JP7386171B2 - 酸性ガス分離膜を製造するために有用な組成物 - Google Patents
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Description
[1] 以下の成分(A)~(C):
(A)アルカリ金属化合物、
(B)酸性解離性基を有する重合体、並びに
(C)酸性解離性基およびアミノ基を有する化合物
を含み、下記式(I):
β={成分(A)が有するアルカリ金属の量(mol)-成分(B)が有する酸性解離性基の量(mol)}/成分(C)が有する酸性解離性基の量(mol) (I)
から算出されるβが、0.0超1.0未満である組成物。
[3] βが、0.90以下、より好ましくは0.80以下、さらに好ましくは0.70以下、特に好ましくは0.60以下、最も好ましくは0.50以下である前記[1]または[2]に記載の組成物。
[7] 酸性解離性基を有する吸水性架橋重合体が、カルボキシ基を有するアクリル酸系の吸水性架橋重合体であり、より好ましくはカルボキシ基を有する化学架橋ポリアクリル酸である前記[6]に記載の組成物。
[8] 酸性解離性基を有する吸水性架橋重合体の0.2重量%水溶液の粘度が、500~50,000mPa・s、より好ましくは800~45,000mPa・s、さらに好ましくは1,000~40,000mPa・sである前記[6]または[7]に記載の組成物。
[10] 酸性解離性基を有する非架橋重合体が、カルボキシ基を有するアクリル酸系の非架橋重合体であり、より好ましくはカルボキシ基を有する非架橋ポリアクリル酸である前記[9]に記載の組成物。
[11] 酸性解離性基を有する非架橋重合体の0.2重量%水溶液の粘度が、100~1,500mPa・s、より好ましくは150~1,200mPa・s、さらに好ましくは200~1,000mPa・sである前記[9]または[10]に記載の組成物。
[12] 酸性解離性基を有する非架橋重合体の量が、成分(B)中の酸性解離性基を有する吸水性架橋重合体と前記非架橋重合体との総量に対して、1~99重量%、より好ましくは2~90重量%、さらに好ましくは2~80重量%である前記[9]~[11]のいずれか一項に記載の組成物。
[18] 前記[17]に記載の酸性ガス分離膜を含む酸性ガス分離膜エレメント。
[19] 酸性ガス分離膜と、供給側流路部材および透過側流路部材の少なくとも一つとを含む積層体と、
複数の穴が壁面に形成された中空管と
を含み、
積層体が中空管の外周に巻き付けられた構造
を有する前記[18]に記載の酸性ガス分離膜エレメント。
[21] 少なくとも一つの酸性ガス分離膜エレメントと、
酸性ガス分離膜に混合ガスを供給する混合ガス供給部と、
酸性ガス分離膜を透過しなかった非透過ガスを排出する非透過ガス排出部と、
酸性ガス分離膜を透過した透過ガスを排出する透過ガス排出部と
を含む前記[20]に記載の酸性ガス分離膜モジュール。
[23] 透過ガスを減圧する手段、および透過ガスと同伴して排出されるスイープガスを供給する手段の少なくとも一つをさらに含み、
透過ガスを減圧する手段は、酸性ガス分離膜モジュールの透過ガス排出部と連通しており、
スイープガスを供給する手段は、酸性ガス分離膜モジュールにさらに備わるスイープガス供給部と連通している、
前記[22]に記載の酸性ガス分離装置。
(A)アルカリ金属化合物、
(B)酸性解離性基を有する重合体、
(C)酸性解離性基およびアミノ基を有する化合物、
並びに媒質を混合して塗工液を調製する工程と、
塗工液を多孔層に塗布して、塗工液の膜を形成する工程と、
塗工液の膜から媒質を除去する工程と
を含み、下記式(I):
β={成分(A)が有するアルカリ金属の量(mol)-成分(B)が有する酸性解離性基の量(mol)}/成分(C)が有する酸性解離性基の量(mol) (I)
から算出されるβが、0.0超1.0未満である、酸性ガス分離膜を製造する方法。
[26] βが、0.90以下、より好ましくは0.80以下、さらに好ましくは0.70以下、特に好ましくは0.60以下、最も好ましくは0.50以下である前記[24]または[25]に記載の方法。
[30] 酸性解離性基を有する吸水性架橋重合体が、カルボキシ基を有するアクリル酸系の吸水性架橋重合体であり、より好ましくはカルボキシ基を有する化学架橋ポリアクリル酸である前記[29]に記載の方法。
[31] 酸性解離性基を有する吸水性架橋重合体の0.2重量%水溶液の粘度が、500~50,000mPa・s、より好ましくは800~45,000mPa・s、さらに好ましくは1,000~40,000mPa・sである前記[29]または[30]に記載の方法。
[33] 酸性解離性基を有する非架橋重合体が、カルボキシ基を有するアクリル酸系の非架橋重合体であり、より好ましくはカルボキシ基を有する非架橋ポリアクリル酸である前記[32]に記載の方法。
[34] 酸性解離性基を有する非架橋重合体の0.2重量%水溶液の粘度が、100~1,500mPa・s、より好ましくは150~1,200mPa・s、さらに好ましくは200~1,000mPa・sである前記[32]または[33]に記載の方法。
[35] 酸性解離性基を有する非架橋重合体の量が、成分(B)中の酸性解離性基を有する吸水性架橋重合体と前記非架橋重合体との総量に対して、1~99重量%、より好ましくは2~90重量%、さらに好ましくは2~80重量%である前記[32]~[34]のいずれか一項に記載の方法。
本発明の組成物は、以下の成分(A)~(C):
(A)アルカリ金属化合物、
(B)酸性解離性基を有する重合体、並びに
(C)酸性解離性基およびアミノ基を有する化合物
を含み、下記式(I):
β={成分(A)が有するアルカリ金属の量(mol)-成分(B)が有する酸性解離性基の量(mol)}/成分(C)が有する酸性解離性基の量(mol) (I)
から算出されるβが、0.0超1.0未満であることを特徴とする。
成分(A)は、アルカリ金属化合物である。アルカリ金属化合物としては、例えば、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩、アルカリ金属水酸化物等が挙げられる。
成分(B)は、酸性解離性基を有する重合体である。本明細書中、「酸性解離性基」とは、媒質中でプロトン(H+)を放出し得る酸性官能基を意味する。1価の酸性解離性基としては、例えば、カルボキシ基(-COOH)、スルホ基(-S(O)2(OH))、フェノール性水酸基が挙げられ、2価の酸性解離性基としては、例えば、ホスホノ基(-P(O)(OH)2)、ホスホノオキシ基(-O-P(O)(OH)2)が挙げられる。前記重合体は、1種のみの酸性解離性基を有していてもよく、2種以上の酸性解離性基を有していてもよい。酸性解離性基は、好ましくは1価の酸性解離性基であり、より好ましくはカルボキシ基である。
成分(C)は、酸性解離性基およびアミノ基を有する化合物である。酸性解離性基の説明は上述の通りである。成分(C)は、1種のみの酸性解離性基を有していてもよく、2種以上の酸性解離性基を有していてもよい。成分(C)は、分子内に複数の異なる種類の酸性解離性基を有する化合物(例、ヒドロキシフェニルグリシン)でもよい。アミノ基は、1級アミノ基、2級アミノ基、3級アミノ基のいずれでもよい。また、2級アミノ基および3級アミノ基は、アミノ基の窒素原子が含窒素複素環の構成原子の一つとなっている複素環式アミノ基でもよい。
アミノ基として2級アミノ基のみを有するアミノ酸としては、例えば、プロリン、ヒドロキシプロリン、サルコシン等が挙げられる。
アミノ基として3級アミノ基のみを有するアミノ酸としては、例えば、ジメチルグリシン等が挙げられる。
アミノ基として1級アミノ基および2級アミノ基を有するアミノ酸としては、例えば、アルギニン、トリプトファン等が挙げられる。
アミノ基として1級アミノ基、2級アミノ基および3級アミノ基を有するアミノ酸としては、例えば、ヒスチジン等が挙げられる。
本発明の組成物は、本発明の効果を阻害しない範囲で、成分(A)~(C)とは異なる他の成分を含んでいてもよい。
本発明の組成物は、好ましくは酸性ガス分離膜を製造するために用いられる。また、本発明は、上述の組成物を含む酸性ガス分離膜も提供する。酸性ガスは、好ましくは二酸化炭素、硫化水素、硫化カルボニル、硫黄酸化物(SOx)、窒素酸化物(NOx)およびハロゲン化水素(例、塩化水素)からなる群から選ばれる少なくとも一つであり、より好ましくは二酸化炭素、硫化水素、硫化カルボニル、硫黄酸化物(SOx)、および窒素酸化物(NOx)からなる群から選ばれる少なくとも一つであり、さらに好ましくは二酸化炭素、硫化水素および硫黄酸化物(SOx)からなる群から選ばれる少なくとも一つであり、特に好ましくは二酸化炭素および/または硫化水素であり、最も好ましくは二酸化炭素である。
本発明は、上述の成分(A)~(C)および媒質を混合して塗工液を調製する工程と、塗工液を多孔層に塗布して、塗工液の膜を形成する工程と、塗工液の膜から媒質を除去する工程とを含む、上述の酸性ガス分離膜を製造する方法も提供する。なお、本発明の製造方法において、成分(A)~(C)の種類および量、媒質の種類、並びにβ等についての説明は、上述の通りである。
多孔層(第1多孔層)上に形成された塗工液の膜に、必要に応じて多孔層(第2多孔層)を積層してもよい。
本発明は、上述の酸性ガス分離膜を含む酸性ガス分離膜エレメントも提供する。酸性ガス分離膜エレメントは、酸性ガス分離膜が集積化または一体化されて構成される。酸性ガス分離膜としては、例えば、シート状、中空状等の形状を挙げることができる。酸性ガス分離膜エレメントは、シート状の酸性ガス分離膜を含む場合は、例えば、スパイラル型、プレート&フレーム型、プリーツ型等の形式とすることができ、中空状の酸性ガス分離膜を含む場合は、例えば、中空糸型、円筒型等の形式とすることができる。
本発明は、上述の酸性ガス分離膜エレメントを含む酸性ガス分離膜モジュールも提供する。本発明の酸性ガス分離膜モジュールは、好ましくは、少なくとも一つの酸性ガス分離膜エレメントと、酸性ガス分離膜に混合ガスを供給する混合ガス供給部と、酸性ガス分離膜を透過しなかった非透過ガスを排出する非透過ガス排出部と、酸性ガス分離膜を透過した透過ガスを排出する透過ガス排出部とを含む。上記の混合ガス供給部、非透過ガス排出部および透過ガス排出部は、酸性ガス分離膜エレメントの本体に設けられてもよく、酸性ガス分離膜エレメントを収納するハウジング(容器)に設けられてもよい。
本発明は、上述の酸性ガス分離膜モジュールを少なくとも一つ含む酸性ガス分離装置も提供する。酸性ガス分離装置中の酸性ガス分離膜モジュールの配列および個数、並びに酸性ガス分離膜モジュール中の酸性ガス分離膜エレメントの配列および個数は、要求される処理量、酸性ガスの回収率、酸性ガス分離装置を設置する場所の大きさ等に応じて選択することができる。
酸性ガス分離膜モジュール(分離膜モジュール)は、水素の製造装置中で用いることができる。この場合、酸性ガス分離膜モジュールは、少なくとも水素および二酸化炭素を含む原料ガス(原料流体)から、二酸化炭素ガスを含むガス成分(特定の流体成分)を選択的に透過させることができる。水素の製造装置に備えられる酸性ガス分離膜モジュールは、酸性ガス分離膜モジュールを含む酸性ガス分離装置として備えられていてもよい。
図5に示す水素の製造装置100aは、水蒸気改質を行って水素を製造する装置であり、減圧法により酸性ガス膜分離を行う。水素の製造装置100aは、混合器181a、水蒸気改質を行うための水蒸気改質器182a、酸性ガス分離膜を有する酸性ガス分離膜モジュールを備えた酸性ガス分離装置120、凝縮器183a、減圧ポンプ184a、液抜きポンプ185aを有する。
CH4+H2O⇔CO+3H2 (II)
に示す水蒸気改質反応によって、CH4を一酸化炭素(CO)および水素(H2)に改質する改質部と、反応式(III):
CO+H2O⇔CO2+H2 (III)
に示すCO転化反応によって、COをCO2およびH2に転化する転化部とを有することができる。
図6に示す水素の製造装置100bは、水蒸気改質を行って水素を製造する装置であり、水蒸気改質の原料となるCH4として、水蒸気改質反応の圧力よりも高い圧力のCH4を用いる点が、図5に示す水素の製造装置100aと異なっている。水素の製造装置100bでは、水素の製造装置100aよりも高い圧力のCH4を用いることにより、このCH4による差圧発電で得られた電力を、水素の製造装置100bに備えられた機器の作動に用いることができる。以下では、水素の製造装置100a(図5)で説明したものと同じ部材については同じ符号を付し、その説明を省略する。
図7に示す水素の製造装置100cは、CO2改質を行って水素を製造する装置であり、減圧法により酸性ガス膜分離を行う。以下では、水素の製造装置100a(図5)等で説明したものと同じ部材については同じ符号を付し、その説明を省略する。水素の製造装置100cは、混合器181c、CO2改質を行うためのCO2改質器182c、酸性ガス分離膜を有する酸性ガス分離膜モジュールを備えた酸性ガス分離装置120、凝縮器183a、減圧ポンプ184a、液抜きポンプ185aを有する。混合器181cおよびCO2改質器182c以外の各部材の説明については、上記したとおりである。
CH4+CO2⇔2CO+2H2 (IV)
に示すCO2改質によって、CH4をH2およびCOに改質する改質部を有することができる。
図8に示す水素の製造装置100dは、CO2改質を行って水素を製造する装置であり、CO2改質の原料となるCH4として、CO2改質反応の圧力よりも高い圧力のCH4を用いる点が、図7に示す水素の製造装置100cと異なっている。水素の製造装置100dでは、水素の製造装置100cよりも高い圧力のCH4を用いることにより、このCH4による差圧発電で得られた電力を、水素の製造装置100dに備えられた機器の作動に用いることができる。以下では、水素の製造装置100a(図5)等で説明したものと同じ部材については同じ符号を付し、その説明を省略する。
図9に示す水素の製造装置100eは、CO2改質を行って水素を製造する装置であり、スイープ法により酸性ガス膜分離を行う。スイープガスとしては、CO2改質の原料であるCH4を用いる。以下では、水素の製造装置100a(図5)等で説明したものと同じ部材については同じ符号を付し、その説明を省略する。
図10に示す水素の製造装置100fは、CO2改質を行って水素を製造する装置であり、CO2改質の原料となるCH4として、CO2改質反応の圧力よりも高い圧力のCH4を用いる点が、図9に示す水素の製造装置100eと異なっている。水素の製造装置100fでは、水素の製造装置100eよりも高い圧力のCH4を用いることにより、このCH4による差圧発電で得られた電力を、製造装置100fに備えられた機器の作動に用いることができる。以下では、水素の製造装置100a(図5)等で説明したものと同じ部材については同じ符号を付し、その説明を省略する。
図11に示す水素の製造装置100gは、水蒸気改質およびCO2改質を行って水素を製造する装置であり、減圧法により酸性ガス膜分離を行う。以下では、水素の製造装置100a(図5)等で説明したものと同じ部材については同じ符号を付し、その説明を省略する。
図12に示す水素の製造装置100hは、水蒸気改質およびCO2改質を行って水素を製造する装置であり、水蒸気改質およびCO2改質の原料となるCH4として、水蒸気改質反応およびCO2改質反応の圧力よりも高い圧力のCH4を用いる点が、図11に示す水素の製造装置100gと異なっている。水素の製造装置100hでは、水素の製造装置100gよりも高い圧力のCH4を用いることにより、このCH4による差圧発電で得られた電力を、製造装置100hに備えられた機器の作動に用いることができる。以下では、水素の製造装置100a(図5)等で説明したものと同じ部材については同じ符号を付し、その説明を省略する。
図13に示す水素の製造装置100iは、水蒸気改質およびCO2改質を行って水素を製造する装置であり、スイープ法により酸性ガス膜分離を行う。以下では、水素の製造装置100a(図5)等で説明したものと同じ部材については同じ符号を付し、その説明を省略する。
図14に示す水素の製造装置100jは、水蒸気改質およびCO2改質を行って水素を製造する装置であり、水蒸気改質およびCO2改質の原料となるCH4として、水蒸気改質およびCO2改質反応の圧力よりも高い圧力のCH4を用いる点が、図13に示す水素の製造装置100iと異なっている。水素の製造装置100jでは、水素の製造装置100iよりも高い圧力のCH4を用いることにより、このCH4による差圧発電で得られた電力を、製造装置100jに備えられた機器の作動に用いることができる。以下では、水素の製造装置100a(図5)等で説明したものと同じ部材については同じ符号を付し、その説明を省略する。
水172.33重量部と、化学架橋ポリアクリル酸(住友精化社製、商品名:アクペック HV-501E、イオン交換容量:13.9mmoleq/g)4重量部および非架橋ポリアクリル酸(住友精化社製、商品名:アクパーナ AP-40F(40%Na鹸化)、イオン交換容量:12.4mmoleq/g)0.8重量部とを原料タンクに添加し、混合して、分散液を得た。この分散液に、50重量%水酸化セシウム水溶液(ロックウッドリチウムジャパン社製)28.80重量部を添加し、混合した後、L-プロリン(東京化成工業社製)11.05重量部と10重量%界面活性剤(AGCセイミケミカル社製、商品名:サーフロン S-242)水溶液1.2重量部を加えて混合して、塗工液を得た(塗工液中の水の量:86.1重量%)。得られた塗工液を、脱泡装置(シンキー社製、商品名:自転・公転ミキサーあわとり練太郎ARE-310)を用いて脱泡した。
水204.63重量部と、化学架橋ポリアクリル酸(住友精化社製、商品名:アクペック HV-501E、イオン交換容量:13.9mmoleq/g)4.41重量部および非架橋ポリアクリル酸(住友精化社製、商品名:アクパーナ AP-40F(40%Na鹸化)、イオン交換容量:12.4mmoleq/g)0.88重量部とを原料タンクに添加し、混合して、分散液を得た。この分散液に、50重量%水酸化セシウム水溶液(ロックウッドリチウムジャパン社製)31.10重量部を添加し、混合した後、サルコシン(東京化成工業社製)9.63重量部と10重量%界面活性剤(AGCセイミケミカル社製、商品名:サーフロン S-242)水溶液1.34重量部を加えて混合して、塗工液を得た(塗工液中の水の量:87.9重量%)。得られた塗工液を、脱泡装置(シンキー社製、商品名:自転・公転ミキサーあわとり練太郎ARE-310)を用いて脱泡した。
水170.92重量部と、化学架橋ポリアクリル酸(住友精化社製、商品名:アクペック HV-501E、イオン交換容量:13.9mmoleq/g)4重量部および非架橋ポリアクリル酸(住友精化社製、商品名:アクパーナ AP-40F(40%Na鹸化)、イオン交換容量:12.4mmoleq/g)0.8重量部とを原料タンクに添加し、混合して、分散液を得た。この分散液に、50重量%水酸化セシウム水溶液(ロックウッドリチウムジャパン社製)38.09重量部を添加し、混合した後、10重量%亜テルル酸ナトリウム水溶液3.18重量部と10重量%界面活性剤(AGCセイミケミカル社製、商品名:サーフロン S-242)水溶液1.2重量部を加えて混合して、塗工液を得た(塗工液中の水の量:87.6重量%)。得られた塗工液を、脱泡装置(シンキー社製、商品名:自転・公転ミキサーあわとり練太郎ARE-310)を用いて脱泡した。
水166.73重量部と、化学架橋ポリアクリル酸(住友精化社製、商品名:アクペック HV-501E、イオン交換容量:13.9mmoleq/g)4重量部および非架橋ポリアクリル酸(住友精化社製、商品名:アクパーナ AP-40F(40%Na鹸化)、イオン交換容量:12.4mmoleq/g)0.8重量部とを原料タンクに添加し、混合して、分散液を得た。この分散液に、50重量%水酸化セシウム水溶液(ロックウッドリチウムジャパン社製)38.09重量部を添加し、混合した後、L-プロリン(東京化成工業社製)7.37重量部と10重量%界面活性剤(AGCセイミケミカル社製、商品名:サーフロン S-242)水溶液1.2重量部を加えて混合して、塗工液を得た(塗工液中の水の量:85.6重量%)。得られた塗工液を、脱泡装置(シンキー社製、商品名:自転・公転ミキサーあわとり練太郎ARE-310)を用いて脱泡した。
図15に示す、酸性ガス分離膜セル61を備えた酸性ガス分離装置を用いて、実施例1および2並びに比較例1および2の酸性ガス分離膜のCO2パーミアンスおよびHeパーミアンスを測定した。具体的には、作製した酸性ガス分離膜を適切な大きさにカットして平膜形状とし、これをステンレス製の酸性ガス分離膜セル61の供給側室62と透過側室63の間に固定した。酸性ガス分離膜セルの温度は恒温槽により93℃に設定した。原料ガス(CO2:13.6体積%、He:67.7体積%、H2O:18.7体積%)を338.7NmL/minの流量で酸性ガス分離膜セル61の供給側室62に供給した。また、スイープガス(Ar:88.2体積%、H2O:11.8体積%)を31.6NmL/minの流量で酸性ガス分離膜セル61の透過側室63に供給した。ここで、水を定量送液ポンプ68および70で送入し、加熱して蒸発させて、H2Oが上記混合比率となるように調整した。供給側室62の圧力は、非透過ガスの排出路の途中の冷却トラップ64の下流側に設けられた背圧調整器65によって125kPaA(絶対圧)に調整した。また、冷却トラップ66とガスクロマトグラフ67の間にも背圧調整器69が設けられており、これによって透過側室63の圧力を大気圧に調整した。
CO2/He分離係数
=CO2パーミアンス(mol/(m2×秒×kPa))/Heパーミアンス(mol/(m2×秒×kPa))
によってCO2/He分離係数を算出した。結果を表1に示す。また、表1には、成分(A)~(C)の種類および量、並びにβの値も記載する。なお、比較例2の酸性ガス分離膜は試験例1の途中で破けたため、CO2/He分離係数を測定できなかった。
図16に示す、酸性ガス分離膜セル61を備えた酸性ガス分離装置を用いて、実施例1の酸性ガス分離膜のCO2パーミアンスおよびHeパーミアンスを測定した。具体的には、作製した酸性ガス分離膜を適切な大きさにカットして平膜形状とし、これをステンレス製の酸性ガス分離膜セル61の供給側室62と透過側室63の間に固定した。酸性ガス分離膜セルの温度は恒温槽により93℃に設定した。原料ガス(CO2:13.6体積%、He:28.0体積%、H2O:58.4体積%)を660.8NmL/minの流量で酸性ガス分離膜セル61の供給側室62に供給した。ここで、水を定量送液ポンプ68で送入し、加熱して蒸発させて、H2Oが上記混合比率となるように調整した。供給側室62の圧力は、非透過ガスの排出路の途中の冷却トラップ64の下流側に設けられた背圧調整器65によって125kPaA(絶対圧)に調整した。また、冷却トラップ66とガスクロマトグラフ67の間に背圧調整器69および減圧ポンプ71が設けられており、これらによって透過側室63の圧力を20kPaAに調整した。
CO2/He分離係数
=CO2パーミアンス(mol/(m2×秒×kPa))/Heパーミアンス(mol/(m2×秒×kPa))
によってCO2/He分離係数を算出した。結果を表2に示す。また、表2には、成分(A)~(C)の種類および量、並びにβの値も記載する。
3 供給側流路部材
4 透過側流路部材
5 中心管
5a、5b 中心管の端部
10 酸性ガス分離膜
20、20’ 酸性ガス分離膜モジュール
21 混合ガス供給部
22 非透過ガス排出部
23 透過ガス排出部
24 仕切り
25 酸性ガス分離膜エレメントの供給側端部
26 酸性ガス分離膜エレメントの排出側端部
27、27’ ハウジング
28 閉塞部材
29a 接続部
29b 遮断部
30 スイープガス供給部
41 遮断部材
42 仕切部材
43 中心管に設けられた孔
61 酸性ガス分離膜セル
62 供給側室
63 透過側室
64 冷却トラップ
65 背圧調整器
66 冷却トラップ
67 ガスクロマトグラフ
68 定量送液ポンプ
69 背圧調整器
70 定量送液ポンプ
71 減圧ポンプ
100a~100j 水素の製造装置
120 酸性ガス分離装置
181a、181c、181g 混合器
182a 水蒸気改質器
182c 二酸化炭素(CO2)改質器
182g 改質器
183a、183e 凝縮器
184a 減圧ポンプ
184e ブロア
185a 液抜きポンプ
186b 膨張タービン
187b 発電機
Claims (11)
- 以下の成分(A)~(C):
(A)アルカリ金属化合物、
(B)酸性解離性基を有する重合体、並びに
(C)酸性解離性基およびアミノ基を有する化合物
を含み、下記式(I):
β={成分(A)が有するアルカリ金属の量(mol)-成分(B)が有する酸性解離性基の量(mol)}/成分(C)が有する酸性解離性基の量(mol) (I)
から算出されるβが、0.20以上0.50以下である、酸性ガス分離膜を製造するために用いられる組成物。 - 成分(B)が、酸性解離性基を有する吸水性架橋重合体を含む請求項1に記載の組成物。
- 成分(B)が、酸性解離性基を有する非架橋重合体を含む請求項2に記載の組成物。
- 請求項1~3のいずれか一項に記載の組成物を含む酸性ガス分離膜。
- 請求項4に記載の酸性ガス分離膜を含む酸性ガス分離膜エレメント。
- 酸性ガス分離膜と、供給側流路部材および透過側流路部材の少なくとも一つとを含む積層体と、
複数の穴が壁面に形成された中空管と
を含み、
積層体が中空管の外周に巻き付けられた構造
を有する請求項5に記載の酸性ガス分離膜エレメント。 - 請求項5または6に記載の酸性ガス分離膜エレメントを含む酸性ガス分離膜モジュール。
- 少なくとも一つの酸性ガス分離膜エレメントと、
酸性ガス分離膜に混合ガスを供給する混合ガス供給部と、
酸性ガス分離膜を透過しなかった非透過ガスを排出する非透過ガス排出部と、
酸性ガス分離膜を透過した透過ガスを排出する透過ガス排出部と
を含む請求項7に記載の酸性ガス分離膜モジュール。 - 請求項7または8に記載の酸性ガス分離膜モジュールを少なくとも一つ含む酸性ガス分離装置。
- 透過ガスを減圧する手段、および透過ガスと同伴して排出されるスイープガスを供給する手段の少なくとも一つをさらに含み、
透過ガスを減圧する手段は、酸性ガス分離膜モジュールの透過ガス排出部と連通しており、
スイープガスを供給する手段は、酸性ガス分離膜モジュールにさらに備わるスイープガス供給部と連通している、
請求項9に記載の酸性ガス分離装置。 - 以下の成分(A)~(C):
(A)アルカリ金属化合物、
(B)酸性解離性基を有する重合体、
(C)酸性解離性基およびアミノ基を有する化合物、
並びに媒質を混合して塗工液を調製する工程と、
塗工液を多孔層に塗布して、塗工液の膜を形成する工程と、
塗工液の膜から媒質を除去する工程と
を含み、下記式(I):
β={成分(A)が有するアルカリ金属の量(mol)-成分(B)が有する酸性解離性基の量(mol)}/成分(C)が有する酸性解離性基の量(mol) (I)
から算出されるβが、0.20以上0.50以下である、酸性ガス分離膜を製造する方法。
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