JP7406044B2 - 半導体処理装置の処理ジョブの起動方法、及び装置 - Google Patents
半導体処理装置の処理ジョブの起動方法、及び装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7406044B2 JP7406044B2 JP2023504644A JP2023504644A JP7406044B2 JP 7406044 B2 JP7406044 B2 JP 7406044B2 JP 2023504644 A JP2023504644 A JP 2023504644A JP 2023504644 A JP2023504644 A JP 2023504644A JP 7406044 B2 JP7406044 B2 JP 7406044B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- processing
- job
- processing area
- area
- target
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims description 1650
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 86
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 75
- 230000004913 activation Effects 0.000 claims description 69
- 239000000463 material Substances 0.000 description 62
- 238000001994 activation Methods 0.000 description 61
- 101100314150 Caenorhabditis elegans tank-1 gene Proteins 0.000 description 20
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 20
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 14
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 12
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 11
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 238000013507 mapping Methods 0.000 description 2
- 101100251965 Arabidopsis thaliana RLP51 gene Proteins 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 230000004931 aggregating effect Effects 0.000 description 1
- 230000002457 bidirectional effect Effects 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 231100001261 hazardous Toxicity 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67276—Production flow monitoring, e.g. for increasing throughput
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06Q—INFORMATION AND COMMUNICATION TECHNOLOGY [ICT] SPECIALLY ADAPTED FOR ADMINISTRATIVE, COMMERCIAL, FINANCIAL, MANAGERIAL OR SUPERVISORY PURPOSES; SYSTEMS OR METHODS SPECIALLY ADAPTED FOR ADMINISTRATIVE, COMMERCIAL, FINANCIAL, MANAGERIAL OR SUPERVISORY PURPOSES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G06Q10/00—Administration; Management
- G06Q10/06—Resources, workflows, human or project management; Enterprise or organisation planning; Enterprise or organisation modelling
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67253—Process monitoring, e.g. flow or thickness monitoring
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B19/00—Programme-control systems
- G05B19/02—Programme-control systems electric
- G05B19/418—Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS] or computer integrated manufacturing [CIM]
- G05B19/41865—Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS] or computer integrated manufacturing [CIM] characterised by job scheduling, process planning, material flow
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02041—Cleaning
- H01L21/02057—Cleaning during device manufacture
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
- H01L21/67207—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations comprising a chamber adapted to a particular process
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P90/00—Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
- Y02P90/02—Total factory control, e.g. smart factories, flexible manufacturing systems [FMS] or integrated manufacturing systems [IMS]
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Business, Economics & Management (AREA)
- Quality & Reliability (AREA)
- Strategic Management (AREA)
- Entrepreneurship & Innovation (AREA)
- Economics (AREA)
- Human Resources & Organizations (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Game Theory and Decision Science (AREA)
- Educational Administration (AREA)
- Development Economics (AREA)
- Marketing (AREA)
- Operations Research (AREA)
- Tourism & Hospitality (AREA)
- General Business, Economics & Management (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- General Factory Administration (AREA)
- Recrystallisation Techniques (AREA)
Description
前記半導体処理装置の現在の処理ジョブの処理領域関係リストを生成するステップであって、前記現在の処理ジョブの処理領域関係リストが前記現在の処理ジョブに関連するすべての処理領域群の処理領域群識別子を含むステップと、
すべての起動対象処理ジョブを確定し、各前記起動対象処理ジョブの処理領域関係リストを生成するステップであって、前記起動対象処理ジョブの処理領域関係リストが前記起動対象処理ジョブに関連するすべての処理領域群の処理領域群識別子を含むステップと、
前記現在の処理ジョブの処理領域関係リストと各前記起動対象処理ジョブの処理領域関係リストに基づき、すべての前記起動対象処理ジョブが起動可能処理ジョブを含むか否かを第1の予め設定された規則に応じて確認するステップと、
すべての前記起動対象処理ジョブが前記起動可能処理ジョブを含む場合、第2の予め設定された規則に応じてすべての前記起動可能処理ジョブから目標起動可能処理ジョブを選択し、前記目標起動可能処理ジョブを起動するステップと、を含む半導体処理装置の処理ジョブの起動方法を提供する。
前記半導体処理装置の現在の処理ジョブの処理領域関係リストを生成するように構成される生成ユニットであって、前記現在の処理ジョブの処理領域関係リストに前記現在の処理ジョブが関連するすべての処理領域群の処理領域群識別子を含む生成ユニットと、
すべての起動対象処理ジョブを確定し、各前記起動対象処理ジョブの処理領域関係リストを生成するように構成される第1決定ユニットであって、前記起動対象処理ジョブの処理領域関係リストが前記起動対象処理ジョブに関連するすべての処理領域群の処理領域群識別子を含む第1決定ユニットと、
前記現在の処理ジョブの処理領域関係リストと各前記起動対象処理ジョブの処理領域関係リストに基づき、すべての前記起動対象処理ジョブが起動可能処理ジョブを含むか否かを第1の予め設定された規則に応じて確認するように構成される第2決定ユニットと、
すべての前記起動対象処理ジョブが前記起動可能処理ジョブを含む場合、第2の予め設定された規則に応じてすべての前記起動可能処理ジョブから目標起動可能処理ジョブを選択し、前記目標起動可能処理ジョブを起動するように構成される起動ユニットと、を含む半導体処理装置の処理ジョブの起動装置を提供する。
Shelf-PD01/PD02-WTC-IOBuffer-Tank1-Tank2-Tank7-Tank8-Dry-WTC-PD01/PD02-Shelf;
シングルDuallifterRouteRecipe:
Shelf-PD01/PD02-WTC-IOBuffer-Tank1-Tank2-Dry-WTC-PD01/PD02-Shelf;
Shelf-PD01/PD02-WTC-IOBuffer-Tank7-Tank8-Dry-WTC-PD01/PD02-Shelf;
シリアルオールRouteRecipe:
Shelf-PD01/PD02-WTC-IOBuffer-Tank1-Tank2-Tank3-Tank4-Tank5-Tank6-Tank7-Tank8-Dry-WTC-PD01/PD02-Shelf;
Shelf-PD01/PD02-WTC-IOBuffer-Tank1-Tank2-Tank3-Tank5-Tank7-Tank8-Dry-WTC-PD01/PD02-Shelf;
Shelf-PD01/PD02-WTC-IOBuffer-Tank1-Tank2-Tank4-Tank6-Tank7-Tank8-Dry-WTC-PD01/PD02-Shelf;
パラレルオールRouteRecipe:
Shelf-PD01/PD02-WTC-IOBuffer-Tank1-Tank2-Tank3/Tank4-Tank5/Tank6-Tank7-Tank8-Dry-WTC-PD01/PD02-Shelf;
Tank3Tank4シリアル、Tank5Tank6パラレルRouteRecipe:
Shelf-PD01/PD02-WTC-IOBuffer-Tank1-Tank2-Tank3-Tank4-Tank5/Tank6-Tank7-Tank8-Dry-WTC-PD01/PD02-Shelf;
Shelf-PD01/PD02-WTC-IOBuffer-Tank1-Tank2-Tank3-Tank5/Tank6-Tank7-Tank8-Dry-WTC-PD01/PD02-Shelf;
Shelf-PD01/PD02-WTC-IOBuffer-Tank1-Tank2-Tank4-Tank5/Tank6-Tank7-Tank8-Dry-WTC-PD01/PD02-Shelf;
Tank3Tank4パラレル、Tank5Tank6シリアルRouteRecipe:
Shelf-PD01/PD02-WTC-IOBuffer-Tank1-Tank2-Tank3/Tank4-Tank5-Tank6-Tank7-Tank8-Dry-WTC-PD01/PD02-Shelf;
Shelf-PD01/PD02-WTC-IOBuffer-Tank1-Tank2-Tank3/Tank4-Tank5-Tank7-Tank8-Dry-WTC-PD01/PD02-Shelf;
Shelf-PD01/PD02-WTC-IOBuffer-Tank1-Tank2-Tank3/Tank4-Tank6-Tank7-Tank8-Dry-WTC-PD01/PD02-Shelf;
指定PD0RouteRecipe:
Shelf-PD01-…-PD01-Shelf;
Shelf-PD01-…-PD02-Shelf;
ランダムRouteRecipe、例えば、Shelf-PD01/PD02-WTC-IOBuffer-A-C-B-Dry-WTC-PD01/PD02-Shelf、A、C、Bは実行された処理操作が処理ユニットの属する処理領域に発生したマークを示す。
PD0組み合わせ方式は、すべてのJobは単一のPD0を指定し、すべてのJobはパラレルPD0(PD01/PD02)を使用する。
図3を参照し、第2洗浄機の例示的な構造図が示されている。
第2洗浄機では、Tank1、Tank3、Tank5、Tank7は酸処理ユニットであり、Tank2、Tank4、Tank6、Tank8は水処理ユニットである。Tank1とTank2との間の材料搬送、Tank3とTank4との間の材料搬送、Tank5とTank6との間の材料搬送、Tank7とTank8との間の材料搬送はいずれも対応するDuallifterにより行われる。
第2洗浄機のCritical Tank集合は{T1、T3、T5、T7}として表されてもよい。第2予備洗浄機のRinse Tank集合は{T2、T4、T6、T8、Dry、IOBuffer、WTC、EEWD}として表されてもよい。第2洗浄機は7つのロボットアームを含んでもよく、第2洗浄機のロボットアーム集合は{FR、WTR、WHR、D12、Duallifter34(D34)、Duallifter56(D56)、D78}として表されてもよい。D34はTank3とTank4との間の材料搬送を担当する。D56はTank5とTank6との間の材料搬送を担当する。
第2洗浄機のJobの処理パスは以下の処理パスを含む。
オールRouteRecipe:Shelf-PD01/PD02-WTC-IOBuffer-Tank1-Tank2-Tank3-Tank4-Tank5-Tank6-Tank7-Tank8-Dry-WTC-PD01/PD02-Shelf;
シングルDuallifterRouteRecipe:
Shelf-PD01/PD02-WTC-IOBuffer-Tank1-Tank2-Dry-WTC-PD01/PD02-Shelf;
Shelf-PD01/PD02-WTC-IOBuffer-Tank3-Tank4-Dry-WTC-PD01/PD02-Shelf;
Shelf-PD01/PD02-WTC-IOBuffer-Tank5-Tank6-Dry-WTC-PD01/PD02-Shelf;
Shelf-PD01/PD02-WTC-IOBuffer-Tank7-Tank8-Dry-WTC-PD01/PD02-Shelf;
指定PD0 RouteRecipe:
Shelf-PD01-…-PD01-Shelf;
Shelf-PD01-…-PD02-Shelf;
Claims (10)
- 順次設けられた複数の処理ユニットを含み、前記複数の処理ユニットは複数の処理領域に区画され、前記複数の処理領域を前記複数の処理ユニットの配列順序に従って組み合わせることにより複数の処理領域群が形成される半導体処理装置の処理ジョブの起動方法であって、
前記半導体処理装置の現在の処理ジョブの処理領域関係リストを生成するステップであって、前記現在の処理ジョブの処理領域関係リストが前記現在の処理ジョブに関連するすべての処理領域群の処理領域群識別子を含むステップと、
すべての起動対象処理ジョブを確定し、各前記起動対象処理ジョブの処理領域関係リストを生成するステップであって、前記起動対象処理ジョブの処理領域関係リストが前記起動対象処理ジョブに関連するすべての処理領域群の処理領域群識別子を含むステップと、
前記現在の処理ジョブの処理領域関係リストと各前記起動対象処理ジョブの処理領域関係リストに基づき、すべての前記起動対象処理ジョブが起動可能処理ジョブを含むか否かを第1の予め設定された規則に応じて確認するステップと、
すべての前記起動対象処理ジョブが前記起動可能処理ジョブを含む場合、第2の予め設定された規則に応じてすべての前記起動可能処理ジョブから目標起動可能処理ジョブを選択し、前記目標起動可能処理ジョブを起動するステップと、を含むことを特徴とする半導体処理装置の処理ジョブの起動方法。 - 前記第1の予め設定された規則は、
起動対象処理ジョブと前記現在の処理ジョブが共に処理領域群に関連するが、前記処理領域群の前記起動対象処理ジョブと前記現在の処理ジョブにおける状態が異なる場合、前記起動対象処理ジョブを起動可能処理ジョブとせず、それ以外の場合、前記起動対象処理ジョブを起動可能処理ジョブとすることを含み、
前記状態は正順状態及び逆順状態を含み、前記正順状態とは前記処理領域群の対応する処理ジョブでの前後関係と前記処理領域群の前記半導体処理装置での前後関係とが一致することであり、前記逆順状態とは前記処理領域群の対応する処理ジョブでの前後関係と前記処理領域群の前記半導体処理装置での前後関係とが一致しないことであることを特徴とする請求項1に記載の方法。 - すべての起動対象処理ジョブを確定し、各前記起動対象処理ジョブの処理領域関係リストを生成する前記ステップは、
前記現在の処理ジョブが前記複数の処理領域のうちの1つの予め設定された処理領域に関連する場合、前記現在の処理ジョブにおける前記予め設定された処理領域に対応するシリアル/パラレルタイプを確定するステップと、
すべての前記起動対象処理ジョブにおける前記予め設定された処理領域に関連する起動対象処理ジョブを確定するステップと、
各前記予め設定された処理領域に関連する前記起動対象処理ジョブにおける前記予め設定された処理領域に対応するシリアル/パラレルタイプを確定するステップと、
前記予め設定された処理領域に関連し、且つ前記予め設定された処理領域に対応するシリアル/パラレルタイプが、前記現在の処理ジョブにおける前記予め設定された処理領域に対応するシリアル/パラレルタイプと一致する起動対象処理ジョブを目標起動対象処理ジョブとして確定するステップと、
各前記目標起動対象処理ジョブの処理領域関係リストを生成するステップと、を含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。 - 前記現在の処理ジョブの処理領域関係リストと各前記起動対象処理ジョブの処理領域関係リストに基づき、すべての前記起動対象処理ジョブが起動可能処理ジョブを含むか否かを第1の予め設定された規則に応じて確認する前記ステップは、
前記現在の処理ジョブの処理領域関係リストと各前記目標起動対象処理ジョブの処理領域関係リストに基づき、すべての前記目標起動対象処理ジョブが起動可能処理ジョブを含むか否かを前記第1の予め設定された規則に応じて確認するステップを含むことを特徴とする請求項3に記載の方法。 - 前記第2の予め設定された規則は、
すべての前記起動可能処理ジョブから待ち時間が最も長い起動可能処理ジョブを前記目標起動可能処理ジョブとして選択することを含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。 - 前記現在の処理ジョブは前記半導体処理装置の実行中の処理ジョブ、前記半導体処理装置が新たに起動した処理ジョブのうちの1つであることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記半導体処理装置の現在の処理ジョブの処理領域関係リストを生成する前記ステップは、
各前記処理領域に処理領域識別子を設定するステップと、
前記複数の処理ユニットの配列順序に従って前記処理領域識別子を組み合わせることにより、各前記処理領域群の処理領域群識別子が得られ、すべての前記処理領域群識別子を含む処理領域群識別子リストを生成するステップと、
各前記処理領域群識別子に割り当てる値を初期値とするステップであって、前記初期値は前記処理領域群識別子に対応する処理領域群が存在しないことを表すことに用いられるステップと、
前記現在の処理ジョブに関連する処理領域群及びその前記状態に従って、前記処理領域群識別子リスト中の対応する処理領域群識別子に割り当てる値を正順値又は逆順値とし、前記現在の処理ジョブの処理領域関係リストを得るステップであって、前記正順値は前記処理領域群識別子に対応する処理領域群が存在し且つ前記正順状態にあることを表すことに用いられ、前記逆順値は前記処理領域群識別子に対応する処理領域群が存在し且つ前記逆順状態にあることを表すことに用いられるステップと、を含むことを特徴とする請求項2に記載の方法。 - 各前記起動対象処理ジョブの処理領域関係リストを生成する前記ステップは、
各前記起動対象処理ジョブに関連する処理領域群及びその前記状態に従って、前記処理領域群識別子リスト中の対応する処理領域群識別子に割り当てる値を正順値又は逆順値とし、各前記起動対象処理ジョブの処理領域関係リストを得るステップを含むことを特徴とする請求項7に記載の方法。 - 各前記処理領域群識別子をバイナリキー値対に対応付け、前記初期値は00であり、前記正順値は01であり、前記逆順値は10であり、
前記現在の処理ジョブの処理領域関係リストと各前記起動対象処理ジョブの処理領域関係リストに基づき、すべての前記起動対象処理ジョブが起動可能処理ジョブを含むか否かを確認する前記ステップは、
各前記起動対象処理ジョブの処理領域関係リストと前記現在の処理ジョブの処理領域関係リストのそれぞれに対してバイナリ排他的論理和演算を実行し、各前記起動対象処理ジョブの計算結果を得るステップと、
起動対象処理ジョブの計算結果に11が含まれる場合、前記起動対象処理ジョブを起動可能処理ジョブとせず、起動対象処理ジョブの計算結果に11が含まれない場合、前記起動対象処理ジョブを起動可能処理ジョブとすることを確定するステップと、を含むことを特徴とする請求項8に記載の方法。 - 半導体処理装置の処理ジョブの起動装置であって、
半導体処理装置に取り付けられ、前記半導体処理装置は順次設けられた複数の処理ユニットを含み、前記複数の処理ユニットは複数の処理領域に区画され、複数の処理領域群は前記複数の処理領域を前記複数の処理ユニットの配列順序に従って組み合わせることにより形成され、
前記半導体処理装置の現在の処理ジョブの処理領域関係リストを生成するように構成される生成ユニットであって、前記現在の処理ジョブの処理領域関係リストが前記現在の処理ジョブに関連するすべての処理領域群の処理領域群識別子を含む生成ユニットと、
すべての起動対象処理ジョブを確定し、各前記起動対象処理ジョブの処理領域関係リストを生成するように構成される第1決定ユニットであって、前記起動対象処理ジョブの処理領域関係リストが前記起動対象処理ジョブに関連するすべての処理領域群の処理領域群識別子を含む第1決定ユニットと、
前記現在の処理ジョブの処理領域関係リストと各前記起動対象処理ジョブの処理領域関係リストに基づき、すべての前記起動対象処理ジョブが起動可能処理ジョブを含むか否かを第1の予め設定された規則に応じて確認するように構成される第2決定ユニットと、
すべての前記起動対象処理ジョブが前記起動可能処理ジョブを含む場合、第2の予め設定された規則に応じてすべての前記起動可能処理ジョブから目標起動可能処理ジョブを選択し、前記目標起動可能処理ジョブを起動するように構成される起動ユニットと、を含むことを特徴とする半導体処理装置の処理ジョブの起動装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202010821443.2A CN111933517A (zh) | 2020-08-14 | 2020-08-14 | 一种半导体工艺设备中工艺任务的启动方法、装置 |
CN202010821443.2 | 2020-08-14 | ||
PCT/CN2021/108333 WO2022033292A1 (zh) | 2020-08-14 | 2021-07-26 | 一种半导体工艺设备中工艺任务的启动方法、装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2023531320A JP2023531320A (ja) | 2023-07-21 |
JP7406044B2 true JP7406044B2 (ja) | 2023-12-26 |
Family
ID=73310414
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2023504644A Active JP7406044B2 (ja) | 2020-08-14 | 2021-07-26 | 半導体処理装置の処理ジョブの起動方法、及び装置 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20230307272A1 (ja) |
EP (1) | EP4199039A4 (ja) |
JP (1) | JP7406044B2 (ja) |
KR (1) | KR102522596B1 (ja) |
CN (1) | CN111933517A (ja) |
TW (1) | TWI786746B (ja) |
WO (1) | WO2022033292A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111933517A (zh) * | 2020-08-14 | 2020-11-13 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 一种半导体工艺设备中工艺任务的启动方法、装置 |
CN114462781A (zh) * | 2021-12-28 | 2022-05-10 | 西安北方华创微电子装备有限公司 | 一种任务调度方法和半导体工艺设备 |
CN114819778B (zh) * | 2022-07-01 | 2022-11-11 | 埃克斯工业(广东)有限公司 | 进入工艺流程时机生成方法、装置、设备及可读存储介质 |
KR102595007B1 (ko) | 2023-03-24 | 2023-10-27 | 주식회사 아임토리 | 교착 지점의 딜레이 보상 기능을 갖는 로봇 공정 최적화 방법 및 장치 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002506285A (ja) | 1998-03-03 | 2002-02-26 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | マルチチャンバ半導体ウェハ加工システムでウェハを順序付けるための方法および装置 |
JP2003100585A (ja) | 2001-09-20 | 2003-04-04 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理プログラム |
JP2017117930A (ja) | 2015-12-24 | 2017-06-29 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理システム及び処理プログラム |
CN111475308A (zh) | 2020-04-09 | 2020-07-31 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 半导体设备多线程并发调度重算方法、系统及控制系统 |
CN111933517A (zh) | 2020-08-14 | 2020-11-13 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 一种半导体工艺设备中工艺任务的启动方法、装置 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5928389A (en) * | 1996-10-21 | 1999-07-27 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for priority based scheduling of wafer processing within a multiple chamber semiconductor wafer processing tool |
JP3319993B2 (ja) * | 1997-09-10 | 2002-09-03 | 東京エレクトロン株式会社 | 被処理体のデッドロック判定方法、被処理体のデッドロック回避方法及び処理装置 |
US6336204B1 (en) * | 1998-05-07 | 2002-01-01 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for handling deadlocks in multiple chamber cluster tools |
US20050137734A1 (en) * | 2003-12-23 | 2005-06-23 | Asml Netherlands B.V. | Method of operating a lithographic apparatus or lithographic processsing cell, lithographic apparatus and lithographic processing cell |
JP2008192866A (ja) * | 2007-02-06 | 2008-08-21 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置 |
JP5987292B2 (ja) * | 2011-10-31 | 2016-09-07 | セイコーエプソン株式会社 | 半導体集積回路装置及びそれを用いた電子機器 |
US9436504B2 (en) * | 2012-05-09 | 2016-09-06 | Nvidia Corporation | Techniques for managing the execution order of multiple nested tasks executing on a parallel processor |
JP6331698B2 (ja) * | 2014-05-28 | 2018-05-30 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置および基板搬入位置決定方法 |
CN107346750A (zh) * | 2016-05-04 | 2017-11-14 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 一种半导体工艺处理方法及装置 |
US11199506B2 (en) * | 2018-02-21 | 2021-12-14 | Applied Materials Israel Ltd. | Generating a training set usable for examination of a semiconductor specimen |
CN108762002B (zh) * | 2018-05-21 | 2021-06-15 | 郑君雄 | 一种晶圆片光刻方法 |
CN111229679B (zh) * | 2020-01-21 | 2021-09-17 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 晶圆清洗设备的控制方法、控制装置及晶圆清洗设备 |
-
2020
- 2020-08-14 CN CN202010821443.2A patent/CN111933517A/zh active Pending
-
2021
- 2021-07-26 EP EP21855345.1A patent/EP4199039A4/en active Pending
- 2021-07-26 US US18/041,087 patent/US20230307272A1/en active Pending
- 2021-07-26 WO PCT/CN2021/108333 patent/WO2022033292A1/zh unknown
- 2021-07-26 TW TW110127388A patent/TWI786746B/zh active
- 2021-07-26 KR KR1020237000795A patent/KR102522596B1/ko active IP Right Grant
- 2021-07-26 JP JP2023504644A patent/JP7406044B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002506285A (ja) | 1998-03-03 | 2002-02-26 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | マルチチャンバ半導体ウェハ加工システムでウェハを順序付けるための方法および装置 |
JP2003100585A (ja) | 2001-09-20 | 2003-04-04 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理プログラム |
JP2017117930A (ja) | 2015-12-24 | 2017-06-29 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理システム及び処理プログラム |
CN111475308A (zh) | 2020-04-09 | 2020-07-31 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 半导体设备多线程并发调度重算方法、系统及控制系统 |
CN111933517A (zh) | 2020-08-14 | 2020-11-13 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 一种半导体工艺设备中工艺任务的启动方法、装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20230307272A1 (en) | 2023-09-28 |
TW202207068A (zh) | 2022-02-16 |
KR20230014834A (ko) | 2023-01-30 |
EP4199039A1 (en) | 2023-06-21 |
WO2022033292A1 (zh) | 2022-02-17 |
CN111933517A (zh) | 2020-11-13 |
JP2023531320A (ja) | 2023-07-21 |
KR102522596B1 (ko) | 2023-04-17 |
TWI786746B (zh) | 2022-12-11 |
EP4199039A4 (en) | 2024-04-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7406044B2 (ja) | 半導体処理装置の処理ジョブの起動方法、及び装置 | |
US11308453B2 (en) | Method and system for scheduling pieces of materials based on real-time device status | |
KR101216836B1 (ko) | 진공 처리 장치 및 기록 매체 | |
US5459864A (en) | Load balancing, error recovery, and reconfiguration control in a data movement subsystem with cooperating plural queue processors | |
JP5738796B2 (ja) | 処理室割当設定装置及び処理室割当設定プログラム | |
US8812151B2 (en) | Vacuum process device and vacuum process method | |
WO2023124684A1 (zh) | 一种任务调度方法和半导体工艺设备 | |
JP5928283B2 (ja) | 基板処理装置、基板搬送方法及び記憶媒体 | |
JP2008192866A (ja) | 基板処理装置 | |
JP6279343B2 (ja) | 基板処理装置、プログラム、および、基板処理方法 | |
CN114169805A (zh) | 一种晶圆调度方法、装置、存储介质及电子设备 | |
CN111923066A (zh) | 一种晶圆清洗设备中的工艺调度方法、装置 | |
CN108694078A (zh) | 基于最近中断请求指示符和工作确认的中断 | |
JP6995072B2 (ja) | スケジューラ、基板処理装置、及び基板搬送方法 | |
JP5941868B2 (ja) | 仮想計算機システムおよび仮想計算機におけるi/o実施方法 | |
KR20240013806A (ko) | 반도체 공정 디바이스 및 이의 운동 부재의 제어 방법과 장치 | |
JP2005038392A (ja) | 単一経路用の作業システム及びその制御方法 | |
US6194232B1 (en) | Multi-track wafer processing method | |
US11461136B2 (en) | Substrate processing device and determination method | |
JP6366289B2 (ja) | 状態報告装置、基板処理装置、及び状態報告方法 | |
JP2013251420A (ja) | 真空処理装置及び真空処理方法 | |
TWI727379B (zh) | 基板處理裝置、基板處理方法及記憶媒體 | |
WO2024093985A1 (zh) | 拣选车故障处理方法、存储介质、调度系统及拣选系统 | |
JP3786088B2 (ja) | ラック単位の装置割り当て方式,装置割り当て方法,および装置割り当てプログラム | |
JP2017215456A (ja) | 基板処理装置、基板処理方法、プログラム、及び物品製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20230130 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20230324 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230912 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20231130 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20231212 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20231214 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7406044 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |