JP7468846B2 - 光半導体装置及びキャリア - Google Patents
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Description
最初に、実施形態の内容を列記して説明する。本開示の一実施形態に係る第1の光半導体装置は、半導体レーザチップと、半導体レーザチップを搭載する主面を有する誘電体基板と、主面上に設けられたグランドパターンと、グランドパターンと対向する対向辺を有し主面上に設けられた実装パターンと、側辺が、対向辺の延長上の領域から離間して配置された抵抗体と、対向辺の延長上の領域に位置し、グランドパターンと電気的に接続された延長グランドパターンと、実装パターン上に配置された容量素子と、を備える。
本開示の実施形態に係る光半導体装置及びキャリアの具体例を、以下に図面を参照しつつ説明する。なお、本発明はこれらの例示に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。以下の説明では、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
図6及び図7は、上記実施形態の一変形例に係る光半導体装置1B及び1Cをそれぞれ示す平面図である。光半導体装置1Bは、上記実施形態のキャリア2Aに代えて、キャリア2Bを備える。光半導体装置1Cは、上記実施形態のキャリア2Aに代えて、キャリア2Cを備える。キャリア2B及び2Cと上記実施形態のキャリア2Aとの相違点は、実装パターン及びグランドパターンの平面形状である。
図9は、上記実施形態の別の変形例に係る光半導体装置1Dを示す平面図である。光半導体装置1Dは、上記実施形態のキャリア2Aに代えて、キャリア2Dを備える。キャリア2Dと上記実施形態のキャリア2Aとの相違点は、実装パターン及びグランドパターンの平面形状である。図9に示すように、キャリア2Dの実装パターン15Cは、主領域15aのみを含み、突出部15bを含まない。故に、実装パターン15Cは、正方形状または長方形状といった平面形状を有する。そして、本変形例のグランドパターン13は、突出部13cを含む。突出部13cは、一対の延長グランドパターン13a,13bの間において、グランドパターン13から延長され、薄膜抵抗体17に向けて突出している。横方向における突出部13cの幅は、同方向における実装パターン15Cの幅よりも狭い。薄膜抵抗体17は、実装パターン15Cとグランドパターン13の突出部13cとの間に設けられる。具体的には、薄膜抵抗体17の一端は実装パターン15Cと電気的に接続しており、薄膜抵抗体17の他端はグランドパターン13の突出部13cと電気的に接続している。
本開示の実施形態に係る光半導体装置は、半導体レーザチップと、半導体レーザチップを搭載する主面を有する誘電体基板と、主面上に設けられたグランドパターンと、主面上に設けられ、ワイヤを介して半導体レーザチップの一の電極と電気的に接続された伝送線路と、グランドパターンと隣り合って主面上に設けられた実装パターンと、表面電極及び表面電極とは反対側に設けられた裏面電極を有し、裏面電極は実装パターンと対向して実装パターンと接合され、表面電極はワイヤを介して半導体レーザチップの一の電極と電気的に接続された容量素子と、主面上に設けられ、実装パターンに接続された一端、及びグランドパターンに接続された他端を有する抵抗体と、を備えてもよい。グランドパターンは、抵抗体の両側又は片側に延在して配置される延長グランドパターンを有する。実装パターンと延長グランドパターンとの隙間の幅、及び抵抗体と延長グランドパターンとの隙間の幅は、これらの隙間のいずれの箇所においても20μm以上60μm以下である。
2 光送信器
2A,2B,2C,2D キャリア
10 誘電体基板
10a 主面
10c,10d 側面
10e,10f 端面
11 コプレーナ線路
12 信号線路
12a,12b パッド
13 グランドパターン
13a,13b 延長グランドパターン
13c 突出部
13d,13e 側辺
14 バイアスパターン
15,15A,15B,15C 実装パターン
15a 主領域
15b 突出部
15c,15d,15e,15f 辺
15g,15h 側辺
16 容量素子
17 薄膜抵抗体
17a,17b 側辺
18a,18b,18c,18d ボンディングワイヤ
19 容量素子
20 半導体レーザチップ
21,22 パッド
61 パッケージ
62 レンズ
63 配線基板
63a,65 信号線路
63b,66 グランドパターン
67 端子
68 TEC
68a プレート
69 フィードスルー
71,73,74,75,77 ボンディングワイヤ
100 光半導体装置
117 抵抗
C1 寄生容量
C2 浮遊容量
F 高周波電流
L1,L2,L3 インダクタ
P レーザ光
Wa,Wb 幅
Claims (10)
- 半導体レーザチップと、
前記半導体レーザチップを搭載する主面を有する誘電体基板と、
前記主面上に設けられたグランドパターンと、
前記グランドパターンと対向する対向辺を有し前記主面上に設けられた実装パターンと、
側辺が、前記対向辺の延長上の領域から離間して配置された抵抗体と、
前記対向辺の延長上の領域に位置し、前記グランドパターンと電気的に接続された延長グランドパターンと、
前記実装パターン上に配置された容量素子と、
を備え、
前記実装パターンと前記抵抗体との間には、前記実装パターンより幅が狭い突出部が配置されてなる、光半導体装置。 - 前記延長グランドパターンは、前記抵抗体を挟んでその両側に配置されてなる、請求項1に記載の光半導体装置。
- 前記抵抗体の両側に位置する前記延長グランドパターンの間を接続するボンディングワイヤを更に備える、請求項2に記載の光半導体装置。
- 前記抵抗体の一端は前記実装パターンと電気的に接続され、前記抵抗体の他端は、前記実装パターンより幅が狭く前記グランドパターンから延長された突出部と電気的に接続されてなる、請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の光半導体装置。
- 半導体レーザチップと、
前記半導体レーザチップを搭載する主面を有する誘電体基板と、
前記主面上に設けられたグランドパターンと、
主領域と前記主領域より幅が狭い突出部とを有し、前記主領域の前記グランドパターンと対向する対向辺の延長上に前記突出部の側辺を有し、前記主面上に設けられた実装パターンと、
側辺が前記グランドパターンと対向するとともに、前記突出部の延長上に配置された抵抗体と、
前記実装パターンの前記主領域上に配置された容量素子と、
を備える、光半導体装置。 - 前記突出部および前記抵抗体を挟んで前記グランドパターンと対向して配置され、前記グランドパターンと電気的に接続された延長グランドパターンを備える、請求項5に記載の光半導体装置。
- 半導体レーザチップを搭載する主面を有する誘電体基板と、
前記主面上に設けられたグランドパターンと、
容量素子が配置される上面を有し、前記グランドパターンと対向する対向辺を有し前記主面上に設けられた実装パターンと、
前記実装パターンと接続される抵抗体が配置される領域と、
前記対向辺の延長上の領域に位置し、前記グランドパターンと電気的に接続された延長グランドパターンと、
を備え、
前記実装パターンと前記抵抗体が配置される領域との間には、前記実装パターンより幅が狭い突出部が配置されてなる、キャリア。 - 前記延長グランドパターンは、前記抵抗体が配置される領域を挟んでその両側に配置されてなる、請求項7に記載のキャリア。
- 半導体レーザチップを搭載する主面を有する誘電体基板と、
前記主面上に設けられたグランドパターンと、
容量素子が配置される上面を有する主領域と前記主領域より幅が狭い突出部とを有し、前記主領域の前記グランドパターンと対向する対向辺の延長上に前記突出部の側辺を有し、前記主面上に設けられた実装パターンと、
前記突出部の延長上であって抵抗体が配置される領域と、
を備える、キャリア。 - 前記突出部および前記抵抗体が配置される領域を挟んで前記グランドパターンと対向して配置され、前記グランドパターンと電気的に接続された延長グランドパターンを備える、請求項9に記載のキャリア。
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