JP7470508B2 - シリカ粉体、シリカ粉体の製造方法、および焼成シリカ粉体の製造方法 - Google Patents
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Description
[1] 水およびアルコールを含む溶媒にアルコキシシランを含む溶液を複数回に分けて、または連続的に添加し、シリカ粒子を含むアルコール分散液を調製する工程と、前記シリカ粒子を含むアルコール分散液の分散媒をアルコールから水に置換してシリカ粒子を含む水分散液を得る工程と、前記シリカ粒子を含む水分散液を噴霧させて乾燥する工程と、を含むシリカ粉体の製造方法。
[2] 前記シリカ粒子を含む水分散液に、噴霧性向上剤を添加する工程を更に含む[1]に記載の製造方法。
[3] 前記シリカ粒子を含む水分散液を、前記アルコールの沸点または前記アルコールが水と共沸する温度のいずれか低い方の温度以上で保持する工程を更に含む[1]または[2]に記載の製造方法。
[4] 噴霧口の温度を160℃以上とする[1]~[3]のいずれかに記載の製造方法。
[5] 前記シリカ粒子を含む水分散液は、前記シリカ粒子を10質量%以上含む[1]~[4]のいずれかに記載の製造方法。
[6] 前記シリカ粒子を含むアルコール分散液を濃縮した後、分散媒をアルコールから水に置換する[1]~[5]のいずれかに記載の製造方法。
[7] [1]~[6]のいずれかに記載の製造方法で得られたシリカ粉体を、焼成することを特徴とする焼成シリカ粉体の製造方法。
[8] 平均粒子径D1が0.01~5μm、最大粒子径D2が0.01~10μm、前記最大粒子径D2と前記平均粒子径D1との比(D2/D1)が2.0以下、炭素原子含有量が1.0質量%以下、Fe含有量が1ppm(質量基準)以下、およびシロキサン結合率が65%以上を満足するシリカ粉体。
[9] 更に、CV値が10%以下を満足する[8]に記載のシリカ粉体。
なお本明細書において用語「シリカ粒子」は、未焼成シリカ粒子を意味し、焼成シリカ粒子と区別して使用する。用語「シリカ粉体」についても「粒子」、「粉体」の違いがある点を除き、用語「シリカ粒子」と同様の意味で使用する。
上記シリカ粉体の平均粒子径D1は0.01μm以上であり、0.1μm以上が好ましく、より好ましくは0.2μm以上である。上記シリカ粉体の平均粒子径D1は5μm以下であり、4μm以下が好ましく、より好ましくは3.5μm以下である。上記シリカ粉体の平均粒子径D1は、レーザー回折/散乱式粒子径分布測定装置を用いて実施例に記載した方法で粒子径を測定し、個数平均値として求めた値である。
上記シリカ粉体は、最大粒子径D2が0.01~10μmである。上記最大粒子径D2はできるだけ小さい方が好ましく、上記平均粒子径D1の値に近いことが望ましい。上記シリカ粉体の最大粒子径D2は、レーザー回折/散乱式粒子径分布測定装置を用いて実施例に記載した方法で測定された粒子径のうち最も大きい値である。
前記最大粒子径D2と前記平均粒子径D1との比(D2/D1)は、2.0以下を満足する。上記比(D2/D1)が2.0を超えると、溶媒や樹脂への分散性が悪くなる。上記比は、好ましくは1.8以下、より好ましくは1.5以下である。上記比は、1.0が最も好ましい。
上記シリカ粉体に含まれる炭素原子量を1.0質量%以下に抑制することによって、シリカ粉体の純度を高めることができる。また、シリカ粒子に含まれる炭素含有量が多くなると、組成物に配合した際に純度を低下させたり、加熱時にアウトガスを発生させたり、着色の原因となる。炭素原子含有量は、0.8質量%以下が好ましく、より好ましくは0.5質量%以下である。上記炭素原子含有量は、できるだけ少ない方が望ましく、最も好ましくは0質量%であるが、例えば、0.1質量%以上であってもよい。
上記シリカ粉体に含まれる金属量を低減することによって、シリカ粉体の純度を高めることができる。シリカ粉体に含まれる金属量は、代表値としてFe量を測定すればよい。具体的には、上記シリカ粉体に含まれるFe量を1ppm(質量基準。以下同じ。)以下に抑制することによって、シリカ粉体の純度を高めることができる。Fe含有量は、0.8ppm以下が好ましく、より好ましくは0.5ppm以下、更に好ましくは0.3ppm以下である。上記Fe量は、できるだけ少ない方が望ましく、最も好ましくは0.1ppm未満である。
上記シリカ粉体のシロキサン結合率を65%以上とすることによって、凝集の原因となるシラノールの割合を低減でき、シリカ粉体の凝集による粗大化を抑制できる。上記シロキサン結合率は、70%以上が好ましく、より好ましくは72%以上である。上記シロキサン結合率は、できるだけ高い方が望ましい。
上記シリカ粉体のCV値は、10%以下が好ましい。上記CV値とは、個数基準の粒子径の変動係数であり、その値が小さいことはシリカ粒子の凝集が抑制されて粗大化が防止されている事を示す。このCV値は、9%以下がより好ましく、更に好ましくは8%以下であり、できるだけ小さい方が好ましい。上記CV値は、下記式に従って算出した値とする。
CV値(%)=100×(粒子径の標準偏差/個数平均粒子径)
水およびアルコールを含む溶媒にアルコキシシランを含む溶液を添加することによって、アルコキシシランが加水分解縮合され、シリカ粒子を含むアルコール分散液が得られる。
上記シリカ粒子を含むアルコール分散液は、濃縮することが好ましい。濃縮することによって、シリカ粉体に含まれる炭素原子含有量を低減できる。また、シリカ粉体のシロキサン結合率を高めることができる。また、シリカ粉体の生産効率を向上できる。上記シリカ粒子を含むアルコール分散液の濃縮は、シリカ粒子の濃度が、例えば、10質量%以上になるまで行うことが好ましく、より好ましくは20質量%以上である。シリカ粒子の濃度が高いほど、シリカ粉体の生産効率を向上できる。しかしシリカ粉体の濃度が高すぎると、後述する噴霧乾燥が困難になる。従ってシリカ粒子の濃度を高めた場合は、後述するように、噴霧性向上剤を添加することが好ましい。
濃縮方法は特に限定されず、公知の方法を採用できる。
次に、上記シリカ粒子を含むアルコール分散液の分散媒をアルコールから水に置換し、シリカ粒子を含む水分散液を得る。上記分散媒をアルコールから水に置換することによって、分散液からアルコールが除去されるため、乾燥後のシリカ粉体に含まれる炭素原子量を低減でき、シリカ粉体の純度を高めることができる。
噴霧性向上剤添加工程では、上記シリカ粒子を含む水分散液に、噴霧前に噴霧性向上剤を添加することによって、水分散液に含まれるシリカ粒子が高濃度であっても水分散液の粘度を低くすることができるため、噴霧乾燥が可能となる。水分散液の粘度を低くできる理由は不明であるが、シリカ粒子は負の電荷を帯びているため、塩基を添加することによって塩基は正の電荷を帯びているため電気二重層が形成されて安定化し、更に酸を添加することによって酸は負の電荷を帯びているため層が増える結果、シリカ粒子同士の相互作用を抑えることができ、水分散液の粘度を低くできるのではないかと考えられる。酸としては、弱疎水性基を有するものを選択することが好ましい。また、水分散液の粘度が低くなるため、噴霧乾燥してもシリカ粒子の凝集を抑制できる。その結果、シリカ粒子の生産性を向上できる。
本発明では、上記シリカ粒子を含む水分散液を、上記アルコールの沸点または上記アルコールが水と共沸する温度のいずれか低い方の温度以上で保持することによって、残存する上記アルコールを除去できると共に、シリカ粉体のシロキサン結合率を高めることができ、シリカ粉体の凝集による粗大化を抑制できる。
次に、水置換工程で得られたシリカ粒子を含む水分散液、あるいは水置換工程で得られたシリカ粒子を含む水分散液に上記噴霧性向上剤を添加、および/または上記条件で保持して得られた保持後のシリカ粒子を含む水分散液を噴霧させて乾燥することによって、シリカ粉体に金属を混入させることなく乾燥させることができるため、シリカ粉体の純度を高めることができる。例えば、シリカ粒子を含む水分散液を真空気流乾燥すると、真空乾燥装置の壁面にシリカ粒子が衝突してこの壁面から金属(例えば、Feなど)がシリカ粉体に混入し、シリカ粉体の純度が低下することがあるが、本発明では、噴霧乾燥を採用しているため、こうした金属の混入を防止できる。
上記焼成シリカ粉体の平均粒子径d1は、0.1μm以上がより好ましく、更に好ましくは0.2μm以上である。上記焼成シリカ粉体の平均粒子径d1は、4μm以下がより好ましく、更に好ましくは3μm以下、特に好ましくは2μm以下、最も好ましくは1μm以下である。上記平均粒子径d1は、透過型電子顕微鏡を用いて粒子径を測定し、個数平均値として求めた値である。
上記焼成シリカ粉体に含まれるFe量は、0.8ppm以下がより好ましく、更に好ましくは0.5ppm以下、特に好ましくは0.3ppm以下である。Fe含有量は、できるだけ少ない方が望ましく、最も好ましくは0ppmである。
[実験例1]
(アルコール分散液調製工程)
撹拌機、滴下装置、および温度計を備えた容量200Lの反応器に、メタノールを67.54kgと、28質量%アンモニア水(水および触媒)を26.33kg仕込み、撹拌しながら液温を33±0.5℃に調節した。一方、メタノール5.59kgにテトラメトキシシラン13.45kgを溶解させた溶液を滴下装置に仕込み、反応器中の液温を33±0.5℃に保持しながら、滴下装置から前記溶液を3時間かけて連続滴下した。反応液中におけるテトラメトキシシランの濃度は3.0mmol/g、水の濃度は4.2mmol/g、アルコールの量は64.8質量%、アンモニアの濃度は1.6mmol/gであった。水とテトラメトキシシランのモル比(水/テトラメトキシシラン)は1.4、アンモニアと、アンモニアと水との合計の質量比[アンモニア/(アンモニア+水)]は0.28であった。
次に、濃縮して得られたシリカ粒子を含むアルコール分散液に含まれるメタノールを、蒸留装置を用いて水に置換し、得られたシリカ粒子を含む水分散液を液温99.5℃で5時間以上保持した後、シリカ粒子を含む水分散液に含まれるシリカ粒子の濃度が20質量%になるように調整した。なお、メタノールの沸点は、64.7℃である。
次に、保持後のシリカ粒子を含む水分散液を、噴霧乾燥装置(藤崎電機株式会社製、MDL-015MGC型。スプレードライヤー)を用いて噴霧乾燥し、シリカ粉体を得た。ノズルから噴霧させて乾燥するときの噴霧口の温度(ノズル出口温度)は200℃、噴霧圧は5kg/cm2、風量は2m3/minとした。
実験例1のアルコール分散液調製工程において、テトラメトキシシランを溶解する溶媒としてメタノールを用いず、滴下装置からテトラメトキシシラン13.45kgを連続滴下する点以外は、実験例1と同じ条件でシリカ粉体を製造した。反応液中におけるテトラメトキシシランの濃度は3.1mmol/g、アルコールの量は62.9質量%であった。
実験例2において、アルコール分散液調製工程における反応器に仕込むメタノールを58kg、28質量%アンモニア水(水および触媒)を12kgとする点と、滴下装置から連続滴下するテトラメトキシシランを35kgとする点以外は、実験例2と同じ条件でシリカ粉体を製造した。反応液中におけるテトラメトキシシランの濃度は4.8mmol/g、水の濃度は1.2mmol/g、アルコールの量は55.2質量%、アンモニアの濃度は0.5mmol/gであった。水とテトラメトキシシランのモル比(水/テトラメトキシシラン)は0.25、アンモニアと、アンモニアと水との合計の質量比[アンモニア/(アンモニア+水)]は0.28であった。
実験例3において、保持後におけるシリカ粒子を含む水分散液に含まれるシリカ粒子の濃度が30質量%になるように調整する以外は、実験例3と同じ条件でシリカ粉体を製造した。
実験例3において、保持後におけるシリカ粒子を含む水分散液に含まれるシリカ粒子の濃度が40質量%になるように調整する以外は、実験例3と同じ条件でシリカ粉体を製造した。
実験例3において、アルコール分散液調製工程で得られたシリカ粒子を含むアルコール分散液に含まれるメタノールを水に置換せずに、液温99.5℃で5時間以上保持した点と、保持後のシリカ粒子を含む水分散液にブタノールを4kg添加してから噴霧乾燥した点以外は、実験例3と同じ条件でシリカ粉体を製造した。
実験例1において、アルコール分散液調製工程で得られたシリカ粒子を含むアルコール分散液に含まれるメタノールを水に置換せずに、液温99.5℃で5時間以上保持した点と、保持後のシリカ粒子を含む水分散液にブタノールを4kg添加してから乾燥工程を行った点と、乾燥工程において、噴霧乾燥装置の代わりに、瞬間真空乾燥装置(ホソカワミクロン株式会社製、クラックスシステム8B型)を用いて真空乾燥した点以外は、実験例1と同じ条件でシリカ粉体を製造した。瞬間真空乾燥装置での加熱管温度は175℃、減圧度は0.03MPaとした。
実験例1の乾燥工程において、噴霧乾燥装置の代わりに、瞬間真空乾燥装置(ホソカワミクロン株式会社製、クラックスシステム8B型)を用いて真空乾燥した点以外は、実験例1と同じ条件でシリカ粉体を製造した。瞬間真空乾燥装置での加熱管温度は175℃、減圧度は0.03MPaとした。
実験例3において、アルコール分散液調製工程における反応器に仕込むメタノールを54kgとし、28質量%アンモニア水(水および触媒)を13kgとした点と、滴下装置から連続滴下するテトラメトキシシランを76kgとした点と、滴下装置から前記溶液を連続滴下する時間を4時間とした点と、蒸留装置を用いて水に置換した後、保持工程後、噴霧前に、シリカ粒子を含む水分散液にメトキシ酢酸を0.2kgと、28質量%アンモニア水を0.2kg添加した点以外は、実験例3と同じ条件でシリカ粉体を製造した。
反応液中におけるテトラメトキシシランの濃度は5.6mmol/g、水の濃度は0.7mmol/g、アルコールの量は37.8質量%、アンモニアの濃度は0.3mmol/gであった。水とテトラメトキシシランのモル比(水/テトラメトキシシラン)は0.12、アンモニアと、アンモニアと水との合計の質量比[アンモニア/(アンモニア+水)]は0.28であった。
実験例9において、保持後におけるシリカ粒子を含む水分散液に含まれるシリカ粒子の濃度が50質量%になるように調整する以外は、実験例9と同じ条件でシリカ粉体を製造した。
実験例10において、蒸留装置を用いて水に置換した後、保持工程後、噴霧前に、シリカ粒子を含む水分散液に添加するメトキシ酢酸を0.2kgとし、28質量%アンモニア水を0.4kgとした点以外は、実験例10と同じ条件でシリカ粉体を製造した。
実験例10において、蒸留装置を用いて水に置換した後、保持工程後、噴霧前に、シリカ粒子を含む水分散液に添加するメトキシ酢酸を0.3kgとし、28質量%アンモニア水を0.2kgとした点以外は、実験例10と同じ条件でシリカ粉体を製造した。
実験例10において、蒸留装置を用いて水に置換した後、保持工程後、噴霧前に、シリカ粒子を含む水分散液にメトキシ酢酸を添加する代わりに酢酸を添加した点以外は、実験例10と同じ条件でシリカ粉体を製造した。
実験例10において、蒸留装置を用いて水に置換した後、保持工程後、噴霧前に、シリカ粒子を含む水分散液にメトキシ酢酸を添加する代わりに乳酸を添加した点以外は、実験例10と同じ条件でシリカ粉体を製造した。
シリカ粒子の濃度が1質量%となるように乾燥後のシリカ粉体をメタノールに入れ、超音波分散機により10分間かけてシリカ粒子を分散させ、粒子径測定用試料を調製した。得られた試料中のシリカ粒子の個数平均粒子径をレーザー回折/散乱式粒子径分布測定装置(HORIBA製の「LA-920」)を用いて測定し、平均粒子径D1とした。また、同様に、上記乾燥後のシリカ粉体に含まれるシリカ粒子のうち最も大きい粒子の粒子径(最大粒子径)D2を測定した。また、上記最大粒子径D2と上記平均粒子径D1との比(D2/D1)を算出した。
参考データとして、透過型電子顕微鏡を用いて次の手順でシリカ粒子の平均粒子径Aと最大粒子径Bを測定した。シリカ粒子の濃度が1質量%となるように乾燥後のシリカ粉体をメタノールに入れ、超音波分散機により10分間かけてシリカ粒子を分散させた分散液を調製した。得られた分散液に透過型電子顕微鏡観察用の銅メッシュを1回浸漬した後、この銅メッシュを透過型電子顕微鏡の試料台に載せて、室温でメタノールが蒸発した後に、1視野に含まれるシリカ粒子の数が100~300個となる測定倍率で透過型電子顕微鏡観察し、得られた5視野以上の透過型電子顕微鏡像に含まれる全粒子の粒子径の個数平均を、平均粒子径Aとして算出した。また、得られた5視野以上の透過型電子顕微鏡像に含まれる粒子のうち、最も大きい粒子の粒子径(最大粒子径)Bを測定した。また、上記最大粒子径Bと上記平均粒子径Aとの比(B/A)を算出した。
乾燥後のシリカ粉体について、上記透過型電子顕微鏡を用いて粒子径を測定して一次粒子径の平均粒子径Aを求めたときに、平均粒子径Aに対して4倍以上の粒子径を有する粗大粒子が観察された場合は、4倍以上の粒子径を有する粗大粒子の割合(個数頻度)(%)を算出した。
乾燥後のシリカ粉体について、上記透過型電子顕微鏡を用いて算出した粒子径に基づいて、平均粒子径A、および標準偏差を算出し、下記式に従ってCV値を求めた。
CV値(%)=100×(粒子径の標準偏差/平均粒子径A)
乾燥後のシリカ粉体に含まれる炭素原子量を、CNH分析装置(elementar社製、vario EL cube)を用いて測定した。燃焼管温度は1150℃、還元管温度は850℃とした。
乾燥後のシリカ粉体に含まれるFe量を、誘導結合プラズマ質量分析装置(アジレント社製、7700型)を用いて測定した。なお、前処理として、乾燥後のシリカ粉体5gをフッ酸と硝酸の混酸に溶解させた後、乾固させ、硝酸および過酸化水素水で溶解し、20mlに定容したものをFe含有量測定用溶液とした。
乾燥後のシリカ粉体の29Si-固体NMRを測定し、シリカ粒子のシロキサン結合率を算出した。29Si-固体NMRの測定には、固体NMR装置(BRUKER社製、AVANCE400)を用い、ケミカルシフト(δ)-130ppm~-80ppmの範囲で測定した。ケミカルシフト(δ)-130ppm~-80ppmの範囲における全シグナルの合計面積を100%としたとき、ケミカルシフト(δ)-111.4ppmにピークを有するシグナルの面積の割合を、シロキサン結合率として算出した。
乾燥後のシリカ粉体について、レーザー回折/散乱式粒子径分布測定装置を用いて算出した平均粒子径D1、最大粒子径D2、最大粒子径D2と平均粒子径D1との比(D2/D1)、透過型電子顕微鏡を用いて算出した平均粒子径A、最大粒子径B、最大粒子径Bと平均粒子径Aとの比(B/A)、粗大粒子の割合(個数頻度)、CV値、炭素原子含有量、Fe含有量、およびシロキサン結合率を下記表1または表2に示す。
[実験例21]
水248g、エチルアルコール(関東化学社製)207g、および濃度28質量%アンモニア水(関東化学社製)43gを容量2Lのガラス製反応器に入れて撹拌した。反応器内の液温を35±0.5℃に調節し、反応器にテトラメトキシシラン(多摩化学社製)9gを一気に加えた。その後、1時間撹拌した。1時間撹拌することによって、テトラメトキシシランは加水分解・縮合し、シリカ粒子を含むアルコール分散液が得られた。
CV値(%)=100×(粒子径の標準偏差/平均粒子径)
上記実験例3で得られたシリカ粒子を含むアルコール分散液について、上記実験例21と同じ手順で、透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて分散液に含まれるシリカ粒子のCV値を求め、レーザー回折/散乱式粒子径分布測定装置を用いて分散液に含まれるシリカ粒子の平均粒子径および最大粒子径を求めた。下記表3に結果を示す。
Claims (8)
- 水、塩基性触媒、およびアルコールを含む溶媒(但し、種粒子を含む溶媒を除く。)にアルコキシシランを含む溶液を複数回に分けて、または連続的に添加して前記水と前記アルコキシシランのモル比(水/アルコキシシラン)を0.02~60とし、液温を0~100℃に保持しながらシリカ粒子を含むアルコール分散液を調製する工程と、
前記シリカ粒子を含むアルコール分散液の分散媒をアルコールから水に蒸留または遠心分離により置換してシリカ粒子を含む水分散液を得る工程と、
前記シリカ粒子を含む水分散液を噴霧させて乾燥する工程と、
を含むことを特徴とするシリカ粉体の製造方法。 - 前記シリカ粒子を含む水分散液に、噴霧性向上剤を添加する工程を更に含む請求項1に記載の製造方法。
- 前記シリカ粒子を含む水分散液を、前記アルコールの沸点または前記アルコールが水と共沸する温度のいずれか低い方の温度以上で保持する工程を更に含む請求項1または2に記載の製造方法。
- 噴霧口の温度を160℃以上とする請求項1~3のいずれかに記載の製造方法。
- 前記シリカ粒子を含む水分散液は、前記シリカ粒子を10質量%以上含む請求項1~4のいずれかに記載の製造方法。
- 前記シリカ粒子を含むアルコール分散液を濃縮した後、分散媒をアルコールから水に置換する請求項1~5のいずれかに記載の製造方法。
- 請求項1~6のいずれかに記載の製造方法で得られたシリカ粉体を、1000~1200℃で焼成することを特徴とする焼成シリカ粉体の製造方法。
- 平均粒子径D1が0.01~5μm、
最大粒子径D2が0.01~10μm、
前記最大粒子径D2と前記平均粒子径D1との比(D2/D1)が2.0以下、
炭素原子含有量が1.0質量%以下、
Fe含有量が1ppm(質量基準)以下、および
シロキサン結合率が65%以上を満足し、
更に、CV値が10%以下を満足することを特徴とするシリカ粉体。
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