JP7324407B2 - レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法 - Google Patents
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Description
[1]
下記式(1)で表わされる化合物を含有するレジスト下層膜形成用組成物。
[LxTe(OR1)y] (1)
(上記式(1)中、Lは、OR1以外の配位子であり、R1は、水素原子、置換又は無置換の炭素数1~20の直鎖状又は炭素数3~20の分岐状若しくは環状のアルキル基、置換又は無置換の炭素数6~20のアリール基、置換又は無置換の炭素数2~20のアルケニル基、及び置換又は無置換の炭素数2~20のアルキニル基のいずれかであり、xは、0~6の整数であり、yは、0~6の整数であり、xとyの合計は、1~6であり、xが2以上である場合、複数のLは同一でも異なっていてもよく、yが2以上である場合、複数のR1は同一でも異なっていてもよい。)
[2]
上記式(1)で表わされる化合物において、xが1~6の整数である、[1]のレジスト下層膜形成用組成物。
[3]
上記式(1)で表わされる化合物において、yが1~6の整数である、[1]又は[2]のレジスト下層膜形成用組成物。
[4]
上記式(1)で表わされる化合物において、R1が、置換又は無置換の炭素数1~6の直鎖状又は炭素数3~6の分岐状若しくは環状のアルキル基である、[1]~[3]のいずれかのレジスト下層膜形成用組成物。
[5]
上記式(1)で表わされる化合物において、Lが、二座以上の配位子である、[1]~[4]のいずれかのレジスト下層膜形成用組成物。
[6]
上記式(1)で表わされる化合物において、Lがアセチルアセトナート、2,2-ジメチル-3,5-ヘキサンジオン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、及びメタクリル酸のいずれかである、[1]~[5]のいずれかのレジスト下層膜形成用組成物。
[7]
溶媒をさらに含む、[1]~[6]のいずれかのレジスト下層膜形成用組成物。
[8]
酸発生剤をさらに含む、[1]~[7]のいずれかのレジスト下層膜形成用組成物。
[9]
酸架橋剤をさらに含む、[1]~[8]のいずれかのレジスト下層膜形成用組成物。
[10]
酸拡散制御剤をさらに含む、[1]~[9]のいずれかのレジスト下層膜形成用組成物。
[11]
重合開始剤をさらに含む、[1]~[10]のいずれかのレジスト下層膜形成用組成物。
[12]
[1]~[11]のいずれかのレジスト下層膜形成用組成物を用いて基板上にレジスト下層膜を形成する工程と、
前記レジスト下層膜上に、少なくとも1層のフォトレジスト層を形成する工程と、
前記フォトレジスト層の所定の領域に放射線を照射し、現像を行う工程と、
を含むパターン形成方法。
[13]
[1]~[11]のいずれかのレジスト下層膜形成用組成物を用いて基板上にレジスト下層膜を形成する工程と、
前記レジスト下層膜上に、レジスト中間層膜材料を用いてレジスト中間層膜を形成する工程と、
前記レジスト中間層膜上に、少なくとも1層のフォトレジスト層を形成する工程と、
前記フォトレジスト層の所定の領域に放射線を照射し、現像してレジストパターンを形成する工程と、
前記レジストパターンをエッチングマスクとして前記レジスト中間層膜をエッチングすることにより中間層膜パターンを形成する工程と、
前記中間層膜パターンをエッチングマスクとして前記レジスト下層膜をエッチングすることにより下層膜パターンを形成する工程と、
前記下層膜パターンをエッチングマスクとして基板をエッチングすることにより基板にパターンを形成する工程と、
を含むパターン形成方法。
本実施形態のレジスト下層膜形成用組成物(以下、単に「組成物」ともいう。)は、後述する式(1)で表される化合物(以下、「テルル含有化合物」ともいう。)を含む。本実施形態の組成物は、テルル含有化合物が、安全溶媒に対する溶解性に優れるため、湿式プロセスに適用可能である。本実施形態のレジスト下層膜形成用組成物は、テルル含有化合物を含むことにより、ベーク時の膜の劣化が抑制され、フッ素ガス系プラズマエッチング等に対するエッチング耐性に優れたレジスト下層膜を形成できる。本実施形態のレジスト下層膜形成用組成物は、テルル含有化合物を含むことにより、当該組成物により形成されたレジスト下層膜は、レジスト層との密着性にも優れるので、優れたレジストパターンを形成できる。本実施形態の組成物は、テルル含有化合物を含むことにより、耐熱性、耐エッチング性、段差埋め込み特性及び平坦性に優れるため、複数の層から構成されるレジスト層の最下層を形成する組成物として用いられる。
本実施形態における、テルル含有化合物は、下記式(1)で表わされる化合物である。
[LxTe(OR1)y] (1)
[Te(OR1)4] (1-1)
(式(1-1)中、R1は、式(1)のものと同定義である。)
本実施形態に係るテルル含有化合物は、例えば、以下の方法により得られる。すなわち、金属テルル、又は二酸化テルルを塩素ガス流通下で500℃程度に加熱させることにより、四塩化テルルを得る。次に、得られた四塩化テルルと、ナトリウムアルコキシドとを無触媒で、氷冷下で反応させることにより、式(1)において、xが0であり、yが1以上であるアルコキシテルル化合物を得ることができる。例えば、上述の式(TOX-1)で表される化合物(テトラエトキシテルル(IV))は、四塩化テルルと、エタノールとを反応させることにより得られる。また、金属テルルを陽極に用いた電気分解によってもテルル含有化合物を得ることができる。
本実施形態のテルル含有化合物は、例えば、以下の工程を含む精製方法により精製できる。精製方法は、テルル含有化合物を、水と任意に混和しない有機溶媒を含む溶媒に溶解させて溶液(A)を得る工程と、得られた溶液(A)と酸性の水溶液とを接触させて、テルル含有化合物中の不純物を抽出する第一抽出工程と、を含む。本実施形態の精製方法によれば、上述した特定の構造を有するテルル含有化合物に不純物として含まれうる種々の金属の含有量を効果的に低減することができる。
本実施形態の組成物は、安全溶媒に対する溶解性に優れるため、溶媒(特に安全溶媒)を含めることができる。ここでいう安全溶媒とは、人体に対する有害性が低い溶媒を意味する。安全溶媒としては、例えばシクロヘキサノン(CHN)、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)、乳酸エチル(EL)、ヒドロキシイソ酪酸メチル(HBM)等を挙げることができる。
本実施形態の組成物は、インターミキシングを抑制する等の観点から、酸架橋剤を含有することが好ましい。酸架橋剤としては、例えば、メラミン化合物、エポキシ化合物、グアナミン化合物、グリコールウリル化合物、ウレア化合物、チオエポキシ化合物、イソシアネート化合物、アジド化合物、アルケニルエーテル基等の2重結合を含む化合物が挙げられ、これらの化合物は、メチロール基、アルコキシメチル基、及びアシロキシメチル基からなる群より選ばれる少なくとも一つの基を置換基(架橋性基)として有してもよい。なお、これらの酸架橋剤は、1種を単独で、2種以上を組み合わせて用いられる。
本実施形態の組成物は、熱による架橋反応を更に促進させる観点から、酸発生剤を含有することが好ましい。酸発生剤としては、熱分解によって酸を発生する化合物であってもよく、光照射によって酸を発生する化合物であってもよい。
本実施形態の組成物は、放射線照射により酸発生剤から生じた酸のレジスト膜中における拡散を制御して、未露光領域での好ましくない化学反応を阻止する観点から、酸拡散制御剤を含有することが好ましい。本実施形態の組成物が酸拡散制御剤を含有することにより、当該組成物の貯蔵安定性がより一層向上する傾向にある。また、解像度がより一層向上するとともに、放射線照射前の引き置き時間、放射線照射後の引き置き時間の変動によるレジストパターンの線幅変化をより一層抑えることができ、プロセス安定性により一層優れたものとなる傾向にある。
本実施形態の組成物は、溶解制御剤を含有していてもよい。溶解制御剤は、テルル含有化合物が現像液に対する溶解性が高すぎる場合に、その溶解性を制御して現像時の溶解速度を適度に減少させる作用を有する成分である。このような溶解制御剤としては、光学部品の焼成、加熱、現像等の工程において化学変化しないものが好ましい。
溶解制御剤の含有量は、特に限定されず、使用するテルル含有化合物の種類に応じて適宜調節されるが、固形成分の全質量の0~49質量%が好ましく、0質量%が特に好ましい。溶解制御剤を含有する場合、その含有量は、0.1~5質量%がより好ましく、0.5~1質量%が更に好ましい。
本実施形態の組成物は、増感剤を含有していてもよい。増感剤は、照射された放射線のエネルギーを吸収して、そのエネルギーを酸発生剤(C)に伝達し、それにより酸の生成量を増加する作用を有し、レジスト下層膜形成組成物の見掛けの硬化性を向上させる成分である。このような増感剤は、特に限定されず、例えば、ベンゾフェノン類、ビアセチル類、ピレン類、フェノチアジン類、フルオレン類等を挙げることができる。これらの増感剤は、単独で又は2種以上を使用することができる。増感剤の含有量は、使用するテルル含有化合物の種類に応じて適宜調節されるが、固形成分の全質量の0~49質量%が好ましく、0質量%が特に好ましい。増感剤を含有する場合、その含有量は、0.1~5質量%がより好ましく、0.5~1質量%が更に好ましい。
本実施形態の組成物は、硬化性の向上の観点から、重合開始剤を含有することが好ましい。重合開始剤は、露光により前記テルル含有化合物、及び後述の樹脂から選ばれる1つ以上の成分の重合反応を開始させるものであれば限定されず、公知の重合開始剤を含有することができる。重合開始剤の例としては、限定されるものではないが、光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開始剤、光アニオン重合開始剤を挙げることができ、反応性の観点から、光ラジカル重合開始剤が好ましい。
さらに、本実施形態の組成物は、保存安定性を向上させる等の観点から、塩基性化合物を含有していてもよい。
本実施形態の組成物は、熱硬化性の付与や吸光度をコントロールする目的で、前記テルル含有化合物以外に、リソグラフィー用材料(特にレジスト材料)等のレジスト下層膜形成用材料として用いられる樹脂を含有してもよい。本明細書にいう「樹脂」は、前記テルル含有化合物、後述する溶媒、酸発生剤、酸架橋剤、酸拡散制御剤、重合開始剤、及びその他の成分を除く膜形成成分をいい、低分子量の化合物も包含する概念をいう。
樹脂の重量平均分子量(Mw)は、500~20,000が好ましく、800~10,000がより好ましく、1,000~8,000がさらに好ましい。
樹脂の分散度(Mw/Mn)は、1.0~5.0が好ましく、1.2~4.0がより好ましく、1.5~3.0がさらに好ましい。
上述の数平均分子量(Mn)、重量平均分子量(Mw)及び分散度(Mw/Mn)は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)分析により、ポリスチレン換算にて求めることができる。これらの測定方法は、より具体的には、実施例に記載の方法による。
本実施形態のリソグラフィー用レジスト下層膜(以下、「レジスト下層膜」ともいう)は、本実施形態のレジスト下層膜形成用組成物から形成される。本実施形態のリソグラフィー用レジスト下層膜は、後述する方法により形成できる。
本実施形態の後述するパターン形成方法により形成されたパターンは、例えば、レジストパターンや回路パターンとして用いられる。
(化合物の構造)
化合物の構造は、特に言及しない限り、Bruker.inc社製「Advance600II spectrometer」を用い、以下の条件による1H-NMR測定により評価した。
周波数:400MHz
溶媒:d6-DMSO
内部標準:テトラメチルシラン(TMS)
測定温度:23℃
LC-MS分析により、Water.inc社製「Acquity UPLC/MALDI-Synapt HDMS」を用いて測定した。
ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)分析により、ポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)、数平均分子量(Mn)、及び分散度(Mw/Mn)を求めた。
装置:昭和電工(株)製「Shodex GPC-101型」
カラム:昭和電工(株)製「KF-80M」×3
溶離液:テトラヒドロフラン(以下「THF」ともいう)
流速:1mL/min
温度:40℃
得られた化合物の安全溶媒(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA))に対する溶解性を以下のとおり評価した。化合物を試験管に精秤し、PGMEAを所定の濃度となるよう加えた。次に、超音波洗浄機により23℃にて30分間超音波をかけ、その後の液の状態を目視にて観察し、完全に溶解した濃度(質量%)を溶解量とした。得らえた溶解量に基づいて、下記の評価基準により化合物の安全溶媒への溶解性を評価した。
〈評価基準〉
A:溶解量が5.0質量%以上であった。
B:溶解量が3.0質量%以上5.0質量%未満であった。
C:溶解量が3.0質量%未満であった。
ジムロート冷却管、温度計及び攪拌翼を備え、底抜きが可能な内容積10Lの四つ口フラスコを準備した。この四つ口フラスコに、窒素気流中、1,5-ジメチルナフタレン1.09kg(7mol、三菱ガス化学(株)製)、40質量%ホルマリン水溶液2.1kg(ホルムアルデヒドとして28mol、三菱ガス化学(株)製)及び98質量%硫酸(関東化学(株)製)0.97mLを仕込み、常圧下、100℃で還流させながら7時間反応させた。その後、希釈溶媒としてエチルベンゼン(和光純薬工業(株)製、試薬特級)1.8kgを反応液に加え、静置後、下相の水相を除去した。さらに、中和及び水洗を行い、エチルベンゼン及び未反応の1,5-ジメチルナフタレンを減圧下で留去することにより、淡褐色固体のジメチルナフタレンホルムアルデヒド樹脂1.25kgを得た。得られたジメチルナフタレンホルムアルデヒドの分子量は、Mn:562、Mw:1168、Mw/Mn:2.08であった。
得られた樹脂(CR-1)は、Mn:885、Mw:2220、Mw/Mn:2.51であった。得られた樹脂(CR-1)のPGMEAへの溶解性を、上述の化合物の溶解性の評価方法に従って評価したところ、「A」であった。
攪拌機、冷却管、及びビュレットを備えた内容積100mLの容器に、20mLのテトラヒドロフランに溶解させたテトラエトキシテルル(IV)(アルファエイサー(株)製品、純度85%)1.0g(2.8mmol)を入れ、5mLのテトラヒドロフランに溶解させたアセチルアセトン0.6g(6.0mmol)をさらに加えた。1時間還流させた後、溶媒を減圧留去することにより、以下の式(TOX-2)で表される化合物0.6gを得た。
攪拌機、冷却管、及びビュレットを備えた内容積100mLの容器に、20mLのテトラヒドロフランに溶解させたテトラエトキシテルル(IV)(アルファエイサー(株)製品、純度85%)1.0g(2.8mmol)を入れ、5mLのテトラヒドロフランに溶解させた2,2-ジメチル-3,5-ヘキサンジオン0.8g(5.6mmol)をさらに加えた。1時間還流させた後、溶媒を減圧留去することにより、以下の式(TOX-3)で表される化合物0.7gを得た。
攪拌機、冷却管、及びビュレットを備えた内容積100mLの容器に、20mLのテトラヒドロフランに溶解させたテトラエトキシテルル(IV)(アルファエイサー(株)製品、純度85%)1.0g(2.8mmol)を入れ、さらにメタクリル酸0.5g(5.8mmol)をさらに加えた。1時間還流させた後、溶媒を減圧留去することにより、以下の式(TOX-4)で表される化合物0.5gを得た。
下記式(TOX-1)で表される化合物、前記製造例2~4で合成した化合物及び製造例1で合成した樹脂等を用いて、下記表4に示す組成となるように、下記の成分を用いてレジスト下層膜形成用組成物を調製した。
TOX-1:下記式(TOX-1)で表される化合物
Te(OEt)4 (TOX-1)
酸発生剤:みどり化学(株)製「ジターシャリーブチルジフェニルヨードニウムノナフルオロメタンスルホナート(DTDPI)」
酸架橋剤(表中では、単に架橋剤と記載。):三和ケミカル(株)製「ニカラックMX270(ニカラック)」
有機溶媒:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートアセテート(PGMEA)
重合開始剤:イルガキュア184(BASF社製)
ノボラック:群栄化学(株)製「PSM4357」
エッチング耐性の評価は、以下の手順で行った。
まず、実施例1で用いたテルル含有化合物及び樹脂に代えてノボラック(群栄化学社製「PSM4357」)を用いること以外は、実施例1と同様の条件で、ノボラックの下層膜を作製した。そして、このノボラックの下層膜を対象として、以下の条件でエッチングを行い、そのときのエッチングレートを測定した。次に、各実施例及び比較例の下層膜を対象として、以下の条件でエッチングを行い、ノボラックの下層膜と同様に行い、そのときのエッチングレートを測定した。そして、ノボラックの下層膜のエッチングレートを基準として、以下の評価基準でエッチング耐性を評価した。
<エッチング条件>
エッチング装置:サムコインターナショナル社製「RIE-10NR」
出力:50W
圧力:20Pa
時間:2min
エッチングガス
Arガス流量:CF4ガス流量:O2ガス流量=50:5:5(sccm)
<評価基準>
A:ノボラックの下層膜におけるエッチングレートに比べて-10%未満であった。
B:ノボラックの下層膜におけるエッチングレートに比べて-10%以上+5%以下であった。
C:ノボラックの下層膜におけるエッチングレートに比べてエッチングレートが、+5%超であった。
次に、実施例1、及び実施例3~5のレジスト下層膜形成用組成物を、表面に300nmのSiO2層を有するシリコン基板上に塗布して、240℃で60秒間、更に400℃で120秒間ベークすることにより、85nmの膜厚を有するレジスト下層膜を形成した。この下層膜上に、レジスト溶液を塗布し、110℃で90秒間ベークすることにより、膜厚40nmのフォトレジスト層を形成した。なお、レジスト溶液としては、下記式(CR-1A)で示される化合物:80質量部、ヘキサメトキシメチルメラミン:20質量部、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート:20質量部、トリブチルアミン:3質量部、及びプロピレングリコールモノメチルエーテル:5000質量部を配合して調製したものを用いた。
レジスト下層膜の形成を行わないこと以外は、実施例9と同様にして、フォトレジスト層をSiO2基板上に直接形成し、ネガ型のレジストパターンを得た。
実施例及び比較例のそれぞれについて、得られた45nmL/S(1:1)及び80nmL/S(1:1)のレジストパターンの形状を電子顕微鏡((株)日立製作所製;S-4800)を用いて観察した。現像後のレジストパターンの形状については、パターン倒れがなく、矩形性が“良好”なものを良好とし、そうでないものを“不良”として評価した。また、当該観察の結果、パターン倒れが無く、矩形性が良好な最小の線幅を解像性として評価の指標とした。更に良好なパターン形状を描画可能な最小の電子線エネルギー量を感度として、評価の指標とした。その結果を、表5に示す。
実施例1で得たレジスト下層膜形成用組成物を300nmのSiO2層を有するシリコン基板上に塗布して、240℃で60秒間、さらに400℃で120秒間ベークすることにより、90nmの膜厚を有するレジスト下層膜を形成した。このレジスト下層膜上に、珪素含有中間層材料を塗布し、200℃で60秒間ベークすることにより、35nmの膜厚を有するレジスト中間層膜を形成した。さらに、このレジスト中間層膜上に、上記実施例9で用いたレジスト溶液を塗布し、130℃で60秒間ベークすることにより、150nmのフォトレジスト層を形成した。なお、珪素含有中間層材料としては、特開2007-226170号公報の<製造例1>に記載の珪素原子含有ポリマーを用いた。次いで、電子線描画装置(エリオニクス社製;ELS-7500,50keV)を用いて、フォトレジスト層をマスク露光し、115℃で90秒間ベーク(PEB)し、2.38質量%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド(TMAH)水溶液で60秒間現像することにより、45nmL/S(1:1)のネガ型のレジストパターンを得た。その後、サムコインターナショナル社製「RIE-10NR」を用いて、得られたレジストパターンをマスクにして珪素含有中間層膜(SOG)のドライエッチング加工を行い、続いて、得られた珪素含有中間層膜パターンをマスクにしたレジスト下層膜のドライエッチング加工と、得られたレジスト下層膜パターンをマスクにしたSiO2膜のドライエッチング加工とを順次行った。
(レジストパターンのレジスト中間層膜へのエッチング条件)
出力:50W
圧力:20Pa
時間:1min
エッチングガス
Arガス流量:CF4ガス流量:O2ガス流量=50:8:2(sccm)
(レジスト中間層膜パターンのレジスト下層膜へのエッチング条件)
出力:50W
圧力:20Pa
時間:2min
エッチングガス
Arガス流量:CF4ガス流量:O2ガス流量=50:5:5(sccm)
(レジスト下層膜パターンのSiO2膜へのエッチング条件)
出力:50W
圧力:20Pa
時間:2min
エッチングガス
Arガス流量:C5F12ガス流量:C2F6ガス流量:O2ガス流量
=50:4:3:1(sccm)
上述のようにして得られた実施例13のパターン断面(エッチング後のSiO2膜の形状)を、日立製作所(株)製電子顕微鏡「S-4800」を用いて観察したところ、多層レジスト加工におけるエッチング後のSiO2膜の形状は矩形であり、欠陥も認められず良好であることが確認された。
Claims (12)
- 下記式(1)で表わされる化合物を含有するレジスト下層膜形成用組成物。
[LxTe(OR1)y] (1)
(上記式(1)中、Lは、OR1以外の配位子であり、R1は、水素原子、置換又は無置換の炭素数1~20の直鎖状又は炭素数3~20の分岐状若しくは環状のアルキル基、置換又は無置換の炭素数6~20のアリール基、置換又は無置換の炭素数2~20のアルケニル基、及び置換又は無置換の炭素数2~20のアルキニル基のいずれかであり、xは、0~6の整数であり、yは、1~6の整数であり、xとyの合計は、1~6であり、xが2以上である場合、複数のLは同一でも異なっていてもよく、yが2以上である場合、複数のR1は同一でも異なっていてもよい。) - 上記式(1)で表わされる化合物において、xが1~6の整数である、請求項1に記載のレジスト下層膜形成用組成物。
- 上記式(1)で表わされる化合物において、R1が、置換又は無置換の炭素数1~6の直鎖状又は炭素数3~6の分岐状若しくは環状のアルキル基である、請求項1又は2に記載のレジスト下層膜形成用組成物。
- 上記式(1)で表わされる化合物において、Lが、二座以上の配位子である、請求項1~3のいずれか1項に記載のレジスト下層膜形成用組成物。
- 上記式(1)で表わされる化合物において、Lがアセチルアセトナート、2,2-ジメチル-3,5-ヘキサンジオン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、及びメタクリル酸のいずれかである、請求項1~4のいずれか1項に記載のレジスト下層膜形成用組成物。
- 溶媒をさらに含む、請求項1~5のいずれか1項に記載のレジスト下層膜形成用組成物。
- 酸発生剤をさらに含む、請求項1~6のいずれか1項に記載のレジスト下層膜形成用組成物。
- 酸架橋剤をさらに含む、請求項1~7のいずれか1項に記載のレジスト下層膜形成用組成物。
- 酸拡散制御剤をさらに含む、請求項1~8のいずれか1項に記載のレジスト下層膜形成用組成物。
- 重合開始剤をさらに含む、請求項1~9のいずれか1項に記載のレジスト下層膜形成用組成物。
- 請求項1~10のいずれか1項に記載のレジスト下層膜形成用組成物を用いて基板上にレジスト下層膜を形成する工程と、
前記レジスト下層膜上に、少なくとも1層のフォトレジスト層を形成する工程と、
前記フォトレジスト層の所定の領域に放射線を照射し、現像を行う工程と、
を含むパターン形成方法。 - 請求項1~10のいずれか1項に記載のレジスト下層膜形成用組成物を用いて基板上にレジスト下層膜を形成する工程と、
前記レジスト下層膜上に、レジスト中間層膜材料を用いてレジスト中間層膜を形成する工程と、
前記レジスト中間層膜上に、少なくとも1層のフォトレジスト層を形成する工程と、
前記フォトレジスト層の所定の領域に放射線を照射し、現像してレジストパターンを形成する工程と、
前記レジストパターンをエッチングマスクとして前記レジスト中間層膜をエッチングすることにより中間層膜パターンを形成する工程と、
前記中間層膜パターンをエッチングマスクとして前記レジスト下層膜をエッチングすることにより下層膜パターンを形成する工程と、
前記下層膜パターンをエッチングマスクとして基板をエッチングすることにより基板にパターンを形成する工程と、
を含むパターン形成方法。
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