JP3067317B2 - 電極材料の製造方法 - Google Patents
電極材料の製造方法Info
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、アトマイズ法による銅
−クロム合金の微粉末を原料とする電極材料の製造方法
に関し、特に真空インタラプタの電極に用いて好適であ
る。
−クロム合金の微粉末を原料とする電極材料の製造方法
に関し、特に真空インタラプタの電極に用いて好適であ
る。
【０００２】
【従来の技術】真空インタラプタの電極材料として要求
される重要な性能の一つに電流遮断性能の高いことが挙
げられる。
される重要な性能の一つに電流遮断性能の高いことが挙
げられる。
【０００３】銅(Cu)−クロム(Cr)合金は、この電流遮断
性能が非常に優れている電極材料として知られており、
従来では電解法等により製造された銅の粉体と、粉砕法
等により製造されたクロムの粉体とを混合したものを圧
縮加圧成形し、これを高温で焼結する粉末冶金法による
製造方法が一般的である。
性能が非常に優れている電極材料として知られており、
従来では電解法等により製造された銅の粉体と、粉砕法
等により製造されたクロムの粉体とを混合したものを圧
縮加圧成形し、これを高温で焼結する粉末冶金法による
製造方法が一般的である。
【０００４】この他、圧縮加圧成形した銅の粉体の空隙
部分にクロムを溶浸させる溶浸法や、或いは銅とクロム
との混合粉体を圧縮加圧成形し、これを低温で焼結した
後、その空隙部分に銅を溶浸させるようにした方法、或
いは鋳造による方法等も試みられている。
部分にクロムを溶浸させる溶浸法や、或いは銅とクロム
との混合粉体を圧縮加圧成形し、これを低温で焼結した
後、その空隙部分に銅を溶浸させるようにした方法、或
いは鋳造による方法等も試みられている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】この銅−クロム合金
は、銅のマトリックス中にクロムが分散したものである
が、電極材料としての電気的特性に着目した場合、微細
なクロムが銅マトリックス中に均一に分散している方が
好ましい。
は、銅のマトリックス中にクロムが分散したものである
が、電極材料としての電気的特性に着目した場合、微細
なクロムが銅マトリックス中に均一に分散している方が
好ましい。
【０００６】ところが、粉末冶金法により製造される従
来の銅−クロム合金の場合、粉砕法により機械的に粉砕
して得られるクロム粉末の粒度分布の幅が非常に大き
く、しかもその平均粒径が４０μｍ程度にも達するた
め、銅の粉体とクロムの粉体とを混合する際にこれらの
比重差や粉体の粒度、或いは粒度分布の相違により、均
一に混合され難い欠点を有する。この結果、焼結後にお
ける銅マトリックス中のクロムが微細且つ均一に分散せ
ず、その電気的特性が期待できるほど良好ではなかっ
た。
来の銅−クロム合金の場合、粉砕法により機械的に粉砕
して得られるクロム粉末の粒度分布の幅が非常に大き
く、しかもその平均粒径が４０μｍ程度にも達するた
め、銅の粉体とクロムの粉体とを混合する際にこれらの
比重差や粉体の粒度、或いは粒度分布の相違により、均
一に混合され難い欠点を有する。この結果、焼結後にお
ける銅マトリックス中のクロムが微細且つ均一に分散せ
ず、その電気的特性が期待できるほど良好ではなかっ
た。
【０００７】そこで、クロム粉末を更に機械的に粉砕し
てその粒径を小さくすることが考えられるが、この場合
には粉砕の過程及び保管時にクロム粉体の表面が酸化が
進行し、酸素含有量の増加に伴って焼結性が低下してし
まう問題も生ずる。又、粉砕法により得られるクロム粉
末をふるいで分級し、微細径のクロム粉末のみを使用す
ることも考えられるが、この方法では歩留りが極めて悪
くなってしまい、製造コストが嵩む原因となる。
てその粒径を小さくすることが考えられるが、この場合
には粉砕の過程及び保管時にクロム粉体の表面が酸化が
進行し、酸素含有量の増加に伴って焼結性が低下してし
まう問題も生ずる。又、粉砕法により得られるクロム粉
末をふるいで分級し、微細径のクロム粉末のみを使用す
ることも考えられるが、この方法では歩留りが極めて悪
くなってしまい、製造コストが嵩む原因となる。
【０００８】一方、溶浸法により製造される従来の銅−
クロム合金の場合、クロム粉体は酸化し易いため、その
品質管理を徹底する必要がある上、表面が酸化したクロ
ムの粉末は銅との濡れ性が悪く、溶浸ができなくなる欠
点を有する。
クロム合金の場合、クロム粉体は酸化し易いため、その
品質管理を徹底する必要がある上、表面が酸化したクロ
ムの粉末は銅との濡れ性が悪く、溶浸ができなくなる欠
点を有する。
【０００９】又、鋳造法により製造される従来の銅−ク
ロム合金の場合、凝固時の冷却速度が遅いため、銅のマ
トリックス中のクロム粒子が成長してしまい、均一で微
細なクロムの分散が困難となる上、凝固偏析が生じ易い
ことから得られる銅−クロム合金の品質にばらつきが生
じ易い欠点を有する。
ロム合金の場合、凝固時の冷却速度が遅いため、銅のマ
トリックス中のクロム粒子が成長してしまい、均一で微
細なクロムの分散が困難となる上、凝固偏析が生じ易い
ことから得られる銅−クロム合金の品質にばらつきが生
じ易い欠点を有する。
【００１０】
【発明の目的】本発明は、微細なクロムが銅マトリック
ス中に均一に分散した高品質な銅−クロム合金の電極材
料を製造し得る方法を提供することを目的とする。
ス中に均一に分散した高品質な銅−クロム合金の電極材
料を製造し得る方法を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、微細化が
困難で表面酸化の問題を抱えたクロムの機械的粉砕法を
採用せず、アトマイズ法により銅−クロム合金の微粉末
を製造し、これを焼結して電極材料の製造が可能である
か否かを調べた。
困難で表面酸化の問題を抱えたクロムの機械的粉砕法を
採用せず、アトマイズ法により銅−クロム合金の微粉末
を製造し、これを焼結して電極材料の製造が可能である
か否かを調べた。
【００１２】そこで、銅とクロムとの混合物を真空等の
非酸化性雰囲気にて溶融させ、その溶湯を５〜８ＭPa
（メガパスカル）の圧力のアルゴン(Ar)ガスを用いたガ
スアトマイズ法により急冷凝固させて微粉末化し、銅マ
トリックス中にクロムが分散した銅−クロム合金の微粉
末を得るようにした。
非酸化性雰囲気にて溶融させ、その溶湯を５〜８ＭPa
（メガパスカル）の圧力のアルゴン(Ar)ガスを用いたガ
スアトマイズ法により急冷凝固させて微粉末化し、銅マ
トリックス中にクロムが分散した銅−クロム合金の微粉
末を得るようにした。
【００１３】上記方法を実施するに際し、溶融前の銅と
クロムとの混合物における銅とクロムとの重量割合を
４：１に設定した。なお、クロムの重量割合がこれより
も多くなると、クロムのマトリックス中に銅が分散した
ものが生成してしまい、目標とする銅−クロム合金粉末
が得られない。
クロムとの混合物における銅とクロムとの重量割合を
４：１に設定した。なお、クロムの重量割合がこれより
も多くなると、クロムのマトリックス中に銅が分散した
ものが生成してしまい、目標とする銅−クロム合金粉末
が得られない。
【００１４】又、銅とクロムとの混合物を溶融する際に
は、溶湯の酸素含有量を低減するために酸素含有量の低
い銅及びクロムを選定する一方、上述した非酸化性雰囲
気にて溶融するか或いは脱酸処理を施し、酸素含有量を
１０００ppm以下に抑えた。この場合、原料等に混入し
ている不可避の不純物、例えば鉄(Fe)やニッケル(Ni)等
の存在は許容した。
は、溶湯の酸素含有量を低減するために酸素含有量の低
い銅及びクロムを選定する一方、上述した非酸化性雰囲
気にて溶融するか或いは脱酸処理を施し、酸素含有量を
１０００ppm以下に抑えた。この場合、原料等に混入し
ている不可避の不純物、例えば鉄(Fe)やニッケル(Ni)等
の存在は許容した。
【００１５】これにより得られた銅−クロム合金微粉末
の粒径は１５０μｍ以下であり、その成分割合も元の銅
とクロムとの混合物の割合と同等であった。又、この銅
−クロム合金微粉末を電子顕微鏡にて観察した結果、５
μｍ以下のクロム粒子が銅マトリックス中に均一に分散
していることを確認できた。
の粒径は１５０μｍ以下であり、その成分割合も元の銅
とクロムとの混合物の割合と同等であった。又、この銅
−クロム合金微粉末を電子顕微鏡にて観察した結果、５
μｍ以下のクロム粒子が銅マトリックス中に均一に分散
していることを確認できた。
【００１６】次に、この銅−クロム合金微粉末を内径が
７０mmのアルミナセラミックス容器内に３００ｇ充填し
た後、５×１０-5Torrの真空中にて加熱条件を変えつつ
焼結させ、この時の焼結温度と原料の外径収縮率
（％）、密度充填率（％）、導電率（IACS％）との関係
をそれぞれ第１図〜第３図に示す。なお、外形収縮率は
焼結後の外径寸法を焼結前の外径寸法で除算し、これに
１００を乗算した値であり、密度充填率は、単位体積当
たりの銅−クロム合金の実際の質量を、気泡等を含まな
い理想的な銅−クロム合金における単位体積当たりの理
論的な質量で除算し、これに１００を乗算した値であ
る。
７０mmのアルミナセラミックス容器内に３００ｇ充填し
た後、５×１０-5Torrの真空中にて加熱条件を変えつつ
焼結させ、この時の焼結温度と原料の外径収縮率
（％）、密度充填率（％）、導電率（IACS％）との関係
をそれぞれ第１図〜第３図に示す。なお、外形収縮率は
焼結後の外径寸法を焼結前の外径寸法で除算し、これに
１００を乗算した値であり、密度充填率は、単位体積当
たりの銅−クロム合金の実際の質量を、気泡等を含まな
い理想的な銅−クロム合金における単位体積当たりの理
論的な質量で除算し、これに１００を乗算した値であ
る。
【００１７】この結果から明らかなように、融点が１０
８０℃の銅−クロム合金粉末の場合、１０２０℃以下で
は原料の焼結が起こらず、逆に１１２０℃以上では原料
が完全に溶融してしまうことが判った。又、１１１０℃
にて３０分間加熱した場合には、原料が正常に焼結する
ものの、加熱時間を１時間に延長した場合には原料の一
部が溶融してしまい、この現象は原料を１１２０℃にて
３０分間加熱した場合にも見られた。なお、原料を１１
２０℃にて１時間加熱した場合には、原料全体が完全に
溶融してしまった。
８０℃の銅−クロム合金粉末の場合、１０２０℃以下で
は原料の焼結が起こらず、逆に１１２０℃以上では原料
が完全に溶融してしまうことが判った。又、１１１０℃
にて３０分間加熱した場合には、原料が正常に焼結する
ものの、加熱時間を１時間に延長した場合には原料の一
部が溶融してしまい、この現象は原料を１１２０℃にて
３０分間加熱した場合にも見られた。なお、原料を１１
２０℃にて１時間加熱した場合には、原料全体が完全に
溶融してしまった。
【００１８】第一番目の本発明による電極材料の製造方
法は、かかる知見に鑑みてなされたものであり、アトマ
イズ法により得られた銅とクロムとの合金微粉末を非酸
化性雰囲気にて加熱して焼結させるに際し、前記合金微
粉末の融点を基準としてマイナス５０度からプラス３０
度の範囲に加熱温度を制御するようにしたことを特徴と
する。
法は、かかる知見に鑑みてなされたものであり、アトマ
イズ法により得られた銅とクロムとの合金微粉末を非酸
化性雰囲気にて加熱して焼結させるに際し、前記合金微
粉末の融点を基準としてマイナス５０度からプラス３０
度の範囲に加熱温度を制御するようにしたことを特徴と
する。
【００１９】ところで、上述した原料の焼結状態はアト
マイズ法による銅−クロム合金粉末の粒度や加熱時間等
によって比較的大きく変化する虞がある。このようなこ
とから、焼結後の原料の物理的性質を左右する可能性の
高い密度充填率に着目し、上述の方法により得られた電
極材料の密度充填率とそのビッカース硬さとの関係につ
いて試験した。その結果、電極材料の密度充填率とその
ビッカース硬さとの関係を表す図４に示すように、密度
充填率とビッカース硬さとは比例関係にあることが確認
できた。
マイズ法による銅−クロム合金粉末の粒度や加熱時間等
によって比較的大きく変化する虞がある。このようなこ
とから、焼結後の原料の物理的性質を左右する可能性の
高い密度充填率に着目し、上述の方法により得られた電
極材料の密度充填率とそのビッカース硬さとの関係につ
いて試験した。その結果、電極材料の密度充填率とその
ビッカース硬さとの関係を表す図４に示すように、密度
充填率とビッカース硬さとは比例関係にあることが確認
できた。
【００２０】そこで、上述の方法により得られた密度充
填率の相違する複数種類の電極材料に付き、それらの遮
断性能及び耐電圧性能及び溶着性能を更に試験した。こ
の場合、電極を直径４０mmとし、遮断試験では回路電圧
を７.２kVに設定し、耐電圧試験では電極の隙間を３mm
に設定し、溶着試験では４００Ｎ（ニュートン）の圧接
力で電極を相互に押し付け、この状態にてピーク電流が
５０kAの交流を２サイクル通電した。この時の密度充填
率と遮断性能、耐電圧値、溶着力との関係をそれぞれ第
５図〜第７図に示す。
填率の相違する複数種類の電極材料に付き、それらの遮
断性能及び耐電圧性能及び溶着性能を更に試験した。こ
の場合、電極を直径４０mmとし、遮断試験では回路電圧
を７.２kVに設定し、耐電圧試験では電極の隙間を３mm
に設定し、溶着試験では４００Ｎ（ニュートン）の圧接
力で電極を相互に押し付け、この状態にてピーク電流が
５０kAの交流を２サイクル通電した。この時の密度充填
率と遮断性能、耐電圧値、溶着力との関係をそれぞれ第
５図〜第７図に示す。
【００２１】この結果から明らかなように、遮断性能や
耐電圧値は焼結後の電極材料の密度充填率によって殆ど
関係なくほぼ一定であるが、溶着力は密度充填率が８５
％を越えると急激に大きくなってしまうことが判明し
た。又、先の結果から電極材料の密度充填率が７５％未
満の場合には、材料強度が不充分で機械加工を行うこと
に無理があることも判明した。なお、遮断性能は、密度
充填率が９５％のものの遮断性能を１００％とした場合
のデータである。
耐電圧値は焼結後の電極材料の密度充填率によって殆ど
関係なくほぼ一定であるが、溶着力は密度充填率が８５
％を越えると急激に大きくなってしまうことが判明し
た。又、先の結果から電極材料の密度充填率が７５％未
満の場合には、材料強度が不充分で機械加工を行うこと
に無理があることも判明した。なお、遮断性能は、密度
充填率が９５％のものの遮断性能を１００％とした場合
のデータである。
【００２２】第二番目の本発明による電極材料の製造方
法は、かかる知見に鑑みてなされたものであり、アトマ
イズ法により得られた銅とクロムとの合金微粉末を非酸
化性雰囲気にて加熱して焼結させるに際し、密度充填率
が７５〜８５％の範囲に収まるようにしたことを特徴と
する。
法は、かかる知見に鑑みてなされたものであり、アトマ
イズ法により得られた銅とクロムとの合金微粉末を非酸
化性雰囲気にて加熱して焼結させるに際し、密度充填率
が７５〜８５％の範囲に収まるようにしたことを特徴と
する。
【００２３】特に、焼結作業に伴って電極材料の組織を
均一化させるためには、合金微粉末の融点を基準として
マイナス２０度からプラス５度の範囲に加熱温度を制御
すると共に密度充填率が７５〜８５％の範囲に収めるこ
とが有効である。
均一化させるためには、合金微粉末の融点を基準として
マイナス２０度からプラス５度の範囲に加熱温度を制御
すると共に密度充填率が７５〜８５％の範囲に収めるこ
とが有効である。
【００２４】
【作用】アトマイズ法によって得られる銅−クロム合金
微粉末は、銅マトリックス中に微小な粒径のクロムが均
一に分散している。これを非酸化性雰囲気にてこの合金
微粉末の融点を基準としてマイナス５０度からプラス３
０度の範囲で加熱することにより、合金粉末が焼結して
高密度に一体化される。
微粉末は、銅マトリックス中に微小な粒径のクロムが均
一に分散している。これを非酸化性雰囲気にてこの合金
微粉末の融点を基準としてマイナス５０度からプラス３
０度の範囲で加熱することにより、合金粉末が焼結して
高密度に一体化される。
【００２５】又、アトマイズ法によって得られる銅−ク
ロム合金微粉末は、銅マトリックス中に微小な粒径のク
ロムが均一に分散している。これを非酸化性雰囲気にて
加熱焼結させる場合、銅−クロム合金粉末の粒度や加熱
時間等を調整して密度充填率を７５〜８５％の範囲に収
めることにより、合金粉末が焼結一体化される。
ロム合金微粉末は、銅マトリックス中に微小な粒径のク
ロムが均一に分散している。これを非酸化性雰囲気にて
加熱焼結させる場合、銅−クロム合金粉末の粒度や加熱
時間等を調整して密度充填率を７５〜８５％の範囲に収
めることにより、合金粉末が焼結一体化される。
【００２６】
【実施例】真空インタラプタは、その概略構造の一例を
表す図８に示すようなものであり、相互に一直線状をな
す一対のリード棒１１,１２の対向端面には、それぞれ
電極１３,１４が図示しないろう材を介して一体的に設
けてある。これら電極１３,１４を囲む筒状のシールド
１５の外周中央部は、このシールド１５を囲む一対の絶
縁筒１６,１７の間に挟まれた状態で保持されている。
一方の前記リード棒１１は、一方の絶縁筒１６の一端に
接合された金属端板１８を気密に貫通した状態で、この
金属端板１８に一体的に固定されている。図示しない駆
動装置に連結される他方のリード棒１２は、他方の絶縁
筒１７の他端に気密に接合された他方の金属端板１９に
ベローズ２０を介して連結され、駆動装置の作動に伴っ
て電極１３,１４の対向方向に往復動可能に可動側の電
極１４が固定側の電極１３に対して開閉動作するように
なっている。
表す図８に示すようなものであり、相互に一直線状をな
す一対のリード棒１１,１２の対向端面には、それぞれ
電極１３,１４が図示しないろう材を介して一体的に設
けてある。これら電極１３,１４を囲む筒状のシールド
１５の外周中央部は、このシールド１５を囲む一対の絶
縁筒１６,１７の間に挟まれた状態で保持されている。
一方の前記リード棒１１は、一方の絶縁筒１６の一端に
接合された金属端板１８を気密に貫通した状態で、この
金属端板１８に一体的に固定されている。図示しない駆
動装置に連結される他方のリード棒１２は、他方の絶縁
筒１７の他端に気密に接合された他方の金属端板１９に
ベローズ２０を介して連結され、駆動装置の作動に伴っ
て電極１３,１４の対向方向に往復動可能に可動側の電
極１４が固定側の電極１３に対して開閉動作するように
なっている。
【００２７】本実施例における前記電極１３,１４は、
アトマイズ法による原料を焼結してなる銅−クロム合金
で主要部が構成される。
アトマイズ法による原料を焼結してなる銅−クロム合金
で主要部が構成される。
【００２８】本発明によるこの電極１３,１４の製造方
法の一例を以下に記すと、銅に対して２０重量％の割合
のクロムを有するアトマイズ粉末（粒径が１５０μｍ以
下でクロムの平均粒径が３.５μｍ）を直径が６８mmの
アルミナセラミックス製の容器に入れ、真空炉中におい
て１０８０℃で３０分間加熱し、焼結させた。
法の一例を以下に記すと、銅に対して２０重量％の割合
のクロムを有するアトマイズ粉末（粒径が１５０μｍ以
下でクロムの平均粒径が３.５μｍ）を直径が６８mmの
アルミナセラミックス製の容器に入れ、真空炉中におい
て１０８０℃で３０分間加熱し、焼結させた。
【００２９】このようにして得られたクロムが２０重量
％含まれる銅−クロム合金の密度充填率は８５％であ
り、この銅−クロム合金中に占めるクロムの平均粒径は
１０μｍでその粒径の分布幅も狭く、均一に分散してい
ることを確認した。
％含まれる銅−クロム合金の密度充填率は８５％であ
り、この銅−クロム合金中に占めるクロムの平均粒径は
１０μｍでその粒径の分布幅も狭く、均一に分散してい
ることを確認した。
【００３０】この銅−クロム合金を所定の電極形状に機
械加工し、図８に示す真空インタラプタに組み込んで従
来のものと比較した結果、クロムが均一に分散されてい
ることにより、発生したアークの拡散がスムーズに行わ
れ、しゃ断性能が向上したことが判った。又、クロムの
微細化に伴って接触抵抗が低下し、これに伴って耐溶着
力も低下させることができた。
械加工し、図８に示す真空インタラプタに組み込んで従
来のものと比較した結果、クロムが均一に分散されてい
ることにより、発生したアークの拡散がスムーズに行わ
れ、しゃ断性能が向上したことが判った。又、クロムの
微細化に伴って接触抵抗が低下し、これに伴って耐溶着
力も低下させることができた。
【００３１】
【発明の効果】本発明の電極材料の製造方法によると、
アトマイズ法により得られる銅−クロム合金の微粉末を
焼結するに際し、その加熱温度を合金微粉末の融点を基
準としてマイナス５０度からプラス３０度の範囲に収め
るか、密度充填率が７５〜８５％の範囲に収まるように
アトマイズ法による銅−クロム合金粉末の粒度や加熱時
間等を調整するか、或いは合金微粉末の融点を基準とし
てマイナス２０度からプラス５度の範囲に加熱温度を制
御すると共に密度充填率が７５〜８５％の範囲に収まる
ようにしたので、銅マトリックス中に微細な粒径のクロ
ムが均一に分散した銅−クロムを得ることができ、従来
の焼結冶金法等による銅−クロム合金と比べて、しゃ断
電流値や接触抵抗値、或いは耐溶着力等の優れた電極材
料を提供することができる。
アトマイズ法により得られる銅−クロム合金の微粉末を
焼結するに際し、その加熱温度を合金微粉末の融点を基
準としてマイナス５０度からプラス３０度の範囲に収め
るか、密度充填率が７５〜８５％の範囲に収まるように
アトマイズ法による銅−クロム合金粉末の粒度や加熱時
間等を調整するか、或いは合金微粉末の融点を基準とし
てマイナス２０度からプラス５度の範囲に加熱温度を制
御すると共に密度充填率が７５〜８５％の範囲に収まる
ようにしたので、銅マトリックス中に微細な粒径のクロ
ムが均一に分散した銅−クロムを得ることができ、従来
の焼結冶金法等による銅−クロム合金と比べて、しゃ断
電流値や接触抵抗値、或いは耐溶着力等の優れた電極材
料を提供することができる。
【図１】アトマイズ法による銅−クロム合金を焼結させ
る際の加熱温度と外径収縮率との関係を表すグラフであ
る。
る際の加熱温度と外径収縮率との関係を表すグラフであ
る。
【図２】アトマイズ法による銅−クロム合金を焼結させ
る際の加熱温度と密度充填率との関係を表すグラフであ
る。
る際の加熱温度と密度充填率との関係を表すグラフであ
る。
【図３】アトマイズ法による銅−クロム合金を焼結させ
る際の加熱温度と導電率との関係を表すグラフである。
る際の加熱温度と導電率との関係を表すグラフである。
【図４】焼結して得られた電極材料の密度充填率とその
ビッカース硬さとの関係を表すグラフである。
ビッカース硬さとの関係を表すグラフである。
【図５】焼結して得られた電極材料の密度充填率とその
遮断性能との関係を９５％の密度充填率のものを基準と
して表したグラフである。
遮断性能との関係を９５％の密度充填率のものを基準と
して表したグラフである。
【図６】焼結して得られた電極材料の密度充填率とその
耐電圧値との関係を表すグラフである。
耐電圧値との関係を表すグラフである。
【図７】焼結して得られた電極材料の密度充填率とその
溶着力との関係を表すグラフである。
溶着力との関係を表すグラフである。
【図８】真空インタラプタの一例を表す断面図である。
１１,１２はリード棒、１３,１４は電極である。
フロントページの続き (72)発明者 深井 利真 東京都品川区大崎二丁目１番17号 株式 会社 明電舍内 (56)参考文献 特開 昭53−146904（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−141802（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−47931（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−215736（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01H 33/66 B22F 5/00 H01H 11/04
Claims (3)
- 【請求項１】 アトマイズ法により得られた銅とクロム
との合金微粉末を非酸化性雰囲気にて加熱して焼結させ
るに際し、前記合金微粉末の融点を基準としてマイナス
５０度からプラス３０度の範囲に加熱温度を制御するよ
うにしたことを特徴とする電極材料の製造方法。 - 【請求項２】 アトマイズ法により得られた銅とクロム
との合金微粉末を非酸化性雰囲気にて加熱して焼結させ
るに際し、密度充填率が７５〜８５％の範囲に収まるよ
うにしたことを特徴とする電極材料の製造方法。 - 【請求項３】 アトマイズ法により得られた銅とクロム
との合金微粉末を非酸化性雰囲気にて加熱して焼結させ
るに際し、前記合金微粉末の融点を基準としてマイナス
２０度からプラス５度の範囲に加熱温度を制御すると共
に密度充填率が７５〜８５％の範囲に収まるようにした
ことを特徴とする電極材料の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3257680A JP3067317B2 (ja) | 1991-10-04 | 1991-10-04 | 電極材料の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3257680A JP3067317B2 (ja) | 1991-10-04 | 1991-10-04 | 電極材料の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05101749A JPH05101749A (ja) | 1993-04-23 |
| JP3067317B2 true JP3067317B2 (ja) | 2000-07-17 |
Family
ID=17309615
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3257680A Expired - Lifetime JP3067317B2 (ja) | 1991-10-04 | 1991-10-04 | 電極材料の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3067317B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102744413A (zh) * | 2012-08-01 | 2012-10-24 | 陕西斯瑞工业有限责任公司 | 一种铜铬合金粉末的制备方法及铜铬合金锭的制备方法 |
| CN110295294B (zh) * | 2019-06-19 | 2021-02-26 | 陕西斯瑞新材料股份有限公司 | 一种通过添加超细晶铬相优化铜铬触头的制备方法 |
-
1991
- 1991-10-04 JP JP3257680A patent/JP3067317B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05101749A (ja) | 1993-04-23 |
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