JP7493112B2 - 調理装置 - Google Patents

Description

本発明は、調理装置に関するものであり、より詳細には高い圧力で調理材料を調理することができる調理装置に関するものである。

一般に、調理装置の代表的な例として電気圧力炊飯器は、ご飯を炊くことができる炊事機能と、炊事されたご飯を一定温度で維持させることができる保温機能を選択的に行うことができるようになった装置である。電気圧力炊飯器は本体の上部に蒸気排出孔が形成された本体蓋が前記本体に開閉可能に設置され、前記本体の内部には内釜が着脱可能に内蔵され、この内釜を覆えるように内釜蓋が別途に備えられ得る。本体内には前記内釜に収容された調理材料、即ち、米や雑穀、その他の食材に熱を伝達して調理できるようにする誘導加熱方式または熱板方式のヒーターが備えられる。

本発明の技術的思想が解決しようとする課題は、ユーザーの利便性及び調理品質を向上させることができる調理装置を提供することにある。

本開示の一実施例による調理装置は、内釜が収容される本体；前記本体に結合される蓋カバー内に設けられたトッププレート；前記トッププレートの枠に沿って回転可能に前記トッププレート上に結合された回転カバー；前記内釜の収容空間と連通する第１下部流路を含む第１下部シリンダ、前記第１下部シリンダ上にあり第１上部流路を含む第１上部シリンダ、前記第１上部シリンダ上にあり前記内釜の前記収容空間の蒸気圧により前記第１上部流路を開閉するように構成された第１重り、及び前記第１下部流路と前記第１上部流路が連通するように前記第１下部流路の流出口を開放する開放位置と前記第１下部流路と前記第１上部流路が連通しないように前記第１下部流路の前記流出口を閉鎖する閉鎖位置の間で転換するように構成されたシャッター構造体を含む第１圧力制御装置；及び前記内釜の前記収容空間と連通する第２流路を有する第２シリンダ、及び前記第２シリンダ上にあり前記内釜の前記収容空間の蒸気圧により前記第２流路を開閉するように構成された第２重りを含む第２圧力制御装置；を含む。

例示的な実施例において、前記第１圧力制御装置は、前記内釜の前記収容空間の蒸気圧を第１圧力で維持するように構成され、前記第２圧力制御装置は、前記内釜の前記収容空間の蒸気圧を前記第１圧力より高い第２圧力で維持するように構成され得る。

例示的な実施例において、前記シャッター構造体は、前記第１下部シリンダに結合されたシャッターフレーム；前記シャッターフレームに移動可能に装着されたシャッターロッド；前記第１下部流路の前記流出口と向き合う前記シャッターロッドの端部に結合された弾性カバー；及び前記シャッターロッドを弾性支持するように構成された第１弾性体；を含み得る。

例示的な実施例において、前記シャッター構造体が前記閉鎖位置に固定されるように前記シャッター構造体を加圧するように構成されたプッシュ構造体をさらに含み、前記プッシュ構造体は、前記回転カバーに結合され、前記回転カバーの回転角度によって前記シャッター構造体を選択的に加圧するように構成され得る。

例示的な実施例において、前記プッシュ構造体は、前記回転カバーに結合された固定本体；前記固定本体に装着された第２弾性体；及び前記第２弾性体に弾性支持され、前記シャッターロッドを加圧する移動本体；を含み得る。

例示的な実施例において、前記蓋カバーに昇降可能に装着されたリフトピンをさらに含み、前記リフトピンは前記回転カバーの回転角度によってピン－ダウン位置とピン－アップ位置の間で昇降するように構成され、前記リフトピンは前記ピン－アップ位置に位置し、前記第１上部シリンダの前記第１上部流路の流出口が強制開放されるように前記第１重りを持ち上げ、前記第２シリンダの前記第２流路の流出口が強制開放されるように前記第２重りを持ち上げるように構成され得る。

例示的な実施例において、前記内釜のフランジ部にかかるように構成された係止突起を含むロック構造体をさらに含み、前記ロック構造体は前記トッププレートに線状移動可能に装着され、前記ロック構造体は前記回転カバーの回転角度によって、前記係止突起が前記内釜の前記フランジ部に垂直方向に重畳するように位置したロック位置と前記ロック位置から半径方向の外側に離隔されたアンロック位置の間で線状移動するように構成され得る。

例示的な実施例において、前記回転カバーはその延長方向に沿って順に配置された第１位置、第２位置、第３位置、及び第４位置を含むガイド溝を含み、前記ガイド溝の前記第１位置、第３位置、及び第４位置はそれぞれ前記回転カバーの回転中心から第１距離に離隔された位置であり、前記ガイド溝の前記第２位置は前記回転カバーの前記回転中心から前記第１距離より大きい第２距離に離隔された位置であり、前記ロック構造体は前記ガイド溝に収容され、前記回転カバーの回転角度によって前記ガイド溝の前記第１～第４位置のうちいずれか１つに位置するガイド突起をさらに含み、前記ロック構造体は、前記ガイド突起が前記ガイド溝の前記第１位置、第３位置及び前記第４位置にあるとき、前記ロック位置に位置し、前記ロック構造体の前記ガイド突起が前記ガイド溝の前記第２位置にあるとき、前記アンロック位置に位置し得る。

例示的な実施例において、前記回転カバーの回転角度によってピン－ダウン位置とピン－アップ位置の間で昇降し、前記第１重り及び前記第２重りを選択的に加圧するように構成されたリフトピン；及び前記回転カバーの回転角度によって前記シャッター構造体を選択的に加圧して前記シャッター構造体を前記開放位置と前記閉鎖位置の間で転換させるように構成されたプッシュ構造体；をさらに含み、前記リフトピンは、前記ロック構造体の前記ガイド突起が前記ガイド溝の前記第１位置及び前記第２位置にあるとき、前記第１上部シリンダの前記第１上部流路の流出口及び前記第２シリンダの前記第２流路の流出口が強制開放されるように前記第１重り及び前記第２重りを持ち上げる前記ピン－アップ位置に位置し、前記ロック構造体の前記ガイド突起が前記ガイド溝の前記第３位置及び前記第４位置にあるとき、前記ピン－アップ位置から下降した前記ピン－ダウン位置に位置し、前記プッシュ構造体は、前記ロック構造体の前記ガイド突起が前記ガイド溝の前記第１位置、前記第２位置、及び前記第３位置にあるとき、前記シャッター構造体が前記開放位置に位置するように前記シャッター構造体から離隔され、前記ロック構造体の前記ガイド突起が前記ガイド溝の前記第４位置にあるとき、前記シャッター構造体が前記閉鎖位置に固定されるように前記シャッター構造体を加圧し得る。

本開示の他の実施例による調理装置は、内釜が収容される本体；前記本体に結合される蓋カバー内に設けられたトッププレート；前記トッププレートの枠に沿って回転可能に前記トッププレート上に結合された回転カバー；前記内釜の収容空間と連通する第１下部流路を含む第１下部シリンダ、第１下部流路と連通する第１上部流路を含む第１上部シリンダ、及び前記第１上部シリンダ上にあり前記内釜の前記収容空間の蒸気圧により前記第１上部流路を開閉するように構成された第１重りを含む第１圧力制御装置；前記内釜の収容空間と連通する第２下部流路を含む第２下部シリンダ、第２下部流路と連通する第２上部流路を含む第２上部シリンダ、及び前記第２上部シリンダ上にあり前記内釜の前記収容空間の蒸気圧により前記第２上部流路を開閉するように構成された第２重りを含む第２圧力制御装置；及び前記第１下部流路が閉鎖されるように前記第１下部流路に挿入される閉鎖位置と前記第１下部流路を開放させる開放位置の間で移動するように構成された第１シャッターロッド、前記第２下部流路が閉鎖されるように前記第２下部流路に挿入される閉鎖位置と前記第２下部流路を開放させる開放位置の間で移動するように構成された第２シャッターロッド、及び前記第１シャッターロッド及び前記第２シャッターロッドを駆動させるように構成されたアクチュエータを含むシャッター構造体；を含む。

例示的な実施例において、前記第１圧力制御装置は前記内釜の前記収容空間の蒸気圧を第１圧力で維持するように構成され、前記第２圧力制御装置は前記内釜の前記収容空間の蒸気圧を前記第１圧力より高い第２圧力で維持するように構成され得る。

例示的な実施例において、前記調理装置は前記蓋カバーに昇降可能に装着されたリフトピンをさらに含み、前記リフトピンは前記回転カバーの回転角度によってピン－ダウン位置とピン－アップ位置の間で昇降するように構成され得る。前記リフトピンは前記ピン－アップ位置に位置し、前記第１上部シリンダの前記第１上部流路の流出口が強制開放されるように前記第１重りを持ち上げ、前記第２上部シリンダの前記第２上部流路の流出口が強制開放されるように前記第２重りを持ち上げることができる。

例示的な実施例において、前記回転カバーは第１高さにある第１表面部及び前記第１高さより低い第２高さにある第２表面部を含み得る。前記リフトピンは前記回転カバーの前記第１表面部に支持されて前記ピン－アップ位置に位置し、前記回転カバーの前記第２表面部に支持されて前記ピン－アップ位置から下降した前記ピン－ダウン位置に位置し得る。

例示的な実施例において、前記調理装置は前記内釜のフランジ部にかかるように構成された係止突起を含むロック構造体をさらに含み得る。前記ロック構造体は前記トッププレートに線状移動可能に装着され得る。前記ロック構造体は前記回転カバーの回転角度によって、前記係止突起が前記内釜の前記フランジ部に垂直方向に重畳するように位置したロック位置と前記ロック位置から半径方向の外側に離隔されたアンロック位置の間で線状移動するように構成され得る。

例示的な実施例において、前記回転カバーはその延長方向に沿って順に配置された第１位置、第２位置、及び第３位置を含むガイド溝を含み得る。前記ガイド溝の前記第１位置及び第３位置はそれぞれ前記回転カバーの回転中心から第１距離に離隔された位置であってもよい。前記ガイド溝の前記第２位置は前記回転カバーの前記回転中心から前記第１距離より大きい第２距離に離隔された位置であってもよい。前記ロック構造体は前記ガイド溝に収容され、前記回転カバーの回転角度によって前記ガイド溝の前記第１～第３位置のうちいずれか１つに位置するガイド突起をさらに含み得る。前記ロック構造体は、前記ガイド突起が前記ガイド溝の前記第１位置及び前記第３位置にあるとき、前記ロック位置に位置し、前記ロック構造体の前記ガイド突起が前記ガイド溝の前記第２位置にあるとき、前記アンロック位置に位置し得る。

例示的な実施例において、前記調理装置は、前記回転カバーの回転角度によってピン－ダウン位置とピン－アップ位置の間で昇降し、前記第１重り及び前記第２重りを選択的に加圧するように構成されたリフトピンをさらに含み得る。前記リフトピンは、前記ロック構造体の前記ガイド突起が前記ガイド溝の前記第１位置及び前記第２位置にあるとき、前記第１上部シリンダの前記第１上部流路の流出口及び前記第２上部シリンダの前記第２上部流路の流出口が強制開放されるように前記第１重り及び前記第２重りを持ち上げる前記ピン－アップ位置に位置し、前記ロック構造体の前記ガイド突起が前記ガイド溝の前記第３位置にあるとき、前記ピン－アップ位置から下降した前記ピン－ダウン位置に位置し得る。前記シャッター構造体は、前記ロック構造体の前記ガイド突起が前記ガイド溝の前記第１位置及び前記第２位置にあるとき、前記第１下部流路及び第２下部流路が開放されるように前記第１シャッターロッド及び前記第２シャッターロッドを開放位置に位置させ、前記ロック構造体の前記ガイド突起が前記ガイド溝の前記第３位置にあるとき、前記内釜の前記収容空間の蒸気圧が第１圧力で維持されるように前記第１シャッターロッドを前記開放位置に位置させることができる。前記ロック構造体の前記ガイド突起が前記ガイド溝の前記第３位置にあるとき、前記内釜の前記収容空間の蒸気圧が前記第１圧力より高い第２圧力で維持されるように前記第１シャッターロッドを前記閉鎖位置に位置させ、前記第２シャッターロッドを前記開放位置に位置させるように構成され得る。

本開示のさらに他の実施例による調理装置は、内釜が収容される本体；前記本体に結合される蓋カバー内に設けられたトッププレート；前記トッププレートの枠に沿って回転可能に前記トッププレート上に結合された回転カバー；前記内釜の収容空間と連通する第１下部流路を含む第１下部シリンダ、第１下部流路と連通する第１上部流路を含む第１上部シリンダ、前記第１上部シリンダ上にあり前記内釜の前記収容空間の蒸気圧により前記第１上部流路を開閉するように構成された第１重り、及び前記第１下部流路を開閉するように構成されたシャッター構造体を含む第１圧力制御装置；及び前記内釜の前記収容空間と連通する第２流路を有する第２シリンダ、及び前記第２シリンダ上にあり前記内釜の前記収容空間の蒸気圧により前記第２流路を開閉するように構成された第２重りを含む第２圧力制御装置；を含む。前記シャッター構造体は、前記第１下部流路が閉鎖されるように前記第１下部流路に挿入される閉鎖位置と前記第１下部流路を開放させる開放位置の間で移動するように構成されたシャッターロッド；及び前記シャッターロッドを駆動させるように構成されたアクチュエータ；を含む。

例示的な実施例において、前記第１圧力制御装置は、前記内釜の前記収容空間の蒸気圧を第１圧力で維持するように構成され得る。前記第２圧力制御装置は前記内釜の前記収容空間の蒸気圧を前記第１圧力より高い第２圧力で維持するように構成され得る。

例示的な実施例において、前記調理装置は、前記蓋カバーに昇降可能に装着されたリフトピンをさらに含み得る。前記リフトピンは前記回転カバーの回転角度によってピン－ダウン位置とピン－アップ位置の間で昇降するように構成され得る。前記リフトピンは前記ピン－アップ位置に位置し、前記第１上部シリンダの前記第１上部流路の流出口が強制開放されるように前記第１重りを持ち上げ、前記第２シリンダの前記第２流路の流出口が強制開放されるように前記第２重りを持ち上げることができる。

例示的な実施例において、前記回転カバーは第１高さにある第１表面部及び前記第１高さより低い第２高さにある第２表面部を含み得る。前記リフトピンは前記回転カバーの前記第１表面部に支持されて前記ピン－アップ位置に位置し、前記回転カバーの前記第２表面部に支持されて前記ピン－アップ位置から下降した前記ピン－ダウン位置に位置し得る。

例示的な実施例において、前記調理装置は前記内釜のフランジ部にかかるように構成された係止突起を含むロック構造体をさらに含み得る。前記ロック構造体は前記トッププレートに線状移動可能に装着され得る。前記ロック構造体は前記回転カバーの回転角度によって、前記係止突起が前記内釜の前記フランジ部に垂直方向に重畳するように位置したロック位置と前記ロック位置から半径方向の外側に離隔されたアンロック位置の間で線状移動するように構成され得る。

例示的な実施例において、前記回転カバーはその延長方向に沿って順に配置された第１位置、第２位置、及び第３位置を含むガイド溝を含み得る。前記ガイド溝の前記第１位置及び第３位置はそれぞれ前記回転カバーの回転中心から第１距離に離隔された位置であってもよい。前記ガイド溝の前記第２位置は前記回転カバーの前記回転中心から前記第１距離より大きい第２距離に離隔された位置であってもよい。前記ロック構造体は前記ガイド溝に収容され、前記回転カバーの回転角度によって前記ガイド溝の前記第１～第３位置のうちいずれか１つに位置するガイド突起をさらに含み得る。前記ロック構造体は、前記ガイド突起が前記ガイド溝の前記第１位置及び前記第３位置にあるとき、前記ロック位置に位置し、前記ロック構造体の前記ガイド突起が前記ガイド溝の前記第２位置にあるとき、前記アンロック位置に位置し得る。

例示的な実施例において、前記調理装置は、前記回転カバーの回転角度によってピン－ダウン位置とピン－アップ位置の間で昇降し、前記第１重り及び前記第２重りを選択的に加圧するように構成されたリフトピンをさらに含み得る。前記リフトピンは、前記ロック構造体の前記ガイド突起が前記ガイド溝の前記第１位置及び前記第２位置にあるとき、前記第１上部シリンダの前記第１上部流路の流出口及び前記第２シリンダの前記第２流路の流出口が強制開放されるように前記第１重り及び前記第２重りを持ち上げる前記ピン－アップ位置に位置し、前記ロック構造体の前記ガイド突起が前記ガイド溝の前記第３位置にあるとき、前記ピン－アップ位置から下降した前記ピン－ダウン位置に位置し得る。前記シャッター構造体は、前記ロック構造体の前記ガイド突起が前記ガイド溝の前記第１位置及び前記第２位置にあるとき、前記第１下部流路が開放されるように前記開放位置に前記シャッターロッドを位置させ、前記ロック構造体の前記ガイド突起が前記ガイド溝の前記第３位置にあるとき、前記内釜の前記収容空間の蒸気圧が第１圧力で維持されるように前記シャッターロッドを前記開放位置に位置させ、前記ロック構造体の前記ガイド突起が前記ガイド溝の前記第３位置にあるとき、前記内釜の前記収容空間の蒸気圧が前記第１圧力より高い第２圧力で維持されるように前記シャッターロッドを前記閉鎖位置に位置させるように構成され得る。

本発明の例示的な実施例によれば、調理装置は多様な圧力調理モード、例えば無圧で調理する無圧調理モード（または、低圧調理モード）、第１圧力で調理する第１高圧調理モード、及び第２圧力で調理する第２高圧調理モードを提供するので、調理材料及びユーザーの好みによる調理を行うことができる。従って、ユーザーの利便性及び調理品質が向上し得る。

本発明の例示的な実施例による調理装置を示す斜視図である。 図１の蓋アセンブリーの主要構成を示す平面図である。 図１の蓋アセンブリーの主要構成を示す分離斜視図である。 蓋アセンブリーの一部を示す断面図である。 プッシュ構造体とシャッター構造体の動作を示す概念図である。 蓋アセンブリーの一部を示す側面図である。 ロック構造体を示す平面図である。 回転カバーの回転によるロック構造体の動作を示す断面図である。 回転カバーの一部を示す平面図である。 蓋アセンブリーの操作ハンドルを示す平面図である。 回転カバーの回転角度による蓋アセンブリーの動作状態を示す平面図である。 操作ハンドルの回転位置の変化による、ガイド突起の位置変化、ロック構造体の動作、リフトピンの動作、シャッター構造体の動作、及び内釜の圧力変化を示すテーブルである。 本発明の例示的な実施例による調理装置の蓋アセンブリーの主要構成を示す平面図である。 図１３の蓋アセンブリーの圧力制御装置を示す断面図である。 回転カバーの回転角度による蓋アセンブリーの動作状態を示す平面図である。 図１３の蓋アセンブリーを含む調理装置で、操作ハンドルの回転位置の変化による、ガイド突起の位置変化、ロック構造体の動作、リフトピンの動作、シャッター構造体の動作、及び内釜の圧力変化を示すテーブルである。 本発明の例示的な実施例による調理装置の蓋アセンブリーの主要構成を示す平面図である。 図１７の蓋アセンブリーの圧力制御装置を示す斜視図である。 図１７の蓋アセンブリーの圧力制御装置を示す断面図である。 図１７の蓋アセンブリーを含む調理装置で、操作ハンドルの回転位置の変化による、ガイド突起の位置変化、ロック構造体の動作、リフトピンの動作、シャッター構造体の動作、及び内釜の圧力変化を示すテーブルである。

以下、添付図面を参照して本開示の技術的思想の実施例について詳細に説明する。図面上の同一の構成要素に対しては同一の参照符号を使用し、これらに対する重複説明は省略する。

図１は、本発明の例示的な実施例による調理装置（１０）を示す斜視図である。図２は、図１の蓋アセンブリー（１００）の主要構成を示す平面図である。図３は、図１の蓋アセンブリー（１００）の主要構成を示す分離斜視図である。

図１～図３を参照すると、調理装置（１０）は調理材料を調理できる調理空間を含む本体（２００）と、前記本体（２００）に設置された蓋アセンブリー（１００）を含み得る。

本体（２００）は調理材料を収容するように構成された内釜（図８Ａの２１０）を収容し得る。内釜（２１０）は容器形態を有し、調理材料が収容される収容空間を有し得る。内釜（２１０）は本体（２００）の調理空間内に分離可能に搭載され得る。例示的な実施例において、内釜（２１０）はその上段枠に外側に突出したフランジ部（図８Ａの２１１）を含み得る。フランジ部（２１１）は内釜（２１０）の上段枠に沿って延び得る。内釜（２１０）の上段には内釜（２１０）の上段枠に沿って相互離隔された複数のフランジ部（２１１）が配置され得る。本体（２００）は内釜（２１０）に収容された調理材料を加熱するための加熱源を含み得る。例えば、本体（２００）は熱板方式のヒーターまたは誘導加熱方式で作動するヒーターを含み得る。

蓋アセンブリー（１００）は本体（２００）の調理空間及び/又は内釜（２１０）の収容空間を覆うことができる。蓋アセンブリー（１００）は調理材料に対する調理が進められる間に、内釜（２１０）の収容空間に調理に適した圧力が形成されるように内釜（２１０）の収容空間及び/又は本体（２００）の調理空間を密閉するように構成され得る。例示的な実施例において、蓋アセンブリー（１００）は本体（２００）の一側にヒンジ結合され、ヒンジ軸を基準として回動することができる。蓋アセンブリー（１００）は内釜（２１０）の収容空間を覆う閉じられた位置と、内釜（２１０）の収容空間を開放する開かれた位置の間で回動することができる。例示的な実施例において、蓋アセンブリー（１００）は本体（２００）に分離可能に結合されることもできる。

蓋アセンブリー（１００）は蓋カバー（１０１）、内釜カバー（１１０）、トッププレート（１２０）、回転カバー（１３０）、圧力制御装置（１０３）、ソレノイドバルブ（１６０）、ロック構造体（１７０）、及びプッシュ構造体（ｐｕｓｈｓｔｒｕｃｔｕｒｅ）（１９０）を含み得る。

蓋カバー（１０１）は本体（２００）に結合され得る。蓋カバー（１０１）は蓋アセンブリー（１００）の外観を形成し得る。蓋カバー（１０１）は内部に各種の電装部品が設置され得る空間を提供することができる。

内釜カバー（１１０）は内釜（２１０）に向き合う蓋アセンブリー（１００）の下部に配置され得る。内釜カバー（１１０）はトッププレート（１２０）及び/又は蓋カバー（１０１）に装着され得る。内釜カバー（１１０）は本体（２００）に収容された内釜（２１０）を覆うことができる。内釜カバー（１１０）は内釜（２１０）の収容空間と連通する第１下部蒸気ホール（１１１Ｈ１）、第２下部蒸気ホール（１１１Ｈ２）、及び第３下部蒸気ホール（１１１Ｈ３）を含み得る。内釜カバー（１１０）の枠部には内釜（２１０）と内釜カバー（１１０）の間の密閉のためのパッキング（１８９）が装着されるパッキング装着溝が形成され得る。

トッププレート（１２０）は内釜カバー（１１０）上に配置され得る。トッププレート（１２０）は蓋カバー（１０１）内に配置され、蓋カバー（１０１）に結合され得る。トッププレート（１２０）は内釜カバー（１１０）の第１下部蒸気ホール（１１１Ｈ１）に連通する第１上部蒸気ホール（１２１Ｈ１）、第２下部蒸気ホール（１１１Ｈ２）に連通する第２上部蒸気ホール（１２１Ｈ２）、及び第３下部蒸気ホール（１１１Ｈ３）に連通する第３上部蒸気ホール（１２１Ｈ３）を含み得る。

回転カバー（１３０）はトッププレート（１２０）上に配置され得る。回転カバー（１３０）は概ねトッププレート（１２０）の枠に沿って延びたリング形態を有し得る。回転カバー（１３０）はトッププレート（１２０）の枠に沿って回転可能にトッププレート（１２０）に結合され得る。回転カバー（１３０）は回転軸方向（Ｚ方向）に対し、第１回転方向（例えば、時計方向）及びこれに反対の第２回転方向（例えば、反時計方向）に回転するように構成され得る。

回転カバー（１３０）は蓋カバー（１０１）から突出している操作ハンドル（１８３）の回転に連動して回転するように構成され得る。操作ハンドル（１８３）の第１回転方向に沿う回転は回転カバー（１３０）の第１回転方向に沿う回転を引き起こし、操作ハンドル（１８３）の第２回転方向に沿う回転は回転カバー（１３０）の第２回転方向に沿う回転を引き起こし得る。

より具体的には、操作ハンドル（１８３）と回転カバー（１３０）は操作ハンドル（１８３）の回転時、操作ハンドル（１８３）の回転軸を基準に回動する連結レバー（図示せず）を通じて連結され得る。前記連結レバーの一端は操作ハンドル（１８３）に連結され、前記連結レバーの他端は回転カバー（１３０）の連結突起（１３１）に連結され得る。例えば、ユーザーの操作によって操作ハンドル（１８３）が回転すれば、操作ハンドル（１８３）の回転に連動して前記連結レバーが回動し、連結突起（１３１）を通じて連結レバーに連結された回転カバー（１３０）がトッププレート（１２０）の枠に沿って回転し得る。

回転カバー（１３０）はトッププレート（１２０）上で予め定められた回転角度範囲内で回転するように構成され得る。回転カバー（１３０）は回転カバー（１３０）の回転方向または回転カバー（１３０）の枠に沿って延びた回転拘束溝（１３３）を含み得る。回転拘束溝（１３３）は回転カバー（１３０）の回転移動を案内すると共に、回転カバー（１３０）の回転移動範囲を制限することができる。

より具体的には、ネジのような締結構造（１８５）は回転拘束溝（１３３）を通じて、回転拘束溝（１３３）の下にあるトッププレート（１２０）のボス（ｂｏｓｓ）（１２２）内に挿入され得る。回転カバー（１３０）の回転は前記締結構造（１８５）が回転拘束溝（１３３）の一端部にかかる位置から、前記締結構造（１８５）が回転拘束溝（１３３）の他端部にかかる位置の間で制限され得る。

圧力制御装置（１０３）は内釜（２１０）の収容空間の圧力レベルによって蒸気の排出を制御し、内釜（２１０）の収容空間の圧力を制御するように構成され得る。圧力制御装置（１０３）はトッププレート（１２０）上に装着された第１圧力制御装置（１４０）及び第２圧力制御装置（１５０）を含み得る。第１圧力制御装置（１４０）及び第２圧力制御装置（１５０）はそれぞれ重りを用いて内釜（２１０）の収容空間の圧力（即ち、蒸気圧）を予め定められた圧力で維持するように構成されたポアズバルブ（ｐｏｉｓｅｖａｌｖｅ）を含み得る。第１圧力制御装置（１４０）は第１下部蒸気ホール（１１１Ｈ１）及び第１上部蒸気ホール（１２１Ｈ１）を通じて内釜（２１０）の収容空間と連通する流路を有し得、前記流路に流入した蒸気を選択的に排出するように構成され得る。第２圧力制御装置（１５０）は第２下部蒸気ホール（１１１Ｈ２）及び第２上部蒸気ホール（１２１Ｈ２）を通じて内釜（２１０）の収容空間と連通する流路を有し得、前記流路に流入した蒸気を選択的に排出するように構成され得る。

第１圧力制御装置（１４０）は内釜（２１０）内に基準圧力（例えば、大気圧）より高い第１圧力を形成するように構成され、第２圧力制御装置（１５０）は内釜（２１０）内に第１圧力より高い第２圧力を形成するように構成され得る。例示的な実施例において、前記第１圧力は１.２ｋｇｆ／ｃｍ^２～１.８ｋｇｆ／ｃｍ^２の間であってもよい。例えば、前記第１圧力は１.５ｋｇｆ／ｃｍ^２であってもよい。例示的な実施例において、前記第２圧力は１.８ｋｇｆ／ｃｍ^２～２.４ｋｇｆ／ｃｍ^２の間であってもよい。例えば、前記第２圧力は２.１ｋｇｆ／ｃｍ^２であってもよい。

ソレノイドバルブ（１６０）はトッププレート（１２０）上に装着され得る。ソレノイドバルブ（１６０）は電気的制御信号によって内釜（２１０）の収容空間の蒸気を排出することで、内釜（２１０）の収容空間の圧力を調節するように構成され得る。ソレノイドバルブ（１６０）は第３下部蒸気ホール（１１１Ｈ３）及び第３上部蒸気ホール（１２１Ｈ３）を通じて内釜（２１０）の収容空間と連通する内部流路を含み得、電気的制御信号によって前記内部流路を選択的に開閉するように構成され得る。例えば、ソレノイドバルブ（１６０）は調理が完了した時点で前記内部流路を開放して内釜（２１０）内の残圧を外部に速かに放出するように構成され得る。

ロック構造体（１７０）は内釜（２１０）のフランジ部（２１１）にロックされるロック位置と、内釜（２１０）のフランジ部（２１１）に対してアンロックされるアンロック位置の間で移動するように構成され得る。ロック構造体（１７０）のロック位置とアンロック位置の間での転換は、回転カバー（１３０）の回転に連動してなされるように構成され得る。

ロック構造体（１７０）はトッププレート（１２０）上に装着され、選択的に内釜（２１０）のフランジ部（２１１）に噛み合うように構成された係止突起（図８Ａの１７７）を含み得る。ロック構造体（１７０）のロック位置はロック構造体（１７０）の係止突起（１７７）が内釜（２１０）のフランジ部（２１１）と垂直方向に重畳する位置であり、ロック構造体（１７０）のアンロック位置はロック構造体（１７０）の係止突起（１７７）が内釜（２１０）のフランジ部（２１１）と垂直方向に重畳しない位置であってもよい。内釜（２１０）に入れられた調理材料に対する調理が進められる間、ロック構造体（１７０）はロック位置に位置し、係止突起（１７７）が内釜（２１０）に固定されることにより、内釜（２１０）と内釜カバー（１１０）の間、または内釜（２１０）とトッププレート（１２０）の間が堅固に固定され得る。ロック構造体（１７０）に対しては、図７、図８Ａ、及び図８Ｂを参照してより詳細に後述する。

図４Ａ及び図４Ｂは、蓋アセンブリー（１００）の一部を示す断面図である。図５Ａ及び図５Ｂは、プッシュ構造体（１９０）とシャッター構造体（１４７）の動作を示す概念図である。

図４Ａは、シャッター構造体（１４７）が第１下部流路（１４１Ｐ）の流出口（１４１ＰＯ）を開放させるシャッター構造体（１４７）の開放位置にあるときの状態を示し、図４Ｂは、シャッター構造体（１４７）が第１下部流路（１４１Ｐ）の流出口（１４１ＰＯ）を閉鎖するシャッター構造体（１４７）の閉鎖位置にあるときの状態を示す。図５Ａは、図４Ａに対応したシャッター構造体（１４７）の開放位置にあるときの状態を示し、図５Ｂは、図４Ｂに対応したシャッター構造体（１４７）の閉鎖位置にあるときの状態を示す。

図１～図５Ｂを参照すると、第１圧力制御装置（１４０）は第１下部シリンダ（１４１）、第１上部シリンダ（１４３）、第１重り（１４５）、及びシャッター構造体（ｓｈｕｔｔｅｒｓｔｒｕｃｔｕｒｅ）（１４７）を含み得る。

第１下部シリンダ（１４１）は内釜（２１０）の収容空間と連通する第１下部流路（１４１Ｐ）を含み得る。第１下部流路（１４１Ｐ）はトッププレート（１２０）の第１上部蒸気ホール（１２１Ｈ１）及び内釜カバー（１１０）の第１下部蒸気ホール（１１１Ｈ１）を通じて内釜（２１０）の収容空間と連通することができる。第１下部流路（１４１Ｐ）はトッププレート（１２０）の第１上部蒸気ホール（１２１Ｈ１）に連通する流入口から、シャッター構造体（１４７）に対面する第１下部シリンダ（１４１）の一側面を通じて露出した流出口（１４１ＰＯ）まで延び得る。

第１上部シリンダ（１４３）は第１下部シリンダ（１４１）上に装着され得、第１上部流路（１４３Ｐ）を含み得る。第１上部流路（１４３Ｐ）は第１上部シリンダ（１４３）の下側に形成された流入口から、第１上部シリンダ（１４３）の上側に形成された流出口まで延び得る。

第１重り（１４５）は第１上部シリンダ（１４３）上に装着され得る。第１重り（１４５）は第１上部流路（１４３Ｐ）の流出口に挿入されるように構成された第１圧力突起（１４５１）を含み得る。第１圧力突起（１４５１）は第１上部流路（１４３Ｐ）に形成される蒸気圧のレベルによって、第１上部流路（１４３Ｐ）の流出口を開放または閉鎖することができる。

シャッター構造体（１４７）は第１下部流路（１４１Ｐ）の流出口（１４１ＰＯ）を開閉するように構成され得る。シャッター構造体（１４７）は第１下部流路（１４１Ｐ）の流出口（１４１ＰＯ）を開放する開放位置と、第１下部流路（１４１Ｐ）の流出口（１４１ＰＯ）を閉鎖する閉鎖位置の間で転換するように構成され得る。このようなシャッター構造体（１４７）の開放位置と閉鎖位置の間での転換は、後述するプッシュ構造体（１９０）により実現され得る。シャッター構造体（１４７）が第１下部流路（１４１Ｐ）の流出口（１４１ＰＯ）を開放する場合、第１下部流路（１４１Ｐ）と第１上部流路（１４３Ｐ）が互いに連通することができる。シャッター構造体（１４７）が第１下部流路（１４１Ｐ）の流出口（１４１ＰＯ）を閉鎖する場合、第１下部流路（１４１Ｐ）と第１上部流路（１４３Ｐ）が互いに分離され、互いに連通しないこともできる。

シャッター構造体（１４７）はシャッターフレーム（１４７１）、シャッターロッド（１４７３）、弾性カバー（１４７５）、及び第１弾性体（１４７７）を含み得る。

シャッターフレーム（１４７１）は第１下部シリンダ（１４１）に結合されて第１下部流路（１４１Ｐ）の流出口（１４１ＰＯ）と第１上部流路（１４３Ｐ）の流入口の間を連結する流路を形成し得る。シャッターロッド（１４７３）はシャッターフレーム（１４７１）に移動可能に装着され得る。シャッターロッド（１４７３）はシャッターフレーム（１４７１）の貫通ホールに挿入されて予め定められた移動範囲内で線状移動するように構成され得る。第１下部流路（１４１Ｐ）の流出口（１４１ＰＯ）と向き合うシャッターロッド（１４７３）の第１端部はシャッターフレーム（１４７１）の貫通ホールの直径より大きいサイズを有するように形成され得る。シャッターロッド（１４７３）の前記第１端部にはゴム等の優れた弾性を有する物質で形成された弾性カバー（１４７５）が結合され得る。弾性カバー（１４７５）はシャッターロッド（１４７３）の前記第１端部を覆うことができる。第１弾性体（１４７７）はシャッター構造体（１４７）の閉鎖位置から開放位置に向かう方向に、即ち、シャッターロッド（１４７３）の前記第１端部が第１下部流路（１４１Ｐ）の流出口（１４１ＰＯ）から遠くなる方向に、シャッターロッド（１４７３）を弾性支持するように構成され得る。即ち、シャッターロッド（１４７３）は第１弾性体（１４７７）により開放位置に弾性バイアスされ得る。例えば、第１弾性体（１４７７）は弾性スプリングであってもよい。第１弾性体（１４７７）はシャッターロッド（１４７３）の外周を取り囲み、第１弾性体（１４７７）はシャッターロッド（１４７３）の第２端部に隣接してシャッターロッド（１４７３）に固定された固定リング（１４７９）とシャッターフレーム（１４７１）の外側面の間に配置され得る。このように、シャッター構造体（１４７）の開放位置と閉鎖位置の間での転換はシャッターロッド（１４７３）の位置によって決定されるので、本明細書においてシャッター構造体（１４７）の開放位置は第１下部流路（１４１Ｐ）の流出口（１４１ＰＯ）を開放させるシャッターロッド（１４７３）の開放位置を意味し得、シャッター構造体（１４７）の閉鎖位置は第１下部流路（１４１Ｐ）の流出口（１４１ＰＯ）を閉鎖させるシャッターロッド（１４７３）の閉鎖位置を意味し得る。

プッシュ構造体（１９０）はシャッター構造体（１４７）が開放位置と閉鎖位置の間で転換することを制御することができる。プッシュ構造体（１９０）は、シャッター構造体（１４７）が閉鎖位置に固定されて第１下部流路（１４１Ｐ）の流出口（１４１ＰＯ）を閉鎖するように、シャッター構造体（１４７）に外力を印加することができる。または、プッシュ構造体（１９０）はシャッター構造体（１４７）に印加される外力を解除し、閉鎖位置から開放位置にシャッター構造体（１４７）を転換させることができる。

プッシュ構造体（１９０）は固定本体（１９１）、移動本体（１９３）、及び第２弾性体（１９５）を含み得る。

固定本体（１９１）は回転カバー（１３０）に結合され、回転カバー（１３０）の回転時、回転カバー（１３０）と共に回転するように構成され得る。移動本体（１９３）は固定本体（１９１）に移動可能に装着され得る。例えば、移動本体（１９３）は回転カバー（１３０）の半径方向に移動可能に固定本体（１９１）に装着され、移動本体（１９３）の移動範囲は固定本体（１９１）により制限され得る。第２弾性体（１９５）は移動本体（１９３）と固定本体（１９１）の間に配置され、移動本体（１９３）を弾性支持するように構成され得る。第２弾性体（１９５）は半径方向の内側に向かう方向に移動本体（１９３）を弾性支持するように構成され得る。移動本体（１９３）は第２弾性体（１９５）に弾性支持され、前記シャッターロッド（１４７３）が前記開放位置から前記閉鎖位置に向かう方向に移動するように前記シャッターロッド（１４７３）を加圧することができる。

シャッター構造体（１４７）のシャッターロッド（１４７３）は回転カバー（１３０）の回転時に共に回転する移動本体（１９３）の移動軌跡上に位置し得る。これにより、回転カバー（１３０）の回転角度によって、シャッターロッド（１４７３）はプッシュ構造体（１９０）に加圧されて閉鎖位置に位置するか、またはプッシュ構造体（１９０）から分離されて開放位置に位置し得る。

以下で、第１圧力制御装置（１４０）及び第２圧力制御装置（１５０）による圧力制御過程をより詳細に説明する。

図４Ａ及び図５Ａに示された通り、プッシュ構造体（１９０）がシャッター構造体（１４７）から離隔されるように位置したとき、シャッター構造体（１４７）にはプッシュ構造体（１９０）による外力が作用しない。シャッター構造体（１４７）のシャッターロッド（１４７３）は第１弾性体（１４７７）により開放位置に弾性バイアスされるので、第１下部流路（１４１Ｐ）の流出口（１４１ＰＯ）が開放され得る。この際、第１下部流路（１４１Ｐ）の流出口（１４１ＰＯ）が開放されているので、内釜（２１０）の収容空間で発生した蒸気は第１下部流路（１４１Ｐ）を通じて第１上部流路（１４３Ｐ）に流入し得る。もし、内釜（２１０）の収容空間の蒸気圧が予め定められた第１圧力より低い場合、第１上部流路（１４３Ｐ）の流出口は第１重り（１４５）の第１圧力突起（１４５１）により閉鎖され得る。もし、内釜（２１０）の収容空間の蒸気圧が予め定められた第１圧力またはこれに近接した水準まで高くなった場合、第１重り（１４５）の第１圧力突起（１４５１）が蒸気圧によって持ち上げられ第１上部流路（１４３Ｐ）の流出口が開放され、蒸気が外部に排出されて内釜（２１０）の収容空間の蒸気圧は第１圧力またはこれに近接した水準に維持されることができる。

図４Ｂ及び図５Ｂに示された通り、プッシュ構造体（１９０）がシャッター構造体（１４７）を加圧できる位置に回転カバー（１３０）が回転すれば、プッシュ構造体（１９０）の移動本体（１９３）がシャッター構造体（１４７）のシャッターロッド（１４７３）に干渉され、第２弾性体（１９５）に弾性支持された移動本体（１９３）はシャッターロッド（１４７３）に外力を印加する。シャッターロッド（１４７３）はプッシュ構造体（１９０）により加圧され、開放位置から閉鎖位置に移動するようになり、シャッターロッド（１４７３）の第１端部に結合された弾性カバー（１４７５）は第１下部流路（１４１Ｐ）の流出口（１４１ＰＯ）に密着して第１下部流路（１４１Ｐ）の流出口（１４１ＰＯ）を閉鎖するようになる。この際、プッシュ構造体（１９０）がシャッター構造体（１４７）に作用する外力によってシャッターロッド（１４７３）が閉鎖位置に固定されるように、第２弾性体（１９５）の復原力は第１弾性体（１４７７）の復原力及び内釜（２１０）内の蒸気圧によってシャッターロッド（１４７３）に加えられる力の合力より大きいこともある。第１下部流路（１４１Ｐ）の流出口（１４１ＰＯ）が閉鎖されているので、第１圧力制御装置（１４０）を通じた蒸気排出は不能状態となる。第１下部流路（１４１Ｐ）の流出口（１４１ＰＯ）がシャッター構造体（１４７）により閉鎖されている間、内釜（２１０）の収容空間の蒸気は第２下部エアホール（１１１Ｈ２）及び第２上部蒸気ホール（１２１Ｈ２）に連通する第２圧力制御装置（１５０）の第２シリンダ（図６Ａの１５１）の第２流路（図６Ａの１５１Ｐ）に流入し得る。もし、内釜（２１０）の収容空間の蒸気圧が第１圧力を越えて第２圧力及びこれに近接した水準まで高くなれば、第２重り（図６Ａの１５５）の第２圧力突起（図６Ａの１５５１）が蒸気圧によって持ち上げられ第２流路（１５１Ｐ）の流出口が開放され、蒸気が外部に排出されて内釜（２１０）の収容空間の蒸気圧は第２圧力またはこれに近接した水準に維持されることができる。

図６Ａ及び図６Ｂは、蓋アセンブリー（１００）の一部を示す側面図であって、図６Ａは、リフトピン（１８１）がピン－アップ（ｐｉｎ－ｕｐ）位置に位置したときの状態を示し、図６Ｂは、リフトピン（１８１）がピン－ダウン（ｐｉｎ－ｄｏｗｎ）位置に位置したときの状態を示す。

図６Ａ及び図６Ｂを図１～図３と共に参照すると、調理装置（１０）は蓋カバー（１０１）に昇降可能に装着されたリフトピン（１８１）を含み得る。リフトピン（１８１）は蓋カバー（１０１）の貫通ホールに移動可能に装着され、リフトピン（１８１）のヘッド部は蓋カバー（１０１）から突出し得る。

リフトピン（１８１）の下段部は回転カバー（１３０）に接触し、回転カバー（１３０）の回転時、回転カバー（１３０）の表面部にスライディング接触するように構成され得る。リフトピン（１８１）の昇降動作は回転カバー（１３０）の回転に連動してなされ得る。図６Ａに示された通り、リフトピン（１８１）が第１高さレベルにある回転カバー（１３０）の第１表面部（１３７）に支持された場合、リフトピン（１８１）はピン－アップ位置に位置し得る。図６Ｂに示された通り、リフトピン（１８１）が第１高さレベルより低い第２高さレベルにある回転カバー（１３０）の第２表面部（１３８）に支持された場合、リフトピン（１８１）はピン－ダウン位置に位置し得る。例えば、回転カバー（１３０）が第１回転方向に回転する間、リフトピン（１８１）と回転カバー（１３０）間の接触位置は回転カバー（１３０）の第１表面部（１３７）から第２表面部（１３８）に移動するようになり、リフトピン（１８１）はピン－アップ位置からピン－ダウン位置に下降し得る。逆に、回転カバー（１３０）が第２回転方向に回転する間、リフトピン（１８１）と回転カバー（１３０）間の接触位置は回転カバー（１３０）の第２表面部（１３８）から第１表面部（１３７）に移動するようになり、リフトピン（１８１）はピン－ダウン位置からピン－アップ位置に上昇し得る。

図６Ａに示された通り、リフトピン（１８１）のピン－アップ位置で、リフトピン（１８１）は第１圧力制御装置（１４０）の第１重り（１４５）及び第２圧力制御装置（１５０）の第２重り（１５５）を共に持ち上げることができる。リフトピン（１８１）により第１重り（１４５）と第２重り（１５５）が持ち持ち上げられれば、第１圧力制御装置（１４０）の第１上部流路（１４３Ｐ）の流出口及び第２圧力制御装置（１５０）の第２流路（１５１Ｐ）の流出口が内釜（２１０）の収容空間の蒸気圧レベルと関係がなく強制開放され得る。第１上部流路（１４３Ｐ）の流出口及び第２流路（１５１Ｐ）の流出口がリフトピン（１８１）により強制開放されたとき、内釜（２１０）の収容空間の蒸気は第１圧力制御装置（１４０）及び第２圧力制御装置（１５０）を通じて外部に排出され、調理装置（１０）で調理が進められる間、内釜（２１０）の収容空間の蒸気圧は大気圧またはこれに近接した水準に維持されることができる。

図６Ｂに示された通り、リフトピン（１８１）のピン－ダウン位置で、リフトピン（１８１）は第１重り（１４５）及び第２重り（１５５）から離隔され得る。ここで、リフトピン（１８１）が第１重り（１４５）及び第２重り（１５５）から離隔されたことは、リフトピン（１８１）が第１重り（１４５）及び/又は第２重り（１５５）から一定距離離隔されて物理的に接触しない場合と、リフトピン（１８１）が第１重り（１４５）及び/又は第２重り（１５５）に物理的に接触したものの、第１重り（１４５）及び/又は第２重り（１５５）を持ち上げるのに十分な外力がリフトピン（１８１）により提供されない場合を含み得る。リフトピン（１８１）のピン－ダウン位置で、第１圧力制御装置（１４０）及び第２圧力制御装置（１５０）による蒸気排出は内釜（２１０）の収容空間の蒸気圧レベル及び/又はシャッター構造体（１４７）により決定され得る。

図７は、ロック構造体（１７０）を示す平面図である。図８Ａ及び図８Ｂは、回転カバー（１３０）の回転によるロック構造体（１７０）の動作を示す断面図であって、図８Ａは、ロック構造体（１７０）のロック位置にあるときの状態を示し、図８Ｂは、ロック構造体（１７０）のアンロック位置にあるときの状態を示す。図９は、回転カバー（１３０）の一部を示す平面図である。

図７、図８Ａ、図８Ｂ、及び図９を図１～図３と共に参照すると、ロック構造体（１７０）はトッププレート（１２０）の枠に沿って延びて平面的観点から曲線形態を有するロックブレード（１７１）を含み得る。ロックブレード（１７１）はトッププレート（１２０）の枠及び内釜カバー（１１０）の枠を側方向で取り囲む側壁部（１７１３）と、側壁部（１７１３）の上段部から内側に延びてトッププレート（１２０）の上面枠部にかかる上部本体（１７１１）と、前記側壁部（１７１３）の下段部から内側に延びた下部本体を含み得る。ロックブレード（１７１）の下部本体は内釜（２１０）のフランジ部（２１１）に係止固定されるように構成された係止突起（１７７）を含み得る。

ロック構造体（１７０）はロックブレード（１７１）の上段部の内周に連結され、トッププレート（１２０）と回転カバー（１３０）の間に配置された連結プレート（１７３）を含み得る。連結プレート（１７３）は直線方向に延びた溝（１７４）を含み得る。連結プレート（１７３）の溝（１７４）はロック構造体（１７０）の線状移動を案内すると共に、ロック構造体（１７０）の移動範囲を制限することができる。より具体的には、ネジのような締結構造（１８７）は連結プレート（１７３）の溝（１７４）を通じて、トッププレート（１２０）のボス（１２３）内に挿入され得る。ロック構造体（１７０）の線状移動は、溝（１７４）の一端部が締結構造（１８７）にかかる位置から溝（１７４）の他端部が締結構造（１８７）にかかる位置の間に制限され得る。

回転カバー（１３０）は概ね回転カバー（１３０）の回転方向に沿って延びるガイド溝（１３５）を含み、ロック構造体（１７０）の連結プレート（１７３）は回転カバー（１３０）のガイド溝（１３５）に挿入されるガイド突起（１７５）を含み得る。回転カバー（１３０）が回転する間、回転カバー（１３０）とガイド溝（１３５）に収容されたガイド突起（１７５）の間の物理的な干渉によってロック構造体（１７０）の線状移動が実現され得る。

例示的な実施例において、図９に例示された通り、ガイド溝（１３５）はガイド溝（１３５）の一端部と他端部の間でガイド溝（１３５）の延長方向に沿って順に配置された第１位置（Ｐ１）、第２位置（Ｐ２）、第３位置（Ｐ３）、及び第４位置（Ｐ４）を含み得る。ガイド溝（１３５）の第１位置（Ｐ１）、第３位置（Ｐ３）、及び第４位置（Ｐ４）は回転カバー（１３０）の回転中心（ＲＣ）から第１距離（Ｄ１）で離隔され得、ガイド溝（１３５）の第２位置（Ｐ２）は回転カバー（１３０）の回転中心（ＲＣ）から第１距離（Ｄ１）より大きい第２距離（Ｄ２）で離隔され得る。

回転カバー（１３０）の回転角度によって、ガイド溝（１３５）に対するガイド突起（１７５）の相対的な位置が変わるようになる。ガイド突起（１７５）が回転カバー（１３０）の回転中心（ＲＣ）から実質的に同一の第１距離（Ｄ１）で離隔されたガイド溝（１３５）の第１位置（Ｐ１）、第３位置（Ｐ３）、及び第４位置（Ｐ４）にあるとき、ロック構造体（１７０）は係止突起（１７７）が内釜（２１０）のフランジ部（２１１）に係止可能なロック位置に位置し得る。ガイド突起（１７５）が回転カバー（１３０）の回転中心（ＲＣ）から第１距離（Ｄ１）より大きい第２距離（Ｄ２）で離隔されたガイド溝（１３５）の第２位置（Ｐ２）にあるとき、ロック構造体（１７０）はロック位置から半径方向の外側に離隔されたアンロック位置にあり得る。即ち、ガイド突起（１７５）がガイド溝（１３５）の第１位置（Ｐ１）から第２位置（Ｐ２）に向かって移動する間、及びガイド溝（１３５）の第３位置（Ｐ３）から第２位置（Ｐ２）に向かって移動する間、ロック構造体（１７０）は半径方向の外側に移動するようになる。逆に、ガイド突起（１７５）がガイド溝（１３５）の第２位置（Ｐ２）から第１位置（Ｐ１）に向かって移動する間、及びガイド溝（１３５）の第２位置（Ｐ２）から第３位置（Ｐ３）に向かって移動する間、ロック構造体（１７０）は半径方向の内側に移動するようになる。

図１０は、蓋アセンブリー（１００）の操作ハンドル（１８３）を示す平面図である。

図９及び図１０を図１～図３と共に参照すると、操作ハンドル（１８３）は第１回転方向に順に離隔された第１回転位置、第２回転位置、第３回転位置、及び第４回転位置の間で回転し得る。操作ハンドル（１８３）の第１～第４回転位置は任意の基準位置を基準に操作ハンドル（１８３）が回転した回転角度で定義され得る。例えば、操作ハンドル（１８３）の第１回転位置は操作ハンドル（１８３）の整列突起（１８３１）が蓋カバー（１０１）に設けられた第１標識子（１８８ａ）に整列する位置であってもよく、操作ハンドル（１８３）の第２回転位置は操作ハンドル（１８３）の整列突起（１８３１）が蓋カバー（１０１）に設けられた第２標識子（１８８b）に整列する位置であってもよく、操作ハンドル（１８３）の第３回転位置は操作ハンドル（１８３）の整列突起（１８３１）が蓋カバー（１０１）に設けられた第３標識子（１８８c）に整列する位置であってもよく、操作ハンドル（１８３）の第４回転位置は操作ハンドル（１８３）の整列突起（１８３１）が蓋カバー（１０１）に設けられた第４標識子（１８８d）に整列する位置であってもよい。

前述した通り、回転カバー（１３０）は操作ハンドル（１８３）の回転に連動して回転するので、操作ハンドル（１８３）の回転時、回転カバー（１３０）が回転し、回転カバー（１３０）のガイド溝（１３５）に対するガイド突起（１７５）の相対的な位置が変わり得る。操作ハンドル（１８３）の第１回転位置にあるときガイド突起（１７５）はガイド溝（１３５）の第１位置（Ｐ１）に位置し、操作ハンドル（１８３）の第２回転位置にあるときガイド突起（１７５）はガイド溝（１３５）の第２位置（Ｐ２）に位置し、操作ハンドル（１８３）の第３回転位置にあるときガイド突起（１７５）はガイド溝（１３５）の第３位置（Ｐ３）に位置し、操作ハンドル（１８３）の第４回転位置にあるときガイド突起（１７５）はガイド溝（１３５）の第４位置（Ｐ４）に位置し得る。

図１１は、回転カバー（１３０）の回転角度による蓋アセンブリー（１００）の動作状態を示す平面図である。図１２は、操作ハンドル（１８３）の回転位置の変化による、ガイド突起（１７５）の位置変化、ロック構造体（１７０）の動作、リフトピン（１８１）の動作、シャッター構造体（１４７）の動作、及び内釜（２１０）の圧力変化を示すテーブルである。

以下で、図１～図１２を参照して、蓋アセンブリー（１００）を含む調理装置（１０）の動作方法について説明する。

図１１の（ａ）は、操作ハンドル（１８３）が第１回転位置に位置したときの、蓋アセンブリー（１００）の主要構成を示す平面図である。

図１１の（ａ）に示された通り、操作ハンドル（１８３）が第１回転位置に位置したとき、ガイド突起（１７５）はガイド溝（１３５）の第１位置（Ｐ１）に位置するので、ロック構造体（１７０）は図８Ａに示された通りロック構造体（１７０）の係止突起（１７７）が内釜（２１０）のフランジ部（２１１）に係止されるロック位置に位置する。

操作ハンドル（１８３）が第１回転位置に位置したとき、図６Ａに示された通り第１回転カバー（１３０）の第１表面部（１３７）に支持されたリフトピン（１８１）はピン－アップ位置に上昇しており、第１圧力制御装置（１４０）の第１上部流路（１４３Ｐ）の流出口及び第２圧力制御装置（１５０）の第２流路（１５１Ｐ）の流出口を強制開放させ、図４Ａに示された通りシャッター構造体（１４７）は第１下部流路（１４１Ｐ）の流出口（１４１ＰＯ）を開放する開放位置に位置する。これにより、調理が進められる間、内釜（２１０）の収容空間に発生した蒸気は第１圧力制御装置（１４０）及び第２圧力制御装置（１５０）を通じて外部に抜け出るので、内釜（２１０）の収容空間の圧力は無圧（例えば、大気圧またはこれに近接した圧力）で維持されることができる。

図１１の（ｂ）は、操作ハンドル（１８３）が第２回転位置に位置したときの、蓋アセンブリー（１００）の主要構成を示す平面図である。

図１１の（ａ）及び（ｂ）に示された通り、操作ハンドル（１８３）が第１回転位置から第２回転位置に転換されれば、ガイド突起（１７５）はガイド溝（１３５）の第１位置（Ｐ１）から第２位置（Ｐ２）に移動し、ロック構造体（１７０）は図８Ｂに示された通り半径方向の外側に移動するようになってアンロック位置に位置し得る。ロック構造体（１７０）のアンロック位置で係止突起（１７７）は内釜（２１０）に噛み合わないので、蓋アセンブリー（１００）の開放のための回動が可能になる。従って、操作ハンドル（１８３）が第２回転位置にあるとき、蓋アセンブリー（１００）を開放し、調理材料の投入及び調理状態の点検等を行うことができる。

操作ハンドル（１８３）が第２回転位置に位置したとき、操作ハンドル（１８３）が第１回転位置にあるときと同様にリフトピン（１８１）はピン－アップ位置にあり、シャッター構造体（１４７）は開放位置に位置する。これにより、調理が進められる間、内釜（２１０）の収容空間に発生した蒸気は第１圧力制御装置（１４０）及び第２圧力制御装置（１５０）を通じて外部に抜け出るので、内釜（２１０）の収容空間の圧力は無圧で維持されることができる。

図１１の（ｃ）は、操作ハンドル（１８３）が第３回転位置に位置したときの、蓋アセンブリー（１００）の主要構成を示す平面図である。

図１１の（ｂ）及び（ｃ）に示された通り、操作ハンドル（１８３）が第２回転位置から第３回転位置に転換されれば、ガイド突起（１７５）はガイド溝（１３５）の第２位置（Ｐ２）から第３位置（Ｐ３）に移動し、ロック構造体（１７０）は図８Ａに示された通り半径方向の内側に移動するようになってロック位置に位置し得る。

操作ハンドル（１８３）が第３回転位置に位置したとき、図６Ｂに示された通り第１回転カバー（１３０）の第２表面部（１３８）に支持されたリフトピン（１８１）はピン－ダウン位置に下降し、図４Ａに示された通りシャッター構造体（１４７）は第１下部流路（１４１Ｐ）の流出口（１４１ＰＯ）を開放する開放位置に位置する。これにより、調理が進められる間、内釜（２１０）の収容空間に発生した蒸気は互いに連通する第１圧力制御装置（１４０）の第１下部流路（１４１Ｐ）及び第１上部流路（１４３Ｐ）に流動するようになり、内釜（２１０）の収容空間の圧力は第１圧力制御装置（１４０）により決定され得る。即ち、内釜（２１０）の収容空間の蒸気圧が予め定められた第１圧力またはこれに近接した水準まで高くなった場合に蒸気が第１圧力制御装置（１４０）を通じて外部に排出されるので、内釜（２１０）の収容空間の圧力は第１圧力またはこれに近接した水準に維持されることができる。

図１１の（ｄ）は、操作ハンドル（１８３）が第４回転位置に位置したときの、蓋アセンブリー（１００）の主要構成を示す平面図である。

図１１の（ｃ）及び（ｄ）に示された通り、操作ハンドル（１８３）が第３回転位置から第４回転位置に転換されれば、ガイド突起（１７５）はガイド溝（１３５）の第３位置（Ｐ３）から第４位置（Ｐ４）に移動し、ロック構造体（１７０）は操作ハンドル（１８３）が第３回転位置にあるときと同様にロック位置に位置し得る。

操作ハンドル（１８３）が第４回転位置に位置したとき、リフトピン（１８１）は図６Ｂに示された通りピン－ダウン位置に位置し、図４Ｂに示された通りシャッター構造体（１４７）は第１下部流路（１４１Ｐ）の流出口（１４１ＰＯ）を閉鎖する閉鎖位置に位置する。これにより、調理が進められる間、第１圧力制御装置（１４０）を通じた蒸気の排出が不能状態になるので、内釜（２１０）の収容空間に発生した蒸気は第２圧力制御装置（１５０）の第２流路（１５１Ｐ）に流動するようになり、内釜（２１０）の収容空間の圧力は第２圧力制御装置（１５０）により決定され得る。即ち、内釜（２１０）の収容空間の蒸気圧が予め定められた第２圧力またはこれに近接した水準まで高くなった場合に蒸気が第２圧力制御装置（１５０）を通じて外部に排出されるので、内釜（２１０）の収容空間の圧力は第２圧力またはこれに近接した水準に維持されることができる。

本発明の例示的な実施例によれば、調理装置（１０）は多様な圧力調理モード、例えば無圧で調理する無圧調理モード（または、低圧調理モード）、第１圧力で調理する第１高圧調理モード、及び第２圧力で調理する第２高圧調理モードを提供するので、調理材料及びユーザーの好みによる調理を行うことができる。従って、ユーザーの利便性及び調理品質が向上し得る。

図１３は、本発明の例示的な実施例による調理装置の蓋アセンブリー（１００ａ）の主要構成を示す平面図である。図１４Ａ及び図１４Ｂは、図１３の蓋アセンブリー（１００ａ）の圧力制御装置（１０３ａ）を示す断面図である。

図１４Ａは、シャッター構造体（３１０）が第１下部流路（１４１Ｐａ）を開放するシャッター構造体（３１０）の開放位置にあるときの状態を示し、図１４Ｂは、シャッター構造体（３１０）が第１下部流路（１４１Ｐａ）を閉鎖するシャッター構造体（３１０）の閉鎖位置にあるときの状態を示す。

図１３、図１４Ａ、及び図１４Ｂに示された蓋アセンブリー（１００ａ）はプッシュ構造体（図３の１９０参照）が省略された点、第１圧力制御装置（１４０ａ）の構成及び動作上の差異点等を除いては、図１～図１２を参照して説明された蓋アセンブリー（１００）と概ね類似し得る。以下で、図１～図１２を参照して説明された蓋アセンブリー（１００）及びこれを含む調理装置（１０）との差異点を中心に、図１３、図１４Ａ、及び図１４Ｂに示された蓋アセンブリー（１００ａ）及びこれを含む調理装置について説明する。

図１３、図１４Ａ、及び図１４Ｂを参照すると、圧力制御装置（１０３ａ）は内釜（２１０）の収容空間に第１圧力を形成するように構成された第１圧力制御装置（１４０ａ）と、内釜（２１０）の収容空間に第１圧力より高い第２圧力を形成するように構成された第２圧力制御装置（１５０）を含み得る。

第１圧力制御装置（１４０ａ）は電気的制御信号によって蒸気の排出有無を調節する電子制御式バルブであってもよい。第１圧力制御装置（１４０ａ）は垂直方向に連結された第１下部シリンダ（１４１a）及び第１上部シリンダ（１４３）を含む第１シリンダ、第１重り（１４５）、及びシャッター構造体（３１０）を含み得る。

第１下部シリンダ（１４１a）は内釜（２１０）の収容空間と連通する第１下部流路（１４１Ｐａ）を含み得る。第１下部流路（１４１Ｐａ）はトッププレート（１２０）の第１上部蒸気ホール（１２１Ｈ１）及び内釜カバー（１１０）の第１下部蒸気ホール（１１１Ｈ１）を通じて内釜（２１０）の収容空間と連通することができる。第１下部流路（１４１Ｐａ）はトッププレート（１２０）の第１上部蒸気ホール（１２１Ｈ１）に連通する流入口から、第１下部シリンダ（１４１a）の上側に設けられた流出口まで上方に延び得る。

第１上部シリンダ（１４３）は第１下部シリンダ（１４１a）上に装着され得、第１下部流路（１４１Ｐａ）に連通する第１上部流路（１４３Ｐ）を含み得る。第１上部流路（１４３Ｐ）は第１下部シリンダ（１４１a）の流出口と連通する流入口から、第１上部シリンダ（１４３）の上側に設けられた流出口まで上方に延び得る。

第１重り（１４５）は第１上部シリンダ（１４３）上に装着され得る。第１重り（１４５）は第１上部流路（１４３Ｐ）の流出口に挿入されるように構成された第１圧力突起（１４５１）を含み得る。第１圧力突起（１４５１）は第１上部流路（１４３Ｐ）に形成される蒸気圧のレベルによって、第１上部流路（１４３Ｐ）の流出口を開放または閉鎖することができる。

シャッター構造体（３１０）は第１圧力制御装置（１４０ａ）を通じた蒸気排出を制御するように構成され得る。シャッター構造体（３１０）は第１下部流路（１４１Ｐａ）を開閉するように構成され得る。シャッター構造体（３１０）は第１下部流路（１４１Ｐａ）を開放する開放位置と、第１下部流路（１４１Ｐａ）を閉鎖する閉鎖位置の間で転換するように構成され得る。

シャッター構造体（３１０）はトッププレート（１２０）上に装着されたフレーム（３１１）と、前記フレーム（３１１）内に移動可能に装着されたシャッターロッド（３１３）を含み得る。シャッターロッド（３１３）はモータのようなアクチュエータ（３１２）に連結され、シャッターロッド（３１３）の移動はアクチュエータ（３１２）により制御され得る。

図１４Ｂに示された通り、シャッター構造体（３１０）の閉鎖位置で、シャッターロッド（３１３）の少なくとも一部分は第１下部流路（１４１Ｐａ）の中間部分に挿入され、第１下部流路（１４１Ｐａ）を閉鎖することができる。この場合、第１下部流路（１４１Ｐａ）が閉鎖され、第１圧力制御装置（１４０ａ）を通じた蒸気排出が不能状態になり得る。図１４Ａに示された通り、シャッター構造体（３１０）の開放位置で、シャッターロッド（３１３）は第１下部流路（１４１Ｐａ）が詰まらないようにシャッター構造体（３１０）の閉鎖位置から後退した位置にあり得る。このように、シャッター構造体（３１０）の開放位置と閉鎖位置の間での転換はシャッターロッド（３１３）の位置によって決定されるので、シャッター構造体（３１０）の開放位置は第１下部流路（１４１Ｐａ）を開放させるシャッターロッド（３１３）の開放位置を意味し得、シャッター構造体（３１０）の閉鎖位置は第１下部流路（１４１Ｐａ）を閉鎖させるシャッターロッド（３１３）の閉鎖位置を意味し得る。

例示的な実施例において、調理装置は操作ハンドル（図１０の１８３）の回転位置及び/又は回転カバー（１３０）の回転位置を感知するための感知手段と、感知手段で感知された情報に基づいて第１圧力制御装置（１４０ａ）に印加される制御信号を生成するように構成された制御器を含み得る。前記感知手段は、例えばリードスイッチ（ｒｅｅｄｓｗｉｔｃｈ）、光センサ、機械式センサ等のセンサを含み得る。前記制御器はマイクロコントローラーチップを含み得、本体（図１の２００）に搭載され得る。

前記感知手段は、操作ハンドル（１８３）の回転位置及び/又は回転カバー（１３０）の回転位置を感知するように構成され得る。または、前記感知手段は回転カバー（１３０）の回転により可変するガイド溝（１３５）内のガイド突起（１７５）位置、及び/又は回転カバー（１３０）の回転により可変する回転拘束溝（１３３）内の締結構造（１８５）の位置変化を感知するように構成されることもできる。

制御器は感知手段で感知された情報に基づいて、シャッター構造体（３１０）を開放位置に位置させるための第１制御信号及びシャッター構造体（３１０）を閉鎖位置に位置させるための第２制御信号を生成することができる。

以下で、圧力制御装置（１０３ａ）による圧力制御過程をより詳細に説明する。

図１４Ａに示された通り、制御器はシャッターロッド（３１３）に連結されたアクチュエータ（３１２）に第１制御信号を印加し、シャッターロッド（３１３）を開放位置に位置させることができる。シャッターロッド（３１３）の開放位置で、第１下部流路（１４１Ｐａ）と第１上部流路（１４３Ｐ）は互いに連通し、内釜（２１０）の収容空間で発生した蒸気は第１下部流路（１４１Ｐａ）を通じて第１上部流路（１４３Ｐ）に流入し得る。もし、内釜（２１０）の収容空間の蒸気圧が予め定められた第１圧力より低い場合、第１上部流路（１４３Ｐ）の流出口は第１重り（１４５）の第１圧力突起（１４５１）により閉鎖され得る。もし、内釜（２１０）の収容空間の蒸気圧が予め定められた第１圧力またはこれに近接した水準まで高くなった場合、第１重り（１４５）の第１圧力突起（１４５１）が蒸気圧によって持ち上げられ第１上部流路（１４３Ｐ）の流出口が開放され、蒸気が外部に排出されて内釜（２１０）の収容空間の蒸気圧は第１圧力またはこれに近接した水準に維持されることができる。

図１４Ｂに示された通り、調理装置の制御器はシャッターロッド（３１３）に連結されたアクチュエータ（３１２）に第２制御信号を印加し、シャッターロッド（３１３）を閉鎖位置に位置させることができる。制御器で提供された第２制御信号によって、シャッターロッド（３１３）は第１下部流路（１４１Ｐａ）を閉鎖する閉鎖位置に移動することができる。第１下部流路（１４１Ｐａ）がシャッターロッド（３１３）により閉鎖されるので、第１圧力制御装置（１４０ａ）を通じた蒸気排出は不能状態となる。第１下部流路（１４１Ｐａ）がシャッター構造体（３１０）により閉鎖されている間、内釜（２１０）の収容空間の蒸気は第２下部エアホール（１１１Ｈ２）及び第２上部蒸気ホール（１２１Ｈ２）に連通する第２シリンダ（１５１）の第２流路（１５１Ｐ）に流入し得る。もし、内釜（２１０）の収容空間の蒸気圧が第１圧力を越えて第２圧力及びこれに近接した水準まで高くなれば、第２重り（１５５）の第２圧力突起（１５５１）が蒸気圧によって持ち上げられ第２流路（１５１Ｐ）の流出口が開放され、蒸気が外部に排出されて内釜（２１０）の収容空間の蒸気圧は第２圧力またはこれに近接した水準に維持されることができる。

図１５は、回転カバー（１３０）の回転角度による蓋アセンブリー（１００ａ）の動作状態を示す平面図である。図１６は、図１３の蓋アセンブリーを含む調理装置で、操作ハンドル（１８３）の回転位置の変化による、ガイド突起（１７５）の位置変化、ロック構造体（１７０）の動作、リフトピン（１８１）の動作、シャッター構造体（３１０）の動作、及び内釜（２１０）の圧力変化を示すテーブルである。参考までに、図１６のテーブルで、操作ハンドル（１８３）が第３回転位置にあるとき、ロック構造体（１７０）の位置、リフトピン（１８１）の位置、シャッター構造体（３１０）の位置、及び内釜（２１０）の圧力は操作ハンドル（１８３）が第４回転位置にあるときと同一であるため、省略された。

以下で、図１３～図１６を図６Ａ～図１０と共に参照して、蓋アセンブリー（１００ａ）を含む調理装置の動作方法について説明する。

図１５の（ａ）は、操作ハンドル（１８３）が第１回転位置に位置したときの、蓋アセンブリー（１００ａ）の主要構成を示す平面図である。

図１５の（ａ）に示された通り、操作ハンドル（１８３）が第１回転位置に位置したとき、ガイド突起（１７５）はガイド溝（１３５）の第１位置（Ｐ１）に位置し、ロック構造体（１７０）は図８Ａに示された通りロック構造体（１７０）の係止突起（１７７）が内釜（２１０）のフランジ部（２１１）に係止されるロック位置に位置する。

操作ハンドル（１８３）が第１回転位置に位置したとき、図６Ａに示された通り第１回転カバー（１３０）の第１表面部（１３７）に支持されたリフトピン（１８１）はピン－アップ位置に上昇しており、第１圧力制御装置（１４０ａ）の第１上部流路（１４３Ｐ）の流出口及び第２圧力制御装置（１５０）の第２流路（１５１Ｐ）の流出口を強制開放させることができる。また、操作ハンドル（１８３）が第１回転位置に位置したとき、感知手段で感知された情報に基づいて、制御器はシャッター構造体（３１０）を開放位置に位置させるための第１制御信号をシャッター構造体（３１０）に印加することができる。シャッター構造体（３１０）は第１制御信号によって動作し、第１下部流路（１４１Ｐａ）を開放させる開放位置に位置する。この場合、調理が進められる間、内釜（２１０）の収容空間に発生した蒸気は第１圧力制御装置（１４０ａ）及び第２圧力制御装置（１５０）を通じて外部に抜け出るので、内釜（２１０）の収容空間の圧力は無圧（例えば、大気圧またはこれに近接した圧力）で維持されることができる。

図１５の（ｂ）は、操作ハンドル（１８３）が第２回転位置に位置したときの、蓋アセンブリー（１００ａ）の主要構成を示す平面図である。

図１５の（ａ）及び（ｂ）に示された通り、操作ハンドル（１８３）が第１回転位置から第２回転位置に転換されれば、ガイド突起（１７５）はガイド溝（１３５）の第１位置（Ｐ１）から第２位置（Ｐ２）に移動し、ロック構造体（１７０）は図８Ｂに示された通り半径方向の外側に移動するようになってアンロック位置に位置し得る。ロック構造体（１７０）のアンロック位置で係止突起（１７７）は内釜（２１０）に噛み合わないので、蓋アセンブリー（１００ａ）の開放のための回動が可能になる。従って、操作ハンドル（１８３）が第２回転位置にあるとき、蓋アセンブリー（１００ａ）を開放し、調理材料の投入及び調理状態の点検等を行うことができる。

操作ハンドル（１８３）が第２回転位置に位置したとき、操作ハンドル（１８３）が第１回転位置にあるときと同様にリフトピン（１８１）はピン－アップ位置に位置し得る。

また、操作ハンドル（１８３）が第２回転位置に位置したとき、感知手段で感知された情報に基づいて、制御器はシャッター構造体（３１０）を開放位置に位置させるための第１制御信号をシャッター構造体（３１０）に印加することができる。シャッター構造体（３１０）は第１制御信号によって動作し、第１下部流路（１４１Ｐａ）を開放させる開放位置に位置する。これにより、調理が進められる間、内釜（２１０）の収容空間に発生した蒸気は第１圧力制御装置（１４０ａ）及び第２圧力制御装置（１５０）を通じて外部に抜け出るので、内釜（２１０）の収容空間の圧力は無圧（例えば、大気圧またはこれに近接した圧力）で維持されることができる。

図１５の（ｃ）は、操作ハンドル（１８３）が第４回転位置に位置したときの、蓋アセンブリー（１００ａ）の主要構成を示す平面図である。

図１５の（ｂ）及び（ｃ）に示された通り、操作ハンドル（１８３）が第２回転位置から第４回転位置に転換されれば、ガイド突起（１７５）はガイド溝（１３５）の第２位置（Ｐ２）から第４位置（Ｐ４）に移動し、ロック構造体（１７０）は図８Ａに示された通り半径方向の内側に移動するようになってロック位置に位置し得る。

操作ハンドル（１８３）が第４回転位置に位置したとき、図６Ｂに示された通り第１回転カバー（１３０）の第２表面部（１３８）に支持されたリフトピン（１８１）はピン－ダウン位置に下降し、内釜（２１０）の収容空間の蒸気圧は第１圧力制御装置（１４０ａ）及び/又は第２圧力制御装置（１５０）により調節され得る。

操作ハンドル（１８３）が第４回転位置に位置したとき、感知手段で感知された情報に基づいて、制御器はシャッター構造体（３１０）を開放位置に位置させるための第１制御信号及びシャッター構造体（３１０）を閉鎖位置に位置させるための第２制御信号のうちいずれか１つをシャッター構造体（３１０）に印加することができる。例えば、制御器は予め定められた調理レシピにより、シャッター構造体（３１０）に第１制御信号または第２制御信号を印加するように構成され得る。例えば、制御器は予め定められた調理レシピによる調理時間に応じてシャッター構造体（３１０）に第１制御信号または第２制御信号を印加し、内釜（２１０）の収容空間の蒸気圧を調節することができる。

もし、操作ハンドル（１８３）が第４回転位置に位置したとき、制御器がシャッター構造体（３１０）に第１制御信号を印加する場合、シャッターロッド（３１３）は図１４Ａに示された通り第１下部流路（１４１Ｐａ）を開放する開放位置に位置し、第１下部流路（１４１Ｐａ）と第１上部流路（１４３Ｐ）は互いに連通することができる。これにより、調理が進められる間、内釜（２１０）の収容空間に発生した蒸気は第１圧力制御装置（１４０ａ）の第１下部流路（１４１Ｐａ）及び第１上部流路（１４３Ｐ）に流動するようになり、内釜（２１０）の収容空間の圧力は第１圧力制御装置（１４０ａ）により決定され得る。内釜（２１０）の収容空間の蒸気圧が予め定められた第１圧力またはこれに近接した水準まで高くなった場合に蒸気が第１圧力制御装置（１４０ａ）を通じて外部に排出されるので、内釜（２１０）の収容空間の圧力は第１圧力またはこれに近接した水準に維持されることができる。

もし、操作ハンドル（１８３）が第４回転位置に位置したとき、制御器がシャッター構造体（３１０）に第２制御信号を印加する場合、シャッターロッド（３１３）は図１４Ｂに示された通り第１下部流路（１４１Ｐａ）を閉鎖する閉鎖位置に位置し、調理が進められる間、第１圧力制御装置（１４０ａ）を通じた蒸気の排出が不能状態となる。この場合、内釜（２１０）の収容空間に発生した蒸気は第２圧力制御装置（１５０）の第２流路（１５１Ｐ）に流動するようになり、内釜（２１０）の収容空間の圧力は第２圧力制御装置（１５０）により決定され得る。内釜（２１０）の収容空間の蒸気圧が予め定められた第２圧力またはこれに近接した水準まで高くなった場合に蒸気が第２圧力制御装置（１５０）を通じて外部に排出されるので、内釜（２１０）の収容空間の圧力は第２圧力またはこれに近接した水準に維持されることができる。

図１７は、本発明の例示的な実施例による調理装置の蓋アセンブリー（１００ｂ）の主要構成を示す平面図である。図１８は、図１７の蓋アセンブリー（１００ｂ）の圧力制御装置（１０３ｂ）を示す斜視図である。図１９Ａ～図１９Ｃは、図１７の蓋アセンブリー（１００ｂ）の圧力制御装置（１０３ｂ）を示す断面図である。

図１９Ａは、第１シャッターロッド（３２３）が第１下部流路（１４１Ｐｂ）を開放する開放位置にあり、第２シャッターロッド（３２４）が第２下部流路（１５２Ｐ）を開放する開放位置にあるときの状態を示す。図１９Ｂは、第１シャッターロッド（３２３）が第１下部流路（１４１Ｐｂ）を開放する開放位置にあり、第２シャッターロッド（３２４）が第２下部流路（１５２Ｐ）を閉鎖する閉鎖位置にあるときの状態を示す。図１９Ｃは、第１シャッターロッド（３２３）が第１下部流路（１４１Ｐｂ）を閉鎖する閉鎖位置にあり、第２シャッターロッド（３２４）が第２下部流路（１５２Ｐ）を開放する開放位置にあるときの状態を示す。

図１７、図１８、図１９Ａ～図１９Ｃに示された蓋アセンブリー（１００ｂ）は圧力制御装置（１０３ｂ）の構成及び動作上の差異点等を除いては、図１３～図１７を参照して説明された蓋アセンブリー（１００ｂ）と概ね類似し得る。以下で、図１３～図１６を参照して説明された蓋アセンブリー（１００ａ）及びこれを含む調理装置との差異点を中心に、図１７、図１９Ａ～図１９Ｃに示された蓋アセンブリー（１００ｂ）及びこれを含む調理装置について説明する。

図１７、図１８、図１９Ａ～図１９Ｃを参照すると、圧力制御装置（１０３ｂ）は内釜（２１０）の収容空間に第１圧力を形成するように構成された第１圧力制御装置（１４０ｂ）と、内釜（２１０）の収容空間に第１圧力より高い第２圧力を形成するように構成された第２圧力制御装置（１５０ａ）と、第１圧力制御装置（１４０ｂ）及び第２圧力制御装置（１５０ａ）のそれぞれを通じた蒸気排出を制御するように構成されたシャッター構造体（３２０）を含み得る。第１圧力制御装置（１４０ｂ）及び第２圧力制御装置（１５０ａ）は、それぞれ、電気的制御信号によって蒸気の排出有無を調節する電子制御式バルブであってもよい。

第１圧力制御装置（１４０ｂ）は垂直方向に連結された第１下部シリンダ（１４１ｂ）及び第１上部シリンダ（１４３）を含む第１シリンダ、及び第１重り（１４５）を含み得る。

第１下部シリンダ（１４１ｂ）は内釜（２１０）の収容空間と連通する第１下部流路（１４１Ｐｂ）を含み得る。第１下部流路（１４１Ｐｂ）はトッププレート（１２０）の第１上部蒸気ホール（１２１Ｈ１）及び内釜カバー（１１０）の第１下部蒸気ホール（１１１Ｈ１）を通じて内釜（２１０）の収容空間と連通することができる。第１下部流路（１４１Ｐｂ）はトッププレート（１２０）の第１上部蒸気ホール（１２１Ｈ１）に連通する流入口から、第１下部シリンダ（１４１ｂ）の流出口まで上方に延び得る。

第１上部シリンダ（１４３）は第１下部シリンダ（１４１ｂ）上に装着され得、第１下部シリンダ（１４１ｂ）に連通する第１上部流路（１４３Ｐ）を含み得る。第１上部流路（１４３Ｐ）は第１下部シリンダ（１４１ｂ）の流出口と連通する流入口から、第１上部シリンダ（１４３）の上側に設けられた流出口まで上方に延び得る。

第１重り（１４５）は第１上部シリンダ（１４３）上に装着され得る。第１重り（１４５）は第１上部流路（１４３Ｐ）の流出口に挿入されるように構成された第１圧力突起（１４５１）を含み得る。第１圧力突起（１４５１）は第１上部流路（１４３Ｐ）に形成される蒸気圧のレベルによって、第１上部流路（１４３Ｐ）の流出口を開放または閉鎖することができる。

第２圧力制御装置（１５０ａ）は垂直方向に連結された第２下部シリンダ（１５２）及び第２上部シリンダ（１５３）を含む第２シリンダ、及び第２重り（１５５）を含み得る。

第２下部シリンダ（１５２）は内釜（２１０）の収容空間と連通する第２下部流路（１５２Ｐ）を含み得る。第２下部流路（１５２Ｐ）はトッププレート（１２０）の第２上部蒸気ホール（１２１Ｈ２）及び内釜カバー（１１０）の第２下部蒸気ホール（１１１Ｈ２）を通じて内釜（２１０）の収容空間と連通することができる。第２下部流路（１５２Ｐ）はトッププレート（１２０）の第２上部蒸気ホール（１２１Ｈ２）に連通する流入口から、第２下部シリンダ（１５２）の上側に設けられた流出口まで上方に延び得る。

第２上部シリンダ（１５３）は第２下部シリンダ（１５２）上に装着され得、第２下部流路（１５２Ｐ）に連通する第２上部流路（１５３Ｐ）を含み得る。第２上部流路（１５３Ｐ）は第２下部シリンダ（１５２）の流出口と連通する流入口から、第２上部シリンダ（１５３）の上側に設けられた流出口まで上方に延び得る。

第２重り（１５５）は第２上部シリンダ（１５３）上に装着され得る。第２重り（１５５）は第２上部流路（１５３Ｐ）の流出口に挿入されるように構成された第２圧力突起（１５５１）を含み得る。第２圧力突起（１５５１）は第２上部流路（１５３Ｐ）に形成される蒸気圧のレベルによって、第２上部流路（１５３Ｐ）の流出口を開放または閉鎖することができる。

シャッター構造体（３２０）はトッププレート（１２０）上に装着されたフレーム（３２１）、フレーム（３２１）内に移動可能に装着されて第１下部流路（１４１Ｐｂ）を開閉するように構成された第１シャッターロッド（３２３）、フレーム（３１１）内に移動可能に装着されて第２下部流路（１５２Ｐ）を開閉するように構成された第２シャッターロッド（３２４）を含み得る。第１シャッターロッド（３２３）は第１下部流路（１４１Ｐｂ）を開放する開放位置と、第１下部流路（１４１Ｐｂ）を閉鎖する閉鎖位置の間で線状移動するように構成され得る。第２シャッターロッド（３２４）は第２下部流路（１５２Ｐ）を開放する開放位置と、第２下部流路（１５２Ｐ）を閉鎖する閉鎖位置の間で線状移動するように構成され得る。第１シャッターロッド（３２３）及び第２シャッターロッド（３２４）はアクチュエータ（３２２）に連結され得、第１シャッターロッド（３２３）の移動及び第２シャッターロッド（３２４）の移動はアクチュエータ（３２２）により制御され得る。

図１９Ｃに示された通り、第１シャッターロッド（３２３）が閉鎖位置にあるとき、第１シャッターロッド（３２３）の一部分が第１下部流路（１４１Ｐｂ）の中間部分に挿入されて第１下部流路（１４１Ｐｂ）を閉鎖するので、第１圧力制御装置（１４０ｂ）を通じた蒸気排出が不能状態になり得る。図１９Ａ及び図１９Ｂに示された通り、第１シャッターロッド（３２３）が開放位置にあるとき、第１シャッターロッド（３２３）は第１下部流路（１４１Ｐｂ）が詰まらないように閉鎖位置から後退した位置にあり得る。

図１９Ｂに示された通り、第２シャッターロッド（３２４）が閉鎖位置にあるとき、第２シャッターロッド（３２４）の一部分が第２下部流路（１５２Ｐ）の中間部分に挿入されて第２下部流路（１５２Ｐ）を閉鎖するので、第２圧力制御装置（１５０ａ）を通じた蒸気排出が不能状態になり得る。図１９Ａ及び図１９Ｃに示された通り、第２シャッターロッド（３２４）が開放位置にあるとき、第２シャッターロッド（３２４）は第２下部流路（１５２Ｐ）が詰まらないように閉鎖位置から後退した位置にあり得る。

例示的な実施例において、調理装置は操作ハンドル（図１０の１８３）の回転位置及び/又は回転カバー（１３０）の回転位置を感知するための感知手段と、感知手段で感知された情報に基づいて圧力制御装置（１０３ｂ）に印加される制御信号を生成するように構成された制御器を含み得る。前記感知手段は、例えばリードスイッチ（ｒｅｅｄｓｗｉｔｃｈ）、光センサ、機械式センサ等のセンサを含み得る。前記制御器はマイクロコントローラーチップを含み得、本体（図１の２００）に搭載され得る。

前記感知手段は、操作ハンドル（１８３）の回転位置及び/又は回転カバー（１３０）の回転位置を感知するように構成され得る。または、前記感知手段は回転カバー（１３０）の回転により可変するガイド溝（１３５）内のガイド突起（１７５）の位置、及び/又は回転カバー（１３０）の回転により可変する回転拘束溝（１３３）内の締結構造（１８５）の位置変化を感知するように構成されることもできる。

制御器は感知手段で感知された情報に基づいて、第１シャッターロッド（３２３）を開放位置に位置させるための第１制御信号、第１シャッターロッド（３２３）を閉鎖位置に位置させるための第２制御信号、第２シャッターロッド（３２４）を開放位置に位置させるための第３制御信号、及び第２シャッターロッド（３２４）を閉鎖位置に位置させるための第４制御信号を生成することができる。

以下で、圧力制御装置（１０３ｂ）による圧力制御過程をより詳細に説明する。

図１９Ａに示された通り、制御器はアクチュエータ（３２２）に第１制御信号及び第３制御信号を印加し、第１シャッターロッド（３２３）及び第２シャッターロッド（３２４）をそれぞれ開放位置に位置させることができる。第１シャッターロッド（３２３）及び第２シャッターロッド（３２４）がそれぞれ開放位置に位置すれば、第１圧力制御装置（１４０ｂ）の第１下部流路（１４１Ｐｂ）及び第１上部流路（１４３Ｐ）が互いに連通し、第２圧力制御装置（１５０ａ）の第２下部流路（１５２Ｐ）及び第２上部流路（１５３Ｐ）が互いに連通することができる。この場合、第１圧力制御装置（１４０ｂ）は第２圧力制御装置（１５０ａ）より低いレベルで内釜（２１０）の収容空間の蒸気圧を維持するように構成されるので、内釜（２１０）内で発生した蒸気は概ね第１圧力制御装置（１４０ｂ）を通じて排出され得る。もし、内釜（２１０）の収容空間の蒸気圧が予め定められた第１圧力またはこれに近接した水準まで高くなった場合、第１重り（１４５）の第１圧力突起（１４５１）が蒸気圧によって持ち上げられ第１上部流路（１４３Ｐ）の流出口が開放され、蒸気が外部に排出されて内釜（２１０）の収容空間の蒸気圧は第１圧力またはこれに近接した水準に維持されることができる。

図１９Ｂに示された通り、制御器はアクチュエータ（３２２）に第１制御信号及び第４制御信号を印加し、第１シャッターロッド（３２３）を開放位置に位置させて第２シャッターロッド（３２４）を閉鎖位置に位置させることができる。第２下部流路（１５２Ｐ）が第２シャッターロッド（３２４）により閉鎖されるので、第２圧力制御装置（１５０ａ）を通じた蒸気排出は不能状態となる。この場合、内釜（２１０）内で発生した蒸気は第１圧力制御装置（１４０ｂ）を通じて排出され得る。もし、内釜（２１０）の収容空間の蒸気圧が予め定められた第１圧力またはこれに近接した水準まで高くなった場合、第１重り（１４５）の第１圧力突起（１４５１）が蒸気圧によって持ち上げられ第１上部流路（１４３Ｐ）の流出口が開放され、蒸気が外部に排出されて内釜（２１０）の収容空間の蒸気圧は第１圧力またはこれに近接した水準に維持されることができる。

図１９Ｃに示された通り、制御器はアクチュエータ（３２２）に第２制御信号及び第３制御信号を印加し、第１シャッターロッド（３２３）を閉鎖位置に位置させて第２シャッターロッド（３２４）を開放位置に位置させることができる。第１下部流路（１４１Ｐｂ）が第１シャッターロッド（３２３）により閉鎖されるので、第１圧力制御装置（１４０ｂ）を通じた蒸気排出は不能状態となる。この場合、内釜（２１０）内で発生した蒸気は第２圧力制御装置（１５０ａ）を通じて排出され得る。もし、内釜（２１０）の収容空間の蒸気圧が第１圧力を越えて第２圧力及びこれに近接した水準まで高くなれば、第２重り（１５５）の第２圧力突起（１５５１）が蒸気圧によって持ち上げられ第２流路（１５１Ｐ）の流出口が開放され、蒸気が外部に排出されて内釜（２１０）の収容空間の蒸気圧は第２圧力またはこれに近接した水準に維持されることができる。

図２０は、図１７の蓋アセンブリーを含む調理装置で、操作ハンドル（１８３）の回転位置の変化による、ガイド突起（１７５）の位置変化、ロック構造体（１７０）の動作、リフトピン（１８１）の動作、シャッター構造体（３２０）の動作、及び内釜（２１０）の圧力変化を示すテーブルである。参考までに、図２０のテーブルで、操作ハンドル（１８３）が第３回転位置にあるとき、ロック構造体（１７０）の位置、リフトピン（１８１）の位置、第１シャッターロッド（３２３）の位置、第２シャッターロッド（３２４）の位置、及び内釜圧力は操作ハンドル（１８３）が第４回転位置にあるときと同一であるため、省略された。

以下で、図１７～図２０を図６Ａ～図１０と共に参照して、図１３～図１６を参照して説明された蓋アセンブリー（１００ａ）を含む調理装置の動作方法との差異点を中心に、蓋アセンブリー（１００ｂ）を含む調理装置の動作方法について説明する。

操作ハンドル（１８３）が第１回転位置にあるときは、先に図１３～図１６を参照して説明された蓋アセンブリー（１００ａ）でと同様に、ロック構造体（１７０）はロック位置に位置し得る。

操作ハンドル（１８３）が第１回転位置にあるとき、先に図１３～図１６を参照して説明された蓋アセンブリー（１００ａ）でと同様に、第１圧力制御装置（１４０ｂ）の第１上部流路（１４３Ｐ）の流出口及び第２圧力制御装置（１５０ａ）の第２上部流路（１５３Ｐ）の流出口はピン－アップ位置に上昇したリフトピン（１８１）により開放され得る。また、操作ハンドル（１８３）が第１回転位置に位置したとき、制御器はシャッター構造体（３２０）に第１制御信号及び第３制御信号を印加して第１シャッターロッド（３２３）及び第２シャッターロッド（３２４）を開放位置に位置させることができる。この場合、調理が進められる間、内釜（２１０）の収容空間に発生した蒸気は第１圧力制御装置（１４０ｂ）及び第２圧力制御装置（１５０ａ）を通じて外部に抜け出るので、内釜（２１０）の収容空間の圧力は無圧（例えば、大気圧またはこれに近接した圧力）で維持されることができる。

操作ハンドル（１８３）が第２回転位置にあるとき、先に図１３～図１６を参照して説明された蓋アセンブリー（１００ａ）でと同様に、ロック構造体（１７０）はアンロック位置に位置し得る。

操作ハンドル（１８３）が第２回転位置にあるとき、先に図１３～図１６を参照して説明された蓋アセンブリー（１００ａ）でと同様に、第１圧力制御装置（１４０ｂ）の第１上部流路（１４３Ｐ）の流出口及び第２圧力制御装置（１５０ａ）の第２上部流路（１５３Ｐ）の流出口はピン－アップ位置に上昇したリフトピン（１８１）により開放され得る。また、操作ハンドル（１８３）が第２回転位置に位置したとき、制御器はシャッター構造体（３２０）に第１制御信号及び第３制御信号を印加して第１シャッターロッド（３２３）及び第２シャッターロッド（３２４）を開放位置に位置させることができる。この場合、調理が進められる間、内釜（２１０）の収容空間に発生した蒸気は第１圧力制御装置（１４０ｂ）及び第２圧力制御装置（１５０ａ）を通じて外部に抜け出るので、内釜（２１０）の収容空間の圧力は無圧（例えば、大気圧またはこれに近接した圧力）で維持されることができる。

操作ハンドル（１８３）が第４回転位置にあるとき、先に図１３～図１６を参照して説明された蓋アセンブリー（１００ａ）でと同様に、ロック構造体（１７０）はロック位置に位置し得る。

操作ハンドル（１８３）が第４回転位置にあるとき、先に図１３～図１６を参照して説明された蓋アセンブリー（１００ａ）でと同様に、リフトピン（１８１）はピン－ダウン位置に下降し、内釜（２１０）の収容空間の蒸気圧は第１圧力制御装置（１４０ｂ）及び/又は第２圧力制御装置（１５０ａ）により調節され得る。

操作ハンドル（１８３）が第４回転位置に位置したとき、感知手段で感知された情報に基づいて、制御器は第１シャッターロッド（３２３）に第１制御信号及び第２制御信号のうちいずれか１つを印加し、第２シャッターロッド（３２４）に第３制御信号及び第４制御信号のうちいずれか１つを印加することができる。例えば、制御器は予め定められた調理レシピにより、第１シャッターロッド（３２３）に第１制御信号及び第２制御信号のうちいずれか１つを印加し、第２シャッターロッド（３２４）に第３制御信号及び第４制御信号のうちいずれか１つを印加することができる。例えば、制御器は予め定められた調理レシピによる調理時間に応じてシャッター構造体（３２０）に印加される制御信号を調節し、内釜（２１０）の収容空間の蒸気圧を調節することができる。

もし、操作ハンドル（１８３）が第４回転位置に位置したとき、第１シャッターロッド（３２３）に第１制御信号が印加され第２シャッターロッド（３２４）に第３制御信号が印加される場合、図１９Ａに示された通り第１シャッターロッド（３２３）及び第２シャッターロッド（３２４）はそれぞれ開放位置に位置し得る。この場合、第１圧力制御装置（１４０ｂ）は第２圧力制御装置（１５０ａ）より低いレベルで内釜（２１０）の収容空間の蒸気圧を維持するように構成されるので、内釜（２１０）内で発生した蒸気は概ね第１圧力制御装置（１４０ｂ）を通じて排出され得る。これにより、内釜（２１０）の収容空間の蒸気圧は第１圧力及びこれに近接した水準に維持されることができる。

もし、操作ハンドル（１８３）が第４回転位置に位置したとき、第１シャッターロッド（３２３）に第１制御信号が印加され第２シャッターロッド（３２４）に第４制御信号が印加される場合、図１９Ｂに示された通り第１シャッターロッド（３２３）は開放位置に位置し、第２シャッターロッド（３２４）は閉鎖位置に位置し得る。この場合、第２圧力制御装置（１５０ａ）を通じた蒸気排出は不能状態になり、内釜（２１０）内で発生した蒸気は第１圧力制御装置（１４０ｂ）を通じて排出され得る。これにより、内釜（２１０）の収容空間の蒸気圧は第１圧力及びこれに近接した水準に維持されることができる。

もし、操作ハンドル（１８３）が第４回転位置に位置したとき、第１シャッターロッド（３２３）に第２制御信号が印加され第２シャッターロッド（３２４）に第３制御信号が印加される場合、図１９Ｃに示された通り第１シャッターロッド（３２３）は閉鎖位置に位置し、第２シャッターロッド（３２４）は開放位置に位置し得る。この場合、第１圧力制御装置（１４０ｂ）を通じた蒸気排出は不能状態になり、内釜（２１０）内で発生した蒸気は第２圧力制御装置（１５０ａ）を通じて排出され得る。これにより、内釜（２１０）の収容空間の蒸気圧は第２圧力及びこれに近接した水準に維持されることができる。

以上の通り図面と明細書で例示的な実施例が開示された。本明細書において特定の用語を使用して実施例を説明したが、これは単に本開示の技術的思想を説明する目的で使用されたものであって、意味の限定や請求の範囲に記載された本開示の範囲を制限するために使用されたものではない。従って、本技術分野の通常の知識を有する者であれば、これより多様な変形及び均等な他の実施例が可能であるという点が分かるものである。従って、本開示の真の技術的保護範囲は添付の請求の範囲の技術的思想によって定められるべきである。

Claims (9)

1. 内釜が収容される本体と、
   前記本体に結合される蓋カバー内に設けられたトッププレートと、
   前記トッププレートの枠に沿って回転可能に前記トッププレート上に結合された回転カバーと、
   前記内釜の収容空間と連通する第１下部流路を含む第１下部シリンダ、前記第１下部シリンダ上にあり第１上部流路を含む第１上部シリンダ、前記第１上部シリンダ上にあり前記内釜の前記収容空間の蒸気圧により前記第１上部流路を開閉するように構成された第１重り、及び前記第１下部流路と前記第１上部流路が連通するように前記第１下部流路の流出口を開放する開放位置と前記第１下部流路と前記第１上部流路が連通しないように前記第１下部流路の前記流出口を閉鎖する閉鎖位置の間で転換するように構成されたシャッター構造体を含む第１圧力制御装置と、
   前記内釜の前記収容空間と連通する第２流路を有する第２シリンダ、及び前記第２シリンダ上にあり前記内釜の前記収容空間の蒸気圧により前記第２流路を開閉するように構成された第２重りを含む第２圧力制御装置と、を含む調理装置。
2. 前記第１圧力制御装置は、前記内釜の前記収容空間の蒸気圧を第１圧力で維持するように構成され、
   前記第２圧力制御装置は、前記内釜の前記収容空間の蒸気圧を前記第１圧力より高い第２圧力で維持するように構成された、請求項１に記載の調理装置。
3. 前記シャッター構造体は、
   前記第１下部シリンダに結合されたシャッターフレームと、
   前記シャッターフレームに移動可能に装着されたシャッターロッドと、
   前記第１下部流路の前記流出口と向き合う前記シャッターロッドの端部に結合された弾性カバーと、
   前記シャッターロッドを弾性支持するように構成された第１弾性体と、を含む、請求項１に記載の調理装置。
4. 前記シャッター構造体が前記閉鎖位置に固定されるように前記シャッター構造体を加圧するように構成されたプッシュ構造体をさらに含み、
   前記プッシュ構造体は、前記回転カバーに結合され、前記回転カバーの回転角度によって前記シャッター構造体を選択的に加圧するように構成された、請求項３に記載の調理装置。
5. 前記プッシュ構造体は、
   前記回転カバーに結合された固定本体と、
   前記固定本体に装着された第２弾性体と、
   前記第２弾性体に弾性支持され、前記シャッターロッドを加圧する移動本体と、を含む、請求項４に記載の調理装置。
6. 前記蓋カバーに昇降可能に装着されたリフトピンをさらに含み、
   前記リフトピンは前記回転カバーの回転角度によってピン－ダウン位置とピン－アップ位置の間で昇降するように構成され、
   前記リフトピンは前記ピン－アップ位置に位置し、前記第１上部シリンダの前記第１上部流路の流出口が強制開放されるように前記第１重りを持ち上げ、前記第２シリンダの前記第２流路の流出口が強制開放されるように前記第２重りを持ち上げる、請求項１に記載の調理装置。
7. 前記内釜のフランジ部にかかるように構成された係止突起を含むロック構造体をさらに含み、
   前記ロック構造体は前記トッププレートに線状移動可能に装着され、
   前記ロック構造体は前記回転カバーの回転角度によって、前記係止突起が前記内釜の前記フランジ部に垂直方向に重畳するように位置したロック位置と前記ロック位置から半径方向の外側に離隔されたアンロック位置の間で線状移動するように構成された、請求項１に記載の調理装置。
8. 前記回転カバーはその延長方向に沿って順に配置された第１位置、第２位置、第３位置、及び第４位置を含むガイド溝を含み、
   前記ガイド溝の前記第１位置、第３位置、及び第４位置はそれぞれ前記回転カバーの回転中心から第１距離に離隔された位置であり、
   前記ガイド溝の前記第２位置は前記回転カバーの前記回転中心から前記第１距離より大きい第２距離に離隔された位置であり、
   前記ロック構造体は、前記ガイド溝に収容され前記回転カバーの回転角度によって前記ガイド溝の前記第１～第４位置のうちいずれか１つに位置するガイド突起をさらに含み、
   前記ロック構造体は、
   前記ガイド突起が前記ガイド溝の前記第１位置、第３位置及び前記第４位置にあるとき、前記ロック位置に位置し、
   前記ロック構造体の前記ガイド突起が前記ガイド溝の前記第２位置にあるとき、前記アンロック位置に位置する、請求項７に記載の調理装置。
9. 前記回転カバーの回転角度によってピン－ダウン位置とピン－アップ位置の間で昇降し、前記第１重り及び前記第２重りを選択的に加圧するように構成されたリフトピンと、
   前記回転カバーの回転角度によって前記シャッター構造体を選択的に加圧して前記シャッター構造体を前記開放位置と前記閉鎖位置の間で転換させるように構成されたプッシュ構造体と、
   をさらに含み、
   前記リフトピンは、
   前記ロック構造体の前記ガイド突起が前記ガイド溝の前記第１位置及び前記第２位置にあるとき、前記第１上部シリンダの前記第１上部流路の流出口及び前記第２シリンダの前記第２流路の流出口が強制開放されるように前記第１重り及び前記第２重りを持ち上げる前記ピン－アップ位置に位置し、
   前記ロック構造体の前記ガイド突起が前記ガイド溝の前記第３位置及び前記第４位置にあるとき、前記ピン－アップ位置から下降した前記ピン－ダウン位置に位置し、
   前記プッシュ構造体は、
   前記ロック構造体の前記ガイド突起が前記ガイド溝の前記第１位置、前記第２位置、及び前記第３位置にあるとき、前記シャッター構造体が前記開放位置に位置するように前記シャッター構造体から離隔され、
   前記ロック構造体の前記ガイド突起が前記ガイド溝の前記第４位置にあるとき、前記シャッター構造体が前記閉鎖位置に固定されるように前記シャッター構造体を加圧する、請求項８に記載の調理装置。