JP4430480B2 - 基板処理のための方法、コンピュータ・プログラム製品および装置 - Google Patents
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Description
基板処理システムの一部内の基板の流れ内のギャップを決定するステップ、または基板処理システムの一部内の基板の流れ内の最適な地点にギャップを形成するステップ、あるいはこれら両方のステップと、
ギャップに関連する期間中の基板の処理の一部内で行う1つまたはそれ以上の保守作業の計画を作成するステップとを含む。
基板処理システムの一部内の基板の流れ内のギャップを決定するステップ、または基板処理システムの一部内の基板の流れ内の最適な地点にギャップを形成するステップ、あるいはこれら両方のステップを行うように構成されているソフトウェア・コードと、
ギャップに関連する期間中に、基板処理の一部内で行う1つまたはそれ以上の保守作業の計画を作成するステップを行うように構成されているソフトウェア・コードとを備える。
放射線の投影ビームを供給する照明装置と、
投影ビームを所望のパターンによりパターン化する働きをするパターニング・デバイスを支持するための支持構造と、
基板を保持するための基板テーブルと、
基板の目標部分上にパターン化されたビームを投影するための投影システムと、
基板処理システムの一部内の基板の流れ内のギャップを決定するステップ、または基板処理システムの一部内の基板の流れ内の最適な地点にギャップを形成するステップ、あるいはこれら両方のステップを行うように、またギャップに関連する期間中に、リソグラフィ装置で行う1つまたはそれ以上の保守作業の計画を作成するステップを行うように構成されている処理ユニットとを備えるリソグラフィ装置を提供する。
基板に放射線感光材料の層を塗布するように構成されているコーティング装置と、
露光した基板を現像するように構成される現像装置と、
基板処理システムの一部内の基板の流れ内のギャップを決定するステップ、または基板処理システムの一部内の基板の流れ内の最適な地点にギャップを形成するステップ、あるいはこれら両方のステップを行うように、またギャップに関連する期間中に、トラック内で行う1つまたはそれ以上の保守作業の計画を作成するステップを行うように構成されている処理ユニットとを備えるトラックを提供する。
トラックおよびリソグラフィ装置の一方内の基板の流れ内のギャップを決定するステップ、またはトラックおよびリソグラフィ装置の一方内の基板の流れ内の最適な地点にギャップを形成するステップ、あるいはこれら両方のステップと、
ギャップに関連する期間中に、トラックおよびリソグラフィ装置の他方内で行う1つまたはそれ以上の保守作業の予定表を作成するステップとを含む。
放射線(例えば、EUV放射線)の投影ビームPBを供給するための放射線システムILと(この特定の実施形態の場合には、放射線システムは放射線源LAも備える)、
マスクMA(例えば、レチクル)を保持するためのマスク・ホルダーを備え、品目PLに対してマスクを正確に位置決めするための第1の位置決め手段PMに接続している第1の対象物テーブル(マスク・テーブル)MTと、
基板W(例えば、レジストでコーティングされたシリコン・ウェハ)を保持するための基板ホルダーを備え、品目PLに対して基板を正確に位置決めするための第2の位置決め手段PWに接続している第2の対象物テーブル(基板テーブル)WTと、
基板Wの目標部分C(例えば、1つまたはそれ以上のダイを備える)上にマスクMAの照射部分を画像形成するための投影システム(「レンズ」)PL(例えば、ミラー・システム)とを備える。
IL 放射線システム
MA マスク
PL 投影システム
MT マスク・テーブル
WT 基板テーブル
W 基板
C 目標部分
LA 放射線源
M1,M2 マスク整合マーク
P1,P2 基板整合マーク
2,3 基板
5 リソグラフィ装置
10 トラック
11 基板ハンドラー・ポート
12,14 処理ステーション
13 通信チャネル
14 現像装置
16 基板ハンドラー
17 処理ユニット
18 基板ハンドラー
Claims (17)
- 基板処理システムの少なくとも一部内での1つまたはそれ以上の保守作業を計画するための方法であって、
前記基板処理システムの一部内の基板の流れ内のギャップを決定するステップと、
前記ギャップに関連する期間中に、前記基板処理システムの一部内で実行する1つまたはそれ以上の保守作業を計画するステップとを含み、
前記ギャップが、保守作業および前記基板処理システムの1つまたはそれ以上の部分が提供する他の活動のうちの少なくとも1つの実行に関する情報により決定され、
前記ギャップが発生した場合に、前記基板の流れが前記基板処理システムの一部内における前記ギャップを除く部分を依然として流れ、
前記保守作業を計画するステップが、前記ギャップの少なくとも一部が前記計画した1つまたはそれ以上の保守作業が行われる前記基板処理システムの一部のところに位置する場合に、実行する1つまたはそれ以上の保守作業を計画するステップを含む、
方法。 - 前記ギャップを決定するステップが、前記基板処理システムを通る前記基板の流れ内のギャップを監視するステップを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記ギャップがスケジューラにより決定され、前記方法が、さらに、スケジューラにより前記基板処理システムの一部内の1つまたはそれ以上の保守作業の実行を制御するステップを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記基板処理システムが、リソグラフィ装置およびトラックを備える、請求項1に記載の方法。
- 前記保守作業を計画するステップが、前記リソグラフィ装置および前記トラックの外部で行われる、請求項1に記載の方法。
- 基板処理システムの少なくとも一部内の1つまたはそれ以上の保守作業の計画を作成するためのコンピュータ・プログラム製品であって、
前記基板処理システムの一部内の前記基板の流れ内のギャップを決定するステップを行うように構成されているソフトウェア・コードと、
前記ギャップに関連する期間中に、前記基板処理システムの一部内で実行される1つまたはそれ以上の保守作業を計画するように構成されているソフトウェア・コードを備え、
前記ギャップを決定するステップを行うように構成されているソフトウェア・コードが、保守作業および前記基板処理システムの1つまたはそれ以上の部分が提供する他の活動のうちの少なくとも1つの実行に関する情報により前記ギャップを決定するコードを含み、
前記ギャップが発生した場合に、前記基板の流れが前記基板処理システムの一部内における前記ギャップを除く部分を引き続き流れ、
前記保守作業を計画するように構成されているソフトウェア・コードが、前記ギャップの少なくとも一部が、前記計画した1つまたはそれ以上の保守作業が行われる前記基板処理システムの一部のところに位置している場合に、実行する1つまたはそれ以上の保守作業を計画するように構成されているコードを含む、
コンピュータ・プログラム。 - 前記ギャップを決定するステップを行うように構成されている前記コードが、前記基板処理システムを通る前記基板の流れ内のギャップを監視するように構成されているコードを含む、請求項6に記載のコンピュータ・プログラム。
- 前記ギャップを決定するように、また前記基板処理システムの一部内での前記1つまたはそれ以上の保守作業の実行を制御するように構成されているスケジューラを備える、請求項6に記載のコンピュータ・プログラム。
- 前記基板処理システムが、リソグラフィ装置およびトラックを備える、請求項6に記載のコンピュータ・プログラム。
- 前記コンピュータ・プログラム製品が、前記リソグラフィ装置および前記トラックの外部から作動される、請求項6に記載のコンピュータ・プログラム。
- リソグラフィ装置であって、
放射線の投影ビームを供給する照明システムと、
前記投影ビームを所望のパターンによりパターン化する働きをするパターニング・デバイスを支持するための支持構造と、
基板を保持するための基板テーブルと、
前記基板の目標部分上に前記パターン化されたビームを投影するための投影システムと、
基板処理システムの一部内の基板の流れ内のギャップを決定するステップを行うように、また前記ギャップに関連する期間中に、前記基板処理システムの一部内で実行する1つまたはそれ以上の保守作業を計画するステップを行うように構成されている処理ユニットとを備え、
前記処理ユニットが、保守作業および前記基板処理システムの1つまたはそれ以上の部分が提供するもう1つの活動のうちの少なくとも1つの実行に関する情報により、前記ギャップを決定するように構成されており、
前記ギャップが発生した場合に、前記基板の流れが前記基板処理システムの一部内における前記ギャップを除く部分を依然として流れ、
前記保守作業を計画するステップが、前記ギャップの少なくとも一部が前記計画した1つまたはそれ以上の保守作業が行われる前記基板処理システムの一部のところに位置する場合に、実行する1つまたはそれ以上の保守作業を計画するステップを含む、
リソグラフィ装置。 - 前記処理ユニットが、前記基板処理システムを通る前記基板の流れ内のギャップを監視するように構成されている、請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記処理ユニットがスケジューラを備え、前記スケジューラが、前記ギャップを決定し、前記リソグラフィ装置内の前記1つまたはそれ以上の保守作業の実行を制御するように構成されている、請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 基板に放射線感光材料の層を塗布するように構成されているコーティング装置と、
露光した基板を現像するように構成されている現像装置と、
基板処理システムの一部内の基板の流れ内のギャップを決定するステップを行うように、また前記ギャップに関連する期間中に、前記基板処理システムの一部内で実行する1つまたはそれ以上の保守作業を計画するステップを行うように構成されている処理ユニットとを備え、
前記処理ユニットが、保守作業および前記基板処理システムの1つまたはそれ以上の部分が提供するもう1つの活動のうちの少なくとも1つの実行に関する情報により、前記ギャップを決定するように構成されており、
前記ギャップが発生した場合に、前記基板の流れが前記基板処理システムの一部内における前記ギャップを除く部分を依然として流れ、
前記保守作業を計画するステップが、前記ギャップの少なくとも一部が前記計画した1つまたはそれ以上の保守作業が行われる前記基板処理システムの一部のところに位置する場合に、実行する1つまたはそれ以上の保守作業を計画するステップを含む、
トラック。 - 前記処理ユニットが、前記基板処理システムを通る前記基板の流れ内のギャップを監視するように構成されている、請求項14に記載のトラック。
- 前記処理ユニットがスケジューラを備え、前記スケジューラが、前記ギャップを決定し、前記トラック内の前記1つまたはそれ以上の保守作業の実行を制御するように構成されている、請求項14に記載のトラック。
- トラックおよびリソグラフィ装置で保守作業の実行をスタートするための方法であって、
前記トラックおよび前記リソグラフィ装置のうちの一方の一部内の基板の流れ内のギャップを決定するステップと、
前記ギャップに関連する期間中に、前記トラックおよび前記リソグラフィ装置のうちの他方の一部内で実行される1つまたはそれ以上の保守作業を計画するステップとを含み、
前記ギャップが発生した場合に、前記基板の流れが前記トラックおよび前記リソグラフィ装置のうちの一方の一部内における前記ギャップを除く部分を依然として流れ、
前記保守作業を計画するステップが、前記ギャップの少なくとも一部が前記計画した1つまたはそれ以上の保守作業が行われる前記トラックおよび前記リソグラフィ装置のうちの他方の一部のところに位置する場合に、実行する1つまたはそれ以上の保守作業を計画するステップを含む、
方法。
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