JP7326777B2 - 軟磁性合金および磁性部品 - Google Patents

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Description

本発明は軟磁性合金および磁性部品に関する。
近年、電子・情報・通信機器等において高効率化および低消費電力化が求められている。さらに、低炭素化社会の実現へ向け、上記の要求が一層強くなっている。そのため、電子・情報・通信機器等の電源回路にも、電源効率の向上およびエネルギー損失の低減が求められている。その結果、電源回路に使用される磁性部品が備える磁心には飽和磁束密度の向上およびコアロス(磁心損失)の低減が求められている。コアロスを低減すれば、電源回路のエネルギー損失が小さくなり、電子・情報・通信機器等の高効率化および省エネルギー化が達成できる。
コアロスを低減する方法の一つとして、高い軟磁気特性を有する磁性体により磁心を構成することが有効である。たとえば、特許文献1には、Fe-B-M系の軟磁性合金が開示されている。Mは、Ti,Zr,Hf,V,Nb,Ta,Mo,Wから選ばれる1種以上である。
特開平7-268566号公報
特許文献1には、液相冷却により作製したアモルファス金属に熱処理を施して微細結晶相を析出させることにより、軟磁性合金の軟磁気特性と飽和磁束密度を向上できることが記載されている。しかしながら、軟磁性合金の軟磁気特性を向上させるには保磁力を低減する必要があるが、特許文献1では保磁力の低減については十分に検討されていない。
保磁力は主に結晶磁気異方性と磁気弾性効果とに由来する。磁気弾性効果による保磁力は磁歪の大きな磁性体に応力がかかった際に出現する。ナノメートルオーダーの微細なFe基結晶相を等方的に析出させることにより、結晶磁気異方性由来の保磁力を低下させることができる。
しかしながら、磁気弾性効果由来の保磁力を十分に低下させるには、磁歪も低減する必要がある。また、Mの含有割合が比較的小さく、アモルファス形成能を高める役割を有するBおよびPの含有割合が比較的大きい組成領域では、熱処理前のアモルファス状態が均一であることから熱処理後の微細結晶も均一になりやすい。そのため結晶磁気異方性の抑制に有利であり、かつ高い飽和磁束密度が得られる。しかしながらその反面磁歪が大きくなる傾向にある。その結果、磁性部品の製造時において、磁歪に起因する残留応力による特性低下が顕著になるという問題があった。
本発明は、このような実状に鑑みてなされ、その目的は、磁歪と結晶磁気異方性の両方を低減することにより、低い保磁力と高い飽和磁束密度とを両立可能な軟磁性合金を提供することである。
本発明の態様は、
[1]組成式(Fe(1-(α+β))X1αX2β(1-(a+b+c+d+e+f))SiZnで表される軟磁性合金であって、
X1は、CoおよびNiからなる群から選ばれる少なくとも1種であり、
X2は、Cu、Mg、Al、Mn、Ag、Sn、Bi、O、N、Sおよび希土類元素からなる群から選ばれる少なくとも1種であり、
Mは、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、TaおよびWからなる群から選ばれる少なくとも1種であり、
a、b、c、d、e、f、αおよびβが、
0.080≦b≦0.150、
0≦c≦0.060、
0≦d≦0.060、
0≦e≦0.030、
0.0030≦f≦0.080
0.0030≦a+f≦0.080
b+c≧0.100
α≧0、
β≧0、
0≦α+β≦0.50である関係を満足し、
bcc構造を有するFe基ナノ結晶を有する軟磁性合金である。
[2]c≦0.040、
d≦0.030、
0.010≦f≦0.050
0.010≦a+f≦0.050である関係を満足する[1]に記載の軟磁性合金である。
[3]純鉄の(110)面間隔に対するFe基ナノ結晶の(110)面間隔の拡張値が0.002オングストローム以下である[1]または[2]に記載の軟磁性合金である。
[4]Fe基ナノ結晶の平均粒径が、5nm以上30nm以下である [1] から[3]のいずれかに記載の軟磁性合金である。
[5]薄帯形状である[1]から[4]のいずれかに記載の軟磁性合金である。
[6]粉末形状である[1]から[4]のいずれかに記載の軟磁性合金である。
[7][1]から[4]のいずれかに記載の軟磁性合金を有する磁性部品である。
本発明によれば、低い保磁力と高い飽和磁束密度とを両立可能な軟磁性合金を提供することができる。
以下、本発明を、以下の順序で詳細に説明する。
1.軟磁性合金
2.軟磁性合金の製造方法
3.磁性部品
(1.軟磁性合金)
本実施形態に係る軟磁性合金は、Fe基ナノ結晶と非晶質とを有している。Fe基ナノ結晶は、結晶粒径がナノメートルオーダーであり、bcc(体心立方格子)構造を有する結晶である。当該軟磁性合金においては、多数のFe基ナノ結晶が非晶質中に析出し分散している。Fe基ナノ結晶が非晶質中に分散している軟磁性合金は、高い飽和磁束密度および低い保磁力を示しやすい。
本実施形態では、Fe基ナノ結晶の平均結晶粒径は5nm以上30nm以下であることが好ましい。平均結晶粒径が上記の範囲内であることにより、低い磁歪と高い飽和磁束密度と低い保磁力とを両立することが容易となる。
続いて、本実施形態に係る軟磁性合金の組成について詳細に説明する。
本実施形態に係る軟磁性合金の組成は、組成式(Fe(1-(α+β))X1αX2β(1-(a+b+c+d+e+f))SiZnで表される。
上記の組成式において、Mは、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、TaおよびWからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素である。
また、aはMの含有割合を示している。本実施形態では、aは、後述するZnの含有割合を示すfとの関係により決まる。
上記の組成式において、bはB(ホウ素)の含有割合を示しており、bは0.080≦b≦0.150を満たす。Bの含有割合(b)は、0.130以下であることが好ましい。
上記の組成式において、cはP(リン)の含有割合を示しており、cは0≦c≦0.060を満たす。すなわち、Pは任意成分である。Pの含有割合(c)は、0.005以上であることが好ましく、0.010以上であることがより好ましい。また、Pの含有割合(c)は、0.040以下であることが好ましい。
本実施形態では、BとPの含有割合の総和はb+c≧0.100を満たす。
cが上記の範囲内である場合には保磁力が低下する傾向にある。cが小さすぎる場合には上記の効果が得られにくい傾向にある。一方、cが大きすぎる場合には、熱処理後の結晶粒径が大きくなる傾向にあり保磁力が高くなりやすい傾向にある。また、b+cが上記範囲にある場合に液相急冷の際の非晶質性が高くなり、熱処理後に均一な微結晶を得ることが出来、保磁力が低下する傾向にある。
BとPの含有割合が比較的多く、さらに、Mが所定の割合で含有される組成領域では、原料合金を液相冷却する際の非晶質形成能が高く、さらに、冷却して得られる合金の熱処理後には微細なナノ結晶が析出する構造が得られる。その結果、結晶磁気異方性が抑制された軟磁性合金が得られやすい。また、Mの含有割合が比較的少ない領域では高い飽和磁束密度が得られやすい。
しかしながら、このような組成領域を有する軟磁性合金は、正磁歪が大きい傾向にある。上述したように、保磁力は、結晶磁気異方性だけでなく、磁気弾性効果にも影響される。磁気弾性効果が大きい、すなわち、磁歪が大きいと、保磁力の低減が不十分となる場合がある。
そこで、本実施形態では、軟磁性合金にZn(亜鉛)を所定量含有させる。このようにすることにより、微細なナノ結晶を有する構造と高い飽和磁束密度とを維持しつつ、軟磁性合金の正磁歪を低減することができる。換言すれば、本実施形態に係る軟磁性合金は、結晶磁気異方性および磁気弾性効果の両方が低減されているので、保磁力および磁歪の両方が小さく、しかも高い飽和磁束密度を示すことができる。
具体的には、上記の組成式において、fはZnの含有割合を示しており、fは0.003≦f≦0.080を満たすとともに、aおよびfは0.003≦a+f≦0.080を満たす。すなわち、本実施形態では、MをZn(亜鉛)で置換する。Znは、Mの全部を置換してもよいし、上記の範囲内においてMの一部を置換してもよい。
fが小さすぎる場合には、磁歪を低減する効果が小さい。その結果、保磁力を小さくできない場合がある。一方、fが大きすぎる場合には、飽和磁束密度が低下しやすくなる傾向にあるとともに、磁歪が逆に増大する傾向にある。
本実施形態では、fは0.010以上であることが好ましい。一方、fは0.050以下であることが好ましい。また、a+fは0.010以上であることが好ましい。一方、a+fは0.050以下であることが好ましい。
MをZnで置換することにより、磁歪が低減できるメカニズムは明らかではないが、たとえば、以下のように推察することができる。
磁歪が大きくなる要因の1つは、Mが、bcc構造を有するFe基ナノ結晶に固溶することによるbccの格子間隔の拡大である。ZnはM元素よりも原子半径が小さいので、Mの代わりに、ZnがFe基ナノ結晶に固溶すると、bccの格子間隔の拡大を抑制することができる。その結果、Fe基ナノ結晶の正磁歪が低減すると考えられる。また、Znを過剰に添加した際には格子間隔が拡大する傾向があり、その結果として磁歪低減効果が小さくなると考えられる。
さらに、ZnがFe基ナノ結晶に固溶すると、bcc構造の負磁歪を大きくすると考えられるので、これによっても、Fe基ナノ結晶の正磁歪が低減すると考えられる。
しかも、Znは、Mと同様に、Fe基ナノ結晶を微細化する効果を有しているので、微細なナノ結晶を有する構造を維持しつつ、磁歪が低減された軟磁性合金を得ることができる。
また、Znのbccへの固溶の有無にかかわらず、bccへのMの固溶を抑制することが好ましい。上述したように、bccにMが固溶すると、bccの格子間隔が拡張するので、bccの格子間隔の拡張は所定値以下であることが好ましい。
本実施形態では、bccの格子間隔として、bccの(110)面の間隔を採用する。純鉄にはMが含まれていないので、純鉄のbccにはMは固溶していない。すなわち、bccへのMの固溶による面間隔の拡張は生じていない。したがって、軟磁性合金の(110)面の間隔が、純鉄の(110)面の間隔に近いほど、bccへのMの固溶割合が低いことを意味する。
本実施形態では、軟磁性合金の(110)面の間隔から純鉄の(110)面の間隔を減じた値を(110)面間隔の拡張値と定義する。(110)面間隔の拡張値は、0.002オングストローム以下であることが好ましい。
(110)面間隔の拡張値が上記の範囲内であることにより、軟磁性合金の磁歪を低減することができる。
軟磁性合金の(110)面の間隔および純鉄の(110)面の間隔は、XRD(X-Ray Diffraction)測定により算出することができる。すなわち、(110)面の回折ピークが観察される角度とX線の波長とから(110)面の間隔が算出できる。そして、算出された間隔に基づき、(110)面間隔の拡張値を算出すればよい。
なお、XRD測定装置の固有の誤差による影響を低減するために、軟磁性合金の(110)面の間隔および純鉄の(110)面の間隔は、同じ装置かつ同じ測定条件で測定することが好ましい。
上記の組成式において、dはSi(シリコン)の含有割合を示しており、dは0≦d≦0.060を満たす。すなわち、Siは任意成分である。Siの含有割合(d)は、0.001以上であることが好ましく、0.005以上であることがより好ましい。また、Siの含有割合(d)は、0.030以下であることが好ましい。
dが上記の範囲内である場合には、軟磁性合金の比抵抗が特に向上しやすくなり、保磁力が低下しやすくなる傾向にある。一方、dが大きすぎる場合には、軟磁性合金の保磁力が逆に上昇してしまう傾向にある。
上記の組成式において、eはC(炭素)の含有割合を示しており、eは0≦e≦0.030を満たす。すなわち、Cは任意成分である。Cの含有割合(e)は、0.001以上であることが好ましい。また、Cの含有割合(e)は、0.015以下であることが好ましい。
eが上記の範囲内である場合には、軟磁性合金の保磁力が特に低下しやすくなる傾向にある。eが大きすぎる場合には、結晶粒径が大きくなり保磁力が逆に上昇してしまう傾向にある。
上記の組成式において、1-(a+b+c+d+e+f)は、Fe(鉄)、X1およびX2の合計含有割合を示している。Fe、X1およびX2の合計含有割合は、a、b、c、d、eおよびfが上記の範囲内である限りにおいて、特に制限されない。本実施形態では、合計含有割合(1-(a+b+c+d+e+f))は、0.73以上0.95以下であることが好ましい。合計含有割合を0.73以上とすることにより高い飽和磁束密度が得られやすくなる。また、0.95以下とすることで、粒径が30nmよりも大きい結晶から構成される結晶相が生じにくくなる。その結果、熱処理によりFe基ナノ結晶が析出した軟磁性合金が得られやすくなる傾向にある。
X1は、CoおよびNiからなる群から選択される少なくとも1種の元素である。上記の組成式において、αはX1の含有割合を示しており、本実施形態では、αは0以上である。すなわち、X1は任意成分である。
また、組成全体の原子数を100at%とした場合に、X1の原子数は40at%以下であることが好ましい。すなわち、0≦α{1-(a+b+c+d+e+f)}≦0.40を満たすことが好ましい。
X2は、Cu、Mg、Al、Mn、Ag、Sn、Bi、O、N、Sおよび希土類元素からなる群より選ばれる少なくとも1種の元素である。上記の組成式において、βはX2の含有割合を示しており、本実施形態では、βは0以上である。すなわち、X2は任意成分である。
また、組成全体の原子数を100at%とした場合に、X2の原子数は3.0at%以下であることが好ましい。すなわち、0≦β{1-(a+b+c+d+e+f)}≦0.030を満たすことが好ましい。
さらに、X1および/またはX2がFeを置換する範囲(置換割合)としては、原子数換算でFeの総原子数の半分以下とする。すなわち、0≦α+β≦0.50とする。α+βが大きすぎる場合には、熱処理によりFe基ナノ結晶が析出した軟磁性合金を得ることが困難となる傾向にある。
なお、本実施形態に係る軟磁性合金は、上記以外の元素を不可避的不純物として含んでいてもよい。たとえば、軟磁性合金100質量%に対して、上記以外の元素を合計で0.1質量%以下含んでいてもよい。
(2.軟磁性合金の製造方法)
続いて、軟磁性合金を製造する方法について説明する。本実施形態に係る軟磁性合金は、たとえば、上記の組成を有する非晶質合金中にFe基ナノ結晶を析出させることにより製造される。
非晶質合金を得る方法としては、たとえば、溶融金属を急冷して非晶質合金を得る方法が例示される。本実施形態では、単ロール法により非晶質合金の薄帯または薄片を得てもよいし、アトマイズ法により非晶質合金の粉末を得てもよい。以下では、単ロール法により非晶質合金を得る方法と、アトマイズ法の一例としてのガスアトマイズ法により非晶質合金を得る方法とを説明する。
単ロール法では、まず、軟磁性合金に含まれる各金属元素の原料(純金属等)を準備し、最終的に得られる軟磁性合金の組成となるように秤量し、当該原料を溶解して、溶融金属を得る。なお、金属元素の原料を溶解する方法は特に制限されないが、たとえば、所定の雰囲気下で高周波加熱により溶解させる方法が例示される。溶融金属の温度は、各金属元素の融点を考慮して決定すればよいが、たとえば1200~1500℃とすることができる。
次に、たとえば、不活性ガスが充填されたチャンバー内部において、冷却された回転ロールに対して、ノズルから溶融金属を噴射し供給することで回転ロールの回転方向に向かって薄帯または薄片状の非晶質合金が製造される。回転ロールの材質としては、たとえば、銅が挙げられる。回転ロールの温度、回転ロールの回転速度、チャンバー内部の雰囲気等は、後述する熱処理において、非晶質中にFe基ナノ結晶が析出しやすい条件に応じて決定すればよい。
ガスアトマイズ法では、単ロール法と同様に、まず、軟磁性合金の原料が溶解した溶融金属を得る。溶融金属の温度は、単ロール法と同様に、各金属元素の融点を考慮して決定すればよいが、たとえば1200~1500℃とすることができる。
得られた溶融金属をルツボ底部に設けられたノズルを通じて線状の連続的な流体としてチャンバー内に供給し、供給された溶融金属に高圧のガスを吹き付けて、溶融金属を液滴化するとともに、急冷して粉末状の非晶質合金を得る。ガス噴射温度、チャンバー内の圧力等は、後述する熱処理において、非晶質中にFe基ナノ結晶が析出しやすい条件に応じて決定すればよい。また、粒子径については篩分級や気流分級等により粒度調整が可能である。
上記の方法により得られる薄帯および粉末は、非晶質合金から構成される。非晶質合金は、非晶質中に微結晶が分散している非晶質合金であってもよいし、結晶を含まない合金であってもよい。
次に、得られる薄帯および粉末を熱処理(第1熱処理)する。第1熱処理を行うことにより、軟磁性合金を構成する元素の拡散を促し、熱力学的平衡状態に短時間で到達させ、軟磁性合金中に存在する歪や応力を除去することができる。その結果、Fe基ナノ結晶が析出した軟磁性合金を得ることが容易となる。
本実施形態では、第1熱処理の条件は、Fe基ナノ結晶が析出しやすい条件であれば特に制限されない。薄帯の場合には、たとえば、熱処理温度を400~700℃、保持時間を0.5~10時間とすることができる。
本実施形態では、第1熱処理の後に、さらに熱処理(第2熱処理)を行うことが好ましい。第2熱処理を行うことにより、Fe基ナノ結晶に固溶しているMを結晶外に排出することができる。また、Znを比較的多く含む組成の場合では過剰に固溶したZnを結晶外に排出し結晶内のZn固溶量を最適化することが出来る。その結果、Fe基ナノ結晶の(110)面の間隔が小さくなり、純鉄の(110)面の間隔に近づくので、磁歪を低減することができる。
第2熱処理の熱処理温度は、第1熱処理の熱処理温度よりも低いことが好ましく、50℃以上低いことがより好ましい。また、第2熱処理の保持時間は、3時間以上10時間以下であることが好ましい。
上記の熱処理後には、薄帯形状の本実施形態に係る軟磁性合金、または、粉末形状の本実施形態に係る軟磁性合金が得られる。
また、熱処理により得られた軟磁性合金に含まれるFe基ナノ結晶の平均粒径の算出方法には特に制限はない。たとえば透過電子顕微鏡を用いて観察することで算出できる。また、結晶構造がbcc(体心立方格子)構造であること確認する方法にも特に制限はない。たとえばX線回折測定を用いて確認することができる。
(3.磁性部品)
本実施形態に係る磁性部品は、上記の軟磁性合金を磁性体として備えるものであれば特に制限されない。たとえば、上記の軟磁性合金から構成される磁心を有する磁性部品であってもよい。
薄帯形状の軟磁性合金から磁心を得る方法としては、たとえば、薄帯形状の軟磁性合金を巻き回す方法や積層する方法が挙げられる。薄帯形状の軟磁性合金を積層する際に絶縁体を介して積層する場合には、さらに特性を向上させた磁芯を得ることができる。
粉末形状の軟磁性合金から磁心を得る方法としては、たとえば、適宜バインダと混合した後、金型を用いて成形する方法が挙げられる。また、バインダと混合する前に、粉末表面に酸化処理や絶縁被膜等を施すことにより、比抵抗が向上し、より高周波帯域に適合した磁心となる。
本実施形態に係る磁性部品は、電源回路に用いられるパワーインダクタに好適である。また、磁心の用途としては、インダクタの他にも、トランスおよびモータなどが挙げられる。
以上、本発明の実施形態について説明してきたが、本発明は上記の実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の範囲内において種々の態様で改変しても良い。
以下、実施例を用いて、発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
(実施例1~21および比較例1~10)
まず、軟磁性合金の原料金属を準備した。準備した原料金属を、表1に示す組成となるように秤量し、高周波加熱にて溶解し、母合金を作製した。
その後、作製した母合金を加熱して溶融させ、溶融温度が1250℃である溶融金属を得た。単ロール法により溶融金属を回転ロールに噴射させ、薄帯を作成した。なお、回転ロールの材質はCuとした。また、回転ロールの回転速度は25m/sec.を基準とした。ロール回転速度を調整することで、得られる薄帯の厚さを20μm~30μm、薄帯の幅を4mm~5mm、薄帯の長さを数十mとした。
得られた各薄帯に対してX線回折測定を行った結果、全ての実施例において、薄帯が、非晶質もしくは初期微結晶が非晶質中に存在するナノヘテロ構造を有していた。
その後、実施例1~21および比較例1~10の薄帯に対し、熱処理温度が550℃、保持時間が1時間の条件で熱処理を行った。熱処理後の薄帯に対して、X線回折測定、および透過電子顕微鏡を用いた観察した結果、全ての実施例において、熱処理後の薄帯が、結晶構造がbccであるFe基ナノ結晶を有しており、その平均結晶粒径が5~30nmであることを確認した。また、ICP分析により、熱処理の前後で合金組成に変化がないことを確認した。
熱処理後の各薄帯に対し、磁歪、飽和磁束密度および保磁力を測定した。磁歪は、ストレインゲージ法により測定した。飽和磁束密度(Bs)は振動試料型磁力計(VSM)を用いて磁場1000kA/mで測定した。保磁力(Hc)は直流BHトレーサーを用いて磁場5kA/mで測定した。
磁歪に関して、磁歪の絶対値が2.50ppm以下である試料を良好であると判断した。1.50ppm以下である試料がより好ましい。飽和磁束密度に関して、飽和磁束密度が1.40T以上である試料を良好であると判断した。1.60T以上である試料がより好ましい。保磁力に関して、保磁力が2.0A/m以下である試料を良好であると判断した。1.5A/m以下である試料がより好ましい。結果を表1に示す。
上記のようにして測定される保磁力の値には結晶磁気異方性由来の成分と磁歪による磁気弾性効果に由来する成分の両方が含まれているが、磁気弾性効果由来の成分は磁歪と応力の積であるため、試料に内部応力がかかっていない場合は保磁力として検出することが出来ない。したがって本発明の効果の有無を判断するには保磁力と磁歪の両方が低い値であり、かつ飽和磁束密度が高い値であることを確認する必要がある。
上記のような状況を鑑み、表1および後述する表2~4では、以下に示すように、各試料に対し、測定された特性値に応じた点数を配分し、それらの積の数値により、試料の優劣を総合的に評価した。結果を総合評価の欄に示す。
各試料に対し、磁歪が2.50ppmより大きい場合に0点が配分され、磁歪が1.50ppmより大きく2.50ppm以下である場合に1点が配分され、磁歪が1.50ppm以下である場合に2点が配分された。各試料に対し、飽和磁束密度が1.40T未満である場合に0点が配分され、飽和磁束密度が1.40T以上1.60T未満である場合に1点が配分され、飽和磁束密度が1.60T以上である場合に2点が配分された。各試料に対し、保磁力が2.0A/mより大きい場合に0点が配分され、保磁力が1.5A/mより大きく2.0A/m以下である場合に1点が配分され、保磁力が1.5A/m以下である場合に2点が配分された。そして、配分された数値の積を計算し、積の数値が1以上である試料を良好であると判断した。
Figure 0007326777000001
表1より、ホウ素および亜鉛の含有割合と、Mおよび亜鉛の合計含有割合と、ホウ素とリンの合計含有割合とが上述した範囲内である場合に、積の数値が1以上であることが確認できた。特に、亜鉛の含有割合と、Mおよび亜鉛の合計含有割合と、リンの含有割合と、シリコンの含有割合とが上述した好ましい範囲内である場合に、積の数値が4以上となり、特に良い特性が得られることが確認できた。
これに対して、亜鉛を含有しない場合(比較例1~4)には、その他の含有割合が上述した範囲内であっても、磁歪が大きく、上述した効果が得られないことが確認できた。また、亜鉛の含有割合が大きすぎる場合(比較例5)および少なすぎる場合(比較例6)にも、磁歪が大きく、上述した効果が得られないことが確認できた。
また、Mおよび亜鉛の合計含有割合が大きすぎる場合(比較例7)には、磁歪が大きく、上述した効果が得られないことが確認できた。
さらに、ホウ素とリンの含有割合の和(b+c)が小さすぎる場合(比較例8)、およびb+cが上述した範囲内にあってもホウ素の含有割合が小さすぎる場合(比較例10)には、熱処理時に初期微結晶の粗大な粒成長が生じて、保磁力が大きくなることが確認できた。また、ホウ素の含有割合が大きすぎる場合(比較例9)には、磁歪が大きくなり、FeB等の鉄ホウ素化合物の生成に起因して保磁力が大きくなることが確認できた。
(実施例22~34)
実施例4の試料において、組成式中の「X1」および「X2」元素および含有割合を表2に示す元素および含有割合とした以外は、実施例4と同じ方法により軟磁性合金を作製し、実施例4と同じ評価を行った。結果を表2に示す。
Figure 0007326777000002
表2より、X1元素およびX2元素の元素種および含有割合を変更しても、良好な特性が得られることが確認できた。
(実施例35~38)
実施例8の試料において、550℃で1時間の熱処理(第1熱処理)後に、表3に示す条件で熱処理(第2熱処理)を行った以外は、実施例8と同じ方法により軟磁性合金を作製した。得られた軟磁性合金に対して、実施例8と同じ評価に加えて、(110)面の間隔を算出した。
(110)面の間隔は、XRD測定により得られる回折ピークのうち、(110)面に帰属する最強ピークの2θと、測定X線の波長とから算出した。また、純鉄の試料に対して、上記のXRD測定を行った装置と同じ装置を用い、上記のXRD測定を行った条件で、(110)面の間隔を算出した。得られた軟磁性合金の(110)面の間隔値から、得られた純鉄の(110)面の面間隔値を減ずることにより、実施例8および実施例35~38の試料における(110)面間隔拡張値を得た。結果を表3に示す。
Figure 0007326777000003
表3より、第1熱処理よりも低温で熱処理することにより、(110)面間隔拡張値が小さくなり、これに伴い磁歪も小さくなることが確認できた。さらに、第2熱処理の保持時間が長くなると、(110)面間隔拡張値が小さくなり、これに伴い磁歪も小さくなることが確認できた。
(実施例39~43)
実施例4の試料において、熱処理条件を表4に示す条件とした以外は、実施例4と同じ方法により軟磁性合金を作製し、実施例4と同じ評価を行った。結果を表4に示す。
Figure 0007326777000004

表4より、Fe基ナノ結晶の平均結晶粒径が上述した範囲内である場合に、良好な特性が得られることが確認できた。

Claims (7)

  1. 組成式(Fe(1-(α+β))X1αX2β(1-(a+b+c+d+e+f))abcSideZnfで表される軟磁性合金であって、
    X1は、CoおよびNiからなる群から選ばれる少なくとも1種であり、
    X2は、Cu、Mg、Al、Mn、Ag、Sn、Bi、O、N、Sおよび希土類元素からなる群から選ばれる少なくとも1種であり、
    Mは、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、TaおよびWからなる群から選ばれる少なくとも1種であり、
    a、b、c、d、e、f、αおよびβが、
    0.080≦b≦0.150、
    0.005≦c≦0.040
    0≦d≦0.060、
    0≦e≦0.030、
    0.0030≦f≦0.080
    0.0030≦a+f≦0.080
    b+c≧0.100
    α≧0、
    β≧0、
    0≦α+β≦0.50
    0≦β{1-(a+b+c+d+e+f)}≦0.030である関係を満足し、
    bcc構造を有するFe基ナノ結晶を有する軟磁性合金。
  2. ≦0.030、
    0.010≦f≦0.050
    0.010≦a+f≦0.050である関係を満足する請求項1に記載の軟磁性合金。
  3. 純鉄の(110)面間隔に対する前記Fe基ナノ結晶の(110)面間隔の拡張値が0.002オングストローム以下である請求項1または2に記載の軟磁性合金。
  4. 前記Fe基ナノ結晶の平均粒径が、5nm以上30nm以下であることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の軟磁性合金。
  5. 薄帯形状である請求項1から4のいずれかに記載の軟磁性合金。
  6. 粉末形状である請求項1から4のいずれかに記載の軟磁性合金。
  7. 請求項1から4のいずれかに記載の軟磁性合金を有する磁性部品。
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