JP7350965B1 - クロムめっき部品及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
(1)銅又は銅合金からなる表面層を有する素地と、前記素地の前記表面層に接して形成された第1ニッケルめっき層と、前記第1ニッケルめっき層上に接して形成された第2ニッケルめっき層と、前記第2ニッケルめっき層上に接して形成された3価クロムめっき層と、を備えるクロムめっき部品であって、前記第2ニッケルめっき層は、電流密度0.1mA/cm2で-215~-290mVのアノード電位を有し、前記第1ニッケルめっき層は前記第2ニッケルめっき層に対し、15~150mV卑である電位を有することを特徴とするクロムめっき部品。
(2)前記第1ニッケルめっき層と前記第2ニッケルめっき層との膜厚比率が1:10~30:1である、上記(1)のクロムめっき部品。
(3)前記第1ニッケルめっき層と前記第2ニッケルめっき層との膜厚比率が1:4~14:1である、上記(1)のクロムめっき部品。
(4)前記第1ニッケルめっき層と前記第2ニッケルめっき層との合計膜厚が1~30μmである、上記(1)~(3)のいずれかのクロムめっき部品。
(5)前記3価クロムめっき層上に、電解化成処理膜及び/又は浸漬化成処理膜をさらに備える、上記(1)~(4)のいずれかのクロムめっき部品。
(6)前記第2ニッケルめっき層が、非導電性微粒子不含の層である、上記(1)~(5)のいずれかのクロムめっき部品。
(7)前記素地が、樹脂、セラミックス、及び金属からなる群より選択される1種以上の材料からなり、かつ銅もしくは銅合金からなる前記表面層が付された基材であるか、又は銅もしくは銅合金からなる基材である、上記(1)~(6)のいずれかのクロムめっき部品。
(8)銅又は銅合金から主としてなる表面層を有する素地上に、前記表面層に接して第1ニッケルめっき層を形成する工程と、前記第1ニッケルめっき層上に接して第2ニッケルめっき層を形成する工程と、前記第2ニッケルめっき層上に接して3価クロムめっき層を形成する工程と、を備えるクロムめっき部品の製造方法であって、前記第2ニッケルめっき層は、電流密度0.1mA/cm2で-215~-290mVのアノード電位を有し、前記第1ニッケルめっき層は前記第2ニッケルめっき層に対し、15~150mV卑である電位を有することを特徴とするクロムめっき部品の製造方法。
(9)前記3価クロムめっき層の表面に、電解化成処理膜及び/又は浸漬化成処理膜を形成する工程をさらに含む、上記(8)のクロムめっき部品の製造方法。
本発明のクロムめっき部品は、銅又は銅合金からなる表面層を有する素地と、素地の表面層に接して形成された第1ニッケルめっき層と、第1ニッケルめっき層上に接して形成された第2ニッケルめっき層と、第2ニッケルめっき層上に接して形成された3価クロムめっき層と、を備えるクロムめっき部品であって、第2ニッケルめっき層は、電流密度0.1mA/cm2で-215~-290mVのアノード電位を有し、第1ニッケルめっき層は第2ニッケルめっき層に対し、15~150mV卑である電位を有することを特徴とする。
クロムめっき部品1において、素地2は、後述するめっき層がその表面2Aに形成されるめっき対象である。素地2は、銅又は銅合金からなる表面層22を、少なくともめっき層が形成される表面2A側に有するものである。
基材21は、めっき対象である素地2の本体部に相当し、その形状及び材質については、特に制限はない。図1に示す実施形態では、基材21に表面層22が付された平板状の素地2の片面側に、各めっき層3~5が形成されているが、本発明のクロムめっき部品はこうした形態に限定されない。基材21は例えば、各種形状のハンドル、グリル、モール、エンブレム等の自動車部品、船外機部品、水栓金具、ドアノブや窓枠を始めとする建材部品、家電部品等、どのような形状及び用途のものであっても良い。
上記のようなセラミックスや樹脂製の基材21には、めっきをし易いように金属によって導電化処理をすることが好ましい。金属による導電化処理方法に特に制限はなく、無電解めっき、電解めっき、金属のスパッタリングや、金属蒸着等の種々の方法を用いることができる。特に、銅、銅合金、ニッケル、又はニッケル合金による無電解めっきが好ましい。無電解めっきの方法及び条件にも特に制限はなく、慣用の方法及び条件で行うことができる。
表面層22は、素地2において、基材21の表面又はその上層であって、後述するめっき層が形成される側の表面を構成し、銅又は銅合金からなる。このように、銅又は銅合金からなる表面層22には、後述するめっき層、具体的には第1ニッケルめっき層3が、表面2A側に接して形成される。
クロムめっき部品1においては、上記のように素地2の表面2A上に第1ニッケルめっき層3が、その上に第2ニッケルめっき層4が、さらにその上層に3価クロムめっき層5が形成されている。ここでは、第1ニッケルめっき層3と第2ニッケルめっき層4とを併せて「ニッケルめっき層」と称する。
第2ニッケルめっき層4は、電流密度0.1mA/cm2で-215~-290mVのアノード電位を有するニッケルめっき層である。また、そのアノード電位は、クロムめっき部品1の耐食性をさらに高める観点から、好ましくは-220~-285mVであり、より好ましくは-220~-280mVである。
上記のようなアノード電位を有する第2ニッケルめっき層4の平衡電位は、概して-402~-414mV程度となる。平衡電位は例えば、白金を対極、銀-塩化銀(飽和KCl)電極を参照極、塩化ニッケル六水和物を300g/L、塩化ナトリウムを50g/L、ホウ酸を25g/Lを含む液を電解液として測定することができる。例えばクロムめっき部品1からクロムめっき層5を除去した試料(電位測定用試料)を作用極とし、クロノポテンショメトリで電流密度を0.01、0.1、1、-0.01、-0.1、及び-1mA/cm2とした際の電圧値からTafelプロットを作成することにより、平衡電位を求めればよい。
第2ニッケルめっき層4の代表例の一つである光沢ニッケルめっき層は、ニッケルめっき皮膜に硫黄を含んだものである。光沢ニッケルめっき層の種類は、特に限定されない。
BRITE #88プロセス((株)JCU製)に使用される#81、#83、#810等の市販品を使用することもできる。
ニッケルめっき液に含まれる電位調整剤としても、公知のものを使用することができる。例えば、サッカリンナトリウム、ベンゼンスルフィン酸ナトリウム、S-エチルイソチオ尿素臭化水素酸塩、3-[[アミノ(イミノ)メチル]チオ]プロパン酸、2,4-チアゾリジンジオン、5-クロロ-2-メチル-4-イソチアゾリン-3-オン、2-メチル-4-イソチアゾリン-3-オン等の卑電位側電位調整剤;ブチンジオール、ヘキシンジオール、プロパギルアルコール、アリル硫酸ナトリウム、ホルマリン、抱水クロラール(2,2,2-トリクロロ-1,1-エタンジオール)、抱水ブロマール(2,2,2-トリブロモ-1,1-エタンジオール)等の貴電位側電位調整剤が挙げられるが、これらに限定されない。
サテンニッケルめっきとは、めっき皮膜表面に微細な凹凸形状を形成し、これにより半光沢や無光沢の梨地状外観を得るめっき手法である。ニッケルめっき浴中に界面活性剤を複数添加することでエマルションが形成され、皮膜表面への吸着・脱離を繰り返す。エマルションが吸着した部位では皮膜析出が阻害され、脱離後に皮膜表層に凹形状が形成されることで、梨地状外観を得ることができる。界面活性剤としては、例えばカチオン系界面活性剤やアニオン系界面活性剤が挙げられるが、これらに限定されない。これら界面活性剤を分散させたニッケルめっき液を用いることによって製造することができる。こうしたサテンニッケルめっきは、梨地状外観を有するクロムめっき部品1を製造する際に有用である。
第1ニッケルめっき層3は、第2ニッケルめっき層4に対し、15~150mV卑である電位を有するニッケルめっき層である。慣用のニッケル-クロムめっき部品において素地直上のめっき層として多用される半光沢ニッケルめっき層に比べ、かなり卑な電位を有する。
上述したように、第1ニッケルめっき層3は第2ニッケルめっき層4に対し、15~150mV卑である電位を有する。クロムめっき部品1の耐食性をさらに高める観点からは、第2ニッケルめっき層4に対して、好ましくは30~150mV、より好ましくは40~140mV、さらに好ましくは50~120mV、特に好ましくは70~100mV卑である電位を有する。
クロムめっき部品1において、ニッケルめっき層を構成する第1ニッケルめっき層3及び第2ニッケルめっき層4の膜厚は、特に限定されず、目的に応じて、例えば100μm以下や、1~50μm程度とすることができる。また、耐食性をより優れたものとし、かつニッケルめっきのコストを低減する観点からは、第1ニッケルめっき層3と第2ニッケルめっき層4との合計膜厚(ニッケル膜厚)が、1~30μm程度であることが好ましく、2~20μm程度であることがより好ましく、5~15μm程度であることが特に好ましい。
クロムめっき部品1においては、第2ニッケルめっき層4上に接して、3価クロムめっき層5が形成されている。この3価クロムめっき層5により、耐食性及び美的装飾性に優れ、装飾用等として有用なめっき部品が提供される。
クロムめっき部品1は、好ましくは上記の3価クロムめっき層5上に、電解化成処理膜及び/又は浸漬化成処理膜をさらに備える。このことによって、クロムめっき部品1の耐食性がさらに高まる場合がある。3価クロムめっき層5の表面に行う電解化成処理及び浸漬化成処理に特に制限はなく、慣用の処理方法を所望に応じて適用することができる。例としてクロメート処理、ワックス処理、ベンゾトリアゾールやトリアジンチオール等の溶液による処理、アミノ基やイミノ基を有する化合物の溶液による処理、さらには熱処理等が挙げられるが、これらに限定されない。こうした後処理によって、クロムめっき部品の耐食性をさらに改善し、あるいは変色や水素脆化等をより有効に防止し得る。
電解化成処理又は浸漬化成処理の内でも、6価クロムイオンを含む処理、いわゆるクロメート処理を行うことがより好ましい。クロメート皮膜は自己修復性を有するので、クロムめっき部品1の耐食性をさらに向上させ得る。
クロムめっき部品1は、上層が3価クロムめっき層5であっても優れた耐食性を示し、しかも外観が良好である。クロムめっき部品1は、例えばJIS H8502に準じた耐食性評価法であるCASS試験で、レイティングナンバー(R.N.)が概ね9以上、例えば9.3以上という高い評価結果を示す。そのため、クロムめっき部品1は、例えば、自動車部品、船外機部品、水栓金具、建材部品、家電部品等、様々な部品として利用することができる。
クロムめっき部品1は、以上でも説明したように、銅又は銅合金からなる表面層22を有する素地2上に、表面層に接して第1ニッケルめっき層3を形成する工程と、第1ニッケルめっき層3上に接して第2ニッケルめっき層4を形成する工程と、第2ニッケルめっき層4上に接して3価クロムめっき層5を形成する工程と、を備えるクロムめっき部品の製造方法であって、第2ニッケルめっき層4は電流密度0.1mA/cm2で-215~-290mVのアノード電位を有し、第1ニッケルめっき層3は第2ニッケルめっき層4に対し15~150mV卑である電位を有することを特徴とする製造方法によって、作製することができる。
本発明に従うクロムめっき部品を、以下のようにして作製した。
(素地の調製)
ABS樹脂成形品(形状:平板)の全面をクロム酸でエッチングした後、常法に従って還元処理、触媒化、及び活性化を行い、次いで無電解ニッケルめっきに付した。クロム酸エッチングには、無水クロム酸:400g/L、硫酸:400g/L、3価クロム:10g/Lを含有する処理液を使用した。無電解ニッケルめっきは、ENILEX NI-5プロセス((株)JCU製)を用いて40℃で行った。その後、CU-BRITE EP-30プロセス((株)JCU製)を用いて、室温、3A/dm2の条件で電解銅めっきを行い、素地を調製した。
上記で得られた素地を第1ニッケルめっき液に浸漬し、50℃、3A/dm2にて15分間の条件で厚さ6μmの第1ニッケルめっき層を形成した。第1ニッケルめっき液としては、下記の卑電位ニッケルめっきベース液をそのまま使用した。
<卑電位ニッケルめっきベース液>
・ワット浴
硫酸ニッケル 260g/L
塩化ニッケル 40g/L
ホウ酸 40g/L
・TRI-STRIKEプロセス((株)JCU製)
TRI-STRIKE 3ml/L
#82(湿潤剤) 2ml/L
次に、下記の第2ニッケルめっき液に浸漬し、50℃、3A/dm2にて15分間の条件で厚さ6μmの第2ニッケルめっき層を形成した(第1ニッケルめっき層と第2ニッケルめっき層との合計膜厚=12μm、第1ニッケルめっき層厚:第2ニッケルめっき層厚=1:1)。第2ニッケルめっき液としては、下記のような光沢ニッケルめっきベース液に、電位調整剤としてTRI-STRIKE((株)JCU製)を1ml/Lとなる量にて配合した液を使用した。これにより調製される第2ニッケルめっき層は、平均的な光沢ニッケルめっき層に比べて卑な電位を有し、第1ニッケルめっき層に対する電位差が+60mV(第1ニッケルめっき層の電位は第2ニッケルめっき層に対して60mV卑)となるように調整されている。
<光沢ニッケルめっきベース液>
・ワット浴
硫酸ニッケル 260g/L
塩化ニッケル 40g/L
ホウ酸 40g/L
・HI-BRITE#88プロセス((株)JCU製)
#810(二次光沢剤) 3ml/L
#82(湿潤剤) 2ml/L
#83(一次光沢剤) 10ml/L
次いで、下記の3価クロムめっき液に浸漬し、55℃、10A/dm2にて4分間の条件で、白色3価クロムめっき層を上記第2ニッケルめっき層に接するように形成した。得られたクロムめっき部品試料は、良好な外観を呈していた。
<3価クロムめっき液>
・塩基性硫酸クロム 19.5g/L (クロム濃度3g/L)
・リンゴ酸 3g/L
・硫酸カリウム 150g/L
・ホウ酸 70g/L
・サッカリン 3g/L
・3-アミノロダニン 20mg/L
・各ニッケルめっき層の膜厚は、断面顕微鏡写真から測定した。
・クロムめっき層の膜厚(Cr膜厚)は、(株)日立テクノサイエンス製蛍光X線分析器「FT-150H」で測定した。
クロムめっき部品試料を1:1塩酸中に浸漬してクロムめっき層を除去し、次いでマスキングして、第2ニッケルめっき層が表面に直径6mmの円形状に露出した試料(電位測定用試料)を作製した。この電位測定用試料を作用極とし、白金を対極、銀-塩化銀(飽和KCl)電極を参照極として、クロノポテンショメトリにより電圧を測定した。電解液としては、塩化ニッケル六水和物を300g/L、塩化ナトリウムを50g/L、ホウ酸を25g/L含有するpH2.75の水溶液を使用した。装置としては北斗電工株式会社製のHZ-7000を用い、25℃、600秒間、攪拌なしの条件で測定した。測定はn=3にて行い、平均値を採用した。
・電流密度を0.1mA/cm2とし、電圧が安定した際の作用極の電圧値を、第2ニッケルめっき層の「アノード電位」とした。
尚、同様に、電流密度を0.01、0.1、1、-0.01、-0.1、及び-1mA/cm2とし、電圧が安定した際の作用極の電圧値からTafelプロットを作成して、平衡電位を求めた。その結果、第2ニッケルめっき層のアノード電位が-215~-290mVのとき、平衡電位は-402~-414mVであった。
ASTM B764:「多層ニッケル析出物中の個々の層の厚さと電位の同時決定」に従うSTEP試験により、第2ニッケルめっき層に対する第1ニッケルめっき層の電位差を測定した。測定に先立ち、NiCl2・6H2Oを300g/L、NaClを50g/L、H3BO3を25g/L含有する電解液(20℃)を用意した。該電解液中に上記電位測定用試料を配置し、参照電極として銀-塩化銀電極を備える(株)中央製作所製の多層ニッケルめっき耐食性測定装置「ED-3」を用いて測定した。
耐食性は、JIS H8502に準じたCASS試験により評価した。塩化ナトリウムを50±5g/L及び塩化第二銅(CuCl2・2H2O)を0.26±0.02g/L含有し、酢酸でpHを3.0~3.2に調整した水溶液を、下記条件で65×50mmの試料に噴霧して、80時間後のレイティングナンバー(R.N.)を測定した。
・噴霧量:1.5±0.5ml/80cm2/h
・試験層内温度:50±2℃
・塩水タンク温度:50±2℃
・空気飽和器温度:63±2℃
・圧縮空気圧力:70~167kPa
5:膨れなし
4:膨れが5個以下
3:膨れが発生した領域は試料表面の半分以下であるが、6個以上の膨れが発生
2:膨れが発生していない部分もあるものの、試料表面の半分以上の領域で膨れが発生
1:試料全面で膨れが発生
実施例1と同一の操作で得られたクロムめっき部品試料の表面層に、さらに電解クロメート処理を行った。電解クロメート処理は、EBACHRO-500プロセス((株)JCU製ECR-500を100ml/L含有する6価クロム系処理液)を用い、40℃、0.1A/dm2にて1分間の条件で行った。得られたクロムめっき部品試料は、良好な外観を呈していた。この試料について、実施例1と同様に試験した結果を、後記する表1に示す。
第1ニッケルめっき液及び第2ニッケルめっき液の配合を変化させた以外は、実施例1又は2と同様の操作を行った。第1ニッケルめっき液としては、上記光沢ニッケルめっきベース液に電位調整剤としてTRI-STRIKE((株)JCU製)を1~5ml/Lとなる量で配合して電位を卑にした液(実施例3~8)、及びADDITIVE-E((株)JCU製)を0~0.1ml/Lとなる量で配合して電位を貴にした液(比較例1~4)を使用した。第2ニッケルめっき液としては、上記光沢ニッケルめっきベース液(実施例3~6)、及びそれにADDITIVE-E((株)JCU製)を0.1~1ml/Lとなる量で配合して電位を貴にした液(実施例7~8、比較例1~4)を使用した。
特許文献4記載のクロムめっき部品と同様にニッケルめっき層が三層構造を有する試料を、以下の条件で製造し、実施例1と同様にして評価した。
実施例1と同様にして調製した素地を、下記の半光沢ニッケルめっき液に浸漬し、55℃、3A/dm2にて15分間の条件で半光沢ニッケルめっき層を形成した。
<半光沢ニッケルめっき液>
・ワット浴
硫酸ニッケル 260g/L
塩化ニッケル 40g/L
ホウ酸 40g/L
・CF-24Tプロセス((株)JCU製)
CF-24T 1ml/L
#82-K(湿潤剤) 1ml/L
次に、上記した光沢ニッケルめっきベース液に浸漬し、50℃、3A/dm2にて12分間の条件で光沢ニッケルめっき層を形成した。この光沢ニッケルめっき層は、下層の半光沢ニッケルめっき層に対して、145mV卑である電位を有していた。
さらに、下記のMPニッケルめっき液に浸漬し、55℃、3A/dm2にて3分間の条件でMPニッケルめっき層を形成した。このMPニッケルめっき層は、下層の光沢ニッケルめっき層に対して、55mV貴である電位を有していた。また、半光沢ニッケルめっき層:光沢ニッケルめっき層:MPニッケルめっき層の膜厚比率は、5:4:1であった。
<MPニッケルめっき液>
・ワット浴
硫酸ニッケル 260g/L
塩化ニッケル 40g/L
ホウ酸 40g/L
・MP-NI308プロセス((株)JCU製)
MP-303 10ml/L
MP-311 3ml/L
MP POWDER 308 3g/L
MP-308B 2ml/L
ADDITIVE-E 0.15ml/L
次いで、実施例1と同様の条件で3価クロムめっきを行ってクロムめっき部品試料を調製し、物性を評価した。評価結果を、後記する表1に示す。
二層のニッケルめっき層の内、素地側のニッケルめっき層(下層)が貴電位である試料を作製した。実施例1と同様にして調製した素地に、半光沢ニッケルめっき、光沢ニッケルめっき、3価クロムめっきをこの順で行ってクロムめっき部品試料を調製し、物性試験を行った。尚、各めっき処理は、比較例1及び5等と同様の条件で、但し光沢ニッケルめっきのめっき時間を15分間として行った。また、本比較例のクロムめっき部品試料においては、下層の半光沢ニッケルめっき層は、上層の光沢ニッケルめっき層に対して、145mV貴である電位を有していた。得られたクロムめっき部品試料の試験結果を、表1に示す。
第1ニッケルめっき液の配合を変化させた以外は、実施例7又は8と同様の操作を行った。第1ニッケルめっき液としては、上記の光沢ニッケルめっきベース液(実施例9~14)又は卑電位ニッケルめっきベース液(実施例15~18)にTRI-STRIKE((株)JCU製)を0~5ml/Lとなる量で配合した液を使用し、実施例9及び10では浴温を60℃として、第2ニッケルめっき層に対する第1ニッケルめっき層の電位差を調整した。得られたクロムめっき部品試料はいずれも、良好な外観を呈した。これら試料についての試験結果を、後記する表2に示す。
第1ニッケルめっき液として上記光沢ニッケルめっきベース液を、第2ニッケルめっき液として上記卑電位ニッケルめっきベース液を用いた以外は、実施例3と同様の操作を行った。得られたクロムめっき部品試料の試験結果を、後記する表2に示す。
第1ニッケルめっき液の浴温を52℃に上げた以外は、実施例3と同様の操作を行った。得られたクロムめっき部品試料の試験結果を、後記する表2に示す。
参考のため、6価クロムめっき部品も調製した。3価クロムめっきの代わりに下記のめっき液を使用して、42℃、10A/dm2にて3分間の条件で6価クロムめっきを行った以外は、比較例7と同様の操作を行った。得られたクロムめっき部品試料の試験結果を、後記する表2に示す。
<6価クロムめっき液>
・EBACHROM E-300LNプロセス((株)JCU製)
クロム酸 240g/L
硫酸 1g/L
ECR-300LN 10ml/L
MISTSHUT NP 0.1ml/L
3価クロムめっきの代わりに比較例9と同様の6価クロムめっきを行った以外は、実施例3と同様の操作を行った。得られたクロムめっき部品試料は、外観が極めて悪いものであった。そのため、CASS試験でのR.N.評価は実施していない。膨れ評価等の結果を、表2に示す。
第2ニッケルめっき層に対する第1ニッケルめっき層の電位差を-60mVに、ニッケル膜厚を12μmに、それぞれ固定して、膜厚比が耐食性に及ぼす影響について検討した。第1ニッケルめっき及び第2ニッケルめっきの処理時間を、それぞれ1~29分間及び1~29分間として両ニッケルめっき層の膜厚比を種々に変化させた以外は、実施例1~8及び比較例1~4と同様の操作を行った。尚、めっき時間と各ニッケルめっき層の膜厚との相関が取れていることは、上記した断面顕微鏡写真に基づく測定により確認した。得られたクロムめっき部品試料はいずれも、作製直後の外観は良好であった。これら試料についての試験結果を、実施例1~4及び比較例1~4等の結果と共に、表3及び4に示す。
第1ニッケルめっき層と第2ニッケルめっき層との合計膜厚を25μmとした以外は、実施例3又は4と同様の操作を行った(両ニッケルめっき層間の電位差は60mV、膜厚比率は1:1)。得られたクロムめっき部品試料は、いずれも良好な外観を呈していた。これら試料についての試験結果を、後記する表5に示す。
また、半光沢ニッケルめっき層:光沢ニッケルめっき層:MPニッケルめっき層の膜厚比率を9:6:1、ニッケル膜厚を25μmとし、かつ光沢ニッケルめっき層に対するMPニッケルめっき層の電位差を+30mV又は+70mVとした以外は、比較例5と同様の操作を行った。比較例36及び38においては、実施例4と同様のクロメート処理も行った。得られた試料についての試験結果を、後記する表5に示す。
3価クロムめっきの代わりに6価クロムめっきを行った以外は、比較例35と同様の操作を行った。6価クロムめっきは、比較例9と同様にして行った。得られた試料についての試験結果を、表5に示す。
クロムめっきとして白色3価クロムめっきの代わりに黒色3価クロムめっきを行った以外は、実施例5~6と同様の操作を行った。黒色3価クロムめっきは、試料を下記の黒色3価クロムめっき液に浸漬し、40℃、10A/dm2にて3分間の条件で行った。得られたクロムめっき部品試料は、良好な外観を呈していた。得られた試料についての試験結果を、後記する表6に示す。
<黒色3価クロムめっき液>
・JTC-BKプロセス((株)JCU製)
JTC-CR2 130g/L
JTC-BK-S 300g/L
JTC-A 90mL/L
JTC-BK-B 20mL/L
JTC-BK-C 20mL/L
JTC-WA 2mL/L
クロムめっきとして黒色3価クロムめっきを行い、かつ光沢ニッケルめっき層に対するMPニッケルめっき層の電位差を+35mVとした以外は、比較例35又は36と同様の操作を行った。黒色3価クロムめっきは、実施例73~74と同様にして行った。得られた試料についての試験結果を、表6に示す。
第2ニッケルめっき液として以下のサテンニッケルめっき液(pH4.2)を用い、52℃、3A/dmにて15分間の条件で第2ニッケルめっき層を形成した以外は、実施例3又は4と同様の操作を行った。得られたクロムめっき部品試料はいずれも、外観が良好であった。これら試料についての試験結果を、表7に示す。
<サテンニッケルめっき液>
・ワット浴
硫酸ニッケル 470g/L
塩化ニッケル 40g/L
ホウ酸 40g/L
・DOUBLET SATINプロセス((株)JCU製)
SATIN NICKEL EM1 10mL/L
SATIN NICKEL EM2 5mL/L
SATIN NICKEL DS-A 0.1mL/L
SATIN NICKEL DS-B 0.1mL/L
2 素地
2A 素地の表面
3 第1ニッケルめっき層
4 第2ニッケルめっき層
5 3価クロムめっき層
21 基材
22 表面層
Claims (9)
- 銅又は銅合金からなる表面層を有する素地と、
前記素地の前記表面層に接して形成された第1ニッケルめっき層と、
前記第1ニッケルめっき層上に接して形成された第2ニッケルめっき層と、
前記第2ニッケルめっき層上に接して形成された3価クロムめっき層と、
を備えるクロムめっき部品であって、
前記第2ニッケルめっき層は、電流密度0.1mA/cm2で-230~-290mVのアノード電位を有し、
前記第1ニッケルめっき層は前記第2ニッケルめっき層に対し、15~150mV卑である電位を有する
ことを特徴とするクロムめっき部品。 - 前記第1ニッケルめっき層と前記第2ニッケルめっき層との膜厚比率が1:10~30:1である、請求項1記載のクロムめっき部品。
- 前記第1ニッケルめっき層と前記第2ニッケルめっき層との膜厚比率が1:4~14:1である、請求項1記載のクロムめっき部品。
- 前記第1ニッケルめっき層と前記第2ニッケルめっき層との合計膜厚が1~30μmである、請求項1記載のクロムめっき部品。
- 前記3価クロムめっき層上に、電解化成処理膜及び/又は浸漬化成処理膜をさらに備える、請求項1記載のクロムめっき部品。
- 前記第2ニッケルめっき層が、非導電性微粒子不含の層である、請求項1記載のクロムめっき部品。
- 前記素地が、樹脂、セラミックス、及び金属からなる群より選択される1種以上の材料からなり、かつ銅もしくは銅合金から主としてなる前記表面層が付された基材であるか、又は銅もしくは銅合金から主としてなる基材である、請求項1記載のクロムめっき部品。
- 銅又は銅合金から主としてなる表面層を有する素地上に、前記表面層に接して第1ニッケルめっき層を形成する工程と、
前記第1ニッケルめっき層上に接して第2ニッケルめっき層を形成する工程と、
前記第2ニッケルめっき層上に接して3価クロムめっき層を形成する工程と、
を備えるクロムめっき部品の製造方法であって、
前記第2ニッケルめっき層は、電流密度0.1mA/cm2で-230~-290mVのアノード電位を有する、非導電性微粒子不含の層であり、
前記第1ニッケルめっき層は前記第2ニッケルめっき層に対し、15~150mV卑である電位を有する
ことを特徴とするクロムめっき部品の製造方法。 - 前記3価クロムめっき層の表面に、電解化成処理膜及び/又は浸漬化成処理膜を形成する工程をさらに含む、請求項8記載のクロムめっき部品の製造方法。
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