさえて低サイダン特性
よりはむしろ耐溶着性に重点がおかれ、一方IA以下の
低いサイダン電流特性が要求される場合には、Bi等の
低融点金属の含有量を10〜20%のオーダで多量に含
有させる事が行われていた。
またCo、 Cr、 Ni、 Ti、 W、 Fe等は
耐電圧特性を向上させる事を目的として付加されていた
。しかしながら、Bi、 Pb、 In等の低融点金属
は常温状態でCuにほとんど固溶せず、Cuの粒界に凝
集した金属組織として析出しているため、必然的に大電
流しゃ断の際はその多量の低融点金属の蒸気が災し、し
ゃ断時性を大巾に減すると共に、粒界に析出した低融点
金属が合金の機械的強度を著しく劣化させる欠点を有し
ていた。また、電極棒へのろう付(700〜800℃)
の際にはその接合部に低融点金属が侵入し、その接合強
度が極端に低下し、かつ真空容器に組み込み400〜6
00℃で脱ガス排気する場合にも、低融点金属が藩発飛
散して容器内面を汚染するため、耐電圧特性が低下する
等の欠点を有していた。
耐電圧特性を向上させる事を目的として付加されていた
。しかしながら、Bi、 Pb、 In等の低融点金属
は常温状態でCuにほとんど固溶せず、Cuの粒界に凝
集した金属組織として析出しているため、必然的に大電
流しゃ断の際はその多量の低融点金属の蒸気が災し、し
ゃ断時性を大巾に減すると共に、粒界に析出した低融点
金属が合金の機械的強度を著しく劣化させる欠点を有し
ていた。また、電極棒へのろう付(700〜800℃)
の際にはその接合部に低融点金属が侵入し、その接合強
度が極端に低下し、かつ真空容器に組み込み400〜6
00℃で脱ガス排気する場合にも、低融点金属が藩発飛
散して容器内面を汚染するため、耐電圧特性が低下する
等の欠点を有していた。
さらに、負荷電流の開閉と共に低融点金属が選択的に蒸
発飛散し、接点表面が徐々に銅すンチになるにつれ、そ
のサイダン電流値が上昇する致命的な欠点も有していた
。
発飛散し、接点表面が徐々に銅すンチになるにつれ、そ
のサイダン電流値が上昇する致命的な欠点も有していた
。
この発明は上記のような従来のものの欠点を除去するた
めになされたもので、多量の低融点金属の含有による整
置を抑制することにより、しゃ断性能や耐電圧特性、あ
るいはろう付性等を向上させると共に、多数回の電流開
閉でも安定した低いサイダン電流特性を維持しうろこと
を特徴とする真空開閉器用電極材料を提供することを目
的とする。
めになされたもので、多量の低融点金属の含有による整
置を抑制することにより、しゃ断性能や耐電圧特性、あ
るいはろう付性等を向上させると共に、多数回の電流開
閉でも安定した低いサイダン電流特性を維持しうろこと
を特徴とする真空開閉器用電極材料を提供することを目
的とする。
即ち、この発明は銅を主成分とし、副成分としてBi等
の低融点金属たる第1の金属を20重量%以下の範囲で
添加し、Te等の第2の金属を添加し、かつCr等の第
3の金属を添加したものであり、これによりしゃ断性能
や耐電圧特性等を向上させうる新規な真空開閉器用電極
材料を提供することを目的とする。
の低融点金属たる第1の金属を20重量%以下の範囲で
添加し、Te等の第2の金属を添加し、かつCr等の第
3の金属を添加したものであり、これによりしゃ断性能
や耐電圧特性等を向上させうる新規な真空開閉器用電極
材料を提供することを目的とする。
以下、本発明の実施例について説明する。第1図は真空
スイッチ管の構造図で、(1)は真空絶縁容器、前記真
空絶縁容器(1)の両端を閉塞する端板(2)および(
3)とにより形成された容器内部に電極(4)および(
5)が、それぞれ電極棒(6)および(7)の一端に、
お互いが対向するよう配設されている。前記電極棒(6
)の他端は前記端板(2)に気密に固着され、一方の前
記?i!極(7)は、ベローズ(8)を介して前記端板
(3)に気密を川うことなく軸方向の動作が可能なよう
に接合されている。シールド(9)およびOlがアーク
により発生する薫気で汚染されることがないよう、それ
ぞれ前記真空絶縁容器(11の内面および前記ベローズ
(8)を覆っている。電極(4)および(5)の構成を
第2図に示す、電極+51はその背面で電極棒(7)に
ろう材(51)を介挿してろう付されている。前記電極
+41. +51は本発明に係るCu−L Ml
M3係合金(ここで、Mlは副成分を構成する第1の金
属材料であり、Bi、 Pb、 In、 Li、 Sn
、 のうち少なくとも1種も一種あるいはその合金、
hは同じく添付金属を構成 する第3の金属材料であり、、 Fe、 Cr、 Ni
、 Ti、 Go。
スイッチ管の構造図で、(1)は真空絶縁容器、前記真
空絶縁容器(1)の両端を閉塞する端板(2)および(
3)とにより形成された容器内部に電極(4)および(
5)が、それぞれ電極棒(6)および(7)の一端に、
お互いが対向するよう配設されている。前記電極棒(6
)の他端は前記端板(2)に気密に固着され、一方の前
記?i!極(7)は、ベローズ(8)を介して前記端板
(3)に気密を川うことなく軸方向の動作が可能なよう
に接合されている。シールド(9)およびOlがアーク
により発生する薫気で汚染されることがないよう、それ
ぞれ前記真空絶縁容器(11の内面および前記ベローズ
(8)を覆っている。電極(4)および(5)の構成を
第2図に示す、電極+51はその背面で電極棒(7)に
ろう材(51)を介挿してろう付されている。前記電極
+41. +51は本発明に係るCu−L Ml
M3係合金(ここで、Mlは副成分を構成する第1の金
属材料であり、Bi、 Pb、 In、 Li、 Sn
、 のうち少なくとも1種も一種あるいはその合金、
hは同じく添付金属を構成 する第3の金属材料であり、、 Fe、 Cr、 Ni
、 Ti、 Go。
Wのうち少なくとも一種(以下同様)から成っている。
例えばCu M+ L Ms係金合金してCu−
B1− Te −Crがある。この接点用合金はそれぞ
れの材幻 純度水素雰囲気炉内で4に=41000℃の温度で焼結
して作られる。h11成分であるCuに対し、常温状態
ではほとんど固溶せず、主として低サイダン電流特性を
確保できる低融点金属が選ばれる0台2は、門、と合金
化させたとき、その合金の融点がMlの融点より高くな
るものから選ばれる添加金属である。
B1− Te −Crがある。この接点用合金はそれぞ
れの材幻 純度水素雰囲気炉内で4に=41000℃の温度で焼結
して作られる。h11成分であるCuに対し、常温状態
ではほとんど固溶せず、主として低サイダン電流特性を
確保できる低融点金属が選ばれる0台2は、門、と合金
化させたとき、その合金の融点がMlの融点より高くな
るものから選ばれる添加金属である。
例えば、低融点金属としてBi、 JとしてTeを選ん
だものが前述の例であり、Biは、融点273℃である
が、Teとの間で585℃の融点の金属間化合物(Bi
、Te5)を、又、413℃の融点の共晶合金(TeB
izTe3)を形成することが出来る。又りは前記り、
と門2の合金の融点以下で主成分であるCuとの間で、
金属間化合物あるいは共晶合金を形成するようなものが
望ましい1例えば、TeはCuTe、 CuzTe 。
だものが前述の例であり、Biは、融点273℃である
が、Teとの間で585℃の融点の金属間化合物(Bi
、Te5)を、又、413℃の融点の共晶合金(TeB
izTe3)を形成することが出来る。又りは前記り、
と門2の合金の融点以下で主成分であるCuとの間で、
金属間化合物あるいは共晶合金を形成するようなものが
望ましい1例えば、TeはCuTe、 CuzTe 。
CutTes等の金属間化合物や共晶合金を形成するこ
である。 CrやTiは良く知られているようにゲッタ
ー作用を有しているものでもありしゃ断時のガス吸着能
力による特性向上を期待することが出来るので1として
適している。
である。 CrやTiは良く知られているようにゲッタ
ー作用を有しているものでもありしゃ断時のガス吸着能
力による特性向上を期待することが出来るので1として
適している。
従来のCu−旧−Crの場合では、粉末混合段階で、い
かに微細かつ均一な分散の混合物を得ても、成形−焼結
完了後にはBiの凝集したかたまりが粗く分布する金属
組織をもつ合金しか得られなかった。
かに微細かつ均一な分散の混合物を得ても、成形−焼結
完了後にはBiの凝集したかたまりが粗く分布する金属
組織をもつ合金しか得られなかった。
これは焼結過程で、融点の低いBi (融点273℃)
のみが昇温初期に溶融し、しかもCuへの溶解度が低い
温度域(273〜600℃)では、焼結前(成形時)に
空隙が存在しているため、容易にこのF′82 B i
が流動して、大きなiammを形成するためである。
のみが昇温初期に溶融し、しかもCuへの溶解度が低い
温度域(273〜600℃)では、焼結前(成形時)に
空隙が存在しているため、容易にこのF′82 B i
が流動して、大きなiammを形成するためである。
700℃以上になると、BiはCuへの溶解度を急速に
増し、焼結も促進される。しかしながら、約1000℃
の焼結後冷却過程ではCuに固溶したBiがCuの粒界
に急速に析出されるため、凝集した組織は温存され、−
Ffその度を強め、最終的には、Biの凝集体が粗く分
布する合金状態となっていた。これらの傾向はpbやI
n、 Li等にも見られる。
増し、焼結も促進される。しかしながら、約1000℃
の焼結後冷却過程ではCuに固溶したBiがCuの粒界
に急速に析出されるため、凝集した組織は温存され、−
Ffその度を強め、最終的には、Biの凝集体が粗く分
布する合金状態となっていた。これらの傾向はpbやI
n、 Li等にも見られる。
本発明による前述したCu−B1−Te−Crの場合、
これらの弊害は以下説明する様にして効率よく除去され
る。すなわち、昇温過程では、混合段階で微細均一に分
散したBiとToが互いに溶解しあう。
これらの弊害は以下説明する様にして効率よく除去され
る。すなわち、昇温過程では、混合段階で微細均一に分
散したBiとToが互いに溶解しあう。
Teの融点450℃近辺迄は、Te粒子自身は全溶せず
、その位置にとどまりつつ、近傍のBiの溶解量を増し
ていくのみであり、従来のような多量の溶融Biの流動
は生じない、一方、主成分であるCuはTeと360℃
近辺で反応を始め互いに溶解し合うため、主成分である
Cuの焼結を促進する。即ちTa粒はBiより高い融点
を持ちながら、その融点ではCuへの大きな溶解度を持
つため、溶融流動を生ずることかない、しかもTeはB
iとも急速に溶解し合いBigTexなる金属間化合物
の融点585℃迄Biも大きな流動性を生じないで焼結
は進む、更に温度が上がると、Bi2Te2は完全な溶
融状態となるが、溶融Biよりその流動性は低いもので
あり、かつその温度ヤ■域では[li、 Te共Cuに
十分溶解し得るため、凝集組織を作ることなく焼結が完
了する。冷却過程はこの逆を辿るのみであり、微細均一
な分布を持つBiとTeが析出すると共にB11Te3
及びCuzTeやCu4T(!3 、 CuTe等の金
属間化合物、あるいはBiとTa5CuとTeの共晶合
金が微細に分散して析出する。BiやTeの単体として
の析出量と、金属間化合物と共晶合金の析出量の割合は
それぞれの投入配合金や、冷却速度等で決定されるが、
従来例に比らべて、微細かつ均一な組織が得られること
には変りはななお上記実施例では、Mlとして81%
LTeの場合について説明したが、M8としてsbやL
a、 Mgを使用しても全(同じ効果を得ることが出来
る。又、h。
、その位置にとどまりつつ、近傍のBiの溶解量を増し
ていくのみであり、従来のような多量の溶融Biの流動
は生じない、一方、主成分であるCuはTeと360℃
近辺で反応を始め互いに溶解し合うため、主成分である
Cuの焼結を促進する。即ちTa粒はBiより高い融点
を持ちながら、その融点ではCuへの大きな溶解度を持
つため、溶融流動を生ずることかない、しかもTeはB
iとも急速に溶解し合いBigTexなる金属間化合物
の融点585℃迄Biも大きな流動性を生じないで焼結
は進む、更に温度が上がると、Bi2Te2は完全な溶
融状態となるが、溶融Biよりその流動性は低いもので
あり、かつその温度ヤ■域では[li、 Te共Cuに
十分溶解し得るため、凝集組織を作ることなく焼結が完
了する。冷却過程はこの逆を辿るのみであり、微細均一
な分布を持つBiとTeが析出すると共にB11Te3
及びCuzTeやCu4T(!3 、 CuTe等の金
属間化合物、あるいはBiとTa5CuとTeの共晶合
金が微細に分散して析出する。BiやTeの単体として
の析出量と、金属間化合物と共晶合金の析出量の割合は
それぞれの投入配合金や、冷却速度等で決定されるが、
従来例に比らべて、微細かつ均一な組織が得られること
には変りはななお上記実施例では、Mlとして81%
LTeの場合について説明したが、M8としてsbやL
a、 Mgを使用しても全(同じ効果を得ることが出来
る。又、h。
としてもBiに限らず、pbやIn、 Li、 Sn等
でも同様効果が得られる。なお、Mlやhとして、最初
からBitTeaを使用しても良く、あるいは、Mlと
してBigTes、hとしてTiTez等の合金粉末で
も同様効果が得られた。いずれの場合もhとしてFe、
Cr。
でも同様効果が得られる。なお、Mlやhとして、最初
からBitTeaを使用しても良く、あるいは、Mlと
してBigTes、hとしてTiTez等の合金粉末で
も同様効果が得られた。いずれの場合もhとしてFe、
Cr。
Ni、 Go、 Ti、 Wを添加すると耐電圧特性や
、しゃ断時性が一層向上する。
、しゃ断時性が一層向上する。
次に従来例と本発明の実施例との比較において、本発明
の効果について説明する。
の効果について説明する。
以 下 余 白
第1図の構成の真空開閉器用真空スイッチ管において、
電極f41. (5)を外形50φ、肉厚8tの寸法に
焼結後切削加工で切出し、Qg−Cu共晶ろうを用いて
800℃で炉中ろう付した後、真空容器に組込み、60
0℃で加熱脱ガスしてサンプル電極の真空スイッチ管を
完成させた。真空開閉器に組込んだ後、各種の試験を実
施し、性能比較を行なった結果を第1表に示す、サイダ
ン電流特性は20Aピークの交流電流が流れる抵抗回路
をしゃ断した時のサイダン電流値の平均値を示し、いず
れのサンプルも完成直後は、0.2〜0.4Aと低い値
であった。これは、ろう付や加熱脱ガス工程時に、低融
点金属が電穫表面に滲み出た為である。負荷電ff15
00Aの回路をto、ooo回開閉した後、再度サイダ
ン電流を100回測定し、その平均値を記載したのが試
験1である。従来例では2A内外に達するが、本発明品
では、I、zずれもIA円内外とどまった。これは、従
来例では低融点金属の′a集体が粗く分布したm織とな
っているため、開閉と共に低融点金属が選択的に蒸発飛
散し、遂には低融点金属が固溶していない銅素地が露出
するためである。銅は良く知られているように、3〜I
OAのサイダン電流を有しているため、銅素地でアーク
が切れるチャンスがあると、サイダン電流平均値を押し
上げる。
電極f41. (5)を外形50φ、肉厚8tの寸法に
焼結後切削加工で切出し、Qg−Cu共晶ろうを用いて
800℃で炉中ろう付した後、真空容器に組込み、60
0℃で加熱脱ガスしてサンプル電極の真空スイッチ管を
完成させた。真空開閉器に組込んだ後、各種の試験を実
施し、性能比較を行なった結果を第1表に示す、サイダ
ン電流特性は20Aピークの交流電流が流れる抵抗回路
をしゃ断した時のサイダン電流値の平均値を示し、いず
れのサンプルも完成直後は、0.2〜0.4Aと低い値
であった。これは、ろう付や加熱脱ガス工程時に、低融
点金属が電穫表面に滲み出た為である。負荷電ff15
00Aの回路をto、ooo回開閉した後、再度サイダ
ン電流を100回測定し、その平均値を記載したのが試
験1である。従来例では2A内外に達するが、本発明品
では、I、zずれもIA円内外とどまった。これは、従
来例では低融点金属の′a集体が粗く分布したm織とな
っているため、開閉と共に低融点金属が選択的に蒸発飛
散し、遂には低融点金属が固溶していない銅素地が露出
するためである。銅は良く知られているように、3〜I
OAのサイダン電流を有しているため、銅素地でアーク
が切れるチャンスがあると、サイダン電流平均値を押し
上げる。
本発明品では、低融点金属が、粗い分布とならず、微細
均一な無数の分布となっているため、前述のような銅素
地でアークが切れるチャンスが非常に少なくなると共に
、鋼中に添加金属が共融ないし、混合状態で残留してい
るため、万一銅素地部分でアークが切れても、そのサイ
ダン値があまり高くならないことが、低い値を維持でき
る理由である。
均一な無数の分布となっているため、前述のような銅素
地でアークが切れるチャンスが非常に少なくなると共に
、鋼中に添加金属が共融ないし、混合状態で残留してい
るため、万一銅素地部分でアークが切れても、そのサイ
ダン値があまり高くならないことが、低い値を維持でき
る理由である。
試験2.は別のサンプルで、短絡発電機回路をしゃ断し
たものであり、2kAステツプで電流が増すよう供与電
圧を徐々に上げ、しゃ断可能な上限値を求めた。従来例
では6〜8kAが限度であるが、これは、大電流アーク
に晒された時、凝集した低融点金v′!4&lI¥8が
局所的に異常に蒸発し、絶縁回復特性を劣化させること
が原因である。
たものであり、2kAステツプで電流が増すよう供与電
圧を徐々に上げ、しゃ断可能な上限値を求めた。従来例
では6〜8kAが限度であるが、これは、大電流アーク
に晒された時、凝集した低融点金v′!4&lI¥8が
局所的に異常に蒸発し、絶縁回復特性を劣化させること
が原因である。
本発明品では、微細均一な分布となっているため、前述
の凝集層が悪影響を及ぼすような異常蒸発が抑制される
ことと、低融点金属が、添加金属との合金化によって、
その融点が高められ、異常蒸発が低く抑さえられるため
である。
の凝集層が悪影響を及ぼすような異常蒸発が抑制される
ことと、低融点金属が、添加金属との合金化によって、
その融点が高められ、異常蒸発が低く抑さえられるため
である。
試験3.は更に他のサンプルで、500Aを200回開
閉した後、lX40IJsecのインパルス電圧を3回
印加し、5kVステツプで昇圧した時、1回でも絶縁破
壊したものを下限値、3回とも絶縁破壊したものを上限
値として示している。従来例と実施例との差は、明らか
であり前述の金属m織によるものと、その結果容器内面
の′rI5損が軽減されたためと思われる。
閉した後、lX40IJsecのインパルス電圧を3回
印加し、5kVステツプで昇圧した時、1回でも絶縁破
壊したものを下限値、3回とも絶縁破壊したものを上限
値として示している。従来例と実施例との差は、明らか
であり前述の金属m織によるものと、その結果容器内面
の′rI5損が軽減されたためと思われる。
試験4.は、各種テストに供した真空スイッチ管3本を
分解した後、第2図において、電極(5)と、電極棒(
7)とをアムスラー引張試験機により引張り、ろう件部
の強度を測定したものである。
分解した後、第2図において、電極(5)と、電極棒(
7)とをアムスラー引張試験機により引張り、ろう件部
の強度を測定したものである。
従来例では引張り治具にセントして、力を印加し初める
や否や、外れてしまうものがあった。
や否や、外れてしまうものがあった。
辛ろして耐えたものでも3kg/mm”以下であり、従
来品は第2図の構造では真空開閉器用として使用に耐え
ないものであることが判る。
来品は第2図の構造では真空開閉器用として使用に耐え
ないものであることが判る。
実際、試験1の際にも、かなりの低衝撃の真空開閉器に
より試験したにも拘らず、試験中に電極が脱落すること
が起った。X線マイクロアナライザーによるろう付層の
金属組成分析によると、八g・Cuろう中の大半のAg
が、電極内部へ拡散し、その代りにろう層中に低融点金
属が、店を成して滲み出ており、その部分で外れている
ことが判った。
より試験したにも拘らず、試験中に電極が脱落すること
が起った。X線マイクロアナライザーによるろう付層の
金属組成分析によると、八g・Cuろう中の大半のAg
が、電極内部へ拡散し、その代りにろう層中に低融点金
属が、店を成して滲み出ており、その部分で外れている
ことが判った。
本発明品でも本来Ag −Cuろうのも番、強度から考
えて半分以下に落ちていることは事実であるが、実用上
使用に耐える強度を有している。
えて半分以下に落ちていることは事実であるが、実用上
使用に耐える強度を有している。
それぞれの成分の配合比を決定するために実施した実験
では、まず、副成分であるMlについては、20%以上
投入すると、得られた合金自身の機械的強度が使用に耐
えないものとなる。一方添加金属りについても10%以
上投入すると、主成分である銅への溶解量が過大となり
、その電気伝動度を著しく低下せしめるため、しゃ断性
能が劣化し、接触抵抗を高める。補助添加金属り、につ
いても、耐電圧性能やしゃ断性能等を期待できる上限は
40重量%未満で、これも合金自身の電気伝導度が低下
するためである。
では、まず、副成分であるMlについては、20%以上
投入すると、得られた合金自身の機械的強度が使用に耐
えないものとなる。一方添加金属りについても10%以
上投入すると、主成分である銅への溶解量が過大となり
、その電気伝動度を著しく低下せしめるため、しゃ断性
能が劣化し、接触抵抗を高める。補助添加金属り、につ
いても、耐電圧性能やしゃ断性能等を期待できる上限は
40重量%未満で、これも合金自身の電気伝導度が低下
するためである。
以上のように、この発明によれば、主成分である銅に対
し、常温ではほとんど固溶しないサイダン電流低減効果
を有する副成分と、この副成分と合金化し、その融点を
高め、しかも主成分に溶解する添加金属及とにより電極
材料を構成したので、副成分が微細均一に分散した低サ
イダン電流特性の電極が得られ、また、しゃ断時性、耐
電圧特性。
し、常温ではほとんど固溶しないサイダン電流低減効果
を有する副成分と、この副成分と合金化し、その融点を
高め、しかも主成分に溶解する添加金属及とにより電極
材料を構成したので、副成分が微細均一に分散した低サ
イダン電流特性の電極が得られ、また、しゃ断時性、耐
電圧特性。
ろう付性等も著しく改善される効果がある。
第1図は、真空スイッチ管の構造図、第2図は、電極部
分の拡大断面図である。 (旧・・・−真空絶縁容器、+21. (3)−・・・
端板、+41. +51・・・・・電極、+61.+7
1・−・−電極棒、(8)・・・・−ベローズ、+91
.(11−・−・シールド、(51)・・−・−ろう材 なお、図中同一符号は各々同−又は相当部分を示す。
分の拡大断面図である。 (旧・・・−真空絶縁容器、+21. (3)−・・・
端板、+41. +51・・・・・電極、+61.+7
1・−・−電極棒、(8)・・・・−ベローズ、+91
.(11−・−・シールド、(51)・・−・−ろう材 なお、図中同一符号は各々同−又は相当部分を示す。
Claims (1)
- 銅を主成分とし、副成分として低融点金属たる第1の金
属を20重量%以下の範囲で添加し、テルル、アンチモ
ン、ランタン、マグネシウムの少なくとも1種あるいは
その合金を第2の金属として添加し、かつクロム、鉄、
コバルト、ニッケル、チタン、タングステンのうちの少
なくとも1種あるいはその合金を第3の金属として添加
ししたことを特徴とする真空開閉器用電極材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63247661A JPH01111832A (ja) | 1981-12-21 | 1988-09-29 | 真空開閉器用電極材料 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56208687A JPS58108622A (ja) | 1981-12-21 | 1981-12-21 | 真空開閉器用電極材料 |
JP63247661A JPH01111832A (ja) | 1981-12-21 | 1988-09-29 | 真空開閉器用電極材料 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56208687A Division JPS58108622A (ja) | 1981-12-21 | 1981-12-21 | 真空開閉器用電極材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01111832A true JPH01111832A (ja) | 1989-04-28 |
JPH0577731B2 JPH0577731B2 (ja) | 1993-10-27 |
Family
ID=16560402
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56208687A Pending JPS58108622A (ja) | 1981-12-21 | 1981-12-21 | 真空開閉器用電極材料 |
JP63247661A Granted JPH01111832A (ja) | 1981-12-21 | 1988-09-29 | 真空開閉器用電極材料 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56208687A Pending JPS58108622A (ja) | 1981-12-21 | 1981-12-21 | 真空開閉器用電極材料 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US4499009A (ja) |
EP (1) | EP0083200B1 (ja) |
JP (2) | JPS58108622A (ja) |
DE (1) | DE3271476D1 (ja) |
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ATE45904T1 (de) * | 1985-07-11 | 1989-09-15 | Berkenhoff Gmbh | Zusatzwerkstoff zum schweissen. |
US4654195A (en) * | 1985-12-23 | 1987-03-31 | International Fuel Cells Corporation | Method for fabricating molten carbonate ribbed anodes |
EP0234246A1 (de) * | 1986-01-30 | 1987-09-02 | Siemens Aktiengesellschaft | Schaltkontaktstücke für Vakuumschaltgeräte und Verfahren zu deren Herstellung |
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JPH02500554A (ja) * | 1987-07-28 | 1990-02-22 | シーメンス、アクチエンゲゼルシヤフト | 真空開閉装置用接触材料及びその製法 |
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- 1981-12-21 JP JP56208687A patent/JPS58108622A/ja active Pending
-
1982
- 1982-12-20 US US06/451,324 patent/US4499009A/en not_active Expired - Lifetime
- 1982-12-21 EP EP82306846A patent/EP0083200B1/en not_active Expired
- 1982-12-21 DE DE8282306846T patent/DE3271476D1/de not_active Expired
-
1984
- 1984-06-25 US US06/624,519 patent/US4537743A/en not_active Expired - Lifetime
-
1988
- 1988-09-29 JP JP63247661A patent/JPH01111832A/ja active Granted
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JPS5160627A (ja) * | 1974-11-26 | 1976-05-26 | Tokyo Shibaura Electric Co |
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EP0083200B1 (en) | 1986-05-28 |
EP0083200A1 (en) | 1983-07-06 |
US4499009A (en) | 1985-02-12 |
JPH0577731B2 (ja) | 1993-10-27 |
US4537743A (en) | 1985-08-27 |
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