JP2000049381A - 高周波帯域光モジュール - Google Patents

高周波帯域光モジュール

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JP2000049381A
JP2000049381A JP10214052A JP21405298A JP2000049381A JP 2000049381 A JP2000049381 A JP 2000049381A JP 10214052 A JP10214052 A JP 10214052A JP 21405298 A JP21405298 A JP 21405298A JP 2000049381 A JP2000049381 A JP 2000049381A
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JP
Japan
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electric waveguide
frequency
optical element
frequency band
optical
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JP10214052A
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English (en)
Inventor
Kiyousuke Maezawa
亨介 前澤
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Japan Aviation Electronics Industry Ltd
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Japan Aviation Electronics Industry Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高周波特性を改善すると共に光素子とレンズ
或は光ファイバとの間の結合効率を向上した上述の問題
を解消した高周波帯域光モジュールを提供する。 【解決手段】 高周波電気導波路221、222が形成
される電気絶縁材料より成る第1および第2の電気導波
路基板211、212を互いに離隔して金属ステム3に
固定し、第1および第2の電気導波路基板211、21
2間において光素子1を金属ステム3に固定し、第1お
よび第2の電気導波路基板211、212の高周波電気
導波路221、222を電気接続する高周波電気導波路
223を有する電気絶縁材料より成る第3の電気導波路
基板213を具備する高周波帯域光モジュール。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、高周波帯域光モ
ジュールに関し、特に、高周波特性を改善すると共に光
素子とレンズ或いは光ファイバとの間の結合効率を向上
した高周波帯域光モジュールに関する。
【0002】
【従来の技術】高周波帯域光モジュールの従来例を図3
を参照して説明する。図3において、1は光素子を示
す。なお、この光素子1については後で詳しく説明され
る。光素子1はステム3から上方に突出形成された段部
31に電気機械的に結合固定されている。ステム3は銅
タングステン合金CuWより成る導電体であり、接地さ
れている。21は電気絶縁材料より成る電気導波路基板
であり、表面には高周波の電気導波路22が形成されて
いる。この電気導波路基板21はステム3の光素子1近
傍に機械的に結合固定されている。この高周波の電気導
波路22はその一方の端部に接続される高周波信号源2
により駆動される。高周波信号源2の他端は接地されて
いる。24は高周波電気導波路22の他方の端部に接続
される終端抵抗である。
【0003】4は入出力光学装置を構成するレンズであ
り、金属材料より成る機械的に強固なレンズホルダ41
の先端に取り付けられている。42は光を伝播する光フ
ァイバを示す。4’は同様の入出力光学装置を構成する
レンズであり、金属材料より成る機械的に強固なレンズ
ホルダ41’の先端に取り付けられている。42’は光
を伝播する光ファイバを示す。これら両レンズは光素子
1を間に挟んで互いに対向して位置決め固定されてい
る。
【0004】高周波帯域光モジュールは以上において説
明された光素子1、1対の発光部および受光部により構
成されている。図2を参照して光素子1を説明する。図
2は光素子1の断面を示す。11は微小な断面を有する
InGaAsP光導波層であり、半絶縁性InP層14
内において両面にp−InP層12およびn−InP層
13が接合した状態とされている。15はp−InP層
12に接触するp電極であり、16はn−InP層13
に接触するn電極である。そして、光素子1はn電極1
6を介してステム3の段部31に電気機械的に結合して
いる。また、光素子1のp電極15はボンディングワイ
ヤ23を介して電気導波路基板21表面に形成される高
周波の電気導波路22に接続している。ここで、光素子
1は、図2に示される如く、そのp電極15はボンディ
ングワイヤ23、高周波電気導波路22を介して高周波
信号源2に接続すると共に、そのn電極16は銅タング
ステン合金CuWより成る導電体である段部31および
ステム3を介して接地しているので、InGaAsP光
導波層11には高周波信号源2から変調信号が印加され
る。
【0005】図3を参照して説明される高周波帯域光モ
ジュールは、高周波の電気導波路22と、微小なInG
aAsP光導波層11を有する光素子1と、光ファイバ
42とレンズ4を含む光学装置より成るものである。高
周波帯域光モジュールを高効率の光結合と高い温度安定
性を示すものとするには、レンズ4を光素子1に近接配
置する必要がある。即ち、光素子1のInGaAsP光
導波層11と入出力光学装置を構成するレンズ4との間
の光結合について考慮すると、光素子1の光放射角度は
約30゜程度であってかなり大きいので、光ファイバ4
2とInGaAsP光導波層11との間の光結合を大き
くするには、レンズ4として開口数NAの大きいレンズ
を採用する必要がある。開口数NAの大きいレンズ4を
採用してこれらを光ファイバ42に充分に光結合させる
には、レンズ4を保持するレンズホルダ41は必然的に
光素子1のInGaAsP光導波層11に近接配置され
ることになる。NA:0. 6のレンズ4を採用する場
合、レンズ4とInGaAsP光導波層11との間は
0. 3mm程度にまで接近する。そして、NAの大きい
レンズをステム3に設置して光素子1に近接配置し高光
結合を実現する都合上、光素子1が搭載されるステム3
は銅タングステン合金CuWより成る導電体により構成
される。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上述した通り、半導体
発光、受光素子および半導体光変調素子のモジュールチ
ップキャリアにおいては、高周波電気導波路22と、微
小な光導波路層11を有する光素子1とを細いボンディ
ングワイヤ23により接続している。そして、NAの大
きいレンズ4を含む光学装置をステム3に設置して光素
子1の光導波路層11に光軸合わせをするところから、
高周波電気導波路22の水準からみて高く構成された段
部31に光素子1を搭載している。従って、光素子1と
高周波電気導波路22とを接続するボンディングワイヤ
23の長さは段部31の高さ以上のおよそ0. 6mm程
度と長くなり、これにより光素子1の光レベルの周波数
特性において−3dB帯域が20GHz程度に制限され
る欠点が生ずる。また、光素子1の片側に高周波電気導
波路22を形成する電気導波路基板21が位置している
ので、この側についてはその幅の分だけレンズ4を遠ざ
けて設置しなければならず、光ファイバ42との間の結
合効率は制限されるに到る。
【0007】この発明は、高周波特性を改善すると共に
光素子とレンズ或いは光ファイバとの間の結合効率を向
上した上述の問題を解消した高周波帯域光モジュールを
提供するものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】請求項1:高周波電気導
波路221、222が形成される電気絶縁材料より成る
第1および第2の電気導波路基板211、212を互い
に離隔して金属ステム3に固定し、第1および第2の電
気導波路基板211、212間において光素子1を金属
ステム3に固定し、第1および第2の電気導波路基板2
11、212の高周波電気導波路221、222を電気
接続する高周波電気導波路223を有する電気絶縁材料
より成る第3の電気導波路基板213を具備する高周波
帯域光モジュールを構成した。
【0009】そして、請求項2:請求項1に記載される
高周波帯域光モジュールにおいて、第1および第2の電
気導波路基板211、212の内の一方に形成される高
周波電気導波路221、222に対して光素子1をボン
ディングワイヤ23を介して電気接続する高周波帯域光
モジュールを構成した。また、請求項3:請求項1およ
び請求項2の内の何れかに記載される高周波帯域光モジ
ュールにおいて、電気導波路基板の側面に金属被膜を成
膜した高周波帯域光モジュールを構成した。
【0010】更に、請求項4:請求項3に記載される高
周波帯域光モジュールにおいて、第1および第2の電気
導波路基板211、212に形成される金属被膜25
1、252は金属ステム3に亘って成膜され、第3の電
気導波路基板213に形成される金属被膜253は第1
および第2の電気導波路基板211、212に形成され
る金属被膜251、252に電気接続している高周波帯
域光モジュールを構成した。
【0011】また、請求項5:請求項1ないし請求項4
の内の何れかに記載される高周波帯域光モジュールにお
いて、高周波電気導波路の一部を幅狭に形成した高周波
帯域光モジュールを構成した。
【0012】
【発明の実施の形態】この発明の実施の形態を図1およ
び図2を参照して説明する。この発明において、電気絶
縁材料より成る電気導波路基板は、第1の電気導波路基
板211と第2の電気導波路基板212、および第3の
電気導波路基板213に分割されている。高周波電気導
波路は第1の電気導波路基板211の表面に第1の高周
波電気導波路221が形成され、第2の電気導波路基板
212の表面に第2の高周波電気導波路222が形成さ
れている。第1の電気導波路基板211および第2の電
気導波路基板212は離隔して金属ステム3表面に接合
固定されている。光素子1は離隔された高周波電気導波
路221と高周波電気導波路222の間において金属ス
テム3表面に配置し、ここに接合固定している。第3の
電気導波路基板213はその裏面に第3の高周波電気導
波路223が形成されている。第1の電気導波路基板2
11と第2の電気導波路基板212、および第3の電気
導波路基板213の側面は何れも金属被膜が成膜されて
いる。251、252、および253が金属被膜であ
り、これらの金属被膜は261および262に示される
半田層により相互に電気的に接続され、接地される。
【0013】この発明の高周波帯域光モジュールは下記
の通りにして構成される。 第1の電気導波路基板211および第2の電気導波
路基板212を相互に離隔して金属ステム3表面に接合
固定する。 光素子1を、離隔して金属ステム3表面に接合固定
された高周波電気導波路221と高周波電気導波路22
2の間において金属ステム3表面に接合固定する。
【0014】 光素子1のp電極15を第1の電気導
波路基板211表面に形成される第1の高周波電気導波
路221に対しボンディングワイヤ23を介して接続す
る。 ボンディングワイヤ23を第1の高周波電気導波路
221に接続した状態において、第3の電気導波路基板
213の裏面に形成される第3の高周波電気導波路22
3を第1の高周波電気導波路221と第2の高周波電気
導波路222に接触せしめて、第3の電気導波路基板2
13を第1の電気導波路基板211と第2の電気導波路
基板212に跨ってこれら両者に接合固定する。
【0015】 第1の電気導波路基板211、第2の
電気導波路基板212および第3の電気導波路基板21
3の側面に金属被膜を成膜すると共に、第3の電気導波
路基板213については第3の高周波電気導波路223
が形成されていない上面にも金属被膜を成膜する。金属
被膜251および金属被膜252は金属ステム3に亘っ
て成膜され、金属ステム3に電気接続する。
【0016】 第1の電気導波路基板211の側面に
成膜されている金属被膜251と第3の電気導波路基板
213の側面に成膜されている金属被膜253とを半田
層261により相互に電気的に接続すると共に、第2の
電気導波路基板212の側面に成膜されている金属被膜
252と第3の電気導波路基板213の側面に成膜され
ている金属被膜253とを半田層262により相互に電
気的に接続する。
【0017】第3の高周波電気導波路223と第1の高
周波電気導波路221および第2の高周波電気導波路2
22と接触する導波路接合領域は他の導波路領域より幅
狭に形成し、これは等価的にインピーダンス整合してい
る。以上の通り、光素子1に対してレンズ4、4’を位
置決め固定する場合、従来例は光素子1の片側に高周波
電気導波路22を形成する電気導波路基板21が位置し
ていてこの側についてはその幅の分だけレンズ4を遠ざ
けて設置しなければならなかったが、この発明はレンズ
と光素子1との間を遮る部材は何も存在しないので、必
要に応じて接近してレンズを位置決めすることができ、
光ファイバとレンズの結合効率が向上する。従って、レ
ンズ4、4’を高NA化するに好適である。
【0018】そして、従来例においては、光素子1とレ
ンズ4、4’との間の寸法上の関係で、光素子1を取り
付ける段部31の高さを低くするには限度があって、光
素子1を高周波電気導波路22に接続するボンディング
ワイヤ23の長さが比較的に長かったのであるが、この
発明においてはボンディングワイヤ23の長さに関する
外的な制限はなく、必要に応じてこれを充分に短く設定
することができる。これにより、高周波特性を改善する
ことができる。
【0019】また、電気導波路基板の側面に成膜されて
いる金属被膜同志を電気接続することにより全ての電気
導波路基板の接地がなされるので、内在する光素子のイ
ンピーダンスが乱されることはなく、これに依っても高
周波数特性は改善される。図4は実施例の周波数特性の
計算結果をプロットした図である。図4においてボンデ
ィングワイヤ長=0. 3mm、ボンディングワイヤ抵抗
=10Ω、高周波電気導波路の全長L=5mm、光素子
容量=0. 1pF、光素子抵抗=5. 0Ωである。図5
は従来例の周波数特性の計算結果を示す図である。図5
において、ボンディングワイヤ長=0. 6mm、ボンデ
ィングワイヤ抵抗=10Ω、高周波電気導波路の全長L
=5mm、光素子容量=0. 1pF、光素子抵抗=5.
0Ωである。−3dBの光レベルに着目すると、図5の
従来例においては20GHzであったものが、図4の実
施例においてはこれが30GHz近傍にまで到達し、高
周波特性が改善されたことが示されている。
【0020】
【発明の効果】以上の通りであって、光素子1に対して
レンズを位置決め固定する場合、従来例は光素子の片側
に高周波電気導波路を形成する電気導波路基板が位置し
ていてこの側についてはその幅の分だけレンズを遠ざけ
て設置しなければならなかったが、この発明はレンズと
光素子との間を遮る部材は何も存在しないので、必要に
応じて接近してレンズを位置決めすることができ、光フ
ァイバとレンズの結合効率が向上する。従って、レンズ
を高NA化するに好適である。
【0021】そして、従来例においては、光素子とレン
ズとの間の寸法上の関係で、光素子を取り付ける段部の
高さを低くするには限度があって、光素子を高周波電気
導波路に接続するボンディングワイヤの長さが比較的に
長かったのであるが、この発明においてはボンディング
ワイヤの長さに関する外的な制限はなく、必要に応じて
これを充分に短く設定することができる。これにより、
高周波特性を改善することができる。
【0022】また、電気導波路基板の側面に成膜されて
いる金属被膜同志を電気接続することにより全ての電気
導波路基板の接地がなされるので、内在する光素子のイ
ンピーダンスが乱されることはなく、これに依っても高
周波数特性は改善される。更に、高周波電気導波路の一
部を幅狭に形成して等価的にインピーダンス整合してい
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例を説明する図。
【図2】光素子の断面を示す図。
【図3】従来例を説明する斜視図。
【図4】実施例の周波数特性の計算結果を示す図。
【図5】従来例の周波数特性の計算結果を示す図。
【符号の説明】
1 光素子 11 InGaAsP光導波層 12 p−InP層 13 n−InP層 14 半絶縁性InP層 15 p電極 16 n電極 2 高周波信号源 21 電気導波路基板 22 高周波電気導波路 23 ボンディングワイヤ 24 終端抵抗 3 金属ステム 31 段部 4、4’レンズ 41、41’レンズホルダ 42、42’光ファイバ 211 第1の電気導波路基板 212 第2の電気導波路基板 213 第3の電気導波路基板 221 第1の高周波電気導波路 222 第2の高周波電気導波路 223 第3の高周波電気導波路 251、252、253 金属被膜 261、262 半田層

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 高周波電気導波路が形成される電気絶縁
    材料より成る第1および第2の電気導波路基板を互いに
    離隔して金属ステムに固定し、第1および第2の電気導
    波路基板間において光素子を金属ステムに固定し、第1
    および第2の電気導波路基板の高周波電気導波路を電気
    接続する高周波電気導波路を有する電気絶縁材料より成
    る第3の電気導波路基板を具備することを特徴とする高
    周波帯域光モジュール。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載される高周波帯域光モジ
    ュールにおいて、 第1および第2の電気導波路基板の内の一方に形成され
    る高周波電気導波路に対して光素子をボンディングワイ
    ヤを介して電気接続することを特徴とする高周波帯域光
    モジュール。
  3. 【請求項3】 請求項1および請求項2の内の何れかに
    記載される高周波帯域光モジュールにおいて、 電気導波路基板の側面に金属被膜を成膜したことを特徴
    とする高周波帯域光モジュール。
  4. 【請求項4】 請求項3に記載される高周波帯域光モジ
    ュールにおいて、 第1および第2の電気導波路基板に形成される金属被膜
    は金属ステムに亘って成膜され、第3の電気導波路基板
    に形成される金属被膜は第1および第2の電気導波路基
    板に形成される金属被膜に電気接続していることを特徴
    とする高周波帯域光モジュール。
  5. 【請求項5】 請求項1ないし請求項4の内の何れかに
    記載される高周波帯域光モジュールにおいて、 高周波電気導波路の一部を幅狭に形成したことを特徴と
    する高周波帯域光モジュール。
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