JP2010161235A - 位置決め装置、露光装置、デバイス製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】フットプリントの増大を招かず、複数ステージのスワップ移動を適切に制御する。
【解決手段】第１の方向に沿って第１のエリア３１及び第２のエリア３２が設けられる定盤上を移動可能な第１のステージ２１及び第２のステージ２２を位置決めする位置決め装置であって、前記第１のステージ２１及び前記第２のステージ２２を第１の方向に沿って移動させる第１のアクチュエータと、前記第１のステージ及び前記第２のステージを前記第１の方向と直交する第２の方向に沿って移動させる第２のアクチュエータと、前記第１のアクチュエータ及び前記第２のアクチュエータに対して電流を供給するドライバと、前記ドライバを制御する制御部とを具備する。
【選択図】図２

Description

本発明は、位置決め装置、露光装置、デバイス製造方法に関する。

露光装置においては、半導体ウェハを保持して駆動するウェハステージが設けられる。このようなウェハステージにおいては、一つの定盤上に２つのステージを配するものがある。ウェハステージを２つ有する露光装置においては、定盤上を２つの領域、ウェハアライメントを行なう領域と、露光を行なう領域とに分け、片方のステージにおいて、アライメント工程を行っている最中に、他方のステージにおいて、露光動作を行なう。これにより、露光処理シーケンス全体にかかる時間を短くし、スループットを向上させる。

図６は、２ステージ構成を有する露光装置の一例である。図６には、定盤１０１と、定盤１０１上を２自由度以上で駆動できるステージ２０１及び２０２、定盤１０１上の２つの領域３０１及び３０２が示される。ここで、領域３０１は、露光を行なう領域であり、領域３０２は、ウェハアライメントを行なう領域である。各ステージは、領域３０１及び領域３０２各々において、所定の工程を終了した後、他方の領域に移動する。このように２ステージ構成の場合、ウェハステージ２０１及びウェハステージ２０２は、２つの領域を往来する。このとき、ウェハステージ２０１及びウェハステージ２０２が近接した状態でスワップ移動が行なわれる。
特開２００１−２２２３１５９号公報

ウェハステージ２０１及びウェハステージ２０２がスワップ移動する際に、位置計測系やドライバ系に何らかの不具合が生じた場合等には、いずれか若しくは両方が暴走してしまう可能性がある。このとき、ウェハステージ２０１及びウェハステージ２０２が近づく方向、すなわち、図６に示すＸ軸方向に暴走した場合、両者は、衝突してしまう可能性がある。

露光装置には、このような衝突を避けるため、制御量監視による異常検知機能、安全停止機能が実装されている。具体的には、これらステージの位置目標値と実際の位置との差分値や制御偏差を監視し、差分値等が所定の閾値以上になった場合に、駆動系をオフし何らかのブレーキ手段で停止させる。

しかし、ウェハステージ２０１及びウェハステージ２０２のＸ軸方向速度や加速度によっては、ブレーキ制動距離が大きくなる。そのため、ウェハステージ２０１及びウェハステージ２０２がスワップ移動を行なう際は、ブレーキ制動距離を考慮して、両ステージ間をＸ軸方向に離さなければならない。この分、装置フットプリントは増大してしまう。

また、特許文献１には、ウェハステージ２１及びウェハステージ２２のすれ違い経路の間に物理的障害物を設け、それを緩衝材とし、両ステージ同士が衝突するのを避ける方法も提案されている。しかし、ステージの速度や加速度が大きくなるほど、緩衝材も大型化される。従って、この場合にも、装置フットプリントの増大を招いてしまう。

また、特許文献１には、各ステージ駆動方向と平行に駆動するユニットを設け、このユニットにウェハステージ２１及びウェハステージ２０２を物理的に連結し、両ステージが互いに近づく方向に駆動できないようにする技術も提案されている。しかし、この場合、ステージ連結ユニットを設けなければならないため、コストの増加を招き、また、フットプリントの増大も懸念される。

そこで、本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、ステージ連結ユニットを省略するとともに、フットプリントの増大を招かずに、複数ステージのスワップ移動を適切に制御できるようにした技術を提供することを目的とする。

上記目的を達成するため、本発明の一態様は、第１の方向に沿って第１のエリア及び第２のエリアが設けられる定盤上を移動可能な第１のステージ及び第２のステージを位置決めする位置決め装置であって、前記第１のステージ及び前記第２のステージを第１の方向に沿って移動させる第１のアクチュエータと、前記第１のステージ及び前記第２のステージを前記第１の方向と直交する第２の方向に沿って移動させる第２のアクチュエータと、前記第１のアクチュエータ及び前記第２のアクチュエータに対して電流を供給するドライバと、前記ドライバを制御する制御部とを具備し、前記第１のステージ及び前記第２のステージは、前記第１のエリアに位置する前記第１のステージ及び前記第２のステージのうちのいずれかが前記第２のエリアへ移動するとともに前記第２のエリアに位置する前記第１のステージ及び前記第２のステージのうちのいずれかが前記第１のエリアに移動するスワップ移動と、前記第１のエリア及び前記第２のエリアのいずれかにそれぞれ位置する前記第１のステージ及び前記第２のステージが当該エリア内で移動するエリア内移動とを含む動作により移動し、前記制御部は、前記第１のステージ及び前記第２のステージのスワップ移動時において、前記ドライバから前記第２のアクチュエータへの電流供給を遮断する、又は前記ドライバから前記第２のアクチュエータへ供給する電流を前記エリア内移動時に供給する電流よりも小さく制限することを特徴とする。

また、本発明の一態様は、原版のパターンを基板に投影し前記基板を露光する露光装置であって、第１の方向に沿って第１のエリア及び第２のエリアが設けられる定盤と、前記基板を保持し前記定盤上を移動可能な第１のステージ及び第２のステージと、前記第１のステージ及び前記第２のステージを第１の方向に沿って移動させる第１のアクチュエータと、前記第１のステージ及び前記第２のステージを前記第１の方向と直交する第２の方向に沿って移動させる第２のアクチュエータと、前記第１のアクチュエータ及び前記第２のアクチュエータに対して電流を供給するドライバと、前記ドライバを制御する制御部とを具備し、前記第１のステージ及び前記第２のステージは、前記第１のエリアに位置する前記第１のステージ及び前記第２のステージのうちのいずれかが前記第２のエリアへ移動するとともに前記第２のエリアに位置する前記第１のステージ及び前記第２のステージのうちのいずれかが前記第１のエリアに移動するスワップ移動と、前記第１のエリア及び前記第２のエリアのいずれかにそれぞれ位置する前記第１のステージ及び前記第２のステージが当該エリア内で移動するエリア内移動とを含む動作により移動し、前記制御部は、前記第１のステージ及び前記第２のステージのスワップ移動時において、前記ドライバから前記第２のアクチュエータへの電流供給を遮断する、又は前記ドライバから前記第２のアクチュエータへ供給する電流を前記エリア内移動時に供給する電流よりも小さく制限することを特徴とする。

また、本発明の一態様は、デバイス製造方法であって、上述した露光装置によって基板を露光する工程と、前記基板を現像する工程と、を含むことを特徴とする。

本発明によれば、ステージ連結ユニットを省略するとともに、フットプリントの増大を招かずに、複数ステージのスワップ移動を適切に制御することができる。

以下、本発明に係わる位置決め装置、露光装置、デバイス製造方法の実施形態について添付図面を参照して説明する。なお、本実施形態においては、本発明に係わる位置決め装置を露光装置に適用し、露光装置において基板ステージの位置決めを行なう場合について説明するが、これに限られず、その他の制御に位置決め装置が用いられても構わない。例えば、原板ステージの位置決めに用いられてもよい。

（実施形態１）
図１は、本発明の一実施の形態に係わる露光装置１０における構成の一例が示される。

露光装置１０は、半導体ウェハ、液晶パネル等の平板状基盤にパターンを形成する。具体的には、感光性材料（以下、レジストと呼ぶ）が塗布された基板（以下、ウェハと呼ぶ）Ｐへ原版（以下、マスクと呼ぶ）Ｍに形成されたパターンを投影してウェハＰに転写する。

ここで、露光装置１０は、光源１５と、照明光学系１４と、原版ステージ１３と、投影光学系１２と、アライメントスコープ１１と、制御部１７と、ユーザインターフェース１８と、複数の基板ステージ（２１、２２）とを具備して構成される。

制御部１７は、露光装置１０における処理を統括制御する。なお、制御部１７に相当する処理機能が、露光装置１０外部に設けられたコンピュータにより実現されても構わない。また、ユーザインターフェース１８は、オペレータから各種指示を受け、当該受けた指示を装置内に入力する。

原版ステージ（以下、マスクステージと呼ぶ）１３は、原板であるマスクＭを保持する。マスクＭは、投影光学系１２の物体面に配置される。光源１５は、ウェハＰの露光に使用される光線Ｌを発生する。光源１５から射出された光線Ｌは、反射ミラー１６で反射されて照明光学系１４に提供される。

照明光学系１４は、光源１５からの光線ＬをマスクＭに照射させる。この照射によりマスクＭから射出された光線Ｌは、投影光学系１２を介して基板、すなわちウェハＰに照射される。光線Ｌは、ウェハＰ表面で結像し、ウェハＰ表面には、マスクＭのパターン像が形成される。

基板ステージ（以下、ウェハステージと呼ぶ）２１及び２２は、定盤上を移動可能に設けられ、ウェハＰを保持して任意の位置に移動する。各ウェハステージ２１及び２２（第１のステージ、第２のステージ）は、位置決め装置（不図示）により駆動され、レーザー干渉計（不図示）によりその位置を正確に制御される。ウェハステージ２１及びウェハステージ２２は、露光処理シーケンスに応じて定盤１上、すなわち同一平面内における２つのエリア（第１のエリア、第２のエリア）を往来したり（スワップ移動）、同一エリア内で移動したりする（エリア内移動）。なお、本実施形態においては、第１のエリア及び第２のエリアは、定盤１における第１の方向（図中Ｙ軸方向）に沿って設けられている。第１のエリア（以下、計測エリアと呼ぶ）３２では、例えば、アライメントスコープ１１を用いてウェハＰのアライメント誤差等の計測が行なわれる。第２のエリア（以下、露光エリアと呼ぶ）３１では、計測エリア３２で計測されたウェハＰの情報に基づいてマスクＭのパターンが投影光学系１２を介してウェハＰに転写される。計測エリア３２におけるアライメント処理は、露光エリア３１において露光処理を行なっている間に行なわれる。

露光装置１０は、露光エリア３１において、ウェハＰをステップ移動させながらウェハＰの各ショット領域を順次露光する。これにより、ウェハＰの各ショット領域にマスクＭのパターンを逐次転写する。

次に、図２を用いて、図１に示すウェハステージ２１及びウェハステージ２２の概要について説明する。

ウェハステージ２１及びウェハステージ２２は、定盤１上を２自由度以上で移動する。例えば、ウェハステージ２１及びウェハステージ２２は、定盤１上において、Ｙ軸方向（第１の方向）と、Ｘ軸方向（第１の方向に直行する第２の方向）とに移動する。ウェハステージ２１及びウェハステージ２２には、位置決め装置として、例えば、リニアモータ形式のアクチュエータ（不図示）や、当該アクチュエータへ電流供給を行なう駆動ドライバ（不図示）が備わっている。これらアクチュエータや駆動ドライバは、例えば、ステージ各々に対応して設けられる。ウェハステージ２１には、第１のアクチュエータとしてＹ軸方向５１に沿ってステージを移動させるＹ軸用アクチュエータと、第２のアクチュエータとしてＸ軸方向５２に沿ってステージを移動させるＸ軸用アクチュエータとが設けられる。また、ウェハステージ２２には、第１のアクチュエータとしてＹ軸方向６１に沿ってステージを移動させるＹ軸用アクチュエータと、第２のアクチュエータとしてＸ軸方向６２に沿ってステージを移動させるＸ軸用アクチュエータとが設けられる。

上述した制御部１７においては、ウェハステージ２１、ウェハステージ２２の位置決めサーボ演算、サーボ指令生成及び出力、ユーザインターフェース１８からのコマンド処理、インターロック検知などの処理を行なう。

ウェハステージ２１及びウェハステージ２２は、上述した通り、露光処理シーケンスにおいて各エリアをスワップ移動する必要がある。そのため、ウェハステージ２１とウェハステージ２２とのすれ違いが発生する。すれ違い時の駆動方向は、５１及び６１に示すように、Ｙ軸方向に沿って略平行となる。ウェハステージ２１及びウェハステージ２２は、通常、駆動方向と直交する方向に一定の距離（以下、ステージ間距離と呼ぶ）４を保持した状態ですれ違う。

次に、図３を用いて、図１に示すウェハステージ２１を位置決め制御するための機能的な構成の一例について説明する。ここでは、代表してウェハステージ２１を位置決め制御するための機能的な構成を例に挙げて説明するが、ウェハステージ２２に対しても同様の機能的な構成が備わる。なお、図中破線枠内で示される構成は、図１で説明した制御部１７により実現される機能的な構成である。

ここで、ウェハステージ２１を位置決め制御するための構成は、図２に示すＸ軸方向の制御ループと、Ｙ軸方向の制御ループとに大きく分けられる。Ｘ軸方向の制御ループは、Ｘ軸用目標値生成部５０１と、Ｘ軸用制御部５０３と、Ｘ軸用駆動ドライバ５０５と、駆動ドライバ電流出力リミッタ５０８及び５０９と、スイッチャー５０７及び５１７と、Ｘ軸用ダイナミックブレーキ５１９とを具備して構成される。

Ｘ軸用目標値生成部５０１は、Ｘ軸方向への駆動目標値（すれ違い駆動指令値）を生成し、Ｘ軸用制御部５０３に当該目標値を入力する。Ｘ軸用制御部５０３は、ウェハステージ２１のＸ位置座標５１２を受け取り、位置決めサーボ演算を行なう。Ｘ軸用駆動ドライバ５０５は、駆動電流を出力する。その後段には、第１のリミッタとして機能する駆動ドライバ電流出力リミッタ５０８と、第２のリミッタとして機能する駆動ドライバ電流出力リミッタ５０９とが設けられる。スイッチャー５０７は、演算部５１１からの信号線５２１を介した指令に基づいてスイッチングを行なう。Ｘ軸用駆動ドライバ５０５からの駆動電流は、ウェハステージ２１のＸ軸用アクチュエータに送られる。これにより、ウェハステージ２１は、Ｘ軸方向への推力を得る。

また、Ｙ軸方向の制御ループは、Ｙ軸用目標値生成部５０２と、Ｙ軸用制御部５０４と、Ｙ軸用駆動ドライバ５０６と、スイッチャー５１８と、Ｙ軸用ダイナミックブレーキ５２０とを具備して構成される。

Ｙ軸用目標値生成部５０２は、Ｙ軸方向への駆動目標値（すれ違い駆動指令値）を生成し、Ｙ軸用制御部５０４に当該目標値を入力する。Ｙ軸用制御部５０４は、ウェハステージ２１のＹ位置座標を受け取り、位置決めサーボ演算を行なう。Ｙ軸用駆動ドライバ５０６は、駆動電流を出力する。Ｙ軸用駆動ドライバ５０６からの駆動電流は、ウェハステージ２１のＹ軸用アクチュエータに送られる。これにより、ウェハステージ２１は、Ｙ軸方向への推力を得る。

ここで、演算部５１１は、ウェハステージ２１及びウェハステージ２２に対する駆動指令命令、インターロック検知や処理命令を出す。演算部５１１においては、インターロックを検知した場合、信号線５１５、５１６を介してスイッチャー５１７及び５１８をスイッチングしてＸ、Ｙ軸方向に対する駆動電流を寸断し、位置決めサーボ制御を停止させる。また、Ｘ軸用ダイナミックブレーキ５１９及びＹ軸用ダイナミックブレーキ５２０は、ウェハステージ２１及びウェハステージ２２のアクチュエータに使用されているモータコイルの逆起電力を利用してウェハステージ２１及びウェハステージ２２を停止させる。演算部５１１においては、インターロックを検知した場合、上述した位置決めサーボ制御の停止と同時にこれらブレーキ５１９及び５２０を稼動させる。このブレーキ制動により、ステージは安全に停止する。

次に、図４を用いて、図１に示す露光装置１０における動作の一例について説明する。ここでは、スワップ移動時におけるステージ位置決め制御処理を例に挙げて説明する。

露光装置１０は、演算部５１１において、ユーザインターフェース１８からスワップ移動要求を受信すると（Ｓ１０１）、ウェハステージ２１及びウェハステージ２２を方向５２及び方向６２へ駆動させるための駆動電流の出力を小さく制限する（Ｓ１０２）。具体的には、ウェハステージ２１及びウェハステージ２２のＸ軸用駆動ドライバ５０５に対して、図３に示す信号線５２１経由で指令（リミッタの切り替え指示）を送り、駆動ドライバ電流出力リミッタ５０９を選択させる。これにより、ステージをＸ軸方向へ駆動させるための駆動電流を所定値以下に制限し、エリア内移動時の駆動電流よりも小さな値にする。スワップ移動時においては、Ｘ軸は非駆動軸であるので、ウェハステージ２１及びウェハステージ２２の姿勢保持に必要となる最低限の電流値（ステージの姿勢を維持するが移動させない程度の電流値）を供給すればよい。

その後、露光装置１０は、Ｙ軸用目標値生成部５０２において、ウェハステージ２１及びウェハステージ２２のすれ違い駆動指令値を生成する。そして、Ｙ軸用制御部５０４において、ウェハステージ２１及びウェハステージ２２のＹ軸用駆動ドライバ５０６にその指令値を送る（Ｓ１０３）。これにより、ウェハステージ２１及びウェハステージ２２は、方向５１及び方向６１に向けて互いに平行に動き始める。このとき、演算部５１１は、ウェハステージ２１及びウェハステージ２２の駆動が完了するまで待機する（Ｓ１０４でＮＯの後、Ｓ１０５でＮＯ）。

ウェハステージ２１及びウェハステージ２２のスワップ移動に際して、異常が発生せず、両ステージが目標位置まで到達すると、露光装置１０は、演算部５１１において、完了通知を受け取る（Ｓ１０５でＹＥＳ）。これにより、この処理は正常終了する（Ｓ１０７）。

一方、ウェハステージ２１及びウェハステージ２２のスワップ移動時に何らかの異常（例えば、制御量異常）が発生し、それを検知した場合（Ｓ１０４でＹＥＳ）、露光装置１０は、演算部５１１において、異常制御を開始する。具体的には、図３に示す信号線５１５、５１６を経由してウェハステージ２１及び２２の位置決めサーボ制御を停止するとともに、ダイナミックブレーキ５１９及び５２０を稼動する。これにより、ウェハステージ２１及びウェハステージ２２を停止させる（Ｓ１０６）。このとき、ウェハステージ２１及びウェハステージ２２のステージ間距離４は、想定される最大ブレーキ制動距離の和以上でなければならない。

以上説明したように実施形態１によれば、スワップ移動時にステージをＸ軸方向（５２、６２方向）へ駆動させるアクチュエータに対して供給する電流を所定値以下に制限する。すなわち、すれ違い駆動する方向に対して垂直成分を持つ駆動軸の電流を抑制する。そのため、いずれかのステージが暴走したとしても、ステージ暴走時のＸ軸方向への加速を抑えることができる。従って、ステージのＸ軸方向への加速力や速度が比較的小さくなるので、ブレーキ制動距離が短くなる。

これにより、スワップ移動時のステージ間距離４を短くしたとしても、安全性を確保できる。従って、安全性確保のために割くスペースを小型化できるため、装置フットプリントを小さくできる。また、ステージ連結ユニットも不要となる。

なお、上述した実施形態１においては、駆動ドライバ電流出力リミッタ５０８及び５０９とスイッチャー５１７とをドライバ５０５の後段に配置し、Ｘ軸用駆動ドライバ５０５からの駆動電流の出力を制限するように構成したが、この構成に限られない。例えば、Ｘ軸用駆動ドライバ５０５の前段に駆動ドライバへの指令値を制限するためにリミッタ配置を行なっても同様の効果が得られる。

（実施形態２）
次に、実施形態２について説明する。なお、実施形態２に係わる露光装置１０に構成やステージ構成等は、実施形態１を説明した図１及び図２と同様であるため、その説明は省略し、ここでは、相違点を重点的に説明する。第１の実施形態との相違点としては、ウェハステージ２１及びウェハステージ２２のアクチュエータがパルスモータ型である点である。

図５を用いて、実施形態２に係わるウェハステージ２１を位置決め制御するための機能的な構成の一例について説明する。ここでは、代表してウェハステージ２１を制御する機能的な構成を例に挙げて説明するが、ウェハステージ２２に対しても同様の機能的な構成が備わる。

実施形態１との相違点としては、駆動ドライバ電流出力リミッタがない点である。露光シーケンスにおいて、ウェハステージ２１及びウェハステージ２２のスワップ移動時の駆動方向は、５１及び６１に示すように、Ｙ軸方向に沿って略平行となる。更に、スワップ移動時には、図５に示す信号線５２２経由の指令でウェハステージ２１及びウェハステージ２２のＸ軸方向のアクチュエータへの電流供給を遮断する。

パルスモータのディテントトルクがウェハステージ２１及びウェハステージ２２に対して５２、６２方向の保持力となり、ガイドの代わりとなる。従って、アクチュエータへの電流供給が遮断されてもウェハステージ２１及びウェハステージ２２が５２、６２方向に動くことがない。また、何らかの制御異常が発生した時にも、図５に示す信号線５１５、５１６経由の指令によりＸ軸用ダイナミックブレーキ稼動、Ｙ軸のサーボループ切断、Ｙ軸用ダイナミックブレーキ稼動を実施し、ステージ２１、２２を安全に停止させることができる。

以上説明したように実施形態２によれば、実施形態１と同様の効果が得られるとともに、パルスモータ形式のアクチュエータを採用しているため、パルスモータのディテントトルクをステージ姿勢保持力として利用できる。これにより、スワップ移動時の非駆動軸への電流を完全に遮断、若しくは極めて小さくすることができる。

以上が本発明の代表的な実施形態の一例であるが、本発明は、上記及び図面に示す実施形態に限定することなく、その要旨を変更しない範囲内で適宜変形して実施できるものである。

なお、デバイスは、露光装置１０を用いてフォトレジスト（感光性材料）が塗布された基板（ウエハ、ガラスプレート等）を露光する工程と、露光された基板を現像する工程と、その他の周知の工程と、を経ることによって製造される。

本発明の一実施の形態に係わる露光装置１０における構成の一例を示す図である。 図１に示すウェハステージ２１及びウェハステージ２２の概要の一例を示す図である。 図１に示すウェハステージ２１を位置決め制御するための機能的な構成の一例を示す図である。 図１に示す露光装置１０における動作の一例を示すフローチャートである。 実施形態２に係わるウェハステージ２１を位置決め制御するための機能的な構成の一例を示す図である。 従来技術の一例を示す図である。

１ 定盤
１０ 露光装置
１１ アライメントスコープ
１２ 投影光学系
１３ 原版ステージ
１４ 照明光学系
１５ 光源
１６ 反射ミラー
１７ 制御部
１８ ユーザインターフェース
２１、２２ 基板ステージ
５１１ 演算部

Claims (7)

1. 第１の方向に沿って第１のエリア及び第２のエリアが設けられる定盤上を移動可能な第１のステージ及び第２のステージを位置決めする位置決め装置であって、
   前記第１のステージ及び前記第２のステージを第１の方向に沿って移動させる第１のアクチュエータと、
   前記第１のステージ及び前記第２のステージを前記第１の方向と直交する第２の方向に沿って移動させる第２のアクチュエータと、
   前記第１のアクチュエータ及び前記第２のアクチュエータに対して電流を供給するドライバと、
   前記ドライバを制御する制御部と
   を具備し、
   前記第１のステージ及び前記第２のステージは、
   前記第１のエリアに位置する前記第１のステージ及び前記第２のステージのうちのいずれかが前記第２のエリアへ移動するとともに前記第２のエリアに位置する前記第１のステージ及び前記第２のステージのうちのいずれかが前記第１のエリアに移動するステップ移動と、前記第１のエリア及び前記第２のエリアのいずれかにそれぞれ位置する前記第１のステージ及び前記第２のステージが当該エリア内で移動するエリア内移動とを含む動作により移動し、
   前記制御部は、
   前記第１のステージ及び前記第２のステージのスワップ移動時において、前記ドライバから前記第２のアクチュエータへの電流供給を遮断する、又は前記ドライバから前記第２のアクチュエータへ供給する電流を前記エリア内移動時に供給する電流よりも小さく制限する
   ことを特徴とする位置決め装置。
2. 前記制御部は、
   前記第１のステージ及び前記第２のステージの前記スワップ移動時に異常を検知した場合、前記ドライバの動作を停止させるとともに、前記第１のステージ及び前記第２のステージの移動を停止させる
   ことを特徴とする請求項１記載の位置決め装置。
3. 前記エリア内移動時に前記第２のアクチュエータに対して前記ドライバからの電流供給を制限する第１のリミッタと、
   前記スワップ移動時に前記第２のアクチュエータに対して前記ドライバからの電流供給を制限する第２のリミッタと
   を具備し、
   前記制御部は、
   前記第１のステージ及び前記第２のステージの前記スワップ移動時において、前記第１のリミッタから前記第２のリミッタに選択を切り替えることにより前記ドライバから前記第２のアクチュエータへ供給する電流を前記エリア内移動時に供給する電流よりも小さく制限する
   ことを特徴とする請求項１記載の位置決め装置。
4. 前記エリア内移動時よりも小さい電流は、
   前記第１のステージ及び前記第２のステージの姿勢を維持するが前記第１のステージ及び前記第２のステージを移動させない程度の電流である
   ことを特徴とする請求項１記載の位置決め装置。
5. 前記アクチュエータは、
   パルスモータで構成される
   ことを特徴とする請求項１記載の位置決め装置。
6. 原版のパターンを基板に投影し前記基板を露光する露光装置であって、
   第１の方向に沿って第１のエリア及び第２のエリアが設けられる定盤と、
   前記基板を保持し前記定盤上を移動可能な第１のステージ及び第２のステージと、
   前記第１のステージ及び前記第２のステージを第１の方向に沿って移動させる第１のアクチュエータと、
   前記第１のステージ及び前記第２のステージを前記第１の方向と直交する第２の方向に沿って移動させる第２のアクチュエータと、
   前記第１のアクチュエータ及び前記第２のアクチュエータに対して電流を供給するドライバと、
   前記ドライバを制御する制御部と
   を具備し、
   前記第１のステージ及び前記第２のステージは、
   前記第１のエリアに位置する前記第１のステージ及び前記第２のステージのうちのいずれかが前記第２のエリアへ移動するとともに前記第２のエリアに位置する前記第１のステージ及び前記第２のステージのうちのいずれかが前記第１のエリアに移動するスワップ移動と、前記第１のエリア及び前記第２のエリアのいずれかにそれぞれ位置する前記第１のステージ及び前記第２のステージが当該エリア内で移動するエリア内移動とを含む動作により移動し、
   前記制御部は、
   前記第１のステージ及び前記第２のステージのスワップ移動時において、前記ドライバから前記第２のアクチュエータへの電流供給を遮断する、又は前記ドライバから前記第２のアクチュエータへ供給する電流を前記エリア内移動時に供給する電流よりも小さく制限する
   ことを特徴とする露光装置。
7. デバイス製造方法であって、
   請求項６記載の露光装置によって基板を露光する工程と、
   前記基板を現像する工程と、
   を含むことを特徴とするデバイス製造方法。

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