JP2005057290A - 基板処理のための方法、コンピュータ・プログラム製品および装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ある実施形態の場合には、該方法は、基板処理システムの一部内の基板の流れ内のギャップを決定するステップ、または基板処理システムの一部内の基板の流れ内の最適な地点にギャップを形成するステップ、あるいはこれら両方のステップと、ギャップに関連する期間内に、基板処理の一部内で実行する1つまたはそれ以上の保守作業の計画を作成するステップとを含む。基板処理の生産性の向上は、保守作業を適切に計画して、基板処理システム内の休止時間を短縮することにより達成することができる。さらに、または別の方法としては、生産性をそんなに低減しないで実行することができる余分の保守作業を実行することにより達成することができ、および/または全体の歩留まりによい影響があるように、最適化された瞬間に保守を計画することができる。
【選択図】図3a
Description
基板処理システムの一部内の基板の流れ内のギャップを決定するステップ、または基板処理システムの一部内の基板の流れ内の最適な地点にギャップを形成するステップ、あるいはこれら両方のステップと、
ギャップに関連する期間中の基板の処理の一部内で行う1つまたはそれ以上の保守作業の計画を作成するステップとを含む。
基板処理システムの一部内の基板の流れ内のギャップを決定するステップ、または基板処理システムの一部内の基板の流れ内の最適な地点にギャップを形成するステップ、あるいはこれら両方のステップを行うように構成されているソフトウェア・コードと、
ギャップに関連する期間中に、基板処理の一部内で行う1つまたはそれ以上の保守作業の計画を作成するステップを行うように構成されているソフトウェア・コードとを備える。
放射線の投影ビームを供給する照明装置と、
投影ビームを所望のパターンによりパターン化する働きをするパターニング・デバイスを支持するための支持構造と、
基板を保持するための基板テーブルと、
基板の目標部分上にパターン化されたビームを投影するための投影システムと、
基板処理システムの一部内の基板の流れ内のギャップを決定するステップ、または基板処理システムの一部内の基板の流れ内の最適な地点にギャップを形成するステップ、あるいはこれら両方のステップを行うように、またギャップに関連する期間中に、リソグラフィ装置で行う1つまたはそれ以上の保守作業の計画を作成するステップを行うように構成されている処理ユニットとを備えるリソグラフィ装置を提供する。
基板に放射線感光材料の層を塗布するように構成されているコーティング装置と、
露光した基板を現像するように構成される現像装置と、
基板処理システムの一部内の基板の流れ内のギャップを決定するステップ、または基板処理システムの一部内の基板の流れ内の最適な地点にギャップを形成するステップ、あるいはこれら両方のステップを行うように、またギャップに関連する期間中に、トラック内で行う1つまたはそれ以上の保守作業の計画を作成するステップを行うように構成されている処理ユニットとを備えるトラックを提供する。
トラックおよびリソグラフィ装置の一方内の基板の流れ内のギャップを決定するステップ、またはトラックおよびリソグラフィ装置の一方内の基板の流れ内の最適な地点にギャップを形成するステップ、あるいはこれら両方のステップと、
ギャップに関連する期間中に、トラックおよびリソグラフィ装置の他方内で行う1つまたはそれ以上の保守作業の予定表を作成するステップとを含む。
放射線(例えば、EUV放射線)の投影ビームPBを供給するための放射線システムILと(この特定の実施形態の場合には、放射線システムは放射線源LAも備える)、
マスクMA(例えば、レチクル)を保持するためのマスク・ホルダーを備え、品目PLに対してマスクを正確に位置決めするための第1の位置決め手段PMに接続している第1の対象物テーブル(マスク・テーブル)MTと、
基板W(例えば、レジストでコーティングされたシリコン・ウェハ)を保持するための基板ホルダーを備え、品目PLに対して基板を正確に位置決めするための第2の位置決め手段PWに接続している第2の対象物テーブル(基板テーブル)WTと、
基板Wの目標部分C(例えば、1つまたはそれ以上のダイを備える)上にマスクMAの照射部分を画像形成するための投影システム(「レンズ」)PL(例えば、ミラー・システム)とを備える。
IL 放射線システム
MA マスク
PL 投影システム
MT マスク・テーブル
WT 基板テーブル
W 基板
C 目標部分
LA 放射線源
M1,M2 マスク整合マーク
P1,P2 基板整合マーク
2,3 基板
5 リソグラフィ装置
10 トラック
11 基板ハンドラー・ポート
12,14 処理ステーション
13 通信チャネル
14 現像装置
16 基板ハンドラー
17 処理ユニット
18 基板ハンドラー
Claims (25)
- 基板処理システムの少なくとも一部内での1つまたはそれ以上の保守作業を計画するための方法であって、
基板処理システムの一部内の基板の流れ内のギャップを決定するステップ、または前記基板処理システムの一部内の基板の流れ内の最適な地点にギャップを形成するステップ、あるいはこれら両方のステップと、
前記ギャップに関連する期間中に、前記基板処理システムの一部内で実行する1つまたはそれ以上の保守作業を計画するステップとを含む方法。 - ギャップを決定する前記ステップが、前記基板処理システムを通る前記基板の流れ内のギャップを監視するステップを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記ギャップが、保守作業および前記基板処理システムの1つまたはそれ以上の部分が提供する他の活動のうちの少なくとも1つの実行に関する情報により決定される、請求項1に記載の方法。
- 前記ギャップがスケジューラにより決定され、前記方法が、さらに、スケジューラにより前記基板処理システムの一部内の1つまたはそれ以上の保守作業の実行を制御するステップを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記ギャップが発生した場合に、前記基板処理システムの全部または一部内の前記基板の流れがストップし、前記計画の作成が、前記基板処理システムの少なくとも一部内で実行される、1つまたはそれ以上の保守作業を計画し、前記1つまたはそれ以上の保守作業の少なくとも一部が前記ギャップと平行して行われるステップを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記ギャップが発生した場合に、前記基板の流れが前記基板処理システムの一部内を依然として流れ、前記計画の作成ステップが、前記ギャップの少なくとも一部が前記計画した1つまたはそれ以上の保守作業が行われる前記基板処理システムの一部のところに位置する場合に、実行する1つまたはそれ以上の保守作業を計画するステップを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記基板処理システムが、リソグラフィ装置およびトラックを備える、請求項1に記載の方法。
- 前記計画の作成が、前記リソグラフィ装置および前記トラックの外部で行われる、請求項5に記載の方法。
- 基板処理システムの少なくとも一部内の1つまたはそれ以上の保守作業の計画を作成するためのコンピュータ・プログラム製品であって、
前記基板処理システムの一部内の前記基板の流れ内のギャップを決定するステップ、または前記基板処理システムの一部内の前記基板の流れ内の最適な地点にギャップを形成するステップ、あるいはこれら両方のステップを行うように構成されているソフトウェア・コードと、
前記ギャップに関連する期間中に、前記基板処理システムの一部内で実行される1つまたはそれ以上の保守作業を計画するように構成されているソフトウェア・コードを備えるコンピュータ・プログラム製品。 - ギャップを決定するように構成されている前記コードが、前記基板処理システムを通る基板の流れ内のギャップを監視するように構成されているコードを含む、請求項21に記載のコンピュータ・プログラム製品。
- ギャップを決定するように構成されている前記コードが、保守作業および前記基板処理システムの1つまたはそれ以上の部分が提供する他の活動のうちの少なくとも1つの実行に関する情報により前記ギャップを決定するコードを含む、請求項9に記載のコンピュータ・プログラム製品。
- 前記ギャップを決定するように、また前記基板処理システムの一部内での前記1つまたはそれ以上の保守作業の実行を制御するように構成されているスケジューラを備える、請求項9に記載のコンピュータ・プログラム製品。
- 前記基板処理システムの全部または一部内の基板の流れが、前記ギャップが発生した場合にストップし、計画を作成するように構成されている前記コードが、前記基板処理システムの少なくとも一部内で実行される1つまたはそれ以上の保守作業を計画するように構成されているコードを含み、そのため前記1つまたはそれ以上の保守作業の少なくとも一部が、前記ギャップと平行して行われる、請求項9に記載のコンピュータ・プログラム製品。
- 前記ギャップが発生した場合に、前記基板の流れが前記基板処理システムの一部内を引き続き流れ、計画を作成するように構成されている前記コードが、前記ギャップの少なくとも一部が、前記計画した1つまたはそれ以上の保守作業が行われる前記基板処理システムの一部のところに位置している場合に、実行する1つまたはそれ以上の保守作業を計画するように構成されているコードを含む、請求項9に記載のコンピュータ・プログラム製品。
- 前記基板処理システムが、リソグラフィ装置およびトラックを備える、請求項9に記載のコンピュータ・プログラム製品。
- 前記コンピュータ・プログラム製品が、前記リソグラフィ装置および前記トラックの外部から作動される、請求項15に記載のコンピュータ・プログラム製品。
- リソグラフィ装置であって、
放射線の投影ビームを供給する照明システムと、
前記投影ビームを所望のパターンによりパターン化する働きをするパターニング・デバイスを支持するための支持構造と、
基板を保持するための基板テーブルと、
前記基板の目標部分上に前記パターン化されたビームを投影するための投影システムと、
基板処理システムの一部内の基板の流れ内のギャップを決定するステップ、または前記基板処理システムの一部内の基板の流れ内の最適な地点にギャップを形成するステップ、あるいはこれら両方のステップを行うように、また前記ギャップに関連する期間中に、前記リソグラフィ装置で実行する1つまたはそれ以上の保守作業の計画を作成するステップを行うように構成されている処理ユニットとを備えるリソグラフィ装置。 - 前記処理ユニットが、前記基板処理システムを通る基板の流れ内のギャップを監視するように構成されている、請求項17に記載のリソグラフィ装置。
- 前記処理ユニットが、保守作業および前記基板処理システムの1つまたはそれ以上の部分が提供するもう1つの活動のうちの少なくとも1つの実行に関する情報により、前記ギャップを決定するように構成されている、請求項17に記載のリソグラフィ装置。
- 前記処理ユニットがスケジューラを備え、前記スケジューラが、前記ギャップを決定し、前記リソグラフィ装置内の前記1つまたはそれ以上の保守作業の実行を制御するように構成されている、請求項17に記載のリソグラフィ装置。
- 基板に放射線感光材料の層を塗布するように構成されているコーティング装置と、
露光した基板を現像するように構成されている現像装置と、
基板処理システムの一部内の基板の流れ内のギャップを決定するステップ、または前記基板処理システムの一部内の基板の流れ内の最適な地点にギャップを形成するステップ、あるいはこれら両方のステップを行うように、また前記ギャップに関連する期間中に、前記トラック内で実行する1つまたはそれ以上の保守作業の計画を作成するステップを行うように構成されている処理ユニットと
を備えるトラック。 - 前記処理ユニットが、前記基板処理を通る前記基板の流れ内のギャップを監視するように構成されている、請求項21に記載のトラック。
- 前記処理ユニットが、保守作業および前記基板処理システムの1つまたはそれ以上の部分が提供するもう1つの活動のうちの少なくとも1つの実行に関する情報により、前記ギャップを決定するように構成されている、請求項21に記載のトラック。
- 前記処理ユニットがスケジューラを備え、前記スケジューラが、前記ギャップを決定し、前記トラック内の前記1つまたはそれ以上の保守作業の実行を制御するように構成されている、請求項21に記載のトラック。
- トラックおよびリソグラフィ装置で保守作業の実行をスタートするための方法であって、
前記トラックおよび前記リソグラフィ装置のうちの一方の一部内の基板の流れ内のギャップを決定するステップ、または前記トラックおよび前記リソグラフィ装置のうちの一方の一部内の基板の流れ内の最適な地点にギャップを形成するステップ、あるいはこれら両方のステップを行うステップと、
前記ギャップに関連する期間中に、前記トラックおよび前記リソグラフィ装置のうちの他方の一部内で実行される1つまたはそれ以上の保守作業の計画を作成するステップとを含む。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/633,307 US6879866B2 (en) | 2003-08-04 | 2003-08-04 | Method, computer program product and apparatus for scheduling maintenance actions in a substrate processing system |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005057290A true JP2005057290A (ja) | 2005-03-03 |
JP4430480B2 JP4430480B2 (ja) | 2010-03-10 |
Family
ID=34115824
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004226835A Active JP4430480B2 (ja) | 2003-08-04 | 2004-08-03 | 基板処理のための方法、コンピュータ・プログラム製品および装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6879866B2 (ja) |
JP (1) | JP4430480B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008124380A (ja) * | 2006-11-15 | 2008-05-29 | Nikon Corp | 電子部品の製造方法及びデバイス製造方法並びに電子部品の製造システム |
US7692764B2 (en) | 2004-08-30 | 2010-04-06 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, operation decision method, substrate processing system, maintenance management method, and device manufacturing method |
JP2012156497A (ja) * | 2011-01-05 | 2012-08-16 | Tokyo Electron Ltd | 塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体 |
JPWO2018131136A1 (ja) * | 2017-01-13 | 2019-11-07 | 株式会社Fuji | 生産管理装置 |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7120511B1 (en) * | 2004-08-11 | 2006-10-10 | Advanced Micro Devices, Inc. | Method and system for scheduling maintenance procedures based upon workload distribution |
US7212876B2 (en) * | 2004-09-09 | 2007-05-01 | General Motors Corporation | Maintenance opportunity planning system and method |
US7242458B2 (en) * | 2004-12-23 | 2007-07-10 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a multiple substrate carrier for flat panel display substrates |
US7538857B2 (en) * | 2004-12-23 | 2009-05-26 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a substrate handler |
US7656506B2 (en) * | 2004-12-23 | 2010-02-02 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a substrate handler |
JP4726070B2 (ja) * | 2006-05-23 | 2011-07-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、装置検査方法、装置検査プログラム、及びそのプログラムを記録した記録媒体 |
US20080059340A1 (en) * | 2006-08-31 | 2008-03-06 | Caterpillar Inc. | Equipment management system |
US20080147571A1 (en) * | 2006-09-29 | 2008-06-19 | Caterpillar Inc. | System and method for analyzing machine customization costs |
US20080082345A1 (en) * | 2006-09-29 | 2008-04-03 | Caterpillar Inc. | System and method for evaluating risks associated with delaying machine maintenance |
JP5006122B2 (ja) | 2007-06-29 | 2012-08-22 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置 |
US7817241B2 (en) * | 2007-07-05 | 2010-10-19 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP5160204B2 (ja) * | 2007-11-30 | 2013-03-13 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置 |
JP5128918B2 (ja) * | 2007-11-30 | 2013-01-23 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置 |
JP5179170B2 (ja) | 2007-12-28 | 2013-04-10 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置 |
JP5001828B2 (ja) | 2007-12-28 | 2012-08-15 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置 |
DE102009046751A1 (de) * | 2008-12-31 | 2010-09-09 | Advanced Micro Devices, Inc., Sunnyvale | Verfahren und System zum Synchronisieren der Prozesskammerabschaltzeiten durch Steuern der Transportreihenfolge in eine Prozessanlage |
JP6664007B2 (ja) | 2016-04-20 | 2020-03-13 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | レコードを整合させる方法、保守のスケジュールを作成する方法、および装置 |
JP2019046836A (ja) * | 2017-08-30 | 2019-03-22 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 生産システムおよび生産方法ならびに生産ライン管理装置 |
US10892178B2 (en) * | 2018-05-29 | 2021-01-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Substrate processing system, method of controlling substrate processing system, computer-readable storage medium, and method of manufacturing article |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100238251B1 (ko) * | 1997-08-20 | 2000-01-15 | 윤종용 | 하나의 도포 및 현상을 수행하는 장치에 복수의 정렬 및 노광장치를 병렬적으로 인-라인시킨 포토리쏘그래피장치 |
US6368985B1 (en) * | 2000-05-30 | 2002-04-09 | Advanced Micro Devices, Inc. | Dual track/stepper interface configuration for wafer processing |
JP4213871B2 (ja) * | 2001-02-01 | 2009-01-21 | 株式会社日立製作所 | 半導体装置の製造方法 |
JP2003022962A (ja) * | 2001-07-10 | 2003-01-24 | Canon Inc | 露光システム、デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法 |
-
2003
- 2003-08-04 US US10/633,307 patent/US6879866B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2004
- 2004-08-03 JP JP2004226835A patent/JP4430480B2/ja active Active
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7692764B2 (en) | 2004-08-30 | 2010-04-06 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, operation decision method, substrate processing system, maintenance management method, and device manufacturing method |
JP2008124380A (ja) * | 2006-11-15 | 2008-05-29 | Nikon Corp | 電子部品の製造方法及びデバイス製造方法並びに電子部品の製造システム |
JP2012156497A (ja) * | 2011-01-05 | 2012-08-16 | Tokyo Electron Ltd | 塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体 |
TWI497226B (zh) * | 2011-01-05 | 2015-08-21 | Tokyo Electron Ltd | Coating, developing device, coating, developing method and memory medium |
KR101900771B1 (ko) * | 2011-01-05 | 2018-09-20 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 도포 현상 장치, 도포 현상 방법 및 기억 매체 |
KR20180104780A (ko) * | 2011-01-05 | 2018-09-21 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 도포 현상 장치, 도포 현상 방법 및 기억 매체 |
KR101980508B1 (ko) * | 2011-01-05 | 2019-05-20 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 도포 현상 장치, 도포 현상 방법 및 기억 매체 |
JPWO2018131136A1 (ja) * | 2017-01-13 | 2019-11-07 | 株式会社Fuji | 生産管理装置 |
JP7012667B2 (ja) | 2017-01-13 | 2022-01-28 | 株式会社Fuji | 生産管理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20050033463A1 (en) | 2005-02-10 |
JP4430480B2 (ja) | 2010-03-10 |
US6879866B2 (en) | 2005-04-12 |
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Legal Events
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|
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|
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