JP7411544B2 - 樹脂材料及び多層プリント配線板 - Google Patents
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Description
A:前記熱硬化性化合物の熱硬化性官能基を除く構造部分が有するCH3末端の個数
B:前記熱硬化性化合物が有する熱硬化性官能基の個数
C:前記熱硬化性化合物の熱硬化性官能基を除く構造部分が有する炭素原子の個数
A:上記第1の熱硬化性化合物の熱硬化性官能基を除く構造部分が有するCH3末端の個数
B:上記第1の熱硬化性化合物が有する熱硬化性官能基の個数
C:上記第1の熱硬化性化合物の熱硬化性官能基を除く構造部分が有する炭素原子の個数
本発明に係る樹脂材料は、上記第1の熱硬化性化合物を含む。上記第1の熱硬化性化合物は、熱硬化性官能基を除く構造部分において、芳香族環を有さない熱硬化性化合物である。上記第1の熱硬化性化合物は、熱硬化性官能基を除く構造部分において、2個以上のCH3末端を有する熱硬化性化合物である。上記第1の熱硬化性化合物は、上記式(X)を満足する熱硬化性化合物である。上記第1の熱硬化性化合物は熱硬化性官能基を除く構造部分において芳香族環を有さないため、絶縁層の弾性率を良好にすることができ、硬化物の反りを効果的に抑えることができる。また、上記第1の熱硬化性化合物は上記(X)を満足するため、ベーキング時間を効果的に短くすることができ、また、硬化物の誘電正接を低くすることができる。上記第1の熱硬化性化合物は、硬化剤でなくてもよい。上記第1の熱硬化性化合物は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
A:第1の熱硬化性化合物の熱硬化性官能基を除く構造部分が有するCH3末端の個数
B:第1の熱硬化性化合物が有する熱硬化性官能基の個数
C:第1の熱硬化性化合物の熱硬化性官能基を除く構造部分が有する炭素原子の個数
上記第1の熱硬化性化合物は、ケイ素原子を有していてもよく、ケイ素原子を有していなくてもよい。上記第1の熱硬化性化合物は、ケイ素原子を有さないことが好ましい。
上記樹脂材料は、上記第2の熱硬化性化合物を含むことが好ましい。上記第2の熱硬化性化合物は、熱硬化性官能基を除く構造部分において、芳香族環を有する熱硬化性化合物であってもよい。上記第2の熱硬化性化合物は、熱硬化性官能基を除く構造部分において、CH3末端を有さないか、又は1個のCH3末端を有する熱硬化性化合物であってもよい。上記第2の熱硬化性化合物は、上記式(X)を満足しない熱硬化性化合物であってもよい。上記第2の熱硬化性化合物は、下記式(Y1)を満足する熱硬化性化合物であってもよく、下記式(Y2)を満足する熱硬化性化合物であってもよい。上記第2の熱硬化性化合物は、硬化剤でなくてもよい。上記第2の熱硬化性化合物は、硬化剤であってもよい。上記第2の熱硬化性化合物は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
A’/(B’×C’)>0.6 ・・・式(Y2)
B’:第2の熱硬化性化合物が有する熱硬化性官能基の個数
C’:第2の熱硬化性化合物の熱硬化性官能基を除く構造部分が有する炭素原子の個数
上記エポキシ化合物として、従来公知のエポキシ化合物を使用可能である。上記エポキシ化合物は、少なくとも1個のエポキシ基を有する有機化合物である。上記エポキシ化合物は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
上記マレイミド化合物として、従来公知のマレイミド化合物を用いることができる。上記マレイミド化合物は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
上記ビニル化合物として、従来公知のビニル化合物を使用可能である。上記ビニル化合物は、少なくとも1個のビニル基を有する有機化合物である。上記ビニル化合物は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
上記フェノール化合物としては、ノボラック型フェノール、ビフェノール型フェノール、ナフタレン型フェノール、ジシクロペンタジエン型フェノール、アラルキル型フェノール及びジシクロペンタジエン型フェノール等が挙げられる。
上記活性エステル化合物とは、構造体中にエステル結合を少なくとも1つ含み、かつ、エステル結合の両側に脂肪族鎖、脂肪族環又は芳香族環が結合している化合物をいう。活性エステル化合物は、例えばカルボン酸化合物又はチオカルボン酸化合物と、ヒドロキシ化合物又はチオール化合物との縮合反応によって得られる。活性エステル化合物の例としては、下記式(1)で表される化合物が挙げられる。
上記シアネートエステル化合物としては、ノボラック型シアネートエステル樹脂、ビスフェノール型シアネートエステル樹脂、並びにこれらが一部三量化されたプレポリマー等が挙げられる。上記ノボラック型シアネートエステル樹脂としては、フェノールノボラック型シアネートエステル樹脂及びアルキルフェノール型シアネートエステル樹脂等が挙げられる。上記ビスフェノール型シアネートエステル樹脂としては、ビスフェノールA型シアネートエステル樹脂、ビスフェノールE型シアネートエステル樹脂及びテトラメチルビスフェノールF型シアネートエステル樹脂等が挙げられる。
上記ベンゾオキサジン化合物としては、P-d型ベンゾオキサジン、及びF-a型ベンゾオキサジン等が挙げられる。
上記カルボジイミド化合物は、下記式(2)で表される構造単位を有する化合物である。下記式(2)において、右端部及び左端部は、他の基との結合部位である。上記カルボジイミド化合物は1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
上記酸無水物としては、テトラヒドロフタル酸無水物、及びアルキルスチレン-無水マレイン酸共重合体等が挙げられる。
上記樹脂材料は、無機充填材を含む。上記無機充填材の使用により、硬化物の誘電正接をより一層低くすることができる。また、上記無機充填材の使用により、硬化物の熱による寸法変化がより一層小さくなる。上記無機充填材は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
上記樹脂材料は、硬化促進剤を含むことが好ましい。上記硬化促進剤の使用により、硬化速度がより一層速くなる。樹脂材料を速やかに硬化させることで、硬化物における架橋構造が均一になると共に、未反応の官能基数が減り、結果的に架橋密度が高くなる。上記硬化促進剤は特に限定されず、従来公知の硬化促進剤を使用可能である。上記硬化促進剤は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
上記樹脂材料は、熱可塑性樹脂を含むことが好ましい。上記熱可塑性樹脂としては、ポリビニルアセタール樹脂、ポリイミド樹脂及びフェノキシ樹脂等が挙げられる。上記熱可塑性樹脂は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
上記樹脂材料は、溶剤を含まないか又は含む。上記溶剤の使用により、樹脂材料の粘度を好適な範囲に制御でき、樹脂材料の塗工性を高めることができる。また、上記溶剤は、上記無機充填材を含むスラリーを得るために用いられてもよい。上記溶剤は1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
耐衝撃性、耐熱性、樹脂の相溶性及び作業性等の改善を目的として、上記樹脂材料は、レベリング剤、難燃剤、カップリング剤、着色剤、酸化防止剤、紫外線劣化防止剤、消泡剤、増粘剤、及び揺変性付与剤等を含んでいてもよい。
上述した樹脂組成物をフィルム状に成形することにより樹脂フィルム(Bステージ化物/Bステージフィルム)が得られる。上記樹脂材料は、樹脂フィルムであることが好ましい。樹脂フィルムは、Bステージフィルムであることが好ましい。
上記樹脂材料は、半導体装置において半導体チップを埋め込むモールド樹脂を形成するために好適に用いられる。
上記樹脂材料は、粗化処理又はデスミア処理される硬化物を得るために用いられることが好ましい。上記硬化物には、更に硬化が可能な予備硬化物も含まれる。
上記樹脂材料を予備硬化させることにより得られた硬化物に、貫通孔が形成されることがある。上記多層基板などでは、貫通孔として、ビア又はスルーホール等が形成される。例えば、ビアは、CO2レーザー等のレーザーの照射により形成できる。ビアの直径は特に限定されないが、60μm~80μm程度である。上記貫通孔の形成により、ビア内の底部には、硬化物に含まれている樹脂成分に由来する樹脂の残渣であるスミアが形成されることが多い。
熱硬化性化合物X1:
高級脂肪酸である日産化学社製「ファインオキソコールイソステアリン酸」を用意した。
高級脂肪酸である日産化学社製「ファインオキソコールイソステアリン酸N」を用意した。ファインオキソコールイソステアリン酸の代わりに、ファインオキソコールイソステアリン酸Nを用いたこと以外は、熱硬化性化合物X1の合成方法と同様にして、グリシジルエステル化合物である熱硬化性化合物X2を得た。
反応フラスコに、3,5,5-トリメリルへキシルアルコール30重量部、アリルブロミド45重量部、水素化ナトリウム20重量部及びテトラヒドロフラン500重量部を加え、70℃で30時間撹拌し反応させた。得られた反応液を水で洗浄、抽出した後、溶媒を留去した。得られた残渣を、シリカゲルクロマトグラフィーで精製した。反応フラスコに、精製して得られた化合物30重量部とクロロホルム400重量部とを加えた。得られた溶液に3-クロロ過安息香酸50重量部を撹拌しながら加え、室温で4日間撹拌し反応させた。得られた反応液に、10質量%チオ硫酸ナトリウム水溶液300重量部を加え、5質量%重曹水溶液及び水で有機層を洗浄した後、溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、グリシジルエーテル化合物である熱硬化性化合物X3を得た。
高級脂肪酸である日産化学社製「ファインオキソコールイソステアリン酸T」を用意した。ファインオキソコールイソステアリン酸の代わりに、ファインオキソコールイソステアリン酸Tを用いたこと以外は、熱硬化性化合物X1の合成方法と同様にして、グリシジルエステル化合物である熱硬化性化合物X4を得た。
エポキシ化合物(グリシジルエーテル化合物)である日産化学社製「FOLDI E201」を熱硬化性化合物X5として用いた。
エポキシ化合物(2-エチルヘキシルグリシジルエーテル)であるナガセケムテックス社製「EX-121」を熱硬化性化合物X6として用いた。
滴下ロート、撹拌機、温度計、窒素同入管及び水酸化ナトリウム水溶液トラップを備えた反応容器に、マレイミド酢酸20重量部とトルエン200重量部とを添加し、攪拌しながら、室温にて塩化チオニル50重量部を滴下した。滴下終了後、反応混合物を攪拌しながら50℃で5時間加熱した。反応混合物を減圧留去し、マレイミド酢酸クロライドを得た。マレイミド酢酸クロライド30重量部、ファインオキソコール180(日産化学工業社製)42重量部、パラメトキシフェノール0.2重量部、トルエン450重量部を反応容器に入れ、100℃に加熱しながら2時間攪拌した。ピリジン10重量部を30分かけて滴下し、2時間攪拌した。反応混合物からトルエンを減圧留去し、残渣を酢酸エチル/トルエン混合溶剤に溶解し、再結晶化させたのちに溶剤を除去し、マレイミド化合物である熱硬化性化合物X7を得た。
熱硬化性化合物Y1:
3,5,5-トリメリルへキシルアルコールの代わりに、3,5-ジ-ターシャリーブチルベンジルアルコールを用いたこと以外は、熱硬化性化合物X3の合成方法と同様にして、グリシジルエーテル化合物である熱硬化性化合物Y1を得た。
エポキシ化合物である三菱ケミカル社製「YX8034」を熱硬化性化合物Y2として用いた。
エポキシ化合物である三菱ケミカル社製「JER871」を熱硬化性化合物Y3として用いた。
ビフェニル型エポキシ化合物である日本化薬社製「NC-3000」を熱硬化性化合物Y4として用いた。
エポキシ化合物である大阪ガスケミカル社製「オグソールPG-100」を熱硬化性化合物Y5として用いた。
活性エステル化合物であるDIC社製「HPC-8900-70BK」(活性エステル化合物含有液、固形分70重量%)を熱硬化性化合物Y6含有液として用いた。
フェノール化合物含有液であるDIC社製「LA-1356」(フェノール化合物含有液、固形分60重量%)を熱硬化性化合物Y7含有液として用いた。
活性エステル化合物であるDIC社製「HPC-8150-62T」(活性エステル化合物含有液、固形分62重量%)を熱硬化性化合物Y8含有液として用いた。
窒素気流下で、三つ口フラスコに1-ナフトール14.4g、テトラヒドロフラン(THF)350g及びトリエチルアミン12.1gを加え、均一になるまで撹拌した。次いで、三つ口フラスコを氷浴下で冷却しながら、イソフタロイルクロリド9.1gをゆっくりと滴下した。滴下後、常温(23℃)で1時間撹拌し、反応を進行させた。反応後、反応液に酢酸エチルを加え、1mol/Lの硝酸水溶液で洗浄後、水でさらに洗浄した。洗浄後の有機層を、無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、溶液を減圧留去することにより、活性エステル化合物である熱硬化性化合物Y9を得た。
攪拌器、還流冷却器、ディーンスタークの水分離器を備えた容器を用いて、無水トリメリット酸クロリド21.1重量部をN-メチル-2-ピロリドン200重量部に溶解させた。得られた溶液に2-ナフトール14.4重量部を添加し、更にトリエチルアミン10.1重量部を添加し、25℃で4時間撹拌して反応させた。得られた反応液に、2-メチル-4,6-ジエチル-1,3-フェニレンジアミンと2,4-ジエチル-6-メチル-1,3-フェニレンジアミンとの混合物8.9重量部を添加し、25℃で4時間撹拌して反応させた。得られた溶液に、トルエン200重量部を添加した後、150℃で水が発生しなくなるまで、4時間還流を行った。反応終了後、得られた溶液から、エバポレーターを用いてトルエンを除去した溶液を純水800重量部に適下し、析出物を濾別した後、真空乾燥を行い、活性エステル化合物である熱硬化性化合物Y10を得た。
攪拌器、還流冷却器、ディーンスタークの水分離器を備えた容器を用いて、無水トリメリット酸クロリド21.1重量部をN-メチル-2-ピロリドン200重量部に溶解させた。得られた溶液に2-ナフトール14.4重量部を添加し、さらにトリエチルアミン10.1重量部を添加し、25℃で4時間撹拌して反応させた。得られた反応液に、1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン14.6重量部を添加し、25℃で4時間撹拌して反応させた。得られた溶液に、トルエン200重量部を添加した後、150℃で水が発生しなくなるまで、4時間還流を行った。反応終了後、得られた溶液から、エバポレーターを用いてトルエンを除去した溶液を純水800重量部に適下し、析出物を濾別した後、真空乾燥を行い、活性エステル化合物である熱硬化性化合物Y11を得た。熱硬化性化合物Y11の当量は、446であった。
シリカ含有スラリー(シリカ75重量%:アドマテックス社製「SC4050-HOA」、平均粒径1.0μm、アミノシラン処理、シクロヘキサノン25重量%)
ジメチルアミノピリジン(和光純薬工業社製「DMAP」)
フェノキシ樹脂(三菱ケミカル社製「YX6954BH30」、固形分30重量%)
ポリイミド樹脂:以下の合成例にて作製されたポリイミド樹脂(合成品)。
撹拌機、分水器、温度計及び窒素ガス導入管を備えた反応容器に、テトラカルボン酸二無水物(SABICジャパン合同会社製「BisDA-1000」)300.0gと、シクロヘキサノン665.5gとを入れ、容器中の溶液を60℃まで加熱した。次いで、ダイマージアミン(クローダジャパン社製「PRIAMINE1075」)89.0gと、1,3-ビスアミノメチルシクロヘキサン(三菱ガス化学社製)54.7gとを滴下した。その後、メチルシクロヘキサン121.0gと、エチレングリコールジメチルエーテル423.5gとを入れ、140℃で10時間かけてイミド化反応を行い、ポリイミドの溶液(不揮発分26.8重量%)を得た。得られたポリイミドの分子量(重量平均分子量)は20000であった。
下記の表3~5に示す成分を下記の表3~5に示す配合量(単位は固形分重量部)で配合し、均一な溶液となるまで常温で攪拌し、樹脂材料を得た。
アプリケーターを用いて、離型処理されたPETフィルム(東レ社製「XG284」、厚み25μm)の離型処理面上に得られた樹脂材料を塗工した後、100℃のギヤオーブン内で2分30秒間乾燥し、溶剤を揮発させた。このようにして、PETフィルム上に、厚さが40μmである樹脂フィルム(Bステージフィルム)が積層されている積層フィルム(PETフィルムと樹脂フィルムとの積層フィルム)を得た。
(1)ベーキング後のリフロー試験による硬化物の膨れ
(1-1)基板作製:
ラミネート工程及び半硬化処理:
両面銅張積層板(CCL基板)(各面の銅箔の厚み18μm、基板の厚み0.7mm、基板サイズ100mm×100mm、日立化成社製「MCL-E-679FG(R)」)を用意した。この両面銅張積層板の銅箔面の両面をメック社製「Cz8101」に浸漬して、銅箔の表面を粗化処理した。粗化処理された銅張積層板の両面に、名機製作所社製「バッチ式真空ラミネーターMVLP-500-IIA」を用いて、積層フィルムの樹脂フィルム(Bステージフィルム)側を銅張積層板上に重ねてラミネートして、積層構造体を得た。ラミネートは、30秒減圧して気圧を13hPa以下とした後、100℃及び圧力0.7MPaで30秒間ラミネートし、次いで、100℃及びプレス圧力0.8MPaで60秒間プレスすることにより行った。その後、PETフィルムを剥離し、100℃で30分間加熱した後、180℃で30分間さらに加熱して樹脂フィルムを半硬化させた。このようにして、CCL基板に樹脂フィルムの半硬化物が積層されている積層体を得た。
(a)膨潤処理:
60℃の膨潤液(アトテックジャパン社製「スウェリングディップセキュリガントP」)に、得られた積層体を入れて、10分間揺動させた。その後、純水で洗浄した。
80℃の過マンガン酸カリウム(アトテックジャパン社製「コンセントレートコンパクトCP」)粗化水溶液に、膨潤処理後の積層体を入れて、30分間揺動させた。次に、25℃の洗浄液(アトテックジャパン社製「リダクションセキュリガントP」)を用いて2分間処理した後、純水で洗浄を行い、デスミア処理後の積層体を得た。
得られたデスミア処理後の積層体における硬化物の表面を、60℃のアルカリクリーナ(アトテックジャパン社製「クリーナーセキュリガント902」)で5分間処理し、脱脂洗浄した。洗浄後、上記硬化物を25℃のプリディップ液(アトテックジャパン社製「プリディップネオガントB」)で2分間処理した。その後、上記硬化物を40℃のアクチベーター液(アトテックジャパン社製「アクチベーターネオガント834」)で5分間処理し、パラジウム触媒を付けた。次に、30℃の還元液(アトテックジャパン社製「リデューサーネオガントWA」)により、硬化物を5分間処理した。
次に、無電解めっき処理された硬化物に、電解めっきをめっき厚さが25μmとなるまで実施した。電解銅めっきとして硫酸銅溶液(和光純薬工業社製「硫酸銅五水和物」、和光純薬工業社製「硫酸」、アトテックジャパン社製「ベーシックレベラーカパラシド HL」、アトテックジャパン社製「補正剤カパラシド GS」)を用いて、0.6A/cm2の電流を流しめっき厚さが25μm程度となるまで電解めっきを実施した。銅めっき処理後、硬化物を200℃で90分間加熱し、硬化物を更に硬化させた。このようにして、銅めっき層が上面に積層された硬化物を得た。
得られた銅めっき層が上面に積層された硬化物を、85mm角に裁断し、125℃でベーキング処理し、ベーキング処理の開始から1時間後、2時間後、6時間後の硬化物を得た。得られた硬化物について、硬化物の膨れの有無を評価した。具体的には、以下のリフロー試験を行った。
ベーキング処理後の銅めっき層が積層された硬化物を用いて、JEDECのLEVEL3に準拠して、上記基板の吸湿(温度60℃及び湿度60RH%で40時間)を行った。ピーク温度260℃の半田リフロー温度を再現するリフロー装置(日本アントム社製「HAS-6116」)を用いてリフロー試験(リフロー温度プロファイルはIPC/JEDEC J-STD-020Cに準拠)を実施した。なお、リフローは10回繰り返した。リフロー後のブリスターの発生の有無を目視により確認した。
○:10回のリフローにてブリスターの発生が無い
×:1回~9回のリフローにてブリスターの発生がある
○○:ベーキング1時間の判定結果が○
○:ベーキング2時間の判定結果が○
△:ベーキング6時間の判定結果が○
×:ベーキング6時間の判定結果が×
得られた積層フィルムを50mm×50mmの大きさに裁断した。裁断された積層フィルムを、樹脂フィルム側から銅板(50mm×50mm×厚み100μm)に重ねて、ダイアフラム式真空ラミネーター(名機製作所社製「バッチ式真空ラミネーターMVLP-500-IIA」)を用い、30秒減圧して気圧を13hPa以下とした後、100℃及び圧力0.7MPaで30秒間ラミネートした。このようにして、銅板上に積層フィルム(樹脂フィルムの未硬化物及びPETフィルム)が積層された積層体を得た。
○○:反り量の平均値が3mm以下
○:反り量の平均値が3mmを超え5mm以下
△:反り量の平均値が5mmを超え10mm以下
×:反り量の平均値が10mmを超える
得られた樹脂フィルムを100℃で30分間加熱した後、180℃で30分間さらに加熱した。さらに200℃で90分間加熱して、硬化物を得た。得られた硬化物を幅2mm、長さ80mmの大きさに裁断して10枚を重ね合わせて、関東電子応用開発社製「空洞共振摂動法誘電率測定装置CP521」及びキーサイトテクノロジー社製「ネットワークアナライザーN5224A PNA」を用いて、空洞共振法で常温(23℃)にて、周波数5.8GHzにて誘電正接を測定した。
〇:誘電正接が3.5×10-3以下
△:誘電正接が3.5×10-3を超え4.0×10-3以下
×:誘電正接が4.0×10-3を超える
12…回路基板
12a…上面
13~16…絶縁層
17…金属層
Claims (9)
- 熱硬化性官能基を除く構造部分において芳香族環を有さず、熱硬化性官能基を除く構造部分において2個以上のCH3末端を有し、かつ下記式(X)を満足する熱硬化性化合物と、
無機充填材とを含み、
前記熱硬化性化合物が、熱硬化性官能基を除く構造部分において、tert-ブチル基を有し、
前記熱硬化性化合物の熱硬化性官能基を除く構造部分が有するtert-ブチル基の個数が、1個以上であり、
樹脂材料中の溶剤を除く成分100重量%中、前記無機充填材の含有量が30重量%以上である、樹脂材料。
0.1≦A/(B×C)≦0.6 ・・・式(X)
A:前記熱硬化性化合物の熱硬化性官能基を除く構造部分が有するCH3末端の個数
B:前記熱硬化性化合物が有する熱硬化性官能基の個数
C:前記熱硬化性化合物の熱硬化性官能基を除く構造部分が有する炭素原子の個数 - 前記熱硬化性化合物の熱硬化性官能基を除く構造部分が有する炭素原子の個数が、5個以上30個以下である、請求項1に記載の樹脂材料。
- 前記熱硬化性化合物が有する熱硬化性官能基の個数が、1個又は2個である、請求項1又は2に記載の樹脂材料。
- 前記熱硬化性化合物が有する熱硬化性官能基の個数が、1個である、請求項1~3のいずれか1項に記載の樹脂材料。
- 前記熱硬化性化合物の熱硬化性官能基を除く構造部分が、分岐構造を有する、請求項1~4のいずれか1項に記載の樹脂材料。
- 前記熱硬化性化合物の熱硬化性官能基を除く構造部分が、分岐構造を有し、
前記熱硬化性化合物の熱硬化性官能基を除く構造部分が有する炭素原子の個数100%中、前記熱硬化性化合物の熱硬化性官能基を除く構造部分の最大の原子数を有する鎖が有する炭素原子の個数の割合が、40%以上90%以下である、請求項1~5のいずれか1項に記載の樹脂材料。 - 樹脂フィルムである、請求項1~6のいずれか1項に記載の樹脂材料。
- 多層プリント配線板において、絶縁層を形成するために用いられる、請求項1~7のいずれか1項に記載の樹脂材料。
- 回路基板と、
前記回路基板の表面上に配置された複数の絶縁層と、
複数の前記絶縁層間に配置された金属層とを備え、
複数の前記絶縁層の内の少なくとも1層が、請求項1~8のいずれか1項に記載の樹脂材料の硬化物である、多層プリント配線板。
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