JP7466329B2 - 制御装置、システム、リソグラフィ装置、物品の製造方法、制御方法、およびプログラム - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 56
- 230000008569 process Effects 0.000 title claims description 37
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- PWPJGUXAGUPAHP-UHFFFAOYSA-N lufenuron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(C(F)(F)F)F)=CC(Cl)=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F PWPJGUXAGUPAHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 83
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 62
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 25
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 24
- 238000001459 lithography Methods 0.000 claims description 6
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 230000006870 function Effects 0.000 description 5
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
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- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F13/00—Interconnection of, or transfer of information or other signals between, memories, input/output devices or central processing units
- G06F13/38—Information transfer, e.g. on bus
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F13/00—Interconnection of, or transfer of information or other signals between, memories, input/output devices or central processing units
- G06F13/38—Information transfer, e.g. on bus
- G06F13/42—Bus transfer protocol, e.g. handshake; Synchronisation
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04L—TRANSMISSION OF DIGITAL INFORMATION, e.g. TELEGRAPHIC COMMUNICATION
- H04L12/00—Data switching networks
- H04L12/28—Data switching networks characterised by path configuration, e.g. LAN [Local Area Networks] or WAN [Wide Area Networks]
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
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Description
本発明に係る一実施形態について説明する。図1は、スレーブ装置と当該スレーブ装置を制御するマスタ装置(制御装置)とを含む本実施形態のシステム100の概略構成図である。本実施形態のシステム100は、図1に示すように、マスタ装置110と、マスタ装置110に通信可能に接続される複数のスレーブ装置120と、各スレーブ装置120に通信可能に接続されるユニット130とを含みうる。マスタ装置110および各スレーブ装置120は、例えばCPUやメモリ等を有するコンピュータによって構成されうるが、ボードコンピュータで構成されてもよいし、ボードコンピュータと兼用するように構成されてもよい。また、ユニット130は、例えばサーボモータ等の機構であり、スレーブ装置120によって制御されうる。
シーケンス制御部111は、各スレーブ装置120での処理のシーケンスを制御する。例えば、シーケンス制御部111は、予め定められた(設定された)手順、手続きまたはレシピに従って複数の生成部112を制御する。複数の生成部112はそれぞれ、制御対象とするスレーブ装置120での処理を制御(指示)するための指示データを生成する。
図3を参照しながら実施例1について説明する。
シーケンス制御部111は、予め定められた(設定された)手順、手続きまたはレシピに従って、生成部112に指示データを生成させるための制御コマンドを当該生成部112に送信する(S101)。シーケンス制御部111から制御コマンドを受信した生成部112は、当該制御コマンドに基づいて、スレーブ装置120に処理を実行させるための指示データを生成して通信制御部113に送信する(S102)。生成部112から指示データを受信した通信制御部113は、フィールドネットワーク140のデータフレームに当該指示データを書き込むことにより、当該指示データをスレーブ装置120に送信する(S103)。通信制御部113から指示データを受信したスレーブ装置120は、当該指示データにより指示された処理の実行を開始して、ユニット130の制御を開始する。これにより、スレーブ装置120が処理中となる。
図4を参照しながら実施例2について説明する。
シーケンス制御部111は、予め定められた(設定された)手順、手続きまたはレシピに従って、生成部112に次の指示データを生成させるための制御コマンドを当該生成部112に送信する(S201)。生成部112は、受信した制御コマンドに基づいて、スレーブ装置120に処理を実行させるための指示データを生成して通信制御部113に送信する(S202)。通信制御部113は、受信した指示データをフィールドネットワーク140のデータフレームに書き込むことにより、当該指示データをスレーブ装置120に送信する(S203)。通信制御部113から指示データを受信したスレーブ装置120は、当該指示データにより指示された処理の実行を開始する。そして、スレーブ装置120は、当該処理が完了したら、フィールドネットワーク140のデータフレームに応答データを書き込むことにより、当該応答データを通信制御部113に送信する(S204)。
本発明に係る上記のシステム100を適用したリソグラフィ装置の実施形態について説明する。本実施形態では、上記のシステム100を適用したリソグラフィ装置として、基板を露光して基板上にパターンを形成する露光装置を例示して説明するが、それに限られるものではない。例えば、モールドを用いて基板上にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置や、荷電粒子線を基板に照射して当該基板にパターンを形成する描画装置などのリソグラフィ装置においても、上記のシステム100を適用することができる。
本発明の実施形態にかかる物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、上記のリソグラフィ装置(露光装置)を用いて基板上にパターンを形成する工程と、かかる工程でパターンを形成された基板を加工する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
本発明は、上述の実施形態の1以上の機能を実現するプログラムを、ネットワーク又は記憶媒体を介してシステム又は装置に供給し、そのシステム又は装置のコンピュータにおける1つ以上のプロセッサーがプログラムを読出し実行する処理でも実現可能である。また、1以上の機能を実現する回路(例えば、ASIC)によっても実現可能である。
Claims (12)
- マスタ装置としてスレーブ装置を制御する制御装置であって、
前記スレーブ装置での処理を制御するための指示データを生成する生成部と、
フィールドネットワークを介して、一定周期ごとに、前記生成部で生成された前記指示データを前記スレーブ装置に送信するとともに、前記スレーブ装置から応答データを受信する通信部と、
を含み、
前記通信部は、前記生成部がリセットされたことを検知した場合、前記スレーブ装置からの応答データが前記フィールドネットワークのデータフレームに残留しているときには当該応答データを破棄する、ことを特徴とする制御装置。 - 前記通信部は、前記生成部がリセットされたことを検知した場合、前記スレーブ装置が前記処理の実行中であるか否かを判断し、前記スレーブ装置が前記処理の実行中である場合には、前記スレーブ装置のリセットを実行するように前記スレーブ装置に指示する、ことを特徴とする請求項1に記載の制御装置。
- 前記通信部は、前記スレーブ装置のリセットの実行を指示した場合、前記フィールドネットワークのデータフレームに残留している前記スレーブ装置からの応答データの破棄を、前記スレーブ装置のリセットが完了した後に行う、ことを特徴とする請求項2に記載の制御装置。
- 前記通信部は、前記スレーブ装置のリセットの実行を指示した場合、当該リセットの実行中においても前記フィールドネットワークを介した前記スレーブ装置との通信を維持する、ことを特徴とする請求項2又は3に記載の制御装置。
- 前記制御装置は、前記スレーブ装置での処理のシーケンスを制御するシーケンス制御部を更に含み、
前記生成部のリセットは、前記シーケンス制御部によって実行される、ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の制御装置。 - 前記制御装置は、前記フィールドネットワークを介して複数のスレーブ装置をそれぞれ制御するため、前記複数のスレーブ装置をそれぞれ制御対象とする複数の前記生成部を含む、ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の制御装置。
- 前記通信部は、前記複数の生成部のうちリセットされた生成部を検知した場合、前記複数のスレーブ装置のうち前記リセットされた生成部が制御対象とするスレーブ装置を特定し、前記特定したスレーブ装置からの応答データが前記フィールドネットワークのデータフレームに残留しているときには当該応答データを破棄する、ことを特徴とする請求項6に記載の制御装置。
- スレーブ装置と、前記スレーブ装置を制御するマスタ装置とを含むシステムであって、
前記マスタ装置は、
前記スレーブ装置での処理を制御するための指示データを生成する生成部と、
フィールドネットワークを介して、一定周期ごとに、前記生成部で生成された前記指示データを前記スレーブ装置に送信するとともに、前記スレーブ装置から応答データを受信する通信部と、を含み、
前記通信部は、前記生成部がリセットされたことを検知した場合、前記スレーブ装置からの応答データが前記フィールドネットワークのデータフレームに残留しているときには当該応答データを破棄する、ことを特徴とするシステム。 - 基板にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
請求項8に記載のシステムを含み、
前記スレーブ装置は、前記基板にパターンを形成する処理の少なくとも一部を行う機構を制御する、ことを特徴とするリソグラフィ装置。 - 請求項9に記載のリソグラフィ装置を用いて基板上にパターンを形成する工程と、
前記工程でパターンが形成された前記基板を加工する工程と、を含み、
加工された前記基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。 - マスタ装置によりスレーブ装置を制御する制御方法であって、
前記スレーブ装置での処理を制御するための指示データを生成部により生成する生成工程と、
フィールドネットワークを介して、一定周期ごとに、前記生成工程で生成された前記指示データを前記スレーブ装置に送信するとともに、前記スレーブ装置から応答データを受信する通信制御工程と、
前記生成部がリセットされた場合、前記スレーブ装置からの応答データが前記フィールドネットワークのデータフレームに残留しているときには当該応答データを破棄する破棄工程と、
を含むことを特徴とする制御方法。 - 請求項11に記載の制御方法の各工程を、マスタ装置としてのコンピュータに実行させるためのプログラム。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020026476A JP7466329B2 (ja) | 2020-02-19 | 2020-02-19 | 制御装置、システム、リソグラフィ装置、物品の製造方法、制御方法、およびプログラム |
CN202180013270.4A CN115053506A (zh) | 2020-02-19 | 2021-01-26 | 控制装置、系统、光刻装置、物品的制造方法、控制方法及程序 |
PCT/JP2021/002604 WO2021166565A1 (ja) | 2020-02-19 | 2021-01-26 | 制御装置、システム、リソグラフィ装置、物品の製造方法、制御方法、およびプログラム |
TW110104157A TWI817085B (zh) | 2020-02-19 | 2021-02-04 | 控制裝置、控制系統、微影裝置、物品的製造方法、控制方法、及控制程式 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020026476A JP7466329B2 (ja) | 2020-02-19 | 2020-02-19 | 制御装置、システム、リソグラフィ装置、物品の製造方法、制御方法、およびプログラム |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021131711A JP2021131711A (ja) | 2021-09-09 |
JP2021131711A5 JP2021131711A5 (ja) | 2023-02-16 |
JP7466329B2 true JP7466329B2 (ja) | 2024-04-12 |
Family
ID=77390923
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020026476A Active JP7466329B2 (ja) | 2020-02-19 | 2020-02-19 | 制御装置、システム、リソグラフィ装置、物品の製造方法、制御方法、およびプログラム |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7466329B2 (ja) |
CN (1) | CN115053506A (ja) |
TW (1) | TWI817085B (ja) |
WO (1) | WO2021166565A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023017843A1 (ja) | 2021-08-12 | 2023-02-16 | 学校法人 久留米大学 | 診断装置、情報取得方法及びプログラム |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6600518B2 (ja) * | 2015-09-28 | 2019-10-30 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | バスシステム |
DE112016006338B4 (de) * | 2016-03-31 | 2020-03-05 | Mitsubishi Electric Corporation | Kommunikationsvorrichtung, Kommunikationssystem und Kommunikationsverfahren |
CN110050474A (zh) * | 2016-12-30 | 2019-07-23 | 英特尔公司 | 用于物联网网络中的复合对象的子对象的类型命名和区块链 |
-
2020
- 2020-02-19 JP JP2020026476A patent/JP7466329B2/ja active Active
-
2021
- 2021-01-26 CN CN202180013270.4A patent/CN115053506A/zh active Pending
- 2021-01-26 WO PCT/JP2021/002604 patent/WO2021166565A1/ja active Application Filing
- 2021-02-04 TW TW110104157A patent/TWI817085B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2021166565A1 (ja) | 2021-08-26 |
CN115053506A (zh) | 2022-09-13 |
JP2021131711A (ja) | 2021-09-09 |
TW202201138A (zh) | 2022-01-01 |
TWI817085B (zh) | 2023-10-01 |
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RD01 | Notification of change of attorney |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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