JP7434830B2 - 光学材料用樹脂組成物、光学フィルム及び画像表示装置 - Google Patents
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Description
上記光学フィルムには、従来からセルロースアセテートフィルムが用いられていたが、セルロースアセテートフィルムは吸湿性が高く、高湿下での性能変化や耐久性に課題があった。そこでセルロースアセテートフィルムの代わりに低吸湿性の環状オレフィン樹脂(シクロオレフィンポリマー,COP)フィルムの利用が進んでいる。
延伸時の応力を低下させるために、樹脂のガラス転移温度よりも著しく高温で延伸を行い、低Rth化を目指す手法があるが、その場合、フィルムの物性が悪化するという課題があった。
特許文献2のポリエステル系添加剤を環状オレフィン樹脂フィルムに添加することで、得られるフィルムの低Rth化の傾向はみられるが、Rth低減効果は十分ではなかった。また、例えばタッチパネルのベースフィルムでは、その製造過程で高温処理が必要とされるために高い耐熱性(高いガラス転移温度)が求められるが、多量の添加剤を配合した環状オレフィン樹脂はガラス転移温度が大きく低下してしまい、耐熱性が損なわれてしまう問題があった。
本願明細書において「(メタ)アクリル酸」とは、アクリル酸とメタクリル酸の一方又は両方をいう。
本発明の光学材料用樹脂組成物は、環状オレフィン樹脂とスチレン-アクリル共重合体を含み、前記スチレン-アクリル共重合体が下記式(1)で表される繰り返し単位と下記式(2)で表される繰り返し単位を含む共重合体である。
R1は、それぞれ独立に、水酸基、カルボキシル基、炭素原子数1~6のアルキル基又は炭素原子数1~6のアルコキシ基である。
nは0~5の整数である。
R2は、水素原子又はメチル基である。
前記式(2)中、
R3は、置換もしくは無置換の脂環式炭化水素基である。
R4は、水素原子又はメチル基である。)
本発明の光学材料用樹脂組成物では、スチレン-アクリル共重合体であって、置換もしくは無置換の脂環式炭化水素基を有する(メタ)アクリレートモノマーに由来する繰り返し単位を有するスチレン-アクリル共重合体を用いる。
(環状オレフィン樹脂(A))
環状オレフィン樹脂(A)は、主鎖が炭素-炭素結合からなり、主鎖の少なくとも一部に環状炭化水素構造を有する高分子化合物であって、ノルボルネン、テトラシクロドデセン等の環状炭化水素構造中に少なくとも1つの重合性炭素-炭素不飽和結合を有する化合物(環状オレフィン)に由来する構造単位を有する高分子化合物である。
環状オレフィン樹脂(A)の構造は、特に制限はなく、鎖状、分岐状及び架橋状のいずれでもよいが、好ましくは直鎖状である。
ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン(慣用名:ノルボルネン)、5-メチル-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン、5,5-ジメチル-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン、5-エチル-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン、5-ブチル-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン、5-エチリデン-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン、5-ヘキシル-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン、5-オクチル-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン、5-オクタデシル-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン、5-メチリデン-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン、5-ビニル-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン、5-プロペニル-ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン等の2環の環状オレフィン;
これらの環状オレフィンは、それぞれ1種単独で又は2種以上組み合わせて用いることができる。
これらのα-オレフィンは、それぞれ1種単独又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
これらのα-オレフィンの使用量は、例えば、前記環状オレフィンに対して、5~200mol%の範囲である。
環状オレフィン樹脂(A)が極性基を有することにより、アクリル樹脂フィルムやセルロースエステル樹脂フィルム等の他のフィルムと本発明の光学フィルムとが接着層を介して積層した積層フィルムを製造する際に、前記接着層との密着性が良好な光学フィルムが得られる。
測定装置:東ソー株式会社製高速GPC装置「HLC-8320GPC」
カラム:東ソー株式会社製「TSK GURDCOLUMN SuperHZ-L」+東ソー株式会社製「TSK gel SuperHZM-M」+東ソー株式会社製「TSK gel SuperHZM-M」+東ソー株式会社製「TSK gel SuperHZ-2000」+東ソー株式会社製「TSK gel SuperHZ-2000」
検出器:RI(示差屈折計)
データ処理:東ソー株式会社製「EcoSEC Data Analysis バージョン1.07」
カラム温度:40℃
展開溶媒:テトラヒドロフラン
流速:0.35mL/分
測定試料:試料7.5mgを10mlのテトラヒドロフランに溶解し、得られた溶液をマイクロフィルターでろ過したものを測定試料とした。
試料注入量:20μl
標準試料:前記「HLC-8320GPC」の測定マニュアルに準拠して、分子量が既知の下記の単分散ポリスチレンを用いた。
東ソー株式会社製「A-300」
東ソー株式会社製「A-500」
東ソー株式会社製「A-1000」
東ソー株式会社製「A-2500」
東ソー株式会社製「A-5000」
東ソー株式会社製「F-1」
東ソー株式会社製「F-2」
東ソー株式会社製「F-4」
東ソー株式会社製「F-10」
東ソー株式会社製「F-20」
東ソー株式会社製「F-40」
東ソー株式会社製「F-80」
東ソー株式会社製「F-128」
東ソー株式会社製「F-288」
スチレン-アクリル共重合体(B)は、下記式(1)で表される繰り返し単位と下記式(2)で表される繰り返し単位とを含む共重合体である。
(前記式(1)中、
R1は、それぞれ独立に、水酸基、カルボキシル基、炭素原子数1~6のアルキル基又は炭素原子数1~6のアルコキシ基である。
nは0~5の整数である。
R2は、水素原子又はメチル基である。
前記式(2)中、
R3は、置換もしくは無置換の脂環式炭化水素基である。
R4は、水素原子又はメチル基である。)
R1の炭素原子数1~6のアルコキシ基としては、t-ブトキシ基、プロポキシ基、エトキシ基、メトキシ基等が挙げられる。
nは0であると好ましい。nが1以上の整数である場合は、R1は水酸基又は炭素数1~6のアルキル基であると好ましい。
R3の脂環式炭化水素基としては、シクロヘキシル基、イソボルニル基、ジシクロペンタニル基、アダマンチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基等が挙げられ、シクロヘキシル基、イソボルニル基、ジシクロペンタニル基及びアダマンチル基が好ましい。
R3の置換もしくは無置換の脂環式炭化水素基は、好ましくは無置換の脂環式炭化水素基又は炭素原子数1~6のアルキル基で置換された脂環式炭化水素基である。
スチレン-アクリル共重合体(B)の前記式(1)で表される繰り返し単位と前記式(2)で表される繰り返し単位のモル比は、後述する反応原料の仕込み比より調整することができる。
前記前記式(1)で表される繰り返し単位及び前記式(2)で表される繰り返し単位以外の繰り返し単位としては、ビニル安息香酸誘導体に由来する繰り返し単位、下記式(3)で表される繰り返し単位等が挙げられる。
スチレン-アクリル共重合体(B)の数平均分子量を上記範囲とすることで、環状オレフィン樹脂(A)に対する相溶性を確保することができる。
ここで「反応原料」とは、スチレン-アクリル共重合体(B)を構成する原料を意味し、例えばスチレン-アクリル共重合体を製造する際に用いる触媒、溶媒等のスチレン-アクリル共重合体(B)を構成しない成分は含まれない意味である。
前記その他モノマーとしては、例えばアルキル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、パラビニル安息香酸、N-シクロヘキシルマレイミド、N-フェニルマレイミド等が挙げられる。反応原料である前記その他モノマーは1種単独でもよく2種以上を併用してもよい。
前記開始剤としては、例えば、アゾビスイソブチルニトリル等のアゾ化合物;ベンゾイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート等の有機過酸化物等が用いられる。90℃以上の高温下で重合をする場合には、溶液重合が一般的であるので、10時間半減期温度が80℃以上でかつ用いる有機溶媒に可溶である過酸化物、アゾビス開始剤等が好ましく、具体的には1,1-ビス(t-ブチルパーオキシ)3,3,5-トリメチルシクロヘキサン、シクロヘキサンパーオキシド、2,5-ジメチル-2,5-ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、1,1-アゾビス(1-シクロヘキサンカルボニトリル)、2-(カルバモイルアゾ)イソブチロニトリル等を挙げることができる。これらの開始剤は通常0.005~5質量%の範囲で用いられる。
前記分子量調節剤は、一般的なラジカル重合において用いる任意のものが使用され、例えば、ブチルメルカプタン、オクチルメルカプタン、ドデシルメルカプタン、チオグリコール酸2-エチルヘキシル等のメルカプタン化合物が好ましいものとして挙げられる。これらの分子量調節剤は、分子量が上記の範囲内に制御されるような濃度範囲で添加するとよい。
また、スチレン-アクリル共重合体(B)の数平均分子量は、開始剤と連鎖移動剤の種類及び使用量、並びに反応温度を調整することにより制御できる。
本発明の光学材料用樹脂組成物は、環状オレフィン樹脂(A)と、スチレン-アクリル共重合体(B)を含めばよく、これら成分以外のその他成分(任意の樹脂成分及び任意の添加剤)をさらに含んでもよい。
本発明の光学材料用樹脂組成物は、本質的に環状オレフィン樹脂(A)、スチレン-アクリル共重合体(B)、並びに溶剤からなってもよい。この場合、不可避不純物を含んでもよい。
また、本発明の光学材料用樹脂組成物は、環状オレフィン樹脂(A)、スチレン-アクリル共重合体(B)、並びに溶剤のみからなってもよい。
本発明の光学フィルムは、本発明の光学材料用樹脂組成物を用いて得られる。
本発明の光学フィルムは、高い透明性と負の位相差の両方を示すことができる。また、本発明の光学材料用樹脂組成物を用いることで、例えば、製造途中の乾燥工程及びアニール工程の加熱によるフィルム収縮等も防ぐことができ、本発明の光学フィルムは耐熱性にも優れる。
Re =(nx-ny)×d
Rth=((nx+ny)/2)-nz)×d
(式中、nxは、光学フィルム面内において屈折率が最大となる方向をxとした場合のx方向の主屈折率である。
nyは、光学フィルム面内においてx方向に垂直な方向をyとした場合のy方向の主屈折率である。
nzは、光学フィルムの厚み方向の主屈折率である。
dは、光学フィルムの厚み(nm)である。)
本発明の光学フィルムは、本質的に環状オレフィン樹脂(A)及びスチレン-アクリル共重合体(B)からなってもよい。この場合、不可避不純物を含んでもよい。
また、本発明の光学フィルムは、環状オレフィン樹脂(A)及びスチレン-アクリル共重合体(B)のみからなってもよい。
本発明の光学フィルムは、例えば、本発明の光学材料用樹脂組成物を用いて、押し出し成形、キャスト成形等の方法により未延伸フィルムを製造し、当該未延伸フィルムを延伸することにより得られる。
溶液流延法で得られる未延伸フィルムは、実質的に光学等方性を示す。前記光学等方性を示すフィルムは、例えば液晶ディスプレイ等の光学材料に使用することができ、中でも偏光板用保護フィルムに有用である。また、前記方法によって得られたフィルムは、その表面に凹凸が形成されにくく、表面平滑性に優れる。
また、得られた未延伸フィルムをロール延伸とテンター延伸の逐次2軸延伸法、テンター延伸による同時2軸延伸法、又はチューブラー延伸による2軸延伸法等によって二軸延伸することによっても本発明の光学フィルムを得ることができる。
温度計、攪拌機、及び還流冷却器を付した内容量0.5Lの四つ口フラスコに、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)を134g加え、窒素バブリングを行ってフラスコ内を窒素置換しながら110℃まで昇温した。昇温後、スチレン78g、イソボルニルメタクリレート(IBXMA、三菱ケミカル社製)56g、重合開始剤としてパーブチルO(日油株式会社製)2.5g、パーヘキサC(日油株式会社製)2.5g及びルペロックス575(アルケマ吉冨社製)2.5gとを混合した溶液を4時間かけて滴下した。滴下後、110℃で4時間ほど反応を継続した。反応終了後、減圧処理を施すことでPGMEを除去し、常温白色固体であるスチレン-アクリル樹脂B-1を得た。
得られたスチレン-アクリル樹脂B-1の数平均分子量(Mn)を前記方法により評価したところ6,000であった。
温度計、攪拌機、及び還流冷却器を付した内容量0.5Lの四つ口フラスコに、溶媒としてPGMEを134g加え、窒素バブリングを行ってフラスコ内を窒素置換しながら110℃まで昇温した。昇温後、スチレン78g、ジシクロペンタニルメタクリレート(DCPMA、日立化成社製)55g、重合開始剤としてパーブチルO2.5g、パーヘキサC2.5g及びルペロックス575 2.5gとを混合した溶液を4時間かけて滴下した。滴下後、110℃で4時間ほど反応を継続した。反応終了後、減圧処理を施すことでPGMEを除去し、常温白色固体であるスチレン-アクリル樹脂B-2を得た。
得られたスチレン-アクリル樹脂B-2について合成例1と同様にして数平均分子量(Mn)を評価したところ6,400であった。
温度計、攪拌機、及び還流冷却器を付した内容量0.5Lの四つ口フラスコに、溶媒として酢酸ブチルを132g加え、窒素バブリングを行ってフラスコ内を窒素置換しながら110℃まで昇温した。昇温後、スチレン73g、DCPMA55g、メタクリル酸4g、重合開始剤としてパーブチルO2.4g、パーヘキサC2.4g及びルペロックス575 2.4gとを混合した溶液を4時間かけて滴下した。滴下後、110℃で4時間ほど反応を継続した。反応終了後、減圧処理を施すことで酢酸ブチルを除去し、常温白色固体であるスチレン-アクリル樹脂B-3を得た。
得られたスチレン-アクリル樹脂B-3について合成例1と同様にして数平均分子量(Mn)を評価したところ6,900であった。
温度計、攪拌機、及び還流冷却器を付した内容量0.5Lの四つ口フラスコに、溶媒として酢酸ブチルを132g加え、窒素バブリングを行ってフラスコ内を窒素置換しながら110℃まで昇温した。昇温後、スチレン73g、DCPMA55g、2-ヒドロキシエチルメタクリレート7g、重合開始剤としてパーブチルO2.4g、パーヘキサC2.4g及びルペロックス575 2.4gとを混合した溶液を4時間かけて滴下した。滴下後、110℃で4時間ほど反応を継続した。反応終了後、減圧処理を施すことで酢酸ブチルを除去し、常温白色固体であるスチレン-アクリル樹脂B-4を得た。
得られたスチレン-アクリル樹脂B-4について合成例1と同様にして数平均分子量(Mn)を評価したところ6,700であった。
温度計、攪拌機、及び還流冷却器を付した内容量0.5Lの四つ口フラスコに、溶媒として酢酸ブチルを132g加え、窒素バブリングを行ってフラスコ内を窒素置換しながら110℃まで昇温した。昇温後、スチレン78g、DCPMA49g、パラビニル安息香酸4g、重合開始剤としてパーブチルO2.4g、パーヘキサC2.4g及びルペロックス575 2.4gとを混合した溶液を4時間かけて滴下した。滴下後、110℃で4時間ほど反応を継続した。反応終了後、減圧処理を施すことで酢酸ブチルを除去し、常温白色固体であるスチレン-アクリル樹脂B-5を得た。
得られたスチレン-アクリル樹脂B-5について合成例1と同様にして数平均分子量(Mn)を評価したところ6,600であった。
温度計、攪拌機、及び還流冷却器を付した内容量0.5Lの四つ口フラスコに、溶媒として酢酸ブチルを132g加え、窒素バブリングを行ってフラスコ内を窒素置換しながら110℃まで昇温した。昇温後、スチレン5.1g、1-アダマンチルメタクリレート(ADMA;大阪有機化学工業社製)38g、重合開始剤としてパーブチルO1.1g、パーヘキサC1.1g及びルペロックス575 1.1gとを混合した溶液を4時間かけて滴下した。滴下後、110℃で4時間ほど反応を継続した。反応終了後、減圧処理を施すことで酢酸ブチルを除去し、常温白色固体であるスチレン-アクリル樹脂B-6を得た。
得られたスチレン-アクリル樹脂B-6について合成例1と同様にして数平均分子量(Mn)を評価したところ2,500であった。
温度計、攪拌機、及び還流冷却器を付した内容量0.5Lの四つ口フラスコに、溶媒として酢酸ブチルを132g加え、窒素バブリングを行ってフラスコ内を窒素置換しながら110℃まで昇温した。昇温後、スチレン99g、パラ-t-ブトキシスチレン(PTBST;北興化学工業社製)8g、DCPMA10g、重合開始剤としてパーブチルO2.1g、パーヘキサC2.1g及びルペロックス575 2.1gとを混合した溶液を4時間かけて滴下した。滴下後、110℃で4時間ほど反応を継続した。反応終了後、減圧処理を施すことで酢酸ブチルを除去し、常温白色固体であるスチレン-アクリル樹脂B-7を得た。
得られたスチレン-アクリル樹脂B-7について合成例1と同様にして数平均分子量(Mn)を評価したところ6,200であった。
温度計、攪拌機及び還流冷却器を付した内容量0.5Lの四つ口フラスコに、溶媒として酢酸ブチルを110g加え、窒素バブリングを行ってフラスコ内を窒素置換しながら110℃まで昇温した。昇温後、スチレン68g、メタクリル酸メチル17g、メタクリル酸2-ヒドロキシエチル21g、重合開始剤としてパーブチルO2.1g、パーヘキサC2.1g及びルペロックス575 2.1gを混合した溶液を4時間かけてフラスコ内に滴下した。滴下後、110℃で4時間ほど反応を継続した。反応終了後、減圧処理を施すことで酢酸ブチルを除去し、常温白色固体であるスチレン-アクリル樹脂B-8を得た。
得られたスチレン-アクリル樹脂B-8について合成例1と同様にして数平均分子量(Mn)を評価したところ5,900であった。
温度計、攪拌機、及び還流冷却器を付した内容量0.5Lの四つ口フラスコに、溶媒として酢酸ブチルを122g加え、窒素バブリングを行ってフラスコ内を窒素置換しながら110℃まで昇温した。昇温後、スチレン78g、ベンジルメタクリレート51g、重合開始剤としてパーブチルO2.3g、パーヘキサC2.3g及びルペロックス575 2.3gとを混合した溶液を4時間かけて滴下した。滴下後、110℃で4時間ほど反応を継続した。反応終了後、減圧処理を施すことで酢酸ブチルを除去し、常温白色固体であるスチレン-アクリル樹脂B-9を得た。
得られたスチレン-アクリル樹脂B-9について合成例1と同様にして数平均分子量(Mn)を評価したところ6,700であった。
温度計、攪拌器、及び還流冷却器を付した内容積3リットルの四つ口フラスコに、アジピン酸を526g、プロピレングリコールを648g、安息香酸を977g、エステル化触媒としてテトライソプロピルチタネートを0.130gを仕込み、窒素気流下で攪拌しながら、220℃になるまで段階的に昇温し、合計19時間縮合反応させた。反応後に未反応のプロピレングリコールを減圧除去することで、常温高粘度液体であるエステル化合物(C-1)を得た。
得られたエステル化合物C-1について合成例1と同様にして数平均分子量(Mn)を評価したところ470であった。
また得られたエステル化合物C-1について、酸価及び水酸基価をJIS K 0070-1992に準じた方法で評価したところ、酸価は0.2、水酸基価は10であった。
市販の環状オレフィン樹脂であるシクロオレフィン樹脂A(株式会社JSR製のノルボルネン樹脂:F5023)を100質量部及び合成例1で製造したスチレン-アクリル樹脂B-1を5質量部に、メチレンクロライド390質量部及びメタノール10質量部を加えて溶解し、ドープ液を得た。
得られたドープ液をガラス板上に流延し、溶媒を留去する(乾燥する)ことで膜厚約80μmのフィルムを得た。得られた未延伸フィルムの透明性及び耐熱性を下記の方法に従って評価した。結果を表1に示す。
得られたフィルムを打ち抜き機で打ち抜いて40mm角の試験片とし、この試験片についてHAZEメーターNDH-5000(日本電色工業製)にて、HAZE値の測定を行った。
尚、HAZE値は小さいほど、透明性に優れることを示す。
(未延伸フィルムの耐熱性)
得られたフィルムについて、示差走査熱量計(DSC)装置(株式会社パーキンエルマー製)により測定したチャートから、中点法にてガラス転移温度を評価した。当該ガラス転移温度の測定は、昇温速度を10℃/分、測定温度範囲を23℃(室温)~220℃の条件で行った。
未延伸フィルムを打ち抜き機で打ち抜いて幅20mm及び長さ25mmの試験片とし、熱延伸機(ユニオプト株式会社製)を用いて、下記条件にて自由端一軸延伸を行い、延伸温度が異なる3つの評価試験片を製造した。尚、製造時に延伸フィルムにかかった応力も別途、熱延伸機に備え付けのソフトから読み取った。
倍率:1.3倍
速度:100%/min
温度:未延伸フィルムのTgを基準にし、Tg(℃)、Tg+5(℃)及びTg+10(℃)の3点
製造した3つの評価試験片について、それぞれ23℃かつ相対湿度55%で1時間以上静置し、複屈折測定装置(KOBRA-WR,王子計測器(株)製)を用いて波長590nmにおける面内位相差(Re値)および面外位相差(Rth値)を測定した。
3つの評価試験片の評価結果について、横軸に延伸終了時に延伸フィルムにかかった応力、縦軸に面内位相差(Re値)又は面外位相差(Rth値)を取って評価結果をプロットした。3つのプロットの2点間をそれぞれ直線で結んで、延伸終了時において延伸フィルムにかかる応力値が6MPaとなるときの面内位相差(Re値)および面外位相差(Rth値)を読み取り、延伸フィルムの面内位相差(Re値)および面外位相差(Rth値)とした。
得られた延伸フィルムをHAZEメーターNDH-5000(日本電色工業製)にて、HAZE値の測定を行った。
尚、HAZE値は小さいほど、透明性に優れることを示す。
シクロオレフィン樹脂Aと、合成例で製造したスチレン-アクリル樹脂又はポリエステル樹脂を表1-3に示す配合割合で配合し、実施例1と同様にしてフィルム及び延伸フィルムを製造し評価した。結果を表1-3に示す。
シクロオレフィン樹脂Aと、合成例で製造したスチレン-アクリル樹脂又はポリエステル樹脂を表4-5に示す配合割合で配合し、実施例1と同様にして未延伸フィルムを製造し評価した。結果を表4-5に示す。
また、製造した未延伸フィルムを下記条件で二軸延伸をして延伸フィルムを製造した。得られた延伸フィルムを23℃かつ相対湿度55%で1時間以上静置し、複屈折測定装置(KOBRA-WR,王子計測器(株)製)を用いて波長590nmにおける面内位相差(Re値)および面外位相差(Rth値)を測定した。結果を表4-5に示す。
未延伸フィルムを50mm四方型に切り抜き、二軸熱延伸機(井元製作所製)を用いて、下記条件にて同時二軸延伸を行った。
倍率:縦横ともに1.3倍
速度:縦横ともに100%/min
温度:未延伸フィルムのTg+5(℃)
Claims (9)
- 環状オレフィン樹脂とスチレン-アクリル共重合体を含む光学材料用樹脂組成物であって、
前記スチレン-アクリル共重合体が下記式(1)で表される繰り返し単位と下記式(2)で表される繰り返し単位とを含む共重合体であって、数平均分子量が1,000~10,000の範囲にある共重合体であり、
前記スチレン-アクリル共重合体の含有量が、前記環状オレフィン樹脂100質量部に対して1~30質量部である光学材料用樹脂組成物。
R1は、それぞれ独立に、水酸基、カルボキシル基、炭素原子数1~6のアルキル基又は炭素原子数1~6のアルコキシ基である。
nは0~5の整数である。
R2は、水素原子又はメチル基である。
前記式(2)中、
R3は、置換もしくは無置換の脂環式炭化水素基である。
R4は、水素原子又はメチル基である。) - 前記R3の脂環式炭化水素基が、シクロヘキシル基、イソボルニル基、ジシクロペンタニル基又はアダマンチル基である請求項1記載の光学材料用樹脂組成物。
- 前記スチレン-アクリル共重合体における前記式(1)で表される繰り返し単位と前記式(2)で表される繰り返し単位のモル比(式(1)/式(2))が、15/85~85/15である請求項1記載の光学材料用樹脂組成物。
- 前記スチレン-アクリル共重合体において、前記式(1)で表される繰り返し単位及び前記式(2)で表される繰り返し単位が、前記スチレン-アクリル共重合体を構成する全構造単位の90モル%以上である請求項1記載の光学材料用樹脂組成物。
- 前記環状オレフィン樹脂が極性基を有する請求項1記載の光学材料用樹脂組成物。
- 請求項1~5のいずれか1項記載の光学材料用樹脂組成物を含有する光学フィルム。
- 偏光板保護用である請求項6記載の光学フィルム。
- タッチパネルセンサー用である請求項6記載の光学フィルム。
- 請求項6~8のいずれかに記載の光学フィルムを備える画像表示装置。
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