JP7650408B2 - 金属酸化合物含有液、及びその製造方法 - Google Patents

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Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006182714A (ja) 2004-12-28 2006-07-13 Tohoku Univ 有機タンタル水溶液および乳酸タンタルペルオキシ化合物結晶の製造方法
JP2007005161A (ja) 2005-06-24 2007-01-11 Kao Corp 強誘電体及びその製造方法、並びに、それを用いた強誘電体デバイス
JP2008044833A (ja) 2006-07-13 2008-02-28 Hc Starck Gmbh ナノサイズないしマイクロサイズの粒子を製造するための水熱法
JP2018127392A (ja) 2017-02-10 2018-08-16 多木化学株式会社 ニオブ酸オルガノゾルおよびその製造方法
WO2022018980A1 (ja) 2020-07-22 2022-01-27 三井金属鉱業株式会社 タンタル酸分散液及びタンタル酸化合物
JP2022033912A (ja) 2020-02-14 2022-03-02 三井金属鉱業株式会社 ニオブ酸水溶液
WO2023171020A1 (ja) 2022-03-11 2023-09-14 三井金属鉱業株式会社 タンタル酸化合物分散液およびその製造方法

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS573717A (en) * 1980-06-03 1982-01-09 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd Precipitation of tantalum or niobium compound

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006182714A (ja) 2004-12-28 2006-07-13 Tohoku Univ 有機タンタル水溶液および乳酸タンタルペルオキシ化合物結晶の製造方法
JP2007005161A (ja) 2005-06-24 2007-01-11 Kao Corp 強誘電体及びその製造方法、並びに、それを用いた強誘電体デバイス
JP2008044833A (ja) 2006-07-13 2008-02-28 Hc Starck Gmbh ナノサイズないしマイクロサイズの粒子を製造するための水熱法
JP2018127392A (ja) 2017-02-10 2018-08-16 多木化学株式会社 ニオブ酸オルガノゾルおよびその製造方法
JP2022033912A (ja) 2020-02-14 2022-03-02 三井金属鉱業株式会社 ニオブ酸水溶液
WO2022018980A1 (ja) 2020-07-22 2022-01-27 三井金属鉱業株式会社 タンタル酸分散液及びタンタル酸化合物
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