JPH01110667A - コレカルシフエロール誘導体 - Google Patents

コレカルシフエロール誘導体

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JPH01110667A
JPH01110667A JP63227646A JP22764688A JPH01110667A JP H01110667 A JPH01110667 A JP H01110667A JP 63227646 A JP63227646 A JP 63227646A JP 22764688 A JP22764688 A JP 22764688A JP H01110667 A JPH01110667 A JP H01110667A
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JP
Japan
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methyl
dihydroxycholecalciferol
formula
lower alkyl
hydrogen
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Application number
JP63227646A
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English (en)
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Enrico G Baggiolini
エンリコ・ジユゼツベ・バツジヨリーニ
Bernard M Hennessy
バーナード・マイケル・ヘネシイ
Milan R Uskokovic
ミラン・マドジエ・ウスココビツク
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
F Hoffmann La Roche AG
Original Assignee
F Hoffmann La Roche AG
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は特に骨粗驕症(osteoporosis)ま
たは皮ふ炎症、殊に乾酵を処置するための製薬学的に活
性な物質としての26.26.26.27.27.27
−ヘキサデユウテロ−1α、25−ジヒドロキシコレカ
ルシフエロール 6、26.27.27.27−オクタデユウテロ−lα
,25−’;ヒドロキシコレカルシフェロール(以下に
それぞれへキサデュウテロ及びオクタデュウテロ生成物
という)に関する。更に、本発明は上記化合物の1種ま
たはその混合物を含有する薬剤並びに該薬剤の製造方法
、病気の処置における該化合物の使用、或いは病気の処
置、特に骨粗鬆症または皮ふ炎症、殊に乾癬を処置する
ための薬剤の製造における該化合物の用途に関する。ま
た、本発明はオクタデュウテロ化合物、その製造方法、
並びにヘキサデュウテロ化合物及びこの方法において生
成する中間体に関する。
本方法は式 式中、R1及びR2は共に水素または共に重水素であり
、そしてR3は一Si(低級アルキル)。
である、 の化合物を 式中、R6及びR7は低級アルキルまたはアリールであ
る、 の化合物と反応させ、そして得られる化合物から保護基
を除去することからなる。
本明細書において用いる低級アルキルは炭素原子8個ま
でを有する直鎖状または分枝鎖状の基、例えばメチル、
エチル、プロピルまたはt−ブチルを表わすニアリール
はフェニル或いは1個またはそれ以上の低級アルキル、
ハロゲン、ニトロ、シアノまたはトリフルオロメチルで
置換されたフェニルを意味する。
上記反応を塩基、例えば低級アルキルリチウム、例えば
ブチルリチウム、または七ノーもしくはジアルキル化さ
れたジシリルアミドの存在下においてエーテル、例えば
テトラヒドロフラン(T H F )中にて、不活性雰
囲気、例えばアルゴン下で約−80°C乃至−50°C
の温度範囲で行うことができる。得られる化合物をシリ
カゲル上で溶離クロマトグラフィーによって精製するこ
とができる。
保護基の除去を低級アルカノール、或いは水、有機溶媒
及び酸の混合物で処理することによって達成することが
できる。酸の例は無機酸、低級アルカン酸またはスルホ
ン酸、或いは好ましくは、低級アルカノール中の懸濁液
としての陽イオン交換樹脂の水素型である。また脱保護
をエーテル、例えばTHF中のフッ化テトラブチルアン
モニウムで処理して行うことができる。
式■の化合物を下記の弐■〜■及び■′の化合物を介し
て製造することができる;式中、Rは低級アルキル、ア
リールまたはアリール−低級アルキルであり、Xはクロ
ロまたはブロモであり、Yはクロロ、ブロモ、ヨードま
たはOSO3Hであり、R31は水素またはーSi(低
級アルキル)、であり;R4は水素であり、モしてRe
は水素またはCO.Rであるか、或いはR4はーSi(
低級アルキル)、であり、そしてR′は水素であり,R
1及びR2は上記のとおりである。
エステル■を溶媒、例えば脂肪族または芳香族炭化水素
、ヘキサン、ベンゼンまたはクロロホルム、エーテル例
えばTHF中にて−70乃至+80°Cの温度範囲、好
ましくは約0°C乃至室温で水素化物、例えばL iA
 IH、によってアルコール■に転化する。
アルコール■をジクロロメタン及びピリジン中で塩化p
−トルエンスルホニルとの反応により化合物v1但しY
は03O2Rである、にまず転化する。次にこの化合物
を有極性溶媒、例えばジメチルホルムアミド(DMF)
中にて25乃至100°Cの温度範囲で、例えばLiB
rによってハロゲン化する。
Yがクロロ、ブロモまたはヨードであるハライドVを有
極性溶媒、例えばヘキサメチルホスホルアミド中にて−
20乃至+30℃の温度範囲で、強塩基、例えばt−ブ
チルアルコール中のナトリウムアミドとの反応により、
R4及びR5が水素であるアルコール■に転化する。
次にアルコール■をエーテル、例えばTHF中にて約−
20乃至+30°Cの温度範囲で、例えばl−(トリメ
チルシリル)イミダゾールによってシリル化する。
R4が一3i(低級アルキル)、であり、モしてRsは
水素である、生ずるエーテル■を非プロトン性溶媒、例
えばヘキサン中にて一100°C乃至室温の温度範囲で
強塩基、例えばブチルリチウムとまず反応させ、次にク
ロロホルメートCIC02R。
ここで、Rは上記のとおりである、例えばクロロギ酸メ
チルと反応させる。
R4が水素であり R5はCO□Rであり、そしてRは
上記のとおりである、得られるエステル■を溶媒、例え
ばエーテル、芳香族炭化水素、アルカン酸低級アルキル
エステルまたは低級アルカノール、例えばエタノール中
で触媒、例えば炭素に担持させた5〜lO%パラジウム
の存在下において水素添加する。
R1及びR2が水素である、生ずる飽和したエステル■
を不活性雰囲気、例えばアルゴン下にて0乃至80°C
の温度範囲で、ナトリウムメチレート−d、の存在下に
おいて例えばメチル〜d、−アルコール−dによって重
水素化し、R1及びR2が重水素であるエステル■を生
成させる。
エステル■をエーテル、例えばジエチルエーテル中にて
不活性雰囲気、例えばアルゴン下で−30乃至+30°
Cの温度範囲でメチルリチウム−d3と反応させること
ができる。
次の工程において、ジオール■を低級アルキルハライド
溶媒、例えば塩化メチレン中にて−IO乃至+30°C
の温度範囲で酸化剤、例えばクロロクロム酸ピリジニウ
ムと反応させる。
R3+が水素である、得られるケトン■′を溶媒、例え
ばハロゲン化された炭化水素、例えば塩化メチレン中で
シリル化剤と反応させ、式■の化合物を生成させる。式
■及びXの出発物質は既知であるか、或いはそれぞれ、
ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリイ(J、
 Orα, Chaα,)、■、4433 (1983
)及びj↓、3093 (1986)記載された如き公
知の方法に従って製造することができる。
式π′の中間体、殊に、 [I R−[1a(R本)、3aβ、7aαll−オク
タヒドロ−1−[5−[(1−リメチルシリル)オキシ
]−1−メチル−5−(メチル−dx)  6.6.6
−d、−へキシル]−7a−メチルー4H−インデン−
4−オン及び [IR[1σ(R本)、3aβ、7aall−才クタヒ
ド口−1−[5−[(1−リメチルシリル)オキシ]−
■−メチル−5−(メチル−ds)−4,4,6,6゜
6−ds−ヘキシル]−7a−メチルー4H−インデン
−4−オン 式■の中間体、殊に、 [I  R−[1α(l  R本)、 3 a β、 
4 β、7ag]]−オクタヒドローα、a−d2−δ
+7a−ジメチルー4−ヒドロキシ−IH−インデン−
1−4草酸メチルエステル及び [I  R−[1α(I  R本)、3 a β、4 
β、7a  a]]−オクタヒドロ−δ、7a−ジメチ
ルー4−ヒドロキシ−IH−インデン−1−吉草酸メチ
ルエステル、 式■の中間体、殊に [3aS−[3(R本)、3a  a 、7  β]]
−3α,4゜5.6.7.7a−へキサヒドロ−3a−
メチル−3−(l−メチル−3−ブチニル)−1H−イ
ンデン−7−オール、 [3aS−[3(R本)、3αα,7  β 、7a 
 β]]−3α,4.5,6.7.7a−へキサヒドロ
−3a−メチル−3−(l−メチル−3−ブチニル)−
7−[(トリメチルシリル)オキシ]−18−インデン
及び [3aS   [3(R*)、3aα,7β、7aβ]
]−5(3α,4.5.6+7.7a−へキサヒドロ−
7−ヒドロキシ−3a−メチル−IH−インデン−3−
イル)−5−メチル−2−ペンチン酸メチルエステル は新規のものであり、そしてそのままで本発明の目的で
ある。
本発明の重水素化された生成物の有用な活性を既知の方
法に従って、例えば次の如くして立証することができる
試験管内における鳥類及びブタの軟骨増殖の刺激を、コ
ラーゲン及びプロテオグリカン(proteoglyc
an)合成速度を刺激することによって測定し、また該
速度を標識した軟骨における[3H]−ブリ ′ン、[
3H1−チミジン及び1iS04を計数する二七によっ
て評価した。その結果をIα,25−ジヒドロキシ−コ
レカルシフェロール(以下に1α。
25 (OH)2D!で示す)と比較して第1表に示し
た。結果は重水素化した生成物が軟骨を刺激し、かくし
て、新しい骨の形成を刺激することを示している。
種々なパラメータにおけるlσ、25(OH)2D、及
びヘキサデュウテロ生成物の効果をビタミンD欠乏ラッ
トについて測定した。第π表における結果は、ヘキサデ
ュウテロ生成物が骨量増加においてlα、25(OH)
zDsよりもより活性であることを示し、一方、血清C
a”+数は、ヘキサデュウテロ生成物が過カルシウム血
清誘発においてlα、25(OH)xDxよりも活性の
小さいことを示している。
ラットにおける腸管カルシウム吸収(ICA)及び骨カ
ルシウム代謝(BGM)の刺激を本発明の重水素化した
生成物に対して測定した。更に、これらの生成物の競合
的結合(cp)、即ち、Ia。
25 (OH)xDs受容体結合部位に対して競合する
その能力を、ひな、ラット及び子牛の腸から調製した受
容体を用いて評価した。第■表においてlσ、25(O
H)zDxの結果の百分率で表わした結果は、重水素化
した生成物がlα、25(OH)。
D、に匹敵することを示している。
第■表 ヘキサデュウテロ及びオクタデュウテロ生成物を、病状
、例えば骨粗鬆症及び皮ふ炎症、例えば乾癬及び接触性
成ふ炎を処置するために、1日当たり約0.25〜2μ
2の範囲の投薬量で投与することができる。本化合物を
骨粗鬆症の処置において経口的、皮下的、筋肉内、静脈
内または腹腔内に、そしてまた皮ふ炎の処置においては
局所的に投与することができる。
本発明の重水素化した生成物を組成物、例えば経口投与
に対する錠剤、カブセル剤またはエリキシル、非経腸投
与に対する無菌の溶液または懸濁液、或いは局所用調製
物に調製することができる。
本生酸物約0.25〜2μ2を製薬学的に許容し得る補
助剤と配合することができ、該補助剤の例はバインダー
、例えばトラガカントゴム、アラビアゴム、トウモロコ
シ澱粉及びゼラチン;賦形剤、例えばリン酸二カルシウ
ム;崩解剤、例えばトウモロコシまたはポテト澱粉及び
アルギン酸;湿潤剤、例えばステアリン酸マグネシウム
;甘味剤、例えばスクロース、ラクトースまたはサッカ
リン;並びに風味剤、例えばペパーミント及びチェリー
である。錠剤をシェラツク、糖またはこの双方で被覆す
ることができる。シロップまたはエリキシルには保存剤
としてヒドロキシ安息香酸メチル及びプロピルを含ませ
ることができる。注射用の無菌の組成物に対する賦形剤
の例は水、天然に存在する植物油、例えばゴマ油、やし
油、落花生油または綿実油、或いは合成オレイン酸エチ
ルである。また緩衝剤、保存剤及び酸化防止剤を含ませ
ることもできる。
実施例1 1a)THF25mj2中の[3aS−[3(as*γ
R車)、3aσ、7β、7aβ]−7−(アセチルオキ
シ)−l−クロロ−3α,4,5,6.7,7a−へキ
サヒドロ−γ、3a−ジメチルーIH−インデン、 −
3−酪酸メチルエステル1.017(2,95ミリモル
)の溶液を0°Cに冷却し、アルゴン下にてTHF中の
L iA IH、の1M溶液1.47d(1,47ミリ
モル)で処理した。0℃で2時間撹拌した後、追加の水
素化リチウムアルミニウム溶液0゜20mβを加え、更
に1時間反応させた。次に注意して2Nfi石酸カリウ
ムナトリウム溶液8−1次に2N虐酸0.5−を加えて
反応を止めた。水で希釈した後、これを酢酸エチルで抽
出した。合液した抽出液を2N酒石酸カリウムナトリウ
ム溶液、次に塩水で洗浄し、乾燥し、蒸発乾固させ、[
3aS−[3(βS*δR”)、3 a a 、7β、
7aβ]]−7−アセトキシ−β−クロロ−3α,4.
5.6.7゜7a−へキサヒドロ−δ+3a−ジメチル
ーIH−インデン−3−ブタノール0.9oI(収率9
3%)を得た、[a]ff−30,1’(cO,6,E
tOH)。
lb)ジクaaメタ720mj及びピリジ720 ’m
l中の実施例1a)の生成物1.51(4,76ミリモ
ル)の溶液を、0℃及びアルゴン下で、塩化p−トルエ
ンスルホニル4.509  (23,60ミリモル)で
処理し、次に0℃で一夜撹拌した。水(8mJ)を加え
、生じた混合物を1時間撹拌した後、溶媒を真空下で除
去し、残液を水で希釈し、酢酸エチルで抽出した。有機
抽出液をIN塩酸、水、2N重炭酸カリウム溶液及び塩
水で洗浄し、そして乾燥した。残渣をDMF40−に溶
解し、アルゴン下にて無水LiBr4.OOI  C4
6,0,6ミリモル)と共に50℃に17時間加熱した
。冷却後、反応混合物を氷水で希釈し、酢酸エチルで抽
出した。合液した有機抽出液を水で洗浄し、乾燥し、蒸
発乾固させ、[3aS−[3(IR木3S本)。
3aα、7β、7aβ]]−7−アセトキシ−3−(3
−クロロ−4−ブロモ−1−メチルブチル)−3α,4
.5.6.7.7 a−ヘキサヒドロ−3a−メチル−
IH−インデン1.621c全体の収率90%)を得た
、 ’HNMR(60MH2,CDClりδ0.88(s、
3H)、1.07 (d、J=6.4Hz、3H)、2
.03 (s、3H) 、3.60 (br AB q
、1−10.2Hz、Δγ−14,0Hz、、2H) 
、5.00  (br α,  l H) 、 5.3
3  (br s、  l H)  ppm0Ic)へ
キサメチルホスホルアミド15+l1j2中のナトリウ
ムアミド1.407  (35,89ミリモル)の懸濁
液をアルゴン下にて、まず5分間にわたってt−ブチル
アルコール1.lomN(11,66ミリモル)で、次
にヘキサメチルホスホルアミド20I11β中の実施例
1b)の生成物1.317  (3,46ミリモル)の
溶液で処理し、得られた混合物を室温で2.5時間撹拌
した。次に注意して氷冷した飽和塩化アンモニウム水溶
液の添加によって、統いて2N塩酸で酸性にして反応を
止め、酢酸エチルで抽出した。合液した有機層を飽和塩
化アンモニウム溶液、次に水で洗浄し、乾燥し、真空下
で蒸発させた。残渣をシリカゲル上で(溶媒としてヘキ
サン−酢酸エチル2:1を用いて)クロマトグラフィー
によって精製し、[3a I −[3(R*)。
3aσ、7β、7aβ]]  3α,4.5.6,7,
7a−ヘキサヒドロ−3a−メチル−3−(I−メチル
−3−ブチニル)−1H−インデン−7−オール0.2
7.?(収率36%)を得た、[σ]B−4,1゜(c
o、5.EtOH)。
実施例2 THF15mp、中の実施例1c)の生成物0.680
、?(3,11ミリモル)の溶液を1−(トリメチルシ
リル)イミダゾール0.700ml (4,77ミリモ
ル)で処理し、生じた混合物をアルゴン下にて室温で2
時間撹拌した。次に溶媒を蒸発させて乾固させ、残渣を
シリカカラムに加え、ヘキサン−酢酸エチル(10,1
)で溶離し、濃い油として、[3a S−[3(R*)
、3 a α,7β、7aβ113 a 、4.5.6
.7’、7 a−へキサヒドロ−3a−メチル−3−(
1−メチル−3−ブチニル)−7−[(1−リメチルシ
リル)オキシ]−1H−インデン0.84EM  (収
率94%)が得られ、このものを直ちに次の工程に用い
た。
実施例3 THFgd中の実施例2の生成物0.4007C1,3
8ミリモル)の溶液を一78°C及びアルゴン下にて、
ヘキサン中のブチルリチウムの1゜6M溶液1.05m
j(1,68ミリモル)で滴下処理した。−78°Cで
30分間撹拌した後、生じた溶液を、−78°C及びア
ルゴン下で、THF2ml中のクロロギ酸メチル0.2
25mji! (2,91ミリモル)の撹拌された溶液
に入れた。添加終了後、生じた混合物を1時間にわたっ
て室温にし、次いで更に1時間撹拌した。次にこのもの
を5%リン酸二水素ナトリウム溶液5−で徐々に処理し
、15分間撹拌し、酢酸エチルで抽出した。合液した有
機相を2N塩酸、水及び塩水で洗浄し、乾燥し、蒸発乾
固させた。残渣をシリカを通して高速クロマトグラフィ
ーによって精製しく溶離剤:ヘキサンー酢酸エチル2 
: 1) 、 [3a S−[3(R本)、3aα、7
β、7aβ]]−5−(3α,4,5,6,7゜7a−
へキサヒドロ−7−ヒドロキシ−3a−メチル−IH−
インデン−3−イル)−5−メチル−2−ペンチン酸メ
チルエステル0.348.9(収率91%)を得た、[
α1B−7,1’(co、4.EtOH)。
実施例4 エタノール20社中の実施例3の生成物0.3002 
 (1,09ミリモル)の溶液を炭素に担持させた5%
パラジウム触媒0.1002で処理し、この混合物を大
気圧下で一夜水素添加した。触媒を濾別し、溶媒を蒸発
させ、[I R−[1a(l R*)。
3aβ、4β、7aα]]−オクタヒドロ−δ、7a−
ジメチルー4−ヒドロキシ−IH−インデン−■−吉草
酸メチルエステル0.291  (収率96 % ) 
 得 Iこ 、  [α ]W  +  1  1.6
(co、2.   EtOH)。
実施例5 5a)メチルリチウム−d、2mN(3,00ミリモル
)のエーテル溶液をジエチルエーテル6−で希釈し、ア
ルゴン下にて0°Cで、THF2.5.2に溶解した実
施例4の生成物014L?  (0,52ミリモル)で
滴下処理した。0°Cで40分間撹拌した後、更にメチ
ルリチウム−d□溶液0.5mβ(0,75ミリモル)
を加え、混合物を更に25分間反応させた。次に2N重
炭酸カリウム2−及び2N酒石酸カリウムナトリウム溶
液2IIINの混合物によって反応を止め、室温にし、
酢酸エチルで抽出した。合液した有機抽出液を2N重炭
酸カリラム、次に塩水で洗浄し、乾燥し、蒸発乾固させ
た。残渣をシリカゲルを通して高速クロマトグラフィー
によって精製しく溶離剤としてヘキサン−酢酸エチルI
:工を使用)、[I R−[1a(I R本)。
3aβ、4β、7aα]]−オクタヒドロ−ε、7a−
ジメチルーσ、a−(ジメチル−d、)−4−ヒドロキ
シ−IH−インデン−1−ペンタノール0.119m1
(収率79%)得た、’HNMR(l OOMHz、 
CDCl5)δ0.68(s、3H)、0.93 (d
、  J =6.0Hz、  3H) 、3.57(m
 +  l H) ppma 5b)塩化メチレン6−中の実施例5a)の生成物0.
1171  (0,406ミリモル)の溶液をクロロク
ロム酸ピリジニウム0.2709 (1253ミリモル
)と共に室温で2.5時間撹拌した。
生じた懸濁液をエーテルで希釈し、濾過し、残渣をエー
テルと共に砕解し、そして濾過した。合液した濾液を蒸
発乾固させ、残渣をシリカゲルを通してクロマトグラフ
ィーによって精製した(溶離剤:ヘキサンー酢酸エチル
2:l)。得られた生成物(0,105,9)を塩化メ
チレン6mAに溶解し、l−(トリメチルシリル)イミ
ダゾール0゜225m1(1,534ミリモル)で処理
し、アルゴン下にて室温で16時間撹拌した。次に水(
2mN)を加え、20分間撹拌した後1、生じた混合物
を酢酸エチルで抽出した。合液した抽出液を水及び塩水
で洗浄し、乾燥し、蒸発乾固させた。残渣をシリカゲル
を通して、ヘキサン−酢酸エチル(5:l)で溶離しな
がら濾過によって精製し、無色の液体として、[I R
−[1α(I R本)、3 aβ。
7aα]]−オクタヒドロ−1−[5−[(トリメチル
シリル)オキシ]−1−メチル−5−(メチル−ds)
  6,6.6  da−ヘキシル]−7a−メチルー
4H−インデン−4−オン0.120.?(全体の収率
82%)を得た。
実施例6 THF8−中の[35−(l Z 、5α、5β)]−
[2[3,5−ビス[[(1,1−ジメチルエチル)ジ
メチルシリル]オキシ]−2−メチレンシクロへキシリ
デンコニチルコシフェニルホスフィンオキシド0028
4、?  (0,488ミリモル)の溶液を一78℃に
冷却し、アルゴン下にてヘキサン中のブチルリチウムの
1.6M溶液0.295mA (0,472ミリモル)
で滴下処理した。生じた溶液を5分間撹拌し、−78°
CにてTHF3−中の実施例5b)の生成物0.120
2  (0,334ミリモル)の溶液で10分間にわた
って滴下処理し、撹拌をアルゴン下にて一78℃で2時
間続けた。2N酒石酸カリウムナトリウム溶液及び2N
重炭酸カリウムの1=1混合物3Jの添加後、反応混合
物を室温にて酢酸エチルで抽出した。有機抽出液を塩水
で洗浄し、乾燥し、蒸発乾固させた。残渣をシリカゲル
を通して濾過によって精製しく溶離剤:ヘキサンー酢酸
エチル30:l)、生成物0.2172を得た。この生
成物を塩化メチレンl ml及びメタノール8mj2の
混合物に溶解し、陽イオン交換樹脂3.02で処理し、
生じた懸濁液をアルゴン下にて室温で18時間撹拌した
。濾過し、樹脂をメタノールで洗浄した後、濾液を蒸発
乾固させた。
残渣をシリカゲルを通してクロマトグラフィーによって
精製しくヘキサン−酢酸エチルで溶離しながら)、26
,26.26.27.27.27−ヘキサデユウテロ−
lσ、25−ジヒドロキシコレカルシフエロール0−1
127(全体の収率79%)を得た、融点117〜11
8℃(ギ酸メチルから再結晶後) 、[j1分+43.
3°(c 0.2.EtOH)。
実施例7 メチルーd、アルコールーd5−中の実施例4の生成物
0.288.?  (1,020ミリモル)の溶液をメ
チル−d、アルコール−d中のナトリウムメチレート−
d、の3N溶液0.1−で処理し、生じた混合物をアル
ゴン下で9時間還流させ、次に50℃に一夜加熱した。
次いで存在する塩基を陽イオン交換樹脂の添加によって
中和し、濾過し、樹脂をメタノールで洗浄した後、濾液
を蒸発乾固させた。残渣をシリカゲルを通してクロマト
グラフィーによって精製した(溶離剤:ヘキサンー酢酸
エチル2:l)。得られた生成物(0,15,? ”)
をメチル−d、アルコール−d中の3Nナトリウムメチ
レート−dso、1mAの存在下においてメチルーd、
アルコール−65mj2に溶解し、4時間還流させ、処
理し、上記の如く精製し、無色の油として、N RN 
e(I R*)、3 aβ、4β、7aσ]]−オクタ
ヒドロ−α、α−d2−δ、7a−ジメチル−4−ヒド
ロキシ−IH−インデン−1−バレリアン酸メチルエス
テル0.0662  (収率23%)を得た。
実施例8 実施例5a)及びb)に述べた方法を用いて、実施例7
の生成物0.065,9を a)白色固体として[I R−[1α(I R本)、3
aβ。
4β、7aα1]−オクタヒドローε、7a−ジメチル
−β、β−d2−α、α−(ジメチル−dX)−4−ヒ
ドロキシ−IH−インデン−■−ペンタノール0.04
1  (収率75%)に転化し、そしてb)この化合物
0.0472を無色の油として[lR−[1α(IR*
)、3 aβ、7aα]]−オクタヒドロ−1−[5−
[(トリメチルシリル)オキシ]−1=メチル−5−(
メチル−d、)−4,4,6,6,6−d5−ヘキシル
j−7a−メチルー4H−インデン−4−オン0.05
1.?に転化した。
実施例9 実施例6に述べた方法を用いて、実施例8b)の生成物
0.0517を24.24.26,26.26゜27.
27.27−オクタデユワテロ−1α、25−ジヒドロ
キシコレカルシフエロール0.0502 (全体の収率
83%)に転化した、融点104〜107°C;質量ス
ペクトル+95.8%d6.2゜2%d4;l−0%d
3゜ 実施例IO ヘキサデュウテロまたはオクタデュウテロ生成物を含有
するカプセル剤及びクリームを次の組成を用いてそれ自
体公知の方法で製造した:mβ/カプセル剤 分留したやし油     199.995 199.9
90ビル 、?/kgクリーム レート

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、特に骨粗鬆症または皮ふ炎症、殊に乾癬を処置する
    ための製薬学的に活性な物質としての26,26,26
    ,27,27,27−ヘキサデユウテロ−1α,25−
    ジヒドロキシコレカルシフエロール及び24,24,2
    6,26,26,27,27,27−オクタデユウテロ
    −1α,25−ジヒドロキシコレカルシフエロール。 2、特に骨粗鬆症または皮ふ炎症、殊に乾癬を処置する
    ための26,26,26,27,27,27−ヘキサデ
    ユウテロ−1α,25−ジヒドロキシコレカルシフエロ
    ールまたは24,24,26,26,26,27,27
    ,27−オクタデユウテロ−1α,25−ジヒドロキシ
    コレカルシフエロール或いはその混合物を含有する薬剤
    。 3、病気の処置における、特に骨粗鬆症または皮ふ炎症
    、殊に乾癬を処置するための26,26,26,27,
    27,27−ヘキサデユウテロ−1α,25−ジヒドロ
    キシコレカルシフエロールまたは24,24,26,2
    6,26,27,27,27−オクタデユウテロ−1α
    ,25−ジヒドロキシコレカルシフエロールの使用。 4、病気の処置、特に骨粗鬆症または皮ふ炎症、殊に乾
    癬を処置するための薬剤の製造における26,26,2
    6,27,27,27−ヘキサデユウテロ−1α,25
    −ジヒドロキシコレカルシフエロールまたは24,24
    ,26,26,26,27,27,27−オクタデユウ
    テロ−1α,25−ジヒドロキシコレカルシフエロール
    の使用。 5、24,24,26,26,26,27,27,27
    −オクタデユウテロ−1α,25−ジヒドロキシコレカ
    ルシフエロール。 6、式 ▲数式、化学式、表等があります▼R2 ▲数式、化学式、表等があります▼II′ 式中、R^1及びR^2は共に水素または共に重水素で
    あり、そしてR^3^1は水素または−Si(低級アル
    キル)_3である、 の化合物。 7、[1R−[1α(1R^*)、3aβ,7aα]]
    −オクタヒドロ−1−[5−[(トリメチルシリル)オ
    キシ]−1−メチル−5−(メチル−d_3)−6,6
    ,6−d_3−ヘキシル]−7a−メチル−4H−イン
    デン−4−オンまたは [1R−[1a(1R^*),3aβ,7aα]]−オ
    クタヒドロ−1−[5−[(トリメチルシリル)オキシ
    ]−メチル−5−(メチル−d_3)−4,4,6,6
    ,6−d_5−ヘキシル]−7a−メチル−4H−イン
    デン−4−オン である特許請求の範囲第6項記載の化合物。 8、式 ▲数式、化学式、表等があります▼VII 式中、R^1及びR^2は共に水素または共に重水素で
    あり、そしてRは低級アルキル、アリールまたはアリー
    ル−低級アルキルである、 の化合物。 9、[1R−[1α(1R^*),3aβ,4β,7a
    α]]−オクタヒドロ−α,α−d_2−δ,7a−ジ
    メチル−4−ヒドロキシ−1H−インデン−1−吉草酸
    メチルエステルまたは [1R−[1α(1R^*),3aβ,4β,7aα]
    ]−オクタヒドロ−δ,7a−ジメチル−4−ヒドロキ
    シ−1H−インデン−1−吉草酸メチルエステル である特許請求の範囲第8項記載の化合物。 10、式 ▲数式、化学式、表等があります▼VI 式中、R^4は水素であり、そしてR^5は水素または
    CO_2Rであり、ここでRは低級アルキル、アリール
    またはアリール−低級アルキルであるか、或いはR^4
    は−Si(低級アルキル)_3であり、そしてR^5は
    水素である、 の化合物。 11、[3aS−[3(R^*)、3aα,7β,7a
    β]]−3a,4,5,6,7,7a−ヘキサヒドロ−
    3a−メチル−3−メチル−3−(1−メチル−3−ブ
    チニル)−1H−インデン−7−オール、[3aS−[
    3(R^*)、3aα,7β,7aβ]]−3a,4,
    5,6,7,7a−ヘキサヒドロ−3a−メチル−3−
    (1−メチル−3−ブチニル)−7−[(トリメチルシ
    リル)オキシ]−1H−インデンまたは [3aS−[3(R^*),3aα,7β,7aβ]]
    −5−(3a,4,5,6,7,7a−ヘキサヒドロ−
    7−ヒドロキシ−3a−メチル−1H−インデン−3−
    イル)−5−メチル−2−ペンチン酸(pentyno
    ic acid)メチルエステル である特許請求の範囲第10項記載の化合物。 12、式 ▲数式、化学式、表等があります▼II 式中、R^1及びR^2は共に水素または共に重水素で
    あり、そしてR^3は−Si(低級アルキル)_3であ
    る、 の化合物を式 ▲数式、化学式、表等があります▼X 式中、R^6及びR^7は低級アルキルまたはアリール
    である、 の化合物と反応させ、そして得られる化合物から保護基
    を除去することを特徴とする26,26,26,27,
    27,27−ヘキサデユウテロ−1α,25−ジヒドロ
    キシコレカルシフエロール及び24,24,26,26
    ,26,27,27,27−オクタデユウテロ−1α,
    25−ジヒドロキシコレカルシフエロールの製造方法。
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