WO2023171020A1 - タンタル酸化合物分散液およびその製造方法 - Google Patents

タンタル酸化合物分散液およびその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2023171020A1
WO2023171020A1 PCT/JP2022/039739 JP2022039739W WO2023171020A1 WO 2023171020 A1 WO2023171020 A1 WO 2023171020A1 JP 2022039739 W JP2022039739 W JP 2022039739W WO 2023171020 A1 WO2023171020 A1 WO 2023171020A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
acid compound
tantalic acid
tantalum
compound dispersion
mass
Prior art date
Application number
PCT/JP2022/039739
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
泰輝 荒川
佐藤 理子 関
周平 原
Original Assignee
三井金属鉱業株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 三井金属鉱業株式会社 filed Critical 三井金属鉱業株式会社
Priority to JP2023555568A priority Critical patent/JPWO2023171020A1/ja
Publication of WO2023171020A1 publication Critical patent/WO2023171020A1/ja

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01GCOMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G35/00Compounds of tantalum
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E60/00Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
    • Y02E60/10Energy storage using batteries

Definitions

  • the present invention relates to a tantalic acid compound dispersion and a method for producing the same.
  • Tantalum acid compounds are used in materials such as optoelectronics and catalysts.
  • Patent Document 1 discloses tantalum oxide sol as a tantalum acid compound that is used as a coating agent for the surfaces of various parts and is composed of uniform particles and can be stored for a long period of time. Furthermore, tantalic acid compounds, especially lithium tantalate, have excellent optical properties, nonlinear properties, and electro-optic properties, and are used in piezoelectric elements and the like.
  • Patent Document 2 discloses composite active material particles that can reduce battery resistance that occurs in all-solid-state lithium ion batteries. Lithium tantalate is listed together with lithium niobate as one of the lithium ion conductive oxides that coat at least a portion of the surface of the composite active material particles.
  • the tantalum oxide sol disclosed in Patent Document 1 contains organic components that are difficult to volatilize, such as oxalic acid, the organic components hinder the formation of a uniform film, so it is not used as an additive for catalysts. In this case, it may become a factor that inhibits the catalytic action. Furthermore, compared to lithium niobate, lithium tantalate has poor dispersibility and solubility in water, and tends to form precipitates due to changes over time. The lithium tantalate produced using the method had low dispersibility in water, poor solubility in water, and did not have excellent storage stability.
  • the present invention provides a tantalic acid compound dispersion having high dispersibility in polar solvents, especially water, good solubility in water, and excellent storage stability, and a method for producing the same. It is.
  • the tantalic acid compound dispersion liquid of the present invention which was made to solve the above problems, is a tantalic acid compound dispersion liquid containing tantalum in an amount of 0.1% by mass or more and less than 30% by mass in terms of Ta 2 O 5 , and which has a dynamic It is characterized in that the tantalic acid compound particle diameter (D50) in the tantalic acid compound dispersion liquid measured by a light scattering method is 100 nm or less.
  • the tantalic acid compound dispersion of the present invention preferably contains tantalum in an amount of 0.1% by mass or more and less than 30% by mass in terms of Ta 2 O 5 because the dispersibility and solubility in polar solvents, especially water, is improved.
  • the content of the tantalic acid compound dispersion of the present invention is more preferably 0.5% by mass or more, and even more preferably 1% by mass or more.
  • the content of the tantalic acid compound dispersion of the present invention is more preferably 25% by mass or less, and even more preferably 20% by mass or less.
  • the tantalum concentration in the tantalum acid compound dispersion liquid is determined by appropriately diluting the dispersion liquid with dilute hydrochloric acid as necessary and using ICP emission spectrometry (manufactured by Agilent Technologies: AG-5110) according to JIS K0116: The weight fraction of Ta in terms of tantalum oxide (Ta 2 O 5 ) is measured and calculated in accordance with 2014. Note that tantalic acid in the tantalic acid compound dispersion of the present invention does not necessarily exist in the Ta 2 O 5 state. The content of tantalic acid is expressed in terms of Ta 2 O 5 based on the convention for expressing tantalum concentration.
  • the tantalic acid compound in the tantalic acid compound dispersion of the present invention is contained in the dispersion as an ion in which tantalic acid is ionically bonded to an organic nitrogen compound, an alkali metal, or an alkaline earth metal, which will be described later. It is assumed that it exists in In the tantalic acid compound dispersion of the present invention, while hydroxide ions exist as anions, halide ions such as fluoride ions and chloride ions are hardly present, and organic nitrogen compounds and alkali metals are cationic.
  • tantalum exists as an ion, it is thought that tantalum exists as an anion such as TaO 3 - or a polyoxometalate (polyacid) ion in which a plurality of tantalum atoms and oxygen atoms are bonded.
  • the tantalic acid compound dispersion of the present invention also contains an ionized alkaline aqueous solution, such as ammonia.
  • an ionized alkaline aqueous solution such as ammonia.
  • the tantalic acid compound dispersion of the present invention is produced after producing a tantalic acid-containing precipitate as a slurry, for example, a hydrous ammonium tantalate cake, ammonia contains ammonium ions and is present in the dispersion as a cation. It is thought that there are
  • the concentration of ammonia present in the dispersion can be measured by adding sodium hydroxide to the dispersion, separating the ammonia by distillation, and quantifying the ammonia concentration using an ion meter.
  • concentration can be measured by adding sodium hydroxide to the dispersion, separating the ammonia by distillation, and quantifying the ammonia concentration using an ion meter.
  • Examples include methods of quantifying with a thermal conductivity meter, Kjeldahl method, gas chromatography (GC), ion chromatography, and gas chromatography-mass spectrometry (GC-MS). In particular, a method of quantifying ammonia concentration using an ion meter is preferred.
  • the particle diameter (D50) of the tantalic acid compound in the tantalic acid compound dispersion determined by the dynamic light scattering method is 100 nm or less, the dispersibility is high, the change over time is small, and the particle size is stable, and there is no reaction with other substances. It is preferable from the viewpoint of reactivity during composite formation and film uniformity during film formation. Further, the tantalic acid compound particle size (D50) is preferably smaller, more preferably 50 nm or less, even more preferably 30 nm or less, particularly preferably 20 nm or less, and 10 nm or less.
  • the thickness is 1 nm or less, even more preferably 1 nm or less, and even more particularly preferably 0.6 nm or less.
  • the tantalic acid compound particle diameter (D50) in the tantalic acid compound dispersion of the present invention is 100 nm or less as measured using a dynamic light scattering method. This liquid is referred to as the "tantalic acid compound dispersion" of the present invention.
  • the dynamic light scattering method measures the light scattering intensity from a group of particles undergoing Brownian motion by irradiating a solution such as a suspended solution with light such as a laser beam, and calculates the temporal fluctuation of the intensity.
  • This is a method to determine particle size and distribution.
  • the particle size distribution was evaluated using a zeta potential/particle size/molecular weight measuring system (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.: ELSZ-2000) according to JIS Z 8828:2019 "Particle size analysis - dynamic light scattering. Implemented in accordance with the Act. In addition, in order to remove dust, etc.
  • the solution was filtered through a filter with a pore size of 1 ⁇ m, and the solution was heated at 28 kHz for 3 minutes using an ultrasonic cleaner (VS-100III manufactured by As One). Perform ultrasonic treatment.
  • the particle diameter (D50) refers to the median diameter (D50), which is a particle diameter that indicates a 50% integrated value of an integrated distribution curve.
  • dispersion liquid in the present invention is not limited to one in which a solute is dispersed or mixed in a single molecule state in a solvent, but is also an aggregate in which a plurality of molecules are attracted to each other due to intermolecular interactions, such as ( It also includes those in which 1) multimer molecules, (2) solvated molecules, (3) molecular clusters, (4) colloidal particles, etc. are dispersed in a solvent.
  • the tantalic acid compound dispersion of the present invention is characterized by containing an organic nitrogen compound. It is presumed that the tantalic acid in the tantalic acid compound dispersion of the present invention exists in the dispersion as an ion in a state of ionically bonding with an organic nitrogen compound.
  • examples of the organic nitrogen compound include aliphatic amines, aromatic amines, amino alcohols, amino acids, polyamines, quaternary ammonium, guanidine compounds, and azole compounds.
  • aliphatic amines include methylamine, dimethylamine, trimethylamine, ethylamine, methylethylamine, diethylamine, triethylamine, methyldiethylamine, dimethylethylamine, n-propylamine, di-n-propylamine, tri-n-propylamine, iso- Propylamine, diiso-propylamine, triiso-propylamine, n-butylamine, di-n-butylamine, tri-n-butylamine, iso-butylamine, diiso-butylamine, triiso-butylamine and tert-butylamine, n-pentaamine , n-hexylamine, cyclohexylamine, piperidine and the like.
  • aromatic amines examples include aniline, phenylenediamine, diaminotoluene, and the like.
  • the amino alcohol includes, for example, methanolamine, ethanolamine, propanolamine, butanolamine, pentanolamine, dimethanolamine, diethanolamine, trimethanolamine, methylmethanolamine, methylethanolamine, methylpropanolamine, methylbutanolamine.
  • ethylmethanolamine, ethylethanolamine, ethylpropanolamine dimethylmethanolamine, dimethylethanolamine, dimethylpropanolamine, methyldimethanolamine, methyldiethanolamine, diethylmethanolamine, trishydroxymethylaminomethane, bis(2-hydroxyethyl)
  • aminotris(hydroxymethyl)methane and aminophenol.
  • amino acids include alanine, arginine, aspartic acid, and EDTA.
  • examples of the polyamine include polyamine, polyether amine, and the like.
  • Examples of quaternary ammonium include alkylimidazolium, pyridinium, pyrrolidium, and tetraalkylammonium.
  • alkylimidazolium include 1-methyl-3-methylimidazolium, 1-ethyl-3-methylimidazolium, 1-propyl-3-methylimidazolium, and 1-butyl-3-methylimidazolium.
  • pyridinium and pyrrolidium include N-butyl-pyridinium, N-ethyl-3-methyl-pyridinium, N-butyl-3-methyl-pyridinium, N-hexyl-4-(dimethylamino)-pyridinium, Examples include N-methyl-1-methylpyrrolidinium and N-butyl-1-methylpyrrolidinium.
  • tetraalkylammonium include tetramethylammonium, tetraethylammonium, tetrabutylammonium, and ethyl-dimethyl-propylammonium.
  • examples of anions that form salts with the above-mentioned cations include OH ⁇ , Cl ⁇ , Br ⁇ , I ⁇ , BF 4 ⁇ , HSO 4 ⁇ and the like.
  • examples of the guanidine compound include guanidine, diphenylguanidine, and ditolylguanidine.
  • examples of the azole compound include imidazole compounds and triazole compounds.
  • specific examples of the imidazole compound include imidazole, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, and the like.
  • Specific examples of triazole compounds include 1,2,4-triazole, methyl 1,2,4-triazole-3-carboxylate, and 1,2,3-benzotriazole.
  • the organic nitrogen compound is preferably an aliphatic amine because it has high volatility and low toxicity.
  • an aliphatic amine having 1 to 4 carbon atoms is more preferable, and an aliphatic amine having 1 to 2 carbon atoms is particularly preferable.
  • Examples include methylamine, dimethylamine, and the like.
  • the organic nitrogen compound is quaternary ammonium because it not only has high solubility but also has high crystallization inhibition and high solization inhibition.
  • tetraalkylammonium salts are preferred, tetraalkylammonium hydroxide salts are more preferred, tetramethylammonium hydroxide and tetraethylammonium are particularly preferred, and tetramethylammonium hydroxide (TMAH) is also particularly preferred.
  • the organic nitrogen compound is not a single type selected from aliphatic amines, aromatic amines, amino alcohols, amino acids, polyamines, quaternary ammoniums, guanidine compounds, and azole compounds, but a mixture of two or more types. Good too. For example, a mixture of two types, aliphatic amine and quaternary ammonium, is preferable because it can increase solubility while suppressing the amount added so as not to increase toxicity.
  • mixtures of two types of organic nitrogen compounds such as methylamine and tetramethylammonium hydroxide (TMAH), dimethylamine and tetramethylammonium hydroxide (TMAH), methylamine and dimethylamine, and methyl
  • TMAH methylamine and tetramethylammonium hydroxide
  • examples include mixtures of three organic nitrogen compounds such as amine, dimethylamine, and tetramethylammonium hydroxide (TMAH).
  • the concentration of organic nitrogen compounds present in the tantalic acid compound dispersion of the present invention can be measured by gas chromatography (GC), liquid chromatography (LC), mass spectrometry (MS), gas chromatography/mass spectrometry (GC-MS), liquid chromatography/mass spectrometry (LC-MS), etc.
  • GC gas chromatography
  • LC liquid chromatography
  • MS mass spectrometry
  • GC-MS gas chromatography/mass spectrometry
  • LC-MS liquid chromatography/mass spectrometry
  • LC-MS liquid chromatography/mass spectrometry
  • the tantalic acid compound dispersion of the present invention is characterized in that it contains one or more elements M selected from the group consisting of alkali metal elements or alkaline earth metal elements. Furthermore, it is preferable that the element M is Li.
  • the tantalic acid in the tantalic acid compound dispersion of the present invention is present in the dispersion as ions in a state of ionically bonding with ions of one or more elements M selected from the group consisting of alkali metal elements or alkaline earth metal elements. I assume that it exists inside. Furthermore, it is preferable that the element M is Li.
  • the element M is not limited to only one type of alkali metal element, Li, but also two types of alkali metal elements, Li and Na, or K, or three types of alkali metal elements, Li, Na, and K.
  • it is a metal element.
  • the element M may be one type of alkali metal element, Na or K, or two types of alkali metal elements, Na and K.
  • the tantalic acid compound dispersion liquid of the present invention is characterized in that the tantalic acid concentration in the tantalic acid compound dispersion liquid is 0.1% by mass or more and 15% by mass or less in terms of Ta 2 O 5 . It is preferable that the tantalic acid concentration in the tantalic acid compound dispersion is 0.1% by mass or more and 15% by mass or less in terms of Ta 2 O 5 from the viewpoint of achieving both practicality and stability of the lithium tantalate dispersion.
  • more preferably 1% by mass or more and 15% by mass or less in terms of Ta 2 O 5 even more preferably 3% by mass or more and 10% by mass or less in terms of Ta 2 O 5, and 5 % by mass in terms of Ta 2 O 5 % or more and 10% by mass or less is particularly preferable.
  • the tantalic acid concentration in the tantalic acid compound dispersion is determined by appropriately diluting the dispersion with diluted hydrochloric acid as necessary, and using ICP emission spectrometry (AG-5110, manufactured by Agilent Technologies). Calculated by measuring the Ta weight fraction in terms of Ta 2 O 5 in accordance with 2014. By expressing the tantalic acid concentration in the tantalic acid compound dispersion of the present invention in terms of Ta 2 O 5 , multiple oxide states of tantalum can be determined at once.
  • the lithium concentration may be It may be calculated by measuring the Li weight fraction in terms of Li.
  • the molar ratio of lithium (Li) and tantalum (Ta) of lithium tantalate contained in the tantalic acid compound dispersion of the present invention is determined. Li/Ta can be specified.
  • the tantalic acid concentration in the tantalic acid compound dispersion of the present invention can also be expressed in terms of Ta.
  • the above tantalic acid concentration expressed in terms of Ta is as follows. It is preferable that the tantalic acid concentration in the tantalic acid compound dispersion is 0.08% by mass or more and 12.3% by mass or less in terms of Ta, from the viewpoint of achieving both practicality and stability of the lithium tantalate dispersion. Further, it is more preferably 0.8% by mass or more and 12.3% by mass or less in terms of Ta, even more preferably 2.4% by mass or more and 8.2% by mass or less in terms of Ta, and 4.1% by mass in terms of Ta. % or more and 8.2% by mass or less is particularly preferable.
  • the molar ratio Li/Ta of lithium (Li) and tantalum (Ta) of lithium tantalate contained in the tantalic acid compound dispersion is 0.8 or more and 1.5 or less. It is preferable to have one.
  • the molar ratio Li/Ta of lithium (Li) and tantalum (Ta) of lithium tantalate contained in the tantalic acid compound dispersion is 0.8 or more and 1.5 or less, the dispersibility and solubility in water is low. It is preferable in terms of improvement, more preferably 0.8 or more and 1.3 or less, further preferably 0.9 or more and 1.2 or less, and particularly preferably 0.9 or more and 1.1 or less.
  • the ammonia concentration in the tantalate compound dispersion of the present invention containing lithium tantalate may be any concentration.
  • the ammonia concentration may be more than 0% by mass and not more than 10% by mass, not less than 0.001% by mass and not more than 10% by mass, and not less than 0.003% by mass and not more than 5% by mass.
  • the tantalic acid compound dispersion of the present invention does not contain an organic acid. Since the tantalic acid compound dispersion of the present invention does not contain an organic acid, the polyacid ions contained in the tantalic acid compound dispersion are stabilized.
  • the tantalic acid compound dispersion of the present invention is characterized in that it is an aqueous dispersion. Since the tantalic acid compound in the tantalic acid compound dispersion of the present invention has high dispersibility in water and good solubility in water, pure water can be used as a solvent.
  • An organic solvent may be used as the solvent. Examples of the organic solvent include alcohol solvents, ketone solvents, ether solvents, ester solvents, aromatic hydrocarbon solvents, aliphatic hydrocarbon solvents, etc., and a mixture of these organic solvents and pure water may be used. .
  • alcohol solvent examples include alcohols having 5 or less carbon atoms (methanol, ethanol, n-propanol, isopropyl alcohol, butanol, ethylene glycol, propylene glycol, glycerin), acetone, and the like.
  • the tantalic acid compound dispersion liquid of the present invention is characterized in that the tantalic acid compound dispersion liquid has a pH of more than 7. It is preferable that the pH of the tantalic acid compound dispersion of the present invention is more than 7 because the polyacid ions contained in the dispersion are stabilized. Further, the pH of the tantalic acid compound dispersion of the present invention is more preferably 8 or higher, further preferably 9 or higher, particularly preferably 10 or higher, still particularly preferably 11 or higher, and 12 or higher. It's okay. In addition, it is preferable that an organic acid is not contained in the tantalic acid compound dispersion of the present invention, since if an organic acid is contained therein, the pH will be lowered.
  • the pH of the tantalic acid compound dispersions of the present invention is preferably 10.0 to 14.1.
  • the tantalic acid compound dispersions containing one or more elements M selected from the group consisting of alkali metal elements or alkaline earth metal elements have a pH of 11 to 10. It is suitable that it is 13.
  • the electrode of a pH meter manufactured by HORIBA: glass electrode type hydrogen ion concentration indicator D-51 (manufactured by HORIBA: After immersing the standard ToupH electrode (9615S-10D) and confirming that the liquid temperature has stabilized at 25°C, carry out the test.
  • the tantalic acid compound dispersion of the present invention may contain as an additive an element that does not constitute the tantalic acid compound contained in the tantalic acid compound dispersion of the present invention, or a compound thereof.
  • the additives include Li, Na, Mg, Al, Si, K, Ca, Ti, V, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Sr, Zr, Nb, Mo, Sn, Ba, La, W.
  • Examples include elements or compounds such as.
  • examples of the compound include oxides, alkali metal salts of metal acids, alkaline earth metal salts of metal acids, chlorides, metal acid alkoxides, polyoxometalates, and the like.
  • the content of the additive in the tantalic acid compound dispersion of the present invention is the total content mol of each element as an additive with respect to tantalum (Ta), where X is the total mol number of each element as an additive.
  • the molar ratio X/Ta of the number (X) may be 0.001 to 75, may be 0.002 to 50, may be 0.01 to 40, and may be 0.2 to 30.
  • the tantalic acid compound dispersion of the present invention is a uniform dispersion, even if these compounds are in a suspended state, improvement in uniformity and reactivity (reaction rate) can be expected. It is. Furthermore, if these compounds are dissolved in the tantalic acid compound dispersion of the present invention to form a uniform dispersion, the complexing element can be brought into a state where it has the best reactivity.
  • the tantalic acid compound dispersion of the present invention may contain components other than components derived from tantalum or tantalic acid, ammonia, organic nitrogen compounds, and components derived from element M ("other components") within a range that does not impair its effects. ) may be included.
  • Other components include, for example, Li, Na, Mg, Al, Si, K, Ca, Ti, V, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Sr, Zr, Nb, Mo, Sn, Ba, La, Examples include W. However, it is not limited to these.
  • the content of other components is preferably 5% by mass or less, more preferably 4% by mass or less, and 3% by mass or less. and even more preferable. Note that it is assumed that the tantalic acid compound dispersion of the present invention contains unavoidable impurities, which are not intended. The content of unavoidable impurities is preferably 0.01% by mass or less.
  • the tantalic acid compound powder of the present invention is characterized by containing the tantalic acid compound in the tantalic acid compound dispersion of the present invention described above.
  • the tantalic acid compound powder of the present invention includes a dry powder obtained by drying, for example, vacuum drying, the tantalic acid compound dispersion of the present invention, and a fired powder obtained by baking the obtained dry powder.
  • the tantalic acid compound powder of the present invention includes tantalic acid compound powder having different physical properties such as crystal structure, which is produced by vacuum drying or baking the tantalic acid compound dispersion of the present invention, and has an amorphous structure. It may have a single crystal structure, or a polycrystalline structure. Note that the method for producing the tantalic acid compound powder of the present invention will be described later.
  • the tantalic acid compound film of the present invention is characterized by containing the tantalic acid compound in the tantalic acid compound dispersion of the present invention described above.
  • the tantalic acid compound film of the present invention can be obtained by coating the tantalic acid compound dispersion of the present invention on the surface of a base material, and then drying the film by drying, for example, vacuum drying, and baking the obtained dry film. and the resulting fired film.
  • the tantalic acid compound film of the present invention includes a tantalic acid compound film having different physical properties such as a crystal structure, which is produced by vacuum drying or baking the tantalic acid compound dispersion of the present invention, and has an amorphous structure. It may have a single crystal structure, or a polycrystalline structure.
  • the tantalum compound that is the raw material for the tantalic acid compound film of the present invention has high chemical resistance
  • coating the surface of the base material with the tantalic acid compound film of the present invention improves the high-temperature properties of the base material (for example, Protection from heat-induced deterioration, etc.) and chemical resistance can be improved. Note that the method for manufacturing the tantalic acid compound film of the present invention will be described later.
  • the coating agent of the present invention is characterized by containing at least one of the above-mentioned tantalic acid compound dispersion of the present invention or the above-mentioned tantalic acid compound powder of the present invention.
  • the coating agent of the present invention includes at least one of the tantalate compound dispersion of the present invention, which has high dispersibility in water, good solubility in water, and excellent storage stability, or the tantalate compound powder of the present invention. It contains seeds, and can form a uniform coating film, for example, by applying it to the surface of a positive electrode active material for a lithium ion secondary battery.
  • the above-described tantalic acid compound dispersion of the present invention can be used as a positive electrode material for a lithium ion secondary battery or as a coating for a positive electrode. Further, the tantalic acid compound dispersion of the present invention can be used as a positive electrode material for all-solid lithium ion batteries or as a coating for a positive electrode.
  • the tantalic acid compound dispersion of the present invention was subjected to a stability test over time in which the state of the dispersion was visually observed after being left standing in a thermostat set at room temperature (25°C) for one month, and by a dynamic light scattering method.
  • the coating film was coated on a glass substrate as a substitute for the current collector plate of a positive electrode for a lithium ion secondary battery. According to the results of a film-forming test in which the state was observed using an optical microscope, the tantalic acid compound dispersion of the present invention is suitable for use as a positive electrode material for lithium ion secondary batteries or as a coating for a positive electrode.
  • the tantalic acid compound dispersion of the present invention is suitable for coating the surface of a positive electrode active material for a lithium ion secondary battery.
  • a positive electrode active material for a lithium ion secondary battery coated with the tantalic acid compound of the present invention performance as a lithium secondary battery can be improved.
  • the method for producing a tantalum acid compound dispersion of the present invention includes a reaction step of adding hydrogen peroxide to a tantalum fluoride aqueous solution to produce a tantalum compound aqueous solution, and adding the tantalum compound aqueous solution to an alkaline aqueous solution to produce a tantalum-containing aqueous solution.
  • a reverse neutralization step of generating a precipitate is a reverse neutralization step of generating a precipitate.
  • a tantalum fluoride aqueous solution is made by reacting tantalum, tantalum oxide, or tantalum hydroxide with hydrofluoric acid (HF) such as an aqueous hydrofluoric acid solution to form tantalum fluoride (H 2 TaF 7 ), which is then added to water. It can be prepared by dissolving it.
  • HF hydrofluoric acid
  • the acidic tantalum solution containing fluoride ions such as an aqueous tantalum fluoride solution
  • the acidic tantalum solution containing fluoride ions is preferably adjusted to contain 1 to 100 g/L of tantalum in terms of Ta 2 O 5 by adding water (eg, pure water).
  • water eg, pure water
  • the tantalum concentration is 1 g/L or more in terms of Ta 2 O 5 because the tantalum acid compound hydrate becomes easily soluble in water, and when productivity is considered, 10 g/L or more is more preferable. , more preferably 20 g/L or more.
  • the tantalum concentration is 100 g/L or less in terms of Ta 2 O 5 , it is preferable because the tantalum acid compound hydrate becomes easily soluble in water, and the tantalum acid compound hydrate that is easily soluble in water can be synthesized more reliably. In order to achieve this, it is more preferably 90 g/L or less, even more preferably 80 g/L or less, and particularly preferably 70 g/L or less.
  • the pH of the tantalum fluoride aqueous solution is preferably 2 or less, more preferably 1 or less, from the viewpoint of completely dissolving tantalum or tantalum oxide.
  • the tantalum compound aqueous solution is obtained by adding the hydrogen peroxide solution to the tantalum fluoride aqueous solution and mixing. It will be done. It is assumed that at least a portion of the obtained tantalum compound aqueous solution forms a peroxo complex.
  • the hydrogen peroxide concentration of the hydrogen peroxide solution added to the tantalum fluoride aqueous solution is preferably 0.5% by mass to 35% by mass.
  • hydrogen peroxide is preferably added so that the molar ratio H 2 O 2 /Ta of hydrogen peroxide and tantalum is 0.6 or more and 1.5 or less, and there is a possibility that hydrogen peroxide will decompose during mixing. Therefore, it is more preferably 0.7 or more and 1.2 or less.
  • tantalum is A precipitated slurry containing . Then, by removing fluoride ions from the obtained tantalum-containing precipitate slurry, a tantalum-containing precipitate from which fluoride ions have been removed is obtained.
  • the ammonia concentration of the ammonia water used for reverse neutralization is preferably 10% by mass to 30% by mass.
  • the ammonia concentration is 10% by mass, tantalum hardly remains undissolved, and tantalum or tantalic acid can be completely dissolved in water.
  • it is preferable that the ammonia concentration is 30% by mass or less because it is close to a saturated aqueous solution of ammonia.
  • the ammonia concentration in the ammonia water is preferably 10% by mass or more, more preferably 15% by mass or more, even more preferably 20% by mass or more, and particularly preferably 25% by mass or more.
  • the ammonia concentration is preferably 30% by mass or less, more preferably 29% by mass or less, and even more preferably 28% by mass or less.
  • the amount of tantalum fluoride aqueous solution added to the ammonia water is preferably such that the molar ratio of NH 3 /Ta is 95 or more and 500 or less, more preferably 100 or more and 450 or less. More preferably, it is 110 or more and 400 or less. Further, the amount of the tantalum fluoride aqueous solution added to the ammonia water is preferably such that the molar ratio of NH 3 /HF is 3.0 or more, from the viewpoint of producing amines and tantalum acid compounds that are soluble in dilute ammonia water. It is more preferable to set it to 4.0 or more, and even more preferably to set it to 5.0 or more. On the other hand, from the viewpoint of cost reduction, the molar ratio of NH 3 /HF is preferably 100 or less, more preferably 50 or less, and even more preferably 40 or less.
  • the time for adding the tantalum fluoride aqueous solution to the ammonia water is preferably within 10 minutes, more preferably within 8 minutes, and even more preferably within 5 minutes. That is, instead of gradually adding the tantalum fluoride aqueous solution over time, it is preferable to add it all at once, for example, to the ammonia water in as short a time as possible to allow the neutralization reaction to occur. Further, in the reverse neutralization step, since an acidic tantalum fluoride aqueous solution is added to the alkaline ammonia water, the neutralization reaction can be carried out while maintaining a high pH. Note that the tantalum fluoride aqueous solution and aqueous ammonia can be used at room temperature.
  • a tantalum-containing precipitate from which fluoride ions have been removed can be obtained by removing fluoride ions from the tantalum-containing precipitate slurry obtained by the reverse neutralization method. Since fluorine compounds such as ammonium fluoride are present as impurities in the tantalum-containing precipitate slurry obtained by the reverse neutralization method, it is preferable to remove these.
  • the method for removing fluorine compounds is arbitrary, but for example, reverse osmosis filtration using ammonia water or pure water, filtration using a membrane such as ultrafiltration or microfiltration, centrifugation, or other known methods may be used. Can be adopted. Note that when removing fluoride ions from the tantalum-containing precipitate slurry, temperature control is not particularly necessary, and the removal can be carried out at room temperature.
  • the tantalum-containing precipitate slurry obtained by the reverse neutralization method is decanted using a centrifuge, and washing is repeated until the amount of released fluoride ions becomes 100 mg/L or less. , a tantalum-containing precipitate from which fluoride ions have been removed is obtained. Note that by repeating the washing, hydrogen peroxide added in the reaction step is also removed.
  • the cleaning liquid used to remove fluoride ions is preferably aqueous ammonia.
  • ammonia water of 1% by mass or more and 35% by mass or less is preferable. With such ammonia water, ammonia is appropriate for fluoride ions, and unnecessary increases in costs can be avoided.
  • the method for producing a tantalic acid compound dispersion of the present invention includes a step of mixing the tantalum-containing precipitate produced through the above-mentioned reaction step and reverse neutralization step with an organic nitrogen compound.
  • tantalum-containing precipitate slurry from which fluoride ions have been removed is obtained. can get.
  • the tantalum concentration of the tantalum-containing precipitate slurry is determined by collecting a portion of the tantalum-containing precipitate slurry, drying it at 110° C. for 24 hours, and then calcining it at 1,000° C. for 4 hours to generate Ta 2 O 5 .
  • the weight of Ta 2 O 5 thus produced can be measured, and the tantalum concentration of the tantalum-containing precipitate slurry can be calculated from the weight.
  • a tantalic acid compound dispersion of the present invention is obtained.
  • the organic nitrogen compound to be mixed with the tantalum-containing precipitation slurry is preferably an aliphatic amine, an aromatic amine, an amino alcohol, an amino acid, a polyamine, a quaternary ammonium, a guanidine compound, or an azole compound, particularly an aliphatic amine, And or more preferably a quaternary ammonium compound.
  • the aliphatic amine is preferably mixed so that the aliphatic amine concentration in the tantalum-containing precipitate slurry is 40% by mass or less, more preferably 20% by mass or less. Also, from the same point of view, it is preferable to mix so that the aliphatic amine concentration in the tantalum-containing precipitate slurry is 0.1% by mass or more, more preferably 1% by mass or more, and It may be 5% by mass or more, or 10% by mass or more. Note that the aliphatic amine is more preferably methylamine or dimethylamine.
  • the quaternary ammonium compound is preferably mixed so that the concentration of the quaternary ammonium compound in the tantalum-containing precipitate slurry is 40% by mass or less, and more preferably 20% by mass or less.
  • it is preferable to mix so that the concentration of the quaternary ammonium compound in the tantalum-containing precipitate slurry is 0.1% by mass or more, more preferably 1% by mass or more, Further, it may be 5% by mass or more, or 10% by mass or more.
  • the quaternary ammonium compound is more preferably tetramethylammonium hydroxide (TMAH) or tetraethylammonium hydroxide (TEAH).
  • the method for producing a tantalic acid compound dispersion of the present invention includes a tantalic acid-containing precipitate produced through the above-mentioned reaction step and reverse neutralization step, and an alkali metal element or an alkaline earth metal element. and a hydroxide of element M containing one or more elements M selected from the group.
  • the hydroxide of element M is preferably lithium hydroxide.
  • a tantalum-containing precipitate slurry from which fluoride ions have been removed is obtained. can get.
  • a mixture of the tantalum-containing precipitate slurry from which fluoride ions have been removed, a hydroxide of element M, such as lithium hydroxide monohydrate, and pure water is heated at 5°C to 100°C while stirring. By holding for 0.1 to 72 hours, the tantalic acid compound dispersion of the present invention can be obtained.
  • the following concentration adjustment step may be performed.
  • the concentration adjustment step the mixture is heated and stirred at, for example, 60° C. to 90° C. for 1 hour to 100 hours, and then cooled to room temperature.
  • a solvent pure water, etc.
  • the amount of the solvent added is adjusted so that the tantalic acid concentration of the tantalic acid compound dispersion after removing the ammonia component matches the tantalic acid concentration of the tantalic acid compound dispersion before removing the ammonia component.
  • the tantalic acid concentration of the final mixture is 0.1% by mass or more and 15% by mass or less in terms of tantalum as Ta 2 O 5 , and the molar ratio Li/Ta of lithium and tantalum is 0.8 or more and 1.0% by mass or less.
  • the element M contained in the tantalic acid compound dispersion of the present invention is an alkali metal element other than lithium or one element M selected from alkaline earth metal elements
  • the combination of element M and tantalum is preferably 0.8 or more and 1.5 or less, more preferably 0.8 or more and 1.3 or less, further preferably 0.9 or more and 1.2 or less, and even more preferably 0.8 or more and 1.3 or less. It is especially preferable that it is 9 or more and 1.1 or less.
  • the molar ratio M/Ta between element M and tantalum is preferably 0.8 or more and 1.5 or less.
  • the element M is a plurality of elements of lithium and other alkali metal elements or alkaline earth metal elements, or a plurality of elements selected from alkali metal elements other than lithium or alkaline earth metals. Including cases where
  • the method for producing a dry powder of a tantalic acid compound is to place the tantalic acid compound dispersion obtained by the above-described method for producing a tantalic acid compound dispersion of the present invention in a static furnace, and heat it.
  • drying for example vacuum drying, at a temperature of about 60° C. to 200° C. for 1 hour to 72 hours, water in the tantalic acid compound dispersion of the present invention evaporates, and the tantalic acid compound dispersion of the present invention A dry powder of a tantalic acid compound containing crystal grains of a tantalic acid compound is obtained.
  • the method for producing a fired powder of a tantalic acid compound involves vacuum drying the tantalic acid compound dispersion of the present invention, placing the obtained dry powder of the tantalic acid compound in a static furnace, and exposing it to the atmosphere. By firing at a firing temperature of 300° C. or more and 1,200° C. or less and a firing time of 1 hour or more and 72 hours or less, a fired tantalic acid compound powder can be obtained.
  • the tantalic acid compound powder may be obtained by pulverizing the dry powder and calcined powder of the tantalic acid compound described above.
  • the undersieve fine grain side obtained by classifying the above-mentioned dry powder and calcined powder with a sieve etc. may be used as the tantalate compound powder.
  • the upper part of the sieve (coarse grain side) may be ground again and classified for use.
  • a sieve when classifying using a sieve, it is preferable to use a sieve with an opening of 150 ⁇ m to 1,000 ⁇ m. If it is 150 ⁇ m to 1,000 ⁇ m, the proportion on the sieve will not become too large and re-grinding will not be repeated, and tantalic acid compound powder that requires re-grinding will not be classified under the sieve.
  • a tantalic acid compound powder dispersion can be obtained by mixing the thus obtained tantalic acid compound powder with water or an organic solvent as a dispersion medium and wet-pulverizing the mixture using media such as beads.
  • the organic solvent used as the dispersion medium include alcohols, esters, ketones, aromatic hydrocarbons, aliphatic hydrocarbons, ethers, and mixed solvents thereof.
  • a binder such as a resin component may be added in order to improve the film-forming properties of a tantalic acid compound film using the tantalic acid compound powder dispersion.
  • the resin component used as the binder include acrylic resin, polyurethane, epoxy resin, polystyrene, polycarbonate, glycol resin, cellulose resin, and mixed resins and copolymer resins thereof.
  • the method for producing the tantalic acid compound dry film includes a coating step of applying a tantalic acid compound dispersion onto the surface of a base material, and a coating step of applying the tantalic acid compound dispersion onto the surface of the base material. and a membrane drying step to obtain a dry membrane.
  • the tantalic acid compound dispersion obtained by the above-described method for producing a tantalic acid compound dispersion of the present invention is applied to the base material using a syringe while being filtered with a filter having a pore size of 1 ⁇ m, if necessary. It is applied dropwise onto the surface by spin coating (1,500 rpm, 30 seconds). Next, a tantalic acid compound dry film is formed on the surface of the substrate by drying at 110° C. for 30 minutes.
  • the method for manufacturing the tantalic acid compound fired film includes a coating step of applying a tantalic acid compound dispersion onto the surface of a base material, and a coating step of applying the tantalic acid compound dispersion onto the surface of the base material.
  • a membrane drying step in which a dried membrane is obtained by drying the membrane in the atmosphere or under vacuum, and the dry membrane is fired in the atmosphere at a temperature of 300°C or more and 1,200°C or less, and a firing time of 1 hour or more and 12 hours or less. and a film firing step to obtain a fired film.
  • the tantalic acid compound dispersion liquid is applied to the surface of the substrate, and the substrate on which the tantalic acid compound dry film obtained by drying is formed is placed in a static furnace.
  • a tantalate compound fired film is formed on the surface of the base material by firing in the atmosphere at a firing temperature of 300° C. or more and 1,200° C. or less and a firing time of 1 hour or more and 12 hours or less.
  • a method for producing a positive electrode active material for a lithium ion secondary battery coated with the tantalic acid compound dispersion of the present invention includes the tantalic acid compound dispersion of the present invention, a positive electrode active material, and, if necessary, a lithium hydroxide aqueous solution.
  • the present invention is characterized by comprising a step of mixing to produce a slurry of a positive electrode active material for a battery containing a tantalic acid compound, and a step of drying the positive active material slurry of a positive electrode for a battery containing the tantalic acid compound.
  • a battery positive electrode active material for example, LiMn 2 O 4 (manufactured by Merck & Co., Ltd.: spinel type) is added. , particle size ⁇ 0.5 ⁇ m), a slurry containing lithium tantalate is obtained. Then, while stirring the slurry containing lithium tantalate, a lithium hydroxide aqueous solution is added dropwise to the slurry, and the slurry is maintained at 90° C. for 10 minutes, thereby producing a battery positive electrode active material slurry containing lithium tantalate.
  • a battery positive electrode active material for example, LiMn 2 O 4 (manufactured by Merck & Co., Ltd.: spinel type
  • positive electrode active materials for batteries include LiCoO 2 , LiNiO 2 , LiFeO 2 , Li 2 MnO 3 , LiFePO 4 , LiCoPO 4 , LiNiPO 4 , LiMnPO 4 , LiNi 0.5 Mn 1.5 O 4 , LiMn 1/3 Co 1/3 Ni 1/3 O 2 , LiCo 0.2 Ni 0.4 Mn 0.4 O 2 , Lithium molybdate, LiMnO 4 , LiNi 0.8 Co 0.15 Al 0 .05 O 2 , LiMnO 2 , etc. can be used.
  • the battery positive electrode active material slurry containing lithium tantalate was dried in an air drying oven for 15 hours while maintaining the furnace temperature at 110°C.
  • a positive electrode active material for ion secondary batteries can be manufactured.
  • methods for manufacturing the positive electrode active material for lithium ion secondary batteries coated with the tantalic acid compound dispersion of the present invention include a dipping method, a spraying method, a fluidized bed method, and a circulating fluidized bed method. method, tumbling fluidized bed method, coprecipitation method, etc. may be used.
  • the lithium tantalate dispersion of the present invention was used in the positive electrode active material for a lithium ion secondary battery coated with the lithium tantalate dispersion described above, dry powder obtained by drying the lithium tantalate dispersion of the present invention, A calcined powder obtained by drying and calcining the lithium tantalate dispersion of the present invention and dispersing it in a dispersion medium may be used.
  • a positive electrode active material for a battery is added, but it may be changed as appropriate depending on the intended use.
  • a dispersant, a pH adjuster, a colorant, a thickener, a wetting agent, a binder resin, etc. may be added.
  • the lithium tantalate dispersion of the present invention is used, but it may be replaced with the tantalate compound dispersion of the present invention containing an organic nitrogen compound.
  • a positive electrode active material for a lithium ion secondary battery coated with tantalic acid can be manufactured.
  • the tantalic acid compound dispersion of the present invention coats the surface of the positive electrode active material particles for lithium ion secondary batteries, the positive electrode active material particles of the secondary battery can interact with the positive electrode of the lithium ion secondary battery and the electrolyte. It is possible to reduce the interfacial resistance that occurs between the two.
  • the tantalic acid compound dispersion of the present invention and a niobic acid compound, e.g.
  • the surface of the positive electrode active material particles for a lithium ion secondary battery may be coated with a tantalic acid compound dispersion mixed with lithium or niobic acid.
  • the tantalic acid compound particle diameter (D50) and the niobic acid compound particle diameter (D50) measured by a dynamic light scattering method in a tantalic acid compound dispersion obtained by mixing the tantalic acid compound dispersion of the present invention and a niobic acid compound are It is preferable that the thickness is 100 nm or less.
  • X to Y when expressed as "X to Y" (X, Y are arbitrary numbers), unless otherwise specified, it means “more than or equal to X and less than or equal to Y", and also means “preferably greater than X” or “preferably is less than Y.” In addition, when expressing "more than or equal to X” (X is an arbitrary number) or “less than or equal to Y” (where Y is an arbitrary number), it should be noted that “it is preferable that it is larger than X” or “it is preferable that it is less than Y”. It also includes intent.
  • the tantalic acid compound dispersion of the present invention has high dispersibility in polar solvents, especially water, good solubility in water, and excellent storage stability.
  • the tantalic acid compound dispersion liquid of the embodiment according to the present invention will be further explained with reference to the following examples.
  • the following examples do not limit the present invention.
  • Example 1 A tantalum fluoride aqueous solution ( A Ta 2 O 5 concentration of 8.2% by mass) was obtained.
  • This reaction solution was a slurry of tantalic acid compound hydrate, in other words, a slurry of tantalum-containing precipitate.
  • this reaction solution was decanted using a centrifuge and washed until the amount of released fluoride ions became 100 mg/L or less to obtain a tantalum-containing precipitate from which the fluoride ions were removed. .
  • ammonia water was used as the cleaning liquid.
  • the tantalum-containing precipitate from which fluoride ions were removed was diluted with pure water to obtain a tantalum-containing precipitate slurry.
  • a portion of this tantalum-containing precipitate slurry is dried at 110° C. for 24 hours and then calcined at 1,000° C. for 4 hours to generate Ta 2 O 5 , and from its weight, the Ta 2 O 5 contained in the tantalum-containing precipitate slurry is determined. The concentration was calculated.
  • tantalum-containing precipitate slurry diluted with pure water, 5% by mass of dimethylamine as an organic nitrogen compound, and pure water are mixed so that the tantalum concentration of the final mixture is 5% by mass in terms of Ta 2 O 5 , and Ta
  • a tantalic acid compound dispersion according to Example 1 was obtained by mixing so that the weight ratio of 2 O 5 /organic nitrogen compound was 1.0.
  • the pH of the tantalic acid compound dispersion according to Example 1 was 12.0.
  • Example 2 In Example 2, the organic nitrogen compound mixed with the tantalum-containing precipitate slurry diluted with pure water is 20% by weight of methylamine, and the weight ratio of Ta 2 O 5 /organic nitrogen compound is 4.0. Except for the above, the same manufacturing method as in Example 1 was carried out to obtain a tantalic acid compound dispersion according to Example 2. The pH of the tantalic acid compound dispersion according to Example 2 was 12.9.
  • Example 3 In Example 3, the same manufacturing method as in Example 1 was carried out, except that the organic nitrogen compound mixed with the tantalum-containing precipitate slurry diluted with pure water was 5% by mass of tetramethylammonium hydroxide (TMAH). A tantalic acid compound dispersion according to Example 3 was obtained. The pH of the tantalic acid compound dispersion according to Example 3 was 13.3.
  • TMAH tetramethylammonium hydroxide
  • Example 4 In Example 4, the organic nitrogen compound mixed with the tantalum-containing precipitate slurry diluted with pure water is 1% by mass of dimethylamine, and the tantalum concentration in the final mixture is 1% by mass in terms of Ta2O5 .
  • a tantalic acid compound dispersion according to Example 4 was obtained by carrying out the same manufacturing method as in Example 1 except for the following. The pH of the tantalic acid compound dispersion according to Example 4 was 11.4.
  • Example 5 In Example 5, the organic nitrogen compound mixed with the tantalum-containing precipitate slurry diluted with pure water is 10% by mass dimethylamine, and the tantalum concentration in the final mixture is 10% by mass in terms of Ta2O5 .
  • a tantalic acid compound dispersion according to Example 5 was obtained by carrying out the same manufacturing method as in Example 1 except that. The pH of the tantalic acid compound dispersion according to Example 5 was 12.2.
  • Example 6 the organic nitrogen compound mixed with the tantalum-containing precipitate slurry diluted with pure water is 10% by weight of tetramethylammonium hydroxide (TMAH), and the tantalum concentration of the final mixture is Ta 2 O.
  • TMAH tetramethylammonium hydroxide
  • a tantalic acid compound dispersion according to Example 6 was obtained by carrying out the same manufacturing method as in Example 1 except that the content was 10% by mass in terms of 5 %.
  • the pH of the tantalic acid compound dispersion according to Example 6 was 13.9.
  • a tantalic acid compound dispersion according to Example 7 was obtained by carrying out the same manufacturing method as in Example 1. The pH of the tantalic acid compound dispersion according to Example 7 was 11.9.
  • a tantalic acid compound dispersion according to Example 8 was obtained by carrying out the same manufacturing method as in Example 1. The pH of the tantalic acid compound dispersion according to Example 8 was 12.0.
  • Example 9 In Example 9, the organic nitrogen compound mixed with the tantalum-containing precipitate slurry diluted with pure water was 20% by mass of dimethylamine, and the tantalum concentration in the final mixture was 12% by mass in terms of Ta2O5 .
  • the same manufacturing method as in Example 1 was carried out, except that the weight ratio of Ta 2 O 5 /organic nitrogen compound was 1.7, and a tantalic acid compound dispersion according to Example 9 was obtained. .
  • the pH of the tantalic acid compound dispersion according to Example 9 was 12.5.
  • Example 10 the organic nitrogen compound mixed with the tantalum-containing precipitate slurry diluted with pure water was 12% by mass of tetramethylammonium hydroxide (TMAH), and the final mixture had a tantalum concentration of Ta 2 O 5
  • TMAH tetramethylammonium hydroxide
  • the same manufacturing method as in Example 1 was carried out, except that the amount was 20% by mass in terms of conversion, and the weight ratio of Ta 2 O 5 /organic nitrogen compound in the final mixture was 0.6.
  • a tantalic acid compound dispersion according to No. 10 was obtained.
  • the pH of the tantalic acid compound dispersion according to Example 10 was 14.1.
  • Example 11 shows that the organic nitrogen compound mixed with the tantalum-containing precipitate slurry diluted with pure water is 4% by weight dimethylamine, and that the Ta 2 O 5 /organic nitrogen compound weight ratio of the final mixture is
  • a tantalic acid compound dispersion according to Example 11 was obtained by carrying out the same manufacturing method as in Example 1 except that the dispersion was 0.8.
  • the pH of the tantalic acid compound dispersion according to Example 11 was 11.8.
  • Example 12 In Example 12, the organic nitrogen compound mixed with the tantalum-containing precipitate slurry diluted with pure water was 40% by mass dimethylamine, and the tantalum concentration in the final mixture was 1% by mass in terms of Ta2O5. The same manufacturing method as in Example 1 was carried out, except that the weight ratio of Ta 2 O 5 /organic nitrogen compound was 40.0, and a tantalic acid compound dispersion according to Example 12 was obtained. . The pH of the tantalic acid compound dispersion according to Example 12 was 13.4.
  • Example 13 shows that the organic nitrogen compound mixed with the tantalum-containing precipitate slurry diluted with pure water is 35% by weight dimethylamine, and that the Ta 2 O 5 /organic nitrogen compound weight ratio of the final mixture is
  • a tantalic acid compound dispersion according to Example 13 was obtained by carrying out the same manufacturing method as in Example 1, except that it was 7.0.
  • the pH of the tantalic acid compound dispersion according to Example 13 was 13.0.
  • Example 14 the organic nitrogen compounds mixed with the tantalum-containing precipitate slurry diluted with pure water are 4% by mass of dimethylamine, 0.5% by mass of methylamine, and 0.5% by mass of tetramethylammonium hydroxide. (TMAH), and the weight ratio of Ta 2 O 5 /organic nitrogen compound in the final mixture is 0.8, 0.1, and 0.1, respectively. Except for the above, the same manufacturing method as in Example 1 was carried out to obtain a tantalic acid compound dispersion according to Example 14. The pH of the tantalic acid compound dispersion according to Example 14 was 12.1.
  • Comparative example 1 In Comparative Example 1, the organic nitrogen compound mixed with the tantalum-containing precipitate slurry diluted with pure water was 30% by mass of dimethylamine, and the tantalum concentration in the final mixture was 30% by mass in terms of Ta2O5 .
  • a tantalic acid compound dispersion according to Comparative Example 1 was obtained by carrying out the same manufacturing method as in Example 1 except that. The pH of the tantalic acid compound dispersion according to Comparative Example 1 was 12.7.
  • Comparative Example 2 is the same as Example 1 except that hydrogen peroxide solution is not added to the tantalum fluoride aqueous solution and the weight ratio of Ta 2 O 5 /organic nitrogen compound in the final mixture is 1.0.
  • a similar manufacturing method was carried out to obtain a tantalic acid compound dispersion according to Comparative Example 2.
  • the pH of the tantalic acid compound dispersion according to Comparative Example 2 was 12.0.
  • Comparative example 3 In Comparative Example 3, the same manufacturing method as in Example 1 was carried out, except that hydrogen peroxide solution was not added to the tantalum fluoride aqueous solution and no organic nitrogen compound was added to the tantalum-containing precipitate slurry diluted with pure water. A tantalic acid compound dispersion according to Comparative Example 3 was obtained. The pH of the tantalic acid compound dispersion according to Comparative Example 3 was 10.7.
  • a tantalum fluoride aqueous solution ( A Ta 2 O 5 concentration of 8.2% by mass) was obtained.
  • This tantalum fluoride aqueous solution was added to 100 mL of 50% by mass dimethylamine in less than 10 minutes. Thereafter, the mixture was stirred for 15 minutes to obtain a primary reaction solution (pH 11).
  • This primary reaction liquid was added to 2 L of ammonia water (NH 3 concentration 25% by mass) in less than 10 minutes to obtain a secondary reaction liquid (pH 11).
  • This secondary reaction liquid was a slurry of tantalic acid compound hydrate, in other words, a slurry of tantalum-containing precipitate.
  • this secondary reaction solution is decanted using a centrifuge and washed until the amount of released fluoride ions becomes 100 mg/L or less, and the tantalum-containing precipitate from which the fluoride ions have been removed is obtained. Obtained. At this time, ammonia water was used as the cleaning liquid.
  • the tantalum-containing precipitate from which fluoride ions were removed was diluted with pure water to obtain a tantalum-containing precipitate slurry.
  • a portion of this tantalum-containing precipitate slurry is dried at 110° C. for 24 hours and then calcined at 1,000° C. for 4 hours to generate Ta 2 O 5 , and from its weight, the Ta 2 O 5 contained in the tantalum-containing precipitate slurry is determined. The concentration was calculated.
  • the tantalum-containing precipitate slurry diluted with pure water, 5% by mass of dimethylamine as an organic nitrogen compound, and pure water are mixed so that the tantalum concentration of the final mixture is 5% by mass in terms of Ta 2 O 5 , and Ta
  • a tantalic acid compound dispersion according to Comparative Example 4 was obtained by mixing so that the weight ratio of 2 O 5 /organic nitrogen compound was 1.0.
  • the pH of the tantalic acid compound dispersion according to Comparative Example 4 was 12.0.
  • Comparative example 5 (Comparative example 5)
  • the organic nitrogen compound mixed with the tantalum-containing precipitate slurry diluted with pure water was 10% by mass of dimethylamine, and the tantalum concentration in the final mixture was 10% by mass in terms of Ta 2 O 5 .
  • the same manufacturing method as in Comparative Example 4 was carried out to obtain a tantalic acid compound dispersion according to Comparative Example 5.
  • the pH of the tantalic acid compound dispersion according to Comparative Example 5 was 12.1.
  • Example 15 The tantalic acid compound dispersion according to Example 15 was produced as follows.
  • a tantalum fluoride aqueous solution ( A Ta 2 O 5 concentration of 8.2% by mass) was obtained.
  • This reaction solution was a slurry of tantalic acid compound hydrate, in other words, a slurry of tantalum-containing precipitate.
  • this reaction solution was decanted using a centrifuge and washed until the amount of released fluoride ions became 100 mg/L or less to obtain a tantalum-containing precipitate from which the fluoride ions were removed. .
  • ammonia water was used as the cleaning liquid.
  • the tantalum-containing precipitate from which fluoride ions were removed was diluted with pure water to obtain a tantalum-containing precipitate slurry.
  • a portion of this tantalum-containing precipitate slurry is dried at 110° C. for 24 hours and then calcined at 1,000° C. for 4 hours to generate Ta 2 O 5 , and from its weight, the Ta 2 O 5 contained in the tantalum-containing precipitate slurry is determined. The concentration was calculated.
  • tantalum-containing precipitate slurry diluted with pure water, 0.54 mass% lithium hydroxide, and pure water were mixed so that the tantalum concentration of the final mixture was 5 mass% in terms of Ta 2 O 5 , and Li/
  • a tantalic acid compound dispersion according to Example 15 was obtained by mixing so that the molar ratio of Ta was 1.0.
  • the pH of the tantalic acid compound dispersion according to Example 15 was 12.2, and the ammonia concentration was 0.7% by mass.
  • Example 16 In Example 16, the same manufacturing method as in Example 15 was carried out except that the tantalum concentration of the final mixture was 1% by mass in terms of Ta 2 O 5 , and the tantalum acid compound dispersion according to Example 16 was prepared. Obtained. The pH of the tantalic acid compound dispersion according to Example 16 was 11.9, and the ammonia concentration was 0.2% by mass.
  • Example 17 In Example 17, the same manufacturing method as in Example 15 was carried out, except that the tantalum concentration of the final mixture was 10% by mass in terms of Ta 2 O 5 , and the tantalic acid compound dispersion according to Example 17 was produced. Obtained. The pH of the tantalic acid compound dispersion according to Example 17 was 12.3, and the ammonia concentration was 1.5% by mass.
  • Example 18 In Example 18, the same manufacturing method as in Example 15 was carried out except that the Li/Ta molar ratio of the final mixture was 0.8, and a tantalic acid compound dispersion according to Example 18 was obtained. .
  • the pH of the tantalic acid compound dispersion according to Example 18 was 12.0, and the ammonia concentration was 0.7% by mass.
  • Example 19 In Example 19, the same manufacturing method as in Example 15 was carried out except that the Li/Ta molar ratio of the final mixture was 1.5, and a tantalic acid compound dispersion according to Example 19 was obtained. .
  • the pH of the tantalic acid compound dispersion according to Example 19 was 12.4, and the ammonia concentration was 0.7% by mass.
  • Example 20 In Example 20, the tantalic acid compound dispersion obtained in Example 15 was heated to 70°C in a water bath, held for 10 hours while stirring, and then cooled to room temperature. In order to replenish the water evaporated by this heating, pure water was added and the concentration was adjusted so that the tantalum concentration was 5% by mass in terms of Ta 2 O 5 , and the tantalum acid compound dispersion according to Example 20 was prepared. Obtained. The pH of the tantalic acid compound dispersion according to Example 20 was 11.8, and the ammonia concentration was 0.02% by mass.
  • Example 21 In Example 21, the tantalic acid compound dispersion obtained in Example 15 was heated to 80°C in a water bath, held for 10 hours while stirring, and then cooled to room temperature. In order to replenish the water evaporated by this heating, pure water was added and the concentration was adjusted so that the tantalum concentration was 5% by mass in terms of Ta 2 O 5 , and the tantalum acid compound dispersion according to Example 20 was prepared. Obtained. The pH of the tantalic acid compound dispersion according to Example 21 was 11.7, and the ammonia concentration was 0.006% by mass.
  • Comparative Example 6 In Comparative Example 6, the same manufacturing method as in Example 15 was carried out, except that the tantalum concentration of the final mixture was 15% by mass in terms of Ta 2 O 5 , and the tantalum acid compound dispersion according to Comparative Example 6 was Obtained. The pH of the tantalic acid compound dispersion liquid according to Comparative Example 6 could not be measured.
  • a tantalic acid compound dispersion according to Comparative Example 7 was obtained by mixing so that The pH of the tantalic acid compound dispersion according to Comparative Example 7 was 12.1.
  • Comparative example 9 a tantalic acid compound dispersion according to Comparative Example 9 was obtained by carrying out the same manufacturing method as in Example 15 except that hydrogen peroxide solution was not added to the tantalum fluoride aqueous solution.
  • the pH of the tantalic acid compound dispersion according to Comparative Example 9 was 12.2.
  • a tantalum fluoride aqueous solution ( A Ta 2 O 5 concentration of 8.2% by mass) was obtained.
  • This tantalum fluoride aqueous solution was added to 100 mL of 50% by mass dimethylamine in less than 10 minutes. Thereafter, the mixture was stirred for 15 minutes to obtain a primary reaction solution (pH 11).
  • This primary reaction liquid was added to 2 L of ammonia water (NH 3 concentration 25% by mass) in less than 10 minutes to obtain a secondary reaction liquid (pH 11).
  • This secondary reaction liquid was a slurry of tantalic acid compound hydrate, in other words, a slurry of tantalum-containing precipitate.
  • this secondary reaction solution is decanted using a centrifuge and washed until the amount of released fluoride ions becomes 100 mg/L or less, and the tantalum-containing precipitate from which the fluoride ions have been removed is obtained. Obtained. At this time, ammonia water was used as the cleaning liquid.
  • the tantalum-containing precipitate from which fluoride ions were removed was diluted with pure water to obtain a tantalum-containing precipitate slurry.
  • a portion of this tantalum-containing precipitate slurry is dried at 110° C. for 24 hours and then calcined at 1,000° C. for 4 hours to generate Ta 2 O 5 , and from its weight, the Ta 2 O 5 contained in the tantalum-containing precipitate slurry is determined. The concentration was calculated.
  • tantalum-containing precipitate slurry diluted with pure water, 0.54 mass% lithium hydroxide, and pure water were mixed so that the tantalum concentration of the final mixture was 5 mass% in terms of Ta 2 O 5 , and Li/
  • a tantalic acid compound dispersion according to Comparative Example 10 was obtained by mixing so that the molar ratio of Ta was 1.0.
  • the pH of the tantalic acid compound dispersion according to Comparative Example 10 was 12.2.
  • ⁇ Dynamic light scattering method> The particle size distribution was evaluated by a dynamic light scattering method according to JIS Z 8828:2019 using a zeta potential/particle size/molecular weight measurement system (ELSZ-2000, manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.).
  • ELSZ-2000 zeta potential/particle size/molecular weight measurement system
  • the dispersions were filtered with a filter with a pore size of 1 ⁇ m. , filtering was performed.
  • D50 indicates a particle diameter that reaches 50% in volume fraction.
  • the "initial particle diameter D50 (nm)” in Table 1 refers to the tantalic acid compound particle diameter (D50) in the tantalic acid compound dispersion immediately after being generated.
  • Particle diameter over time D50 (nm) refers to the tantalate compound particle diameter (D50) in the tantalate compound dispersion after it has been allowed to stand for one month in a thermostat set at a room temperature of 25°C. say.
  • evaluation criterion "A” indicates that "D50 ⁇ 10 nm” is satisfied.
  • Evaluation criterion “B” indicates that which satisfies "10 nm ⁇ D50 ⁇ 50 nm”.
  • Evaluation criterion “C” indicates that which satisfies "50 nm ⁇ D50 ⁇ 100 nm”.
  • the evaluation criterion “D” indicates that "100 nm ⁇ D50” is satisfied.
  • ⁇ Temporal stability test> The tantalic acid compound dispersions according to Examples 1 to 21 and Comparative Examples 1 to 10 were allowed to stand for one month in a thermostat set at a room temperature of 25°C, and then visually observed for the presence or absence of white precipitate or gelation. This was done by Items in which no white precipitate or gelation was observed were evaluated as " ⁇ " as having stability over time, and items in which even one white precipitate or gelation was observed were evaluated as " ⁇ " as having no stability over time. ” Here, gelation was determined by placing each tantalic acid compound dispersion liquid in a plastic container, and when the container was turned upside down, a dispersion liquid that did not fall down quickly was determined to be gelling.
  • the particle diameter (D50) over time of the tantalic acid compound in the tantalic acid compound dispersions of Examples 1 to 21 and Comparative Examples 1 to 10 after standing for one month was measured using the above-mentioned dynamic light scattering method. It was measured.
  • ⁇ Film formation test> The appearance of a coating film formed on the surface of a glass substrate, which is a substitute for a current collector plate, was evaluated by observing it with an optical microscope.
  • the glass substrate was observed with an optical microscope (magnification: 40x) in the center area of 15 mm x 15 mm of the formed coating film, and if no bubbles, uneven coating, or cracks were observed, the film formability was determined. It was evaluated as " ⁇ ” as being excellent, and evaluated as "x” if even one thing was observed as not being excellent in film formability.
  • the tantalic acid compound dispersions according to Examples 1 to 14 contain tantalum in an amount of 0.1% by mass or more and less than 30% by mass in terms of Ta 2 O 5 , and dynamic light scattering in the dispersion.
  • the particle diameter (D50) of the tantalic acid compound determined by the method was 100 nm or less, the dispersibility in the dispersion medium was high and the solubility was also excellent.
  • the tantalic acid compound dispersions according to Examples 15 to 21 contain 0.1% by mass or more and less than 30% by mass in terms of Ta 2 O 5 , and the tantalic acid compound dispersions in the dispersion liquids are measured by dynamic light scattering.
  • the particle diameter (D50) was 100 nm or less, the dispersibility in the dispersion medium was high and the solubility was also excellent.
  • the tantalic acid compound dispersions according to Examples 1 to 21 even after one month, there was no significant difference in the aging particle diameter (D50) of the tantalic acid compound compared to the initial particle diameter (D50). , and had excellent stability over time. In addition, precipitates were observed in the tantalic acid compound dispersions according to Comparative Examples 1 to 3 and 7 to 10. Further, the initial particle size (D50) and the aged particle size (D50) of the tantalic acid compound in the tantalic acid compound dispersions according to Comparative Examples 4 and 5 were 100 nm or more, and the stability over time was also poor. Furthermore, the initial particle size (D50) and the aging particle size (D50) of the tantalic acid compound in the tantalic acid compound dispersion according to Comparative Example 6 could not be measured due to gelation.
  • the tantalic acid compound dispersion liquids according to Examples 15 to 21 have a molar ratio of lithium to tantalum, Li/Ta, of 0.8 or more and 2.0 or less, and the tantalic acid concentration in the dispersion liquid is such that tantalum is less than Ta 2 O 5 .
  • the content was 0.1% by mass or more and 15% by mass or less in terms of conversion, stability during long-term storage was improved.
  • the tantalic acid compound dispersions according to Examples 1 to 21 had excellent stability over time when the pH of the dispersion was higher than 7. Note that the tantalic acid compound dispersion liquid according to Comparative Example 6 was gelled, and the pH could not be measured.
  • the tantalic acid compound films formed from the tantalic acid compound dispersions according to Examples 1 to 21 showed that coarse particles were not present in the coating films as a result of observing the coating films formed from the respective tantalic acid compound dispersions using an optical microscope. Moreover, no bubbles, uneven coating, or cracks were observed, and the film-forming properties were excellent.
  • the invention disclosed in this specification is specified by changing a partial configuration of these to other configurations disclosed in this specification, or these This includes configurations specified by adding other configurations disclosed in this specification to the configuration, or generalized configurations specified by deleting these partial configurations to the extent that partial effects can be obtained.
  • the tantalic acid compound dispersion according to the present invention has high dispersibility in polar solvents, especially water, good solubility in water, and excellent storage stability, so it can be used as a positive electrode active for lithium ion secondary batteries. It is suitable for coating substances.
  • the tantalic acid compound dispersion according to the present invention has excellent storage stability, and the incidence of defective products due to the formation of precipitates due to changes over time can be suppressed, so waste can be reduced and discarded. It also becomes possible to reduce energy costs in the disposal of materials.
  • the tantalic acid compound dispersion according to the present invention can form a film well, waste can be similarly reduced in the coated positive electrode active material of lithium ion secondary batteries, and defective products can also be reduced. The incidence of this can be reduced.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)

Abstract

本発明のタンタル酸化合物分散液は、タンタルをTa2O5換算で0.1質量%以上30質量%未満含有するタンタル酸化合物分散液であって、動的光散乱法による前記タンタル酸化合物分散液中のタンタル酸化合物粒子径(D50)が100nm以下である。また、本発明のタンタル酸化合物分散液の製造方法は、過酸化水素を、フッ化タンタル水溶液に添加し、タンタル化合物水溶液を生成する反応工程と、前記タンタル化合物水溶液を、アルカリ性水溶液に添加し、タンタル含有沈殿物を生成する逆中和工程と、を有する。

Description

タンタル酸化合物分散液およびその製造方法
 本発明は、タンタル酸化合物分散液およびその製造方法に関する。
 タンタル酸化合物は、オプトエレクトロニクス、触媒等の材料に利用されている。各種部品の表面をコーティング剤として、均一な粒子で構成されており、長期間の保存が可能なタンタル酸化合物として、特許文献1には酸化タンタルゾルが開示されている。また、タンタル酸化合物、特にタンタル酸リチウムは、光学特性、非線形特性、電気光学特性に優れており、圧電素子などに利用されている。例えば、特許文献2には、全固体リチウムイオン電池に生じる電池抵抗を低下させることが可能な複合活物質粒子が開示されている。その複合活物質粒子の表面の少なくとも一部を被覆するリチウムイオン伝導性酸化物の一つとして、タンタル酸リチウムがニオブ酸リチウムと共に挙げられている。
特開平8-143315号公報 特開2018-125214号公報
 しかしながら、特許文献1に開示された酸化タンタルゾルは、しゅう酸といった、揮発し難い有機成分を含んでいることから、当該有機成分が均一な製膜の形成を妨げる要因となり、触媒の添加剤に使用する際には触媒作用を阻害する要因となり得る。また、タンタル酸リチウムは、ニオブ酸リチウムと比して、水への分散性や、溶解性が悪く、経時変化によって、沈殿物が生じやすく、特許文献2に開示されたニオブ酸リチウムの製造方法を用いて、製造したタンタル酸リチウムは、水への分散性が低く、水に対する溶解性が不良で、且つ保存安定性に優れたものではなかった。
 本発明は、上記課題に鑑みて、極性溶媒、とりわけ水への分散性が高く、水に対する溶解性が良好で、且つ保存安定性に優れたタンタル酸化合物分散液及びその製造方法を提供することである。
 上記課題を解決するためになされた本発明のタンタル酸化合物分散液は、タンタルをTa換算で0.1質量%以上30質量%未満含有するタンタル酸化合物分散液であって、動的光散乱法による前記タンタル酸化合物分散液中のタンタル酸化合物粒子径(D50)が100nm以下であることを特徴とする。
 本発明のタンタル酸化合物分散液は、タンタルをTa換算で0.1質量%以上30質量%未満含有すると、極性溶媒、とりわけ水への分散性及び溶解性が向上する点で好ましい。また、本発明のタンタル酸化合物分散液は、0.5質量%以上であるとより好ましく、1質量%以上であるとさらに好ましい。一方、本発明のタンタル酸化合物分散液は、25質量%以下であるとより好ましく、20質量%以下であるとさらに好ましい。
 ここで、タンタル酸化合物分散液中のタンタル濃度は、当該分散液を必要に応じて希塩酸で適度に希釈し、ICP発光分析(アジレント・テクノロジー社製:AG-5110)を用いて、JIS K0116:2014に準拠し、酸化タンタル(Ta)換算のTa重量分率を測定して算出する。なお、本発明のタンタル酸化合物分散液中のタンタル酸は、必ずしもTaの状態で存在するものではない。タンタル酸の含有量を、Ta換算で示しているのは、タンタル濃度を示す際の慣例に基づくものである。
 ここで、本発明のタンタル酸化合物分散液中のタンタル酸化合物は、タンタル酸と、後述する有機窒素化合物や、アルカリ金属、又はアルカリ土類金属とがイオン結合した状態のイオンとして当該分散液中に存在するものと推測する。本発明のタンタル酸化合物分散液には、陰イオンとして水酸化物イオンは存在する一方、フッ化物イオンおよび塩化物イオンなどのハロゲン化物イオンはほとんど存在せず、有機窒素化合物や、アルカリ金属は陽イオンとして存在すると考えられるため、タンタルはTaO のような陰イオンか、複数のタンタル原子と酸素原子とが結合したポリオキソメタレート(ポリ酸)イオンとして存在していると考えられる。
 また、本発明のタンタル酸化合物分散液は、タンタル酸化合物の他に、イオン化したアルカリ性水溶液、例えばアンモニアも含まれる。後述する本発明のタンタル酸化合物分散液の製造方法で詳しく説明するが、当該製造工程において、酸性のタンタル錯体水溶液をアルカリ性水溶液、例えばアンモニア水に添加する逆中和法により、タンタルを含有する沈殿スラリーであるタンタル酸含有沈殿物、例えば含水タンタル酸アンモニウムケーキを生成した後、本発明のタンタル酸化合物分散液が生成されることから、アンモニアは、アンモニウムイオンを含み、陽イオンとして当該分散液中に存在すると考えられる。
 当該分散液中に存在するアンモニア濃度の測定方法は、当該分散液に水酸化ナトリウムを加えてアンモニアを蒸留分離し、イオンメータによりアンモニア濃度を定量する方法、ガス化した試料中のN分を熱伝導度計で定量する方法、ケルダール法、ガスクロマトグラフィー(GC)、イオンクロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー質量分析法(GC-MS)などが挙げられる。特に、イオンメータによりアンモニア濃度を定量する方法が好ましい。
 さらに、動的光散乱法による前記タンタル酸化合物分散液中のタンタル酸化合物粒子径(D50)が100nm以下であると、分散性が高く、経時変化が少なく安定し、他の物質との反応や複合化に際する反応性、成膜時における膜均一性の観点から好ましい。また、当該タンタル酸化合物粒子径(D50)は、より小粒径であると好ましく、50nm以下であるとより好ましく、30nm以下であるとさらに好ましく、20nm以下であると特に好ましく、10nm以下であるとまた特に好ましく、1nm以下であるとさらに特に好ましく、0.6nm以下であるとより特に好ましい。このように、本発明のタンタル酸化合物分散液中のタンタル酸化合物粒子径(D50)が、動的光散乱法を用いて測定した結果、タンタル酸化合物粒子径(D50)が100nm以下である状態の液を、本発明の「タンタル酸化合物分散液」とする。
 ここで、動的光散乱法とは、懸濁溶液などの溶液にレーザ光などの光を照射することにより、ブラウン運動する粒子群からの光散乱強度を測定し、その強度の時間的変動から粒子径と分布を求める方法である。具体的には、粒度分布の評価方法は、ゼータ電位・粒径・分子量測定システム(大塚電子株式会社製:ELSZ-2000)を用いて、JIS Z 8828:2019「粒子径解析-動的光散乱法」に準拠して実施する。なお、測定直前に測定対象である溶液中の埃等を除去するため、1μm孔径のフィルタで当該溶液を濾過し、超音波洗浄機(アズワン社製:VS-100III)にて、28kHz、3分間の超音波処理を実施する。なお、粒子径(D50)は、積算分布曲線の50%積算値を示す粒子径であるメジアン径(D50)をいう。
 なお、本発明における「分散液」とは、溶質が溶媒中に単分子の状態で分散又は混合しているものに限られず、複数の分子が分子間の相互作用により引き合った集合体、例えば(1)多量体分子、(2)溶媒和分子、(3)分子クラスター、(4)コロイド粒子などが溶媒に分散しているものも含まれる。
 また、本発明のタンタル酸化合物分散液は、有機窒素化合物を含有することを特徴とする。
 本発明のタンタル酸化合物分散液中のタンタル酸は、有機窒素化合物とイオン結合した状態のイオンとして当該分散液中に存在するものと推測する。
 ここで、有機窒素化合物としては、脂肪族アミン、芳香族アミン、アミノアルコール、アミノ酸、ポリアミン、4級アンモニウム、グアニジン化合物、アゾール化合物が挙げられる。
 脂肪族アミンとしては、例えば、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、メチルエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン、ジメチルエチルアミン、n-プロピルアミン、ジn-プロピルアミン、トリn-プロピルアミン、iso-プロピルアミン、ジiso-プロピルアミン、トリiso-プロピルアミン、n-ブチルアミン、ジn-ブチルアミン、トリn-ブチルアミン、iso-ブチルアミン、ジiso-ブチルアミン、トリiso-ブチルアミンおよびtert-ブチルアミン、n-ペンタアミン、n-ヘキシルアミン、シクロヘキシルアミン、ピペリジンなどが挙げられる。
 芳香族アミンとしては、例えば、アニリン、フェニレンジアミン、ジアミノトルエンなどが挙げられる。さらに、アミノアルコールとしては、例えば、メタノールアミン、エタノールアミン、プロパノールアミン、ブタノールアミン、ペンタノールアミン、ジメタノールアミン、ジエタノールアミン、トリメタノールアミン、メチルメタノールアミン、メチルエタノールアミン、メチルプロパノールアミン、メチルブタノールアミン、エチルメタノールアミン、エチルエタノールアミン、エチルプロパノールアミン、ジメチルメタノールアミン、ジメチルエタノールアミン、ジメチルプロパノールアミン、メチルジメタノールアミン、メチルジエタノールアミン、ジエチルメタノールアミン、トリスヒドロキシメチルアミノメタン、ビス(2-ヒドロキシエチル)アミノトリス(ヒドロキシメチル)メタンおよびアミノフェノールなどが挙げられる。また、アミノ酸としては、例えば、アラニン、アルギニン、アスパラギン酸、EDTAなどが挙げられる。さらに、ポリアミンとしては、例えば、ポリアミン、ポリエーテルアミンなどが挙げられる。
 4級アンモニウムとしては、例えば、アルキルイミダゾリウム、ピリジニウム、ピロリジウム、テトラアルキルアンモニウムなどが挙げられる。ここで、アルキルイミダゾリウムの具体例としては、1-メチル-3-メチルイミダゾリウム、1-エチル-3-メチルイミダゾリウム、1-プロピル-3-メチルイミダゾリウム、1-ブチル-3-メチルイミダゾリウム、1-ヘキシル-3-メチルイミダゾリウム、1-メチル-2,3-ジメチルイミダゾリウム、1-エチル-2,3-ジメチルイミダゾリウム、1-プロピル-2,3-ジメチルイミダゾリウム、1-ブチル-2,3-ジメチルイミダゾリウムなどが挙げられる。また、ピリジニウム、ピロリジウムの具体例としては、N-ブチル-ピリジニウム、N-エチル-3-メチル-ピリジニウム、N-ブチル-3-メチル-ピリジニウム、N-ヘキシル-4-(ジメチルアミノ)-ピリジニウム、N-メチル-1-メチルピロリジニウム、N-ブチル-1-メチルピロリジニウムなどが挙げられる。さらに、テトラアルキルアンモニウムの具体例としては、テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム、エチル-ジメチル-プロピルアンモニウムが挙げられる。なお、上述したカチオンと塩を形成するアニオンとしては、OH、Cl、Br、I、BF 、HSO などが挙げられる。
 グアニジン化合物としては、グアニジン、ジフェニルグアニジン、ジトリルグアニジンなどが挙げられる。また、アゾール化合物としては、イミダゾール化合物、トリアゾール化合物などが挙げられる。ここで、イミダゾール化合物の具体例としては、イミダゾール、2-メチルイミダゾール、2-エチル-4-メチルイミダゾールなどが挙げられる。また、トリアゾール化合物の具体例としては、1,2,4-トリアゾール、1,2,4-トリアゾール-3-カルボン酸メチル、1,2,3-ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。
 ここで、有機窒素化合物は、脂肪族アミンであると、揮発性が高く、低毒性でもあるから好ましい。具体的には、炭素数1以上4以下の脂肪族アミンであるとより好ましく、炭素数1以上2以下の脂肪族アミンであると特に好ましい。例えば、メチルアミン、ジメチルアミンなどが挙げられる。
 また、有機窒素化合物は、4級アンモニウムであると、溶解性が高いだけでなく、高い結晶化抑制や、高いゾル化抑制を有する点で好ましい。例えば、テトラアルキルアンモニウム塩が好ましく、水酸化テトラアルキルアンモニウム塩がより好ましく、水酸化テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウムが特に好ましく、水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)がまた特に好ましい。
 さらに、有機窒素化合物は、脂肪族アミン、芳香族アミン、アミノアルコール、アミノ酸、ポリアミン、4級アンモニウム、グアニジン化合物、アゾール化合物から選択された1種ではなく、2種以上を混合したものであってもよい。例えば、脂肪族アミンと4級アンモニウムとの2種を混合したものであれば、毒性が上がらないように添加量を抑えつつ、溶解度をあげることができる点で好ましい。
 具体的には、メチルアミン及び水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)、ジメチルアミン及び水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)、メチルアミン及びジメチルアミンのように2種の有機窒素化合物を混合したものや、メチルアミン、ジメチルアミン及び水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)のように3種の有機窒素化合物を混合したものが挙げられる。
 なお、本発明のタンタル酸化合物分散液中に存在する有機窒素化合物濃度の測定方法は、ガスクロマトグラフィー(GC)、液体クロマトグラフィー(LC)、質量分析(MS)、ガスクロマトグラフィー・質量分析(GC-MS)、液体クロマトグラフィー・質量分析(LC-MS)などが挙げられる。揮発性の低い有機窒素化合物を含む場合、液体クロマトグラフィー(LC)、液体クロマトグラフィー・質量分析(LC-MS)による有機窒素化合物濃度の測定が好ましい。
 また、本発明のタンタル酸化合物分散液は、アルカリ金属元素、又はアルカリ土類金属元素からなる群から選択された1種以上の元素Mを含有することを特徴とする。さらに、前記元素Mが、Liであると好ましい。
 本発明のタンタル酸化合物分散液中のタンタル酸は、アルカリ金属元素、又はアルカリ土類金属元素からなる群から選択された1種以上の元素Mのイオンとイオン結合した状態のイオンとして当該分散液中に存在するものと推測する。さらに、前記元素Mが、Liであると好ましい。また、元素Mは、Liの1種のアルカリ金属元素だけに限定されるものではなく、LiとNa、或いはKとの2種のアルカリ金属元素や、Li、Na、及びKの3種のアルカリ金属元素であると好適である。さらに、元素Mは、Na、或いはKの1種のアルカリ金属元素、又はNaとKとの2種のアルカリ金属元素であってもよい。
 また、本発明のタンタル酸化合物分散液は、前記タンタル酸化合物分散液中のタンタル酸濃度がTa換算で0.1質量%以上15質量%以下であることを特徴する。
 前記タンタル酸化合物分散液中のタンタル酸濃度が、Ta換算で0.1質量%以上15質量%以下であると、タンタル酸リチウム分散液の実用性及び安定性を両立する点で好ましく、またTa換算で1質量%以上15質量%以下であるとより好ましく、Ta換算で3質量%以上10質量%以下であるとさらに好ましく、Ta換算で5質量%以上10質量%以下であると特に好ましい。
 ここで、タンタル酸化合物分散液中のタンタル酸濃度は、当該分散液を必要に応じて希塩酸で適度に希釈し、ICP発光分析(アジレント・テクノロジー社製:AG-5110)を用いて、JIS K0116:2014に準拠し、Ta換算のTa重量分率を測定して算出する。本発明のタンタル酸化合物分散液中のタンタル酸濃度をTa換算で示すことにより、タンタルの複数の酸化物状態をまとめて求めることができる。また、本発明のタンタル酸化合物分散液中のタンタル酸が、アルカリ金属、又はアルカリ土類金属とイオン結合したもの、例えば、リチウムイオンとイオン結合した、タンタル酸リチウム塩である場合、リチウム濃度をLi換算のLi重量分率を測定して算出してもよい。本発明のタンタル酸化合物分散液中のタンタル酸濃度とリチウム濃度を特定することにより、本発明のタンタル酸化合物分散液に含まれるタンタル酸リチウムのリチウム(Li)とタンタル(Ta)とのモル比Li/Taを特定することができる。
 さらに、本発明のタンタル酸化合物分散液中のタンタル酸濃度を、Ta換算で示すこともできる。上述したタンタル酸濃度をTa換算で示すと、以下の通りである。当該タンタル酸化合物分散液中のタンタル酸濃度が、Ta換算で0.08質量%以上12.3質量%以下であると、タンタル酸リチウム分散液の実用性及び安定性を両立する点で好ましく、またTa換算で0.8質量%以上12.3質量%以下であるとより好ましく、Ta換算で2.4質量%以上8.2質量%以下であるとさらに好ましく、Ta換算で4.1質量%以上8.2質量%以下であると特に好ましい。
 また、本発明のタンタル酸化合物分散液は、前記タンタル酸化合物分散液に含まれるタンタル酸リチウムのリチウム(Li)とタンタル(Ta)のモル比Li/Taが0.8以上1.5以下であると好ましい。
 前記タンタル酸化合物分散液に含まれるタンタル酸リチウムのリチウム(Li)とタンタル(Ta)のモル比Li/Taが0.8以上1.5以下であると、水への分散性及び溶解性が向上する点で好ましく、0.8以上1.3以下であるとより好ましく、0.9以上1.2以下であるとさらに好ましく、0.9以上1.1以下であると特に好ましい。
 さらに、タンタル酸リチウムを含む本発明のタンタル酸化合物分散液中のアンモニア濃度は、任意の濃度であればよい。例えば、当該アンモニア濃度は、0質量%超10質量%以下であればよく、0.001質量%以上10質量%以下であればよく、0.003質量%以上5質量%以下であればよい。
 また、本発明のタンタル酸化合物分散液は、有機酸が含まれないと好ましい。
 本発明のタンタル酸化合物分散液は、有機酸を含まないことにより、当該タンタル酸化合物分散液に含まれるポリ酸イオンが安定する。
 また、本発明のタンタル酸化合物分散液が、水分散液であることを特徴とする。
 本発明のタンタル酸化合物分散液中のタンタル酸化合物は、水への分散性が高く、水に対する溶解性が良好であるため、溶媒として純水を用いることができる。溶媒としては、有機溶媒を用いてもよい。有機溶媒としては、アルコール溶媒、ケトン溶媒、エーテル溶媒、エステル溶媒、芳香族炭化水素溶媒、脂肪族炭化水素類溶媒等が挙げられ、これら有機溶媒と純水とを混合した溶媒であってもよい。また、アルコール溶媒としては、炭素数5以下のアルコール(メタノール、エタノール、n-プロパノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン)や、アセトンなどが挙げられる。
 また、本発明のタンタル酸化合物分散液は、前記タンタル酸化合物分散液のpHが7超であることを特徴とする。
 本発明のタンタル酸化合物分散液のpHが7超であると、当該分散液中に含まれるポリ酸イオンが安定する点で好ましい。また、本発明のタンタル酸化合物分散液のpHが8以上であるとより好ましく、9以上であるとさらに好ましく、10以上であると特に好ましく、11以上であるとまた特に好ましく、12以上であってもよい。なお、本発明のタンタル酸化合物分散液中に有機酸が含まれるとpHを低下させる点においても、有機酸が含まれないことが好ましい。
 本発明のタンタル酸化合物分散液の内、有機窒素化合物を含有するタンタル酸化合物分散液のpHは、10.0~14.1であると好適である。一方、本発明のタンタル酸化合物分散液の内、アルカリ金属元素、又はアルカリ土類金属元素からなる群から選択された1種以上の元素Mを含有するタンタル酸化合物分散液のpHは、11~13であると好適である。
 ここで、本発明のタンタル酸化合物分散液のpHの測定は、本発明のタンタル酸化合物分散液にpHメータ(HORIBA製:ガラス電極式水素イオン濃度指示器 D-51)の電極(HORIBA製:スタンダード ToupH 電極 9615S-10D)を浸漬し、液温が25℃に安定したことを確認した後、実施する。
 また、本発明のタンタル酸化合物分散液は、本発明のタンタル酸化合物分散液に含まれるタンタル酸化合物を構成しない元素、又はその化合物を添加物として含有してもよい。当該添加物として、Li、Na、Mg、Al、Si、K、Ca、Ti、V、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Sr、Zr、Nb、Mo、Sn、Ba、La、Wなどの元素、又は化合物が挙げられる。ここで、化合物とは、例えば酸化物、金属酸アルカリ金属塩、金属酸アルカリ土類金属塩、塩化物、金属酸アルコキシド、ポリオキソメタレート等が挙げられる。また、本発明のタンタル酸化合物分散液における添加物の含有量は、添加物である各元素の総含有mol数をXとしたとき、タンタル(Ta)に対する添加物である各元素の総含有mol数(X)のモル比X/Taは、0.001~75であってもよく、0.002~50であってもよく、0.01~40であってもよく、0.2~30であってもよく、0.5~25であってもよく、0.8~1.5であってもよく、0.8~1.3であってもよく、0.9~1.2であってもよく、0.9~1.1であってもよい。さらに、本発明のタンタル酸化合物分散液は、均一な分散液であることから、これらの化合物が懸濁状態であっても、均一性の向上、反応性(反応率)の向上が見込まれるからである。また、これらの化合物が本発明のタンタル酸化合物分散液に溶解し、均一な分散液となれば、複合化元素が最も反応性が良好な状態にすることができる。
 さらに、本発明のタンタル酸化合物分散液は、その作用効果を阻害しない範囲で、タンタル乃至タンタル酸に由来する成分、アンモニア、有機窒素化合物、及び元素Mに由来する成分以外の成分(「他成分」という。)を含有してもよい。他成分としては、例えばLi、Na、Mg、Al、Si、K、Ca、Ti、V、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Sr、Zr、Nb、Mo、Sn、Ba、La、Wなどが挙げられる。但し、これらに限定するものではない。本発明のタンタル酸化合物分散液を100質量%としたとき、他成分の含有量は、5質量%以下であるのが好ましく、4質量%以下であるのがより好ましく、3質量%以下であるとさらに好ましい。なお、本発明のタンタル酸化合物分散液は、意図したものではなく、不可避不純物を含むことが想定される。不可避不純物の含有量は0.01質量%以下であるのが好ましい。
 本発明のタンタル酸化合物粉末は、上述した本発明のタンタル酸化合物分散液中のタンタル酸化合物を含有することを特徴とする。
 本発明のタンタル酸化合物粉末は、本発明のタンタル酸化合物分散液を乾燥、例えば真空乾燥などによって得られる乾燥粉末と、得られた乾燥粉末を焼成することにより得られる焼成粉末とを包含する。また、本発明のタンタル酸化合物粉末は、本発明のタンタル酸化合物分散液を真空乾燥や、焼成することによって生じる、結晶構造等の物性の異なるタンタル酸化合物粉末も包含し、アモルファス構造であってもよく、単結晶構造であってもよく、多結晶構造であってもよい。なお、本発明のタンタル酸化合物粉末の製造方法は、後述する。
 本発明のタンタル酸化合物膜は、上述した本発明のタンタル酸化合物分散液中のタンタル酸化合物を含有することを特徴とする。
 本発明のタンタル酸化合物膜は、本発明のタンタル酸化合物分散液を基材の表面に塗布した後、乾燥、例えば真空乾燥などによって得られる乾燥膜と、得られた乾燥膜を焼成することにより得られる焼成膜とを包含する。また、本発明のタンタル酸化合物膜は、本発明のタンタル酸化合物分散液を真空乾燥や、焼成することによって生じる、結晶構造等の物性の異なるタンタル酸化合物膜も包含し、アモルファス構造であってもよく、単結晶構造であってもよく、多結晶構造であってもよい。本発明のタンタル酸化合物膜の原料であるタンタル化合物は耐薬品性が高いため、本発明のタンタル酸化合物膜により基材の表面が被覆されることにより、基材の高温特性(例えば基材の熱による劣化からの保護等)・耐薬品性を向上させることができる。なお、本発明のタンタル酸化合物膜の製造方法は、後述する。
 本発明のコーティング剤は、上述した本発明のタンタル酸化合物分散液、又は上述した本発明のタンタル酸化合物粉末の少なくとも1種を含有することを特徴とする。
 本発明のコーティング剤は、水への分散性が高く、水に対する溶解性が良好で、且つ保存安定性に優れた本発明のタンタル酸化合物分散液、又は本発明のタンタル酸化合物粉末の少なくとも1種を含有しており、例えば、リチウムイオン二次電池用正極活物質の表面に塗布することにより、均一な塗膜を形成することが可能である。
 上述した本発明のタンタル酸化合物分散液は、リチウムイオン二次電池用正極材、或いは正極の被覆用とすることができる。また、本発明のタンタル酸化合物分散液は、全固体リチウムイオン電池用正極材、或いは正極の被覆用とすることができる。
 本発明のタンタル酸化合物分散液は、室温(25℃)に設定した恒温器内で1カ月静置した後の当該分散液の状態を目視観察する経時安定性試験、及び動的光散乱法により当該分散液中のタンタル酸化合物粒子の経時粒子径(D50)を測定した結果に加えて、リチウムイオン二次電池用正極の集電板の代替品としたガラス基板上に塗布し、その塗膜の状態を光学顕微鏡にて観察する成膜性試験の結果より、本発明のタンタル酸化合物分散液は、リチウムイオン二次電池用正極材、或いは正極の被覆用として好適である。
 また、本発明のタンタル酸化合物分散液は、リチウムイオン二次電池用正極活物質の表面を被覆するものとして好適である。本発明のタンタル酸化合物が被覆したリチウムイオン二次電池用正極活物質を正極の表面に被覆させることにより、リチウム二次電池としての性能向上を図ることができる。
 上述した本発明のタンタル酸化合物分散液の製造方法について、以下説明する。
 本発明のタンタル酸化合物分散液の製造方法は、過酸化水素を、フッ化タンタル水溶液に添加し、タンタル化合物水溶液を生成する反応工程と、前記タンタル化合物水溶液を、アルカリ性水溶液に添加し、タンタル含有沈殿物を生成する逆中和工程と、を有することを特徴とする。
 先ず、フッ化タンタル水溶液は、タンタル、タンタル酸化物又は水酸化タンタルを、フッ化水素酸水溶液などのフッ酸(HF)と反応させてフッ化タンタル(HTaF)とし、これを水に溶解して作製することができる。
 ここで、フッ化物イオンを含有する酸性タンタル溶液、例えばフッ化タンタル水溶液は、水(例えば純水)を加えてタンタルをTa換算で1~100g/L含有するように調整すると好ましい。この際、タンタル濃度がTa換算で1g/L以上であると、水に溶けやすいタンタル酸化合物水和物となることから好ましく、生産性を考えた場合、10g/L以上がより好ましく、20g/L以上であるとさらに好ましい。他方、タンタル濃度がTa換算で100g/L以下であれば、水に溶けやすいタンタル酸化合物水和物になることから好ましく、より確実に水に溶けやすいタンタル酸化合物水和物を合成するには、90g/L以下であるとより好ましく、80g/L以下であるとさらに好ましく、70g/L以下であると特に好ましい。なお、フッ化タンタル水溶液のpHは、タンタル乃至タンタル酸化物を完全溶解させる観点から、2以下であると好ましく、1以下であるとより好ましい。
 次に、過酸化水素を、フッ化タンタル水溶液に添加し、タンタル化合物水溶液を生成する反応工程では、過酸化水素水をフッ化タンタル水溶液に添加して、混合することにより、タンタル化合物水溶液が得られる。なお、得られたタンタル化合物水溶液の少なくとも一部は、ペルオキソ錯体を形成していると推測する。
 ここで、フッ化タンタル水溶液に添加される過酸化水素水の過酸化水素濃度は、0.5質量%~35質量%であると好ましい。また、過酸化水素は、過酸化水素とタンタルとのモル比H/Taが0.6以上1.5以下となるように添加すると好ましく、過酸化水素が混合中に分解する可能性があることから、0.7以上1.2以下であるとより好ましい。
 得られたタンタル化合物水溶液を、アルカリ性水溶液に添加し、タンタル酸含有沈殿物を生成する逆中和工程では、タンタル化合物水溶液を、アルカリ性水溶液、例えばアンモニア水に添加、すなわち逆中和法により、タンタルを含有する沈殿スラリーが得られる。そして、得られたタンタルを含有する沈殿スラリーからフッ化物イオンを除去することにより、フッ化物イオンが除去されたタンタル含有沈殿物が得られる。
 逆中和に用いるアンモニア水のアンモニア濃度は10質量%~30質量%であると好ましい。当該アンモニア濃度が10質量%であると、タンタルが溶け残りにくくなり、タンタル乃至タンタル酸を水に完全に溶解させることができる。他方、当該アンモニア濃度が30質量%以下であると、アンモニアの飽和水溶液付近であるから好ましい。
 かかる観点から、アンモニア水のアンモニア濃度は10質量%以上であると好ましく、15質量%以上であるとより好ましく、20質量%以上であるとさらに好ましく、25質量%以上であると特に好ましい。他方、当該アンモニア濃度は30質量%以下であると好ましく、29質量%以下であるとより好ましく、28質量%以下であるとさらに好ましい。
 逆中和工程の際、アンモニア水に添加するフッ化タンタル水溶液の添加量は、NH/Taのモル比が95以上500以下とするのが好ましく、100以上450以下とするのがより好ましく、110以上400以下とするのがさらに好ましい。また、アンモニア水に添加するフッ化タンタル水溶液の添加量は、アミンや薄いアンモニア水に溶けるタンタル酸化合物が生成する観点から、NH/HFのモル比が3.0以上とするのが好ましく、4.0以上とするとより好ましく、5.0以上とするとさらに好ましい。他方、コスト低減の観点から、NH/HFのモル比が100以下とするのが好ましく、50以下とするとより好ましく、40以下とするとさらに好ましい。
 逆中和工程において、フッ化タンタル水溶液のアンモニア水への添加に係る時間は、10分以内であると好ましく、8分以内であるとより好ましく、5分以内であるとさらに好ましい。すなわち、時間をかけて徐々にフッ化タンタル水溶液を添加するのではなく、例えば一気に投入するなど、出来るだけ短い時間でアンモニア水へ投入し、中和反応させると好適である。また、逆中和工程では、アルカリ性のアンモニア水へ、酸性のフッ化タンタル水溶液を添加することから、高いpHを保持したまま中和反応させることができる。なお、フッ化タンタル水溶液及びアンモニア水は、常温のまま用いることができる。
 そして、逆中和工程では、逆中和法により得られたタンタルを含有する沈殿スラリーからフッ化物イオンを除去することにより、フッ化物イオンが除去されたタンタル含有沈殿物を得ることができる。逆中和法により得られたタンタルを含有する沈殿スラリーには、不純物として、フッ化アンモニウムなどのフッ素化合物が存在するため、これらを除去することが好ましい。
 フッ素化合物の除去方法は任意であるが、例えばアンモニア水や純水を用いた逆浸透ろ過、限外ろ過、精密ろ過などの膜を用いたろ過による方法や、遠心分離、その他の公知の方法を採用することができる。なお、タンタルを含有する沈殿スラリーからフッ化物イオンを除去する際、温度調節は特に必要なく、常温で実施することが可能である。
 具体的には、逆中和法により得られたタンタルを含有する沈殿スラリーを、遠心分離機を用いてデカンテーションし、遊離したフッ化物イオン量が100mg/L以下になるまで洗浄を繰り返すことにより、フッ化物イオンが除去されたタンタル含有沈殿物が得られる。なお、当該洗浄を繰り返すことにより、反応工程で、添加された過酸化水素も除去される。
 フッ化物イオンの除去に用いられる洗浄液はアンモニア水であると好適である。具体的には、1質量%以上35質量%以下のアンモニア水が好ましい。このようなアンモニア水であると、アンモニアがフッ化物イオンに対して適切であり不要なコストの増加を回避することができる。
 また、本発明のタンタル酸化合物分散液の製造方法は、上述した反応工程、及び逆中和工程を経て、生成されたタンタル含有沈殿物と、有機窒素化合物と混合する工程を有する。
 上述した反応工程、及び逆中和工程を経て、生成されたフッ化物イオンが除去されたタンタル含有沈殿物を純水などで希釈することにより、フッ化物イオンが除去された、タンタル含有沈殿スラリーが得られる。なお、タンタル含有沈殿スラリーのタンタル濃度は、タンタル含有沈殿スラリーの一部を採取し、110℃で24時間乾燥させた後、1,000℃で4時間焼成し、Taを生成する。このように生成したTaの重量を測定し、その重量からタンタル含有沈殿スラリーのタンタル濃度を算出することができる。
 そして、フッ化物イオンが除去された、タンタル含有沈殿スラリーと、有機窒素化合物と、純水とを混合した混合物を撹拌しながら5℃~90℃、0.1時間~48時間保持することにより、本発明のタンタル酸化合物分散液が得られる。
 タンタル含有沈殿スラリーと混合する有機窒素化合物は、上述したように脂肪族アミン、芳香族アミン、アミノアルコール、アミノ酸、ポリアミン、4級アンモニウム、グアニジン化合物、アゾール化合物であれば好ましく、特に脂肪族アミン、およびまたは、4級アンモニウム化合物であるとより好ましい。
 脂肪族アミンは、溶解性の観点から、タンタル含有沈殿スラリー中の脂肪族アミン濃度が40質量%以下になるように混合するのが好ましく、20質量%以下であるとより好ましい。また、同様な観点から、タンタル含有沈殿スラリー中の脂肪族アミン濃度が0.1質量%以上になるように混合するのが好ましく、1質量%以上になるように混合するのがより好ましく、また5質量%以上であってもよく、10質量%以上であってもよい。なお、脂肪族アミンは、メチルアミン、又はジメチルアミンであるとより好ましい。
 また、4級アンモニウム化合物は、溶解性の観点から、タンタル含有沈殿スラリー中の4級アンモニウム化合物濃度が40質量%以下になるように混合するのが好ましく、20質量%以下であるとより好ましい。また、同様な観点から、タンタル含有沈殿スラリー中の4級アンモニウム化合物濃度が0.1質量%以上になるように混合するのが好ましく、1質量%以上になるように混合するのがより好ましく、また5質量%以上であってもよく、10質量%以上であってもよい。なお、4級アンモニウム化合物は、水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)や水酸化テトラエチルアンモニウム(TEAH)であるとより好ましい。
 また、本発明のタンタル酸化合物分散液の製造方法は、上述した反応工程、及び逆中和工程を経て、生成されたタンタル酸含有沈殿物と、アルカリ金属元素、又はアルカリ土類金属元素からなる群から選択された1種以上の元素Mを含有する元素Mの水酸化物とを混合する工程を有する。ここで、元素Mの水酸化物は、水酸化リチウムであると好ましい。
 上述した反応工程、及び逆中和工程を経て、生成されたフッ化物イオンが除去されたタンタル含有沈殿物を純水などで希釈することにより、フッ化物イオンが除去された、タンタル含有沈殿スラリーが得られる。そして、フッ化物イオンが除去された、タンタル含有沈殿スラリーと、元素Mの水酸化物、例えば水酸化リチウム一水和物と、純水とを混合した混合物を撹拌しながら5℃~100℃、0.1時間~72時間保持することにより、本発明のタンタル酸化合物分散液が得られる。さらに、得られた本発明のタンタル酸化合物分散液に含まれるアンモニア成分を除去するために、以下の濃度調節工程を行ってもよい。濃度調節工程では、例えば60℃~90℃で1時間~100時間加熱撹拌した後、室温まで冷却する。その後、蒸発した溶媒(純水等)を補給するため、溶媒(純水等)を添加する。当該溶媒の添加量は、アンモニア成分を除去した後のタンタル酸化合物分散液のタンタル酸濃度が、アンモニア成分を除去する前のタンタル酸化合物分散液のタンタル酸濃度と一致するように調節する。
 具体的には、最終的な混合物のタンタル酸濃度がタンタルをTa換算で0.1質量%以上15質量%以下、且つリチウムとタンタルのモル比Li/Taが0.8以上1.5以下となるように、得られたタンタル含有沈殿スラリーと、水酸化リチウム一水和物と、純水と混合し、撹拌することにより、本発明のタンタル酸化合物分散液、すなわちタンタル酸リチウム分散液が得られる。また、本発明のタンタル酸化合物分散液に含まれる元素Mがリチウム以外の他のアルカリ金属元素、又はアルカリ土類金属元素から選択された1種の元素Mの場合も、元素Mとタンタルとのモル比M/Taは、0.8以上1.5以下であると好ましく、0.8以上1.3以下であるとより好ましく、0.9以上1.2以下であるとさらに好ましく、0.9以上1.1以下であると特に好ましい。さらに、本発明のタンタル酸化合物分散液に含まれる元素Mが複数元素の場合であっても、元素Mとタンタルとのモル比M/Taは、0.8以上1.5以下であると好ましく、0.8以上1.3以下であるとより好ましく、0.9以上1.2以下であるとさらに好ましく、0.9以上1.1以下であると特に好ましい。具体的には、元素Mが、リチウムと他のアルカリ金属元素、又はアルカリ土類金属元素との複数元素である場合や、リチウム以外のアルカリ金属元素、又はアルカリ土類金属から選択された複数元素である場合を含む。
 次に、本発明のタンタル酸化合物分散液中のタンタル酸化合物を含有するタンタル酸化合物粉末の製造方法について、以下説明する。
 タンタル酸化合物粉末の内、タンタル酸化合物の乾燥粉末の製造方法は、上述した本発明のタンタル酸化合物分散液の製造方法により得られたタンタル酸化合物分散液を静置炉内に載置し、加熱温度約60℃~200℃で1時間~72時間に亘って、乾燥、例えば真空乾燥などをすることにより、本発明のタンタル酸化合物分散液の水分が蒸発し、本発明のタンタル酸化合物分散液に含まれるタンタル酸化合物の結晶粒子を含有するタンタル酸化合物の乾燥粉末が得られる。
 一方、タンタル酸化合物の焼成粉末の製造方法は、上述したように本発明のタンタル酸化合物分散液を真空乾燥し、得られたタンタル酸化合物の乾燥粉末を静置炉内に載置し、大気下で、焼成温度が300℃以上1,200℃以下で、焼成時間が1時間以上72時間以下で焼成することにより、タンタル酸化合物の焼成粉末が得られる。
 なお、上述したタンタル酸化合物の乾燥粉末、及び焼成粉末を粉砕したものをタンタル酸化合物粉末として用いてもよい。また、粉砕されるか否かに拘らず、上述したタンタル酸化合物の乾燥粉末、及び焼成粉末を篩などによって分級して得られた篩下(微粒側)をタンタル酸化合物粉末として用いてもよい。篩上(粗粒側)は再度粉砕し、分級して用いてもよい。なお、ナイロン、またはフッ素樹脂によりコーティングした鉄球等が粉砕メディアとして投入された振動篩を使用して粉砕と分級とを兼ねることも可能である。このように分級と粉砕とを兼ねることにより、大き過ぎるタンタル酸化合物粉末が存在しても除去が可能である。具体的には、篩を用いて分級する場合、目開きが150μm~1,000μmのものを用いると好ましい。150μm~1,000μmであると、篩上の割合が多くなりすぎることがなく再粉砕を繰り返すことがなく、また篩下に再粉砕が必要なタンタル酸化合物粉末が分級されることがない。
 このようにして得られたタンタル酸化合物粉末を、分散媒として水や、有機溶媒と混合し、ビーズ等のメディアを用いて湿式粉砕することにより、タンタル酸化合物粉末分散液を得ることができる。ここで、分散媒として用いられる有機溶媒は、例えばアルコール類、エステル類、ケトン類、芳香族炭化水素類、脂肪族炭化水素類、エーテル類、及びそれらの混合溶媒が挙げられる。さらに、タンタル酸化合物粉末分散液を用いた、タンタル酸化合物膜の成膜性を向上させるために、樹脂成分等のバインダーを添加してもよい。バインダーとして用いられる樹脂成分は、例えばアクリル樹脂、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリスチレン、ポリカーボネート、グリコール系樹脂、セルロース系樹脂、及びそれらの混合樹脂、共重合樹脂が挙げられる。
 さらに、本発明のタンタル酸化合物分散液中のタンタル酸化合物を含有するタンタル酸化合物膜の製造方法について、以下説明する。
 タンタル酸化合物膜の内、タンタル酸化合物乾燥膜の製造方法は、タンタル酸化合物分散液を、基材の表面に塗布する塗布工程と、前記基材の表面に塗布された前記タンタル酸化合物分散液を乾燥し、乾燥膜を得る膜乾燥工程とを有する。
 具体的には、上述した本発明のタンタル酸化合物分散液の製造方法により得られたタンタル酸化合物分散液を、必要に応じて、例えば1μm孔径のフィルタで濾過しながらシリンジを用いて基材の表面上に滴下し、スピンコート(1,500rpm、30秒)により、塗布する。次に、110℃で30分間乾燥させることにより、基材の表面上にタンタル酸化合物乾燥膜を形成させる。
 タンタル酸化合物膜の内、タンタル酸化合物焼成膜の製造方法は、タンタル酸化合物分散液を、基材の表面に塗布する塗布工程と、前記基材の表面に塗布された前記タンタル酸化合物分散液を大気下、又は真空下で乾燥し、乾燥膜を得る膜乾燥工程と、当該乾燥膜を大気下で、焼成温度が300℃以上1,200℃以下で、焼成時間が1時間以上12時間以下で焼成し、焼成膜を得る膜焼成工程とを有する。
 具体的には、上述したようにタンタル酸化合物分散液を、基材の表面に塗布し、乾燥させることにより得られたタンタル酸化合物乾燥膜が形成された基材を、静置炉内に載置し、大気下、焼成温度が300℃以上1,200℃以下で、焼成時間が1時間以上12時間以下で焼成することにより、基材の表面上にタンタル酸化合物焼成膜を形成させる。
 さらに、上述した本発明のタンタル酸化合物分散液が被覆したリチウムイオン二次電池用正極活物質の製造方法について、以下説明する。
 本発明のタンタル酸化合物分散液が被覆したリチウムイオン二次電池用正極活物質の製造方法は、本発明のタンタル酸化合物分散液と、正極活物質と、必要に応じて水酸化リチウム水溶液とを混合して、タンタル酸化合物を含有する電池用正極活物質スラリーを生成する工程と、前記タンタル酸化合物を含有する電池用正極活物質スラリーを乾燥する工程と、を有することを特徴とする。
 先ず、本発明のタンタル酸化合物分散液である、タンタル酸リチウム分散液を純水で希釈したタンタル酸リチウム分散液中に、電池用正極活物質、例えばLiMn(メルク社製:スピネル型、粒径<0.5μm)を添加することにより、タンタル酸リチウムを含有するスラリーが得られる。そして、タンタル酸リチウムを含有するスラリーを撹拌しながら、水酸化リチウム水溶液を滴下し、10分間90℃に保持することにより、タンタル酸リチウムを含有する電池用正極活物質スラリーが生成される。
 電池用正極活物質として、上述したLiMnの他、LiCoO、LiNiO、LiFeO、LiMnO、LiFePO、LiCoPO、LiNiPO、LiMnPO、LiNi0.5Mn1.5、LiMn1/3Co1/3Ni1/3、LiCo0.2Ni0.4Mn0.4、モリブデン酸リチウム、LiMnO、LiNi0.8Co0.15Al0.05、LiMnO等を用いることができる。
 次に、タンタル酸リチウムを含有する電池用正極活物質スラリーを、炉内温度を110℃で保持し、15時間に亘って大気乾燥炉内で乾燥させることにより、タンタル酸リチウムにより被覆されたリチウムイオン二次電池用正極活物質を製造することができる。なお、本発明のタンタル酸化合物分散液が被覆したリチウムイオン二次電池用正極活物質の製造方法としては、上述した製造方法の他に、浸漬法、スプレー噴霧法、流動層法、循環流動層法、転動流動層法、共沈法などを用いてもよい。
 上述したタンタル酸リチウム分散液が被覆したリチウムイオン二次電池用正極活物質では、本発明のタンタル酸リチウム分散液を用いたが、本発明のタンタル酸リチウム分散液を乾燥させた乾燥粉末や、本発明のタンタル酸リチウム分散液を乾燥し、焼成した焼成粉末を分散媒に分散させたものを用いてもよい。
 なお、上述したリチウムイオン二次電池用正極活物質の製造方法では、電池用正極活物質を添加したが、適宜用途に合わせて変更してもよい。例えば、分散剤、pH調整剤、着色剤、増粘剤、湿潤剤、バインダー樹脂等を添加してもよい。
 上述したリチウムイオン二次電池用正極活物質の製造方法では、本発明のタンタル酸リチウム分散液を用いているが、有機窒素化合物を含有する本発明のタンタル酸化合物分散液に置き換えてもよく、同様な工程を経て、タンタル酸により被覆されたリチウムイオン二次電池用正極活物質を製造することができる。
 このように本発明のタンタル酸化合物分散液がリチウムイオン二次電池用正極活物質粒子表面を被覆していることにより、二次電池の正極活物質粒子のリチウムイオン二次電池の正極と電解質との間で生じる界面抵抗を低減させることができる。
 さらに、二次電池の正極活物質粒子のリチウムイオン二次電池の正極と電解質との間で生じる界面抵抗を低減させる目的として、本発明のタンタル酸化合物分散液と、ニオブ酸化合物、例えばニオブ酸リチウムやニオブ酸とを混合したタンタル酸化合物分散液により、リチウムイオン二次電池用正極活物質粒子表面を被覆してもよい。なお、本発明のタンタル酸化合物分散液とニオブ酸化合物とを混合したタンタル酸化合物分散液中の動的光散乱法によるタンタル酸化合物粒子径(D50)や、ニオブ酸化合物粒子径(D50)が100nm以下であるとよい。
 なお、本明細書において「X~Y」(X,Yは任意の数字)と表現する場合、特に断らない限り、「X以上Y以下」の意と共に、「好ましくはXより大きい」或いは「好ましくはYより小さい」旨の意も包含する。また、「X以上」(Xは任意の数字)或いは「Y以下」(Yは任意の数字)と表現する場合、「Xより大きいことが好ましい」或いは「Y未満であることが好ましい」旨の意図も包含する。
 本発明のタンタル酸化合物分散液は、極性溶媒、とりわけ水への分散性が高く、水に対する溶解性も良好で、且つ保存安定性に優れている。
 以下、本発明に係る実施形態のタンタル酸化合物分散液について、以下の実施例によりさらに説明する。但し、以下の実施例は、本発明を限定するものではない。
 (実施例1)
 三井金属鉱業社製水酸化タンタル137.9g(Ta濃度66質量%)を55質量%フッ化水素酸水溶液120gに溶解させ、イオン交換水を849mL添加することによって、フッ化タンタル水溶液(Ta濃度8.2質量%)を得た。
 このフッ化タンタル水溶液1,000gに、過酸化水素水27.5g(H濃度35質量%)を添加し(H/Taモル比=0.76)、5分間撹拌することにより、タンタル化合物水溶液を得た。
 このタンタル化合物水溶液1,000gを、アンモニア水(NH濃度25質量%)6.82Lに、10分間未満の時間で添加して(NH/Taモル比=245、NH/HFモル比=30.7)、反応液(pH11)を得た。この反応液はタンタル酸化合物水和物のスラリー、言い換えればタンタル含有沈殿物のスラリーであった。
 次に、この反応液を、遠心分離機を用いてデカンテーションし、遊離したフッ化物イオン量が100mg/L以下になるまで洗浄して、当該フッ化物イオンを除去したタンタル含有沈殿物を得た。この際、洗浄液にはアンモニア水を用いた。
 さらに、当該フッ化物イオンを除去したタンタル含有沈殿物を純水で希釈しタンタル含有沈殿スラリーを得た。このタンタル含有沈殿スラリーの一部を110℃で24時間乾燥後、1,000℃で4時間焼成することでTaを生成し、その重量からタンタル含有沈殿スラリーに含まれるTa濃度を算出した。
 そして、純水で希釈したタンタル含有沈殿スラリーと、有機窒素化合物として5質量%のジメチルアミンと、純水とを、最終的な混合物のタンタル濃度がTa換算で5質量%、且つTa/有機窒素化合物の重量比が1.0となるように混合することにより、実施例1に係るタンタル酸化合物分散液を得た。実施例1に係るタンタル酸化合物分散液のpHは12.0であった。
 (実施例2)
 実施例2では、純水で希釈したタンタル含有沈殿スラリーと混合される有機窒素化合物が20質量%のメチルアミンであること、及びTa/有機窒素化合物の重量比が4.0であること以外は、実施例1と同様な製造方法を実施し、実施例2に係るタンタル酸化合物分散液を得た。実施例2に係るタンタル酸化合物分散液のpHは12.9であった。
 (実施例3)
 実施例3では、純水で希釈したタンタル含有沈殿スラリーと混合される有機窒素化合物が5質量%の水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)であること以外は、実施例1と同様な製造方法を実施し、実施例3に係るタンタル酸化合物分散液を得た。実施例3に係るタンタル酸化合物分散液のpHは13.3であった。
 (実施例4)
 実施例4では、純水で希釈したタンタル含有沈殿スラリーと混合される有機窒素化合物が1質量%のジメチルアミンであること、及び最終的な混合物のタンタル濃度がTa換算で1質量%であること以外は、実施例1と同様な製造方法を実施し、実施例4に係るタンタル酸化合物分散液を得た。実施例4に係るタンタル酸化合物分散液のpHは11.4であった。
 (実施例5)
 実施例5では、純水で希釈したタンタル含有沈殿スラリーと混合される有機窒素化合物が10質量%のジメチルアミンであること、及び最終的な混合物のタンタル濃度がTa換算で10質量%であること以外は、実施例1と同様な製造方法を実施し、実施例5に係るタンタル酸化合物分散液を得た。実施例5に係るタンタル酸化合物分散液のpHは12.2であった。
 (実施例6)
 実施例6では、純水で希釈したタンタル含有沈殿スラリーと混合される有機窒素化合物が10質量%の水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)であること、及び最終的な混合物のタンタル濃度がTa換算で10質量%であること以外は、実施例1と同様な製造方法を実施し、実施例6に係るタンタル酸化合物分散液を得た。実施例6に係るタンタル酸化合物分散液のpHは13.9であった。
 (実施例7)
 実施例7では、過酸化水素水(H濃度35質量%)が、フッ化タンタル水溶液に対して、H/Taモル比=0.9となるように添加されること以外は、実施例1と同様な製造方法を実施し、実施例7に係るタンタル酸化合物分散液を得た。実施例7に係るタンタル酸化合物分散液のpHは11.9であった。
 (実施例8)
 実施例8では、過酸化水素水(H濃度35質量%)が、フッ化タンタル水溶液に対して、H/Taモル比=0.70となるように添加されること以外は、実施例1と同様な製造方法を実施し、実施例8に係るタンタル酸化合物分散液を得た。実施例8に係るタンタル酸化合物分散液のpHは12.0であった。
 (実施例9)
 実施例9では、純水で希釈したタンタル含有沈殿スラリーと混合される有機窒素化合物が20質量%のジメチルアミンであること、最終的な混合物のタンタル濃度がTa換算で12質量%であること、及びTa/有機窒素化合物の重量比が1.7であること以外は、実施例1と同様な製造方法を実施し、実施例9に係るタンタル酸化合物分散液を得た。実施例9に係るタンタル酸化合物分散液のpHは12.5であった。
 (実施例10)
 実施例10では、純水で希釈したタンタル含有沈殿スラリーと混合される有機窒素化合物が12質量%の水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)であること、最終的な混合物のタンタル濃度がTa換算で20質量%であること、及び最終的な混合物のTa/有機窒素化合物の重量比が0.6であること以外は、実施例1と同様な製造方法を実施し、実施例10に係るタンタル酸化合物分散液を得た。実施例10に係るタンタル酸化合物分散液のpHは14.1であった。
 (実施例11)
 実施例11では、純水で希釈したタンタル含有沈殿スラリーと混合される有機窒素化合物が4質量%のジメチルアミンであること、及び最終的な混合物のTa/有機窒素化合物の重量比が0.8であること以外は、実施例1と同様な製造方法を実施し、実施例11に係るタンタル酸化合物分散液を得た。実施例11に係るタンタル酸化合物分散液のpHは11.8であった。
 (実施例12)
 実施例12では、純水で希釈したタンタル含有沈殿スラリーと混合される有機窒素化合物が40質量%のジメチルアミンであること、最終的な混合物のタンタル濃度がTa換算で1質量%であること、及びTa/有機窒素化合物の重量比が40.0であること以外は、実施例1と同様な製造方法を実施し、実施例12に係るタンタル酸化合物分散液を得た。実施例12に係るタンタル酸化合物分散液のpHは13.4であった。
 (実施例13)
 実施例13では、純水で希釈したタンタル含有沈殿スラリーと混合される有機窒素化合物が35質量%のジメチルアミンであること、及び最終的な混合物のTa/有機窒素化合物の重量比が7.0であること以外は、実施例1と同様な製造方法を実施し、実施例13に係るタンタル酸化合物分散液を得た。実施例13に係るタンタル酸化合物分散液のpHは13.0であった。
 (実施例14)
 実施例14では、純水で希釈したタンタル含有沈殿スラリーと混合される有機窒素化合物が4質量%のジメチルアミン、0.5質量%のメチルアミン、及び0.5質量%の水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)の3種の有機窒素化合物を混合したものであること、及び最終的な混合物のTa/有機窒素化合物の重量比がそれぞれ0.8、0.1、0.1であること以外は、実施例1と同様な製造方法を実施し、実施例14に係るタンタル酸化合物分散液を得た。実施例14に係るタンタル酸化合物分散液のpHは12.1であった。
 (比較例1)
 比較例1では、純水で希釈したタンタル含有沈殿スラリーと混合される有機窒素化合物が30質量%のジメチルアミンであること、及び最終的な混合物のタンタル濃度がTa換算で30質量%であること以外は、実施例1と同様な製造方法を実施し、比較例1に係るタンタル酸化合物分散液を得た。比較例1に係るタンタル酸化合物分散液のpHは12.7であった。
 (比較例2)
 比較例2では、フッ化タンタル水溶液に過酸化水素水を添加しないこと、及び最終的な混合物のTa/有機窒素化合物の重量比が1.0であること以外は、実施例1と同様な製造方法を実施し、比較例2に係るタンタル酸化合物分散液を得た。比較例2に係るタンタル酸化合物分散液のpHは12.0であった。
 (比較例3)
 比較例3では、フッ化タンタル水溶液に過酸化水素水を添加しないこと、及び純水で希釈したタンタル含有沈殿スラリーに有機窒素化合物を添加しないこと以外は、実施例1と同様な製造方法を実施し、比較例3に係るタンタル酸化合物分散液を得た。比較例3に係るタンタル酸化合物分散液のpHは10.7であった。
 (比較例4)
 比較例4に係るタンタル酸化合物分散液は、以下のように生成した。
 三井金属鉱業社製水酸化タンタル137.9g(Ta濃度66質量%)を55質量%フッ化水素酸水溶液120gに溶解させ、イオン交換水を849mL添加することによって、フッ化タンタル水溶液(Ta濃度8.2質量%)を得た。
 このフッ化タンタル水溶液100gを、50質量%ジメチルアミン100mLに、10分未満の時間で添加した。その後、15分間撹拌し、一次反応液(pH11)を得た。この一次反応液を、アンモニア水(NH濃度25質量%)2Lに、10分未満の時間で添加し、二次反応液(pH11)を得た。この二次反応液はタンタル酸化合物水和物のスラリー、言い換えればタンタル含有沈殿物のスラリーであった。
 次に、この二次反応液を、遠心分離機を用いてデカンテーションし、遊離したフッ化物イオン量が100mg/L以下になるまで洗浄して、当該フッ化物イオンを除去したタンタル含有沈殿物を得た。この際、洗浄液にはアンモニア水を用いた。
 さらに、当該フッ化物イオンを除去したタンタル含有沈殿物を純水で希釈しタンタル含有沈殿スラリーを得た。このタンタル含有沈殿スラリーの一部を110℃で24時間乾燥後、1,000℃で4時間焼成することでTaを生成し、その重量からタンタル含有沈殿スラリーに含まれるTa濃度を算出した。
 そして、純水で希釈したタンタル含有沈殿スラリーと、有機窒素化合物として5質量%のジメチルアミンと、純水とを、最終的な混合物のタンタル濃度がTa換算で5質量%、且つTa/有機窒素化合物の重量比が1.0となるように混合することにより、比較例4に係るタンタル酸化合物分散液を得た。比較例4に係るタンタル酸化合物分散液のpHは12.0であった。
 (比較例5)
 比較例5では、純水で希釈したタンタル含有沈殿スラリーと混合される有機窒素化合物が10質量%のジメチルアミンであること、最終的な混合物のタンタル濃度がTa換算で10質量%であること及び以外は、比較例4と同様な製造方法を実施し、比較例5に係るタンタル酸化合物分散液を得た。比較例5に係るタンタル酸化合物分散液のpHは12.1であった。
 (実施例15)
 実施例15に係るタンタル酸化合物分散液は、以下のように生成した。
 三井金属鉱業社製水酸化タンタル137.9g(Ta濃度66質量%)を55質量%フッ化水素酸水溶液120gに溶解させ、イオン交換水を849mL添加することによって、フッ化タンタル水溶液(Ta濃度8.2質量%)を得た。
 このフッ化タンタル水溶液1,000gに、過酸化水素水36.1g(H濃度35質量%)を添加し(H/Taモル比=1.0)、5分間撹拌することにより、タンタル化合物水溶液を得た。
 このタンタル化合物水溶液1,000gを、アンモニア水(NH3濃度25質量%)6.82Lに、1分間未満の時間で添加して(NH/Taモル比=245、NH/HFモル比=30.7)、反応液(pH11)を得た。この反応液はタンタル酸化合物水和物のスラリー、言い換えればタンタル含有沈殿物のスラリーであった。
 次に、この反応液を、遠心分離機を用いてデカンテーションし、遊離したフッ化物イオン量が100mg/L以下になるまで洗浄して、当該フッ化物イオンを除去したタンタル含有沈殿物を得た。この際、洗浄液にはアンモニア水を用いた。
 さらに、当該フッ化物イオンを除去したタンタル含有沈殿物を純水で希釈しタンタル含有沈殿スラリーを得た。このタンタル含有沈殿スラリーの一部を110℃で24時間乾燥後、1,000℃で4時間焼成することでTaを生成し、その重量からタンタル含有沈殿スラリーに含まれるTa濃度を算出した。
 そして、純水で希釈したタンタル含有沈殿スラリーと、0.54質量%の水酸化リチウムと、純水とを、最終的な混合物のタンタル濃度がTa換算で5質量%、且つLi/Taのモル比が1.0となるように混合することにより、実施例15に係るタンタル酸化合物分散液を得た。実施例15に係るタンタル酸化合物分散液のpHは12.2であり、アンモニア濃度は0.7質量%であった。
 (実施例16)
 実施例16では、最終的な混合物のタンタル濃度がTa換算で1質量%であること以外、実施例15と同様な製造方法を実施し、実施例16に係るタンタル酸化合物分散液を得た。実施例16に係るタンタル酸化合物分散液のpHは11.9であり、アンモニア濃度は0.2質量%であった。
 (実施例17)
 実施例17では、最終的な混合物のタンタル濃度がTa換算で10質量%であること以外、実施例15と同様な製造方法を実施し、実施例17に係るタンタル酸化合物分散液を得た。実施例17に係るタンタル酸化合物分散液のpHは12.3であり、アンモニア濃度は1.5質量%であった。
 (実施例18)
 実施例18では、最終的な混合物のLi/Taのモル比が0.8であること以外、実施例15と同様な製造方法を実施し、実施例18に係るタンタル酸化合物分散液を得た。実施例18に係るタンタル酸化合物分散液のpHは12.0であり、アンモニア濃度は0.7質量%であった。
 (実施例19)
 実施例19では、最終的な混合物のLi/Taのモル比が1.5であること以外、実施例15と同様な製造方法を実施し、実施例19に係るタンタル酸化合物分散液を得た。実施例19に係るタンタル酸化合物分散液のpHは12.4であり、アンモニア濃度は0.7質量%であった。
 (実施例20)
 実施例20では、実施例15で得られたタンタル酸化合物分散液をウォーターバスで70℃に加熱し、撹拌しながら10時間保持した後、室温まで冷却した。この加熱によって、蒸発した水分を補給するため、純水を添加し、タンタル濃度がTa換算で5質量%となるように濃度調節を行い、実施例20に係るタンタル酸化合物分散液を得た。実施例20に係るタンタル酸化合物分散液のpHは11.8であり、アンモニア濃度は0.02質量%であった。
 (実施例21)
 実施例21では、実施例15で得られたタンタル酸化合物分散液をウォーターバスで80℃に加熱し、撹拌しながら10時間保持した後、室温まで冷却した。この加熱によって、蒸発した水分を補給するため、純水を添加し、タンタル濃度がTa換算で5質量%となるように濃度調節を行い、実施例20に係るタンタル酸化合物分散液を得た。実施例21に係るタンタル酸化合物分散液のpHは11.7であり、アンモニア濃度は0.006質量%であった。
 (比較例6)
 比較例6では、最終的な混合物のタンタル濃度がTa換算で15質量%であること以外、実施例15と同様な製造方法を実施し、比較例6に係るタンタル酸化合物分散液を得た。比較例6に係るタンタル酸化合物分散液のpHは測定不能であった。
 (比較例7)
 比較例7に係るタンタル酸化合物分散液は、以下のように生成した。
 三井金属鉱業社製水酸化タンタル137.9g(Ta濃度66質量%)に、純水1,824g及び過酸化水素水1,285g(H濃度35質量%)を添加し(H/Taモル比=32.1)、0.5時間撹拌することにより、タンタル含有分散液を得た。
 次に、このタンタル含有分散液3,246.9gを、アンモニア水(NH濃度25質量%)168.4mLに、10分間未満の時間で添加して(NH/Taモル比=6.0)、反応液(pH11)を得た。
 そして、この反応液と、0.289質量%の水酸化リチウムとを、最終的な混合物のタンタル濃度がTa換算で2.7質量%、且つLi/Taのモル比が1.0となるように混合することにより、比較例7に係るタンタル酸化合物分散液を得た。比較例7に係るタンタル酸化合物分散液のpHは12.1であった。
 (比較例8)
 比較例8では、過酸化水素水が、H/Taモル比=1.0となるように水酸化タンタルへ添加されたこと以外、比較例7と同様な製造方法を実施し、比較例8に係るタンタル酸化合物分散液を得た。比較例8に係るタンタル酸化合物分散液のpHは12.1であった。
 (比較例9)
 比較例9では、過酸化水素水が、フッ化タンタル水溶液へ添加されていないこと以外、実施例15と同様な製造方法を実施し、比較例9に係るタンタル酸化合物分散液を得た。比較例9に係るタンタル酸化合物分散液のpHは12.2であった。
 (比較例10)
 比較例10に係るタンタル酸化合物分散液は、以下のように生成した。
 三井金属鉱業社製水酸化タンタル137.9g(Ta濃度66質量%)を55質量%フッ化水素酸水溶液120gに溶解させ、イオン交換水を849mL添加することによって、フッ化タンタル水溶液(Ta濃度8.2質量%)を得た。
 このフッ化タンタル水溶液100gを、50質量%ジメチルアミン100mLに、10分未満の時間で添加した。その後、15分間撹拌し、一次反応液(pH11)を得た。この一次反応液を、アンモニア水(NH濃度25質量%)2Lに、10分未満の時間で添加し、二次反応液(pH11)を得た。この二次反応液はタンタル酸化合物水和物のスラリー、言い換えればタンタル含有沈殿物のスラリーであった。
 次に、この二次反応液を、遠心分離機を用いてデカンテーションし、遊離したフッ化物イオン量が100mg/L以下になるまで洗浄して、当該フッ化物イオンを除去したタンタル含有沈殿物を得た。この際、洗浄液にはアンモニア水を用いた。
 さらに、当該フッ化物イオンを除去したタンタル含有沈殿物を純水で希釈しタンタル含有沈殿スラリーを得た。このタンタル含有沈殿スラリーの一部を110℃で24時間乾燥後、1,000℃で4時間焼成することでTaを生成し、その重量からタンタル含有沈殿スラリーに含まれるTa濃度を算出した。
 そして、純水で希釈したタンタル含有沈殿スラリーと、0.54質量%の水酸化リチウムと、純水とを、最終的な混合物のタンタル濃度がTa換算で5質量%、且つLi/Taのモル比が1.0となるように混合することにより、比較例10に係るタンタル酸化合物分散液を得た。比較例10に係るタンタル酸化合物分散液のpHは12.2であった。
 そして、実施例1~21、及び比較例1~10のタンタル酸化合物分散液について、次のような物性を測定した。以下、測定した物性値、及びその物性値の測定方法を示すとともに、実施例1~10、及び比較例1~5のタンタル酸化合物分散液の測定結果を表1に示し、実施例15~21、及び比較例6~10のタンタル酸化合物分散液の測定結果を表2に示す。
 〈元素分析〉
 必要に応じて試料を希塩酸で適度に希釈し、ICP発光分析(アジレント・テクノロジー社製:AG-5110)を用いて、JIS K0116:2014に準拠し、実施例1~14、及び比較例1~5に係るタンタル酸化合物分散液については、Ta換算のTa重量分率を測定し、実施例15~21、及び比較例6~10に係るタンタル酸化合物分散液については、Ta換算のTa重量分率、又はLi換算のLi重量分率を測定した。
 〈アンモニア定量分析〉
 水酸化ナトリウム溶液(30g/100ml)25mlを、試料溶液1~5mlに加え、この混合液を沸騰させて蒸留し、その蒸留液(約200ml)を純水20mlと硫酸0.5mlとを入れた容器に流出させることによりアンモニアを分離した。次に、分離したアンモニアを250mlのメスフラスコに転移し純水で250mlに定容した。さらに、250mlに定容した溶液を100mlのメスフラスコに10ml分取し、分取した溶液に、水酸化ナトリウム溶液(30g/100mL)1mlを加え、純水で100mlに定容した。このようにして得られた溶液をイオンメータ(本体:HORIBA F-53、電極:HORIBA 500 2A)を用いて定量分析することにより、実施例15~21に係るタンタル酸化合物分散液中に含まれるアンモニア濃度(質量%)を測定した。
 〈pH測定〉
 実施例1~21、及び比較例1~10に係るタンタル酸化合物分散液にpHメータ(HORIBA製:ガラス電極式水素イオン濃度指示器 D-51)の電極(HORIBA製:スタンダード ToupH 電極 9615S-10D)、液温が25℃に安定したことを確認した後、pHを測定した。
 〈動的光散乱法〉
 粒度分布の評価は、ゼータ電位・粒径・分子量測定システム(大塚電子株式会社製:ELSZ-2000)を用いて、JIS Z 8828:2019に準じた動的光散乱法により行った。また、測定直前に測定対象である実施例1~21、及び比較例1~10に係るタンタル酸化合物分散液中の埃等を除去するため、1μm孔経のフィルタで当該分散液を濾過して、フィルタリングを行った。そして、超音波洗浄機(アズワン社製:VS-100III)にて、28kHz、3分間の超音波処理を実施し、超音波を用いた分散処理を行った。さらに、D50は体積分率にして50%に至る粒子径を示す。表1の「初期粒子径D50(nm)」とは、生成された直後のタンタル酸化合物分散液中のタンタル酸化合物粒子径(D50)をいう。また、表1の「経時粒子径D50(nm)」とは、室温25℃に設定した恒温器内で1カ月静置した後のタンタル酸化合物分散液中のタンタル酸化合物粒子径(D50)をいう。そして、測定した「初期粒子径D50(nm)」及び「経時粒子径D50(nm)」を、評価基準「A」、「B」、「C」、又は「D」により評価した。評価基準「A」は、「D50≦10nm」を満たすものを示す。評価基準「B」は、「10nm<D50≦50nm」を満たすものを示す。評価基準「C」は、「50nm<D50≦100nm」を満たすものを示す。評価基準「D」は、「100nm<D50」を満たすものを示す。なお、上述したフィルタリングは、「初期粒子径D50(nm)」の測定時に行ったが、「経時粒子径D50(nm)」の測定時は行わず、超音波処理のみを実施した。
 〈経時安定性試験〉
 実施例1~21、及び比較例1~10に係るタンタル酸化合物分散液を室温25℃に設定した恒温器内で1カ月間静置した後、白色沈殿やゲル化の有無を目視観察することにより行った。白色沈殿やゲル化が一つも観察されなかったものは経時安定性を有するとして「○」と評価し、白色沈殿やゲル化が一つでも観察されたものは経時安定性を有しないとして「×」と評価した。ここで、ゲル化の判定は、各タンタル酸化合物分散液をプラスチック容器に入れ、当該容器を逆さまにした際、速やかに落下しない分散液をゲル化していると判定した。また、1カ月静置後の実施例1~21、及び比較例1~10のタンタル酸化合物分散液中のタンタル酸化合物の経時粒子径(D50)を、上述した動的光散乱法を用いて測定した。
 〈成膜性試験〉
 集電板の代替品であるガラス基板の表面に形成した塗膜の外観評価を光学顕微鏡で観察することによって行った。実施例1~21、及び比較例1~10に係るタンタル酸化合物分散液を2μm孔径のフィルタで濾過しながらシリンジを用いて、アセトンにより脱脂洗浄した後、乾燥を行った50mm×50mmのガラス基板に滴下し、スピンコート(1,500rpm、15秒)により、塗布した。そして、塗布した箇所を、自然乾燥することにより、ガラス基板上に塗膜を形成した。形成した塗膜の中央15mm×15mmの範囲において、光学顕微鏡(倍率:40倍)で当該ガラス基板を観察し、気泡、塗工ムラ、ひび割れが、一つも観察されなかったものは成膜性に優れているとして「○」と評価し、一つでも観察されたものを成膜性に優れていないとして「×」と評価した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
 表1に示す通り、実施例1~14に係るタンタル酸化合物分散液は、タンタルをTa換算で0.1質量%以上30質量%未満含有し、当該分散液中の動的光散乱法によるタンタル酸化合物の粒子径(D50)が100nm以下であると、分散媒への分散性が高く、溶解性も優れるものであった。また、実施例15~21に係るタンタル酸化合物分散液は、Ta換算で0.1質量%以上30質量%未満含有し、当該分散液中の動的光散乱法によるタンタル酸化合物の粒子径(D50)が100nm以下であると、分散媒への分散性が高く、溶解性も優れるものであった。
 実施例1~21に係るタンタル酸化合物分散液は、1カ月経過した後であってもタンタル酸化合物の経時粒子径(D50)は初期粒子径(D50)と比して大きな差は見られず、経時安定性に優れるものであった。なお、比較例1~3、7~10に係るタンタル酸化合物分散液は、沈殿物が見られた。また、比較例4、5に係るタンタル酸化合物分散液中のタンタル酸化合物の初期粒子径(D50)及び経時粒子径(D50)は100nm以上となり、経時安定性の面でも劣っていた。さらに、比較例6に係るタンタル酸化合物分散液中のタンタル酸化合物の初期粒子径(D50)及び経時粒子径(D50)は、ゲル化のため測定が不可能であった。
 実施例15~21に係るタンタル酸化合物分散液は、リチウムとタンタルのモル比Li/Taが0.8以上2.0以下であり、当該分散液中のタンタル酸濃度がタンタルをTa換算で0.1質量%以上15質量%以下であると、長期保管時の安定性が向上した。
 実施例1~21に係るタンタル酸化合物分散液は、当該分散液のpHが7超であると、経時安定性に優れていた。なお、比較例6に係るタンタル酸化合物分散液は、ゲル化しており、pHを測定することができなかった。
 実施例1~21に係るタンタル酸化合物分散液から形成したタンタル酸化合物膜は、各タンタル酸化合物分散液から形成した塗膜を光学顕微鏡で観察した結果、当該塗膜中に粗粒子が存在せず、且つ気泡、塗工ムラ、ひび割れが一つも観察されず、成膜性に優れるものであった。
 本明細書開示の発明は、各発明や実施形態の構成の他に、適用可能な範囲で、これらの部分的な構成を本明細書開示の他の構成に変更して特定したもの、或いはこれらの構成に本明細書開示の他の構成を付加して特定したもの、或いはこれらの部分的な構成を部分的な作用効果が得られる限度で削除して特定した上位概念化したものを含む。
 本発明に係るタンタル酸化合物分散液は、極性溶媒、とりわけ水への分散性が高く、水に対する溶解性も良好で、且つ保存安定性も優れていることから、リチウムイオン二次電池の正極活物質を被覆するものとして好適である。また、本発明に係るタンタル酸化合物分散液が保存安定性に優れており、経時変化によって、沈殿物が生じることによる不良品の発生率を抑えられることから、廃棄物を減らすことができ、廃棄物の処分におけるエネルギーコストも削減することが可能となる。さらに、本発明に係るタンタル酸化合物分散液は、成膜の形成も良好であるため、被覆されたリチウムイオン二次電池の正極活物質においても同様に廃棄物を減らすことができ、また不良品の発生率を抑えることができる。これらの点により、天然資源の持続可能な管理及び効率的な利点、並びに脱炭素(カーボンニュートラル)化を達成することにつながる。

Claims (19)

  1.  タンタルをTa換算で0.1質量%以上30質量%未満含有するタンタル酸化合物分散液であって、
     動的光散乱法による前記タンタル酸化合物分散液中のタンタル酸化合物粒子径(D50)が100nm以下であることを特徴とするタンタル酸化合物分散液。
  2.  有機窒素化合物を含有することを特徴とする請求項1に記載のタンタル酸化合物分散液。
  3.  アルカリ金属元素、又はアルカリ土類金属元素からなる群から選択された1種以上の元素Mを含有することを特徴とする請求項1に記載のタンタル酸化合物分散液。
  4.  前記元素Mが、Liであることを特徴とする請求項3に記載のタンタル酸化合物分散液。
  5.  前記タンタル酸化合物分散液中のタンタル酸濃度がTa換算で0.1質量%以上15質量%以下であることを特徴する請求項4に記載のタンタル酸化合物分散液。
  6.  前記タンタル酸化合物分散液中のタンタル酸リチウムのリチウム(Li)とタンタル(Ta)とのモル比Li/Taが、0.8以上1.5以下であることを特徴する請求項4、又は5に記載のタンタル酸化合物分散液。
  7.  前記タンタル酸化合物分散液が、水分散液であることを特徴とする請求項1~5の何れか1つに記載のタンタル酸化合物分散液。
  8.  前記タンタル酸化合物粒子径(D50)が30nm以下であることを特徴とする請求項1~5の何れか1つに記載のタンタル酸化合物分散液。
  9.  前記タンタル酸化合物分散液のpHが7超であることを特徴とする請求項1~5の何れか1つに記載のタンタル酸化合物分散液。
  10.  請求項1~5の何れか1つに記載のタンタル酸化合物分散液中のタンタル酸化合物を含有することを特徴とするタンタル酸化合物粉末。
  11.  請求項1~5の何れか1つに記載のタンタル酸化合物分散液中のタンタル酸化合物を含有することを特徴とするタンタル酸化合物膜。
  12.  請求項1~5の何れか1つに記載のタンタル酸化合物分散液を含有することを特徴とするコーティング剤。
  13.  請求項10に記載のタンタル酸化合物粉末を含有することを特徴とするコーティング剤。
  14.  請求項1~5の何れか一つに記載の前記タンタル酸化合物分散液に含まれるタンタル酸化合物でその表面が被覆されていることを特徴とするリチウムイオン二次電池用正極活物質。
  15.  請求項14に記載された前記正極活物質が被覆した正極を有することを特徴とするリチウムイオン二次電池。
  16.  過酸化水素を、フッ化タンタル水溶液に添加し、タンタル化合物水溶液を生成する反応工程と、
     前記タンタル化合物水溶液を、アルカリ性水溶液に添加し、タンタル含有沈殿物を生成する逆中和工程と、
     を有することを特徴とするタンタル酸化合物分散液の製造方法。
  17.  前記タンタル含有沈殿物と、有機窒素化合物とを混合する工程を有することを特徴とする請求項16に記載のタンタル酸化合物分散液の製造方法。
  18.  前記タンタル含有沈殿物と、アルカリ金属元素、又はアルカリ土類金属元素からなる群から選択された1種以上の元素Mを含有する元素Mの水酸化物とを混合する工程を有することを特徴とする請求項16に記載のタンタル酸化合物分散液の製造方法。
  19.  前記元素Mの水酸化物は、水酸化リチウムであることを特徴とする請求項18に記載のタンタル酸化合物分散液の製造方法。
PCT/JP2022/039739 2022-03-11 2022-10-25 タンタル酸化合物分散液およびその製造方法 WO2023171020A1 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2023555568A JPWO2023171020A1 (ja) 2022-03-11 2022-10-25

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022-037839 2022-03-11
JP2022037839 2022-03-11

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2023171020A1 true WO2023171020A1 (ja) 2023-09-14

Family

ID=87936547

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2022/039739 WO2023171020A1 (ja) 2022-03-11 2022-10-25 タンタル酸化合物分散液およびその製造方法

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JPWO2023171020A1 (ja)
TW (1) TW202335970A (ja)
WO (1) WO2023171020A1 (ja)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS573717A (en) * 1980-06-03 1982-01-09 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd Precipitation of tantalum or niobium compound
JP2006117460A (ja) * 2004-10-20 2006-05-11 Taki Chem Co Ltd 酸化タンタルゾル及びその製造方法
JP2008044833A (ja) * 2006-07-13 2008-02-28 Hc Starck Gmbh ナノサイズないしマイクロサイズの粒子を製造するための水熱法
JP2011157553A (ja) * 2002-11-13 2011-08-18 Nippon Soda Co Ltd 金属−酸素結合を有する分散質、金属酸化物膜、及び単分子膜
JP2021169387A (ja) * 2020-04-15 2021-10-28 セイコーエプソン株式会社 固体組成物の製造方法および機能性セラミックス成形体の製造方法
WO2022018980A1 (ja) * 2020-07-22 2022-01-27 三井金属鉱業株式会社 タンタル酸分散液及びタンタル酸化合物

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS573717A (en) * 1980-06-03 1982-01-09 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd Precipitation of tantalum or niobium compound
JP2011157553A (ja) * 2002-11-13 2011-08-18 Nippon Soda Co Ltd 金属−酸素結合を有する分散質、金属酸化物膜、及び単分子膜
JP2006117460A (ja) * 2004-10-20 2006-05-11 Taki Chem Co Ltd 酸化タンタルゾル及びその製造方法
JP2008044833A (ja) * 2006-07-13 2008-02-28 Hc Starck Gmbh ナノサイズないしマイクロサイズの粒子を製造するための水熱法
JP2021169387A (ja) * 2020-04-15 2021-10-28 セイコーエプソン株式会社 固体組成物の製造方法および機能性セラミックス成形体の製造方法
WO2022018980A1 (ja) * 2020-07-22 2022-01-27 三井金属鉱業株式会社 タンタル酸分散液及びタンタル酸化合物

Also Published As

Publication number Publication date
TW202335970A (zh) 2023-09-16
JPWO2023171020A1 (ja) 2023-09-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Sclar et al. The effect of ZnO and MgO coatings by a sono-chemical method, on the stability of LiMn1. 5Ni0. 5O4 as a cathode material for 5 V Li-ion batteries
JP6189649B2 (ja) 正極活物質粉末およびその製造法
Li et al. Improvements of dispersion homogeneity and cell performance of aqueous-processed LiCoO2 cathodes by using dispersant of PAA–NH4
US11228030B2 (en) Solution and method for producing the same, and a method for producing active material for secondary battery
JP2018104242A (ja) アルカリ金属安定型ニオブ酸ゾル
EP3002806B1 (en) Method for manufacturing an electrode material
JP2018530871A (ja) リチウムイオン電池
JP2023153202A (ja) ニオブ酸リチウム溶液およびその製造方法
CN113186535B (zh) 一种固态电解质及其制备方法和阴极保护系统
WO2023171020A1 (ja) タンタル酸化合物分散液およびその製造方法
WO2024090405A1 (ja) タングステン酸リチウム分散液およびその製造方法
US10062899B2 (en) Method for preparing graphite-titanium oxide composite
WO2024090404A1 (ja) 金属酸リチウム混合液およびその製造方法
JP7338093B2 (ja) モリブデン酸溶液およびその製造方法、酸化モリブデン粉末およびその製造方法
CN111010887A (zh) 正极材料的制备方法、正极材料及锂离子电池
WO2024090406A1 (ja) ニオブ酸リチウム分散液
WO2023013287A1 (ja) タングステン酸溶液およびその製造方法、酸化タングステン粉末およびその製造方法
US10944102B2 (en) Solution-based formation of a nanostructured, carbon-coated, inorganic composite
WO2023013289A1 (ja) ジルコニウム酸溶液およびその製造方法、酸化ジルコニウム粉末およびその製造方法
TWI840868B (zh) 鋯酸溶液及其製造方法、氧化鋯粉末及其製造方法
WO2023013288A1 (ja) ニオブ酸塩分散水溶液およびその製造方法
EP4382484A1 (en) Molybdic acid solution and method for producing same, molybdenum oxide powder and method for producing same
JP7379422B2 (ja) 被覆活物質およびその製造方法
EP4382485A1 (en) Tungstic acid solution and method for producing same, and tungsten oxide powder and method for producing same
JP2023021925A (ja) 電極活物質被覆用リチウム含有酸化物前駆体溶液とその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2023555568

Country of ref document: JP

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 22930996

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1