JP7659503B2 - ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体及び該共重合体を含む樹脂組成物 - Google Patents

Description

本発明は、ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体及び該共重合体を含む樹脂組成物に関する。

ポリカーボネート樹脂は、透明性及び力学物性に優れ、かつ非常に高い耐衝撃性を有するエンジニアリングプラスチックである。ポリカーボネートに、ポリシロキサンを共重合したポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体は、高い透明性を維持したまま、低温耐衝撃性に優れ、耐薬品性にも優れることが知られている。
一般に、ポリカーボネート樹脂の製造方法としては、芳香族ジヒドロキシ化合物とホスゲンとを直接反応させる方法（界面重縮合法）、あるいは芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとを溶融状態でエステル交換反応させる方法（溶融重合法）が知られている。

ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を製造するには、界面重合法が採用されることが多い。例えば、ビスフェノール等のジアリールジオール化合物とホスゲンとを有機溶媒の存在下で反応させて、反応性のクロロホーメート基を有するポリカーボネートオリゴマーを生成させ、該ポリカーボネートオリゴマーの生成と同時に又は逐次的に、さらにポリカーボネートオリゴマーと、ビスフェノール類と、水酸基含有アリール基を両末端に持つポリシロキサンとを、塩化メチレン／水媒体中で接触させて製造することができることが知られる（特許文献１）。一般的に、重合反応において同一原料成分同士が結合したホモカップリング体や、一部原料が重合反応に関与せず未反応原料成分が生じることがある。これらの成分はポリマー主鎖に均一に取り込まれないまま重合体中で存在するため、重合体の透明性や力学物性は著しく低下してしまう。上記界面重合法ではこのような問題が生じる事は少なく、透明性や力学物性に優れるポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体が得られる。

一方で、界面重合法はカーボネート源として毒性の高いホスゲンを用いる必要がある。加えて、重合反応系には環境負荷の大きな塩化メチレンを溶媒として用いる必要があり、その除去には大型の脱気装置や大きなエネルギーを要し経済的に不利である。この問題を回避するために、界面重合法以外の製造方法、例えば溶融重合法によりポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を製造することが検討されている。

特許文献２には、ビスフェノール化合物、炭酸芳香族ジエステル、シラノール末端停止ポリシロキサン及び触媒から溶融重合法によるポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体の製造について開示されている。特許文献３には、カーボネート末端停止ポリオルガノシロキサン、ジヒドロキシ芳香族化合物、ジアリールカーボネート及びカーボネートエステル交換触媒の存在下でブロックコポリシロキサンカーボネートを製造する方法を開示する。特許文献４には、ヒドロキシアリールオキシ停止ジメチルシロキサンと、特定重量平均分子量及び特定末端比率（ＯＨ末端基とアリール末端基）を有するオリゴカーボネートとを、触媒の存在下にて溶融状態で反応させることを含む、ポリシロキサン／ポリカーボネートブロック共縮合生成物の製造方法を開示する。

特許文献５には、特定の触媒存在下、特定の末端構造を有するポリジオルガノシロキサン成分を含むポリジオルガノシロキサン、Ｓｉを含まないジフェノール、炭酸ジアリールエステルを溶融重合する、ポリ（ジオルガノシロキサン）／ポリカーボネートブロックコポリマーを製造する方法が開示されている。特許文献６には、固相重合により改質ポリカーボネート樹脂を製造する方法が開示され、出発原料物質としてポリシロキサン化合物を用いることが記載されている。特許文献７～９には、エステル交換法により、ポリシロキサン－ポリカーボネートブロック共縮合物を得る方法を開示している。

特開２０１５－１８９９５３号公報 米国特許第５，２２７，４４９号明細書 特開平８－３１１２０６号公報 特開平１０－２５１４０８号公報 特開２００８－２４８２６２号公報 特表２００８－５１３５９４号公報 特表２０１７－５０５８４１号公報 特表２０１６－５３２７３４号公報 特表２０１６－５３２７３３号公報

特許文献２～７は、ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体の溶融重合法による製造方法を開示しているが、良好な力学物性を有するポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を得るという点では未だ不十分である。特許文献２にはシラノール末端停止シロキサンが用いられているが、シラノール末端停止ジメチルシロキサンはその分子量が低くなるほど分子内縮合を起こす傾向がある事が知られている。分子内縮合の結果生成する環状シロキサンは得られるポリカーボネート－ポリシロキサン共重合体に残留し、その力学物性に悪影響を及ぼすだけでなく、電機・電子分野用途においてリレー接点不良等の悪影響を与える事が懸念される。

特許文献３は、ポリマー主鎖に組み込まれるポリジメチルシロキサンの量が増加する事が示されているものの、カーボネート末端停止ポリシロキサンと他の原料との溶融状態での外観が「乳白色」と記載があることから、カーボネート末端停止ポリシロキサンは他の原料と分離しており、依然としてホモカップリングで生成する成分や未反応のカーボネート末端停止ポリシロキサンが重合体中に残留している事が推察される。これらの成分はポリカーボネート－ポリシロキサン共重合体の力学物性を著しく低下させる。特許文献３ではシロキサンのポリマー主鎖への組み込み量が多い製造例でさえアルカリ金属系の触媒（水酸化ナトリウム）をビスフェノールＡのモル数に対して１０×１０^-6倍量も使用しており、過剰量の触媒を使用した場合、残留触媒成分量の増加がポリカーボネート連鎖の加水分解を誘発するため、得られた重合体には実用条件に耐えうる耐熱性や耐候性は備わっていないと推察される。本発明者等は、特許文献３に開示されるアリルフェノール末端ポリオルガノシロキサン共重合体は、力学物性も低下することを確認した。

特許文献４に開示された方法は、ポリカーボネート－ポリシロキサン共重合体を得るために特定重量平均分子量及び特定末端比率（ＯＨ末端基とアリール末端基）を有するオリゴカーボネートを別途事前に調製する必要があるため、経済的観点から実用性のある製造法とは言えない。

特許文献５に開示される共重合体はドメイン構造が大きく、シロキサンが均一にポリマー主鎖に取り込まれているとは言えない。特許文献６には、固相反応によるポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体の製造方法が示されているが、反応の均一性や重合体の物性に関する言及がない。特許文献７～９は同一構造を有するポリシロキサンブロックを有する共重合体をエステル交換法（溶融重合法）により製造しているが、これらの方法においては原料としてカルボニル基がベンゼン環に直接結合した構造を含む、特定構造のポリカーボネートを用いる必要がある。所望のポリカーボネート－ポリシロキサン共重合体を得るためには前記特定構造のポリカーボネートを事前に製造する必要があるため経済的に不利である。

詳述した通り、界面重合法以外の手法によるポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を得る試みはなされているものの、ポリマー主鎖へのシロキサンブロック導入が不十分であるのが現状である。本発明は、界面重合法以外の手法によりポリマー主鎖にシロキサンブロックを十分な量導入することができ、その結果高い力学物性が発現する、ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を得ることを課題とする。

本発明者らは鋭意研究を重ねた結果、特定構造を有するポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体であって、特定条件を満たす共重合体を製造することにより、ポリマー主鎖にシロキサンブロックが十分な量導入され、高い力学物性を有するポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体が得られることを見出した。
すなわち本発明は、以下に関する。

［１］下記一般式（１）で表される構造単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－１）と、下記一般式（２）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ－２）とを含み、以下の条件（Ａ）又は（Ｂ）を満たす、ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体：
条件（Ａ）：前記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体のヘキサン抽出量が１５０質量ｐｐｍ以下、
条件（Ｂ）：前記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフにより分離して得られるポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体に含まれるポリオルガノシロキサンブロックの平均重量が下式（Ｂ１）を満たす。

［式（Ｂ１）中、［ＰＯＳ－Ｍｈ］は、ゲル浸透クロマトグラフを用いて、保持時間範囲Ｔ１～Ｔ２に相当する成分を分取して得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体に含まれるポリオルガノシロキサンブロックの平均重量を示す。［ＰＯＳ－Ｍｌ］は、ゲル浸透クロマトグラフを用いて、保持時間Ｔ２～Ｔ３の間を分取して得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体に含まれるポリオルガノシロキサンブロックの平均重量を表す。
Ｔ１：Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０１、Ｍｗ＝９８，９００の標準ポリスチレンのゲル浸透クロマトグラムにおけるピークトップが位置する保持時間
Ｔ２：Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０１、Ｍｗ＝１３，７００の標準ポリスチレンのゲル浸透クロマトグラムにおけるピークトップが位置する保持時間
Ｔ３：Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３、Ｍｗ＝３，１２０の標準ポリスチレンのゲル浸透クロマトグラムにおけるピークトップが位置する保持時間］

［式中、Ｒ¹～Ｒ⁴は同一か又は異なっていてもよく、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数６～１２のアリール基又はアルキル基部位の炭素数が１～１０であるアルキルアリール基を示す。Ｒ⁶は炭素数６～２０のアリーレン基、炭素数１～１０のアルキレン基又はアルキル基部位の炭素数が１～１０であるアルキルアリーレン基を示し、官能基として、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－ＮＲ¹¹¹－を含んでよい。Ｒ¹¹¹は炭素数１～１０のアルキル基又は炭素数６～１０のアリール基を示す。Ｒ⁴⁰は炭素数３～４００の二価の脂肪族炭化水素基若しくは炭素数３～４００の二価の脂環式炭化水素基、又は炭素数８～４００の二価の芳香族炭化水素基を示し、置換基によって置換されていてもよい。前記二価の脂肪族炭化水素基、前記二価の脂環式炭化水素基又は前記二価の芳香族炭化水素基は、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子から選ばれる少なくとも１つのヘテロ原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子から選ばれる少なくとも１つのハロゲン原子を含んでもよい。ａは２～５００の整数を示し、ｕは０又は１を示す。Ｒ¹⁰は炭素数２～４０の二価の脂肪族炭化水素基若しくは炭素数３～４０の二価の脂環式炭化水素基、又は炭素数６～２０の二価の芳香族炭化水素基を示し、置換基によって置換されていてもよい。前記二価の脂肪族炭化水素基、前記二価の脂環式炭化水素基又は前記二価の芳香族炭化水素基は、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子から選ばれる少なくとも１つのヘテロ原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子から選ばれる少なくとも１つのハロゲン原子を含んでもよい。ｙは１０～５００の整数を示す。］
［２］前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－１）が、下記一般式（１’）の構造を有する、上記［１］に記載のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体。

［式中、Ｒ¹～Ｒ⁴、Ｒ⁶及びａは上記した通りである。複数のＲ⁸は同一か又は異なっていてもよく、それぞれ互いに独立して、炭素数６～２０のアリーレン基、炭素数２～１０のアルキレン基、炭素数３～１０の分岐アルキレン基又はアルキル基部位の炭素数が１～１０であるアルキルアリーレン基を示し、官能基として、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－ＮＲ¹¹¹－を含んでよい。Ｒ¹¹¹は炭素数１～１０のアルキル基又は炭素数６～１０のアリール基を示す。ｚは０又は１を示す。ｂは２～２００の整数を示す。］
［３］前記ポリカーボネートブロック（Ａ－２）が、下記一般式（１１１）で表される構造及び下記一般式（１１２）で表される構造を有する、上記［１］又は［２］に記載のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体。

［式中、Ｒ⁵⁵及びＲ⁵⁶はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基又は炭素数１～６のアルコキシ基を示す。Ｘは、単結合、炭素数１～８のアルキレン基、炭素数２～８のアルキリデン基、炭素数５～１５のシクロアルキレン基、炭素数５～１５のシクロアルキリデン基、フルオレンジイル基、炭素数７～１５のアリールアルキレン基、炭素数７～１５のアリールアルキリデン基、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ₂－、－Ｏ－又は－ＣＯ－を示す。Ｒ¹⁰⁰は炭素数２～４０の二価の脂肪族炭化水素基を示し、分岐構造や環状構造を含んでもよい。Ｒ¹⁰⁰は酸素原子、窒素原子及び硫黄原子から選ばれる少なくとも１つのヘテロ原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子から選ばれる少なくとも１つのハロゲン原子を含んでもよい。ｙは１０～５００の整数を示す。ｓ及びｔはそれぞれ独立して、０～４の整数を示す。］

［４］前記ポリカーボネートブロック（Ａ－２）が、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３－メチルフェニル）プロパン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－３－メチルシクロヘキサン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン及び１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロドデセンからなる群から選択される芳香族ビスフェノールから誘導される構造単位、又はイソソルビド、シクロヘキサン－１，４－ジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、３，９－ビス（１，１－ジメチル－２－ヒドロキシエチル）－２，４，８，１０－テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、１，３－プロパンジオール及び１，４－ブタンジオールからなる群から選択される脂肪族ジオールから誘導される構造単位を含む、上記［１］～［３］のいずれか１つに記載のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体。
［５］前記ポリカーボネートブロック（Ａ－２）が、下記一般式（ａ－ｉ）～（ａ－ｖ）で表される繰り返し単位からなる群より選ばれる一つ以上を有する、上記［１］～［４］のいずれか１つに記載のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体。

［６］前記一般式（１）において、ａが２以上３００以下の整数である、上記［１］～［５］のいずれか１つに記載のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体。

［７］前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－１）が、下記一般式（１－１）～（１－３）で表される構造単位からなる群から選択される少なくとも１つを含む、上記［１］～［６］のいずれか１つに記載のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体。

［式中、Ｒ¹～Ｒ⁴、Ｒ⁶、Ｒ⁸、ｚ、ａ、ｂは上記した通りである。Ｒ⁵は炭素数６～２０のアリーレン基、炭素数１～１０のアルキレン基又はアルキル基部位の炭素数が１～１０であるアルキルアリーレン基を示し、官能基として、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－ＮＲ¹¹¹－を含んでよい。Ｒ⁷は炭素数６～２０のアリーレン基、炭素数２～１０のアルキレン基、炭素数３～１０の分岐アルキレン基又はアルキル基部位の炭素数が１～１０であるアルキルアリーレン基を示し、官能基として、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－ＮＲ¹¹¹－を含んでよい。Ｒ¹¹¹は炭素数１～１０のアルキル基又は炭素数６～１０のアリール基を示す。ｚ１は０又は１を示す。ｂ１は２～２００の整数を示す。βは、ジイソシアネート化合物由来の２価の基、又はジカルボン酸若しくはジカルボン酸のハロゲン化物由来の２価の基を示す。］
［８］前記一般式（１）において、Ｒ¹～Ｒ⁴がすべてメチル基を示す、上記［１］～［７］のいずれか１つに記載のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体。
［９］前記一般式（１）において、Ｒ⁶がトリメチレン基（－（ＣＨ₂）₃－）である、上記［１］～［８］のいずれか１つに記載のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体。
［１０］前記一般式（１’）において、Ｒ⁸がジメチレン基（－（ＣＨ₂）₂－）、メチル置換ジメチレン基（－ＣＨ₂ＣＨＭｅ－）、トリメチレン基（－（ＣＨ₂）₃－）、及びテトラメチレン基（－（ＣＨ₂）₄－）からなる群の中から選択されるいずれかの構造である、上記［２］～［９］のいずれか１つに記載のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体。
［１１］前記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体における、一般式（１）で示されるポリオルガノシロキサンブロックの含有率が０．１質量％以上６０質量％以下である、上記［１］～［１０］のいずれか１つに記載のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体。
［１２］粘度平均分子量（Ｍｖ）が５，０００以上５０，０００以下である、上記［１］～［１１］のいずれか１つに記載のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体。
［１３］前記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を成形して得られる１ｍｍ厚プレートのＩＳＯ １４７８２：１９９９に準拠して測定されるヘイズ値が４０以下である、上記［１］～［１２］のいずれか１つに記載のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体。
［１４］溶融重合法により得られる、上記［１］～［１３］のいずれか１つに記載のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体。
［１５］ジオールモノマー（ａ１）を用いて得られる、上記［１］～［１４］のいずれか１つに記載のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体。
［１６］上記［１］～［１５］のいずれか１つに記載のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を含む、ポリカーボネート系樹脂組成物。
［１７］無機フィラーを更に含む、上記［１６］に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
［１８］前記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体１００質量部に対して、前記無機フィラーを１～１５０質量部含む、上記［１７］に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
［１９］前記無機フィラーが、ガラス繊維又は炭素繊維である、上記［１７］又は［１８］に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
［２０］上記［１６］～［１９］のいずれか１つに記載のポリカーボネート系樹脂組成物からなる、成形体。

本発明によれば、ポリマー主鎖にシロキサンブロックを十分な量導入することができるため、優れた力学物性を有するポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を得ることができる。

以下、本発明のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体及び該共重合体を含むポリカーボネート系樹脂組成物について詳細に説明する。本明細書において、好ましいとされている規定は任意に採用することができ、好ましいもの同士の組み合わせはより好ましいといえる。本明細書において、「ＸＸ～ＹＹ」の記載は、「ＸＸ以上ＹＹ以下」を意味する。

＜ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体＞
本発明のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体は、下記一般式（１）で表される構造単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－１）と、下記一般式（２）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ－２）とを含み、以下の条件（Ａ）又は（Ｂ）を満たすことを特徴とする：
条件（Ａ）：前記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体のヘキサン抽出成分量が１５０質量ｐｐｍ以下、
条件（Ｂ）：前記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフにより分離して得られるポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体に含まれるポリオルガノシロキサンブロックの平均重量が下式（Ｂ１）を満たす。

［式（Ｂ１）中、［ＰＯＳ－Ｍｈ］は、ゲル浸透クロマトグラフを用いて、保持時間範囲Ｔ１～Ｔ２に相当する成分を分取して得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体に含まれるポリオルガノシロキサンブロックの平均重量を示す。［ＰＯＳ－Ｍｌ］は、ゲル浸透クロマトグラフを用いて、保持時間Ｔ２～Ｔ３の間を分取して得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体に含まれるポリオルガノシロキサンブロックの平均重量を表す。
Ｔ１：Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０１、Ｍｗ＝９８，９００の標準ポリスチレンのゲル浸透クロマトグラムにおけるピークトップが位置する保持時間
Ｔ２：Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０１、Ｍｗ＝１３，７００の標準ポリスチレンのゲル浸透クロマトグラムにおけるピークトップが位置する保持時間
Ｔ３：Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３、Ｍｗ＝３，１２０の標準ポリスチレンのゲル浸透クロマトグラムにおけるピークトップが位置する保持時間］

［式中、Ｒ¹～Ｒ⁴は同一か又は異なっていてもよく、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数６～１２のアリール基又はアルキル基部位の炭素数が１～１０であるアルキルアリール基を示す。Ｒ⁶は炭素数６～２０のアリーレン基、炭素数１～１０のアルキレン基又はアルキル基部位の炭素数が１～１０であるアルキルアリーレン基を示し、官能基として、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－ＮＲ¹¹¹－を含んでよい。Ｒ¹¹¹は炭素数１～１０のアルキル基又は炭素数６～１０のアリール基を示す。Ｒ⁴⁰は炭素数３～４００の二価の脂肪族炭化水素基若しくは炭素数３～４００の二価の脂環式炭化水素基、又は炭素数８～４００の二価の芳香族炭化水素基を示し、置換基によって置換されていてもよい。前記二価の脂肪族炭化水素基、前記二価の脂環式炭化水素基又は前記二価の芳香族炭化水素基は、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子から選ばれる少なくとも１つのヘテロ原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子から選ばれる少なくとも１つのハロゲン原子を含んでもよい。ａは２～５００の整数を示し、ｕは０又は１を示す。Ｒ¹⁰は炭素数２～４０の二価の脂肪族炭化水素基若しくは炭素数３～４０の二価の脂環式炭化水素基、又は炭素数６～２０の二価の芳香族炭化水素基を示し、置換基によって置換されていてもよい。前記二価の脂肪族炭化水素基、前記二価の脂環式炭化水素基又は前記二価の芳香族炭化水素基は、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子から選ばれる少なくとも１つのヘテロ原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子から選ばれる少なくとも１つのハロゲン原子を含んでもよい。ｙは１０～５００の整数を示す。］

Ｒ^６がアルキレン基の場合、炭素数は１～５であることが好ましい。

ジオールモノマー（ａ１）との親和性を高め、均一な重合を行う観点から、Ｒ⁴⁰として、炭素数２～２０の二価の脂肪族炭化水素基、炭素数３～２０の二価の脂環式炭化水素基又は炭素数６～２０の二価の芳香族炭化水素基から選ばれる少なくとも１つの炭化水素基と、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選択される少なくとも１つのヘテロ原子とを含む構造が少なくとも２個連結した繰返し連鎖構造を含むことが好ましい。炭素数２～２０の二価の脂肪族炭化水素基、炭素数３～２０の二価の脂環式炭化水素基又は炭素数６～２０の二価の芳香族炭化水素基から選ばれる少なくとも１つの炭化水素基と、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選択される少なくとも１つのヘテロ原子とを含む構造としては、―ＯＨ、－Ｏ－、－（Ｃ＝Ｏ）－、－Ｏ（Ｃ＝Ｏ）－、－Ｏ（Ｃ＝Ｏ）Ｏ－、－ＮＨ_２、－ＮＲＨ、－ＮＲ－、－ＮＲ－（Ｃ＝Ｏ）－、－Ｎ＝ＣＲ－、－ＳＨ、－Ｓ－、－Ｓ－Ｓ－及び－（Ｓ＝Ｏ）－からなる群から選択される少なくとも１つの構造を含む構造が好ましい。Ｒは、水素原子、炭素数１～２０の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数６～２０の１価の芳香族炭化水素基を表し、それらは置換基で置換されていてもよい。繰返し連鎖構造としては、ポリエーテル、ポリアセタール、ポリラクトン、ポリアクリレート、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリケトン、ポリスルフィド、ポリスルホン、ポリアミド又はポリイミド等を好ましい構造として挙げることができる。
中でもポリエーテル、ポリアクリレート、及びポリカーボネートからなる群から選択される少なくとも１つが好ましく、ポリエーテルが最も好ましい。ポリエーテルとしては、ポリアルキレンエーテルが好ましく、中でもポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリトリメチレングリコール、ポリテトラメチレングリコールが好ましい。

本発明のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体は、上記した通り、一般式（１）で表される構造単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－１）と、一般式（２）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ－２）とを含む。

ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を構成する、ポリオルガノシロキサンブロックが上記一般式（１）で表される構造単位を含み、かつ上記特定条件（Ａ）又は（Ｂ）を満たすことにより、得られるポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体は主鎖に十分な量のシロキサンブロックを導入することができる。さらには、一般式（１）のＲ⁶、Ｒ⁴⁰、ａの選択、及び／又は一般式（２）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ－２）の式中のＲ¹⁰の選択によっては、更に高い透明性を得ることができる。
後述するが、本発明のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体は溶融重合法により得ることもできる。溶融重合法は、塩化メチレン等の溶媒を必要としないため、環境面や経済的に有利である。加えてカーボネート源として毒性の高いホスゲンを用いないため、製造面でも有利である。

一般式（１）で表される構造単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－１）は、下記一般式（１Ａ）の構造を有することが好ましい。

上記一般式（１Ａ）中、Ｒ¹～Ｒ⁴、Ｒ⁶、ａ及びｕは上記した通りである。
Ｒ^40’は炭素数２～３８０の二価の脂肪族炭化水素基、炭素数３～３８０の二価の脂環式炭化水素基、又は炭素数６～３８０の二価の芳香族炭化水素基を示し、置換基によって置換されていてもよい。上記二価の脂肪族炭化水素基、上記二価の脂環式炭化水素基又は上記二価の芳香族炭化水素基は、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子から選ばれる少なくとも１つのヘテロ原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子から選ばれる少なくとも１つのハロゲン原子を含んでもよい。Ｒ^40’’は炭素数１～２０の二価の脂肪族炭化水素基、炭素数３～２０の二価の脂環式炭化水素基又は炭素数６～２０の二価の芳香族炭化水素基を示し、置換基によって置換されていても良い。ｅは０又は１を示す。

Ｒ^40’として、炭素数１～２０の二価の脂肪族炭化水素基、炭素数３～２０の二価の脂環式炭化水素基又は炭素数６～２０の二価の芳香族炭化水素基から選ばれる少なくとも１つの炭化水素基と、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選択される少なくとも１つのヘテロ原子とを含む構造が少なくとも２個連結した繰返し連鎖構造を含むことが好ましい。炭素数１～２０の二価の脂肪族炭化水素基、炭素数３～２０の二価の脂環式炭化水素基又は炭素数６～２０の二価の芳香族炭化水素基から選ばれる少なくとも１つの炭化水素基と、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選択される少なくとも１つのヘテロ原子とを含む構造としては、―ＯＨ、－Ｏ－、－（Ｃ＝Ｏ）－、－Ｏ（Ｃ＝Ｏ）－、－Ｏ（Ｃ＝Ｏ）Ｏ－、－ＮＨ_２、－ＮＲＨ、－ＮＲ－、－ＮＲ－（Ｃ＝Ｏ）－、－Ｎ＝ＣＲ－、－ＳＨ、－Ｓ－、－Ｓ－Ｓ－及び－（Ｓ＝Ｏ）－からなる群から選択される少なくとも１つの構造を含む構造が好ましい。Ｒは、水素原子、炭素数１～２０の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数６～２０の１価の芳香族炭化水素基を表し、それらは置換基で置換されていてもよい。繰返し連鎖構造としては、ポリエーテル、ポリアセタール、ポリラクトン、ポリアクリレート、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリケトン、ポリスルフィド、ポリスルホン、ポリアミド又はポリイミド等を好ましい構造として挙げることができる。
中でもポリエーテル、ポリアクリレート、及びポリカーボネートからなる群から選択される少なくとも１つが好ましく、ポリエーテルが最も好ましい。ポリエーテルとしては、ポリアルキレンエーテルが好ましく、中でもポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリトリメチレングリコール、ポリテトラメチレングリコールが好ましい。上記の構造は、ジオールモノマー（ａ１）との親和性を高め、均一な重合を行う観点から好ましい。

一般式（１）で表される構造単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－１）は、下記一般式（１’）の構造を有することが更に好ましい。

［式中、Ｒ¹～Ｒ⁴、Ｒ⁶及びａは上記した通りである。複数のＲ⁸は同一か又は異なっていてもよく、それぞれ互いに独立して、炭素数６～２０のアリーレン基、炭素数２～１０のアルキレン基、炭素数３～１０の分岐アルキレン基又はアルキル基部位の炭素数が１～１０であるアルキルアリーレン基を示し、官能基として、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－ＮＲ¹¹¹－を含んでよい。Ｒ¹¹¹は炭素数１～１０のアルキル基又は炭素数６～１０のアリール基を示す。ｚは０又は１を示す。ｂは２～２００の整数を示す。］
Ｒ⁸の好ましいものは後述する。

一般式（１）で表される構造単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－１）は、下記一般式（１－１）～（１－３）で表される構造単位からなる群から選択される少なくとも１つを含むことが好ましい。

［式中、Ｒ¹～Ｒ⁴、Ｒ⁶、Ｒ⁸、ｚ、ａ及びｂは上記した通りである。Ｒ⁵は炭素数６～２０のアリーレン基、炭素数１～１０のアルキレン基又はアルキル基部位の炭素数が１～１０であるアルキルアリーレン基を示し、官能基として、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－ＮＲ¹¹¹－を含んでよい。Ｒ⁷は炭素数６～２０のアリーレン基、炭素数２～１０のアルキレン基、炭素数３～１０の分岐アルキレン基又はアルキル基部位の炭素数が１～１０であるアルキルアリーレン基を示し、官能基として、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－ＮＲ¹¹¹－を含んでよい。Ｒ¹¹¹は炭素数１～１０のアルキル基又は炭素数６～１０のアリール基を示す。ｚ１は０又は１を示す。ｂ１は２～２００の整数を示す。βは、ジイソシアネート化合物由来の２価の基、又はジカルボン酸若しくはジカルボン酸のハロゲン化物由来の２価の基を示す。］

Ｒ^５がアルキレン基の場合、炭素数は１～５であることが好ましい。

式中、Ｒ¹～Ｒ⁴で示されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。Ｒ¹～Ｒ⁴で示される炭素数１～１０のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、各種ブチル基、各種ペンチル基、及び各種ヘキシル基が挙げられる。Ｒ¹～Ｒ⁴で示されるアルコキシ基としては、アルキル基部位が前記アルキル基である場合が挙げられる。Ｒ¹～Ｒ⁴で示されるアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。Ｒ¹～Ｒ⁴で示されるアルキルアリール基としては、アルキル基部位が前記アルキル基であり、アリール基部位が前記アリール基である場合が挙げられる。
Ｒ¹～Ｒ⁴としては、いずれも、好ましくは、水素原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、炭素数６～１２のアリール基又は炭素数１～１０のアリールアルキル基であり、いずれもメチル基であることがより好ましい。

一般式（１）、（１Ａ）又は（１’）中のＲ⁶、又は一般式（１－１）～（１－３）中のＲ⁵及びＲ⁶で示される炭素数６～２０のアリーレン基としては、フェニレン基、ナフチレン基等が挙げられる。上記一般式（１）、（１Ａ）又は（１’）中のＲ⁶、又は一般式（１－１）～（１－３）中のＲ⁵及びＲ⁶で示される炭素数１～１０のアルキレン基としては、メチレン基、ジメチレン基、トリメチレン基、メチル置換ジメチレン基、テトラメチレン基（テトラメチレン基は分岐構造を有していてもよい）等が挙げられる。上記一般式（１）、（１Ａ）又は（１’）中のＲ⁶、又は一般式（１－１）～（１－３）中のＲ⁵及びＲ⁶で示されるアルキルアリーレン基としては、アルキル基部位が前記アルキル基であり、アリーレン基部位が前記アリーレン基である場合が挙げられる。
上記一般式（１）、（１Ａ）又は（１’）中のＲ⁶、又は一般式（１－１）～（１－３）中のＲ⁵及びＲ⁶はいずれも好ましくは、炭素数１～１０のアルキレン基であり、ジメチレン基、メチル置換ジメチレン基又はトリメチレン基であることがより好ましい。式中のＲ⁶がトリメチレン基（－（ＣＨ₂）₃－）であることが特に好ましい。

上記一般式（１’）中のＲ⁸、又は一般式（１－１）～（１－３）中のＲ⁷及びＲ⁸で示される炭素数６～２０のアリーレン基としては、フェニレン基、ナフチレン基等が挙げられる。上記一般式（１’）中のＲ⁸、又は一般式（１－１）～（１－３）中のＲ⁷及びＲ⁸で示される炭素数２～１０のアルキレン基としては、メチレン基、ジメチレン基、トリメチレン基、メチル置換ジメチレン基、テトラメチレン基（テトラメチレン基は分岐構造を有していてもよい）等が挙げられる。上記一般式（１’）中のＲ⁸、又は一般式（１－１）～（１－３）中のＲ⁷及びＲ⁸で示されるアルキルアリーレン基としては、アルキル基部位が前記アルキル基であり、アリーレン基部位が前記アリーレン基である場合が挙げられる。
上記一般式（１’）中のＲ⁸、又は一般式（１－１）～（１－３）中のＲ⁷及びＲ⁸はいずれも好ましくは、炭素数１～１０のアルキレン基であり、ジメチレン基（－（ＣＨ₂）₂－）、メチル置換ジメチレン基（－ＣＨ₂ＣＨＭｅ－）、トリメチレン基（－（ＣＨ₂）₃－）、及びテトラメチレン基（－（ＣＨ₂）₄－）からなる群から選択されるいずれかの構造であることがより好ましい。上記の構造は、ジオールモノマー（ａ１）との親和性を高め、均一な重合を行う観点から好ましい。

上記一般式（１）、（１Ａ）又は（１’）又は一般式（１－１）～（１－３）において、Ｒ¹～Ｒ⁴がいずれもメチル基、上記一般式（１）、（１Ａ）又は（１’）中のＲ⁶が、又は一般式（１－１）～（１－３）中のＲ⁵及びＲ⁶がいずれもトリメチレン基、上記一般式（１’）中のＲ⁸が、又は一般式（１－１）～（１－３）中のＲ⁷及びＲ⁸がいずれもジメチレン基であるポリオルガノシロキサンが特に好ましい。

一般式（１－１）及び（１－２）中のβは、ジイソシアネート化合物由来の２価の基又はジカルボン酸又はジカルボン酸のハロゲン化物由来の２価の基を示し、例えば、以下の一般式（ｉｉｉ）～（ｖｉｉ）で表される２価の基が挙げられる。

上記一般式（１）、（１Ａ）又は（１’）、又は一般式（１－１）～（１－３）において、ａはポリオルガノシロキサンの鎖長を示し、２以上５００以下、好ましくは２以上３００以下、より好ましくは１０以上１２０以下、更に好ましくは１５以上１００以下、更に好ましくは２０以上９０以下の整数を示す。ａが上記範囲にあると、優れた力学物性を有するポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を得ることができるため好ましい。ａが例えば、２０以上６５以下の整数を示す場合には、上記優れた力学物性とともに、透明性にも優れるため、より好ましい。

上記一般式（１’）又は一般式（１－１）～（１－３）において、ｂ及びｂ１はそれぞれ独立に好ましくは０以上２００以下、より好ましくは２以上１００以下、更に好ましくは５以上５０以下、更に好ましくは８以上２５以下の整数を示す。上記範囲であれば原料の入手容易性のため好ましい。ｂ及びｂ１が１００以下であると、ポリオルガノシロキサンの粘度や融点の上昇による取り扱い性の低下を抑えることができるためより好ましく、ｂ及びｂ１が５０以下であると、樹脂中のポリオルガノシロキサンブロック含有量を、物性改良効果を維持できる量に保つことができるためより好ましい。
上記一般式（１’）又は一般式（１－１）～（１－３）において、ｚ及びｚ１はそれぞれ独立に０又は１を示し、好ましくは０である。

本発明のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体は、上記一般式（２）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ－２）を含む。
上記一般式（２）中のＲ¹⁰が示す炭素数２～４０の二価の脂肪族炭化水素基としては、例えば、エチレン基、ｎ－プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ－ブチレン基、イソブチレン基、ｎ－ペンチレン基、ｎ－ヘキシレン基、ｎ－ヘプチレン基、ｎ－オクチレン基、２－エチルヘキシレン基、ｎ－ノニレン基、ｎ－デシレン基、ｎ－ウンデシレン基、ｎ－ドデシレン基、ｎ－トリデシレン基、ｎ－テトラデシレン基、ｎ－ペンタデシレン基、ｎ－ヘキサデシレン基、ｎ－ヘプタデシレン基、ｎ－オクタデシレン基等が挙げられる。炭素数３～４０の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロオクチレン基、シクロデシレン基、シクロテトラデシレン基、アダマンチレン基、ビシクロヘプチレン基、ビシクロデシレン基、トリシクロデシレン基等が挙げられる。

上記一般式（２）中のＲ¹⁰が示す、炭素数６～２０の二価の芳香族炭化水素基としては、様々なものを挙げることができる。特に２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３－メチルフェニル）プロパン（ビスフェノールＣ）、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン（ビスフェノールＺ）、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－３－メチルシクロヘキサン（ビスフェノール３ＭＺ）、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン（ビスフェノールＨＴＧ）及び１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロドデセン等から誘導される二価の芳香族炭化水素基を挙げることができる。この他、ハイドロキノン、レゾルシン及びカテコールからなる群から選択される少なくとも１種から誘導される二価の芳香族炭化水素基を挙げることもできる。

上記一般式（２）で表される構造を有するポリカーボネートブロック（Ａ－２）は、下記一般式（１１１）で表される構造及び下記一般式（１１２）で表される構造を有することが、好ましい。

［式中、Ｒ⁵⁵及びＲ⁵⁶はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基又は炭素数１～６のアルコキシ基を示す。Ｘは、単結合、炭素数１～８のアルキレン基、炭素数２～８のアルキリデン基、炭素数５～１５のシクロアルキレン基、炭素数５～１５のシクロアルキリデン基、フルオレンジイル基、炭素数７～１５のアリールアルキレン基、炭素数７～１５のアリールアルキリデン基、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ₂－、－Ｏ－又は－ＣＯ－を示す。Ｒ¹⁰⁰は炭素数２～４０の二価の脂肪族炭化水素基を示し、分岐構造や環状構造を含んでもよい。Ｒ¹⁰⁰は酸素原子、窒素原子及び硫黄原子から選ばれる少なくとも１つのヘテロ原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子から選ばれる少なくとも１つのハロゲン原子を含んでもよい。ｙは１０～５００の整数を示す。ｓ及びｔはそれぞれ独立して、０～４の整数を示す。］

上記一般式（１１１）中、Ｒ⁵⁵及びＲ⁵⁶がそれぞれ独立して示すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。
Ｒ⁵⁵及びＲ⁵⁶がそれぞれ独立して示すアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、各種ブチル基（「各種」とは、直鎖状及びあらゆる分岐鎖状のものを含むことを示し、以下同様である。）、各種ペンチル基、及び各種ヘキシル基が挙げられる。Ｒ⁵⁵及びＲ⁵⁶がそれぞれ独立して示すアルコキシ基としては、アルキル基部位が前記アルキル基である場合が挙げられる。

Ｘが表すアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基等が挙げられ、炭素数１～５のアルキレン基が好ましい。Ｘが表すアルキリデン基としては、エチリデン基、イソプロピリデン基等が挙げられる。Ｘが表すシクロアルキレン基としては、シクロペンタンジイル基やシクロヘキサンジイル基、シクロオクタンジイル基等が挙げられ、炭素数５～１０のシクロアルキレン基が好ましい。Ｘが表すアリーレン基としては、フェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基等が挙げられる。Ｘが表すシクロアルキリデン基としては、例えば、シクロヘキシリデン基、３，５，５－トリメチルシクロヘキシリデン基、２－アダマンチリデン基等が挙げられ、炭素数５～１０のシクロアルキリデン基が好ましく、炭素数５～８のシクロアルキリデン基がより好ましい。Ｘが表すアリールアルキレン基のアリール部位としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、アントリル基等の環形成炭素数６～１４のアリール基が挙げられる。Ｘが表すアリールアルキリデン基のアリール部位としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、アントリル基等の環形成炭素数６～１４のアリール基が挙げられる。

ｓ及びｔは、それぞれ独立に０～４の整数を示し、好ましくは０～２、より好ましくは０又は１である。中でも、ｓ及びｔが０であり、Ｘが単結合又は炭素数１～８のアルキレン基であるもの、又はｓ及びｔが０であり、Ｘがアルキリデン基、特にイソプロピリデン基であるものが好適である。

Ｒ¹⁰⁰が示す炭素数２～４０の二価の脂肪族炭化水素基は、具体的には、好ましくは炭素数２～１８、より好ましくは２～１０、更に好ましくは３～６のアルキレン基、好ましくは炭素数４～２０、より好ましくは５～２０のシクロアルキレン基又は好ましくは炭素数４～２０、より好ましくは５～２０の２価の酸素若しくは窒素含有飽和複素環式基である。

炭素数２～１８のアルキレン基としては、例えば、エチレン基、ｎ－プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ－ブチレン基、イソブチレン基、ｎ－ペンチレン基、ｎ－ヘキシレン基、ｎ－ヘプチレン基、ｎ－オクチレン基、２－エチルヘキシレン基、ｎ－ノニレン基、ｎ－デシレン基、ｎ－ウンデシレン基、ｎ－ドデシレン基、ｎ－トリデシレン基、ｎ－テトラデシレン基、ｎ－ペンタデシレン基、ｎ－ヘキサデシレン基、ｎ－ヘプタデシレン基、ｎ－オクタデシレン基等が挙げられる。炭素数４～２０のシクロアルキレン基としては、例えば、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロオクチレン基、シクロデシレン基、シクロテトラデシレン基、アダマンチレン基、ビシクロヘプチレン基、ビシクロデシレン基、トリシクロデシレン基等が挙げられる。二価の酸素若しくは窒素含有複素環式基は、上記シクロアルキレン基骨格中に酸素若しくは窒素原子を含有するものを挙げることができる。

上記一般式（２）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ－２）は、具体的には、下記一般式（ａ－ｉ）～（ａ－ｘｉｉｉ）で表される繰り返し単位からなる群から選択される少なくとも１つを有することが好ましく、下記一般式（ａ－ｉ）～（ａ－ｖ）からなる群から選択される少なくとも１つを有することがより好ましく、（ａ－ｉ）、（ａ－ｉｉ）及び（ａ－ｖ）で表される繰り返し単位からなる群より選択される１つ以上を有することが、高い透明性の点から更に好ましい。

一般式（２）で表されるポリカーボネートブロック（Ａ－２）は、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３－メチルフェニル）プロパン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－３－メチルシクロヘキサン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン及び１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロドデセンからなる群から選択される芳香族ビスフェノール、又はイソソルビド、シクロヘキサン－１，４－ジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、３，９－ビス（１，１－ジメチル－２－ヒドロキシエチル）－２，４，８，１０－テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、１，３－プロパンジオール及び１，４－ブタンジオールからなる群から選択される脂肪族ジオールから誘導される構造単位を含むことが好ましい。

中でも、一般式（２）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ－２）が、下記一般式（ａ－ｉ）～（ａ－ｖ）で表される繰り返し単位からなる群より選ばれる一つ以上を有することがより好ましい。

一般式（２）で表されるポリカーボネートブロック（Ａ－２）の単位数を示すｙは、より好ましくは２０～２００、更に好ましくは４０～１００である。ｙは２０以上とすることで共重合体中の低分子量成分の増加を抑制できるため好ましい。ｙを４０以上とすることで共重合体の靭性が高まるため好ましい。ｙを２００以下とすることで成形時に適度な流動性が得られるため好ましく、１００以下であれば製造時の反応混合物が適度な流動性を有するため、生産性が向上するため好ましい。

上記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体における、一般式（１）で示されるポリオルガノシロキサンブロックの含有率は、好ましくは０．１～６０質量％、より好ましくは０．５～５０質量％、更に好ましくは１～３０質量％、更に好ましくは３～２０質量％である。
上記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体中にポリオルガノシロキサンブロックの含有率が上記範囲であれば、より優れた耐衝撃性及び透明性を得ることができる。

本発明のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体は、上記特定構造を有すると共に、条件（Ａ）又は条件（Ｂ）を満たすことを要する。ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体が条件（Ａ）及び条件（Ｂ）の双方を満たすことも可能である。
条件（Ａ）又は条件（Ｂ）を満たすポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体は、例えば、ジオールモノマーの水酸基に対する親和性が高い置換基である、極性官能基を含む繰り返し連鎖構造を有する置換基をポリオルガノシロキサンの末端に導入することで得られる。
上記繰り返し連鎖構造を有する置換基は、繰り返し連鎖構造を持たない置換基よりも多くのジオールモノマーと接触できるため、強くジオールモノマーと相溶できると推定される。したがって、上記繰り返し連鎖を有する置換基をポリオルガノシロキサンの末端に導入すると、末端に繰り返し連鎖構造を有する置換基を導入していない場合よりも、ポリオルガノシロキサンとジオールモノマーとの親和性を高める事が出来ると推定される。

＜条件（Ａ）＞
本条件は、ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体のヘキサン抽出量が１５０質量ｐｐｍ以下であることを要する。「ヘキサン抽出量が１５０質量ｐｐｍ以下である」とは、ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体製造時の、同一原料同士が結合したホモカップリング成分、未反応原料やオリゴマーがその分子内で反応して生成した環状成分や、未反応のジオールモノマー、未反応の末端変性ポリオルガノシロキサンの存在量が低く、ポリオルガノシロキサンブロックが十分に導入されていることを意味する。

条件（Ａ）におけるポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体のヘキサン抽出量は、好ましくは１００質量ｐｐｍ以下、より好ましくは８０質量ｐｐｍ以下、更に好ましくは７０質量ｐｐｍ以下、更に好ましくは６０質量ｐｐｍ以下である。条件（Ａ）を満たす場合には、上記ヘキサン抽出量の下限は特に限定されないが、合成上の理由から、例えば１０質量ｐｐｍ以上、一態様においては２０質量ｐｐｍ以上である。ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を界面重合法により製造した場合には、溶融重合法と比べて比較的ヘキサン抽出量を抑えることができる。理由は、塩化メチレンと水とを溶媒として用いる界面重合法は、無溶媒で行う溶融重合法に比べて、原料やポリマー成長末端をより高効率に接触させることが可能であるため、原料のポリマーへの転化率が高く、ヘキサンで抽出されるような未反応原料や低分子量副生成物が生じにくいからである。しかしながら、溶融重合法を選択した場合には、ヘキサン抽出量を条件（Ａ）とすることは通常困難である。本発明においては、特定構造を有するポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体とすることにより、溶融重合法により共重合体を製造した場合にも、当該条件を満たすことができる態様を有する。
上記ヘキサン抽出条件は、実施例にて詳述する。

＜条件（Ｂ）＞
条件（Ｂ）は、ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフにより分離して得られるポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体に含まれるポリオルガノシロキサンブロックの平均重量が下式（Ｂ１）を満たすことを要する。

式（Ｂ１）中、［ＰＯＳ－Ｍｈ］は、ゲル浸透クロマトグラフを用いて、保持時間範囲Ｔ１～Ｔ２に相当する成分を分取して得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体に含まれるポリオルガノシロキサンブロックの平均重量を示す。［ＰＯＳ－Ｍｌ］は、ゲル浸透クロマトグラフを用いて、保持時間Ｔ２～Ｔ３の間を分取して得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体に含まれるポリオルガノシロキサンブロックの平均重量を表す。
Ｔ１：Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０１、Ｍｗ＝９８，９００の標準ポリスチレンのゲル浸透クロマトグラムにおけるピークトップが位置する保持時間
Ｔ２：Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０１、Ｍｗ＝１３，７００の標準ポリスチレンのゲル浸透クロマトグラムにおけるピークトップが位置する保持時間
Ｔ３：Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３、Ｍｗ＝３，１２０の標準ポリスチレンのゲル浸透クロマトグラムにおけるピークトップが位置する保持時間

ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）による測定は、具体的には、実施例に記載の条件で行うことができる。［ＰＯＳ－Ｍｈ］／［ＰＯＳ－Ｍｌ］値が上記式（Ｂ１）の範囲外である場合は、シロキサンが均一にポリマー主鎖に取り込まれていないことを示す。上記［ＰＯＳ－Ｍｈ］／［ＰＯＳ－Ｍｌ］の下限値は、好ましくは０．３５以上、より好ましくは０．５以上、更に好ましくは０．８以上であり、上限値は好ましくは２．８以下、より好ましくは２以下、更に好ましくは１．４以下、更に好ましくは１．２５以下、特に好ましくは１．２以下である。

本発明のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体の粘度平均分子量は、５，０００以上５０，０００以下であることが好ましく、より好ましくは１２，０００以上、更に好ましくは１４，０００以上、特に好ましくは１６，０００以上であり、より好ましくは３０，０００以下、更に好ましくは２３，０００以下、特に好ましくは２１，０００以下である。
粘度平均分子量（Ｍｖ）は、２０℃における塩化メチレン溶液（濃度：ｇ／Ｌ）の極限粘度[η]を測定し、下記Schnellの式から算出した値である。
［η］＝１．２３×１０^-5Ｍｖ^0.83

本発明のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体の屈折率は特に限定されないが、例えば波長５８９．３ｎｍの光に対して１．４３０以上１．５９０以下であることが好ましく、１．４５０以上１．５７０以下であることがより好ましく、１．４７０以上１．５５０以下であることが更に好ましい。
ポリカーボネート樹脂の波長４８６．１ｎｍの光に対する屈折率（ｎＦ）と波長６５６．３ｎｍの光に対する屈折率（ｎＣ）との差（ｎＦ－ｎＣ）は、好ましくは０．０１５以下、より好ましくは０．０１３以下、更に好ましくは０．０１１以下である。

＜ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体の製造方法＞
本発明のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体は、ジオールモノマー（ａ１）及びポリオルガノシロキサン（ａ２）を原料モノマーとして用いることにより、製造することができる。

＜＜ジオールモノマー（ａ１）＞＞
上記ジオールモノマー（ａ１）は、下記一般式（ａ１）で示される構造を有するものであれば特に限定されない。ジオールモノマー（ａ１）として、芳香族ジヒドロキシ化合物又は脂肪族ジヒドロキシ化合物を用いることができる。

上記一般式（ａ１）におけるＲ¹⁰は上記した通りであり、好ましいものも同様である。

脂肪族ジヒドロキシ化合物としては、例えば、エチレングリコール、１，３－プロパンジオール、１，２－プロパンジオール、１，４－ブタンジオール、１，５－ペンタンジオール、１，６－ヘキサンジオール、１，７－ヘプタンジオール、１，８－オクタンジオール、１，１０－デカンジオール、２，２－ジメチルプロパン－１，３－ジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、オクタエチレングリコール、ジプロピレングリコ－ル、Ｎ－メチルジエタノールアミン、ｐ－キシリレングリコール等の鎖式脂肪族炭化水素基を有するジヒドロキシ化合物；１，２－シクロヘキサンジオール、１，３－シクロヘキサンジオール、１，４－シクロヘキサンジオール、１，２－シクロヘキサンジメタノール、１，３－シクロヘキサンジメタノール、１，４－シクロヘキサンジメタノール、２，６－デカリンジオール、１，５－デカリンジオール、２，３－デカリンジオール、２，６－デカリンジメタノール、１，５－デカリンジメタノール、２，３－デカリンジメタノール、２，３－ノルボルナンジオール、２，５－ノルボルナンジオール、２，３－ノルボルナンジメタノール、２，５－ノルボルナンジメタノール、２，２－ビス（４－ヒドロキシシクロヘキシル）－プロパン、１，３－アダマンタンジオール、１，３－アダマンタンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール等の脂環式炭化水素基を有するジヒドロキシ化合物；イソソルビド等の縮合多環式エーテルジオール、３，９－ビス（２－ヒドロキシエチル）－２，４，８，１０－テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、３，９－ビス（２－ヒドロキシ－１，１－ジメチルエチル）－２，４，８，１０－テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、３，９－ビス（２－ヒドロキシ－１，１－ジエチルエチル）－２，４，８，１０－テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、３，９－ビス（２－ヒドロキシ－１，１－ジプロピルエチル）－２，４，８，１０－テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、１，４－アンヒドロエリスリトール等の環状エーテルジオール等のヘテロ環スピロ化合物；２－（５－エチル－５－ヒドロキシメチル－１，３－ジオキサン－２－イル）－２－メチルプロパン－１－オール等の環状アセタールジオール；３，４－ピロリジンジオール、３，４－ジメチルピペリジンジオール、Ｎ－エチル－３，４－ピペリジンジオール、Ｎ－エチル－３，５－ピペリジンジオール等のＮ－ヘテロ環状ジオール；デオキシチオフルクトース等のＳ－ヘテロ環状ジオール等が挙げられる。

脂肪族ジヒドロキシ化合物としては、具体的には、イソソルビド、シクロヘキサン－１，４－ジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、３，９－ビス（２－ヒドロキシ－１，１－ジメチルエチル）－２，４，８，１０－テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、１，３－プロパンジオール及び１，４－ブタンジオールから選択される脂肪族ジオールを特に好ましくは挙げることができる。

芳香族ジヒドロキシ化合物としては、芳香族ビスフェノール化合物を挙げることができる。具体的には、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＣ、ビスフェノールＺ、及び下記一般式で示される化合物から選択される芳香族ビスフェノールを特に好ましくは挙げることができる。

具体的には、ビスフェノールＡ（２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパン）、ビスフェノールＣ（２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３－メチルフェニル）プロパン）、ビスフェノールＺ（１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン）、ビスフェノール３ＭＺ（１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－３－メチルシクロヘキサン）、ビスフェノールＨＴＧ（１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン）、ビスフェノール－ＣＤＥ（１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロドデセン）を用いることがより好ましい。
中でも、ジオールモノマー（ａ１）として脂肪族ジオールを用いると、得られるポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体の高い透明性を得ることができるため好ましい。

＜＜ポリオルガノシロキサン（ａ２）＞＞
ポリオルガノシロキサン（ａ２）は、下記一般式（ａ２－０）で示される構造を有することが好ましい。

［式中、Ｒ¹～Ｒ⁴は同一か又は異なっていてもよく、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数６～１２のアリール基又はアルキル基部位の炭素数が１～１０であるアルキルアリール基を示す。Ｒ⁵及びＲ⁶は同一か又は異なっていてもよく、それぞれ互いに独立して、炭素数６～２０のアリーレン基、炭素数１～１０のアルキレン基又はアルキル基部位の炭素数が１～１０であるアルキルアリーレン基を示し、官能基として、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－ＮＲ¹¹¹－を含んでよい。Ｒ¹¹¹は炭素数１～１０のアルキル基又は炭素数６～１０のアリール基を示す。ａは２～５００の整数を示す。
Ｒ^40’は炭素数２～３８０の二価の脂肪族炭化水素基、炭素数３～３８０の二価の脂環式炭化水素基、又は炭素数６～３８０の二価の芳香族炭化水素基を示し、置換基によって置換されていてもよい。上記二価の脂肪族炭化水素基、上記二価の脂環式炭化水素基又は上記二価の芳香族炭化水素基は、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子から選ばれる少なくとも１つのヘテロ原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子から選ばれる少なくとも１つのハロゲン原子を含んでもよい。Ｒ^40’’は炭素数１～２０の二価の脂肪族炭化水素基、炭素数３～２０の二価の脂環式炭化水素基又は炭素数６～２０の二価の芳香族炭化水素基を示し、置換基によって置換されていてもよい。ｅ及びｕは０又は１を示す。］

Ｒ^40’として、炭素数１～２０の二価の脂肪族炭化水素基、炭素数３～２０の二価の脂環式炭化水素基又は炭素数６～２０の二価の芳香族炭化水素基から選ばれる少なくとも１つの炭化水素基と、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選択される少なくとも１つのヘテロ原子とを含む構造が少なくとも２個連結した繰返し連鎖構造を含むことが好ましい。繰返し連鎖構造としては、ポリエーテル、ポリアセタール、ポリラクトン、ポリアクリレート、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリケトン、ポリスルフィド、ポリスルホン、ポリアミド又はポリイミド等を好ましい構造として挙げることが出来る。
中でもポリエーテル、ポリアクリレート、及びポリカーボネートからなる群から選択される少なくとも１つが好ましく、ポリエーテルが最も好ましい。ポリエーテルとしては、ポリアルキレンエーテルが好ましく、中でもポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリトリメチレングリコール、ポリテトラメチレングリコールが好ましい。上記の構造は、ジオールモノマー（ａ１）との親和性を高め、均一な重合を行う観点から好ましい。

ポリオルガノシロキサン（ａ２）としては、下記一般式（ａ２－１）～（ａ２－３）で示されるいずれかの構造を有するモノマーを用いることができる。

上記式中、Ｒ¹～Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶、Ｒ⁷及びＲ⁸、ｚ、ｚ１、β、ａ、ｂ並びにｂ１は上記した通りである。好ましいものも同様であり、好ましいものの組み合わせは同様に好ましい。
上記一般式（ａ２－０）及び（ａ２－１）～（ａ２－３）において、ａはポリオルガノシロキサンの鎖長を示し、ジオールモノマー（ａ１）との親和性を高め、均一な重合を行う観点から、２以上５００以下、好ましくは２以上３００以下、より好ましくは１０以上１００以下、更に好ましくは１５以上７０以下、更に好ましくは２０以上６５以下の整数を示す。
上記一般式（ａ２－１）～（ａ２－３）において、ｂは２以上２００以下、好ましくは２以上１００以下、より好ましくは５以上５０以下、更に好ましくは８以上２５以下の整数を示す。ジオールモノマー（ａ１）との親和性を高め、均一な重合を行う観点から、上記範囲であることが好ましい。

本発明のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体は、界面重合法又は溶融重合法（エステル交換法）により原料モノマーを重合させることにより製造することができる。界面重合法により製造する場合には、例えば、特開２０１４－８０４６２号公報等に記載の方法を参照することができる。本発明のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体は、好ましくは末端停止剤の存在下に、原料モノマーであるポリオルガノシロキサン（ａ２）と、ジオールモノマー（ａ１）と、炭酸エステル化合物とを塩基性触媒下で溶融重合法により反応させることにより、ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を製造することができる。

（炭酸ジエステル）
炭酸ジエステルとしては、炭酸ジアリール化合物、炭酸ジアルキル化合物及び炭酸アルキルアリール化合物から選択される少なくとも１種の化合物である。
炭酸ジアリール化合物は、下記一般式（１１）で表される化合物、又は下記一般式（１２）で表される化合物である。

［式（１１）中、Ａｒ¹及びＡｒ²はそれぞれアリール基を示し、互いに同一でも異なっていてもよい。式（１２）中、Ａｒ³及びＡｒ⁴はそれぞれアリール基を示し、互いに同一でも異なっていてもよく、Ｄ¹は前記芳香族ジヒドロキシ化合物又は脂肪族ジヒドロキシ化合物から水酸基２個を除いた残基を示す。］

炭酸ジアルキル化合物は、下記一般式（１３）で表される化合物又は下記一般式（１４）で表される化合物である。

［式（１３）中、Ｒ²¹及びＲ²²はそれぞれ炭素数１～２０のアルキル基又は炭素数４～２０のシクロアルキル基を示し、互いに同一でも異なっていてもよい。式（１４）中、Ｒ²³及びＲ²⁴はそれぞれ炭素数１～２０のアルキル基又は炭素数４～２０のシクロアルキル基を示し、それらはたがいに同一でも異なっていてもよく、Ｄ²は前記芳香族ジヒドロキシ化合物又は脂肪族ジヒドロキシ化合物から水酸基２個を除いた残基を示す。］

炭酸アルキルアリール化合物は、下記一般式（１５）で表される化合物又は下記一般式（１６）で表される化合物である。

［式（１５）中、Ａｒ⁵はアリール基、Ｒ²⁵は炭素数１～２０のアルキル基又は炭素数４～２０のシクロアルキル基を示す。式（１６）中、Ａｒ⁶はアリール基，Ｒ²⁶は炭素数１～２０のアルキル基又は炭素数４～２０のシクロアルキル基、Ｄ¹は前記芳香族ジヒドロキシ化合物又は脂肪族ジヒドロキシ化合物から水酸基２個を除いた残基を示す。］

炭酸ジアリール化合物としては、例えば、ジフェニルカーボネート、ジトリルカーボネート、ビス（クロロフェニル）カーボネート、ビス（ｍ－クレジル）カーボネート、ジナフチルカーボネート、ビス（ジフェニル）カーボネート、ビスフェノールＡビスフェニルカーボネート等が挙げられる。
炭酸ジアルキル化合物としては、例えば、ジエチルカーボネート、ジメチルカーボネート、ジブチルカーボネート、ジシクロヘキシルカーボネート、ビスフェノールＡビスメチルカーボネート等が挙げられる。
炭酸アルキルアリール化合物としては、例えば、メチルフェニルカーボネート、エチルフェニルカーボネート、ブチルフェニルカーボネート、シクロヘキシルフェニルカーボネート、ビスフェノールＡメチルフェニルカーボネート等が挙げられる。
本発明のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体の製造に際して、炭酸ジエステルとしては、上記の化合物１種又は２種以上を適宜選択して用いることができるが、これらの中では、ジフェニルカーボネートを用いるのが好ましい。

（末端停止剤）
本発明のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体の製造に際しては、必要に応じて末端停止剤を用いることができる。末端停止剤としては、ポリカーボネート樹脂の製造における公知の末端停止剤を用いればよく、例えば、その具体的化合物としては、フェノール、ｐ－クレゾール、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール、ｐ－ｔｅｒｔ－オクチルフェノール、ｐ－クミルフェノール、ｐ－ノニルフェノール、及びｐ－ｔｅｒｔ－アミルフェノール等を挙げることができる。これらの一価フェノールはそれぞれ単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。

（分岐剤）
本発明のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体の製造に際しては、分岐剤を用いることもできる。分岐剤としては、例えばフロログルシン；トリメリット酸；１，１，１－トリス（４－ヒドロキシフェニル）エタン；１－〔α－メチル－α－（４’－ヒドロキシフェニル）エチル〕－４－〔α’，α’－ビス（４”－ヒドロキシフェニル）エチル〕ベンゼン；α，α’，α”－トリス（４－ヒドロキシフェニル）－１，３，５－トリイソプロピルベンゼン；イサチンビス（ｏ－クレゾール）等が挙げられる。

具体的には、例えば以下の手順により、溶融重合法にて本発明のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を製造することができる。
ジオールモノマー（ａ１）と、ポリオルガノシロキサン（ａ２）と、炭酸エステル化合物とをエステル交換反応させる。ジオールモノマーに対して炭酸エステル化合物は、好ましくは０．９～１.２倍モルであることが好ましく、より好ましくは０．９８～１．０２倍モルである。

上記のエステル交換反応に当たって、末端停止剤の存在量が、ジオールモノマー（ａ１）及びポリオルガノシロキサン（ａ２）に対して、０．０５～１０モル％の範囲にあると、得られるポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体の水酸基末端が封止されるため、耐熱性及び耐水性に充分優れたポリカーボネート樹脂が得られるため好ましい。ジオールモノマー（ａ１）及びポリオルガノシロキサン（ａ２）に対する末端停止剤の存在量は、より好ましくは１～６モル％である。末端停止剤は、予め反応系に全量添加しておいてもよく、また予め反応系に一部添加しておき、反応の進行に伴って残部を添加してもよい。
ジオールモノマー（ａ１）、ポリオルガノシロキサン（ａ２）、及び炭酸エステル化合物とともに、酸化防止剤を同時に反応器に投入し、酸化防止剤存在下でエステル交換反応を行うことが好ましい。

エステル交換反応を行うに当たって反応温度は、特に制限はなく、通常１００～３３０℃の範囲、好ましくは１８０～３００℃の範囲、より好ましくは２００～２４０℃の範囲で選ばれるが、反応の進行に合わせて次第に１８０～３００℃まで温度を上げていく方法が特に好ましい。このエステル交換反応の温度が１００℃以上であれば、反応速度が速くなり、一方、３３０℃以下であれば、副反応が生じることなく、生成するポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体が着色する等の問題が生じにくい。

反応圧力は、使用するモノマーの蒸気圧や反応温度に応じて設定される。反応が効率良く行われるように設定されれば、特に限定されない。通常、反応初期においては、１～５０ａｔｍ（７６０～３８，０００ｔｏｒｒ）までの大気圧（常圧）又は加圧状態にし、反応後期においては、減圧状態、好ましくは最終的には１．３３～１．３３×１０⁴Ｐａ（０．０１～１００ｔｏｒｒ）とする場合が多い。
反応時間は、目標の分子量となるまで行えばよく、通常、０．２～１０時間程度である。

上記のエステル交換反応は、通常不活性溶剤の不存在下で行われるが、必要に応じて、得られるポリカーボネート樹脂１００質量部に対して、１～１５０質量部の不活性溶剤の存在下において行ってもよい。不活性溶剤としては、例えば、ジフェニルエーテル、ハロゲン化ジフェニルエーテル、ベンゾフェノン、ポリフェニルエーテル、ジクロロベンゼン、メチルナフタレン等の芳香族化合物；トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン、シクロオクタン、シクロデカン等のシクロアルカン等が挙げられる。
必要に応じて不活性ガス雰囲気下で行ってもよく、不活性ガスとしては、例えばアルゴン、二酸化炭素、一酸化二窒素、窒素等のガス、クロロフルオロ炭化水素、エタンやプロパン等のアルカン、エチレンやプロピレン等のアルケン等、各種のものが挙げられる。

溶融重合法においては、触媒として塩基性触媒を用いることが好ましい。塩基性触媒としては、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物等の金属触媒、含窒素化合物、アリール基を含む４級ホスホニウム塩等の有機系触媒及び金属化合物からなる群から選択される少なくとも１種を挙げることができる。これらの化合物は単独もしくは組み合わせて用いることができる。
塩基性触媒としては、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の、有機酸塩、無機塩、酸化物、水酸化物、水素化物、及びアルコキシド；４級アンモニウムヒドロキシド；アリール基を含む４級ホスホニウム塩等が好ましく用いられる。塩基性触媒は１種単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

アルカリ金属化合物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸セシウム、酢酸リチウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸セシウム、ステアリン酸リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸カリウム、安息香酸セシウム、安息香酸リチウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二リチウム、フェニルリン酸二ナトリウム、ビスフェノールＡの二ナトリウム塩、二カリウム塩、二セシウム塩、二リチウム塩、フェノールのナトリウム塩、カリウム塩、セシウム塩、リチウム塩等が挙げられる。
アルカリ土類金属化合物としては、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、水酸化バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウム、炭酸バリウム、二酢酸マグネシウム、二酢酸カルシウム、二酢酸ストロンチウム、二酢酸バリウム等が挙げられる。

含窒素化合物としては、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド等のアルキル、アリール基等を有する４級アンモニウムヒドロキシド類が挙げられる。また、トリエチルアミン、ジメチルベンジルアミン、トリフェニルアミン等の３級アミン類、２－メチルイミダゾール、２－フェニルイミダゾール、ベンゾイミダゾール等のイミダゾール類が挙げられる。さらに、アンモニア、テトラメチルアンモニウムボロハイドライド、テトラブチルアンモニウムボロハイドライド、テトラブチルアンモニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルアンモニウムテトラフェニルボレート等の塩基あるいは塩基性塩等が挙げられる。

金属化合物としては亜鉛アルミニウム化合物、ゲルマニウム化合物、有機スズ化合物、アンチモン化合物、マンガン化合物、チタン化合物、ジルコニウム化合物等が挙げられる。

アリール基を含む４級ホスホニウム塩の具体例としては、例えばテトラフェニルホスホニウムヒドロキシド、テトラナフチルホスホニウムヒドロキシド、テトラ（クロロフェニル）ホスホニウムヒドロキシド、テトラ（ビフェニル）ホスホニウムヒドロキシド、テトラトリルホスホニウムヒドロキシド、テトラメチルホスホニウムヒドロキシド、テトラエチルホスホニウムヒドロキシド、テトラブチルホスホニウムヒドロキシド等のテトラ（アリール又はアルキル）ホスホニウムヒドロキシド類、テトラメチルホスホニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウムブロミド、テトラフェニルホスホニウムフェノラート、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、メチルトリフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、ベンジルトリフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、ビフェニルトリフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、テトラトリルホスホニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウムフェノレート、テトラ（ｐ－ｔ－ブチルフェニル）ホスホニウムジフェニルホスフェート、トリフェニルブチルホスホニウムフェノレート、トリフェニルブチルホスホニウムテトラフェニルボレート等が挙げられる。
アリール基を含む４級ホスホニウム塩は、含窒素有機塩基性化合物と組合せることが好ましく、例えばテトラメチルアンモニウムヒドロキシドとテトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレートとの組合せが好ましい。

塩基性触媒の使用量は、ジオールモノマー１モルに対し、好ましくは１×１０^-9～１×１０^-2モル、好ましくは１×１０^-8～１×１０^-2モル、より好ましくは１×１０^-7～１×１０^-3モルの範囲で選ぶことができる。

反応後期に触媒失活剤を添加することもできる。使用する触媒失活剤としては、公知の触媒失活剤が有効に使用されるが、この中でもスルホン酸のアンモニウム塩、ホスホニウム塩が好ましい。更にドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩等のドデシルベンゼンスルホン酸の塩類、ｐ－トルエンスルホン酸テトラブチルアンモニウム塩等のｐ－トルエンスルホン酸の塩類が好ましい。

スルホン酸のエステルとして、ベンゼンスルホン酸メチル、ベンゼンスルホン酸エチル、ベンゼンスルホン酸ブチル、ベンゼンスルホン酸オクチル、ベンゼンスルホン酸フェニル、ｐ－トルエンスルホン酸メチル、ｐ－トルエンスルホン酸エチル、ｐ－トルエンスルホン酸ブチル、ｐ－トルエンスルホン酸オクチル、ｐ－トルエンスルホン酸フェニル等も好ましく用いられる。中でも、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩又はｐ－トルエンスルホン酸ブチルが最も好ましく使用される。

触媒失活剤の使用量はアルカリ金属化合物及びアルカリ土類金属化合物から選ばれた少なくとも１種の重合触媒を用いた場合、その触媒１モル当たり好ましくは０．５～５０モルの割合で、より好ましくは０．５～１０モルの割合で、更に好ましくは０．８～５モルの割合で使用することができる。
触媒失活剤を添加し、重合反応を終了させた後に酸化防止剤を混合することが好ましい。

溶融重合法における反応は、連続式、及びバッチ式のいずれで行ってもよい。溶融重合に用いられる反応装置は、アンカー型撹拌翼、マックスブレンド撹拌翼、もしくはヘリカルリボン型撹拌翼等を装備した縦型反応装置、又はパドル翼、格子翼、もしくはメガネ翼等を装備した横型反応装置のいずれでもよい。更にスクリューを装備した押出機型であってもよい。連続式の場合は、かかる反応装置を適宜組み合わせて使用することが好ましい。

本発明のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体は、以下の条件を満たす原料を用いて製造されることが好ましい。
条件（ｉ）：原料ジオールモノマー（ａ１）、原料ポリオルガノシロキサン（ａ２）、炭酸ジエステル及び塩基性触媒を、１００～２５０℃にて、０．５～５時間接触させて得られる混合物の、２３℃及び光路長１０ｍｍの条件下、ＩＳＯ １４７８２：１９９９に準拠して測定されるヘイズ値が３０以下である。

上記ヘイズ値は、上記混合物を充填した光路長１０ｍｍのガラスセルをＩＳＯ １４７８２：１９９９に準拠し、２３℃においてヘイズ測定装置で測定された値である。なお、上記原料混合物のヘイズ値測定条件は、重合条件とは異なり、単に原料選択の際に用いる条件である。

上記加熱処理後の原料混合物のヘイズ値が上記範囲内であれば、得られるポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体が高い透明性を有するため好ましい。
上記加熱処理後の原料混合物のヘイズ値は、より好ましくは２０以下、更に好ましくは１０以下、更に好ましくは５以下、更に好ましくは１以下である。
ヘイズ値を測定するための混合物を得るための条件は、上記（ｉ）に記載した通りである。さらに条件（ｉ）のうちの温度条件は、好ましくは１５０～２５０℃、より好ましくは１８０～２５０℃であり、接触時間は好ましくは０．７～４時間、より好ましくは０．７～２時間である。条件（ｉ）において、温度条件と、接触時間が上記好適範囲内であり、得られる混合物が条件（ｉ）に規定するヘイズ値を有する場合に、より高い透明性を有するポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を得ることができる。

＜ポリカーボネート系樹脂組成物＞
本発明のポリカーボネート系樹脂組成物は、上述したポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ））を含む。
本発明のポリカーボネート系樹脂組成物には、上記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）が有する特性を損なわない範囲で、周知の添加剤を用いることができる。

（添加剤）
本発明のポリカーボネート系樹脂組成物には、用途や必要に応じて公知の添加剤を配合することができる。添加剤としては、例えば、各種フィラー、酸化防止剤、熱安定剤、可塑剤、光安定剤、重合金属不活性化剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、界面活性剤、抗菌剤、紫外線吸収剤、離型剤等が挙げられる。
酸化防止剤は、熱可塑性樹脂組成物の製造時や成形時の樹脂の分解を抑制することができる。

［フィラー］
本発明のポリカーボネート樹脂組成物に配合することができるフィラーとしては、無機フィラー、例えば球状フィラー、板状フィラー、繊維状フィラー等が挙げられる。
球状フィラーとしては、例えば、炭酸カルシウム、カオリン（ケイ酸アルミニウム）、シリカ、パーライト、シラスバルーン、セリサイト、ケイソウ土、亜硫酸カルシウム、焼成アルミナ、ケイ酸カルシウム、結晶ゼオライト、非晶質ゼオライト等が挙げられる。
板状フィラーとしては、例えば、タルク、マイカ、ワラストナイト等が挙げられる。
繊維状フィラーとしては、例えば、ガラス繊維、カーボン繊維、ワラストナイトのような針状のもの、マグネシウムオキシサルフェイト、チタン酸カリウム繊維、繊維状炭酸カルシウムのような繊維状のもの等が挙げられる。上記無機フィラーが、ガラス繊維又は炭素繊維であることが好ましい。

ガラス繊維としては、含アルカリガラス、低アルカリガラス、及び無アルカリガラス等を原料としたいずれをも好適に用いることができる。
これらのガラス繊維の形態は、特に制限はなく、例えば、ロービング、ミルドファイバー、及びチョップドストランド等いずれの形態のものも使用することができる。
ガラス繊維の市販品としては、ＣＳＨ－３ＰＡ（日東紡績社製）、Ｔ５１１（日本電気硝子社製）、ＭＡ４０９Ｃ（旭ファイバーグラス社製）等が挙げられる。
本発明のポリカーボネート系樹脂組成物は、樹脂組成物を強化する観点から、ガラスフィラーを含むことが好ましい。

［組成比］
本発明のポリカーボネート系樹脂組成物は、ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）１００質量部に対して、無機フィラーを、好ましくは１～１５０質量部、より好ましくは１１～１００質量部、更に好ましくは１５～６０質量部、更に好ましくは１５～４０質量部含むことができる。上記範囲とすることで、ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ）の特性を損ねることなく、無機フィラーに起因する種々の機械物性効果、例えば、弾性率等の強度向上を図ることができる。

本発明のポリカーボネート系樹脂組成物の製造方法は、ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体と、任意の添加剤とを混合する工程を有するものであれば特に限定されない。例えば、ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体と任意の添加物とを混合機等を用いて混合し、溶融混練を行うことで製造できる。溶融混練は、通常用いられている方法、例えば、リボンブレンダー、ヘンシェルミキサー、バンバリーミキサー、ドラムタンブラー、単軸スクリュー押出機、二軸スクリュー押出機、コニーダ、多軸スクリュー押出機等を用いる方法により行うことができる。溶融混練時の加熱温度は、通常１５０℃～３００℃、好ましくは２２０～３００℃程度の範囲で適宜選定される。

［成形品］
本発明の成形品は、本発明のポリカーボネート系樹脂組成物を含むものである。当該成形品は、ポリカーボネート系樹脂組成物の溶融混練物、又は、溶融混練を経て得られたペレットを原料として、射出成形法、射出圧縮成形法、押出成形法、ブロー成形法、プレス成形法、真空成形法及び発泡成形法等により製造することができる。特に、得られたペレットを用いて、射出成形法又は射出圧縮成形法により成形品を製造することが好ましい。

成形品の厚さは用途に応じて任意に設定することができ、特に成形品の透明性が要求される場合には、０．２～４．０ｍｍが好ましく、０．３～３．０ｍｍがより好ましく、０．３～２．０ｍｍが更に好ましい。成形品の厚みが０．２ｍｍ以上４．０ｍｍ以下であれば、良好な機械強度を得ることができる。

成形品には、必要に応じてハードコート膜、防曇膜、帯電防止膜、反射防止膜の被膜を形成しても良く、２種類以上の複合被膜としてもよい。
中でも、耐候性が良好で、経時的な成形品表面の摩耗を防ぐことができることから、ハードコート膜の被膜が形成されていることが特に好ましい。ハードコート膜の材質は特に限定されず、アクリレート系ハードコート剤、シリコーン系ハードコート剤、無機系ハードコート剤等の公知の材料を用いることができる。

ガラスフィラーを含む成形品の場合には、成形品の最表面に、ガラスフィラーの少なくとも一部分が存在することで、成形品の表面粗さが大きくなり、成形品表面での乱反射が多くなり、結果として成形品の透明性を悪化する場合がある。このため、成形品の表面粗さを小さくする方法として、成形品の最表面に樹脂の存在比率が高い層（スキン層）を形成させることにより、成形品の表面粗さを小さくする方法等がある。このスキン層を形成させる方法として、射出成形の場合には金型の温度を一般的な条件よりも高い温度にすることで、金型に接する樹脂が流動し易くし、成形品の最表面の表面粗さを小さくすることができる。また、圧縮成形の場合には、成形時の圧力を一般的な条件よりも高い圧力にすることにより、成形品の最表面の表面粗さを小さくすることができる。これらの方法を用いて、成形品の表面粗さを小さくすることにより、成形品表面での乱反射が少なくなり、ヘイズが小さくなり、結果として成形品の透明性を改善することができる。

このようにして得られた成形品は、平板に成形した際、ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体における、式（１）で示されるポリオルガノシロキサンブロックの含有量が５質量％未満且つポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体におけるポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）の平均鎖長ａが７０未満の場合、可視光に対する全光線透過率は６０％以上であることが好ましい。全光線透過率は、より好ましくは７０％以上、更に好ましくは８０％以上、更に好ましくは８５％以上、更に好ましくは９０％以上である。ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体における、式（１）で示されるポリオルガノシロキサンブロックの含有量が５質量％以上の場合には、可視光に対する全光線透過率は２５％以上であることが好ましい。上記平板成形時のヘイズは、ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体における、式（１）で示されるポリオルガノシロキサンブロックの含有量が５質量％未満且つポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体におけるポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－２）の平均鎖長ａが７０未満の場合、好ましくは４０以下、より好ましくは３０以下、更に好ましくは１５以下、更に好ましくは５以下である。
前記光学物性を備えた成形品は透明性に優れたものであるので、高い透明性を要求される用途において使用することができる。なお、可視光に対する全光線透過率はＩＳＯ １３４６８－１：１９９６に準じて測定し、ヘイズはＩＳＯ １４７８２：１９９９に準じて測定することができる。

本発明に係るポリカーボネート樹脂を含む成形品は、透明性及び剛性、更には耐傷付性及び耐候性が必要とされる部材、例えば、１）サンルーフ、ドアバイザー、リアウィンド、サイドウィンド等の自動車用部品、２）建築用ガラス、防音壁、カーポート、サンルーム及びグレーチング類等の建築用部品、３）鉄道車両、船舶用の窓、４）テレビ、ラジオカセット、ビデオカメラ、ビデオテープレコーダ、オーディオプレーヤー、ＤＶＤプレーヤー、電話器、ディスプレイ、コンピュータ、レジスター、複写機、プリンター、ファクシミリ等の各種部品、外板及びハウジングの各部品等の電気機器用部品、５）携帯電話、ＰＤＡ、カメラ、スライドプロジェクター、時計、電卓、計測器、表示器機等の精密機械等のケース及びカバー類等の精密機器用部品、６）ビニールハウス、温室等の農業用部品、７）照明カバーやブラインド、インテリア器具類等の家具用部品等に好適に用いることができる。

以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

各例における特性値は、以下に示す要領に従って求めた。
＜ヘキサン抽出量の測定方法＞
ヘキサン抽出量の測定は以下の方法により行った。
下記実施例及び比較例で得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体のペレットをクラッシャーで粉砕して得られるサンプルを、２０メッシュ（目開き０．８４ｍｍ）に通過させて粉砕不足の大きな塊を除き、続いて３００メッシュ（目開き０．０５５ｍｍ）上で篩い、メッシュ上に残ったサンプルをヘキサン抽出用サンプルとして採取することで、過度に粉砕された微粉を除去した。
次に前記の方法で得たヘキサン抽出用サンプル約１５ｇを精秤し、円筒ろ紙（Ｎｏ．８４、内径２８ｍｍ×全長１００ｍｍ）に投入してソックスレー抽出器にセットした。続いて３００ｍＬのｎ－ヘキサンを用いて３～４分に１回（７０ｍＬ／回）の還流量で８時間還流させて抽出した。その後、得られたｎ－ヘキサン抽出液を、エバポレーターを用いて４０℃の湯浴に接触させながらｎ－ヘキサンを除去した。その後、室温下にて２．５ｈ真空乾燥させ、ナスフラスコに残留した成分の質量（ｇ）から下式によりヘキサン抽出量（質量ｐｐｍ）を算出した。
ヘキサン抽出量（質量ｐｐｍ）＝１，０００，０００×Ｈ／抽出に使用したサンプル量
（Ｈ：ナスフラスコに残留したヘキサン抽出成分の質量、単位：ｇ）

＜ポリジメチルシロキサン含有率の定量方法＞
例）実施例３で得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体に含まれるポリジメチルシロキサンの定量方法
ＮＭＲ装置：（株）ＪＥＯＬ ＲＥＳＯＮＡＮＣＥ製 ＥＣＡ－５００
プローブ：ＴＨ５ ５φＮＭＲ試料管対応
観測範囲：－５～１５ｐｐｍ
観測中心：５ｐｐｍ
パルス繰り返し時間：９秒
パルス幅：４５°
積算回数：２５６回
ＮＭＲ試料管：５φ
サンプル量：３０～４０ｍｇ
溶媒：重クロロホルム
測定温度：室温
Ａ：δ７．３～７．５付近に観測されるフェニル部のメタ位の積分値
Ｂ：δ－０．０２～０．３付近に観測されるジメチルシロキサン部のメチル基の積分値
Ｃ：δ４．８～５．３付近に観測されるＩＳＢ（イソソルビド）部のメチン基の積分値
Ｄ：δ３．３～３．８付近に観測されるＰＥＧ部のメチレン基の積分値
Ｅ：δ０．８～２．０付近に観測されるＣＨＤＭ部のメチン基、及びメチレン基の積分値
Ｆ：δ０．４～０．６付近に観測されるジメチルシロキサン末端部のメチレン基の積分値
ａ＝Ａ／２
ｂ＝Ｂ／６
ｃ＝Ｃ／３
ｄ＝Ｄ／４
ｅ＝（Ｅ－Ｆ）／１０
Ｔ＝ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ
ｆ＝ａ／Ｔ×１００
ｇ＝ｂ／Ｔ×１００
ｈ＝ｃ／Ｔ×１００
ｉ＝ｄ／Ｔ×１００
ｊ＝ｅ／Ｔ×１００
ＴＷ＝ｆ×９３＋ｇ×７４．１＋ｈ×１７２＋ｉ×４４＋ｊ×１７０
ＰＤＭＳ（ｗｔ％）＝ｇ×７４．１／ＴＷ×１００

＜［ＰＯＳ－Ｍｈ］及び［ＰＯＳ－Ｍｌ］の測定方法＞
下記の実施例及び比較例に示す各種のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体について、ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）により保持時間範囲Ｔ１～Ｔ２に相当する成分を分取して得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体に含まれるポリオルガノシロキサンブロックの平均重量（ｗｔ％）を前記の測定方法により求めその値を［ＰＯＳ－Ｍｈ］とした。同様に、保持時間範囲Ｔ２～Ｔ３に相当する成分を分取して得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体に含まれるポリオルガノシロキサンブロックの平均重量（ｗｔ％）を［ＰＯＳ－Ｍｌ］とした。以下、ＧＰＣ測定方法、Ｔ１、Ｔ２、Ｔ３の決定方法を説明する。
・ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体のＧＰＣによる分取条件
試験機器：（株）島津製作所製、分取ＧＰＣ［ＳＰＤ－Ｍ２０Ａ］
溶媒：クロロホルム
カラム：ＪＡＩＧＥＬ－４Ｈ、ＪＡＩＧＥＬ－２Ｈ
カラム温度：室温
流速：３．８ｍＬ／分
検出器：ＲＩ
注入濃度：
ポリスチレン標準の場合：３ｍｇ／ｍＬ
ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体の場合：３０ｍｇ／ｍＬ
注入量：３ｍＬ
・Ｔ１～Ｔ３は上記ＧＰＣでポリスチレン標準を測定し、得られるクロマトグラムのピークトップから決定した。
ポリスチレン標準：下記の東ソー株式会社製の標準ポリスチレンを用いた。
Ｆ－１０：Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０１、Ｍｗ＝９８，９００
Ｆ－２：Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０１、Ｍｗ＝１３，７００
Ａ－２５００：Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３、Ｍｗ＝３，１２０

＜ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体の粘度平均分子量＞
ウベローデ型粘度計を用いて、２０℃における塩化メチレン溶液（濃度：ｇ／Ｌ）の粘度を測定し、これより極限粘度［η］を求め、次式（Schnell式）にて粘度平均分子量（Ｍｖ）を算出した。
［η］＝１．２３×１０^-5Ｍｖ^0.83

［評価試験］
＜樹脂成形品の全光線透過率：Ｔｔ（％），ヘイズ値＞
各実施例及び比較例で得られた評価用ペレットを、射出成形機（株式会社ニイガタマシンテクノ社製、「ＭＤ５０ＸＢ」、スクリュー径３０ｍｍφ）を用いて、シリンダー温度２４０℃、金型温度８０℃にて、透明性評価用３段プレート（９０ｍｍ×５０ｍｍ、３ｍｍ厚部分４５ｍｍ×５０ｍｍ、２ｍｍ厚部分２２．５ｍｍ×５０ｍｍ、１ｍｍ厚部分２２．５ｍｍ×５０ｍｍ）を作成した。全光線透過率は、上記３段プレートの厚み１ｍｍ部分について、ＩＳＯ １３４６８－１：１９９６に準拠して測定した。ヘイズ値は同サンプルの厚み１ｍｍ部分について、ＩＳＯ １４７８２：１９９９に準拠して測定した。両値とも、測定装置としては日本電色工業株式会社製のＮＤＨ５０００を用いた。
ヘイズ値は小さいほどサンプルの透明性が高い事を表す。
ヘイズ＝Ｔｄ／Ｔｔ×１００
（式中、Ｔｄ：拡散透過率，Ｔｔ：全光線透過率）

＜原料混合物の全光線透過率（％），ヘイズ値＞
以下の測定装置、ガラスセル、測定方法により原料混合物の全光線透過率、ヘイズ値を求めた。
測定装置：日本電色工業株式会社製 ＮＤＨ５０００
ガラスセル：光路長：１０ｍｍ
寸法：外寸１４ｍｍ(奥行)×４０ｍｍ(幅)×５５ｍｍ（高さ）
各面のガラス厚さ：２ｍｍ
原料混合物のヘイズ測定前に、ガラスセルに純水を充填させゼロ点補正を行った。具体的には、純水をセルに充填した状態での測定値が、全光線透過率が１００％となる状態及びヘイズ値が０．００となる状態に補正した。次にガラスセルから純水を除去し、ここに後述の方法で得られる液状混合物を充填して測定を実施し、ＩＳＯ １４７８２：１９９９に準拠して２３℃におけるヘイズ値を求めた。
ヘイズ＝Ｔｄ／Ｔｔ×１００
（式中、Ｔｄ：拡散透過率，Ｔｔ：全光線透過率）

製造例１：ＰＤＭＳ－１の製造
窒素雰囲気下、下式：

で示されるシロキサン平均鎖長が２４であるポリオルガノシロキサン（１００ｇ）に、下式：

にて示される、平均オキシエチレン鎖長が１５のポリエチレングリコールをポリオルガノシロキサンに対して２倍モル量（８２．３ｇ）加えた。ここに、イソプロピルアルコール４５５ｇ（ポリオルガノシロキサンとポリエチレングリコールの合計質量に対し２．５部)を加えた後、混合物温度を８０℃に制御して十分撹拌した。次いで、白金のビニルシロキサン錯体のトルエン溶液を、白金原子の質量がシロキサンに対して５質量ｐｐｍとなる量で加え、１０時間撹拌した。得られた混合物からイソプロピルアルコール及び白金触媒を除去することにより、ポリエーテル変性ポリオルガノシロキサンＰＤＭＳ－１を得た。

製造例２：ＰＤＭＳ－２の製造
平均シロキサン鎖長が６１である、α，ω－ジハイドロジェンオルガノポリシロキサンを用いた以外は、製造例１と同様に製造した。

製造例３：ＰＤＭＳ－３の製造
平均シロキサン鎖長が８８である、α，ω－ジハイドロジェンオルガノポリシロキサンを用いた以外は、製造例１と同様に製造した。

製造例４：ＰＤＭＳ－４の製造
用いるポリエチレングリコールの平均オキシエチレン鎖長を１２としたこと以外は、製造例１と同様に製造した。

製造例５：ＰＤＭＳ－５の製造
窒素雰囲気下、下式：

で示される、平均シロキサン鎖長が３９である、ポリオルガノシロキサンに、２－アリルフェノールを、ポリオルガノシロキサンに対し２倍ｍｏｌ量加えた。混合物温度を１００℃に制御しながら十分撹拌した。次いで、白金のビニルシロキサン錯体のトルエン溶液を白金原子の質量がシロキサンに対して５質量ｐｐｍとなる量で加え、１０時間撹拌した。得られた混合物からイソプロピルアルコール及び白金触媒を除去し、アリルフェノール変性ポリオルガノシロキサンＰＤＭＳ－５を得た。

製造例６：ＰＤＭＳ－６の製造
２－アリルフェノールの代わりに、オイゲノールを用いたこと以外は、製造例５と同様に製造した。

製造例７：ＰＤＭＳ－７の製造
ポリエチレングリコールの代わりに、エチレングリコールモノアリルエーテル（ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂－Ｏ－ＣＨ₂ＣＨ₂－ＯＨ）を用いた以外は、製造例１と同様に製造した。

製造例８：ＰＤＭＳ－８の製造
用いるポリオルガノシロキサンのシロキサン平均鎖長を４５としたこと、用いるポリエチレングリコールの平均オキシエチレン鎖長を８としたこと、溶媒をトルエンとしたこと、反応温度を１１０℃としたこと以外は、製造例１と同様に製造した。

製造例９：ＰＤＭＳ－９の製造
用いるポリエチレングリコールの平均オキシエチレン鎖長を３８としたこと、溶媒をトルエンとしたこと、反応温度を１１０℃としたこと以外は、製造例８と同様に製造した。

製造例１０：ＰＤＭＳ－１０の製造
用いるポリオルガノシロキサンのシロキサン平均鎖長を５としたこと、溶媒をトルエンとしたこと、反応温度を１１０℃としたこと以外は、製造例１と同様に製造した。

製造例１１：ＰＤＭＳ－１１の製造
窒素雰囲気下、フラスコに塩化メチレン３５０ｍＬを投入し、ここへ、２，６－ジ－ｔ－ブチルピリジン２１．５ｇ及びトリフルオロメタンスルホン酸無水物２１ｇを仕込み、この混合物を１５℃以下まで冷却した。ここへ、アリルアルコール４．３ｇを滴下し反応開始剤を形成した。１５分程度撹拌した後、脱水テトラヒドロフラン１Ｌを投入し２０～２３℃で５分間撹拌後、イオン交換水３０ｍＬを投入し反応を停止した。ヘプタンで抽出し、１０％塩酸で洗浄を行い、水槽を分離後、引き続き、イオン交換水で２回洗浄し水槽を分離した。その後、溶媒を減圧条件下で留去し、下式：

にて示される、片末端アリル変性ポリテトラメチレングリコール（テトラメチレングリコール部の鎖長＝２０）を１２０ｇ得た。
ポリエチレングリコールの代わりに、上記反応で得られた、片末端アリル変性ポリテトラメチレングリコールを用いたこと、溶媒をトルエンとイソプロパノールの１：１（質量比）混合液に変更し、溶媒使用量をポリオルガノシロキサン及び片末端アリル変性ポリテトラメチレングリコールの総体積の３倍体積量としたこと、反応温度を８０～９０℃で制御したこと以外は製造例８と同様に製造した。

製造例１２：ＰＤＭＳ－１２の製造
窒素雰囲気のフラスコに、両末端に－Ｃ_３Ｈ_６ＯＣ_２Ｈ_４ＯＨ基を有するポリジメチルシロキサン（ＳｉＭｅ_２Ｏユニットの平均連鎖数：４０）及び、前述のポリオルガノシロキサンの水酸基に対し２５倍モル量のトリメチレンカーボネートを仕込み、これらの原料が１０ｗｔ％濃度となる様、脱水されたジクロロメタンを投入した。得られた透明な反応溶液に、ポリジメチルシロキサン末端ＯＨ基に対し３当量の１，８－ジアザビシクロウンデセンを触媒として投入し、そのまま室温下で４８時間反応させた。その後、安息香酸を添加し反応を停止した反応混合物を、メタノール、２－プロパノール、ヘキサン混合液（体積比はそれぞれ１０：１：１０）からなる混合溶媒に再沈殿させ、得られた沈殿物を真空乾燥することでＰＤＭＳ－１２を得た（各末端のポリトリメチレンカーボネートの連鎖数：１８）。

製造例１３：ＰＤＭＳ－１３の製造
窒素雰囲気下、フラスコに塩化メチレン４５０ｍＬを投入し、ここへ３－ヨード－１－プロパノール４５．０ｇを加え、混合物を氷浴で冷却した。ここへ、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルクロロシラン４０．１ｇを添加し、室温下で２０時間攪拌した。得られた混合物を５％炭酸水素ナトリウム水溶液でクエンチし、酢酸エチル／イオン交換水により生成物を抽出した。得られた生成物をシリカゲルカラムにより生成し、３－ヨード－１－プロパノールのＴＢＳ保護体を得た（収量６７．７ｇ）。
窒素雰囲気下、上記３－ヨード－１－プロパノールのＴＢＳ保護体２．９ｇ、テトラヒドロフラン２７０ｍＬをフラスコ内で混合し、－６５℃以下まで冷却した。ここへ１．６ｍｏｌ／Ｌのｔｅｒｔ－ブチルリチウム（ペンタン溶液）を１２．５ｍＬ滴下し、そのまま１５分間撹拌した。そこへジフェニルエチレン２．５ｍＬを滴下し、そのまま３０分間撹拌した。その後、０．５２ｍｏｌ／Ｌ塩化リチウムＴＨＦ溶液５５ｍＬを投入し、１０分間撹拌した。次にメチルメタクリレート１０．１ｍＬを投入し１０分間撹拌させた。次にアリルブロマイド３．３６ｍＬを投入して反応をクエンチし、その後は室温で１２時間混合した。得られた反応混合物を減圧濃縮後、ＴＨＦ／ヘプタン系で再沈殿し、その後シリカゲルカラム精製に付し溶媒を除去することで片末端アリル変性ＰＭＭＡのＴＢＳ保護体を得た。この生成物をＴＨＦに溶解させ、２ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液で脱保護し、得られた反応混合物をヘプタンに投入することで目的物（脱保護体）を分離した。この脱保護体をシリカゲルカラムに付し精製し、溶媒を除去することで下式：

にて示される、片末端アリル変性ＰＭＭＡ（ＰＭＭＡ部の連鎖数＝２０）を得た。
ポリエチレングリコールの代わりに、上記の片末端アリル変性ＰＭＭＡを用いたこと、以外は製造例８と同様に製造した。

製造例１４：ＰＤＭＳ－１４の製造
ポリエチレングリコールの代わりに、下式：

にて示される、平均オキシプロピレン鎖長が１５のポリプロピレングリコールを用いたこと以外は製造例１と同様に製造した。

製造例１～１４で得られたＰＤＭＳ－１～ＰＤＭＳ－１４を表１に示す。

［その他］
ＢｉｓＰ－Ａ：ビスフェノールＡ［出光興産（株）製］
１，４－ＣＨＤＭ：１，４－シクロヘキサンジメタノール［東京化成工業（株）製］
ＴＣＤＤＭ：トリシクロデカンジメタノール［ＯＸＥＡ ＧｍｂＨ製］
１，３－ＰＧ：１，３－プロパンジオール［東京化成工業（株）製］
ＰＥＧ４００：ポリエチレングリコール４００［平均分子量３８０～４２０ｇ／ｍｏｌ，東京化成工業（株）製］
ＤＰＣ：炭酸ジフェニル［三井化学ファイン（株）製］
０．０１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液［富士フイルム和光純薬（株）製］

実施例１
＜加熱処理後の原料混合物の透明性評価＞
撹拌装置としてダブルヘリカル翼を具備した１０Ｌのステンレス製反応器に、ＢｉｓＰ－Ａ（２，４８９．９ｇ）及びＤＰＣ（２，５００ｇ）（各原料のｍｏｌ比率：ＢｉｓＰ－Ａ／ＤＰＣ＝１００／１０７）、ポリエーテル変性ポリオルガノシロキサンＰＤＭＳ－１を２８．２ｇ投入した。１５０℃にてこれらの原料モノマーを完全に溶融させた後、７０ｒｐｍで撹拌を開始し、反応器内部を窒素で置換した。次に、触媒として０．０１Ｎの水酸化ナトリウム１．６４ｍＬ（全ジオールモノマーｍｏｌ数に対し１．５×１０^-6倍量）を投入し、大気圧と同じ１０１ｋＰａの窒素圧を保持したまま、混合物の温度を２００℃にまで昇温させ、６０分間当該温度を保持した。続いて、反応器底部のバルブより内容物を抜き出し、液状で透明な原料混合物が得られた。加熱処理後の液状原料混合物の全光線透過率は９８．４、ヘイズ値は０．５であり、高い透明性を示した。

＜ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン（ＰＣ－ＰＯＳ）共重合体の製造＞
以下の原料と条件にて、ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を製造した。原料は、上記透明性評価をした原料と同一のものを用いるが、重合条件は以下の通りである。
撹拌装置、留出フェノールを捕捉するトラップ、減圧装置を具備した１０Ｌのステンレス製反応器に、ジオールモノマーとして、ＢｉｓＰ－Ａ（２，４８９．９ｇ）及びＤＰＣ（２，５００ｇ）（各原料のｍｏｌ比率：ＢｉｓＰ－Ａ／ＤＰＣ＝１００／１０７）、ポリエーテル変性ポリオルガノシロキサンＰＤＭＳ－１を２８．２ｇ投入し１５０℃にてこれらの原料モノマーを完全に溶融させ反応器内部を窒素で置換した。触媒として０．０１Ｎの水酸化ナトリウム１．６４ｍＬ（全ジオールモノマーｍｏｌ数に対し１．５×１０^-6倍量）を投入し重合を開始し、６０分程度かけて反応器温度１８０℃、減圧度２００ｍｍＨｇ（２６．６ｋＰａ）まで昇温・減圧しフェノール留出量が０．２Ｌとなるまで反応条件を保持した。その後６０分程度かけて反応器の内温２００℃、減圧度１０ｍｍＨｇ（１．３ｋＰａ）まで昇温・減圧し１．０Ｌのフェノールが留出するまで当該条件を保持した。
次に、１２０分程度かけて反応器の内温を２４０℃まで昇温しフェノールが１．５Ｌ留出するまで当該条件を保持した。続いて１２０分程度かけて反応器の内温を２８０℃、減圧度を１ｍｍＨｇ（０．１ｋＰａ）以下まで調整し、フェノールを２Ｌ以上留出させ、所定の撹拌トルクとなるまで反応を継続させた。その後、窒素で復圧し、失活剤としてｐ－トルエンスルホン酸ブチル０．０３７ｇ（ＮａＯＨのｍｏｌ数に対し１０倍量）を投入した。Ｉｒｇａｎｏｘ １０１０及びＩｒｇａｆｏｓ １６８をそれぞれ、得られるポリマー中の含量が１，５００ｐｐｍとなるよう投入し、十分撹拌した。その後、窒素圧力により反応器底部から樹脂ストランドを抜出しそれらをペレタイザでカットすることで透明性の高いペレット状のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を得た。得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体の評価結果を表２に示す。

実施例２
ジオールモノマーとしてＢｉｓＰ－Ａ（１２９３．３ｇ）及び１，４－ＣＨＤＭ（８１７．０ｇ）及びＤＰＣ（２，５００ｇ）（各原料のｍｏｌ比率：ＢｉｓＰ－Ａ／１，４－ＣＨＤＭ／ＤＰＣ＝５０／５０／１０３）、ポリエーテル変性ポリオルガノシロキサンＰＤＭＳ－１を２４．４ｇ用いたこと以外は実施例１と同様に、加熱処理後の原料混合物の透明性評価を行った。加熱処理後の液状原料混合物は高い透明性を有しており、全光線透過率は９８．５％、ヘイズ値は０．５であった。
ジオールモノマーとしてＢｉｓＰ－Ａ（１２９３．３ｇ）及び１，４－ＣＨＤＭ（８１７．０ｇ）及びＤＰＣ（２，５００ｇ）（各原料のｍｏｌ比率：ＢｉｓＰ－Ａ／１，４－ＣＨＤＭ／ＤＰＣ＝５０／５０／１０３）、ポリエーテル変性ポリオルガノシロキサンＰＤＭＳ－１を２４．４ｇ用いたこと以外は、実施例１と同様の条件で重合することにより、透明性の高いペレット状のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を得た。得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体の評価結果を表２に示す。

実施例３
＜加熱処理後の原料混合物の透明性評価＞
イソソルビド（ＩＳＢ）（１１９３．８ｇ）、１，４－ＣＨＤＭ（５０４．９ｇ）、ＤＰＣ（２，５００ｇ）（各原料のｍｏｌ比率：ＩＳＢ／１，４－ＣＨＤＭ／ＤＰＣ＝７０：３０：１００）、ポリエーテル変性ポリオルガノシロキサンＰＤＭＳ－１を２０．２ｇ使用した以外は、実施例１と同様に原料の加熱処理を行った。加熱処理後の液状原料混合物は高い透明性を有しており、全光線透過率は９９．５％、ヘイズ値は０．４であった。

＜ＰＣ－ＰＯＳ共重合体の製造＞
撹拌装置、留出フェノールを捕捉するトラップ、減圧装置を具備した１０Ｌのステンレス製反応器に、ジオールモノマーとして、ＩＳＢ（１１９３．８ｇ）、１，４－ＣＨＤＭ（５０４．９ｇ）、ＤＰＣ（２，５００ｇ）（各原料のｍｏｌ比率：ＩＳＢ／１，４－ＣＨＤＭ／ＤＰＣ＝７０：３０：１００）、ポリエーテル変性ポリオルガノシロキサンＰＤＭＳ－１を２０．２ｇ投入し１００℃にてこれらの原料モノマーを完全に溶融させ反応器内部を窒素で置換した。触媒として０．０１Ｎの水酸化ナトリウム１．６４ｍＬ（全ジオールモノマーｍｏｌ数に対し１．５×１０^-6倍量）を投入し重合を開始し、５０～１００分程度かけて反応器温度１８０℃、減圧度２００ｍｍＨｇ（２６．６ｋＰａ）まで昇温・減圧し、フェノール留出量が０．２Ｌとなるまで当該条件を保持した。その後１５０分程度かけて反応器の内温２００℃、減圧度１０ｍｍＨｇ（１．３ｋＰａ）まで昇温・減圧し、１．８Ｌのフェノールが留出するまで当該条件を保持した。
次に６０分程度かけて反応器の内温を２２０℃、減圧度を１ｍｍＨｇ（０．１ｋＰａ）以下まで調整し、フェノールを２Ｌ以上留出させ、所定の撹拌トルクとなるまで反応を継続させた。その後、窒素で復圧し、失活剤としてｐ－トルエンスルホン酸ブチル０．０３７ｇ（ＮａＯＨのｍｏｌ数に対し１０倍量）を投入した。Ｉｒｇａｎｏｘ １０１０及びＩｒｇａｆｏｓ １６８をそれぞれ、得られるポリマー中の含量が１，５００ｐｐｍとなるよう投入し、十分撹拌した。その後、窒素圧力により反応器底部から樹脂ストランドを抜出しそれらをペレタイザでカットすることにより、透明性の高いペレット状のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を得た。得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体の評価結果を表２に示す。

実施例４
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－２を２０．２ｇ使用した以外は実施例３と同様に、加熱処理後の原料混合物の透明性評価を行った。加熱処理後の液状原料混合物は高い透明性を有しており、全光線透過率は９８．４％、ヘイズ値は０．８であった。
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－２を２０．２ｇ使用した以外は、実施例３と同様の条件で重合することにより、透明性の高いペレット状のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を得た。得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体の評価結果を表２に示す。

実施例５
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－３を２０．２ｇ使用した以外は実施例３と同様に、加熱処理後の原料混合物の透明性評価を行った。加熱処理後の液状原料混合物は高い透明性を有しており、全光線透過率は９８．１％、ヘイズ値は１．３であった。
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－３を２０．２ｇ使用した以外は、実施例３と同様の条件で重合することにより、透明性の高いペレット状のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を得た。得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体の評価結果を表２に示す。

実施例６
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－４を２０．２ｇ使用した以外は実施例３と同様に、加熱処理後の原料混合物の透明性評価を行った。加熱処理後の液状原料混合物は高い透明性を有しており、全光線透過率は９７．９％、ヘイズ値は０．７であった。
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－４を２０．２ｇ使用した以外は、実施例３と同様の条件で重合することにより、透明性の高いペレット状のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を得た。得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体の評価結果を表２に示す。

実施例７
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－１を１０５．４ｇ使用した以外は実施例３と同様に、加熱処理後の原料混合物の透明性評価を行った。加熱処理後の液状原料混合物は高い透明性を有しており、全光線透過率は９７．５％、ヘイズ値は０．９であった。
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－１を１０５．４ｇ使用した以外は、実施例３と同様の条件で重合することにより、透明性の高いペレット状のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を得た。得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体の評価結果を表２に示す。

実施例８
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－１を２２２．５ｇ使用した以外は実施例３と同様に、加熱処理後の原料混合物の透明性評価を行った。加熱処理後の液状原料混合物は高い透明性を有しており、全光線透過率は９７．１％、ヘイズ値は１．１であった。
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－１を２２２．５ｇ使用した以外は、実施例３と同様の条件で重合することにより、透明性の高いペレット状のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を得た。得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体の評価結果を表２に示す。

実施例９
ジオールモノマーとして、ＩＳＢ（１１９３．８ｇ）、ＴＣＤＤＭ（６８７．２ｇ）、ＤＰＣ（２，５００ｇ）（各原料のｍｏｌ比率：ＩＳＢ／ＴＣＤＤＭ／ＤＰＣ＝７０：３０：１００）、ポリエーテル変性ポリオルガノシロキサンＰＤＭＳ－１を２２．１ｇ使用した以外は実施例３と同様に、加熱処理後の原料混合物の透明性評価を行った。加熱処理後の液状原料混合物は高い透明性を有しており、全光線透過率は９８．５％、ヘイズ値は０．４であった。
ジオールモノマーとして、ＩＳＢ（１１９３．８ｇ）、ＴＣＤＤＭ（６８７．２ｇ）、ＤＰＣ（２，５００ｇ）（各原料のｍｏｌ比率：ＩＳＢ／ＴＣＤＤＭ／ＤＰＣ＝７０：３０：１００）、ポリエーテル変性ポリオルガノシロキサンＰＤＭＳ－１を２２．１ｇ使用した以外は、実施例３と同様の条件で重合することにより、透明性の高いペレット状のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を得た。得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体の評価結果を表２に示す。

実施例１０
ジオールモノマーとして、ＩＳＢ（１１９３．８ｇ）、１，４－ＣＨＤＭ（４２０．７ｇ）、１，３－ＰＧ（４４．４ｇ）、ＤＰＣ（２，５００ｇ）（各原料のｍｏｌ比率：ＩＳＢ／１，４－ＣＨＤＭ／１，３－ＰＧ／ＤＰＣ＝７０：２５：５：１００）、ポリエーテル変性ポリオルガノシロキサンＰＤＭＳ－１を１９．８ｇ使用した以外は実施例３と同様に、加熱処理後の原料混合物の透明性評価を行った。加熱処理後の液状原料混合物は高い透明性を有しており、全光線透過率は９８．３％、ヘイズ値は０．４であった。
ジオールモノマーとして、ＩＳＢ（１１９３．８ｇ）、１，４－ＣＨＤＭ（４２０．７ｇ）、１，３－ＰＧ（４４．４ｇ）、ＤＰＣ（２，５００ｇ）（各原料のｍｏｌ比率：ＩＳＢ／１，４－ＣＨＤＭ／１，３－ＰＧ／ＤＰＣ＝７０：２５：５：１００）、ポリエーテル変性ポリオルガノシロキサンＰＤＭＳ－１を１９．８ｇ使用した以外は、実施例３と同様の条件で重合することにより、透明性の高いペレット状のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を得た。得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体の評価結果を表２に示す。

実施例１１
ジオールモノマーとして、ＩＳＢ（１１９３．８ｇ）、１，４－ＣＨＤＭ（５０４．９ｇ）、ＰＥＧ４００（９３．４ｇ）、ＤＰＣ（２，５００ｇ）［各原料のｍｏｌ比率：ＩＳＢ／１，４－ＣＨＤＭ／ＰＥＧ４００／ＤＰＣ＝７０：２８：２：１００（ＰＥＧ４００のｍｏｌ数は、使用した質量を平均分子量の４００で除した値を用いた）］、ポリエーテル変性ポリオルガノシロキサンＰＤＭＳ－１を２１．３ｇ使用した以外は実施例３と同様に、加熱処理後の原料混合物の透明性評価を行った。加熱処理後の液状原料混合物は高い透明性を有しており、全光線透過率は９８．３％、ヘイズ値は０．４であった。
ジオールモノマーとして、ＩＳＢ（１１９３．８ｇ）、１，４－ＣＨＤＭ（５０４．９ｇ）、ＰＥＧ４００（９３．４ｇ）、ＤＰＣ（２，５００ｇ）［各原料のｍｏｌ比率：ＩＳＢ／１，４－ＣＨＤＭ／ＰＥＧ４００／ＤＰＣ＝７０：２８：２：１００（ＰＥＧ４００のｍｏｌ数は、使用した質量を平均分子量の４００で除した値を用いた）］、ポリエーテル変性ポリオルガノシロキサンＰＤＭＳ－１を２１．３ｇ使用した以外は、実施例３と同様の条件で重合することにより、透明性の高いペレット状のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を得た。得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体の評価結果を表２に示す。

実施例１２
＜加熱処理後の原料混合物の透明性評価＞
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－８を１７９．７ｇ使用したこと以外は、実施例１と同様に、加熱処理後の原料混合物の透明性評価を行った。加熱処理後の液状原料混合物は高い透明性を有しており、全光線透過率は９０．８％、ヘイズ値は２．５であった。
＜ＰＣ－ＰＯＳ共重合体の製造＞
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－８を１７９．７ｇ使用したこと以外は、実施例１と同様の条件で重合することにより、透明性の高いペレット状のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を得た。得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体は、粘度平均分子量２０１００、ポリジメチルシロキサン含有率５．００質量％、全光線透過率３３．７％、ヘイズ値９７．０、ヘキサン抽出成分量６５３ｐｐｍ、［ＰＯＳ－Ｍｈ］／［ＰＯＳ－Ｍｌ］＝１．４７、シャルピー衝撃強度（ノッチ有）８１．０ｋＪ／ｍ^２であった。

実施例１３
＜加熱処理後の原料混合物の透明性評価＞
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－８を３１２．８ｇ使用したこと以外は、実施例１と同様に、加熱処理後の原料混合物の透明性評価を行った。加熱処理後の液状原料混合物は高い透明性を有しており、全光線透過率は８９．１％、ヘイズ値は２．６であった。
＜ＰＣ－ＰＯＳ共重合体の製造＞
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－８を３１２．８ｇ使用したこと以外は、実施例１と同様の条件で重合することにより、透明性の高いペレット状のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を得た。得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体は、粘度平均分子量２０１００、ポリジメチルシロキサン含有率８．３０質量％、全光線透過率２８．３％、ヘイズ値９８．１、ヘキサン抽出成分量７１４ｐｐｍ、［ＰＯＳ－Ｍｈ］／［ＰＯＳ－Ｍｌ］＝１．２３、シャルピー衝撃強度（ノッチ有）８５．０ｋＪ／ｍ^２であった。

実施例１４
＜加熱処理後の原料混合物の透明性評価＞
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－９を１７９．７ｇ使用したこと以外は、実施例１と同様に、加熱処理後の原料混合物の透明性評価を行った。加熱処理後の液状原料混合物は高い透明性を有しており、全光線透過率は９０．１％、ヘイズ値は２．０であった。
＜ＰＣ－ＰＯＳ共重合体の製造＞
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－９を１７９．７ｇ使用したこと以外は、実施例１と同様の条件で重合することにより、透明性の高いペレット状のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を得た。得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体は、粘度平均分子量２００００、ポリジメチルシロキサン含有率３．１０質量％、全光線透過率６２．０％、ヘイズ値８９．４、ヘキサン抽出成分量６６３ｐｐｍ、［ＰＯＳ－Ｍｈ］／［ＰＯＳ－Ｍｌ］＝１．１３、シャルピー衝撃強度（ノッチ有）７５．０ｋＪ／ｍ^２であった。

実施例１５
＜加熱処理後の原料混合物の透明性評価＞
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－１０を１７９．７ｇ使用したこと以外は、実施例１と同様に、加熱処理後の原料混合物の透明性評価を行った。加熱処理後の液状原料混合物は高い透明性を有しており、全光線透過率は９１．０％、ヘイズ値は１．３であった。
＜ＰＣ－ＰＯＳ共重合体の製造＞
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－１０を１７９．７ｇ使用したこと以外は、実施例１と同様の条件で重合することにより、透明性の高いペレット状のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を得た。得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体は、粘度平均分子量２０１５０、ポリジメチルシロキサン含有率０．９０質量％、全光線透過率８６．１％、ヘイズ値６．８、ヘキサン抽出成分量５８５ｐｐｍ、［ＰＯＳ－Ｍｈ］／［ＰＯＳ－Ｍｌ］＝１．０９、シャルピー衝撃強度（ノッチ有）７６．０ｋＪ／ｍ^２であった。

実施例１６
＜加熱処理後の原料混合物の透明性評価＞
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－１１を２８．２ｇ使用したこと以外は、実施例１と同様に、加熱処理後の原料混合物の透明性評価を行った。加熱処理後の液状原料混合物は高い透明性を有しており、全光線透過率は８９．９％、ヘイズ値は７．３であった。
＜ＰＣ－ＰＯＳ共重合体の製造＞
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－１１を２８．２ｇ使用したこと以外は、実施例１と同様の条件で重合することにより、透明性の高いペレット状のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を得た。得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体は、粘度平均分子量２０２００、ポリジメチルシロキサン含有率０．５３質量％、全光線透過率６５．１％、ヘイズ値８３．５、ヘキサン抽出成分量８３ｐｐｍ、［ＰＯＳ－Ｍｈ］／［ＰＯＳ－Ｍｌ］＝１．２０であった。

実施例１７
＜加熱処理後の原料混合物の透明性評価＞
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－１１を５７．１ｇ使用したこと以外は、実施例１と同様に、加熱処理後の原料混合物の透明性評価を行った。加熱処理後の液状原料混合物は高い透明性を有しており、全光線透過率は７８．６％、ヘイズ値は１２．０であった。
＜ＰＣ－ＰＯＳ共重合体の製造＞
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－１１を５７．１ｇ使用したこと以外は、実施例１と同様の条件で重合することにより、透明性の高いペレット状のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を得た。得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体は、粘度平均分子量２０１００、ポリジメチルシロキサン含有率１．１０質量％、全光線透過率４８．１％、ヘイズ値８７．５、ヘキサン抽出成分量１４３ｐｐｍ、［ＰＯＳ－Ｍｈ］／［ＰＯＳ－Ｍｌ］＝１．２３であった。

実施例１８
＜加熱処理後の原料混合物の透明性評価＞
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－１２を２８．２ｇ使用したこと以外は、実施例１と同様に、加熱処理後の原料混合物の透明性評価を行った。加熱処理後の液状原料混合物は高い透明性を有しており、全光線透過率は９７．９％、ヘイズ値は０．９であった。
＜ＰＣ－ＰＯＳ共重合体の製造＞
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－１２を２８．２ｇ使用したこと以外は、実施例１と同様の条件で重合することにより、透明性の高いペレット状のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を得た。得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体は、粘度平均分子量１９９００、ポリジメチルシロキサン含有率０．４５質量％、全光線透過率８１．０％、ヘイズ値１１．３、ヘキサン抽出成分量４９ｐｐｍ、［ＰＯＳ－Ｍｈ］／［ＰＯＳ－Ｍｌ］＝１．２０であった。

実施例１９
＜加熱処理後の原料混合物の透明性評価＞
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－１２を１７９．７ｇ使用したこと以外は、実施例１と同様に、加熱処理後の原料混合物の透明性評価を行った。加熱処理後の液状原料混合物は高い透明性を有しており、全光線透過率は９１．３％、ヘイズ値は２．１であった。
＜ＰＣ－ＰＯＳ共重合体の製造＞
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－１２を１７９．７ｇ使用したこと以外は、実施例１と同様の条件で重合することにより、透明性の高いペレット状のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を得た。得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体は、粘度平均分子量２０１００、ポリジメチルシロキサン含有率２．７０質量％、全光線透過率６１．０％、ヘイズ値８２．１、ヘキサン抽出成分量５５０ｐｐｍ、［ＰＯＳ－Ｍｈ］／［ＰＯＳ－Ｍｌ］＝１．４１であった。

実施例２０
＜加熱処理後の原料混合物の透明性評価＞
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－１３を２８．２ｇ使用したこと以外は、実施例１と同様に、加熱処理後の原料混合物の透明性評価を行った。加熱処理後の液状原料混合物は高い透明性を有しており、全光線透過率は９１．５％、ヘイズ値は８．５であった。
＜ＰＣ－ＰＯＳ共重合体の製造＞
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－１３を２８．２ｇ使用したこと以外は、実施例１と同様の条件で重合することにより、透明性の高いペレット状のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を得た。得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体は、粘度平均分子量２００５０、ポリジメチルシロキサン含有率０．４２質量％、全光線透過率６３．５％、ヘイズ値８１．２、ヘキサン抽出成分量７５ｐｐｍ、［ＰＯＳ－Ｍｈ］／［ＰＯＳ－Ｍｌ］＝１．２２であった。

実施例２１
＜加熱処理後の原料混合物の透明性評価＞
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－１４を２０．２ｇ使用したこと以外は、実施例３と同様に、加熱処理後の原料混合物の透明性評価を行った。加熱処理後の液状原料混合物は高い透明性を有しており、全光線透過率は９８．１％、ヘイズ値は１．０であった。
＜ＰＣ－ＰＯＳ共重合体の製造＞
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－１４を２０．２ｇ使用したこと以外は、実施例２と同様の条件で重合することにより、透明性の高いペレット状のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を得た。得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体は、粘度平均分子量１５０００、ポリジメチルシロキサン含有率０．６８質量％、全光線透過率６９．７％、ヘイズ値８４．０、ヘキサン抽出成分量５５ｐｐｍ、［ＰＯＳ－Ｍｈ］／［ＰＯＳ－Ｍｌ］＝１．３１であった。

実施例２２
＜加熱処理後の原料混合物の透明性評価＞
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－１を１９．７ｇ使用したこと以外は、実施例１と同様に、加熱処理後の原料混合物の透明性評価を行った。加熱処理後の液状原料混合物は高い透明性を有しており、全光線透過率は９９．２％、ヘイズ値は０．４であった。
＜ＰＣ－ＰＯＳ共重合体の製造＞
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－１を１９．７ｇ使用したこと以外は、実施例１と同様の条件で重合することにより、透明性の高いペレット状のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を得た。得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体は、粘度平均分子量１５６００、ポリジメチルシロキサン含有率０．４３質量％、全光線透過率８６．８％、ヘイズ値３．９、ヘキサン抽出成分量５５ｐｐｍ、［ＰＯＳ－Ｍｈ］／［ＰＯＳ－Ｍｌ］＝１．０９、シャルピー衝撃強度（ノッチ有）１９．５ｋＪ／ｍ^２であった。であった。

比較例１
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－５を２４．４ｇ使用した以外は実施例２と同様に、加熱処理後の原料混合物の透明性評価を行った。加熱処理後の液状原料混合物は白濁しており、全光線透過率は７８．５％、ヘイズ値は９３．２であった。
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－５を２４．４ｇ使用した以外は、実施例２と同様の条件で重合することにより、強く白濁したペレット状のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を得た。得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体の評価結果を表３に示す。

比較例２
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－５を２０．２ｇ使用した以外は実施例３と同様に、加熱処理後の原料混合物の透明性評価を行った。加熱処理後の液状原料混合物は白濁しており、全光線透過率は７９．１％、ヘイズ値は９２．１であった。
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－５を２０．２ｇ使用した以外は、実施例３と同様の条件で重合することにより、強く白濁したペレット状のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を得た。得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体の評価結果を表３に示す。

比較例３
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－５を１０５．４ｇ使用した以外は実施例３と同様に、加熱処理後の原料混合物の透明性評価を行った。加熱処理後の液状原料混合物は白濁しており、全光線透過率は６３．２％、ヘイズ値は９５．５であった。
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－５を１０５．４ｇ使用した以外は、実施例３と同様の条件で重合することで強く白濁したペレット状のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を得た。得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体の評価結果を表３に示す。

比較例４
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－６を２０．２ｇ使用した以外は実施例３と同様に、加熱処理後の原料混合物の透明性評価を行った。加熱処理後の液状原料混合物は白濁しており、全光線透過率は７９．５％、ヘイズ値は９３．１であった。
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－６を２０．２ｇ使用した以外は、実施例３と同様の条件で重合することにより、強く白濁したペレット状のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を得た。得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体の評価結果を表３に示す。

比較例５
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－７を２０．２ｇ使用した以外は実施例３と同様に、加熱処理後の原料混合物の透明性評価を行った。加熱処理後の液状原料混合物は白濁しており、全光線透過率は８１．１％、ヘイズ値は８８．９であった。
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－７を２０．２ｇ使用した以外は、実施例３と同様の条件で重合することにより、強く白濁したペレット状のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を得た。得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体の評価結果を表３に示す。

比較例６
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－５を２２．１ｇ使用した以外は実施例９と同様に、加熱処理後の原料混合物の透明性評価を行った。加熱処理後の液状原料混合物は白濁しており、全光線透過率は８０．１％、ヘイズ値は９０．１であった。
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－５を２２．１ｇ使用した以外は、実施例９と同様の条件で重合することにより、強く白濁したペレット状のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を得た。得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体の評価結果を表３に示す。

比較例７
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－５を１９．８ｇ使用した以外は実施例１０と同様に、加熱処理後の原料混合物の透明性評価を行った。加熱処理後の液状原料混合物は白濁しており、全光線透過率は７８．５％、ヘイズ値は８９．９であった。
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－５を１９．８ｇ使用した以外は、実施例１０と同様の条件で重合することにより、強く白濁したペレット状のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を得た。得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体の評価結果を表３に示す。

比較例８
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－５を２１．３ｇ使用したこと以外は実施例１１と同様に、加熱処理後の原料混合物の透明性評価を行った。加熱処理後の液状原料混合物は白濁しており、全光線透過率は７９．９％、ヘイズ値は８８．５であった。
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－５を２１．３ｇ使用したこと以外は、実施例１１と同様の条件で重合することにより、強く白濁したペレット状のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を得た。得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体の評価結果を表３に示す。

比較例９
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－５を１９．８ｇ使用した以外は実施例１と同様に、加熱処理後の原料混合物の透明性評価を行った。加熱処理後の液状原料混合物は白濁しており、全光線透過率は７８．１％、ヘイズ値は９４．５であった。
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－５を１９．８ｇ使用した以外は、実施例１と同様の条件で重合することにより、強く白濁したペレット状のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を得た。得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体は、粘度平均分子量１５１００、ポリジメチルシロキサン含有率０．６２質量％、全光線透過率５３．１％、ヘイズ値９８．５、ヘキサン抽出成分量１７５ｐｐｍ、［ＰＯＳ－Ｍｈ］／［ＰＯＳ－Ｍｌ］＝１．１、シャルピー衝撃強度（ノッチ有）１５．８ｋＪ／ｍ^２であった。

比較例１０
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－５を１７９．７ｇ使用した以外は実施例１と同様に、加熱処理後の原料混合物の透明性評価を行った。加熱処理後の液状原料混合物は白濁しており、全光線透過率は６５．１％、ヘイズ値は９７．５であった。
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－５を１７９．７ｇ使用した以外は、実施例１と同様の条件で重合することにより、強く白濁したペレット状のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を得た。得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体は、粘度平均分子量２００００、ポリジメチルシロキサン含有率５．３０質量％、全光線透過率１９．３％、ヘイズ値９９．６、ヘキサン抽出成分量１３５１ｐｐｍ、［ＰＯＳ－Ｍｈ］／［ＰＯＳ－Ｍｌ］＝１．４、シャルピー衝撃強度（ノッチ有）６１．０ｋＪ／ｍ^２であった。

比較例１１
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－７を１７９．７ｇ使用した以外は実施例１と同様に、加熱処理後の原料混合物の透明性評価を行った。加熱処理後の液状原料混合物は白濁しており、全光線透過率は６６．５％、ヘイズ値は９６．２であった。
ポリオルガノシロキサンとしてＰＤＭＳ－７を１７９．７ｇ使用した以外は、実施例１と同様の条件で重合することにより、強く白濁したペレット状のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を得た。得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体は、粘度平均分子量２０１００、ポリジメチルシロキサン含有率５．５０質量％、全光線透過率１７．５％、ヘイズ値９９．５、ヘキサン抽出成分量１４１６ｐｐｍ、［ＰＯＳ－Ｍｈ］／［ＰＯＳ－Ｍｌ］＝１．３、シャルピー衝撃強度（ノッチ有）６１．０ｋＪ／ｍ^２であった。

Claims (18)

1. 下記一般式（１’）で表される構造単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－１）と、下記一般式（２）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ－２）とを含み、以下の条件（Ａ）又は（Ｂ）を満たす、ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体：
   条件（Ａ）：前記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体のヘキサン抽出量が１５０質量ｐｐｍ以下、
   条件（Ｂ）：前記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体をゲル浸透クロマトグラフにより分離して得られるポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体に含まれるポリオルガノシロキサンブロックの平均重量が下式（Ｂ１）を満たす。
   
   ［式（Ｂ１）中、［ＰＯＳ－Ｍｈ］は、ゲル浸透クロマトグラフを用いて、保持時間範囲Ｔ１～Ｔ２に相当する成分を分取して得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体に含まれるポリオルガノシロキサンブロックの平均重量を示す。［ＰＯＳ－Ｍｌ］は、ゲル浸透クロマトグラフを用いて、保持時間Ｔ２～Ｔ３の間を分取して得られたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体に含まれるポリオルガノシロキサンブロックの平均重量を表す。
   Ｔ１：Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０１、Ｍｗ＝９８，９００の標準ポリスチレンのゲル浸透クロマトグラムにおけるピークトップが位置する保持時間
   Ｔ２：Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０１、Ｍｗ＝１３，７００の標準ポリスチレンのゲル浸透クロマトグラムにおけるピークトップが位置する保持時間
   Ｔ３：Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３、Ｍｗ＝３，１２０の標準ポリスチレンのゲル浸透クロマトグラムにおけるピークトップが位置する保持時間］
   
   ［式中、Ｒ¹～Ｒ⁴は同一か又は異なっていてもよく、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数６～１２のアリール基又はアルキル基部位の炭素数が１～１０であるアルキルアリール基を示す。Ｒ⁶は炭素数６～２０のアリーレン基、炭素数１～１０のアルキレン基又はアルキル基部位の炭素数が１～１０であるアルキルアリーレン基を示し、官能基として、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－ＮＲ¹¹¹－を含んでよい。複数のＲ ⁸ は同一か又は異なっていてもよく、それぞれ互いに独立して、炭素数６～２０のアリーレン基、炭素数２～１０のアルキレン基、炭素数３～１０の分岐アルキレン基又はアルキル基部位の炭素数が１～１０であるアルキルアリーレン基を示し、官能基として、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－ＮＲ ¹¹¹ －を含んでよい。Ｒ¹¹¹は炭素数１～１０のアルキル基又は炭素数６～１０のアリール基を示す。ｚは１を示す。ｂは５～２００の整数を示す。ａは２～５００の整数を示す。Ｒ¹⁰は炭素数２～４０の二価の脂肪族炭化水素基若しくは炭素数３～４０の二価の脂環式炭化水素基、又は炭素数６～２０の二価の芳香族炭化水素基を示し、置換基によって置換されていてもよい。前記二価の脂肪族炭化水素基、前記二価の脂環式炭化水素基又は前記二価の芳香族炭化水素基は、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子から選ばれる少なくとも１つのヘテロ原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子から選ばれる少なくとも１つのハロゲン原子を含んでもよい。ｙは１０～５００の整数を示す。］
2. 前記ポリカーボネートブロック（Ａ－２）が、下記一般式（１１１）で表される構造及び下記一般式（１１２）で表される構造を有する、請求項１に記載のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体。
   
   ［式中、Ｒ⁵⁵及びＲ⁵⁶はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基又は炭素数１～６のアルコキシ基を示す。Ｘは、単結合、炭素数１～８のアルキレン基、炭素数２～８のアルキリデン基、炭素数５～１５のシクロアルキレン基、炭素数５～１５のシクロアルキリデン基、フルオレンジイル基、炭素数７～１５のアリールアルキレン基、炭素数７～１５のアリールアルキリデン基、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ₂－、－Ｏ－又は－ＣＯ－を示す。Ｒ¹⁰⁰は炭素数２～４０の二価の脂肪族炭化水素基を示し、分岐構造や環状構造を含んでもよい。Ｒ¹⁰⁰は酸素原子、窒素原子及び硫黄原子から選ばれる少なくとも１つのヘテロ原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子から選ばれる少なくとも１つのハロゲン原子を含んでもよい。ｙは１０～５００の整数を示す。ｓ及びｔはそれぞれ独立して、０～４の整数を示す。］
3. 前記一般式（２）で表されるポリカーボネートブロック（Ａ－２）が、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３－メチルフェニル）プロパン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－３－メチルシクロヘキサン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン及び１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロドデセンからなる群から選択される芳香族ビスフェノールから誘導される構造単位、又はイソソルビド、シクロヘキサン－１，４－ジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、３，９－ビス（１，１－ジメチル－２－ヒドロキシエチル）－２，４，８，１０－テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、１，３－プロパンジオール及び１，４－ブタンジオールからなる群から選択される脂肪族ジオールから誘導される構造単位を含む、請求項１又は２に記載のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体。
4. 前記ポリカーボネートブロック（Ａ－２）が、下記一般式（ａ－ｉ）～（ａ－ｖ）で表される繰り返し単位からなる群より選ばれる一つ以上を有する、請求項１～３のいずれか一項に記載のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体。
   
5. 前記一般式（１’）において、ａが２以上３００以下の整数である、請求項１～４のいずれか一項に記載のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体。
6. 前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ａ－１）が、下記一般式（１－１）～（１－３）で表される構造単位からなる群から選択される少なくとも１つを含む、請求項１～５のいずれか一項に記載のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体。
   
   ［式中、Ｒ¹～Ｒ⁴、Ｒ⁶、Ｒ⁸、ｚ、ａ、ｂは上記した通りである。Ｒ⁵は炭素数６～２０のアリーレン基、炭素数１～１０のアルキレン基又はアルキル基部位の炭素数が１～１０であるアルキルアリーレン基を示し、官能基として、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－ＮＲ¹¹¹－を含んでよい。Ｒ⁷は炭素数６～２０のアリーレン基、炭素数２～１０のアルキレン基、炭素数３～１０の分岐アルキレン基又はアルキル基部位の炭素数が１～１０であるアルキルアリーレン基を示し、官能基として、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－ＮＲ¹¹¹－を含んでよい。Ｒ¹¹¹は炭素数１～１０のアルキル基又は炭素数６～１０のアリール基を示す。ｚ１は０又は１を示す。ｂ１は２～２００の整数を示す。βは、ジイソシアネート化合物由来の２価の基、又はジカルボン酸若しくはジカルボン酸のハロゲン化物由来の２価の基を示す。］
7. 前記一般式（１’）において、Ｒ¹～Ｒ⁴がすべてメチル基を示す、請求項１～６のいずれか一項に記載のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体。
8. 前記一般式（１’）において、Ｒ⁶がトリメチレン基（－（ＣＨ₂）₃－）である、請求項１～７のいずれか一項に記載のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体。
9. 前記一般式（１’）において、Ｒ⁸がジメチレン基（－（ＣＨ₂）₂－）、メチル置換ジメチレン基（－ＣＨ₂ＣＨＭｅ－）、トリメチレン基（－（ＣＨ₂）₃－）、及びテトラメチレン基（－（ＣＨ₂）₄－）からなる群の中から選択されるいずれかの構造である、請求項１～８のいずれか一項に記載のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体。
10. 前記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体における、一般式（１’）で示されるポリオルガノシロキサンブロックの含有率が０．１質量％以上６０質量％以下である、請求項１～９のいずれか一項に記載のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体。
11. 粘度平均分子量（Ｍｖ）が５，０００以上５０，０００以下である、請求項１～１０のいずれか一項に記載のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体。
12. 前記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を成形して得られる１ｍｍ厚プレートのＩＳＯ １４７８２：１９９９に準拠して測定されるヘイズ値が４０以下である、請求項１～１１のいずれか一項に記載のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体。
13. ジオールモノマー（ａ１）を用いて得られる、請求項１～１２のいずれか一項に記載のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体。
14. 請求項１～１３のいずれか一項に記載のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を含む、ポリカーボネート系樹脂組成物。
15. 無機フィラーを更に含む、請求項１４に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
16. 前記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体１００質量部に対して、前記無機フィラーを１～１５０質量部含む、請求項１５に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
17. 前記無機フィラーが、ガラス繊維又は炭素繊維である、請求項１５又は１６に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
18. 請求項１４～１７のいずれか一項に記載のポリカーボネート系樹脂組成物からなる、成形体。