JP7349762B2 - ヒドロキシベンジルアミンの合成方法 - Google Patents
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Description
温度計、滴下漏斗、電力調整可能な加熱マントル、撹拌機及び蒸留装置を備えた反応器に臭化水素酸を加え、撹拌しながらメトキシベンジルアミンを滴下し、前記メトキシベンジルアミンの滴下が完了するまで加熱し始めて蒸留して余分な水を除去するステップS1と、
留去温度が120℃以上に達する時に、加熱速度を下げて、還流状態にし又は非常に遅い速度で留去して前記反応器内の温度を126℃以上に保持し、生じたガスを有機溶剤で吸収し又は凍結回収し、前記ガスが生じなくなるまで観察するステップS2と、
前記ステップS2における材料を蒸留し続け、過剰の臭化水素酸を回収し、前記反応器内の温度が132℃以上に達したら停止するステップS3と、
前記ステップS3の反応器を少し冷却し、その中に水を加え、冷却しながら水酸化ナトリウム水溶液を滴下し、沈殿物を生成させ、沈殿物が完全に消えるまで滴下し続けるステップであって、加えられる水の量は多すぎると不適であり、後続の冷却過程において、結晶化のために撹拌が困難にならないようにすれば十分である、ステップS4と、
前記ステップS4でアルカリ不溶性有機物を抽出剤で抽出し、次に有機相で前記抽出剤を回収し、水相を保留するステップS5と、
冷却状態で、前記ステップS5の前記水相のpH値を塩酸で調整し、氷水で冷却して結晶化し、吸引濾過し、洗浄し、真空乾燥することによって完成品を得るステップS6と、を含む。
前記ヒドロキシベンジルアミンの合成方法は、前記ステップS6において、pH値を9~10に調整することを特徴とする。
(付記1)
温度計、滴下漏斗、電力調整可能な加熱マントル、撹拌機及び蒸留装置を備えた反応器に臭化水素酸を加え、撹拌しながらメトキシベンジルアミンを滴下し、前記メトキシベンジルアミンの滴下が完了したら加熱し始めて蒸留によって余分な水を除去するステップS1と、
留去温度が120℃以上に達する時に、加熱速度を下げて、還流状態にし又は非常に遅い速度で留去して前記反応器内の温度を126℃以上に保持し、生じたガスを有機溶剤で吸収し又は凍結回収し、前記ガスが生じなくなるまで観察するステップS2と、
前記ステップS2における材料を蒸留し続け、過剰の臭化水素酸を回収し、前記反応器内の温度が132℃以上に達したら停止するステップS3と、
前記ステップS3の前記反応器を少し冷却し、その中に水を加え、冷却しながら水酸化ナトリウム水溶液を滴下し、沈殿物を生成させ、沈殿物が完全に消えるまで滴下し続けるステップS4と、
前記ステップS4でアルカリ不溶性有機物を抽出剤で抽出し、次に有機相で前記抽出剤を回収し、水相を保留するステップS5と、
冷却状態で、前記ステップS5の前記水相のpH値を塩酸で調整し、氷水で冷却して結晶化し、吸引濾過し、洗浄し、真空乾燥することによって完成品を得るステップS6と、を含むことを特徴とする、ヒドロキシベンジルアミンの合成方法。
前記ステップS1において、前記臭化水素酸の質量濃度は1%以上であり、好ましくは10%~48%であることを特徴とする、付記1に記載のヒドロキシベンジルアミンの合成方法。
前記ステップS1において、メトキシベンジルアミンは、2-メトキシベンジルアミン、3-メトキシベンジルアミン及び4-メトキシベンジルアミンのうち1種であることを特徴とする、付記1に記載のヒドロキシベンジルアミンの合成方法。
前記ステップS1において、仕込みモル比は、メトキシベンジルアミン:臭化水素酸=1:2~1:4であり、好ましくは1:2.5~1:4であることを特徴とする、付記1に記載のヒドロキシベンジルアミンの合成方法。
前記ステップS4において、滴下した水酸化ナトリウムの濃度は1%~60%であり、好ましくは10%~50%であることを特徴とする、付記1に記載のヒドロキシベンジルアミンの合成方法。
前記ステップS5において、前記アルカリ不溶性有機物を抽出するための前記抽出剤は、エーテル系物質又はベンゼンの同族体であり、前記エーテル系物質は、好ましくはエチルエーテル、プロピルエーテル、イソプロピルエーテル、ジブチルエーテル又はメチルtert-ブチルエーテルであり、前記ベンゼンの同族体は、好ましくはベンゼン、トルエン又はキシレンであることを特徴とする、付記1に記載のヒドロキシベンジルアミンの合成方法。
前記ステップS6において、前記塩酸の濃度は1%~37.5%であり、好ましくは10%~37.5%であることを特徴とする、付記1に記載のヒドロキシベンジルアミンの合成方法。
前記ステップS6において、pH値を9~10に調整することを特徴とする、付記1に記載のヒドロキシベンジルアミンの合成方法。
前記ステップS6において、真空乾燥条件は、絶対圧が10mmHg未満であり、室温で2時間回転して真空乾燥した後、10℃/時間の加熱速度で熱媒体の水を80℃まで加熱し、恒量になるまでベーキングすることを特徴とする、付記1に記載のヒドロキシベンジルアミンの合成方法。
Claims (14)
- 温度計、滴下漏斗、電力調整可能な加熱マントル、撹拌機及び蒸留装置を備えた反応器に臭化水素酸を加え、撹拌しながらメトキシベンジルアミンを滴下し、前記メトキシベンジルアミンの滴下が完了したら加熱し始めて蒸留によって余分な水を除去するステップS1と、
留去温度が120℃以上に達する時に、加熱速度を下げて、還流状態にして前記反応器内の温度を126℃以上に保持して、過剰の水を除去し、生じたガスを有機溶剤で吸収し又は凍結回収し、前記ガスが生じなくなるまで観察するステップS2と、
前記ステップS2における材料を蒸留し続け、過剰の臭化水素酸を回収し、前記反応器内の温度が132℃以上に達したら停止するステップS3と、
前記ステップS3の前記反応器を冷却し、その中に水を加え、冷却しながら水酸化ナトリウム水溶液を滴下し、沈殿物を生成させ、沈殿物が完全に消えるまで滴下し続けるステップS4と、
前記ステップS4でアルカリ不溶性有機物を抽出剤で抽出し、次に有機相で前記抽出剤を回収し、水相を保留するステップS5と、
冷却状態で、前記ステップS5の前記水相のpH値を塩酸で調整し、氷水で冷却して結晶化し、吸引濾過し、洗浄し、真空乾燥することによって完成品を得るステップS6と、を含むことを特徴とする、ヒドロキシベンジルアミンの合成方法。 - 前記ステップS1において、前記臭化水素酸の質量濃度は1%以上であることを特徴とする、請求項1に記載のヒドロキシベンジルアミンの合成方法。
- 前記ステップS1において、前記臭化水素酸の質量濃度は10%~48%であることを特徴とする、請求項1に記載のヒドロキシベンジルアミンの合成方法。
- 前記ステップS1において、メトキシベンジルアミンは、2-メトキシベンジルアミン、3-メトキシベンジルアミン及び4-メトキシベンジルアミンのうち1種であることを特徴とする、請求項1に記載のヒドロキシベンジルアミンの合成方法。
- 前記ステップS1において、仕込みモル比は、メトキシベンジルアミン:臭化水素酸=1:2~1:4であることを特徴とする、請求項1に記載のヒドロキシベンジルアミンの合成方法。
- 前記ステップS1において、仕込みモル比は、メトキシベンジルアミン:臭化水素酸=1:2.5~1:4であることを特徴とする、請求項1に記載のヒドロキシベンジルアミンの合成方法。
- 前記ステップS4において、滴下した水酸化ナトリウムの濃度は1%~60%であることを特徴とする、請求項1に記載のヒドロキシベンジルアミンの合成方法。
- 前記ステップS4において、滴下した水酸化ナトリウムの濃度は10%~50%であることを特徴とする、請求項1に記載のヒドロキシベンジルアミンの合成方法。
- 前記ステップS5において、前記アルカリ不溶性有機物を抽出するための前記抽出剤は、エーテル系物質又はベンゼンの同族体であることを特徴とする、請求項1に記載のヒドロキシベンジルアミンの合成方法。
- 前記ステップS5において、前記アルカリ不溶性有機物を抽出するための前記抽出剤は、エーテル系物質又はベンゼンの同族体であり、前記エーテル系物質は、エチルエーテル、プロピルエーテル、イソプロピルエーテル、ジブチルエーテル又はメチルtert-ブチルエーテルであり、前記ベンゼンの同族体は、ベンゼン、トルエン又はキシレンであることを特徴とする、請求項1に記載のヒドロキシベンジルアミンの合成方法。
- 前記ステップS6において、前記塩酸の濃度は1%~37.5%であることを特徴とする、請求項1に記載のヒドロキシベンジルアミンの合成方法。
- 前記ステップS6において、前記塩酸の濃度は10%~37.5%であることを特徴とする、請求項1に記載のヒドロキシベンジルアミンの合成方法。
- 前記ステップS6において、pH値を9~10に調整することを特徴とする、請求項1に記載のヒドロキシベンジルアミンの合成方法。
- 前記ステップS6において、真空乾燥条件は、絶対圧が10mmHg未満であり、室温で2時間回転して真空乾燥した後、10℃/時間の加熱速度で熱媒体の水を80℃まで加熱し、恒量になるまでベーキングすることを特徴とする、請求項1に記載のヒドロキシベンジルアミンの合成方法。
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