JP4797046B2 - リソグラフィ装置およびリソグラフィシステム - Google Patents
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Description
Claims (9)
- 放射ビームを調整する照明システム、
前記放射ビームの断面にパターンを付与して、パターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを保持するパターニングデバイスサポート、
基板を保持する二つの基板サポート、
前記基板のターゲット部分に前記パターン付き放射ビームを投影する投影システム、
ユーティリティ基板を保持するユーティリティ基板保管位置と、リソグラフィ装置内の基板の流れの中で前記ユーティリティ基板を使用した後に、使用後のユーティリティ基板を乾燥かつ/または洗浄する乾燥ユニットおよび/または洗浄ユニットを有するユーティリティ基板保管デバイス、
前記二つの基板サポートのうちの選ばれた基板サポート上にプロセス基板を装填するために、前記リソグラフィ装置内の基板の流れの中への前記ユーティリティ基板の装填をスケジュールするユーティリティ基板スケジューリングユニット、および
前記ユーティリティ基板保管デバイスから前記基板サポートへ、および/または前記基板サポートから前記ユーティリティ基板保管デバイスへと、前記ユーティリティ基板を移動する基板ハンドラ、を含む、リソグラフィ装置。 - 前記スケジューリングユニットは、前記基板の流れの中のギャップを検出し、前記ギャップ中にユーティリティ基板を装填することが望ましいか否かを判断し、および、望ましい場合には、前記ギャップを埋めるために前記基板の流れの中へのユーティリティ基板の装填をスケジュールする、請求項1記載のリソグラフィ装置。
- 前記スケジューリングユニットは、前記リソグラフィ装置に関連付けられた基板トラックのタイミング情報、および/または前記基板トラックまたは前記リソグラフィ装置内におけるタスク所要時間の見積もりに基づいて、ユーティリティ基板の装填をスケジュールする、請求項1または2記載のリソグラフィ装置。
- 前記スケジューリングユニットは、
プロセス基板が、前記リソグラフィ装置の液浸システムの液体と接触している時間、
前記基板の流れの中のギャップを埋めることによる、前記基板の流れの制御、
プロセス基板のバッチの最初または最後での前記基板の流れの制御、および/または
露光の終わりと基板トラックへの移動との間の露光後遅延時間の制御
の群から選択される一つまたは複数を最適化するために、ユーティリティ基板の装填をスケジュールする、請求項1から3いずれか1項記載のリソグラフィ装置。 - 前記スケジューリングユニットは、プロセス基板を装填する前に前記リソグラフィ装置のウォームアップおよび/またはキャリブレーションを行うために、新しい基板のバッチの開始時にユーティリティ基板の装填をスケジュールする、請求項1から4いずれか1項記載のリソグラフィ装置。
- 前記投影システムと前記二つの基板サポートのうちの一方の基板サポート上に支持された基板との間に液体を供給する液浸システムとを含むリソグラフィ装置であって、前記ユーティリティ基板が、前記液浸システムの液浸液空間を閉じるために使用することを意図したクロージング基板を含む、請求項1から5いずれか1項記載のリソグラフィ装置。
- 前記スケジューリングユニットは、前記リソグラフィ装置の中央制御デバイスに一体化されている、請求項1から6いずれか1項記載のリソグラフィ装置。
- 前記スケジューリングユニットは、前記リソグラフィ装置内の前記基板の流れおよび/または前記リソグラフィ装置に関連付けられた基板トラックを監視する検出デバイスを含む、請求項1から7いずれか1項記載のリソグラフィ装置。
- 基板を処理する一つまたは複数のプロセシングデバイスを含む基板トラックと、
リソグラフィ装置と、
を含むリソグラフィシステムであって、
前記リソグラフィ装置は、
基板を保持する二つの基板サポート、
ユーティリティ基板を保持するユーティリティ基板保管位置と、前記リソグラフィ装置内の基板の流れの中で前記ユーティリティ基板を使用した後、使用後のユーティリティ基板を乾燥かつ/または洗浄する乾燥ユニットおよび/または洗浄ユニットを有するユーティリティ基板保管デバイス、
前記二つの基板サポートのうちの選ばれた基板サポート上にプロセス基板を装填するために、前記リソグラフィ装置内の基板の流れの中への前記ユーティリティ基板の装填をスケジュールするユーティリティ基板スケジューリングユニット、および
前記ユーティリティ基板保管デバイスから前記基板サポートへ、および/または前記基板サポートから前記ユーティリティ基板保管デバイスへと、前記ユーティリティ基板を移動する基板ハンドラを含む、
リソグラフィシステム。
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