JPWO2023286724A5

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Publication number: JPWO2023286724A5
Application number: JP2023534786A
Authority: JP
Publication date: 2024-04-08

Description

図６は、複数の露光モジュールＭＵの投影領域の配置例を示している。図６では、露光モジュールＭＵを点線で示し、露光モジュールＭＵがウエハＷＦ上に配線パターンを投影する投影領域ＰＲを実線で示している。

図９（Ａ）に示すように、チップＣ１１と、チップＣ２１～Ｃ２３と、をそれぞれ接続する場合について説明する。より詳細には、チップＣ１１のパッドＰ１１ａと、チップＣ２１が備えるパッドＰ２１と、を接続し、チップＣ１１のパッドＰ１１ｂと、チップＣ２２が備えるパッドＰ２２と、を接続し、チップＣ１１のパッドＰ１１ｃと、チップＣ２３が備えるパッドＰ２３と、を接続する。この場合、データ作成装置３００は、チップＣ１１のパッドＰ１１ａと、チップＣ２１のパッドＰ２１と、が接続される部分配線部ＷＰ１、チップＣ１１のパッドＰ１１ｂと、チップＣ２２のパッドＰ２２と、が接続される部分配線部ＷＰ２、及びチップＣ１１のパッドＰ１１ｃと、チップＣ２３のパッドＰ２３と、が接続される部分配線部ＷＰ３のそれぞれについて配線パターンデータを作成する。

この場合、例えば、後述する描画データ作成部６０２において、ＤＭＤ２０４にマイクロミラー２０４ａを全てＯＦＦ状態にする、または、ＯＮ状態にするように設定したテンプレートデータを用意しておき、部分配線部に対応する部分のデータを書き換えるようにすればよい。この場合、マイクロミラー２０４ａをＯＦＦ状態にするかＯＮ状態にするかを、レシピによって切り替え可能としてもよい。例えば、使用するレジストの種類によって、マイクロミラー２０４ａをＯＦＦ状態にするかＯＮ状態にするかを切り替えられるようにしてもよい。例えば、ポジ型レジストのように、エッチングによって配線部が残るようにレジストを使って露光をする場合には、配線部として残す領域以外の領域に対応するマイクロミラー２０４ａをＯＮ状態にすることが必要であり、一方、ネガ型レジストの場合には配線部として残す領域以外の領域に対応するマイクロミラー２０４ａをＯＦＦ状態とする必要がある。つまり、露光パターンは同じだとしても、ウエハに塗布されたレジストの種類に応じて、ＯＮ／ＯＦＦのデータを変更するようにするとよい。更に、同じレシピにて複数セット処理する場合には、同じ領域のＤＭＤ２０４のみを使用することで各マイクロミラー２０４ａが固着するなどの不具合が発生する可能性がある。その場合は、ＤＭＤ２０４上のパターンを、もともとの位置から例えば１列分、＋Ｙ方向にシフト移動させる。これにより、使用するマイクロミラー２０４ａが変更されるため、不具合が発生しづらくなる。ただし、ＤＭＤ２０４上のパターンが＋Ｙ方向にずれることから、ウエハＷＦ上の投影位置もずれるため、その位置ずれを補完するように、ＤＭＤ２０４を搭載した微動ステージの位置をＹ方向にずらしたり、基板ステージ３０の位置をＹ方向にすらしたり、投影モジュールＰＬＵにより光学的に投影像の位置をＹ方向へずらしたりするとよい。

図１２では、ウエハＷＦ１～ＷＦ２５を１ロットとし、ウエハＷＦ１～ＷＦ１２を含む第１グループ、ウエハＷＦ１３～ＷＦ２４を含む第２グループ、及びウエハＷＦ２５を含む第３グループに分けて露光処理を行う場合について説明する。

この場合、ウエハＷＦ７及びＷＦ８の露光を担当する予定だった露光モジュールＭＵ８及びＭＵ１１は、ウエハＷＦ８及びＷＦ９の露光を担当することになるため、描画データ作成部６０２は、ウエハＷＦ８及びＷＦ９の配線パターンデータに基づいて、露光モジュールＭＵ８及びＭＵ１１それぞれの描画データを作成する。また、ウエハＷＦ９及びＷＦ１０の露光を担当する予定だった露光モジュールＭＵ３及びＭＵ６は、ウエハＷＦ１０及びＷＦ１１の露光を担当することになるため、描画データ作成部６０２は、ウエハＷＦ１０及びＷＦ１１の配線パターンデータに基づいて、露光モジュールＭＵ３及びＭＵ６それぞれの描画データを作成する。また、ウエハＷＦ１１及びＷＦ１２の露光を担当する予定だった露光モジュールＭＵ９及びＭＵ１２は、ウエハＷＦ１２及びＷＦ１３の露光を担当することになるため、描画データ作成部６０２は、ウエハＷＦ１２及びＷＦ１３の配線パターンデータに基づいて、露光モジュールＭＵ９及びＭＵ１２それぞれの描画データを作成する。

また、ケース５では、ウエハＷＦ８の配線パターンデータを露光モジュールＭＵ７に転送し、ウエハＷＦ９の配線パターンデータを露光モジュールＭＵ８に転送し、ウエハＷＦ１０の配線パターンデータを露光モジュールＭＵ９に転送すればよい。さらに、ウエハＷＦ１１の配線パターンデータを露光モジュールＭＵ１０に転送し、ウエハＷＦ１２の配線パターンデータを露光モジュールＭＵ１１に転送し、ウエハＷＦ１３の配線パターンデータを露光モジュールＭＵ１２に転送すればよい。
制御装置６００Ａは、チップ計測ステーションＣＭＳから通知された欠陥ウエハの情報に基づいて、露光装置ＥＸを制御してケース１～５の対応を行う。なお、オペレータは、欠陥ウエハがあった場合に、ケース１～５の対応のうちどの対応をとるかを、例えば露光装置ＥＸの図示しないユーザインタフェース（受付部）を介して、制御装置６００Ａに通知し、制御装置６００Ａはオペレータに指定された対応と、欠陥ウエハの情報とに基づいてケース１～５の対応行うことができる。欠陥ウエハがあった場合の対応は、あらかじめオペレータが指定しておいてもよいし、欠陥ウエハが検出されるごとオペレータが指定してもよい。

（対応３）
欠陥素子を有するＤＭＤ２０４を備える露光モジュールＭＵ（欠陥露光モジュールＭＵと記載する）を使用せずに、別の露光モジュールＭＵ（代替露光モジュールＭＵと記載する）で代替して露光してもよい。この場合、欠陥露光モジュールＭＵが生成する予定のパターン光を代替露光モジュールが生成するよう描画データを変更し、欠陥露光モジュールＭＵによりパターン光が投影される予定の基板に、代替露光モジュールＭＵによりパターン光が投影されるように、基板ホルダＰＨの位置を制御する。

なお、例えば、使用可能な素子（画素）（欠陥がない素子（画素））のみを用いて配線パターンを作成することができる場合には、ＤＭＤ２０４の微動ステージを駆動することで、使用可能な素子のみで作成した配線パターンの像の投影位置をずらして、配線パターンを露光するようにしてもよい。

例えば、図１７（Ａ）に示すように、描画データにおいて、ＤＭＤ２０４の素子のうち一点鎖線で囲まれる素子を用いて配線パターンを作成すると定義されており、配線パターンを作成する素子の中に欠陥素子ＤＰＸＬが存在していたとする。

この場合、図１７（Ｂ）に示すように、配線パターンを作成する素子を１行下にずらすことで、欠陥素子ＤＰＸＬを使用せずに、描画データで定義された配線パターンを作成することができる。この場合、配線パターンの作成に使用する素子を変更し、配線パターンの作成に使用する素子の変更によって生じる投影位置のずれを、ＤＭＤ２０４の微動ステージを駆動することによって補正すればよい。なお、ＤＭＤ２０４の微動ステージの駆動とともに、投影モジュールＰＬＵの光学系を調整してもよい。

なお、このように欠陥素子が存在する場合に、使用可能な素子を用いて配線パターンを作成することをレシピ情報に設定しておいてもよい。また、欠陥素子が存在する場合に、使用可能な素子を用いて配線パターンを作成するか否かを、ＤＭＤ２０４に欠陥素子が検出されたタイミングで、オペレータが選択できるようにしてもよい。

Claims

空間光変調器を備え、前記空間光変調器が生成したパターン光を基板上に投影露光する露光モジュールと、
基板ホルダに配置が予定されている複数の基板に欠陥を有する第１基板が含まれる場合、予め定められた前記第１基板に対する対応方法に基づいて、前記複数の基板から前記基板ホルダ上に配置する複数の基板を決定する決定部と、を備える、露光装置。
前記決定部は、前記基板ホルダ上に配置が予定されている複数の基板を、前記基板ホルダ上に配置する複数の基板として決定し、
前記露光モジュールは、前記第１基板に、前記空間光変調器により生成された欠陥用のパターンを投影する、
請求項１に記載の露光装置。
前記決定部は、前記基板ホルダ上に配置が予定されている複数の基板のうち前記第１基板以外の基板を、前記基板ホルダ上に配置する複数の基板として決定する、
請求項１に記載の露光装置。
前記決定部は、前記基板ホルダ上に配置が予定されている複数の基板のうち前記第１基板以外の基板と、前記基板ホルダ上に配置が予定されている複数の基板以外の第２基板と、を前記基板ホルダ上に配置する複数の基板として決定する、
請求項１に記載の露光装置。
前記第２基板は、前記基板ホルダ上において前記第１基板が配置される予定であった位置に配置される、
請求項４に記載の露光装置。
前記基板ホルダ上において前記第１基板が配置される予定であった位置には、前記基板ホルダ上に配置が予定されている複数の基板のうち前記第１基板とは異なる基板が配置される、
請求項４に記載の露光装置。
前記第１基板に対する対応方法の選択を受け付ける受付部を備える、請求項１から請求項６のいずれか１項記載の露光装置。
前記空間光変調器が描画データに応じた駆動をすることができない欠陥素子を有する場合、前記欠陥素子を有する前記空間光変調器がパターン光を生成しないように前記描画データを変更する、又は、前記欠陥素子を有する前記空間光変調器が生成するパターン光が投影されないように前記露光モジュールを制御する、
請求項１から請求項６のいずれか１項記載の露光装置。
前記露光モジュールは複数設けられ、
前記空間光変調器が描画データに応じた駆動をすることができない欠陥素子を有する場合に、前記欠陥素子を有する前記空間光変調器を備える第１露光モジュールが生成する予定のパターン光を、前記第１露光モジュールとは異なる第２露光モジュールが生成するように前記描画データを変更する変更部と、
前記第１露光モジュールにより前記パターン光が投影される予定の基板に、前記第２露光モジュールが生成する前記パターン光が投影されるように前記基板ホルダの位置を制御する制御部と、
を備える、請求項１から請求項６のいずれか１項記載の露光装置。
前記空間光変調器が描画データに応じた駆動をすることができない欠陥素子を有する場合に、前記空間光変調器が有する複数の素子のうち前記欠陥素子を含まない一部の素子に前記パターン光を生成させるよう前記描画データを変更する変更部と、
前記欠陥素子を有する前記空間光変調器により前記パターン光が投影される予定の基板に、前記一部の素子が生成する前記パターン光が投影されるように前記露光モジュールを制御する制御部と、
を備える、請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の露光装置。
空間光変調器を備え、前記空間光変調器が生成したパターン光を基板上に投影露光する露光モジュールと、
基板ホルダ上に実際に配置する複数の基板それぞれに露光するパターンを前記空間光変調器に生成させるための描画データを作成する作成部と、
を備え、
前記空間光変調器が前記描画データに応じた駆動をすることができない欠陥素子を有する場合、前記欠陥素子を有する前記空間光変調器がパターン光を生成しないように前記描画データを変更する、又は、前記欠陥素子を有する前記空間光変調器が生成するパターン光が投影されないように前記露光モジュールを制御する、
露光装置。
空間光変調器を備え、前記空間光変調器が生成したパターン光を基板上に投影露光する複数の露光モジュールと、
基板ホルダ上に実際に配置する複数の基板それぞれに露光するパターンを前記空間光変調器に生成させるための描画データを作成する作成部と、
前記空間光変調器が前記描画データに応じた駆動をすることができない欠陥素子を有する場合に、前記欠陥素子を有する前記空間光変調器を備える第１露光モジュールが生成する予定のパターン光を、前記第１露光モジュールとは異なる第２露光モジュールが生成するように前記描画データを変更する変更部と、
前記第１露光モジュールにより前記パターン光が投影される予定の第１基板に、前記第２露光モジュールが生成する前記パターン光が投影されるように前記基板ホルダの位置を制御する制御部と、
を備える露光装置。
空間光変調器を備え、前記空間光変調器が生成したパターン光を基板上に投影露光する露光モジュールと、
基板ホルダ上に実際に配置する複数の基板それぞれに露光するパターンを前記空間光変調器に生成させるための描画データを作成する作成部と、
前記空間光変調器が前記描画データに応じた駆動をすることができない欠陥素子を有する場合に、前記空間光変調器が有する複数の素子のうち前記欠陥素子を含まない一部の素子に前記パターン光を生成させるよう前記描画データを変更する変更部と、
前記欠陥素子を有する前記空間光変調器により前記パターン光が投影される予定の第１基板に、前記一部の素子が生成する前記パターン光が投影されるように前記露光モジュールを制御する制御部と、
を備える露光装置。
基板ホルダと、
空間光変調器を備え、前記空間光変調器が生成したパターン光を基板上に投影露光する露光モジュールと、を備え、
前記露光モジュールは、前記基板ホルダ上に配置が予定されている複数の基板に欠陥を有する第１基板が含まれる場合、欠陥用のパターンを前記第１基板に投影露光する、
露光装置。
基板ホルダと、
空間光変調器を備え、前記空間光変調器が生成したパターン光を基板上に投影露光する露光モジュールと、
前記基板ホルダ上に配置が予定されている複数の基板に欠陥を有する基板が含まれる場合、前記複数の基板のうち前記欠陥を有する基板以外の基板を、前記基板ホルダに配置する基板交換部と、を備える、
露光装置。
基板ホルダと、
空間光変調器を備え、前記空間光変調器が生成したパターン光を基板上に投影露光する露光モジュールと、
前記基板ホルダ上に配置が予定されている複数の基板に欠陥を有する基板が含まれる場合、露光処理を継続するか否かを選択させる受付部と、を備える、
露光装置。
空間光変調器を備え、前記空間光変調器が生成したパターン光を基板上に投影露光する露光モジュールと、
基板ホルダに配置が予定されている複数の基板に欠陥を有する第１基板が含まれる場合、予め定められた前記第１基板に対する対応方法に基づいて、前記基板ホルダ上に複数の基板を配置する基板交換部と、を備える、露光装置。