JPH05120948A - 電極材料の製造方法 - Google Patents
電極材料の製造方法Info
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- JPH05120948A JPH05120948A JP3279994A JP27999491A JPH05120948A JP H05120948 A JPH05120948 A JP H05120948A JP 3279994 A JP3279994 A JP 3279994A JP 27999491 A JP27999491 A JP 27999491A JP H05120948 A JPH05120948 A JP H05120948A
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Landscapes
- Powder Metallurgy (AREA)
- Manufacture Of Switches (AREA)
- High-Tension Arc-Extinguishing Switches Without Spraying Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 微細なクロムが銅マトリックス中に均一に分
散した高品質な銅−クロム合金をベースとして接触抵抗
値や耐溶着性能が良好な電極材料を製造し得る方法を提
供する。 【構成】 アトマイズ法により得られた銅とクロムとの
合金微粉末と、ビスマス,アンチモン,テルル,セレン,鉛
のうちの１種類以上の低融点金属の粉末とを混合し、こ
れらを非酸化性雰囲気にて加熱して焼結させるようにし
たことを特徴とするものである。
散した高品質な銅−クロム合金をベースとして接触抵抗
値や耐溶着性能が良好な電極材料を製造し得る方法を提
供する。 【構成】 アトマイズ法により得られた銅とクロムとの
合金微粉末と、ビスマス,アンチモン,テルル,セレン,鉛
のうちの１種類以上の低融点金属の粉末とを混合し、こ
れらを非酸化性雰囲気にて加熱して焼結させるようにし
たことを特徴とするものである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、アトマイズ法による銅
−クロム合金の微粉末を主原料とする電極材料の製造方
法に関し、特に真空インタラプタの電極に用いて好適で
ある。
−クロム合金の微粉末を主原料とする電極材料の製造方
法に関し、特に真空インタラプタの電極に用いて好適で
ある。
【０００２】
【従来の技術】真空インタラプタの電極材料として要求
される重要な性能の一つに電流しゃ断性能の高いことが
挙げられる。
される重要な性能の一つに電流しゃ断性能の高いことが
挙げられる。
【０００３】銅(Cu)−クロム(Cr)合金は、この電流しゃ
断性能が非常に優れている電極材料として知られてお
り、従来では電解法等により製造された銅の粉体と、粉
砕法等により製造されたクロムの粉体とを混合したもの
を圧縮加圧成形し、これを高温で焼結する粉末冶金法に
よる製造方法が一般的である。
断性能が非常に優れている電極材料として知られてお
り、従来では電解法等により製造された銅の粉体と、粉
砕法等により製造されたクロムの粉体とを混合したもの
を圧縮加圧成形し、これを高温で焼結する粉末冶金法に
よる製造方法が一般的である。
【０００４】この他、圧縮加圧成形した銅の粉体の空隙
部分にクロムを溶浸させる溶浸法や、或いは銅とクロム
との混合粉体を圧縮加圧成形し、これを低温で焼結した
後、その空隙部分に銅を溶浸させるようにした方法、或
いは鋳造による方法等も試みられている。
部分にクロムを溶浸させる溶浸法や、或いは銅とクロム
との混合粉体を圧縮加圧成形し、これを低温で焼結した
後、その空隙部分に銅を溶浸させるようにした方法、或
いは鋳造による方法等も試みられている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】この銅−クロム合金
は、銅のマトリックス中にクロムが分散したものである
が、電極材料としての電気的特性に着目した場合、微細
なクロムが銅マトリックス中に均一に分散している方が
好ましい。
は、銅のマトリックス中にクロムが分散したものである
が、電極材料としての電気的特性に着目した場合、微細
なクロムが銅マトリックス中に均一に分散している方が
好ましい。
【０００６】ところが、粉末冶金法により製造される従
来の銅−クロム合金の場合、粉砕法により機械的に粉砕
して得られるクロム粉末の粒度分布の幅が非常に大き
く、しかもその平均粒径が４０μｍ程度にも達するた
め、銅の粉体とクロムの粉体とを混合する際にこれらの
比重差や粉体の粒度、或いは粒度分布の相違により、均
一に混合され難い欠点を有する。この結果、焼結後にお
ける銅マトリックス中のクロムが微細且つ均一に分散せ
ず、その電気的特性が期待できるほど良好ではなかっ
た。
来の銅−クロム合金の場合、粉砕法により機械的に粉砕
して得られるクロム粉末の粒度分布の幅が非常に大き
く、しかもその平均粒径が４０μｍ程度にも達するた
め、銅の粉体とクロムの粉体とを混合する際にこれらの
比重差や粉体の粒度、或いは粒度分布の相違により、均
一に混合され難い欠点を有する。この結果、焼結後にお
ける銅マトリックス中のクロムが微細且つ均一に分散せ
ず、その電気的特性が期待できるほど良好ではなかっ
た。
【０００７】そこで、クロム粉末を更に機械的に粉砕し
てその粒径を小さくすることが考えられるが、この場合
には粉砕の過程及び保管時にクロム粉体の表面が酸化が
進行し、酸素含有量の増加に伴って焼結性が低下してし
まう問題も生ずる。又、粉砕法により得られるクロム粉
末をふるいで分級し、微細径のクロム粉末のみを使用す
ることも考えられるが、この方法では歩留りが極めて悪
くなってしまい、製造コストが嵩む原因となる。
てその粒径を小さくすることが考えられるが、この場合
には粉砕の過程及び保管時にクロム粉体の表面が酸化が
進行し、酸素含有量の増加に伴って焼結性が低下してし
まう問題も生ずる。又、粉砕法により得られるクロム粉
末をふるいで分級し、微細径のクロム粉末のみを使用す
ることも考えられるが、この方法では歩留りが極めて悪
くなってしまい、製造コストが嵩む原因となる。
【０００８】一方、溶浸法により製造される従来の銅−
クロム合金の場合、クロム粉体は酸化し易いため、その
品質管理を徹底する必要がある上、表面が酸化したクロ
ムの粉末は銅との濡れ性が悪く、溶浸ができなくなる欠
点を有する。
クロム合金の場合、クロム粉体は酸化し易いため、その
品質管理を徹底する必要がある上、表面が酸化したクロ
ムの粉末は銅との濡れ性が悪く、溶浸ができなくなる欠
点を有する。
【０００９】又、鋳造法により製造される従来の銅−ク
ロム合金の場合、凝固時の冷却速度が遅いため、銅のマ
トリックス中のクロム粒子が成長してしまい、均一で微
細なクロムの分散が困難となる上、凝固偏析が生じ易い
ことから得られる銅−クロム合金の品質にばらつきが生
じ易い欠点を有する。
ロム合金の場合、凝固時の冷却速度が遅いため、銅のマ
トリックス中のクロム粒子が成長してしまい、均一で微
細なクロムの分散が困難となる上、凝固偏析が生じ易い
ことから得られる銅−クロム合金の品質にばらつきが生
じ易い欠点を有する。
【００１０】しかも、上述した銅−クロム合金は電流し
ゃ断性能が優れているものの、他の周知の電極材料と比
較すると、接触抵抗値や耐溶着性能の点で充分な満足が
得られるものとは言えなかった。
ゃ断性能が優れているものの、他の周知の電極材料と比
較すると、接触抵抗値や耐溶着性能の点で充分な満足が
得られるものとは言えなかった。
【００１１】
【発明の目的】本発明は、微細なクロムが銅マトリック
ス中に均一に分散した高品質な銅−クロム合金をベース
として接触抵抗値や耐溶着性能が良好な電極材料を製造
し得る方法を提供することを目的とする。
ス中に均一に分散した高品質な銅−クロム合金をベース
として接触抵抗値や耐溶着性能が良好な電極材料を製造
し得る方法を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、微細化が
困難で表面酸化の問題を抱えたクロムの機械的粉砕法を
採用せず、アトマイズ法により銅−クロム合金の微粉末
を製造し、これをベースとして電極材料の製造が可能で
あるか否かを調べた。
困難で表面酸化の問題を抱えたクロムの機械的粉砕法を
採用せず、アトマイズ法により銅−クロム合金の微粉末
を製造し、これをベースとして電極材料の製造が可能で
あるか否かを調べた。
【００１３】そこで、銅とクロムとの混合物を真空等の
非酸化性雰囲気にて溶融させ、その溶湯を５〜８ＭPa
（メガパスカル）の圧力のアルゴン(Ar)ガスを用いたガ
スアトマイズ法により急冷凝固させて微粉末化し、銅マ
トリックス中にクロムが分散した銅−クロム合金の微粉
末を得るようにした。
非酸化性雰囲気にて溶融させ、その溶湯を５〜８ＭPa
（メガパスカル）の圧力のアルゴン(Ar)ガスを用いたガ
スアトマイズ法により急冷凝固させて微粉末化し、銅マ
トリックス中にクロムが分散した銅−クロム合金の微粉
末を得るようにした。
【００１４】上記方法を実施するに際し、溶融前の銅と
クロムとの混合物における銅とクロムとの重量割合を
４：１に設定した。なお、クロムの重量割合がこれより
も多くなると、クロムのマトリックス中に銅が分散した
ものが生成してしまい、目標とする銅−クロム合金粉末
が得られない。
クロムとの混合物における銅とクロムとの重量割合を
４：１に設定した。なお、クロムの重量割合がこれより
も多くなると、クロムのマトリックス中に銅が分散した
ものが生成してしまい、目標とする銅−クロム合金粉末
が得られない。
【００１５】又、銅とクロムとの混合物を溶融する際に
は、溶湯の酸素含有量を低減するために酸素含有量の低
い銅及びクロムを選定する一方、上述した非酸化性雰囲
気にて溶融するか或いは脱酸処理を施し、酸素含有量を
１０００ppm以下に抑えた。この場合、原料等に混入し
ている不可避の不純物、例えば鉄(Fe)やニッケル(Ni)等
の存在は許容した。
は、溶湯の酸素含有量を低減するために酸素含有量の低
い銅及びクロムを選定する一方、上述した非酸化性雰囲
気にて溶融するか或いは脱酸処理を施し、酸素含有量を
１０００ppm以下に抑えた。この場合、原料等に混入し
ている不可避の不純物、例えば鉄(Fe)やニッケル(Ni)等
の存在は許容した。
【００１６】これにより得られた銅−クロム合金微粉末
の粒径は１５０μｍ以下であり、その成分割合も元の銅
とクロムとの混合物の割合と同等であった。又、この銅
−クロム合金微粉末を電子顕微鏡にて観察した結果、５
μｍ以下のクロム粒子が銅マトリックス中に均一に分散
していることを確認できた。
の粒径は１５０μｍ以下であり、その成分割合も元の銅
とクロムとの混合物の割合と同等であった。又、この銅
−クロム合金微粉末を電子顕微鏡にて観察した結果、５
μｍ以下のクロム粒子が銅マトリックス中に均一に分散
していることを確認できた。
【００１７】次に、この銅−クロム合金微粉末を内径が
７０mmのアルミナセラミックス容器内に３００ｇ充填し
た後、５×１０-5Torrの真空中にて１０８０℃前後に加
熱した結果、焼結が充分可能であることが判明した。
７０mmのアルミナセラミックス容器内に３００ｇ充填し
た後、５×１０-5Torrの真空中にて１０８０℃前後に加
熱した結果、焼結が充分可能であることが判明した。
【００１８】本発明による電極材料の製造方法は、かか
る知見に鑑みてなされたものであり、アトマイズ法によ
り得られた銅とクロムとの合金微粉末と、前記銅よりも
低融点の金属の粉末とを混合し、これらを非酸化性雰囲
気にて加熱して焼結させるようにしたことを特徴とす
る。
る知見に鑑みてなされたものであり、アトマイズ法によ
り得られた銅とクロムとの合金微粉末と、前記銅よりも
低融点の金属の粉末とを混合し、これらを非酸化性雰囲
気にて加熱して焼結させるようにしたことを特徴とす
る。
【００１９】ここで、銅よりも低融点で電極材料の接触
抵抗値を下げて耐溶着性能を向上させ得る金属（以下、
これを低融点金属と呼称する）としては、ビスマス(B
i),アンチモン(Sb),テルル(Te),セレン(Se),鉛(Pb)のう
ちの１種類以上を採用することが可能であり、アトマイ
ズ法により得られる銅とクロムとの合金微粉末に対する
これらの割合は、０.０２〜３.０重量％の範囲に収める
ことが望ましい。
抵抗値を下げて耐溶着性能を向上させ得る金属（以下、
これを低融点金属と呼称する）としては、ビスマス(B
i),アンチモン(Sb),テルル(Te),セレン(Se),鉛(Pb)のう
ちの１種類以上を採用することが可能であり、アトマイ
ズ法により得られる銅とクロムとの合金微粉末に対する
これらの割合は、０.０２〜３.０重量％の範囲に収める
ことが望ましい。
【００２０】なお、これら低融点金属の割合が０.０２
％未満では、これら低融点金属を添加したことによる接
触抵抗値の低下や耐溶着性能の向上を期待することがほ
とんどできない。又、３.０重量％を越えた量の低融点
金属を添加すると、電流しゃ断性能が急激に悪化するこ
ととなる。
％未満では、これら低融点金属を添加したことによる接
触抵抗値の低下や耐溶着性能の向上を期待することがほ
とんどできない。又、３.０重量％を越えた量の低融点
金属を添加すると、電流しゃ断性能が急激に悪化するこ
ととなる。
【００２１】
【作用】アトマイズ法によって得られる銅−クロム合金
微粉末は、銅マトリックス中に微小な粒径のクロムが均
一に分散している。これを低融点金属の粉末と混合して
加熱することにより、これら金属結晶粒子が粗大化する
ことなく緻密に焼結して一体化される。
微粉末は、銅マトリックス中に微小な粒径のクロムが均
一に分散している。これを低融点金属の粉末と混合して
加熱することにより、これら金属結晶粒子が粗大化する
ことなく緻密に焼結して一体化される。
【００２２】
【実施例】真空インタラプタは、その概略構造の一例を
表す図１に示すようなものであり、相互に一直線状をな
す一対のリード棒１１,１２の対向端面には、それぞれ
電極１３,１４が図示しないろう材を介して一体的に接
合されている。これら電極１３,１４を囲む筒状のシー
ルド１５の外周中央部は、このシールド１５を囲む一対
の絶縁筒１６,１７の間に挟まれた状態で保持されてい
る。
表す図１に示すようなものであり、相互に一直線状をな
す一対のリード棒１１,１２の対向端面には、それぞれ
電極１３,１４が図示しないろう材を介して一体的に接
合されている。これら電極１３,１４を囲む筒状のシー
ルド１５の外周中央部は、このシールド１５を囲む一対
の絶縁筒１６,１７の間に挟まれた状態で保持されてい
る。
【００２３】そして、一方の前記リード棒１１は、一方
の絶縁筒１６の一端に接合された金属端板１８を気密に
貫通した状態で、この金属端板１８に一体的に固定され
ている。又、図示しない駆動装置に連結される他方のリ
ード棒１２は、他方の絶縁筒１７の他端に気密に接合さ
れた他方の金属端板１９にベローズ２０を介して連結さ
れ、駆動装置の作動に伴って電極１３,１４の対向方向
に往復動可能に可動側の電極１４が固定側の電極１３に
対して開閉動作するようになっている。
の絶縁筒１６の一端に接合された金属端板１８を気密に
貫通した状態で、この金属端板１８に一体的に固定され
ている。又、図示しない駆動装置に連結される他方のリ
ード棒１２は、他方の絶縁筒１７の他端に気密に接合さ
れた他方の金属端板１９にベローズ２０を介して連結さ
れ、駆動装置の作動に伴って電極１３,１４の対向方向
に往復動可能に可動側の電極１４が固定側の電極１３に
対して開閉動作するようになっている。
【００２４】本実施例における前記電極１３,１４は、
アトマイズ法による原料に低融点金属を混合したものを
焼結してなる銅−クロム合金をベースとするもので主要
部が構成される。
アトマイズ法による原料に低融点金属を混合したものを
焼結してなる銅−クロム合金をベースとするもので主要
部が構成される。
【００２５】本発明によるこの電極１３,１４の製造方
法の一例を以下に記すと、銅に対して２０重量％の割合
のクロムを有するアトマイズ粉末（粒径が１５０μｍ以
下でクロムの平均粒径が３.５μｍ）に対して０.５重量
％の割合で粒径が−２７５メッシュのビスマス粉末を均
一に混合した。そして、この混合粉末を直径が５０mmの
金型に充填し、３.５トン／cm2の圧力にて円盤状に加圧
成形した後、これを５×１０-5Torrの真空炉中において
１０８０℃で３０分間加熱し、焼結させた。
法の一例を以下に記すと、銅に対して２０重量％の割合
のクロムを有するアトマイズ粉末（粒径が１５０μｍ以
下でクロムの平均粒径が３.５μｍ）に対して０.５重量
％の割合で粒径が−２７５メッシュのビスマス粉末を均
一に混合した。そして、この混合粉末を直径が５０mmの
金型に充填し、３.５トン／cm2の圧力にて円盤状に加圧
成形した後、これを５×１０-5Torrの真空炉中において
１０８０℃で３０分間加熱し、焼結させた。
【００２６】このようにして得られた焼結体は、焼結の
際に起こる低融点金属であるビスマスの蒸発により、こ
のビスマスが０.１９重量％含まれたものとなり、これ
を試料Ａとして直径が４０mmのスパイラル状電極に機械
加工し、図１に示す真空インタラプタに組み込んでその
しゃ断電流値や接触抵抗値及び溶着力をそれぞれ測定し
た結果、表１の試料Ａに示すような結果が得られた。
際に起こる低融点金属であるビスマスの蒸発により、こ
のビスマスが０.１９重量％含まれたものとなり、これ
を試料Ａとして直径が４０mmのスパイラル状電極に機械
加工し、図１に示す真空インタラプタに組み込んでその
しゃ断電流値や接触抵抗値及び溶着力をそれぞれ測定し
た結果、表１の試料Ａに示すような結果が得られた。
【００２７】又、先の試料Ａにて用いたものと同一の銅
とクロムとからなるアトマイズ粉末に対して０.５重量
％の割合で粒径が−２７５メッシュの鉛粉末を均一に混
合し、この混合粉末を直径が５０mmの金型に充填し、
３.５トン／cm2の圧力にて円盤状に加圧成形した後、こ
れを５×１０-5Torrの真空炉中において１０８０℃で３
０分間加熱し、焼結させた。
とクロムとからなるアトマイズ粉末に対して０.５重量
％の割合で粒径が−２７５メッシュの鉛粉末を均一に混
合し、この混合粉末を直径が５０mmの金型に充填し、
３.５トン／cm2の圧力にて円盤状に加圧成形した後、こ
れを５×１０-5Torrの真空炉中において１０８０℃で３
０分間加熱し、焼結させた。
【００２８】このようにして得られた焼結体は、焼結の
際に起こる鉛の蒸発により、この鉛が０.４５重量％含
まれたものとなり、これを試料Ｂとして直径が４０mmの
スパイラル状電極に機械加工し、図１に示す真空インタ
ラプタに組み込んでそのしゃ断電流値や接触抵抗値及び
溶着力をそれぞれ測定した結果、表１の試料Ｂに示すよ
うな結果が得られた。
際に起こる鉛の蒸発により、この鉛が０.４５重量％含
まれたものとなり、これを試料Ｂとして直径が４０mmの
スパイラル状電極に機械加工し、図１に示す真空インタ
ラプタに組み込んでそのしゃ断電流値や接触抵抗値及び
溶着力をそれぞれ測定した結果、表１の試料Ｂに示すよ
うな結果が得られた。
【００２９】同様に、先の試料Ａ及び試料Ｂにて用いた
ものと同一の銅とクロムとからなるアトマイズ粉末に対
して０.５重量％の割合で粒径が−２７５メッシュのテ
ルル粉末を均一に混合し、この混合粉末を直径が５０mm
の金型に充填し、３.５トン／cm2の圧力にて円盤状に加
圧成形した後、これを５×１０-5Torrの真空炉中におい
て１０８０℃で３０分間加熱し、焼結させた。
ものと同一の銅とクロムとからなるアトマイズ粉末に対
して０.５重量％の割合で粒径が−２７５メッシュのテ
ルル粉末を均一に混合し、この混合粉末を直径が５０mm
の金型に充填し、３.５トン／cm2の圧力にて円盤状に加
圧成形した後、これを５×１０-5Torrの真空炉中におい
て１０８０℃で３０分間加熱し、焼結させた。
【００３０】このようにして得られた焼結体は、焼結の
際に起こる鉛の蒸発により、この鉛が０.４５重量％含
まれたものとなり、これを試料Ｃとして直径が４０mmの
スパイラル状電極に機械加工し、図１に示す真空インタ
ラプタに組み込んでそのしゃ断電流値や接触抵抗値及び
溶着力をそれぞれ測定した結果、表１の試料Ｃに示すよ
うな結果が得られた。
際に起こる鉛の蒸発により、この鉛が０.４５重量％含
まれたものとなり、これを試料Ｃとして直径が４０mmの
スパイラル状電極に機械加工し、図１に示す真空インタ
ラプタに組み込んでそのしゃ断電流値や接触抵抗値及び
溶着力をそれぞれ測定した結果、表１の試料Ｃに示すよ
うな結果が得られた。
【００３１】一方、比較例として粒径が１００μｍの銅
粉末と、粒径が８０μｍのクロム粉末と、粒径が−２７
５メッシュのビスマス粉末とを重量比で79.75：19.75：
0.5の割合で均一に混合し、この混合粉末を直径が５０m
mの金型に充填して３.５トン／cm2の圧力にて円盤状に
加圧成形した後、これを５×１０-5Torrの真空炉中にお
いて１０８０℃で３０分間加熱し、焼結させた。
粉末と、粒径が８０μｍのクロム粉末と、粒径が−２７
５メッシュのビスマス粉末とを重量比で79.75：19.75：
0.5の割合で均一に混合し、この混合粉末を直径が５０m
mの金型に充填して３.５トン／cm2の圧力にて円盤状に
加圧成形した後、これを５×１０-5Torrの真空炉中にお
いて１０８０℃で３０分間加熱し、焼結させた。
【００３２】このようにして得られた焼結体を比較例と
して直径が４０mmのスパイラル状電極に機械加工し、図
１に示す真空インタラプタに組み込んでそのしゃ断電流
値や接触抵抗値及び溶着力をそれぞれ測定した結果、表
１の比較例に示すような結果が得られた。
して直径が４０mmのスパイラル状電極に機械加工し、図
１に示す真空インタラプタに組み込んでそのしゃ断電流
値や接触抵抗値及び溶着力をそれぞれ測定した結果、表
１の比較例に示すような結果が得られた。
【００３３】
【表１】
【００３４】なお、これらの試験におけるしゃ断電流値
は７.２kＶの交流電圧でアークの発生時間を０.４サイ
クルに設定した場合の値であり、接触抵抗値は電極１
３,１４を５００Ｎ（ニュートン）の力で圧接させた場
合の値であり、溶着力は電極１３,１４を５００Ｎの力
で圧接させた状態でピーク電流が３５kＡの交流を２サ
イクル通電した後の静的な値である。
は７.２kＶの交流電圧でアークの発生時間を０.４サイ
クルに設定した場合の値であり、接触抵抗値は電極１
３,１４を５００Ｎ（ニュートン）の力で圧接させた場
合の値であり、溶着力は電極１３,１４を５００Ｎの力
で圧接させた状態でピーク電流が３５kＡの交流を２サ
イクル通電した後の静的な値である。
【００３５】表１から明らかなように、本発明による電
極材料では銅のマトリックス中に低融点金属及び微小な
粒径のクロムが均一に分散された状態となっていること
により、発生したアークの拡散がスムーズに行われ、電
流しゃ断性能が従来の製造方法によるものよりも向上し
ていることが判った。又、低融点金属を添加したことに
より、接触抵抗及び耐溶着力を低下させることができ
た。
極材料では銅のマトリックス中に低融点金属及び微小な
粒径のクロムが均一に分散された状態となっていること
により、発生したアークの拡散がスムーズに行われ、電
流しゃ断性能が従来の製造方法によるものよりも向上し
ていることが判った。又、低融点金属を添加したことに
より、接触抵抗及び耐溶着力を低下させることができ
た。
【００３６】上述した実施例では、低融点金属としてビ
スマス及び鉛及びテルルを単独で採用したが、この他に
アンチモンやセレンを単独で採用したり、これらを２種
類以上混合しても上述した場合と同様な性能の電極材料
を得ることができる。
スマス及び鉛及びテルルを単独で採用したが、この他に
アンチモンやセレンを単独で採用したり、これらを２種
類以上混合しても上述した場合と同様な性能の電極材料
を得ることができる。
【００３７】
【発明の効果】本発明の電極材料の製造方法によると、
アトマイズ法により得られた銅とクロムとの合金微粉末
と、低融点金属の粉末とを混合し、これらを非酸化性雰
囲気にて加熱して焼結させるようにしたので、銅マトリ
ックス中に低融点金属と微細な粒径のクロムとが均一に
分散した銅−クロム合金系の電極材料を得ることがで
き、従来の焼結冶金法等によるものと比べて、しゃ断電
流値が大きくて接触抵抗値が低く、しかも耐溶着力等の
優れた電極材料を提供することができる。
アトマイズ法により得られた銅とクロムとの合金微粉末
と、低融点金属の粉末とを混合し、これらを非酸化性雰
囲気にて加熱して焼結させるようにしたので、銅マトリ
ックス中に低融点金属と微細な粒径のクロムとが均一に
分散した銅−クロム合金系の電極材料を得ることがで
き、従来の焼結冶金法等によるものと比べて、しゃ断電
流値が大きくて接触抵抗値が低く、しかも耐溶着力等の
優れた電極材料を提供することができる。
【図１】真空インタラプタの一例を表す断面図である。
１１,１２はリード棒、１３,１４は電極である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 伸尚 東京都品川区大崎二丁目１番17号 株式会 社明電舍内
Claims (2)
- 【請求項１】 アトマイズ法により得られた銅とクロム
との合金微粉末と、前記銅よりも低融点の金属の粉末と
を混合し、これらを非酸化性雰囲気にて加熱して焼結さ
せるようにしたことを特徴とする電極材料の製造方法。 - 【請求項２】 低融点の金属がビスマス,アンチモン,テ
ルル,セレン,鉛のうちの１種類以上であることを特徴と
する請求項１に記載した電極材料の製造方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03279994A JP3106609B2 (ja) | 1991-10-25 | 1991-10-25 | 電極材料の製造方法 |
| EP19920118218 EP0538896A3 (en) | 1991-10-25 | 1992-10-23 | Process for forming contact material |
| US07/965,203 US5352404A (en) | 1991-10-25 | 1992-10-23 | Process for forming contact material including the step of preparing chromium with an oxygen content substantially reduced to less than 0.1 wt. % |
| KR1019920019655A KR950008375B1 (ko) | 1991-10-25 | 1992-10-24 | 접점 재료의 형성 방법 |
| TW081108517A TW240184B (ja) | 1991-10-25 | 1992-10-24 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03279994A JP3106609B2 (ja) | 1991-10-25 | 1991-10-25 | 電極材料の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05120948A true JPH05120948A (ja) | 1993-05-18 |
| JP3106609B2 JP3106609B2 (ja) | 2000-11-06 |
Family
ID=17618830
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03279994A Expired - Fee Related JP3106609B2 (ja) | 1991-10-25 | 1991-10-25 | 電極材料の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3106609B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6437275B1 (en) | 1998-11-10 | 2002-08-20 | Hitachi, Ltd. | Vacuum circuit-breaker, vacuum bulb for use therein, and electrodes thereof |
-
1991
- 1991-10-25 JP JP03279994A patent/JP3106609B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6437275B1 (en) | 1998-11-10 | 2002-08-20 | Hitachi, Ltd. | Vacuum circuit-breaker, vacuum bulb for use therein, and electrodes thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3106609B2 (ja) | 2000-11-06 |
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