JP7349730B2 - 超音波洗浄方法 - Google Patents
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Description
吸引工程では、低圧領域40を洗浄ステージ10の上に保持されたイメージセンサ12の表面15の上方で表面15に沿って相対的に移動させながらケーシング22の中央下部に低圧領域40を形成し、イメージセンサ12の表面15から剥離した異物90と表面15に塗布された洗浄液61とを低圧領域40に吸引する。
Claims (4)
- 洗浄対象物の表面を洗浄する超音波洗浄方法であって、
保持面に前記洗浄対象物を保持する洗浄ステージと、前記洗浄ステージと離間して配置され、指向性を有する複数の超音波発生器と複数の前記超音波発生器から発生した複数の超音波が集中するように複数の前記超音波発生器が取付けられるケーシングとを有する音響ヘッドと、を備える音響式洗浄装置を準備する準備工程と、
前記洗浄ステージに保持された前記洗浄対象物の前記表面に洗浄液を塗布する洗浄液塗布工程と、
前記洗浄液塗布工程の後、前記音響ヘッドに取付けられた複数の前記超音波発生器から発生した複数の超音波を前記洗浄液が塗布された前記洗浄対象物の前記表面に照射して、前記表面に付着している異物を前記表面から剥離させる剥離工程と、
前記音響ヘッドに取付けられた複数の前記超音波発生器から発生した複数の超音波を前記ケーシングと前記洗浄ステージの前記保持面との間の空隙で集中させて前記空隙に大気圧よりも圧力が低い低圧領域を形成し、前記洗浄対象物の前記表面から剥離した前記異物と前記表面に塗布された前記洗浄液とを前記低圧領域に吸引する吸引工程と、
を有する超音波洗浄方法。 - 請求項1に記載の超音波洗浄方法であって、
前記準備工程で準備する前記音響式洗浄装置は、前記音響ヘッドを前記洗浄ステージに保持された前記洗浄対象物に対して相対的に移動させる移動機構を備え、
前記剥離工程は、前記音響ヘッドを前記洗浄ステージに保持された前記洗浄対象物と前記空隙を介して前記表面に沿って相対的に移動させながら、複数の前記超音波を前記洗浄対象物の前記表面に照射し、
前記吸引工程は、前記低圧領域を前記洗浄ステージに保持された前記洗浄対象物の前記表面の上方で前記表面に沿って相対的に移動させながら、前記洗浄対象物の前記表面から剥離した前記異物と前記表面に塗布された前記洗浄液とを前記低圧領域に吸引すること、
を特徴とする超音波洗浄方法。 - 請求項2に記載の超音波洗浄方法であって、
前記剥離工程は、前記表面からの前記低圧領域の高さが前記超音波の半波長よりも高くなるように前記音響ヘッドを移動させ、
前記吸引工程は、前記表面からの前記低圧領域の高さが前記超音波の半波長以下となるように前記音響ヘッドを移動させ、
前記剥離工程の後に前記吸引工程を実行すること、
を特徴とする超音波洗浄方法。 - 請求項2に記載の超音波洗浄方法であって、
前記表面からの前記低圧領域の高さを前記超音波の半波長よりも高く、1波長よりも低くなるように前記音響ヘッドを移動させ、
前記剥離工程と前記吸引工程とを同時に実行すること、
を特徴とする超音波洗浄方法。
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JP4144201B2 (ja) * | 2001-07-18 | 2008-09-03 | 凸版印刷株式会社 | ウエット洗浄処理装置 |
KR100931856B1 (ko) * | 2007-08-24 | 2009-12-15 | 세메스 주식회사 | 기판 세정 장치 및 기판 세정 방법 |
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