JP7439124B2 - 含フッ素ピラゾール化合物およびその製造方法 - Google Patents

含フッ素ピラゾール化合物およびその製造方法 Download PDF

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Description

本発明は、含フッ素ピラゾール化合物およびその製造方法に関する。
従来から、含フッ素ピラゾール化合物は種々の生物活性を有することが報告されている。なかでも、ピラゾール環の１位に置換基として複素環を有し、ピラゾール環の３位および５位に置換基を有する化合物について、医薬・農薬分野においての使用が有望視されている。
より具体的には、非特許文献１には、１－（２－ピリジル）－ピラゾール構造を有する化合物がアワヨトウやコナガの殺虫活性を有することが報告されている。非特許文献２には、１－（３－ピリジル）－ピラゾール構造を有する化合物がストレス応答キナーゼ（Ｔｒａｎｓｆｏｒｍｉｎｇ ｇｒｏｗｔｈ ｆａｃｔｏｒ ｂｅｔａ－ａｃｔｉｖａｔｅｄ ｋｉｎａｓｅ １（ＴＡＫ１））の阻害活性を有することが報告されている。
従って、生物活性等の有用な活性の向上を期待して、ピラゾール環の１位に複素環の置換基を有し、ピラゾール環の３位および５位に置換基を有し、さらにピラゾール環の４位にトリフルオロメチル基を有する化合物の開発に興味が持たれていた。
Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，２０１９年、５６巻、１３３０～１３３６頁 Ｅｕｒｏｐｅａｎ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、２０１９年、１６３巻、６６０～６７０頁
ピラゾール環の１位に複素環の置換基を有し、３位および５位に置換基を有する化合物について、さらに４位にトリフルオロメチル基を導入するためには、基質の反応性や反応選択性を厳密に制御する必要があり、従来からこのような化合物の製造例は報告されていなかった。このため、１位に複素環の置換基を有し、３位および５位に置換基を有し、さらに４位にトリフルオロメチル基を有する含フッ素ピラゾール化合物に関する更なる開発が待望されていた。
そこで、本発明者らは、特定の原料を反応させることにより、ピラゾール環の１位に複素環構造、４位にトリフルオロメチル基、３位および５位に特定の置換基を導入できることを発見し、本発明を完成させるに至ったものである。すなわち、本発明は、従来から知られていなかった、１位に複素環構造、４位にトリフルオロメチル基、３位および５位に特定の置換基を有する新規な含フッ素ピラゾール化合物、および、該含フッ素ピラゾール化合物を簡易的に製造することが可能な製造方法を提供するものである。
本発明の要旨構成は、以下のとおりである。
［１］下記一般式（１）で表される、含フッ素ピラゾール化合物。
Figure 0007439124000001
 （上記一般式（１）において、Ｒは炭素数１～１２の炭化水素基を表し、環Ｚは窒素、酸素、および硫黄からなる群から選択される少なくとも一種のヘテロ原子を含む芳香族複素環を表す。）
［２］前記環Ｚを構成するπ電子数が６個、１０個または１４個である、上記［１］に記載の含フッ素ピラゾール化合物。
［３］前記環Ｚは、前記ヘテロ原子として少なくとも窒素原子を含み、
前記環Ｚを構成するπ電子数が６個または１０個である、上記［１］または［２］に記載の含フッ素ピラゾール化合物。
［４］下記一般式（２）で表されるフルオロイソブチレン誘導体と、下記一般式（３）で表される化合物またはその塩とを反応させることにより、下記一般式（１）で表される含フッ素ピラゾール化合物を得る工程を有する、含フッ素ピラゾール化合物の製造方法。
Figure 0007439124000002
 （上記一般式（１）～（３）において、
Ｒは炭素数１～１２の炭化水素基を表し、
環Ｚは窒素、酸素、および硫黄からなる群から選択される少なくとも一種のヘテロ原子を含む芳香族複素環を表す。）
［５］下記一般式（４）で表されるフルオロイソブタン誘導体と、下記一般式（３）で表される化合物またはその塩とを反応させることにより、下記一般式（１）で表される含フッ素ピラゾール化合物を得る工程を有する、含フッ素ピラゾール化合物の製造方法。
Figure 0007439124000003
 （上記一般式（１）、（３）および（４）において、
Ｒは炭素数１～１２の炭化水素基を表し、
Ｘはハロゲン原子、－ＯＡ１、－ＳＯｍＡ１（ｍは０～３の整数である）、または－ＮＡ１Ａ２を表し、
Ａ１、Ａ２はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１～１０の炭化水素基を表し、
環Ｚは窒素、酸素、および硫黄からなる群から選択される少なくとも一種のヘテロ原子を含む芳香族複素環を表す。）
［６］前記含フッ素ピラゾール化合物を得る工程は、フッ化物イオン捕捉剤の存在下で行われる、上記［４］または［５］に記載の含フッ素ピラゾール化合物の製造方法。
［７］前記環Ｚを構成するπ電子数が６個、１０個または１４個である、上記［４］から［６］までの何れか１つに記載の含フッ素ピラゾール化合物の製造方法。
［８］前記環Ｚは、前記ヘテロ原子として少なくとも窒素原子を含み、
前記環Ｚを構成するπ電子数が６個または１０個である、上記［４］から［７］までの何れか１つに記載の含フッ素ピラゾール化合物の製造方法。
１位に複素環構造、４位にトリフルオロメチル基、３位および５位に特定の置換基を有する新規な含フッ素ピラゾール化合物、および、該含フッ素ピラゾール化合物を簡易的に製造することが可能な製造方法を提供することができる。
（含フッ素ピラゾール化合物）
本発明の含フッ素ピラゾール化合物は下記一般式（１）で表される。
Figure 0007439124000004
 （上記一般式（１）において、Ｒは炭素数１～１２の炭化水素基を表し、環Ｚは窒素、酸素、および硫黄からなる群から選択される少なくとも一種のヘテロ原子を含む芳香族複素環を表す。）
本発明の含フッ素ピラゾール化合物は、ピラゾール環の１位上に芳香族複素環Ｚの基、ピラゾール環の３位、４位、および５位上に特定の置換基（－ＯＲ、－ＣＦ３、－Ｆ）を有するため、構造拡張性の観点から優れた効果を有することができる。特に、所望の生物活性（例えば、ホルモンや酵素の阻害活性、殺菌活性、殺虫活性、除草活性）を期待できる。特に、殺菌活性としては、人体、イネ等の農作物に有害な作用を及ぼす菌の殺菌活性を挙げることができる。ピラゾール環の１位上に位置する芳香族複素環Ｚはヘテロ原子として窒素、酸素、および硫黄からなる群から選択される少なくとも一種の原子を含み、該環Ｚはさらに置換基を有していても、有していなくてもよい。環Ｚは、ヘテロ原子の数・種類、環の大きさ、環原子数、環Ｚを構成するπ電子数、置換基の数・種類・有無等により、含フッ素ピラゾール化合物に所望の特性を付与することができる。また、ピラゾール環の３位および５位上の置換基は異なる基（－ＯＲと－Ｆ）であるため、これらの基が脱離または反応して非対称な構造へ容易に誘導体化を行うことができ、中間体としての使用も期待することができる。より具体的には、酸性条件下で含フッ素ピラゾール化合物を反応させることにより－ＯＲを修飾して誘導体を得ることができる。また、塩基性条件下で含フッ素ピラゾール化合物を反応させることにより－Ｆを修飾して誘導体を得ることができる。一実施形態の含フッ素ピラゾール化合物は例えば、有機半導体、液晶などの電子材料の分野において有用である。
Ｒは炭素数１～１２の、炭素原子および水素原子からなる炭化水素基であれば特に限定されず、鎖状炭化水素基、芳香族炭化水素基、脂環式炭化水素基などを挙げることができる。鎖状炭化水素基は合計の炭素数が１～１２であれば特に限定されず、分岐した鎖状炭化水素基であっても、分岐していない鎖状炭化水素基であってもよい。芳香族炭化水素基は合計の炭素数が５～１２であれば特に限定されず、置換基を有する芳香族炭化水素基であっても、置換基を有さない芳香族炭化水素基であってもよい。また、芳香族炭化水素基は、縮合多環構造を有していてもよい。脂環式炭化水素基は合計の炭素数が３～１２であれば特に限定されず、置換基を有する脂環式炭化水素基であっても、置換基を有さない脂環式炭化水素基であってもよい。また、脂環式炭化水素基は、橋かけ環構造を有していてもよい。
鎖状炭化水素基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｉ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等のアルキル基；
エテニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基、ウンデセニル基、ドデセニル基等のアルケニル基；
エチニル基、プロピニル基、ブチニル基、ペンチニル基、ヘキシニル基、ヘプチニル基、オクチニル基、ノニニル基、デシニル基、ウンデシニル基、ドデシニル基等のアルキニル基等を挙げることができる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基を挙げることができる。
脂環式炭化水素基としては、飽和又は不飽和の環状の炭化水素基が挙げられ、環状の炭化水素基の例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基等を挙げることができる。
好ましくはＲは、炭素数１～１０のアルキル基であるのがよい。Ｒが炭素数１～１０のアルキル基であることにより、含フッ素ピラゾール化合物の原料である一般式（２）のフルオロイソブチレン誘導体、および一般式（４）のフルオロイソブタン誘導体を容易に調製することができる。
環Ｚは、窒素、酸素、および硫黄からなる群から選択される少なくとも一種のヘテロ原子を含む芳香族複素環を表す。環Ｚは、ヘテロ原子である窒素原子、酸素原子、および硫黄原子のうちの少なくとも一つの原子を環原子として含む芳香族複素環であれば特に限定されない。環Ｚは１種類、２種類、または３種類のヘテロ原子を含む。また、環Ｚは単環構造であっても、縮合環構造であってもよい。
典型的には環Ｚを構成するπ電子数は４ｎ＋２（ｎは正の整数である）であるが、π電子数は６個、１０個または１４個であることが好ましい。環Ｚはヘテロ原子として少なくとも窒素原子を含み、環Ｚを構成するπ電子数が６個または１０個であることがより好ましい。環Ｚが上記のような構成を有することにより、含フッ素ピラゾール化合物の極性や平面性が制御されることで、動態が改善され、より有効な生物活性を付与することができる。
より具体的には、環Ｚから構成される基として、フリル基、チエニル基、ピロリル基、ピリジル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、ベンゾフラニル基、ベンゾチエニル基、インドリル基、イソインドリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、キノリニル基、イソキノリニル基、ナフチリジニル基、ピリドピリミジニル基、ピリドピラジニル基、トリアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、フロピリジル基、フロピリミジニル基、チエノピリジル基、チエノピリジニル基、ピロロピロリル基、クロロトリフルオロメチルピリジル基等を挙げることができる。
これらの基の中でも、環Ｚから構成される基は、２－ベンゾチアゾリル基、２－ピリジル基、３－ピリジル基、３－クロロ－５－トリフルオロメチル－２－ピリジル基であることが好ましい。環Ｚから構成される基中の環原子にはさらに置換基が結合していても、置換基が結合していなくてもよい。環原子に結合する置換基としては例えば、ハロゲン原子、炭素数１～１０の炭化水素基、－ＣｎＦ２ｎ＋１（ｎは１～１０の整数である）、ニトロ基、ボロン酸基、－ＯＡ１、－ＳＯｍＡ１（ｍは０～３の整数である）、－ＮＡ１Ａ２、－ＣＯＯＡ１または－ＣＯＮＡ１Ａ２（Ａ１、Ａ２はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１～１０の炭化水素基を表す）を挙げることができる。
（含フッ素ピラゾール化合物の製造方法）
一実施形態の含フッ素ピラゾール化合物の製造方法は、
（ａ）下記一般式（２）で表されるフルオロイソブチレン誘導体と、下記一般式（３）で表される化合物またはその塩とを反応させることにより、下記一般式（１）で表される含フッ素ピラゾール化合物を得る工程
を有する。
Figure 0007439124000005
 （上記一般式（１）～（３）において、
Ｒは炭素数１～１２の炭化水素基を表し、
環Ｚは窒素、酸素、および硫黄からなる群から選択される少なくとも一種のヘテロ原子を含む芳香族複素環を表す。）
好ましくは、上記（ａ）の含フッ素ピラゾール化合物を得る工程は、フッ化物イオン捕捉剤の存在下で行われるのが好ましい。上記一般式（２）で表されるフルオロイソブチレン誘導体と、上記一般式（３）で表される化合物またはその塩とを、フッ化物イオン捕捉剤の存在下で反応させるのが好ましい。フッ化物イオン捕捉剤はフッ素イオンを捕捉する機能を有する物質であれば特に限定されず、フッ化物イオン捕捉剤としては、リチウム、ナトリウム、マグネシウム、カリウム、カルシウム、テトラメチルアンモニウム、トリフルオロ酢酸、ヘプタフルオロ酪酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ノナフルオロブタンスルホン酸、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、ビス（ノナフルオロブタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ-ヘキサフルオロプロパン-１，３-ジスルホニルイミド、テトラフェニルホウ酸、テトラキス［３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ホウ酸、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸塩を挙げることができる。フッ化物イオン捕捉剤に由来するカチオンは、反応中に一般式（２）で表されるフルオロイソブチレン誘導体から遊離したフッ素イオンを捕捉し、有機溶媒への溶解性の低い塩として析出させることで反応が促進され、高い収率で、上記一般式（１）で表される含フッ素ピラゾール化合物を得ることができるものと考えられる。
上記工程（ａ）の上記一般式（１）および（３）において、環Ｚは単環構造であっても、縮合環構造であってもよい。環Ｚを構成するπ電子数が６個、１０個または１４個であることが好ましく、環Ｚはヘテロ原子として少なくとも窒素原子を含み、環Ｚを構成するπ電子数が６個または１０個であることがより好ましい。また、上記一般式（１）および（２）におけるＲは炭素数１～１０のアルキル基を表すことが好ましい。環Ｚから構成される基中の環原子にはさらに置換基が結合していても、置換基が結合していなくてもよい。環原子に結合する置換基としては例えば、ハロゲン原子、炭素数１～１０の炭化水素基、－ＣｎＦ２ｎ＋１（ｎは１～１０の整数である）、ニトロ基、ボロン酸基、－ＯＡ１、－ＳＯｍＡ１（ｍは０～３の整数である）、－ＮＡ１Ａ２、－ＣＯＯＡ１または－ＣＯＮＡ１Ａ２（Ａ１、Ａ２はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１～１０の炭化水素基を表す）を挙げることができる。
一般式（２）で表されるフルオロイソブチレン誘導体と、一般式（３）で表される化合物との、上記（ａ）の反応は、下記反応式（Ａ）として表される。
Figure 0007439124000006
上記反応式（Ａ）において、一般式（３）の化合物はそれぞれ、塩の形態であってもよい。塩の形態となる場合、一般式（３）の化合物のアミジノ基を構成するアミノ部分（－ＮＨ２）およびイミノ部分（＝ＮＨ）のうち少なくとも一方の部分が、カチオン化され（－ＮＨ３ ＋）および（＝ＮＨ２ ＋）となり、対イオンと塩を形成する形態を挙げることができる。対イオンは１価のアニオンであれば特に限定されず、例えば、Ｆ－、Ｃｌ－、Ｂｒ－、Ｉ－などのハロゲン化物イオンを挙げることができる。
一実施形態の含フッ素ピラゾール化合物の製造方法では例えば、ハロゲン化水素捕捉剤の存在下で上記（ａ）の反応を一段階で行うことができる。このため、簡易的に上記一般式（１）の含フッ素ピラゾール化合物を得ることができる。なお、上記（ａ）の反応では、フルオロイソブチレン誘導体と、一般式（３）の化合物のアミジノ基との間で環状のピラゾール構造が形成される。該ピラゾール構造の１位には、一般式（３）の化合物の環構造Ｚに由来する基が位置する。また、該ピラゾール構造の３位、４位および５位にはそれぞれ、フルオロイソブチレン誘導体に由来する－ＯＲ、ＣＦ３、およびＦが位置する。
ハロゲン化水素捕捉剤は、上記（Ａ）の反応式において一般式（３）の化合物中のアミジノ基に由来する水素原子と、一般式（２）のフルオロイソブチレン誘導体に由来するフッ素原子とから形成されるフッ化水素（ＨＦ）を捕捉する機能を有する物質である。ハロゲン化水素捕捉剤としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウムや、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジアザビシクロノネン、ジアザビシクロウンデセン、メチルトリアザビシクロデセン、ジアザビシクロオクタン、ホスファゼン塩基といった有機窒素誘導体を用いることができる。
上記（ａ）の反応時の反応温度は、０～１００℃が好ましく、５～５０℃がより好ましく、１０～２０℃がさらに好ましい。上記（ａ）の反応時の反応時間は、１～４８時間が好ましく、２～３６時間がより好ましく、４～２４時間がさらに好ましい。
上記（ａ）の反応で使用する溶媒としては、テトラヒドロフラン、モノグライム、ジグライム、トリグライム、テトラグライム、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、メチルピロリドン、ジメチルエチレン尿素、テトラメチル尿素、ジメチルスルホキシド、スルホランといった非プロトン性極性溶媒、または、水といったプロトン性極性溶媒とジクロロメタン、トルエン、ジエチルエーテルといった非水溶性溶媒との二相系溶媒などを挙げることができる。また、上記（ａ）の反応の触媒として、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリドといった第四級アンモニウムハライド、第四級ホスホニウムハライド、クラウンエーテル類などを使用することができる。
他の実施形態の含フッ素ピラゾール化合物の製造方法は、
（ｂ）下記一般式（４）で表されるフルオロイソブタン誘導体と、下記一般式（３）で表される化合物またはその塩とを反応させることにより、下記一般式（１）で表される含フッ素ピラゾール化合物を得る工程
を有する。
Figure 0007439124000007
 （上記一般式（１）、（３）および（４）において、
Ｒは炭素数１～１２の炭化水素基を表し、
Ｘはハロゲン原子、－ＯＡ１、－ＳＯｍＡ１（ｍは０～３の整数である）、または－ＮＡ１Ａ２を表し、
Ａ１、Ａ２はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１～１０の炭化水素基を表し、
環Ｚは窒素、酸素、および硫黄からなる群から選択される少なくとも一種のヘテロ原子を含む芳香族複素環を表す。）
好ましくは、上記（ｂ）の含フッ素ピラゾール化合物を得る工程は、フッ化物イオン捕捉剤の存在下で行われるのが好ましい。上記一般式（４）で表されるフルオロイソブタン誘導体と、上記一般式（３）で表される化合物またはその塩とを、フッ化物イオン捕捉剤の存在下で反応させるのが好ましい。フッ化物イオン捕捉剤はフッ素イオンを捕捉する機能を有する物質であれば特に限定されず、フッ化物イオン捕捉剤としては、リチウム、ナトリウム、マグネシウム、カリウム、カルシウム、テトラメチルアンモニウム、トリフルオロ酢酸、ヘプタフルオロ酪酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ノナフルオロブタンスルホン酸、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、ビス（ノナフルオロブタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ-ヘキサフルオロプロパン-１，３-ジスルホニルイミド、テトラフェニルホウ酸、テトラキス［３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ホウ酸、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸塩を挙げることができる。フッ化物イオン捕捉剤に由来するカチオンは、反応中に一般式（４）で表されるフルオロイソブタン誘導体から遊離したフッ素イオンを捕捉し、有機溶媒への溶解性の低い塩として析出させることで反応が促進され、高い収率で、上記一般式（１）で表される含フッ素ピラゾール化合物を得ることができるものと考えられる。
上記工程（ｂ）の一般式（１）および（３）において、環Ｚは単環構造であっても、縮合環構造であってもよい。環Ｚを構成するπ電子数が６個、１０個または１４個であることが好ましく、環Ｚはヘテロ原子として少なくとも窒素原子を含み、環Ｚを構成するπ電子数が６個または１０個であることがより好ましい。また、上記一般式（１）および（４）におけるＲは炭素数１～１０のアルキル基を表すことが好ましい。環Ｚから構成される基中の環原子にはさらに置換基が結合していても、置換基が結合していなくてもよい。環原子に結合する置換基としては例えば、ハロゲン原子、炭素数１～１０の炭化水素基、－ＣｎＦ２ｎ＋１（ｎは１～１０の整数である）、ニトロ基、ボロン酸基、－ＯＡ１、－ＳＯｍＡ１（ｍは０～３の整数である）、－ＮＡ１Ａ２、－ＣＯＯＡ１または－ＣＯＮＡ１Ａ２（Ａ１、Ａ２はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１～１０の炭化水素基を表す）を挙げることができる。
一般式（４）で表されるフルオロイソブタン誘導体と、一般式（３）で表される化合物との、上記（ｂ）の反応は、下記反応式（Ｂ）として表される。
Figure 0007439124000008
上記反応式（Ｂ）において、一般式（３）の化合物はそれぞれ、塩の形態であってもよい。塩の形態となる場合、一般式（３）の化合物のアミジノ基を構成するアミノ部分（－ＮＨ２）およびイミノ部分（＝ＮＨ）のうち少なくとも一方の部分が、カチオン化され（－ＮＨ３ ＋）および（＝ＮＨ２ ＋）となり、対イオンと塩を形成する形態を挙げることができる。対イオンは１価のアニオンであれば特に限定されず、例えば、Ｆ－、Ｃｌ－、Ｂｒ－、Ｉ－などのハロゲン化物イオンを挙げることができる。
Ｘであるハロゲン原子としては、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉを挙げることができる。Ｘである－ＯＡ１、－ＳＯｍＡ１（ｍは０～３の整数である）に含まれるＡ１は水素原子または炭素数１～１０の炭化水素基を表す。Ｘである－ＮＡ１Ａ２に含まれるＡ１、Ａ２はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１～１０の炭化水素基を表す。Ａ１、Ａ２が炭素数１～１０の炭化水素基を表す場合、例えば、上記Ｒの中で炭素数が１～１０の炭化水素基とすることができる。
他の実施形態の含フッ素ピラゾール化合物の製造方法では例えば、上記（Ｂ）の反応を一段階で行うことができる。このため、簡易的に上記一般式（１）の含フッ素ピラゾール化合物を得ることができる。なお、上記（ｂ）の反応では、フルオロイソブタン誘導体（４）と、一般式（３）の化合物のアミジノ基との間で環状のピラゾール構造が形成される。該ピラゾール構造の１位には、一般式（３）の化合物の環構造Ｚに由来する基が位置する。また、該ピラゾール構造の３位、４位および５位にはそれぞれ、フルオロイソブタン誘導体に由来する－ＯＲ、ＣＦ３、およびＦが位置する。
上記（ｂ）の反応時の反応温度は、０～１００℃が好ましく、５～５０℃がより好ましく、１０～２０℃がさらに好ましい。上記（ｂ）の反応時の反応時間は、１～４８時間が好ましく、２～３６時間がより好ましく、４～２４時間がさらに好ましい。上記（ｂ）の反応では、上記（ａ）と同様のハロゲン化水素捕捉剤を使用できる。
上記（ｂ）の反応で使用する溶媒としては、テトラヒドロフラン、モノグライム、ジグライム、トリグライム、テトラグライム、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、メチルピロリドン、ジメチルエチレン尿素、テトラメチル尿素、ジメチルスルホキシド、スルホランといった非プロトン性極性溶媒、または、水といったプロトン性極性溶媒とジクロロメタン、トルエン、ジエチルエーテルといった非水溶性溶媒との二相系溶媒などを挙げることができる。また、上記（ｂ）の反応の触媒として、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリドといった第四級アンモニウムハライド、第四級ホスホニウムハライド、クラウンエーテル類などを使用することができる。
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の概念および請求の範囲に含まれるあらゆる態様を含み、本発明の範囲内で種々に改変することができる。
次に、本発明の効果をさらに明確にするために、実施例について説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
（実施例１）
５－フルオロ－３－メトキシ－１－（２－ベンゾチアゾリル）－４-トリフルオロメチルピラゾールの製造
氷水冷下、ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）１００ｇに、２－ヒドラジノベンズチアゾール５ｇ（３０ｍｍｏｌ）、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドカリウム２９ｇ（９１ｍｍｏｌ）、および１，３，３，３－テトラフルオロ－１－メトキシ－２－トリフルオロメチル－１－プロペン８．３ｇ（３９ｍｍｏｌ）を加えてＴＨＦ溶液１を得た。続いて、上記ＴＨＦ溶液１中に、内温が１０℃を越えないようにして、ターシャリーブチルイミノトリピロリジノホスホラン３７ｇ（１２０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液２を６０ｇ、滴下した。ＴＨＦ溶液１と２の混合溶液を室温まで昇温したまま約７２時間、保持することで５－フルオロ－３－メトキシ－１－（２－ベンゾチアゾリル）－４-トリフルオロメチルピラゾールを製造した。その後、ヘキサン－酢酸エチル＝７：３（体積比）の混合溶媒を用いたシリカゲルのカラム精製により、下記式（Ｃ）で表される５－フルオロ－３－メトキシ－１－（２－ベンゾチアゾリル）－４-トリフルオロメチルピラゾール（分子量３１７．２６）を９５０ｍｇ、単離した。５－フルオロ－３－メトキシ－１－（２－ベンゾチアゾリル）－４-トリフルオロメチルピラゾールの単離収率は１０％であった。
Figure 0007439124000009
得られた目的物の分析結果は、下記の通りであった。
マススペクトル（ＡＰＣｌ、ｍ／ｚ）：３１７（［Ｍ］＋）
１Ｈ－ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３） δｐｐｍ：７．９７（ｄ，１Ｈ）、７．８４（ｄ，１Ｈ）、７．５１（ｄｔ，１Ｈ）、７．４０（ｄｔ，１Ｈ）、４．０７（ｓ，３Ｈ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、Ｃ６Ｆ６） δｐｐｍ：－５８．９（ｄ，３Ｆ）、－１１４．２（ｄｄ，１Ｆ）
（実施例２）
５－フルオロ－３－メトキシ－１－（２－ピリジル）－４－トリフルオロメチルピラゾールの製造
氷水冷下、ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）１００ｇに、２－ヒドラジノピリジン５ｇ（４６ｍｍｏｌ）、１，３，３，３－テトラフルオロ－１－メトキシ－２－トリフルオロメチル－１－プロペン１３ｇ（６０ｍｍｏｌ）を加えてＴＨＦ溶液１を得た。続いて、上記ＴＨＦ溶液１中に、内温が１０℃を越えないようにして、ジアザビシクロウンデセン２７ｇ（１８０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液２を４０ｇ、滴下した。ＴＨＦ溶液１と２の混合溶液を室温まで昇温したまま約７２時間、保持することで５－フルオロ－３－メトキシ－１－（２－ピリジル）－４－トリフルオロメチルピラゾールを製造した。その後、ヘキサン－酢酸エチル＝７：３（体積比）の混合溶媒を用いたシリカゲルのカラム精製により、下記式（Ｄ）で表される５－フルオロ－３－メトキシ－１－（２－ピリジル）－４－トリフルオロメチルピラゾール（分子量２６１．１８）を３６０ｍｇ、単離した。５－フルオロ－３－メトキシ－１－（２－ピリジル）－４－トリフルオロメチルピラゾールの単離収率は３％であった。
Figure 0007439124000010
得られた目的物の分析結果は、下記の通りであった。
マススペクトル（ＡＰＣｌ、ｍ／ｚ）：２６１（［Ｍ］＋）
１Ｈ－ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３） δｐｐｍ：８．３２（ｄ，１Ｈ）、７．６７（ｄｔ，１Ｈ）、７．５０（ｄ，１Ｈ）、７．０９（ｍ，１Ｈ）、３．８６（ｓ，３Ｈ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、Ｃ６Ｆ６） δｐｐｍ：－５８．１（ｄ，３Ｆ）、－１１５．７（ｄｄ，１Ｆ）
（実施例３）
５－フルオロ－３－メトキシ－１－（３－ピリジル）－４－トリフルオロメチルピラゾールの製造
氷水冷下、ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）１００ｇに、３－ヒドラジノピリジン塩酸塩５ｇ（３４ｍｍｏｌ）、１，３，３，３－テトラフルオロ－１－メトキシ－２－トリフルオロメチル－１－プロペン９．５ｇ（４５ｍｍｏｌ）を加えてＴＨＦ溶液１を得た。続いて、上記ＴＨＦ溶液１中に、内温が１０℃を越えないようにして、ジアザビシクロウンデセン２７ｇ（１８０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液２を４０ｇ、滴下した。ＴＨＦ溶液１と２の混合溶液を室温まで昇温したまま約７２時間、保持することで５－フルオロ－３－メトキシ－１－（３－ピリジル）－４－トリフルオロメチルピラゾールを製造した。その後、ヘキサン－酢酸エチル＝７：３（体積比）の混合溶媒を用いたシリカゲルのカラム精製により、下記式（Ｅ）で表される５－フルオロ－３－メトキシ－１－（３－ピリジル）－４－トリフルオロメチルピラゾール（分子量２６１．１８）を６２１ｍｇ、単離した。５－フルオロ－３－メトキシ－１－（３－ピリジル）－４－トリフルオロメチルピラゾールの単離収率は７％であった。
Figure 0007439124000011
得られた目的物の分析結果は、下記の通りであった。
マススペクトル（ＡＰＣｌ、ｍ／ｚ）：２６１（［Ｍ］＋）
１Ｈ－ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３） δｐｐｍ：８．９２（ｓ，１Ｈ）、８．６１（ｄ，１Ｈ）、７．９３（ｍ，１Ｈ）、７．４４（ｍ，１Ｈ）、４．０２（ｓ，３Ｈ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、Ｃ６Ｆ６） δｐｐｍ：－５８．５（ｄ，３Ｆ）、－１１９．７（ｄｄ，１Ｆ）
（実施例４）
実施例１の１，３，３，３－テトラフルオロ－１－メトキシ－２－（トリフルオロメチル）－１－プロペンの代わりに、１，１，１，３，３－ペンタフルオロ－３－メトキシ－２－（トリフルオロメチル）－プロパンを使用した、５－フルオロ－３－メトキシ－１－（２－ベンゾチアゾリル）－４－トリフルオロメチルピラゾールの製造
氷水冷下、ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）１００ｇに、２－ヒドラジノベンズチアゾール５ｇ（３０ｍｍｏｌ）、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドカリウム３９ｇ（１２０ｍｍｏｌ）、および１，１，１，３，３－ペンタフルオロ－３－メトキシ－２－（トリフルオロメチル）－プロパン９．１ｇ（３９ｍｍｏｌ）を加えてＴＨＦ溶液１を得た。続いて、上記ＴＨＦ溶液１中に、内温が１０℃を越えないようにして、ターシャリーブチルイミノトリピロリジノホスホラン４９ｇ（１６０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液２を８０ｇ、滴下した。ＴＨＦ溶液１と２の混合溶液を室温まで昇温したまま約７２時間、保持した。得られた化合物の分析結果は、実施例１の生成物と同様であった。
（実施例５）
実施例２の１，３，３，３－テトラフルオロ－１－メトキシ－２－（トリフルオロメチル）－１－プロペンの代わりに、１，１，１，３，３－ペンタフルオロ－３－メトキシ－２－（トリフルオロメチル）－プロパンを使用した、５－フルオロ－３－メトキシ－１－（２－ピリジル）－４－トリフルオロメチルピラゾールの製造
氷水冷下、ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）１００ｇに、２－ヒドラジノピリジン５ｇ（４６ｍｍｏｌ）、１，１，１，３，３－ペンタフルオロ－３－メトキシ－２－（トリフルオロメチル）－プロパン１４ｇ（６０ｍｍｏｌ）を加えてＴＨＦ溶液１を得た。続いて、上記ＴＨＦ溶液１中に、内温が１０℃を越えないようにして、ジアザビシクロウンデセン３６ｇ（２４０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液２を８０ｇ、滴下した。ＴＨＦ溶液１と２の混合溶液を室温まで昇温したまま約７２時間、保持した。得られた化合物の分析結果は、実施例２の生成物と同様であった。
（実施例６）
実施例３の１，３，３，３－テトラフルオロ－１－メトキシ－２－（トリフルオロメチル）－１－プロペンの代わりに、１，１，１，３，３－ペンタフルオロ－３－メトキシ－２－（トリフルオロメチル）－プロパンを使用した、５－フルオロ－３－メトキシ－１－（３－ピリジル）－４－トリフルオロメチルピラゾールの製造
氷水冷下、ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）１００ｇに、３－ヒドラジノピリジン塩酸塩５ｇ（３４ｍｍｏｌ）、１，１，１，３，３－ペンタフルオロ－３－メトキシ－２－（トリフルオロメチル）－プロパン１０ｇ（４５ｍｍｏｌ）を加えてＴＨＦ溶液１を得た。続いて、上記ＴＨＦ溶液１中に、内温が１０℃を越えないようにして、ジアザビシクロウンデセン３４ｇ（２２０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液２を６０ｇ、滴下した。ＴＨＦ溶液１と２の混合溶液を室温まで昇温したまま約７２時間、保持した。得られた化合物の分析結果は、実施例３の生成物と同様であった。
（実施例７）
１－（３－クロロ－５－トリフルオロメチル－２－ピリジル）－５－フルオロ－３－メトキシ－４－トリフルオロメチルピラゾールの製造
テトラヒドロフラン１５ｍｌに３－クロロ－２－ヒドラジニル－５－（トリフルオロメチル）ピリジン０．５ｇ（２．４ｍｍｏｌ）を溶解させた溶液中に、カリウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド２．３ｇ（７．２ｍｍｏｌ）、１，３，３，３－テトラフルオロ－１－メトキシ－２－トリフルオロメチル－１－プロペン０．６ｇ（２．８ｍｍｏｌ）と１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン１．１ｇ（７．２ｍｍｏｌ）を加え室温で１７．６時間攪拌して反応液を得た。この後、反応液をカラム精製し、下記式（Ｆ）で示される１－（３－クロロ－５－トリフルオロメチル－２－ピリジル）－５－フルオロ－３－メトキシ－４－トリフルオロメチルピラゾール（分子量：３６３．６２）を０．１ｇ（０．２ｍｍｏｌ）得た。１－（３－クロロ－５－トリフルオロメチル－２－ピリジル）－５－フルオロ－３－メトキシ－４－トリフルオロメチルピラゾールの単離収率は２８．０％であった。
Figure 0007439124000012
得られた目的物の分析結果は、下記の通りであった。
マススペクトル（ＡＰＣＩ、ｍ／ｚ）：３６３．６（［Ｍ］＋）
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３） δｐｐｍ：８．７８（ｄｄ，Ｊ＝２．２，１．１Ｈｚ，１Ｈ），８．２０（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，１Ｈ），４．０１（ｓ，３Ｈ）
（試験例）
・イネいもち病に対する評価試験
実施例２で作製した５－フルオロ－３－メトキシ－１－（２－ピリジル）－４－トリフルオロメチルピラゾールをアセトンに溶かし、１００，０００ｐｐｍの５－フルオロ－３－メトキシ－１－（２－ピリジル）－４－トリフルオロメチルピラゾールを含有するアセトン溶液を調製した。このアセトン溶液１ｍｌに滅菌水を加えて５０ｍｌとし、２０００ｐｐｍ被験液を調製した。２０００ｐｐｍ被験液を、別途作製したオートミール培地に１０００μｌ滴下処理した後、風乾させた。続いて、８ｍｍのイネいもち病ディスクを、菌叢がオートミール培地の処理面に接するように設置した。その後、オートミール培地を２５℃の恒温室に７日間静置した後、菌糸の伸長長さを調査した。下記式に従って算出した防除価は８０であり、実施例２で作製した５-フルオロ－３－メトキシ－１－（２－ピリジル）－４－トリフルオロメチルピラゾールは優れた殺菌活性を有することを確認できた。
防除価＝｛（無処理の菌糸伸長長さ平均－処理済の菌糸伸長長さ平均）／無処理の菌糸伸長長さ平均 ｝×１００。
なお、上記式において「無処理」とは、被験液として滅菌水のみを培地に滴下処理したことを表す。
「処理済」とは、設定濃度に希釈調整処理を行った被験液を培地に滴下処理したことを表す。

Claims (8)

  1. 下記一般式（１）で表される、含フッ素ピラゾール化合物。
    Figure 0007439124000013
     （上記一般式（１）において、Ｒは炭素数１～１２の炭化水素基を表し、環Ｚは窒素、酸素、および硫黄からなる群から選択される少なくとも一種のヘテロ原子を含み、縮合環構造である、芳香族複素環を表す。）
  2. 前記環Ｚを構成するπ電子数が１０個または１４個である、請求項１に記載の含フッ素ピラゾール化合物。
  3. 前記環Ｚは、前記ヘテロ原子として少なくとも窒素原子を含み、
    前記環Ｚを構成するπ電子数が１０個である、請求項１または２に記載の含フッ素ピラゾール化合物。
  4. 下記一般式（２）で表されるフルオロイソブチレン誘導体と、下記一般式（３）で表される化合物またはその塩とを反応させることにより、下記一般式（１）で表される含フッ素ピラゾール化合物を得る工程を有する、含フッ素ピラゾール化合物の製造方法。
    Figure 0007439124000014
     （上記一般式（１）～（３）において、
    Ｒは炭素数１～１２の炭化水素基を表し、
    環Ｚは窒素、酸素、および硫黄からなる群から選択される少なくとも一種のヘテロ原子を含み、縮合環構造である、芳香族複素環を表す。）
  5. 下記一般式（４）で表されるフルオロイソブタン誘導体と、下記一般式（３）で表される化合物またはその塩とを反応させることにより、下記一般式（１）で表される含フッ素ピラゾール化合物を得る工程を有する、含フッ素ピラゾール化合物の製造方法。
    Figure 0007439124000015
     （上記一般式（１）、（３）および（４）において、
    Ｒは炭素数１～１２の炭化水素基を表し、
    Ｘはハロゲン原子、－ＯＡ１、－ＳＯｍＡ１（ｍは０～３の整数である）、または－ＮＡ１Ａ２を表し、
    Ａ１、Ａ２はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１～１０の炭化水素基を表し、
    環Ｚは窒素、酸素、および硫黄からなる群から選択される少なくとも一種のヘテロ原子を含み、縮合環構造である、芳香族複素環を表す。）
  6. 前記含フッ素ピラゾール化合物を得る工程は、フッ化物イオン捕捉剤の存在下で行われる、請求項４または５に記載の含フッ素ピラゾール化合物の製造方法。
  7. 前記環Ｚを構成するπ電子数が１０個または１４個である、請求項４から６までの何れか１項に記載の含フッ素ピラゾール化合物の製造方法。
  8. 前記環Ｚは、前記ヘテロ原子として少なくとも窒素原子を含み、
    前記環Ｚを構成するπ電子数が１０個である、請求項４から７までの何れか１項に記載の含フッ素ピラゾール化合物の製造方法。
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