JP7428733B2 - 平面ガラスを製造する装置および方法 - Google Patents
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Description
本発明では、ファイヤポリッシュされた少なくとも2つの表面を備えた平面ガラスを製造する方法において、熱間成形ゾーンが設けられており、熱間成形ゾーン内でガラス帯材のガラスが、ガラスの加工温度Vaを有する温度領域を通走するようにし、ガラス帯材のガラスがその加工温度Vaを有する領域と、ガラスがその転移温度Tgを有する領域と、の間のガス空間を熱的に分離するための遮蔽体が設けられており、遮蔽体は、ガラス帯材を通して移動させることができる開口を形成している。当該方法は、遮蔽体を高温のガラス帯材に、少なくとも2つの面における少なくとも各1つの点において接触させることを特徴とする。
前記方法の説明において説明した、装置の特徴に反映される特徴は、それらを以下で再度説明しなくとも、好適には装置の特徴をも成すものである。当該装置は、特に本発明による方法を実施しかつ本発明による平面ガラスを製造するために適しておりかつ規定されている。
以下に説明する、ガラスの材料特性である特徴は、当該方法の最終製品としての平面ガラスだけでなく、当該方法において初期材料として用いられるガラスにも当てはまる。当該平面ガラスは、好適には本発明による方法により製造可能でありかつ/または製造されている。
-少なくとも20重量%および最高85重量%のSiO2、
-少なくとも3重量%のアルカリ金属酸化物、
-最高5重量%のAl2O3、
-最高15重量%のB2O3、
および/または
-最高3重量%のZrO2を有している。
例1(比較例)
リドロー装置において、寸法が1650mm×340mm×14mmの、重フリントガラス(NSF6)から成る平面ガラスプリフォームが、300μmの中間領域厚さにリドローされる。ガラスは次の組成を有している。すなわち:25重量%のSiO2、10重量%のNa2O、10重量%のK2O、10重量%のCaO、10重量%のBaO、25重量%のTiO2、1重量%のZrO2、5重量%のNb2O5。
プリフォーム接触無しの炉遮蔽体
リドロー装置において、寸法が1650mm×340mm×14mmの、重フリントガラス(NSF6)から成る平面ガラスプリフォームが、300μmの中間領域厚さにリドローされる。ガラスは次の組成を有している。すなわち:25重量%のSiO2、10重量%のNa2O、10重量%のK2O、10重量%のCaO、10重量%のBaO、25重量%のTiO2、1重量%のZrO2、5重量%のNb2O5。
プリフォーム接触ありの炉遮蔽体
リドロー装置において、寸法が1650mm×340mm×14mmの、重フリントガラス(NSF6)から成る平面ガラスプリフォームが、300μmの中間領域厚さにリドローされる。ガラスは次の組成を有している。すなわち:25重量%のSiO2、10重量%のNa2O、10重量%のK2O、10重量%のCaO、10重量%のBaO、25重量%のTiO2、1重量%のZrO2、5重量%のNb2O5。
プリフォーム接触ありの炉遮蔽体、円筒形の遮蔽部材
リドロー装置において、寸法が1650mm×340mm×14mmの、重フリントガラス(NSF6)から成る平面ガラスプリフォームが、300μmの中間領域厚さにリドローされる。ガラスは次の組成を有している。すなわち:25重量%のSiO2、10重量%のNa2O、10重量%のK2O、10重量%のCaO、10重量%のBaO、25重量%のTiO2、1重量%のZrO2、5重量%のNb2O5。
プリフォーム接触ありの炉遮蔽体
リドロー装置において、寸法が1650mm×340mm×14mmの、ホウケイ酸ガラス(ボロフロート)から成る平面ガラスプリフォームが、170μmの中間領域厚さにリドローされる。ガラスは次の組成を有している。すなわち:80重量%のSiO2、12.5重量%のB2O3、4重量%のNa2O、0.5重量%のK2O、2重量%のAl2O3。
プリフォーム接触ありの炉遮蔽体
リドロー装置において、寸法が800mm×200mm×14mmの、青色ガラス(BG66)から成る平面ガラスプリフォームが、110μmの中間領域厚さにリドローされる。
プリフォーム接触ありの炉遮蔽体
リドロー装置において、寸法が1650mm×400mm×8mmの、ソーダ石灰フロートガラスから成る平面ガラスプリフォームが、200μmの中間領域厚さにリドローされる。ガラスは次の組成を有している。すなわち:71.7重量%のSiO2、1.2重量%のAl2O3、0.2重量%のFe2O3、0.1重量%のTiO2、0.4重量%のSO3、6.7重量%のCaO、4.2重量%のMgO、15重量%のNa2O、0.4重量%のK2O。
プリフォーム接触ありの炉遮蔽体
リドロー装置において、寸法が800mm×200mm×14mmの、青色ガラス(BG56)から成る平面ガラスプリフォームが、110μmの中間領域厚さにリドローされる。ガラスは次の組成を有している。すなわち:68重量%のP2O5、7重量%のAl2O3、1重量%のLi2O、5重量%のNa2O、6重量%のK2O、4重量%のMgO、2重量%のLa2O3、6重量%のCuO、1重量%のV2O5。
温度の四分位数間範囲が小さくなるにつれて、TTV値の中央値も低くなる、ということが判った。つまり、最小限の空隙間隔を実現することが、特に有利である。使用した光学ガラスは、817℃の加工点Va(粘度104dPas)および681℃の軟化点EW(107.6dPas)を有している。使用したボロフロートガラスは、1270℃の加工点Va(粘度104dPas)および820℃の軟化点EW(107.6dPas)を有している。
2 遮蔽体
3 接触部分
4 空隙
5 基底板
6 熱間成形ゾーン
7 覆い板
8 熱電対
9 円筒形の遮蔽部材
10 支持体
11 円筒形の遮蔽部材の接触部分
Claims (14)
- 平面ガラスにおいて、
ファイヤポリッシュされた少なくとも2つの表面および0.01-3×10-5×(1/K)×(Va-EW)+2.8×10-8×(1/K2)×(Va-EW)2未満の相対的なTTVを有しており、前記Vaは加工温度であり、前記EWは軟化点であり、
前記平面ガラスは、0.5mm未満の厚さを有し、最高5重量%のAl2O3を有し、最大6nmの最大断面高さRtを有する、
平面ガラス。 - 前記平面ガラスは、10から1000mm、少なくとも50mm、少なくとも100mmまたは少なくとも200mmの幅を有する、
請求項1記載の平面ガラス。 - 前記相対的なTTVは、0.01未満、0.009未満、0.007未満または0.005未満である、
請求項1または2記載の平面ガラス。 - 前記相対的なTTVは、0.01未満であり、
EWとVaの間隔は、500K未満、450K未満または150K未満である、
請求項1から3までのいずれか1項記載の平面ガラス。 - 前記平面ガラスは、最大5nm、最大3nmまたは最大1nmの二乗平均平方根粗さ(Rq)と、最大4nmまたは最大2nmの最大断面高さRtと、を有する、
請求項1から4までのいずれか1項記載の平面ガラス。 - 前記平面ガラスは、ケイ酸塩ガラス、リン酸塩ガラス、ホウ酸塩ガラス、ゲルマネートガラス、カルコゲナイドガラス、アルカリケイ酸塩ガラス、アルカリ土類ケイ酸塩ガラス、アルミノケイ酸塩ガラス、チタンケイ酸塩ガラス、ランタンホウ酸塩ガラス、フルオロリン酸塩ガラス、重フリントガラス、色ガラスおよびホウケイ酸ガラスを含む群から選択されている、
請求項1から5までのいずれか1項記載の平面ガラス。 - 前記平面ガラスは、
-少なくとも20重量%および最高85重量%のSiO2、
-少なくとも3重量%のアルカリ金属酸化物、
-最高15重量%のB2O3、
および/または
-最高3重量%のZrO2を有している、
請求項1から6までのいずれか1項記載の平面ガラス。 - 前記平面ガラスは、1000ppm未満、500ppm未満または100ppm未満のPb、Cd、NiおよびAsを含む、
請求項1から11までのいずれか1項記載の平面ガラス。 - 前記平面ガラスは、ガラス帯材、ガラス板またはガラスウェハとして設計されている、
請求項1から12までのいずれか1項記載の平面ガラス。 - 請求項1から13までのいずれか1項記載の平面ガラスを含むガラス物品であって、
前記ガラス物品は、炉遮蔽体、OLEDカバー、光学フィルタおよび光学構成素子を含む群から選択されている、
ガラス物品。
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