JP7318260B2 - 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 - Google Patents
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Description
本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置に関する。
特許文献１には、基体上に、正孔輸送剤、電荷発生剤及び結着樹脂を含む感光層が設けられた電子写真感光体であって、前記正孔輸送剤が特定のヒドラゾン化合物であるとともに、前記結着樹脂における無機性値を有機性値で割った値を０．３６以上の値とすることを特徴とする電子写真感光体が開示されている。
特許文献２には、導電性支持体上に、少なくとも正孔輸送材料および結着樹脂を含む電荷輸送層と、少なくとも電荷発生材料、正孔輸送材料、電子輸送材料および結着樹脂を含む電荷発生層とが順次積層されてなる積層型正帯電の電子写真用感光体において、前記電荷発生層および前記電荷輸送層に含まれる残留溶媒の合計量が、５０μｇ／ｃｍ２以下であり、該電荷発生層における電子輸送材料と正孔輸送材料との質量比率が５：１～４：２の範囲であり、該電荷輸送層の膜厚が３μｍ～４０μｍの範囲であり、該電荷発生層の膜厚が３μｍ～４０μｍの範囲であって、かつ、前記電荷発生層および前記電荷輸送層全体の水分含有率が、０．０５質量％～１．５質量％の範囲であることを特徴とする電子写真用感光体が開示されている。
特許文献３には、感光層を備える電子写真感光体であって、前記感光層は、正孔輸送剤とバインダー樹脂とを含有し、前記正孔輸送剤の含有量は、１００質量部の前記バインダー樹脂に対して、４０質量部以上１００質量部以下であり、前記バインダー樹脂として、特定の繰り返し単位を有する樹脂が含有され、前記正孔輸送剤として、特定の構造を有する化合物が含有される、電子写真感光体が開示されている。
特許文献４には、特定の電荷輸送材料を利用した単層感光体を採用している正帯電画像形成装置が開示されている。
感光層の結着樹脂として単独重合体を用いた感光体では、感光体の表面に油分（例えば、指の油等）が付着したときに、その油分に起因する割れが生じることがある。
本発明の課題は、単独重合体である結着樹脂、電荷発生材料および電荷輸送材料を含む感光層を有する電子写真感光体において、感光層に、一般式（ＦＡ）で示される構造単位及び一般式（ＦＢ）で示される構造単位を有するフッ化アルキル基含有重合体、一般式（ＦＬ）で示されるフルオレノン化合物、及び一般式（ＢＤＣ）で示されるベンゼンジカルボン酸化合物のいずれかを含まない場合に比べ、電子写真感光体の表面に付着した油分に起因する感光層の割れの発生が抑制された電子写真感光体を提供することである。
上記課題を解決する手段は、以下の態様を含む。
＜１＞
導電性基体と、
前記導電性基体上に設けられた、単独重合体である結着樹脂と、電荷発生材料と、電荷輸送材料と、下記一般式（ＦＡ）で示される構造単位を有するフッ化アルキル基含有重合体と、下記一般式（ＦＬ）で示されるフルオレノン化合物および下記一般式（ＢＤＣ）で示されるベンゼンジカルボン酸化合物から選択される少なくとも１種と、を含む感光層と、
を有する電子写真感光体。
（一般式（ＦＡ）中、ＲＦ１は、水素原子、又はアルキル基を表す。ＱＦ１は、－Ｏ－、又は－ＮＨ－を表す。ｆｌは、１以上の整数を表す。ｆｐは、０または１以上の整数を表す。ｆｔは、１以上７以下の整数を表す。）
（一般式（ＦＬ）中、ＲＦ１１、ＲＦ１２、ＲＦ１３、ＲＦ１４、ＲＦ１５、ＲＦ１６、及びＲＦ１７は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又はアラルキル基を示す。ＲＦ１８は、アルキル基、－ＬＦ１９－Ｏ－ＲＦ２０、アリール基、又はアラルキル基を表す。ただし、ＬＦ１９はアルキレン基を示し、ＲＦ２０はアルキル基を表す。）
（一般式（ＢＤＣ）中、ＲＢＣＤ１、及びＲＢＣＤ２は、各々独立に、アルキル基、又はアラルキル基を示す。）
＜２＞
前記感光層が、前記単独重合体である結着樹脂、前記電荷発生材料、前記電荷輸送材料として正孔輸送材料および電子輸送材料、前記フッ化アルキル基含有重合体、前記フルオレノン化合物、並びに、前記ベンゼンジカルボン酸化合物を同一層に含む単層型感光層である＜１＞に記載の電子写真感光体。
＜３＞
前記単独重合体である樹脂は、ポリカーボネート樹脂及びポリアリレート樹脂から選択される少なくとも１種を含む＜１＞又は＜２＞に記載の電子写真感光体。
＜４＞
前記単独重合体である樹脂は、ポリカーボネート樹脂を少なくとも含む＜３＞に記載の電子写真感光体。
＜５＞
前記ポリカーボネート樹脂は、下記一般式（ＰＣ）で表される繰り返し単位を有する＜４＞に記載の電子写真感光体。
（一般式（ＰＣ）中、ＲＰ１及びＲＰ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数５以下の置換若しくは非置換のアルキル基、又は置換若しくは非置換のフェニル基を示し、ＲＰ１とＲＰ２とでシクロ環を形成していてもよい。ＲＰ３及びＲＰ４は、それぞれ独立に、水素原子、又は炭素数３以下の置換若しくは非置換のアルキル基を示す。）
＜６＞
前記フッ化アルキル基含有重合体が、さらに、下記一般式（ＦＣ）で示される構造単位を有する＜１＞～＜５＞のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
（一般式（ＦＣ）中、ＲＦ５、及びＲＦ６は、各々独立に、水素原子、アルキル基、又は－ＡＯ－ＲＦ７（ただし、ＡＯはアルキレンオキサイド基、ＲＦ７は水素原子又はアルキル基を表す）を表す。ｆｚは、１以上の整数を表す。）
＜７＞
前記フルオレノン化合物が、前記一般式（ＦＬ）中、ＲＦ１１、ＲＦ１２、ＲＦ１３、ＲＦ１４、ＲＦ１５、ＲＦ１６、及びＲＦ１７が水素原子を表し、ＲＦ１８はアルキル基を表す化合物である＜１＞～＜６＞のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
＜８＞
前記ベンゼンジカルボン酸化合物が、前記一般式（ＢＤＣ）中、ＲＢＣＤ１がアルキル基又はアラルキル基を表し、ＲＢＣＤ２がアルキル基を表す化合物である＜１＞～＜７＞のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
＜９＞
前記フッ化アルキル基含有重合体の含有量が、前記感光層の全固形分に対して０．０２質量％以上０．０５質量％以下である＜１＞～＜８＞のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
＜１０＞
前記フルオレノン化合物の含有量が、前記感光層の全固形分に対して２質量％以上９質量％以下である＜１＞～＜９＞のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
＜１１＞
前記ベンゼンジカルボン酸化合物の含有量が、前記感光層の全固形分に対して０．９質量％以上５質量％以下である＜１＞～＜１０＞いずれか１項に記載の電子写真感光体。
＜１２＞
前記フルオレノン化合物と前記ベンゼンジカルボン酸化合物との含有比（フルオレノン化合物の含有量／ベンゼンジカルボン酸化合物の含有量）が、３／２以上３／１以下＜１＞～＜１１＞のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
＜１３＞
前記フルオレノン化合物と前記ベンゼンジカルボン酸化合物との含有比（フルオレノン化合物の含有量／ベンゼンジカルボン酸化合物の含有量）が、５／３以上３／１以下＜１２＞のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
＜１４＞
＜１＞～＜１３＞のいずれか１項に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
＜１５＞
＜１＞～＜１３＞のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
導電性基体と、
前記導電性基体上に設けられた、単独重合体である結着樹脂と、電荷発生材料と、電荷輸送材料と、下記一般式（ＦＡ）で示される構造単位を有するフッ化アルキル基含有重合体と、下記一般式（ＦＬ）で示されるフルオレノン化合物および下記一般式（ＢＤＣ）で示されるベンゼンジカルボン酸化合物から選択される少なくとも１種と、を含む感光層と、
を有する電子写真感光体。
（一般式（ＦＡ）中、ＲＦ１は、水素原子、又はアルキル基を表す。ＱＦ１は、－Ｏ－、又は－ＮＨ－を表す。ｆｌは、１以上の整数を表す。ｆｐは、０または１以上の整数を表す。ｆｔは、１以上７以下の整数を表す。）
（一般式（ＦＬ）中、ＲＦ１１、ＲＦ１２、ＲＦ１３、ＲＦ１４、ＲＦ１５、ＲＦ１６、及びＲＦ１７は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又はアラルキル基を示す。ＲＦ１８は、アルキル基、－ＬＦ１９－Ｏ－ＲＦ２０、アリール基、又はアラルキル基を表す。ただし、ＬＦ１９はアルキレン基を示し、ＲＦ２０はアルキル基を表す。）
（一般式（ＢＤＣ）中、ＲＢＣＤ１、及びＲＢＣＤ２は、各々独立に、アルキル基、又はアラルキル基を示す。）
＜２＞
前記感光層が、前記単独重合体である結着樹脂、前記電荷発生材料、前記電荷輸送材料として正孔輸送材料および電子輸送材料、前記フッ化アルキル基含有重合体、前記フルオレノン化合物、並びに、前記ベンゼンジカルボン酸化合物を同一層に含む単層型感光層である＜１＞に記載の電子写真感光体。
＜３＞
前記単独重合体である樹脂は、ポリカーボネート樹脂及びポリアリレート樹脂から選択される少なくとも１種を含む＜１＞又は＜２＞に記載の電子写真感光体。
＜４＞
前記単独重合体である樹脂は、ポリカーボネート樹脂を少なくとも含む＜３＞に記載の電子写真感光体。
＜５＞
前記ポリカーボネート樹脂は、下記一般式（ＰＣ）で表される繰り返し単位を有する＜４＞に記載の電子写真感光体。
（一般式（ＰＣ）中、ＲＰ１及びＲＰ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数５以下の置換若しくは非置換のアルキル基、又は置換若しくは非置換のフェニル基を示し、ＲＰ１とＲＰ２とでシクロ環を形成していてもよい。ＲＰ３及びＲＰ４は、それぞれ独立に、水素原子、又は炭素数３以下の置換若しくは非置換のアルキル基を示す。）
＜６＞
前記フッ化アルキル基含有重合体が、さらに、下記一般式（ＦＣ）で示される構造単位を有する＜１＞～＜５＞のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
（一般式（ＦＣ）中、ＲＦ５、及びＲＦ６は、各々独立に、水素原子、アルキル基、又は－ＡＯ－ＲＦ７（ただし、ＡＯはアルキレンオキサイド基、ＲＦ７は水素原子又はアルキル基を表す）を表す。ｆｚは、１以上の整数を表す。）
＜７＞
前記フルオレノン化合物が、前記一般式（ＦＬ）中、ＲＦ１１、ＲＦ１２、ＲＦ１３、ＲＦ１４、ＲＦ１５、ＲＦ１６、及びＲＦ１７が水素原子を表し、ＲＦ１８はアルキル基を表す化合物である＜１＞～＜６＞のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
＜８＞
前記ベンゼンジカルボン酸化合物が、前記一般式（ＢＤＣ）中、ＲＢＣＤ１がアルキル基又はアラルキル基を表し、ＲＢＣＤ２がアルキル基を表す化合物である＜１＞～＜７＞のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
＜９＞
前記フッ化アルキル基含有重合体の含有量が、前記感光層の全固形分に対して０．０２質量％以上０．０５質量％以下である＜１＞～＜８＞のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
＜１０＞
前記フルオレノン化合物の含有量が、前記感光層の全固形分に対して２質量％以上９質量％以下である＜１＞～＜９＞のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
＜１１＞
前記ベンゼンジカルボン酸化合物の含有量が、前記感光層の全固形分に対して０．９質量％以上５質量％以下である＜１＞～＜１０＞いずれか１項に記載の電子写真感光体。
＜１２＞
前記フルオレノン化合物と前記ベンゼンジカルボン酸化合物との含有比（フルオレノン化合物の含有量／ベンゼンジカルボン酸化合物の含有量）が、３／２以上３／１以下＜１＞～＜１１＞のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
＜１３＞
前記フルオレノン化合物と前記ベンゼンジカルボン酸化合物との含有比（フルオレノン化合物の含有量／ベンゼンジカルボン酸化合物の含有量）が、５／３以上３／１以下＜１２＞のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
＜１４＞
＜１＞～＜１３＞のいずれか１項に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
＜１５＞
＜１＞～＜１３＞のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
＜１＞、＜３＞、＜４＞、＜５＞、＜６＞、＜７＞、又は＜８＞に係る発明によれば、単独重合体である結着樹脂、電荷発生材料および電荷輸送材料を含む感光層を有する電子写真感光体において、感光層に、一般式（ＦＡ）で示される構造単位及び一般式（ＦＢ）で示される構造単位を有するフッ化アルキル基含有重合体、一般式（ＦＬ）で示されるフルオレノン化合物、及び一般式（ＢＤＣ）で示されるベンゼンジカルボン酸化合物のいずれかを含まない場合に比べ、電子写真感光体の表面に付着した油分に起因する感光層の割れの発生が抑制された電子写真感光体が提供される。
＜２＞に係る発明によれば、単独重合体である結着樹脂、電荷発生材料および電荷輸送材料を含む単層型感光層を有する電子写真感光体において、単層型感光層に、一般式（ＦＡ）で示される構造単位及び一般式（ＦＢ）で示される構造単位を有するフッ化アルキル基含有重合体、一般式（ＦＬ）で示されるフルオレノン化合物、及び一般式（ＢＤＣ）で示されるベンゼンジカルボン酸化合物のいずれかを含まない場合に比べ、電子写真感光体の表面に付着した油分に起因する感光層の割れの発生が抑制された電子写真感光体が提供される。
＜９＞に係る発明によれば、フッ化アルキル基含有重合体の含有量が、感光層の全固形分に対して０．０２質量％未満である場合に比べ、電子写真感光体の表面に付着した油分に起因する感光層の割れの発生が抑制された電子写真感光体が提供される。
＜１０＞に係る発明によれば、フルオレノン化合物の含有量が、前記感光層の全固形分に対して３質量％未満である場合に比べ、電子写真感光体の表面に付着した油分に起因する感光層の割れの発生が抑制された電子写真感光体が提供される。
＜１１＞に係る発明によれば、ベンゼンジカルボン酸化合物の含有量が、前記感光層の全固形分に対して５質量％未満である場合に比べ、電子写真感光体の表面に付着した油分に起因する感光層の割れの発生が抑制された電子写真感光体が提供される。
＜１０＞に係る発明によれば、フルオレノン化合物の含有量が、前記感光層の全固形分に対して３質量％未満である場合に比べ、電子写真感光体の表面に付着した油分に起因する感光層の割れの発生が抑制された電子写真感光体が提供される。
＜１１＞に係る発明によれば、ベンゼンジカルボン酸化合物の含有量が、前記感光層の全固形分に対して５質量％未満である場合に比べ、電子写真感光体の表面に付着した油分に起因する感光層の割れの発生が抑制された電子写真感光体が提供される。
＜１２＞、又は＜１３＞に係る発明によれば、フルオレノン化合物とベンゼンジカルボン酸化合物との含有比（フルオレノン化合物の含有量／ベンゼンジカルボン酸化合物の含有量）が、３／２未満又は３／１以下超えである場合に比べ、電子写真感光体の表面に付着した油分に起因する感光層の割れの発生が抑制された電子写真感光体が提供される。
＜１４＞、又は＜１５＞に係る発明によれば、単独重合体である結着樹脂、電荷発生材料および電荷輸送材料を含む感光層を有する電子写真感光体において、感光層に、一般式（ＦＡ）で示される構造単位及び一般式（ＦＢ）で示される構造単位を有するフッ化アルキル基含有重合体、一般式（ＦＬ）で示されるフルオレノン化合物、及び一般式（ＢＤＣ）で示されるベンゼンジカルボン酸化合物のいずれかを含まない電子写真感光体を備える場合に比べ、電子写真感光体の表面に付着した油分に起因する感光層の割れの発生が抑制された電子写真感光体を備えたプロセスカートリッジ又は画像形成装置が提供される。
以下、本発明の一例である実施形態について説明する。これらの説明および実施例は、実施形態を例示するものであり、発明の範囲を制限するものではない。
［電子写真感光体］
本実施形態に係る電子写真感光体（以下「感光体」ともいう）は、
導電性基体と、
前記導電性基体上に設けられた、単独重合体である結着樹脂と、電荷発生材料と、電荷輸送材料と、下記一般式（ＦＡ）で示される構造単位を有するフッ化アルキル基含有重合体（以下「一般式（ＦＡ）のフッ化アルキル基含有重合体」とも称する）と、下記一般式（ＦＬ）で示されるフルオレノン化合物（以下「一般式（ＦＬ）のフルオレノン化合物」とも称する）および下記一般式（ＢＤＣ）で示されるベンゼンジカルボン酸化合物（以下「一般式（ＢＤＣ）でのベンゼンジカルボン酸化合物」とも称する）から選択される少なくとも１種と、を含む感光層と、
を有する電子写真感光体。
本実施形態に係る電子写真感光体（以下「感光体」ともいう）は、
導電性基体と、
前記導電性基体上に設けられた、単独重合体である結着樹脂と、電荷発生材料と、電荷輸送材料と、下記一般式（ＦＡ）で示される構造単位を有するフッ化アルキル基含有重合体（以下「一般式（ＦＡ）のフッ化アルキル基含有重合体」とも称する）と、下記一般式（ＦＬ）で示されるフルオレノン化合物（以下「一般式（ＦＬ）のフルオレノン化合物」とも称する）および下記一般式（ＢＤＣ）で示されるベンゼンジカルボン酸化合物（以下「一般式（ＢＤＣ）でのベンゼンジカルボン酸化合物」とも称する）から選択される少なくとも１種と、を含む感光層と、
を有する電子写真感光体。
本実施形態に係る感光体は、上記構成により、電子写真感光体の表面に付着した油分に起因する感光層の割れの発生が抑制される。その理由は、次の通り推測される。
近年、材料コストを低減する観点から、感光層の結着樹脂として、単独重合体を採用することが好ましい。
しかし、感光層の結着樹脂として単独重合体を用いた感光体では、感光体の表面に油分（例えば、指の油等）が付着したときに、その油分に起因する割れが生じることがある。
具体的には、感光体の表面に油分（例えば、指の油等）が付着すると、その油分が感光層の内部に浸透し、浸透した油分に起因する割れ（以下「ケミカルクラック」ともいう）が生じることがある。
その理由は定かではないが、共重合体では異なる構造単位が互いに相互作用することで応力が緩和されやすいのに対し、単独重合体では異なる構造単位を有していないため、応力が維持されやすく、ケミカルクラックが生じやすいと推測される。
具体的には、感光体の表面に油分（例えば、指の油等）が付着すると、その油分が感光層の内部に浸透し、浸透した油分に起因する割れ（以下「ケミカルクラック」ともいう）が生じることがある。
その理由は定かではないが、共重合体では異なる構造単位が互いに相互作用することで応力が緩和されやすいのに対し、単独重合体では異なる構造単位を有していないため、応力が維持されやすく、ケミカルクラックが生じやすいと推測される。
それに対して、単独重合体である結着樹脂に加え、一般式（ＦＡ）のフッ化アルキル基含有重合体を感光層に含有させると、感光層の表面に油分に対するバリア層が形成される。それより、感光層の表面に、油分が付着した場合でも、感光層の内部への進入が抑制される。
また、単独重合体である結着樹脂に加え、一般式（ＦＬ）のフルオレノン化合物および一般式（ＢＤＣ）のベンゼンジカルボン酸化合物から選択される少なくとも１種を感光層に含有させると、これら化合物が結着樹脂との相互作用の向上、立体障害の軽減、および自由体積充填効果を起こす。それにより、感光層の内部の残留応力が緩和される。
また、単独重合体である結着樹脂に加え、一般式（ＦＬ）のフルオレノン化合物および一般式（ＢＤＣ）のベンゼンジカルボン酸化合物から選択される少なくとも１種を感光層に含有させると、これら化合物が結着樹脂との相互作用の向上、立体障害の軽減、および自由体積充填効果を起こす。それにより、感光層の内部の残留応力が緩和される。
そのため、本実施形態に係る感光体では、電子写真感光体の表面に付着した油分に起因する感光層の割れの発生が抑制されると推測される。
また、本実施形態に係る感光体は、帯電維持性も良好である。
また、本実施形態に係る感光体は、帯電維持性も良好である。
ここで、本実施形態に係る感光体は、単層型感光層を有する単層型感光体であってもよいし、積層型感光体を有する積層型感光体であってもよい。
単層型感光体の場合、単独重合体である結着樹脂、電荷発生材料と、電荷輸送材料としての正孔輸送材料および電子輸送材料と、一般式（ＦＡ）のフッ化アルキル基含有重合体と、一般式（ＦＬ）のフルオレノン化合物および一般式（ＢＤＣ）のベンゼンジカルボン酸化合物から選択される少なくとも１種と、を同一層に含む単層型感光層を有する感光体が例示される。
一方、積層型感光体の場合、電荷輸送材料を含む電荷輸送層と、電荷輸送材料、一般式（ＦＡ）のフッ化アルキル基含有重合体、並びに、一般式（ＦＬ）のフルオレノン化合物および一般式（ＢＤＣ）のベンゼンジカルボン酸化合物から選択される少なくとも１種を同一層に含む電荷輸送層と、をこの順で有する感光体が例示される。
単層型感光体の場合、単独重合体である結着樹脂、電荷発生材料と、電荷輸送材料としての正孔輸送材料および電子輸送材料と、一般式（ＦＡ）のフッ化アルキル基含有重合体と、一般式（ＦＬ）のフルオレノン化合物および一般式（ＢＤＣ）のベンゼンジカルボン酸化合物から選択される少なくとも１種と、を同一層に含む単層型感光層を有する感光体が例示される。
一方、積層型感光体の場合、電荷輸送材料を含む電荷輸送層と、電荷輸送材料、一般式（ＦＡ）のフッ化アルキル基含有重合体、並びに、一般式（ＦＬ）のフルオレノン化合物および一般式（ＢＤＣ）のベンゼンジカルボン酸化合物から選択される少なくとも１種を同一層に含む電荷輸送層と、をこの順で有する感光体が例示される。
ただし、特に、単層型感光体では、製造コスト及び表面再生容易性（すなわちリフレッシュ性）等の観点から、感光層に用いる結着樹脂として単独重合体を用いることが好ましい。
そのため、本実施形態に係る感光体は、単層型感光体であることが適している。
そのため、本実施形態に係る感光体は、単層型感光体であることが適している。
以下、図面を参照しつつ、本実施形態に係る電子写真感光体を詳細に説明する。なお、図面中、同一又は相当部分には同一符号を付することとし、重複する説明は省略する。
図１は、本実施形態に係る電子写真感光体７の一部の断面を概略的に示している。図１に示す電子写真感光体７は、例えば、導電性基体３と、導電性基体３上に、下引層１と、単層型の感光層２が、この順で設けられている。
なお、下引層１は、必要に応じて設けられる層である。即ち、単層型の感光層２は、導電性基体３上に直接設けられていてもよく、下引層１を介して設けられてもよい。
なお、下引層１は、必要に応じて設けられる層である。即ち、単層型の感光層２は、導電性基体３上に直接設けられていてもよく、下引層１を介して設けられてもよい。
図１に示す電子写真感光体は、必要に応じてその他の層をさらに設けてもよい。その他の層としては、例えば、下引層と感光層との間に設けられる中間層等が挙げられる。
以下、本実施形態に係る電子写真感光体の各層について詳細に説明する。なお、符号は省略して説明する。
（導電性基体）
導電性基体としては、例えば、金属（アルミニウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等）又は合金（ステンレス鋼等）を含む金属板、金属ドラム、及び金属ベルト等が挙げられる。また、導電性基体としては、例えば、導電性化合物（例えば導電性ポリマー、酸化インジウム等）、金属（例えばアルミニウム、パラジウム、金等）又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、樹脂フィルム、ベルト等も挙げられる。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ未満であることをいう。
導電性基体としては、例えば、金属（アルミニウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等）又は合金（ステンレス鋼等）を含む金属板、金属ドラム、及び金属ベルト等が挙げられる。また、導電性基体としては、例えば、導電性化合物（例えば導電性ポリマー、酸化インジウム等）、金属（例えばアルミニウム、パラジウム、金等）又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、樹脂フィルム、ベルト等も挙げられる。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ未満であることをいう。
導電性基体の表面は、電子写真感光体がレーザプリンタに使用される場合、レーザ光を照射する際に生じる干渉縞を抑制する目的で、中心線平均粗さＲａで０．０４μｍ以上０．５μｍ以下に粗面化されていることが好ましい。なお、非干渉光を光源に用いる場合、干渉縞防止の粗面化は、特に必要ないが、導電性基体の表面の凹凸による欠陥の発生を抑制するため、より長寿命化に適する。
粗面化の方法としては、例えば、研磨剤を水に懸濁させて支持体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、回転する砥石に導電性基体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が挙げられる。
粗面化の方法としては、導電性基体の表面を粗面化することなく、導電性又は半導電性粉体を樹脂中に分散させて、導電性基体の表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も挙げられる。
陽極酸化による粗面化処理は、金属製（例えばアルミニウム製）の導電性基体を陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することにより導電性基体の表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、例えば、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、多孔質陽極酸化膜に対して、酸化膜の微細孔を加圧水蒸気又は沸騰水中（ニッケル等の金属塩を加えてもよい）で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが好ましい。
陽極酸化膜の膜厚は、例えば、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。この膜厚が上記範囲内にあると、注入に対するバリア性が発揮される傾向があり、また繰り返し使用による残留電位の上昇が抑えられる傾向にある。
導電性基体には、酸性処理液による処理又はベーマイト処理を施してもよい。
酸性処理液による処理は、例えば、以下のようにして実施される。先ず、リン酸、クロム酸及びフッ酸を含む酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、例えば、リン酸が１０質量％以上１１質量％以下の範囲、クロム酸が３質量％以上５質量％以下の範囲、フッ酸が０．５質量％以上２質量％以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は１３．５質量％以上１８質量％以下の範囲がよい。処理温度は例えば４２℃以上４８℃以下が好ましい。被膜の膜厚は、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。
酸性処理液による処理は、例えば、以下のようにして実施される。先ず、リン酸、クロム酸及びフッ酸を含む酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、例えば、リン酸が１０質量％以上１１質量％以下の範囲、クロム酸が３質量％以上５質量％以下の範囲、フッ酸が０．５質量％以上２質量％以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は１３．５質量％以上１８質量％以下の範囲がよい。処理温度は例えば４２℃以上４８℃以下が好ましい。被膜の膜厚は、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。
ベーマイト処理は、例えば９０℃以上１００℃以下の純水中に５分から６０分間浸漬すること、又は９０℃以上１２０℃以下の加熱水蒸気に５分から６０分間接触させて行う。被膜の膜厚は、０．１μｍ以上５μｍ以下が好ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。
（下引層）
下引層は、例えば、無機粒子と結着樹脂とを含む層である。
下引層は、例えば、無機粒子と結着樹脂とを含む層である。
無機粒子としては、例えば、粉体抵抗（体積抵抗率）１０２Ωｃｍ以上１０１１Ωｃｍ以下の無機粒子が挙げられる。
これらの中でも、上記抵抗値を有する無機粒子としては、例えば、酸化錫粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化ジルコニウム粒子等の金属酸化物粒子がよく、特に、酸化亜鉛粒子が好ましい。
これらの中でも、上記抵抗値を有する無機粒子としては、例えば、酸化錫粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化ジルコニウム粒子等の金属酸化物粒子がよく、特に、酸化亜鉛粒子が好ましい。
無機粒子のＢＥＴ法による比表面積は、例えば、１０ｍ２／ｇ以上がよい。
無機粒子の体積平均粒径は、例えば、５０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下（好ましくは６０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下）がよい。
無機粒子の体積平均粒径は、例えば、５０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下（好ましくは６０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下）がよい。
無機粒子の含有量は、例えば、結着樹脂に対して、１０質量％以上８０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは４０質量％以上８０質量％以下である。
無機粒子は、表面処理が施されていてもよい。無機粒子は、表面処理の異なるもの、又は、粒子径の異なるものを２種以上混合して用いてもよい。
表面処理剤としては、例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性剤等が挙げられる。特に、シランカップリング剤が好ましく、アミノ基を有するシランカップリング剤がより好ましい。
アミノ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ－ビス（２－ヒドロキシエチル）－３－アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
シランカップリング剤は、２種以上混合して使用してもよい。例えば、アミノ基を有するシランカップリング剤と他のシランカップリング剤とを併用してもよい。この他のシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３－メタクリルオキシプロピル－トリス（２－メトキシエトキシ）シラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ－ビス（２－ヒドロキシエチル）－３－アミノプロピルトリエトキシシラン、３－クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
表面処理剤による表面処理方法は、公知の方法であればいかなる方法でもよく、乾式法又は湿式法のいずれでもよい。
表面処理剤の処理量は、例えば、無機粒子に対して０．５質量％以上１０質量％以下が好ましい。
ここで、下引層は、無機粒子と共に電子受容性化合物（アクセプター化合物）を含有することが、電気特性の長期安定性、キャリアブロック性が高まる観点からよい。
電子受容性化合物としては、例えば、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７－トリニトロフルオレノン、２，４，５，７－テトラニトロ－９－フルオレノン等のフルオレノン化合物；２－（４－ビフェニル）－５－（４－ｔ－ブチルフェニル）－１，３，４－オキサジアゾール、２，５－ビス（４－ナフチル）－１，３，４－オキサジアゾール、２，５－ビス（４－ジエチルアミノフェニル）－１，３，４オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物；キサントン系化合物；チオフェン化合物；３，３’，５，５’テトラ－ｔ－ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物；等の電子輸送性物質等が挙げられる。
特に、電子受容性化合物としては、アントラキノン構造を有する化合物が好ましい。アントラキノン構造を有する化合物としては、例えば、ヒドロキシアントラキノン化合物、アミノアントラキノン化合物、アミノヒドロキシアントラキノン化合物等が好ましく、具体的には、例えば、アントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が好ましい。
特に、電子受容性化合物としては、アントラキノン構造を有する化合物が好ましい。アントラキノン構造を有する化合物としては、例えば、ヒドロキシアントラキノン化合物、アミノアントラキノン化合物、アミノヒドロキシアントラキノン化合物等が好ましく、具体的には、例えば、アントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が好ましい。
電子受容性化合物は、下引層中に無機粒子と共に分散して含まれていてもよいし、無機粒子の表面に付着した状態で含まれていてもよい。
電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着させる方法としては、例えば、乾式法、又は、湿式法が挙げられる。
乾式法は、例えば、無機粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接又は有機溶媒に溶解させた電子受容性化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させて、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。電子受容性化合物の滴下又は噴霧するときは、溶剤の沸点以下の温度で行うことがよい。電子受容性化合物を滴下又は噴霧した後、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に制限されない。
湿式法は、例えば、攪拌、超音波、サンドミル、アトライター、ボールミル等により、無機粒子を溶剤中に分散しつつ、電子受容性化合物を添加し、攪拌又は分散した後、溶剤除去して、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。溶剤除去方法は、例えば、ろ過又は蒸留により留去される。溶剤除去後には、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に限定されない。湿式法においては、電子受容性化合物を添加する前に無機粒子の含有水分を除去してもよく、その例として溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法が挙げられる。
なお、電子受容性化合物の付着は、表面処理剤による表面処理を無機粒子に施す前又は後に行ってよく、電子受容性化合物の付着と表面処理剤による表面処理と同時に行ってもよい。
電子受容性化合物の含有量は、例えば、無機粒子に対して０．０１質量％以上２０質量％以下がよく、好ましくは０．０１質量％以上１０質量％以下である。
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル－酢酸ビニル－無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン－アルキッド樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール－ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の公知の高分子化合物；ジルコニウムキレート化合物；チタニウムキレート化合物；アルミニウムキレート化合物；チタニウムアルコキシド化合物；有機チタニウム化合物；シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂、導電性樹脂（例えばポリアニリン等）等も挙げられる。
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂、導電性樹脂（例えばポリアニリン等）等も挙げられる。
これらの中でも、下引層に用いる結着樹脂としては、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好適であり、特に、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール－ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂；ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂及びポリビニルアセタール樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂と硬化剤との反応により得られる樹脂が好適である。
これら結着樹脂を２種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。
これら結着樹脂を２種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。
下引層には、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加剤を含んでいてもよい。
添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。シランカップリング剤は前述のように無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤として更に下引層に添加してもよい。
添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。シランカップリング剤は前述のように無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤として更に下引層に添加してもよい。
添加剤としてのシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３－メタクリルオキシプロピル－トリス（２－メトキシエトキシ）シラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ－ビス（２－ヒドロキシエチル）－３－アミノプロピルトリエトキシシラン、３－クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
ジルコニウムキレート化合物としては、例えば、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
チタニウムキレート化合物としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２－エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
アルミニウムキレート化合物としては、例えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。
これらの添加剤は、単独で、又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
下引層は、ビッカース硬度が３５以上であることがよい。
下引層の表面粗さ（十点平均粗さ）は、モアレ像抑制のために、使用される露光用レーザ波長λの１／（４ｎ）（ｎは上層の屈折率）から１／２までに調整されていることがよい。
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子等を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が挙げられる。また、表面粗さ調整のために下引層の表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が挙げられる。
下引層の表面粗さ（十点平均粗さ）は、モアレ像抑制のために、使用される露光用レーザ波長λの１／（４ｎ）（ｎは上層の屈折率）から１／２までに調整されていることがよい。
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子等を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が挙げられる。また、表面粗さ調整のために下引層の表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が挙げられる。
下引層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた下引層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。
下引層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、公知の有機溶剤、例えば、アルコール系溶剤、芳香族炭化水素溶剤、ハロゲン化炭化水素溶剤、ケトン系溶剤、ケトンアルコール系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤等が挙げられる。
これらの溶剤として具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ－ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。
これらの溶剤として具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ－ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。
下引層形成用塗布液を調製するときの無機粒子の分散方法としては、例えば、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等の公知の方法が挙げられる。
下引層形成用塗布液を導電性基体上に塗布する方法としては、例えば、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
下引層の膜厚は、例えば、好ましくは１５μｍ以上、より好ましくは２０μｍ以上５０μｍ以下の範囲内に設定される。
（中間層）
図示は省略するが、下引層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。
中間層は、例えば、樹脂を含む層である。中間層に用いる樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル－酢酸ビニル－無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン－アルキッド樹脂、フェノール－ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂等の高分子化合物が挙げられる。
中間層は、有機金属化合物を含む層であってもよい。中間層に用いる有機金属化合物としては、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素等の金属原子を含有する有機金属化合物等が挙げられる。
これらの中間層に用いる化合物は、単独で又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
図示は省略するが、下引層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。
中間層は、例えば、樹脂を含む層である。中間層に用いる樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル－酢酸ビニル－無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン－アルキッド樹脂、フェノール－ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂等の高分子化合物が挙げられる。
中間層は、有機金属化合物を含む層であってもよい。中間層に用いる有機金属化合物としては、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素等の金属原子を含有する有機金属化合物等が挙げられる。
これらの中間層に用いる化合物は、単独で又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
これらの中でも、中間層は、ジルコニウム原子又はケイ素原子を含有する有機金属化合物を含む層であることが好ましい。
中間層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた中間層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
中間層の膜厚は、例えば、好ましくは０．１μｍ以上３μｍ以下の範囲に設定される。なお、中間層を下引層として使用してもよい。
（単層型の感光層）
単層型の感光層は、単独重合体である結着樹脂と、電荷発生材料と、正孔輸送材料と、電子輸送材料と、一般式（ＦＡ）のフッ化アルキル基含有重合体と、一般式（ＦＬ）のフルオレノン化合物および一般式（ＢＤＣ）のベンゼンジカルボン酸化合物から選択される少なくとも１種と、を含む。
単層型の感光層は、単独重合体である結着樹脂と、電荷発生材料と、正孔輸送材料と、電子輸送材料と、一般式（ＦＡ）のフッ化アルキル基含有重合体と、一般式（ＦＬ）のフルオレノン化合物および一般式（ＢＤＣ）のベンゼンジカルボン酸化合物から選択される少なくとも１種と、を含む。
－結着樹脂－
結着樹脂として、単独重合体が適用される。
単独重合体としては、例えば、ポリカーボネート樹脂（ビスフェノールＡ、ビスフェノールＺ、ビスフェノールＣ、ビスフェノールＴＰ等の単独重合体等）、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、シリコーン樹脂、ポリ－Ｎ－ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。
これらの単独重合体は、１種を単独で又は２種以上混合して用いてもよい。結着樹脂として用いる単独重合体が１種のみであっても、ケミカルクラックが抑制される。
結着樹脂として、単独重合体が適用される。
単独重合体としては、例えば、ポリカーボネート樹脂（ビスフェノールＡ、ビスフェノールＺ、ビスフェノールＣ、ビスフェノールＴＰ等の単独重合体等）、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、シリコーン樹脂、ポリ－Ｎ－ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。
これらの単独重合体は、１種を単独で又は２種以上混合して用いてもよい。結着樹脂として用いる単独重合体が１種のみであっても、ケミカルクラックが抑制される。
これらの中でも、単独重合体は、感光層の機械的強度等の観点から、ポリカーボネート樹脂及びポリアリレート樹脂から選択される少なくとも１種を含むことが好ましい。
単独重合体がポリカーボネート樹脂及びポリアリレート樹脂から選択される少なくとも１種を含む場合、単独重合体全体に対するポリカーボネート樹脂及びポリアリレート樹脂の合計含有量は、９０質量％以上であることが好ましく９５質量％以上であることがより好ましく、９８質量％以上であることがさらに好ましい。
単独重合体がポリカーボネート樹脂及びポリアリレート樹脂から選択される少なくとも１種を含む場合、単独重合体全体に対するポリカーボネート樹脂及びポリアリレート樹脂の合計含有量は、９０質量％以上であることが好ましく９５質量％以上であることがより好ましく、９８質量％以上であることがさらに好ましい。
また、単独重合体は、製造コスト及び画質安定性（例えば、感光体に付着した紙粉等を取り除きやすくすることによる色点耐性の向上）の観点から、ポリカーボネート樹脂を含むことがより好ましい。結着樹脂として用いる単独重合体がポリカーボネート樹脂を含んでも、ケミカルクラックが抑制される。
単独重合体がポリカーボネート樹脂を含む場合、単独重合体全体に対するポリカーボネート樹脂の含有量は、９０質量％以上であることが好ましく９５質量％以上であることがより好ましく、９８質量％以上であることがさらに好ましい。
単独重合体がポリカーボネート樹脂を含む場合、単独重合体全体に対するポリカーボネート樹脂の含有量は、９０質量％以上であることが好ましく９５質量％以上であることがより好ましく、９８質量％以上であることがさらに好ましい。
単独重合体に含まれるポリカーボネート樹脂は、下記一般式（ＰＣ）で表される繰り返し単位を有することが、機械的強度の観点で好ましい。
一般式（ＰＣ）中、ＲＰ１及びＲＰ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数５以下の置換若しくは非置換のアルキル基、又は置換若しくは非置換のフェニル基を示し、ＲＰ１とＲＰ２とでシクロ環を形成していてもよい。
ＲＰ３及びＲＰ４は、それぞれ独立に、水素原子、又は炭素数３以下の置換若しくは非置換のアルキル基を示す。
ＲＰ３及びＲＰ４は、それぞれ独立に、水素原子、又は炭素数３以下の置換若しくは非置換のアルキル基を示す。
一般式（ＰＣ）中、ＲＰ１及びＲＰ２が表す炭素数５以下のアルキル基としては、それぞれ独立に、直鎖状又は分岐状のアルキル基が挙げられ、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基が挙げられる。
一般式（ＰＣ）中、ＲＰ１及びＲＰ２が表す炭素数５以下のアルキル基又はフェニル基がさらに有する置換基としては、例えば、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子）、アルキル基（例えば炭素数１以上６以下のアルキル基）、シクロアルキル基（例えば炭素数５以上７以下のシクロアルキル基）、アルコキシ基（例えば炭素数１以上４以下のアルコキシ基）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基等）等が挙げられる。
一般式（ＰＣ）中、ＲＰ１とＲＰ２とで形成するシクロ環（すなわち、ＲＰが表す基と、ＲＰ２が表す基と、ＲＰ１及びＲＰ２が直接結合する炭素原子と、で構成されるシクロ環）としては、例えば、置換又は非置換のシクロアルキレン基が挙げられる。なお、シクロアルキレン基がさらに有する置換基は、一般式（ＰＣ）中ＲＰ１及びＲＰ２が表す炭素数５以下のアルキル基又はフェニル基がさらに有する置換基と同じものが挙げられる。
シクロアルキレン基の炭素数（ただし、置換シクロアルキレン基の場合はさらに有する置換基の炭素数を除く）は、３以上１２以下が好ましく、３以上１０以下がより好ましく、５以上８以下がさらに好ましい。シクロアルキレン基の具体例としては、シクロプロピレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロオクチレン基、シクロドデカニレン基等が挙げられる。これらの中でも、シクロアルキレン基としては、シクロヘキシレン基が好ましい。
シクロアルキレン基の炭素数（ただし、置換シクロアルキレン基の場合はさらに有する置換基の炭素数を除く）は、３以上１２以下が好ましく、３以上１０以下がより好ましく、５以上８以下がさらに好ましい。シクロアルキレン基の具体例としては、シクロプロピレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロオクチレン基、シクロドデカニレン基等が挙げられる。これらの中でも、シクロアルキレン基としては、シクロヘキシレン基が好ましい。
一般式（ＰＣ）中のＲＰ１及びＲＰ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数５以下の非置換のアルキル基、非置換のフェニル基、ＲＰ１とＲＰ２とで形成された非置換のシクロアルキレン基が好ましく、非置換のメチル基、非置換のフェニル基、ＲＰ１とＲ２Ｐとで形成された非置換のシクロヘキシレン基がより好ましく、ＲＰ１とＲＰ２とで形成された非置換のシクロヘキシレン基がさらに好ましい。
一般式（ＰＣ）中、ＲＰ３及びＲＰ４が表す炭素数３以下のアルキル基は、前記一般式（ＰＣ）中ＲＰ１及びＲＰ２が表す炭素数５以下のアルキル基のうち炭素数３以下のものと同じものが挙げられる。
また、一般式（ＰＣ）中、ＲＰ３及びＲＰ４が表す炭素数３以下のアルキル基がさらに有する置換基は、一般式（ＰＣ）中、ＲＰ１及びＲＰ２が表す炭素数５以下のアルキル基又はフェニル基がさらに有する置換基と同じものが挙げられる。
また、一般式（ＰＣ）中、ＲＰ３及びＲＰ４が表す炭素数３以下のアルキル基がさらに有する置換基は、一般式（ＰＣ）中、ＲＰ１及びＲＰ２が表す炭素数５以下のアルキル基又はフェニル基がさらに有する置換基と同じものが挙げられる。
一般式（ＰＣ）中のＲＰ３及びＲＰ４は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数３以下の非置換のアルキル基が好ましく、水素原子、非置換のメチル基がより好ましく、ＲＰ１とＲＰ２とで形成されたシクロヘキシレン基がさらに好ましい。
一般式（ＰＣ）で表される繰り返し単位の具体例としては、例えば、下記構造式で表される繰り返し単位が挙げられる。
結着樹脂が単独重合体以外の樹脂を含む場合、結着樹脂全体に対する単独重合体の割合は、９０質量％以上であることが好ましく、９５質量％以上であることがより好ましく、９８質量％以上であることがさらに好ましい。
結着樹脂の粘度平均分子量は、画質安定性(例えば、感光体に付着した紙粉等を取り除きやすくることによる色点耐性の向上の観点で、５００００以下であることが好ましく、４５０００以下であることがより好ましく、４００００以下であることがさらに好ましい。また、単独重合体の粘度平均分子量は、機械的強度の観点で、２００００以上であることが好ましい。
ここで、結着樹脂の粘度平均分子量の測定は、以下の一点測定法が用いられる。
まず、感光体から測定対象となる感光層を露出させる。そして、その感光層の一部を切り出し、測定用試料を準備する。
次に、測定用試料から結着樹脂を抽出する。抽出した結着樹脂１ｇ分をメチレンクロライド１００ｃｍ３に溶解し、２５℃の測定環境下でウベローデ粘度計にて、その比粘度ηｓｐを測定する。そして、ηｓｐ／ｃ＝〔η〕＋０．４５〔η〕２ｃの関係式（ただしｃは濃度（ｇ／ｃｍ３）より極限粘度〔η〕（ｃｍ３／ｇ）を求め、Ｈ．Ｓｃｈｎｅｌｌによって与えられている式、〔η〕＝１．２３×１０－４Ｍｖ０．８３の関係式より粘度平均分子量Ｍｖを求める。
まず、感光体から測定対象となる感光層を露出させる。そして、その感光層の一部を切り出し、測定用試料を準備する。
次に、測定用試料から結着樹脂を抽出する。抽出した結着樹脂１ｇ分をメチレンクロライド１００ｃｍ３に溶解し、２５℃の測定環境下でウベローデ粘度計にて、その比粘度ηｓｐを測定する。そして、ηｓｐ／ｃ＝〔η〕＋０．４５〔η〕２ｃの関係式（ただしｃは濃度（ｇ／ｃｍ３）より極限粘度〔η〕（ｃｍ３／ｇ）を求め、Ｈ．Ｓｃｈｎｅｌｌによって与えられている式、〔η〕＝１．２３×１０－４Ｍｖ０．８３の関係式より粘度平均分子量Ｍｖを求める。
感光層全体に対する単独重合体である樹脂の含有量としては、例えば、３５質量％以上６０質量％以下の範囲が挙げられ、４０質量％以上６０質量％以下の範囲が好ましく、５０質量％以上６０質量％以下の範囲がより好ましい。感光層全体に対する単独重合体である樹脂の含有量が多いと、一般的にはケミカルクラックが発生しやすくなることがあるが、単独重合体である樹脂の含有量が上記範囲であっても、ケミカルクラックが抑制される。
－電荷発生材料－
電荷発生材料としては、例えば、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料；ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；ペリレン顔料；ピロロピロール顔料；フタロシアニン顔料；酸化亜鉛；三方晶系セレン等が挙げられる。
電荷発生材料としては、例えば、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料；ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；ペリレン顔料；ピロロピロール顔料；フタロシアニン顔料；酸化亜鉛；三方晶系セレン等が挙げられる。
これらの中でも、近赤外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、金属フタロシアニン顔料、又は無金属フタロシアニン顔料を用いることがよい。具体的には、例えば、ヒドロキシガリウムフタロシアニン；クロロガリウムフタロシアニン；ジクロロスズフタロシアニン；チタニルフタロシアニンが挙げられる。
一方、近紫外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；チオインジゴ系顔料；ポルフィラジン化合物；酸化亜鉛；三方晶系セレン；ビスアゾ顔料等を用いることがよい。
すなわち、電荷発生材料としては、例えば３８０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の露光波長の光源を用いる場合には無機顔料を用いることがよく、７００ｎｍ以上８００ｎｍ以下の露光波長の光源を用いる場合には、金属及び無金属フタロシアニン顔料を用いことがよい。
中でも、電荷発生材料としては、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料及びクロロガリウムフタロシアニン顔料から選択される少なくとも１種を用いることが望ましい。これらの電荷発生材料としては、単独又は２種以上混合して用いてもよい。感光体の高感度化の点から、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料がよい。
なお、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料及びクロロガリウムフタロシアニン顔料を併用する場合には、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料とクロロガリウムフタロシアニン顔料との比率は、質量比で、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料：クロロガリウムフタロシアニン顔料＝９：１乃至３：７（好ましくは９：１乃至６：４）であることがよい。
なお、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料及びクロロガリウムフタロシアニン顔料を併用する場合には、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料とクロロガリウムフタロシアニン顔料との比率は、質量比で、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料：クロロガリウムフタロシアニン顔料＝９：１乃至３：７（好ましくは９：１乃至６：４）であることがよい。
ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料としては、特に制限はないが、感光体の感度を向上させる観点から、Ｖ型のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料がよい。
特に、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料としては、例えば、６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長域での分光吸収スペクトルにおいて、８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料がより優れた分散性が得られる観点から望ましい。
特に、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料としては、例えば、６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長域での分光吸収スペクトルにおいて、８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料がより優れた分散性が得られる観点から望ましい。
また、上記の８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、平均粒径が特定の範囲であり、且つ、ＢＥＴ比表面積が特定の範囲であることが好ましい。具体的には、平均粒径が０．２０μｍ以下であることが好ましく、０．０１μｍ以上０．１５μｍ以下であることがより好ましい。一方、ＢＥＴ比表面積は４５ｍ２／ｇ以上であることが好ましく、５０ｍ２／ｇ以上であることがより好ましく、５５ｍ２／ｇ以上１２０ｍ２／ｇ以下であることがさらに好ましい。平均粒径は、体積平均粒径であり、レーザ回折散乱式粒度分布測定装置（堀場製作所ＬＡ－７００）にて測定した値である。ＢＥＴ比表面積は、流動式比表面積自動測定装置（島津製作所フローソープＩＩ２３００）を用い窒素置換法にて測定した値である。
ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の最大粒径（一次粒径の最大値）は、１．２μｍ以下が好ましく、１．０μｍ以下がより好ましく、０．３μｍ以下が更に好ましい。
ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、平均粒径が０．２μｍ以下であり、且つ、最大粒径が１．２μｍ以下であり、且つ、ＢＥＴ比表面積が４５ｍ２／ｇ以上であることが好ましい。
ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、ＣｕＫα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３゜、１６．０゜、２４．９゜、２８．０゜に回折ピークを有するＶ型であることが好ましい。
一方、クロロガリウムフタロシアニン顔料としては、感光層の感度の点から、ブラッグ角度（２θ±０．２°）７．４°、１６．６°、２５．５°、２８．３°に回折ピークを有する化合物が好ましい。クロロガリウムフタロシアニン顔料の最大ピーク波長、平均粒径、最大粒径、及びＢＥＴ比表面積の好ましい範囲は、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料と同様である。
電荷発生材料は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
単層型の感光層の全固形分に対する電荷発生材料の含有量は、０．５質量％以上５質量％以下がよく、１質量％以上５質量％以下が好ましく、１．２質量％以上４．５質量％以下であることがより好ましい。
－正孔輸送材料－
正孔輸送材料としては、特に制限はないが、例えば、２，５－ビス（ｐ－ジエチルアミノフェニル）－１，３，４－オキサジアゾール等のオキサジアゾール誘導体；１，３，５－トリフェニル－ピラゾリン、１－［ピリジル－（２）］－３－（ｐ－ジエチルアミノスチリル）－５－（ｐ－ジエチルアミノスチリル）ピラゾリン等のピラゾリン誘導体；トリフェニルアミン、Ｎ，Ｎ′－ビス（３，４－ジメチルフェニル）ビフェニル－４－アミン、トリ（ｐ－メチルフェニル）アミニル－４－アミン、ジベンジルアニリン等の芳香族第３級アミノ化合物；Ｎ，Ｎ′－ビス（３－メチルフェニル）－Ｎ，Ｎ′－ジフェニルベンジジン等の芳香族第３級ジアミノ化合物、３－（４′－ジメチルアミノフェニル）－５，６－ジ－（４′－メトキシフェニル）－１，２，４－トリアジン等の１，２，４－トリアジン誘導体；４－ジエチルアミノベンズアルデヒド－１，１－ジフェニルヒドラゾン等のヒドラゾン誘導体；２－フェニル－４－スチリル－キナゾリン等のキナゾリン誘導体；６－ヒドロキシ－２，３－ジ（ｐ－メトキシフェニル）ベンゾフラン等のベンゾフラン誘導体；ｐ－（２，２－ジフェニルビニル）－Ｎ，Ｎ－ジフェニルアニリン等のα－スチルベン誘導体；エナミン誘導体；Ｎ－エチルカルバゾール等のカルバゾール誘導体；ポリ－Ｎ－ビニルカルバゾール及びその誘導体等；上記した化合物で構成される基を主鎖又は側鎖に有する重合体；などが挙げられる。これらの正孔輸送材料は、１種又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。
正孔輸送材料の具体例としては、例えば、下記一般式（Ｂ－１）で示される化合物及び下記一般式（Ｂ－２）で示される化合物が挙げられる。その中でも、感光体の感度を向上させる観点から、正孔輸送材料としては、下記一般式（Ｂ－１）で示される化合物が好ましい。
正孔輸送材料としては、特に制限はないが、例えば、２，５－ビス（ｐ－ジエチルアミノフェニル）－１，３，４－オキサジアゾール等のオキサジアゾール誘導体；１，３，５－トリフェニル－ピラゾリン、１－［ピリジル－（２）］－３－（ｐ－ジエチルアミノスチリル）－５－（ｐ－ジエチルアミノスチリル）ピラゾリン等のピラゾリン誘導体；トリフェニルアミン、Ｎ，Ｎ′－ビス（３，４－ジメチルフェニル）ビフェニル－４－アミン、トリ（ｐ－メチルフェニル）アミニル－４－アミン、ジベンジルアニリン等の芳香族第３級アミノ化合物；Ｎ，Ｎ′－ビス（３－メチルフェニル）－Ｎ，Ｎ′－ジフェニルベンジジン等の芳香族第３級ジアミノ化合物、３－（４′－ジメチルアミノフェニル）－５，６－ジ－（４′－メトキシフェニル）－１，２，４－トリアジン等の１，２，４－トリアジン誘導体；４－ジエチルアミノベンズアルデヒド－１，１－ジフェニルヒドラゾン等のヒドラゾン誘導体；２－フェニル－４－スチリル－キナゾリン等のキナゾリン誘導体；６－ヒドロキシ－２，３－ジ（ｐ－メトキシフェニル）ベンゾフラン等のベンゾフラン誘導体；ｐ－（２，２－ジフェニルビニル）－Ｎ，Ｎ－ジフェニルアニリン等のα－スチルベン誘導体；エナミン誘導体；Ｎ－エチルカルバゾール等のカルバゾール誘導体；ポリ－Ｎ－ビニルカルバゾール及びその誘導体等；上記した化合物で構成される基を主鎖又は側鎖に有する重合体；などが挙げられる。これらの正孔輸送材料は、１種又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。
正孔輸送材料の具体例としては、例えば、下記一般式（Ｂ－１）で示される化合物及び下記一般式（Ｂ－２）で示される化合物が挙げられる。その中でも、感光体の感度を向上させる観点から、正孔輸送材料としては、下記一般式（Ｂ－１）で示される化合物が好ましい。
一般式（Ｂ－１）中、ＲＢ１は、水素原子またはメチル基を示す。ｎ１１は１または２を示す。ＡｒＢ１およびＡｒＢ２は各々独立に置換若しくは未置換のアリール基、－Ｃ６Ｈ４－Ｃ（ＲＢ３）＝Ｃ（ＲＢ４）（ＲＢ５）、又は－Ｃ６Ｈ４－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＨ＝Ｃ（ＲＢ６）（ＲＢ７）を示し、ＲＢ３乃至ＲＢ７はそれぞれ独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、又は置換若しくは未置換のアリール基を表す。置換基としてはハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、または炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基を示す。
一般式（Ｂ－２）中、ＲＢ８およびＲＢ８’は同一でも異なってもよく、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、を示す。ＲＢ９、ＲＢ９’、ＲＢ１０、およびＲＢ１０’は同一でも異なってもよく、各々独立にハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは未置換のアリール基、－Ｃ（ＲＢ１１）＝Ｃ（ＲＢ１２）（ＲＢ１３）、又は－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＨ＝Ｃ（ＲＢ１４）（ＲＢ１５）を示し、ＲＢ１１乃至ＲＢ１５は各々独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、又は置換若しくは未置換のアリール基を表す。ｍ１２、ｍ１３、ｎ１２およびｎ１３は各々独立に０以上２以下の整数を示す。
ここで、一般式（Ｂ－１）で示される化合物及び一般式（Ｂ－２）で示される化合物のうち、特に、「－Ｃ６Ｈ４－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＨ＝Ｃ（ＲＢ６）（ＲＢ７）」を有する一般式（Ｂ－１）で示される化合物、及び「－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＨ＝Ｃ（ＲＢ１４）（ＲＢ１５）」を有する一般式（Ｂ－２）で示される化合物が好ましい。
以下、一般式（Ｂ－１）で示される化合物及び一般式（Ｂ－２）で示される化合物の具体例として、下記構造式（ＨＴ－１）～（ＨＴ－１０）を挙げるが、正孔輸送材料は、これらに限られるものではない。
感光層の全固形分に対する全正孔輸送材料の含有量は、２０質量％以上４５質量％以下がよく、好ましくは２５質量％以上４２質量％以下、より好ましくは２８質量％以上４０質量％以下である。なお、この正孔輸送材料の含有量は、２種以上の電子輸送材料を併用した場合、それらの電子輸送材料全体の含有量である。
－電子輸送材料－
電子輸送材料としては、特に制限はないが、例えば、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７－トリニトロ－９－フルオレノン、２，４，５，７－テトラニトロ－９－フルオレノン、９－ジシアノメチレン－９－フルオレノン－４－カルボン酸オクチル等のフルオレノン系化合物；２－（４－ビフェニル）－５－（４－ｔ－ブチルフェニル）－１，３，４－オキサジアゾール、２，５－ビス（４－ナフチル）－１，３，４－オキサジアゾール、２，５－ビス（４－ジエチルアミノフェニル）１，３，４－オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物；キサントン系化合物；チオフェン系化合物；３，３’－ジ－ｔｅｒｔ－ペンチル－ジナフトキノン等のジナフトキノン系化合物；３，３’－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－５，５’－ジメチルジフェノキノン、３，３’，５，５’－テトラ－ｔｅｒｔ－ブチル－４，４’－ジフェノキノン等のジフェノキノン系化合物；上記した化合物で構成される基を主鎖又は側鎖に有する重合体；などが挙げられる。これらの電子輸送材料は、１種又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。
電子輸送材料としては、特に制限はないが、例えば、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７－トリニトロ－９－フルオレノン、２，４，５，７－テトラニトロ－９－フルオレノン、９－ジシアノメチレン－９－フルオレノン－４－カルボン酸オクチル等のフルオレノン系化合物；２－（４－ビフェニル）－５－（４－ｔ－ブチルフェニル）－１，３，４－オキサジアゾール、２，５－ビス（４－ナフチル）－１，３，４－オキサジアゾール、２，５－ビス（４－ジエチルアミノフェニル）１，３，４－オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物；キサントン系化合物；チオフェン系化合物；３，３’－ジ－ｔｅｒｔ－ペンチル－ジナフトキノン等のジナフトキノン系化合物；３，３’－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－５，５’－ジメチルジフェノキノン、３，３’，５，５’－テトラ－ｔｅｒｔ－ブチル－４，４’－ジフェノキノン等のジフェノキノン系化合物；上記した化合物で構成される基を主鎖又は側鎖に有する重合体；などが挙げられる。これらの電子輸送材料は、１種又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。
これらの中でも、感光体の感度を向上させる観点から、下記一般式（Ｃ－１）で示される化合物、及び下記一般式（Ｄ－１）で示される化合物が好ましい。
一般式（Ｃ－１）中、ＲＣ１１、ＲＣ１２、ＲＣ１３、及びＲＣ１４は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、又はフェニル基を示す。
一般式（Ｃ－１）中、ＲＣ１１～ＲＣ１４が示すアルキル基としては、例えば、直鎖状又は分岐状で、炭素数１以上６以下のアルキル基が挙げられ、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。
ＲＣ１１～ＲＣ１４が示すアルキル基は、置換アルキル基であってもよい。置換アルキル基の置換基としては、シクロアルキル基、フッ素置換アルキル基等が挙げられる。
ＲＣ１１～ＲＣ１４が示すアルキル基は、置換アルキル基であってもよい。置換アルキル基の置換基としては、シクロアルキル基、フッ素置換アルキル基等が挙げられる。
一般式（Ｃ－１）中、ＲＣ１１～ＲＣ１４が示すアルコキシ基としては、例えば、炭素数１以上６以下のアルコキシ基が挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。
一般式（Ｃ－１）中、ＲＣ１１～ＲＣ１４が示すハロゲン原子としては、例えば、塩素原子、ヨウ素原子、臭素原子、フッ素原子等が挙げられる。
一般式（Ｃ－１）中、ＲＣ１１～ＲＣ１４が示すフェニル基は、置換フェニル基であってもよい。置換フェニル基の置換基としては、アルキル基（例えば炭素数１以上６以下のアルキル基）、アルコキシ基（例えば炭素数１以上６以下のアルコキシ基）、ビフェニル基等が挙げられる。
一般式（Ｃ－１）で示される化合物は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
以下、一般式（Ｃ－１）で示される化合物の例示化合物を示すが、これに限定されるわけではない。
一般式（Ｄ－１）中、ＲＤ１１、ＲＤ１２、ＲＤ１３、ＲＤ１４、ＲＤ１５、ＲＤ１６、及びＲＤ１７は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又はアラルキル基を示す。ＲＤ１８は、アルキル基、－ＬＤ１９－Ｏ－ＲＤ２０、アリール基、又はアラルキル基を表す。ただし、ＬＤ１９はアルキレン基を示し、ＲＤ２０はアルキル基を表す。
一般式（Ｄ－１）中、ＲＤ１１～ＲＤ１７が示すハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
一般式（Ｄ－１）中、ＲＤ１１～ＲＤ１７が示すアルキル基としては、例えば、直鎖状又は分岐状で、炭素数１以上４以下（好ましくは１以上３以下）のアルキル基が挙げられ、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基等が挙げられる。
一般式（Ｄ－１）中、ＲＤ１１～ＲＤ１７が示すアルコキシ基としては、例えば、炭素数１以上４以下（好ましくは１以上３以下）のアルコキシ基が挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。
一般式（Ｄ－１）中、ＲＤ１１～ＲＤ１７が示すアリール基としては、例えば、フェニル基、トリル基等が挙げられる。これらの中でも、ＲＤ１１～ＲＤ１７が示すアリール基としては、フェニル基が好ましい。
一般式（Ｄ－１）中、ＲＤ１１～ＲＤ１７が示すアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基等が挙げられる。
一般式（Ｄ－１）中、ＲＤ１１～ＲＤ１７が示すアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基等が挙げられる。
一般式（Ｄ－１）中、ＲＤ１８が示すアルキル基としては、例えば、炭素数１以上１２以下（好ましくは炭素数５以上１０以下）の直鎖状のアルキル基、炭素数３以上１０以下（好ましくは炭素数５以上１０以下）の分岐状のアルキル基が挙げられる。
炭素数１以上１２以下の直鎖状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル、ｎ－ウンデシル、ｎ－ドデシル基等が挙げられる。
炭素数３以上１０以下の分岐状のアルキル基としては、例えば、イソプロピル基、
イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、イソヘキシル基、ｓｅｃ－ヘキシル基、ｔｅｒｔ－ヘキシル基、イソヘプチル基、ｓｅｃ－ヘプチル基、ｔｅｒｔ－ヘプチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ－オクチル基、ｔｅｒｔ－オクチル基、イソノニル基、ｓｅｃ－ノニル基、ｔｅｒｔ－ノニル基、イソデシル基、ｓｅｃ－デシル基、ｔｅｒｔ－デシル基等が挙げられる。
炭素数１以上１２以下の直鎖状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル、ｎ－ウンデシル、ｎ－ドデシル基等が挙げられる。
炭素数３以上１０以下の分岐状のアルキル基としては、例えば、イソプロピル基、
イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、イソヘキシル基、ｓｅｃ－ヘキシル基、ｔｅｒｔ－ヘキシル基、イソヘプチル基、ｓｅｃ－ヘプチル基、ｔｅｒｔ－ヘプチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ－オクチル基、ｔｅｒｔ－オクチル基、イソノニル基、ｓｅｃ－ノニル基、ｔｅｒｔ－ノニル基、イソデシル基、ｓｅｃ－デシル基、ｔｅｒｔ－デシル基等が挙げられる。
一般式（Ｄ－１）中、ＲＤ１８が示す－ＬＤ１９－Ｏ－ＲＤ２０で示される基は、ＬＤ１９がアルキレン基を示し、ＲＤ２０は、アルキル基を示す。
ＬＤ１９が示すアルキレン基としては、直鎖状又は分岐状の炭素数１以上１２以下のアルキレン基が挙げられ、メチレン基、エチレン基、ｎ－プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ－ブチレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ－ブチレン基、ｔｅｒｔ－ブチレン基、ｎ－ペンチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基、ｔｅｒｔ－ペンチレン基等が挙げられる。
ＲＤ２０が示すアルキル基としては、上記ＲＤ１１～ＲＤ１７が示すアルキル基と同様の基が挙げられる。
ＬＤ１９が示すアルキレン基としては、直鎖状又は分岐状の炭素数１以上１２以下のアルキレン基が挙げられ、メチレン基、エチレン基、ｎ－プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ－ブチレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ－ブチレン基、ｔｅｒｔ－ブチレン基、ｎ－ペンチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基、ｔｅｒｔ－ペンチレン基等が挙げられる。
ＲＤ２０が示すアルキル基としては、上記ＲＤ１１～ＲＤ１７が示すアルキル基と同様の基が挙げられる。
一般式（Ｄ－１）中、ＲＤ１８が示すアリール基としては、例えば、フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、エチルフェニル基等が挙げられる。
なお、ＲＤ１８が示すアリール基は、アルキル基で置換されたアルキル置換アリール基であることが、溶解性の観点で好ましい。アルキル置換アリール基のアルキル基としては、ＲＤ１１～ＲＤ１７が示すアルキル基と同様の基が挙げられる。
なお、ＲＤ１８が示すアリール基は、アルキル基で置換されたアルキル置換アリール基であることが、溶解性の観点で好ましい。アルキル置換アリール基のアルキル基としては、ＲＤ１１～ＲＤ１７が示すアルキル基と同様の基が挙げられる。
一般式（Ｄ－１）中、ＲＤ１８が示すアラルキル基としては、－ＬＤ２１－Ａｒで示される基が挙げられる。但し、ＬＤ２１は、アルキレン基を示す、Ａｒは、アリール基を示す。
ＬＤ２１が示すアルキレン基としては、直鎖状又は分岐状の炭素数１以上１２以下のアルキレン基が挙げられ、メチレン基、エチレン基、ｎ－プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ－ブチレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ－ブチレン基、ｔｅｒｔ－ブチレン基、ｎ－ペンチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基、ｔｅｒｔ－ペンチレン基等が挙げられる。
Ａｒが示すアリール基としては、フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、エチルフェニル基等が挙げられる。
ＬＤ２１が示すアルキレン基としては、直鎖状又は分岐状の炭素数１以上１２以下のアルキレン基が挙げられ、メチレン基、エチレン基、ｎ－プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ－ブチレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ－ブチレン基、ｔｅｒｔ－ブチレン基、ｎ－ペンチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基、ｔｅｒｔ－ペンチレン基等が挙げられる。
Ａｒが示すアリール基としては、フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、エチルフェニル基等が挙げられる。
一般式（Ｄ－１）中、ＲＤ１８が示すアラルキル基として具体的には、ベンジル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、フェニルエチル基、メチルフェニルエチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基等が挙げられる。
一般式（Ｄ－１）で示される化合物としては、高感度化の点から、ＲＤ１８が炭素数５以上１０以下のアルキル基又はアラルキル基を示す電子輸送材料が好ましく、特に、ＲＤ１１～ＲＤ１７が各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、又はアルキル基を示し、かつ、ＲＤ１８が炭素数５以上１０以下のアルキル基又はアラルキル基を示す化合物が好ましい。
以下、一般式（Ｄ－１）で示される化合物の例示化合物を示すが、これに限定されるわけではない。
なお、上記例示化合物中の略記号は、以下の意味を示す。
・Ｐｈ：フェニル基
・Ｐｈ：フェニル基
一般式（Ｄ－１）で示される化合物は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
電子輸送材料の具体例としては、一般式（Ｃ－１）及び（Ｄ－１）で表される電子輸送材料の他に、その他の電子輸送材料として、例えば、下記構造式（ＥＴ－Ａ）～（ＥＴ－Ｅ）で示される化合物も挙げられる。
感光層の全固形分に対する全電子輸送材料の含有量は、４質量％以上３０質量％以下がよく、好ましくは６質量％以上２５質量％以下、より好ましくは８質量％以上２０質量％以下である。なお、この電子輸送材料の含有量は、２種以上の電子輸送材料を併用した場合、それらの電子輸送材料全体の含有量である。
－正孔輸送材料と電子輸送材料との質量比－
正孔輸送材料と電子輸送材料との比率は、質量比（正孔輸送材料／電子輸送材料）で、５０／５０以上９０／１０以下が望ましく、より望ましくは６０／４０以上８０／２０以下である。
正孔輸送材料と電子輸送材料との比率は、質量比（正孔輸送材料／電子輸送材料）で、５０／５０以上９０／１０以下が望ましく、より望ましくは６０／４０以上８０／２０以下である。
－一般式（ＦＡ）のフッ化アルキル基含有重合体－
一般式（ＦＡ）のフッ化アルキル基含有重合体は、下記一般式（ＦＡ）で示される構造単位を有する。
一般式（ＦＡ）のフッ化アルキル基含有重合体は、下記一般式（ＦＡ）で示される構造単位を有する。
一般式（ＦＡ）中、ＲＦ１は、水素原子、又はアルキル基を表す。
ＱＦ１は、－Ｏ－、又は－ＮＨ－を表す。
ｆｌは、１以上の整数を表す。
ｆｐは、０または１以上の整数を表す。
ｆｔは、１以上７以下の整数を表す。
ＱＦ１は、－Ｏ－、又は－ＮＨ－を表す。
ｆｌは、１以上の整数を表す。
ｆｐは、０または１以上の整数を表す。
ｆｔは、１以上７以下の整数を表す。
一般式（ＦＡ）中、ＲＦ１を表す基としては、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基等が好ましく、水素原子、メチル基がより好ましく、メチル基が更に好ましい。
ｆｐは、それぞれ独立に０または１以上１０以下の整数を表すことが好ましい。
一般式（ＦＡ）のフッ化アルキル基含有重合体は、一般式（ＦＡ）で示される構造単位に加え、下記一般式（ＦＢ）で示される構造単位を更に有していてもよい。
一般式ＦＢ）中、ＲＦ２、ＲＦ３及びＲＦ４は、各々独立に、水素原子、又はアルキル基を表す。
ＸＦ１は、アルキレン鎖、ハロゲン置換アルキレン鎖、－Ｓ－、－Ｏ－、－ＮＨ－、又は単結合を表す。
ＹＦ１は、アルキレン鎖、ハロゲン置換アルキレン鎖、－（ＣｆｘＨ２ｆｘ－１（ＯＨ））－又は単結合を表す。
ｆｍ及びｆｎは、各々独立に、１以上の整数を表す。
ｆｑ、ｆｒ及びｆｓは、各々独立に、０または１以上の整数を表す。
ｆｘは１以上の整数を表す。
ＸＦ１は、アルキレン鎖、ハロゲン置換アルキレン鎖、－Ｓ－、－Ｏ－、－ＮＨ－、又は単結合を表す。
ＹＦ１は、アルキレン鎖、ハロゲン置換アルキレン鎖、－（ＣｆｘＨ２ｆｘ－１（ＯＨ））－又は単結合を表す。
ｆｍ及びｆｎは、各々独立に、１以上の整数を表す。
ｆｑ、ｆｒ及びｆｓは、各々独立に、０または１以上の整数を表す。
ｆｘは１以上の整数を表す。
一般式（ＦＢ）中、ＲＦ２、ＲＦ３及びＲＦ４を表す基としては、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基等が好ましく、水素原子、メチル基がより好ましく、メチル基が更に好ましい。
一般式（ＦＢ）中、ＸＦ１及びＹＦ１を表すアルキレン鎖（未置換アルキレン鎖、ハロゲン置換アルキレン鎖）としては、炭素数１以上１０以下の直鎖状又は分岐状のアルキレン鎖が好ましい。
ＹＦ１を表す－（ＣｆｘＨ２ｆｘ－１（ＯＨ））－中のｆｘは、１以上１０以下の整数を表すことが好ましい。
ｆｑ、ｆｒ及びｆｓは、それぞれ独立に０または１以上１０以下の整数を表すことが好ましい。
ｆｎは、例えば、１以上６０以下が好ましい。
ＹＦ１を表す－（ＣｆｘＨ２ｆｘ－１（ＯＨ））－中のｆｘは、１以上１０以下の整数を表すことが好ましい。
ｆｑ、ｆｒ及びｆｓは、それぞれ独立に０または１以上１０以下の整数を表すことが好ましい。
ｆｎは、例えば、１以上６０以下が好ましい。
ここで、一般式（ＦＡ）のフッ化アルキル基含有重合体において、一般式（ＦＡ）で示される構造単位と一般式（ＦＢ）で示される構造単位との比、つまり、ｆｌ：ｆｍは、１：９から９：１までの範囲が好ましく、３：７から７：３までの範囲がより好ましい。
一般式（ＦＡ）のフッ化アルキル基含有重合体は、一般式（ＦＡ）で示される構造単位に加え（又は、一般式（ＦＡ）で示される構造単位と一般式（ＦＢ）で示される構造単位とに加え）、一般式（ＦＣ）で示される構造単位を更に有していてもよい。一般式（ＦＣ）で示される構造単位の含有比は、一般式（ＦＡ）で示される構造単位（又は一般式（ＦＡ）及び（ＦＢ）で示される構造単位の合計）、即ちｆｌ（又はｆｌ＋ｆｍ）との比（ｆｌ（又はｆｌ＋ｆｍ）：ｆｚ）で、１０：０から７：３までの範囲が好ましく、９：１から７：３までの範囲がより好ましい。
一般式（ＦＣ）中、ＲＦ５、及びＲＦ６は、各々独立に、水素原子、アルキル基、又は－ＡＯ－ＲＦ７（ただし、ＡＯはアルキレンオキサイド基、ＲＦ７は水素原子又はアルキル基（好ましくは炭素数１以上４以下のアルキル基）を表す）を表す。ｆｚは、１以上の整数を表す。
一般式（ＦＣ）中、ＲＦ５、及びＲＦ６を表すアルキル基としては、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基等が好ましく、水素原子、メチル基がより好ましく、メチル基が更に好ましい。
一般式（ＦＣ）中、ＲＦ５、及びＲＦ６を表す－ＡＯ－ＲＦ７としては、－（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎＲＦ７、－（ＣＨ２（ＣＨ３）ＣＨ２Ｏ）ｎＲＦ７が好ましい。ただし、ｎは、例えば、１～１０の整数（好ましくは１～６の整数）を表す。
一般式（ＦＣ）中、ＲＦ５、及びＲＦ６を表す－ＡＯ－ＲＦ７としては、－（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎＲＦ７、－（ＣＨ２（ＣＨ３）ＣＨ２Ｏ）ｎＲＦ７が好ましい。ただし、ｎは、例えば、１～１０の整数（好ましくは１～６の整数）を表す。
ここで、一般式（ＦＡ）のフッ化アルキル基含有重合体としては、一般式（ＦＡ）で示される構造単位と、一般式（ＦＣ）で示される構造単位として下記一般式（ＦＣ１）および（ＦＣ２）で示される構造単位と、を有する化合物が好適に例示される。
一般式（ＦＣ１）および（ＦＣ２）中、ＲＦ５１、及びＲＦ５２は、各々独立に、水素原子、又はアルキル基を示す。
ＲＦ６１は、アルキル基を示す。
ＲＦ６２は、－ＡＯ－ＲＦ７（ただし、ＡＯはアルキレンオキサイド基、ＲＦ７は水素原子又はアルキル基（好ましくは炭素数１以上４以下のアルキル基）を表す）を表す。
ｆｚ１、及びｆｚ２は、各々独立に、１以上の整数を表す。
ＲＦ６１は、アルキル基を示す。
ＲＦ６２は、－ＡＯ－ＲＦ７（ただし、ＡＯはアルキレンオキサイド基、ＲＦ７は水素原子又はアルキル基（好ましくは炭素数１以上４以下のアルキル基）を表す）を表す。
ｆｚ１、及びｆｚ２は、各々独立に、１以上の整数を表す。
一般式（ＦＣ１）および（ＦＣ２）中、ＲＦ５１、ＲＦ５２、及びＲＦ６１を表すアルキル基としては、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基等が好ましく、水素原子、メチル基がより好ましく、メチル基が更に好ましい。
一般式（ＦＣ１）および（ＦＣ２）中、ＲＦ６２を表す－ＡＯ－ＲＦ７としては、－（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎＲＦ７、－（ＣＨ２（ＣＨ３）ＣＨ２Ｏ）ｎＲＦ７が好ましい。ただし、ｎは、例えば、１～１０の整数（好ましくは１～６の整数）を表す。
一般式（ＦＣ１）および（ＦＣ２）中、ＲＦ６２を表す－ＡＯ－ＲＦ７としては、－（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎＲＦ７、－（ＣＨ２（ＣＨ３）ＣＨ２Ｏ）ｎＲＦ７が好ましい。ただし、ｎは、例えば、１～１０の整数（好ましくは１～６の整数）を表す。
一般式（ＦＡ）のフッ化アルキル基含有重合体の市販品としては、例えば、ＧＦ３００、ＧＦ４００（東亞合成社製）、サーフロンシリーズ（ＡＧＣセイミケミカル社製）、フタージェントシリーズ（ネオス社製）、ＰＦシリーズ（北村化学社製）、メガファックシリーズ（ＤＩＣ製）、ＦＣシリーズ（３Ｍ製）、ＬＥ－６００シリーズ（共栄化学社製）等が挙げられる。
一般式（ＦＡ）のフッ化アルキル基含有重合体の重量平均分子量Ｍｗは、フッ素含有樹脂粒子の分散性向上の観点から、２万以上２０万以下が好ましく、５万以上２０万以下がより好ましい。
一般式（ＦＡ）のフッ化アルキル基含有重合体の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）により測定される値である。ＧＰＣによる分子量測定は、例えば、測定装置として東ソー製ＧＰＣ・ＨＬＣ－８１２０を用い、東ソー製カラム・ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨＨＲ－Ｍ＋ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨＨＲ－Ｍ（７．８ｍｍＩ．Ｄ．３０ｃｍ）を使用し、クロロホルム溶媒で行い、この測定結果から単分散ポリスチレン標準試料により作製した分子量校正曲線を使用して算出する。
フッ素含有分散剤の含有量は、例えば、フッ素含有樹脂粒子に対して０．５質量％以上１０質量％以下が好ましく、１質量％以上７質量％以下がより好ましい。
なお、フッ素含有分散剤は、１種を単独でまたは２種以上を併用してもよい。
なお、フッ素含有分散剤は、１種を単独でまたは２種以上を併用してもよい。
一般式（ＦＡ）のフッ化アルキル基含有重合体の含有量は、ケミカルクラック抑制の観点から、感光層の全固形分に対して、０．０２質量％以上０．０５質量％以下が好ましく、０．０３質量％以上０．０４質量％以下がより好ましく、０．３５質量％以上０．０４質量％以下がさらに好ましい。
－一般式（ＦＬ）のフルオレノン化合物－
一般式（ＦＬ）中、ＲＦ１１、ＲＦ１２、ＲＦ１３、ＲＦ１４、ＲＦ１５、ＲＦ１６、及びＲＦ１７は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又はアラルキル基を示す。ＲＦ１８は、アルキル基、－ＬＦ１９－Ｏ－ＲＦ２０、アリール基、又はアラルキル基を表す。ただし、ＬＦ１９はアルキレン基を示し、ＲＦ２０はアルキル基を表す。
一般式（ＦＬ）中、ＲＦ１１～ＲＦ１７が示すハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
一般式（ＦＬ）中、ＲＦ１１～ＲＦ１７が示すアルキル基としては、例えば、直鎖状又は分岐状で、炭素数１以上４以下（好ましくは１以上３以下）のアルキル基が挙げられ、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基等が挙げられる。
一般式（ＦＬ）中、ＲＦ１１～ＲＦ１７が示すアルコキシ基としては、例えば、炭素数１以上４以下（好ましくは１以上３以下）のアルコキシ基が挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。
一般式（ＦＬ）中、ＲＦ１１～ＲＦ１７が示すアリール基としては、例えば、フェニル基、トリル基等が挙げられる。これらの中でも、ＲＦ１１～ＲＦ１７が示すアリール基としては、フェニル基が好ましい。
一般式（ＦＬ）中、ＲＦ１１～ＲＦ１７が示すアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基等が挙げられる。
一般式（ＦＬ）中、ＲＦ１１～ＲＦ１７が示すアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基等が挙げられる。
一般式（ＦＬ）中、ＲＦ１８が示すアルキル基としては、例えば、炭素数１以上１２以下（好ましくは炭素数５以上１０以下）の直鎖状のアルキル基、炭素数３以上１０以下（好ましくは炭素数５以上１０以下）の分岐状のアルキル基が挙げられる。
炭素数１以上１２以下の直鎖状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル、ｎ－ウンデシル、ｎ－ドデシル基等が挙げられる。
炭素数３以上１０以下の分岐状のアルキル基としては、例えば、イソプロピル基、
イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、イソヘキシル基、ｓｅｃ－ヘキシル基、ｔｅｒｔ－ヘキシル基、イソヘプチル基、ｓｅｃ－ヘプチル基、ｔｅｒｔ－ヘプチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ－オクチル基、ｔｅｒｔ－オクチル基、イソノニル基、ｓｅｃ－ノニル基、ｔｅｒｔ－ノニル基、イソデシル基、ｓｅｃ－デシル基、ｔｅｒｔ－デシル基等が挙げられる。
炭素数１以上１２以下の直鎖状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル、ｎ－ウンデシル、ｎ－ドデシル基等が挙げられる。
炭素数３以上１０以下の分岐状のアルキル基としては、例えば、イソプロピル基、
イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、イソヘキシル基、ｓｅｃ－ヘキシル基、ｔｅｒｔ－ヘキシル基、イソヘプチル基、ｓｅｃ－ヘプチル基、ｔｅｒｔ－ヘプチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ－オクチル基、ｔｅｒｔ－オクチル基、イソノニル基、ｓｅｃ－ノニル基、ｔｅｒｔ－ノニル基、イソデシル基、ｓｅｃ－デシル基、ｔｅｒｔ－デシル基等が挙げられる。
一般式（ＦＬ）中、ＲＦ１８が示す－ＬＦ１９－Ｏ－ＲＦ２０で示される基は、ＬＦ１９がアルキレン基を示し、ＲＦ２０は、アルキル基を示す。
ＬＦ１９が示すアルキレン基としては、直鎖状又は分岐状の炭素数１以上１２以下のアルキレン基が挙げられ、メチレン基、エチレン基、ｎ－プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ－ブチレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ－ブチレン基、ｔｅｒｔ－ブチレン基、ｎ－ペンチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基、ｔｅｒｔ－ペンチレン基等が挙げられる。
ＲＦ２０が示すアルキル基としては、上記ＲＦ１１～ＲＦ１７が示すアルキル基と同様の基が挙げられる。
ＬＦ１９が示すアルキレン基としては、直鎖状又は分岐状の炭素数１以上１２以下のアルキレン基が挙げられ、メチレン基、エチレン基、ｎ－プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ－ブチレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ－ブチレン基、ｔｅｒｔ－ブチレン基、ｎ－ペンチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基、ｔｅｒｔ－ペンチレン基等が挙げられる。
ＲＦ２０が示すアルキル基としては、上記ＲＦ１１～ＲＦ１７が示すアルキル基と同様の基が挙げられる。
一般式（ＦＬ）中、ＲＦ１８が示すアリール基としては、例えば、フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、エチルフェニル基等が挙げられる。
なお、ＲＦ１８が示すアリール基は、アルキル基で置換されたアルキル置換アリール基であることが、溶解性の観点で好ましい。アルキル置換アリール基のアルキル基としては、ＲＦ１１～ＲＦ１７が示すアルキル基と同様の基が挙げられる。
なお、ＲＦ１８が示すアリール基は、アルキル基で置換されたアルキル置換アリール基であることが、溶解性の観点で好ましい。アルキル置換アリール基のアルキル基としては、ＲＦ１１～ＲＦ１７が示すアルキル基と同様の基が挙げられる。
一般式（ＦＬ）中、ＲＦ１８が示すアラルキル基としては、－ＬＦ２１－Ａｒで示される基が挙げられる。但し、ＬＦ２１は、アルキレン基を示す、Ａｒは、アリール基を示す。
ＬＦ２１が示すアルキレン基としては、直鎖状又は分岐状の炭素数１以上１２以下のアルキレン基が挙げられ、メチレン基、エチレン基、ｎ－プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ－ブチレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ－ブチレン基、ｔｅｒｔ－ブチレン基、ｎ－ペンチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基、ｔｅｒｔ－ペンチレン基等が挙げられる。
Ａｒが示すアリール基としては、フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、エチルフェニル基等が挙げられる。
ＬＦ２１が示すアルキレン基としては、直鎖状又は分岐状の炭素数１以上１２以下のアルキレン基が挙げられ、メチレン基、エチレン基、ｎ－プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ－ブチレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ－ブチレン基、ｔｅｒｔ－ブチレン基、ｎ－ペンチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基、ｔｅｒｔ－ペンチレン基等が挙げられる。
Ａｒが示すアリール基としては、フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、エチルフェニル基等が挙げられる。
一般式（ＦＬ）中、ＲＦ１８が示すアラルキル基として具体的には、ベンジル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、フェニルエチル基、メチルフェニルエチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基等が挙げられる。
一般式（ＦＬ）のフルオレノン化合物としては、ケミカルクラック抑制の観点から、一般式（ＦＬ）中、ＲＦ１１、ＲＦ１２、ＲＦ１３、ＲＦ１４、ＲＦ１５、ＲＦ１６、及びＲＦ１７が水素原子を表し、ＲＦ１８はアルキル基（好ましくは炭素数１以上１０以下、より好ましくは２以上８以下のアルキル基）を表す化合物が好ましい。
以下、一般式（ＦＬ）のフルオレノン化合物の例示化合物を示すが、これに限定されるわけではない。
なお、上記例示化合物中の略記号は、以下の意味を示す。
・Ｐｈ：フェニル基
・Ｐｈ：フェニル基
一般式（ＦＬ）のフルオレノン化合物は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
一般式（ＦＬ）のフルオレノン化合物の含有量は、ケミカルクラック抑制の観点から、記感光層の全固形分に対して２質量％以上９質量％以下（又は３質量％以上９質量％以下）が好ましく、４質量％以上７質量％以下がより好ましく、５質量％以上７質量％以下がさらに好ましい。
－一般式（ＢＤＣ）のベンゼンジカルボン酸化合物－
一般式（ＢＤＣ）中、ＲＢＣＤ１、及びＲＢＣＤ２は、各々独立に、アルキル基、又はアラルキル基を示す。
一般式（ＢＤＣ）中、ＲＢＣＤ１、及びＲＢＣＤ２が示すアルキル基としては、例えば、炭素数１以上１２以下（好ましくは１以上７以下、より好ましくは３以上５以下）の直鎖状のアルキル基、炭素数３以上１０以下（好ましくは炭素数３以上７以下、より好ましくは３以上５以下）の分岐状のアルキル基が挙げられる。
炭素数１以上１２以下の直鎖状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル、ｎ－ウンデシル、ｎ－ドデシル基等が挙げられる。
炭素数３以上１０以下の分岐状のアルキル基としては、例えば、イソプロピル基、
イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、イソヘキシル基、ｓｅｃ－ヘキシル基、ｔｅｒｔ－ヘキシル基、イソヘプチル基、ｓｅｃ－ヘプチル基、ｔｅｒｔ－ヘプチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ－オクチル基、ｔｅｒｔ－オクチル基、イソノニル基、ｓｅｃ－ノニル基、ｔｅｒｔ－ノニル基、イソデシル基、ｓｅｃ－デシル基、ｔｅｒｔ－デシル基等が挙げられる。
炭素数１以上１２以下の直鎖状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル、ｎ－ウンデシル、ｎ－ドデシル基等が挙げられる。
炭素数３以上１０以下の分岐状のアルキル基としては、例えば、イソプロピル基、
イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、イソヘキシル基、ｓｅｃ－ヘキシル基、ｔｅｒｔ－ヘキシル基、イソヘプチル基、ｓｅｃ－ヘプチル基、ｔｅｒｔ－ヘプチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ－オクチル基、ｔｅｒｔ－オクチル基、イソノニル基、ｓｅｃ－ノニル基、ｔｅｒｔ－ノニル基、イソデシル基、ｓｅｃ－デシル基、ｔｅｒｔ－デシル基等が挙げられる。
一般式（ＢＤＣ）中、ＲＢＣＤ１、及びＲＢＣＤ２が示すアラルキル基は、－ＬＢＣＤ－ＡｒＢＣＤで示される基が挙げられる。但し、ＬＢＣＤは、アルキレン基を示す、ＡｒＢＣＤは、アリール基を示す。
ＬＢＣＤが示すアルキレン基としては、直鎖状又は分岐状の炭素数１以上１２以下（好ましくは炭素数１以上７、より好ましくは炭素数１以上５）のアルキレン基が挙げられ、メチレン基、エチレン基、ｎ－プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ－ブチレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ－ブチレン基、ｔｅｒｔ－ブチレン基、ｎ－ペンチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基、ｔｅｒｔ－ペンチレン基等が挙げられる。
ＡｒＢＣＤが示すアリール基としては、フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、エチルフェニル基等が挙げられる。
ＬＢＣＤが示すアルキレン基としては、直鎖状又は分岐状の炭素数１以上１２以下（好ましくは炭素数１以上７、より好ましくは炭素数１以上５）のアルキレン基が挙げられ、メチレン基、エチレン基、ｎ－プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ－ブチレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ－ブチレン基、ｔｅｒｔ－ブチレン基、ｎ－ペンチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基、ｔｅｒｔ－ペンチレン基等が挙げられる。
ＡｒＢＣＤが示すアリール基としては、フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、エチルフェニル基等が挙げられる。
一般式（ＢＤＣ）中、ＲＢＣＤ１、及びＲＢＣＤ２が示すアラルキル基として具体的には、ベンジル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、フェニルエチル基、メチルフェニルエチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基等が挙げられる。
一般式（ＢＤＣ）のベンゼンジカルボン酸化合物としては、ケミカルクラック抑制の観点から、ＲＢＣＤ１がアルキル基又はアラルキル基（好ましくは、－ＬＢＣＤ－ＡｒＢＣＤで示される基で、ＬＢＣＤが炭素数１以上１０（好ましくは炭素数１以上５）のアルキレン基を示し、ＡｒＢＣＤがアリール基を示す基）を表し、ＲＢＣＤ２がアルキル基（好ましくは炭素数１～１０、より好ましくは炭素数１以上７以下、さらに好ましくは炭素数３以上５以下）を表す化合物が好ましい。
以下、一般式（ＢＤＣ）のベンゼンジカルボン酸化合物の例示化合物を示すが、これに限定されるわけではない。
なお、上記例示化合物中の略記号は、以下の意味を示す。
・Ｐｈ：フェニル基
・Ｐｈ：フェニル基
一般式（ＢＤＣ）のベンゼンジカルボン酸化合物は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
一般式（ＢＤＣ）のベンゼンジカルボン酸化合物の含有量は、ケミカルクラック抑制の観点から、感光層の全固形分に対して０．９質量％以上５質量％以下（又は１質量％以上５質量％以下）が好ましく、２質量％以上５質量％以下がより好ましく、３質量％以上５質量％以下がさらに好ましい。
ここで、感光層が、一般式（ＦＬ）のフルオレノン化合物と一般式（ＢＤＣ）のベンゼンジカルボン酸化合物の双方を含む場合、一般式（ＦＬ）のフルオレノン化合物と一般式（ＢＤＣ）のベンゼンジカルボン酸化合物との含有比（フルオレノン化合物の含有量／ベンゼンジカルボン酸化合物の含有量）は、ケミカルクラック抑制の観点から、３／２以上３／１以下が好ましく、５／３以上３／１以下がより好ましく、５／２．５以上３／１以下がさらに好ましい。
－その他の成分－
単層型の感光層には、界面活性剤、酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤等の周知のその他添加剤が含まれていてもよい。また、単層型感光層が表面層（すなわち、最外層）となる場合、単層型の感光層には、フッ素樹脂粒子、シリコーンポリマー等の離型剤が含まれていてもよい。
単層型の感光層には、界面活性剤、酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤等の周知のその他添加剤が含まれていてもよい。また、単層型感光層が表面層（すなわち、最外層）となる場合、単層型の感光層には、フッ素樹脂粒子、シリコーンポリマー等の離型剤が含まれていてもよい。
なお、電子写真感光体は、正帯電型電子写真感光体であっても、負帯電型電子写真感光体であってもよいが、本実施形態の効果をより発揮する観点から、正帯電型電子写真感光体であることが好ましい。
正帯電型電子写真感光体における単層型感光層は、その他の成分として帯電制御剤を含有することが好ましく、電子供与性帯電制御剤を含有することがより好ましい。電子供与性帯電制御剤を含有すると、容易に正帯電型の感光層が形成される
帯電制御剤としては、トナーの電荷制御剤として用いられている従来公知の化合物を用いられる。
電子供与性帯電制御剤としては、例えば、アゾ金属系帯電制御剤、オキシカルボン酸系帯電制御剤、ホウ素錯体系帯電制御剤、鉄錯体系帯電制御剤、亜鉛錯体系帯電制御剤、アルキルサリチル酸錯塩系帯電制御剤、スルホン酸ペンダント化樹脂系帯電制御剤等が挙げられる。
帯電制御剤は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。
帯電制御剤、特に電子供与性帯電制御剤の含有量は、感光層の結着樹脂１００質量部に対して、０．０１質量部以上２０質量部以下であることが好ましく、０．０５質量部以上１０質量部以下であることがより好ましく、０．１質量部以上５質量部以下であることが更に好ましい。
正帯電型電子写真感光体における単層型感光層は、その他の成分として帯電制御剤を含有することが好ましく、電子供与性帯電制御剤を含有することがより好ましい。電子供与性帯電制御剤を含有すると、容易に正帯電型の感光層が形成される
帯電制御剤としては、トナーの電荷制御剤として用いられている従来公知の化合物を用いられる。
電子供与性帯電制御剤としては、例えば、アゾ金属系帯電制御剤、オキシカルボン酸系帯電制御剤、ホウ素錯体系帯電制御剤、鉄錯体系帯電制御剤、亜鉛錯体系帯電制御剤、アルキルサリチル酸錯塩系帯電制御剤、スルホン酸ペンダント化樹脂系帯電制御剤等が挙げられる。
帯電制御剤は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。
帯電制御剤、特に電子供与性帯電制御剤の含有量は、感光層の結着樹脂１００質量部に対して、０．０１質量部以上２０質量部以下であることが好ましく、０．０５質量部以上１０質量部以下であることがより好ましく、０．１質量部以上５質量部以下であることが更に好ましい。
（単層型の感光層の形成）
単層型の感光層は、上記成分を溶剤に加えた感光層形成用塗布液を用いて形成される。
溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、２－ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状もしくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤が挙げられる。これら溶剤は単独又は２種以上混合して用いる。
単層型の感光層は、上記成分を溶剤に加えた感光層形成用塗布液を用いて形成される。
溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、２－ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状もしくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤が挙げられる。これら溶剤は単独又は２種以上混合して用いる。
感光層形成用塗布液中に粒子（例えば電荷発生材料）を分散させる方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、高圧状態で分散液を液－液衝突や液－壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。
感光層形成用塗布液を塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等が挙げられる。
（単層型の感光層の特性）
単層型の感光層の膜厚は、好ましくは５μｍ以上６０μｍ以下、より好ましくは５μｍ以上５０μｍ以下、さらに好ましくは１０μｍ以上４０μｍ以下の範囲に設定される。
単層型の感光層の膜厚は、好ましくは５μｍ以上６０μｍ以下、より好ましくは５μｍ以上５０μｍ以下、さらに好ましくは１０μｍ以上４０μｍ以下の範囲に設定される。
［画像形成装置（及びプロセスカートリッジ）］
本実施形態に係る画像形成装置は、電子写真感光体と、電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、トナーを含む現像剤により電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、を備える。そして、電子写真感光体として、上記本実施形態に係る電子写真感光体が適用される。
本実施形態に係る画像形成装置は、電子写真感光体と、電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、トナーを含む現像剤により電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、を備える。そして、電子写真感光体として、上記本実施形態に係る電子写真感光体が適用される。
本実施形態に係る画像形成装置は、記録媒体の表面に転写されたトナー像を定着する定着手段を備える装置；電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の装置；電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写し、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する中間転写方式の装置；トナー像の転写後、帯電前の電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニング手段を備えた装置；トナー像の転写後、帯電前に電子写真感光体の表面に除電光を照射して除電する除電手段を備える装置；電子写真感光体の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための電子写真感光体加熱部材を備える装置等の周知の画像形成装置が適用される。
中間転写方式の装置の場合、転写手段は、例えば、表面にトナー像が転写される中間転写体と、電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写する一次転写手段と、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する二次転写手段と、を有する構成が適用される。
本実施形態に係る画像形成装置は、乾式現像方式の画像形成装置、湿式現像方式（液体現像剤を利用した現像方式）の画像形成装置のいずれであってもよい。
なお、本実施形態に係る画像形成装置において、例えば、電子写真感光体を備える部分が、画像形成装置に対して着脱されるカートリッジ構造（プロセスカートリッジ）であってもよい。プロセスカートリッジとしては、例えば、本実施形態に係る電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジが好適に用いられる。なお、プロセスカートリッジには、電子写真感光体以外に、例えば、帯電手段、静電潜像形成手段、現像手段、転写手段からなる群から選択される少なくとも一つを備えてもよい。
以下、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示すが、これに限定されるわけではない。なお、図に示す主要部を説明し、その他はその説明を省略する。
図２は、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
本実施形態に係る画像形成装置１００は、図２に示すように、電子写真感光体７を備えるプロセスカートリッジ３００と、露光装置９（静電潜像形成手段の一例）と、転写装置４０（一次転写装置）と、中間転写体５０とを備える。なお、画像形成装置１００において、露光装置９はプロセスカートリッジ３００の開口部から電子写真感光体７に露光し得る位置に配置されており、転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体７に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が電子写真感光体７に接触して配置されている。図示しないが、中間転写体５０に転写されたトナー像を記録媒体（例えば用紙）に転写する二次転写装置も有している。なお、中間転写体５０、転写装置４０（一次転写装置）、及び二次転写装置（不図示）が転写手段の一例に相当する。
本実施形態に係る画像形成装置１００は、図２に示すように、電子写真感光体７を備えるプロセスカートリッジ３００と、露光装置９（静電潜像形成手段の一例）と、転写装置４０（一次転写装置）と、中間転写体５０とを備える。なお、画像形成装置１００において、露光装置９はプロセスカートリッジ３００の開口部から電子写真感光体７に露光し得る位置に配置されており、転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体７に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が電子写真感光体７に接触して配置されている。図示しないが、中間転写体５０に転写されたトナー像を記録媒体（例えば用紙）に転写する二次転写装置も有している。なお、中間転写体５０、転写装置４０（一次転写装置）、及び二次転写装置（不図示）が転写手段の一例に相当する。
図２におけるプロセスカートリッジ３００は、ハウジング内に、電子写真感光体７、帯電装置８（帯電手段の一例）、現像装置１１（現像手段の一例）、及びクリーニング装置１３（クリーニング手段の一例）を一体に支持している。クリーニング装置１３は、クリーニングブレード（クリーニング部材の一例）１３１を有しており、クリーニングブレード１３１は、電子写真感光体７の表面に接触するように配置されている。なお、クリーニング部材は、クリーニングブレード１３１の態様ではなく、導電性又は絶縁性の繊維状部材であってもよく、これを単独で、又はクリーニングブレード１３１と併用してもよい。
なお、図２には、画像形成装置として、潤滑材１４を電子写真感光体７の表面に供給する繊維状部材１３２（ロール状）、及び、クリーニングを補助する繊維状部材１３３（平ブラシ状）を備えた例を示してあるが、これらは必要に応じて配置される。
以下、本実施形態に係る画像形成装置の各構成について説明する。
－帯電装置－
帯電装置８としては、例えば、導電性又は半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。
帯電装置８としては、例えば、導電性又は半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。
－露光装置－
露光装置９としては、例えば、電子写真感光体７表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は電子写真感光体の分光感度領域内とする。半導体レーザの波長としては、７８０ｎｍ付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザや青色レーザとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に発振波長を有するレーザも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザ光源も有効である。
露光装置９としては、例えば、電子写真感光体７表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は電子写真感光体の分光感度領域内とする。半導体レーザの波長としては、７８０ｎｍ付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザや青色レーザとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に発振波長を有するレーザも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザ光源も有効である。
－現像装置－
現像装置１１としては、例えば、現像剤を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置が挙げられる。現像装置１１としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて電子写真感光体７に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが好ましい。
現像装置１１としては、例えば、現像剤を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置が挙げられる。現像装置１１としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて電子写真感光体７に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが好ましい。
現像装置１１に使用される現像剤は、トナー単独の一成分系現像剤であってもよいし、トナーとキャリアとを含む二成分系現像剤であってもよい。また、現像剤は、磁性であってもよいし、非磁性であってもよい。これら現像剤は、周知のものが適用される。
－クリーニング装置－
クリーニング装置１３は、クリーニングブレード１３１を備えるクリーニングブレード方式の装置が用いられる。
なお、クリーニングブレード方式以外にも、ファーブラシクリーニング方式、現像同時クリーニング方式を採用してもよい。
クリーニング装置１３は、クリーニングブレード１３１を備えるクリーニングブレード方式の装置が用いられる。
なお、クリーニングブレード方式以外にも、ファーブラシクリーニング方式、現像同時クリーニング方式を採用してもよい。
－転写装置－
転写装置４０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
転写装置４０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
－中間転写体－
中間転写体５０としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等を含むベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いてもよい。
中間転写体５０としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等を含むベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いてもよい。
図３は、本実施形態に係る画像形成装置の他の一例を示す概略構成図である。
図３に示す画像形成装置１２０は、プロセスカートリッジ３００を４つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ３００がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。
図３に示す画像形成装置１２０は、プロセスカートリッジ３００を４つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ３００がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。なお、実施例において、特に限定のないかぎり「部」は「質量部」を意味し、「％」は「質量％」を意味する。
＜実施例１＞
結着樹脂として表１に示すポリカーボネート単独重合体（結着樹脂（１））を４９質量部と、電荷発生材料として表１に示すクロロガリウムフタロシアニン顔料ＣＧＭ（１）を２質量部と、表１に示す電子輸送材料ＥＴＭ（１）を８質量部と、表１に示す正孔輸送材料ＨＴＭ（１）を３６質量部と、表１に示す添加剤Ａ１を０．０３質量部と、表１に示す添加剤Ｂ１を５質量部と、溶剤としてテトラヒドロフランを２５０質量部と、を混合し、直径１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散処理を行い、感光層形成用塗布液を得た。
結着樹脂として表１に示すポリカーボネート単独重合体（結着樹脂（１））を４９質量部と、電荷発生材料として表１に示すクロロガリウムフタロシアニン顔料ＣＧＭ（１）を２質量部と、表１に示す電子輸送材料ＥＴＭ（１）を８質量部と、表１に示す正孔輸送材料ＨＴＭ（１）を３６質量部と、表１に示す添加剤Ａ１を０．０３質量部と、表１に示す添加剤Ｂ１を５質量部と、溶剤としてテトラヒドロフランを２５０質量部と、を混合し、直径１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散処理を行い、感光層形成用塗布液を得た。
得られた感光層形成用塗布液を、浸漬塗布法にて、直径３０ｍｍ、長さ２４４．５ｍｍ、肉厚１ｍｍのアルミニウム基体上に塗布し、１３５℃、２５分の乾燥硬化を行い、厚さ３６μｍの単層型の感光層を形成した。
以上のようにして、実施例１の感光体を得た。
以上のようにして、実施例１の感光体を得た。
＜実施例２～３０＞
表１～表２にしたがって、結着樹脂、電荷発生材料、電子輸送材料、正孔輸送材料、及び添加剤の種類及び量（部数）を変更した以外は、実施例１と同様にして、各例の感光体を得た。
表１～表２にしたがって、結着樹脂、電荷発生材料、電子輸送材料、正孔輸送材料、及び添加剤の種類及び量（部数）を変更した以外は、実施例１と同様にして、各例の感光体を得た。
＜比較例１～８＞
表２にしたがって、結着樹脂、電荷発生材料、電子輸送材料、正孔輸送材料、及び添加剤の種類及び量（部数）を変更した以外は、実施例１と同様にして、各例の感光体を得た。
表２にしたがって、結着樹脂、電荷発生材料、電子輸送材料、正孔輸送材料、及び添加剤の種類及び量（部数）を変更した以外は、実施例１と同様にして、各例の感光体を得た。
＜帯電維持性の評価＞
各例で得られた感光体を、帯電装置、露光装置、及び除電装置を備えたＧＥＮＴＥＣ株式会社製感光体電気特性評価装置に組み込み、帯電、露光、及び除電の一連の工程を１００サイクル繰り返した後、１サイクル目と１００サイクル目の帯電電位の差分△ＶＨの値を下記条件／基準に従って評価した。
－条件－
・測定環境：２０℃／４０％
・帯電電位：＋６００Ｖ
・露光光量：１０（ｍＪ／ｍ２）
・露光波長：７８０（ｎｍ）
・除電光光源：ハロゲンランプ（林時計工業製）
・除電光波長：６００ｎｍ以上８００ｎｍ以下
・除電光光量：３０（ｍＪ／ｍ２）
・回転速度６６．７（ｒｐｍ）
－評価基準－
Ａ： ０≦｜△ＶＨ｜≦２０
Ｂ：２０＜｜△ＶＨ｜≦３０
Ｄ：３０＜｜△ＶＨ｜
各例で得られた感光体を、帯電装置、露光装置、及び除電装置を備えたＧＥＮＴＥＣ株式会社製感光体電気特性評価装置に組み込み、帯電、露光、及び除電の一連の工程を１００サイクル繰り返した後、１サイクル目と１００サイクル目の帯電電位の差分△ＶＨの値を下記条件／基準に従って評価した。
－条件－
・測定環境：２０℃／４０％
・帯電電位：＋６００Ｖ
・露光光量：１０（ｍＪ／ｍ２）
・露光波長：７８０（ｎｍ）
・除電光光源：ハロゲンランプ（林時計工業製）
・除電光波長：６００ｎｍ以上８００ｎｍ以下
・除電光光量：３０（ｍＪ／ｍ２）
・回転速度６６．７（ｒｐｍ）
－評価基準－
Ａ： ０≦｜△ＶＨ｜≦２０
Ｂ：２０＜｜△ＶＨ｜≦３０
Ｄ：３０＜｜△ＶＨ｜
＜耐ケミカルクラック性の評価＞
油脂（オレイン酸トリグリセリド）をＡＤＶＡＮＴＥＣ（ＴＯＹＯ）社製フィルタ（サイズ４７ｍｍ）に染み込ませ、各例で得られた感光体の表面のうち、軸方向１０ヶ所に付着させて、２４時間放置した。その後、光学顕微鏡を用いて感光体の表面を観察し、下記基準に従って、耐ケミカルクラック性を評価した。
－評価基準－
Ａ：ケミカルクラック発生箇所が１箇所以下であった。
Ｂ＋：ケミカルクラック発生箇所が２箇所以上３箇所以下であった。
Ｂ－：ケミカルクラック発生箇所が４箇所以上５箇所以下であった。
Ｃ：ケミカルクラック発生箇所が６箇所以上７箇所以下であった。
Ｄ：ケミカルクラック発生箇所が８箇所以上であった。
油脂（オレイン酸トリグリセリド）をＡＤＶＡＮＴＥＣ（ＴＯＹＯ）社製フィルタ（サイズ４７ｍｍ）に染み込ませ、各例で得られた感光体の表面のうち、軸方向１０ヶ所に付着させて、２４時間放置した。その後、光学顕微鏡を用いて感光体の表面を観察し、下記基準に従って、耐ケミカルクラック性を評価した。
－評価基準－
Ａ：ケミカルクラック発生箇所が１箇所以下であった。
Ｂ＋：ケミカルクラック発生箇所が２箇所以上３箇所以下であった。
Ｂ－：ケミカルクラック発生箇所が４箇所以上５箇所以下であった。
Ｃ：ケミカルクラック発生箇所が６箇所以上７箇所以下であった。
Ｄ：ケミカルクラック発生箇所が８箇所以上であった。
上記結果から、本実施例の感光体は、比較例の感光体に比べ、ケミカルクラックが抑制されていることがわかる。
また、本実施例の感光体は、帯電維持性も良好であることもわかる。
また、本実施例の感光体は、帯電維持性も良好であることもわかる。
以下、表１及び表２中の略称の詳細について示す。
－添加剤－
・Ａ１：下記構造の添加剤Ａ１（ＬＥ－６００シリーズ（共栄社化学（株）、一般式（ＦＡ）のフッ化アルキル基含有重合体に該当）
・Ａ２：下記構造の添加剤Ａ２（ＬＥ－６００シリーズ（共栄社化学（株）、一般式（ＦＡ）のフッ化アルキル基含有重合体に該当）
・Ｂ１：下記構造の添加剤Ｂ１（一般式（ＦＬ）のフルオレノン化合物に該当）
・Ｂ２：下記構造の添加剤Ｂ２（一般式（ＦＬ）のフルオレノン化合物に該当）
・Ｃ１：下記構造の添加剤Ｃ１（フタル酸ベンジルブチル、一般式（ＢＤＣ）のベンゼンジカルボン酸化合物に該当）
・Ｃ２：下記構造の添加剤Ｃ２（フタル酸ベンジルブチル、一般式（ＢＤＣ）のベンゼンジカルボン酸化合物に該当）
－添加剤－
・Ａ１：下記構造の添加剤Ａ１（ＬＥ－６００シリーズ（共栄社化学（株）、一般式（ＦＡ）のフッ化アルキル基含有重合体に該当）
・Ａ２：下記構造の添加剤Ａ２（ＬＥ－６００シリーズ（共栄社化学（株）、一般式（ＦＡ）のフッ化アルキル基含有重合体に該当）
・Ｂ１：下記構造の添加剤Ｂ１（一般式（ＦＬ）のフルオレノン化合物に該当）
・Ｂ２：下記構造の添加剤Ｂ２（一般式（ＦＬ）のフルオレノン化合物に該当）
・Ｃ１：下記構造の添加剤Ｃ１（フタル酸ベンジルブチル、一般式（ＢＤＣ）のベンゼンジカルボン酸化合物に該当）
・Ｃ２：下記構造の添加剤Ｃ２（フタル酸ベンジルブチル、一般式（ＢＤＣ）のベンゼンジカルボン酸化合物に該当）
－結着樹脂－
・結着樹脂（１）：単独重合体であるポリカーボネート樹脂（ビスフェノールＺの単独重合型ポリカーボネート樹脂（ＰＣＺ：構造式（１－３）で表される繰り返し単位を有する単独重合型ポリカーボネート樹脂）、粘度平均分子量Ｍｖ＝４００００）
・結着樹脂（２）： ビフェニル骨格とビスフェノールＺ骨格とを有するビフェニル共重合型ポリカーボネート樹脂（粘土平均分子量Ｍｖ＝６００００）を表す。
・結着樹脂（３）：単独重合体であるポリアリレート樹脂（ビスフェノールＡの単独重合型ポリアリレート樹脂、粘度平均分子量Ｍｖ＝４００００）
・結着樹脂（１）：単独重合体であるポリカーボネート樹脂（ビスフェノールＺの単独重合型ポリカーボネート樹脂（ＰＣＺ：構造式（１－３）で表される繰り返し単位を有する単独重合型ポリカーボネート樹脂）、粘度平均分子量Ｍｖ＝４００００）
・結着樹脂（２）： ビフェニル骨格とビスフェノールＺ骨格とを有するビフェニル共重合型ポリカーボネート樹脂（粘土平均分子量Ｍｖ＝６００００）を表す。
・結着樹脂（３）：単独重合体であるポリアリレート樹脂（ビスフェノールＡの単独重合型ポリアリレート樹脂、粘度平均分子量Ｍｖ＝４００００）
－電荷発生材料－
・ＣＧＭ（１）： クロロガリウムフタロシアニン顔。Ｃｕｋα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．４゜，１６．６゜，２５．５゜，２８．３゜の位置に回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン顔料（６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長域での分光吸収スペクトルにおける最大ピーク波長＝７８０ｎｍ、平均粒径＝０．１５μｍ、最大粒径＝０．２μｍ、比表面積値＝５６ｍ２／ｇ）
・ＣＧＭ（２）： Ｙ型のチタニルフタロシアニン顔料。ＣｕＫα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも９．６°、２７．３°の位置に回折ピークを有する。
・ＣＧＭ（３）： ヒドロキシガリウムフタロシアニン（Ｖ型）顔料。ＣｕＫα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３°、１６．０°、２４．９°、２８．０°の位置に回折ピークを有する（６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長域での分光吸収スペクトルにおける最大ピーク波長＝８２０ｎｍ、平均粒径＝０．１２μｍ、最大粒径＝０．２μｍ、ＢＥＴ比表面積値＝６０ｍ２／ｇ）。
・ＣＧＭ（１）： クロロガリウムフタロシアニン顔。Ｃｕｋα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．４゜，１６．６゜，２５．５゜，２８．３゜の位置に回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン顔料（６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長域での分光吸収スペクトルにおける最大ピーク波長＝７８０ｎｍ、平均粒径＝０．１５μｍ、最大粒径＝０．２μｍ、比表面積値＝５６ｍ２／ｇ）
・ＣＧＭ（２）： Ｙ型のチタニルフタロシアニン顔料。ＣｕＫα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも９．６°、２７．３°の位置に回折ピークを有する。
・ＣＧＭ（３）： ヒドロキシガリウムフタロシアニン（Ｖ型）顔料。ＣｕＫα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３°、１６．０°、２４．９°、２８．０°の位置に回折ピークを有する（６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長域での分光吸収スペクトルにおける最大ピーク波長＝８２０ｎｍ、平均粒径＝０．１２μｍ、最大粒径＝０．２μｍ、ＢＥＴ比表面積値＝６０ｍ２／ｇ）。
－電子輸送材料－
ＥＴＭ（１）：下記構造の電子輸送材料ＥＴＭ（１）
・ＥＴＭ（２）：下記構造の電子輸送材料ＥＴＭ（２）
ＥＴＭ（１）：下記構造の電子輸送材料ＥＴＭ（１）
・ＥＴＭ（２）：下記構造の電子輸送材料ＥＴＭ（２）
－正孔輸送材料－
・ＨＴＭ（１）： 下記構造の正孔輸送材料ＨＴＭ（１）
・ＨＴＭ（２）： 下記構造の正孔輸送材料ＨＴＭ（２）
・ＨＴＭ（３）： 下記構造の正孔輸送材料ＨＴＭ（３）
・ＨＴＭ（１）： 下記構造の正孔輸送材料ＨＴＭ（１）
・ＨＴＭ（２）： 下記構造の正孔輸送材料ＨＴＭ（２）
・ＨＴＭ（３）： 下記構造の正孔輸送材料ＨＴＭ（３）
１ 下引層、２ 感光層、３ 導電性基体、７ 電子写真感光体、８ 帯電装置、９ 露光装置、１１ 現像装置、１３ クリーニング装置、１４ 潤滑剤、４０ 転写装置、５０ 中間転写体、１００ 画像形成装置、１２０ 画像形成装置、１３１ クリーニングブレード、１３２ 繊維状部材（ロール状）、１３３ 繊維状部材（平ブラシ状）、３００ プロセスカートリッジ
Claims (17)
- 導電性基体と、
前記導電性基体上に設けられた、単独重合体である結着樹脂と、電荷発生材料と、電荷輸送材料と、下記一般式（ＦＡ）で示される構造単位を有するフッ化アルキル基含有重合体と、下記一般式（ＦＬ）で示されるフルオレノン化合物および下記一般式（ＢＤＣ）で示されるベンゼンジカルボン酸化合物から選択される少なくとも１種と、を含む感光層と、
を有する電子写真感光体。
（一般式（ＦＡ）中、ＲＦ１は、水素原子、又はアルキル基を表す。ＱＦ１は、－Ｏ－、又は－ＮＨ－を表す。ｆｌは、１以上の整数を表す。ｆｐは、０または１以上の整数を表す。ｆｔは、１以上７以下の整数を表す。）
（一般式（ＦＬ）中、ＲＦ１１、ＲＦ１２、ＲＦ１３、ＲＦ１４、ＲＦ１５、ＲＦ１６、及びＲＦ１７は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又はアラルキル基を示す。ＲＦ１８は、アルキル基、－ＬＦ１９－Ｏ－ＲＦ２０、アリール基、又はアラルキル基を表す。ただし、ＬＦ１９はアルキレン基を示し、ＲＦ２０はアルキル基を表す。）
（一般式（ＢＤＣ）中、ＲＢＣＤ１、及びＲＢＣＤ２は、各々独立に、アルキル基、又はアラルキル基を示す。） - 前記感光層が、前記単独重合体である結着樹脂、前記電荷発生材料、前記電荷輸送材料として正孔輸送材料および電子輸送材料、前記フッ化アルキル基含有重合体、前記フルオレノン化合物、並びに、前記ベンゼンジカルボン酸化合物を同一層に含む単層型感光層である請求項１に記載の電子写真感光体。
- 前記単独重合体である樹脂は、ポリカーボネート樹脂及びポリアリレート樹脂から選択される少なくとも１種を含む請求項１又は請求項２に記載の電子写真感光体。
- 前記単独重合体である樹脂は、ポリカーボネート樹脂を少なくとも含む請求項３に記載の電子写真感光体。
- 前記ポリカーボネート樹脂は、下記一般式（ＰＣ）で表される繰り返し単位を有する請求項４に記載の電子写真感光体。
（一般式（ＰＣ）中、ＲＰ１及びＲＰ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数５以下の置換若しくは非置換のアルキル基、又は置換若しくは非置換のフェニル基を示し、ＲＰ１とＲＰ２とでシクロ環を形成していてもよい。ＲＰ３及びＲＰ４は、それぞれ独立に、水素原子、又は炭素数３以下の置換若しくは非置換のアルキル基を示す。） - 前記フッ化アルキル基含有重合体が、さらに、下記一般式（ＦＣ）で示される構造単位を有する請求項１～請求項５のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
（一般式（ＦＣ）中、ＲＦ５、及びＲＦ６は、各々独立に、水素原子、アルキル基、又は－ＡＯ－ＲＦ７（ただし、ＡＯはアルキレンオキサイド基、ＲＦ７は水素原子又はアルキル基を表す）を表す。ｆｚは、１以上の整数を表す。） - 前記フルオレノン化合物が、前記一般式（ＦＬ）中、ＲＦ１１、ＲＦ１２、ＲＦ１３、ＲＦ１４、ＲＦ１５、ＲＦ１６、及びＲＦ１７が水素原子を表し、ＲＦ１８はアルキル基を表す化合物である請求項１～請求項６のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
- 前記ベンゼンジカルボン酸化合物が、前記一般式（ＢＤＣ）中、ＲＢＣＤ１がアルキル基 又はアラルキル基を表し、ＲＢＣＤ２がアルキル基を表す化合物である請求項１～請求項７のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
- 前記フッ化アルキル基含有重合体の含有量が、前記感光層の全固形分に対して０．０２質量％以上０．０５質量％以下である請求項１～請求項８のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
- 前記フルオレノン化合物の含有量が、前記感光層の全固形分に対して２質量％以上９質量％以下である請求項１～請求項９のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
- 前記ベンゼンジカルボン酸化合物の含有量が、前記感光層の全固形分に対して０．９質量％以上５質量％以下である請求項１～請求項１０いずれか１項に記載の電子写真感光体。
- 前記フルオレノン化合物と前記ベンゼンジカルボン酸化合物との含有比（フルオレノン化合物の含有量／ベンゼンジカルボン酸化合物の含有量）が、３／２以上３／１以下である請求項１～請求項１１のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
- 前記フルオレノン化合物と前記ベンゼンジカルボン酸化合物との含有比（フルオレノン化合物の含有量／ベンゼンジカルボン酸化合物の含有量）が、５／３以上３／１以下である請求項１２のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
- 導電性基体と、
前記導電性基体上に設けられた、単独重合体である結着樹脂と、電荷発生材料と、電荷輸送材料と、下記一般式（ＦＡ）で示される構造単位を有するフッ化アルキル基含有重合体と、下記一般式（ＦＬ）で示されるフルオレノン化合物および下記一般式（ＢＤＣ）で示されるベンゼンジカルボン酸化合物から選択される少なくとも１種と、を含む感光層と、
を有し、
前記フルオレノン化合物が、下記一般式（ＦＬ）中、Ｒ Ｆ１１ 、Ｒ Ｆ１２ 、Ｒ Ｆ１３ 、Ｒ Ｆ１４ 、Ｒ Ｆ１５ 、Ｒ Ｆ１６ 、及びＲ Ｆ１７ が水素原子を表し、Ｒ Ｆ１８ はアルキル基を表す化合物であり、
前記ベンゼンジカルボン酸化合物が、下記一般式（ＢＤＣ）中、Ｒ ＢＣＤ１ がアルキル基 又はアラルキル基を表し、Ｒ ＢＣＤ２ がアルキル基を表す化合物である電子写真感光体。
（一般式（ＦＡ）中、Ｒ Ｆ１ は、水素原子、又はアルキル基を表す。Ｑ Ｆ１ は、－Ｏ－、又は－ＮＨ－を表す。ｆｌは、１以上の整数を表す。ｆｐは、０または１以上の整数を表す。ｆｔは、１以上７以下の整数を表す。）
（一般式（ＦＬ）中、Ｒ Ｆ１１ 、Ｒ Ｆ１２ 、Ｒ Ｆ１３ 、Ｒ Ｆ１４ 、Ｒ Ｆ１５ 、Ｒ Ｆ１６ 、及びＲ Ｆ１７ は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又はアラルキル基を示す。Ｒ Ｆ１８ は、アルキル基、－Ｌ Ｆ１９ －Ｏ－Ｒ Ｆ２０ 、アリール基、又はアラルキル基を表す。ただし、Ｌ Ｆ１９ はアルキレン基を示し、Ｒ Ｆ２０ はアルキル基を表す。）
（一般式（ＢＤＣ）中、Ｒ ＢＣＤ１ 、及びＲ ＢＣＤ２ は、各々独立に、アルキル基、又はアラルキル基を示す。） - 導電性基体と、
前記導電性基体上に設けられた、単独重合体である結着樹脂と、電荷発生材料と、電荷輸送材料と、下記一般式（ＦＡ）で示される構造単位を有するフッ化アルキル基含有重合体と、下記一般式（ＦＬ）で示されるフルオレノン化合物および下記一般式（ＢＤＣ）で示されるベンゼンジカルボン酸化合物から選択される少なくとも１種と、を含む感光層と、
を有し、
前記フルオレノン化合物と前記ベンゼンジカルボン酸化合物との含有比（フルオレノン化合物の含有量／ベンゼンジカルボン酸化合物の含有量）が、３／２以上３／１以下である電子写真感光体。
（一般式（ＦＡ）中、Ｒ Ｆ１ は、水素原子、又はアルキル基を表す。Ｑ Ｆ１ は、－Ｏ－、又は－ＮＨ－を表す。ｆｌは、１以上の整数を表す。ｆｐは、０または１以上の整数を表す。ｆｔは、１以上７以下の整数を表す。）
（一般式（ＦＬ）中、Ｒ Ｆ１１ 、Ｒ Ｆ１２ 、Ｒ Ｆ１３ 、Ｒ Ｆ１４ 、Ｒ Ｆ１５ 、Ｒ Ｆ１６ 、及びＲ Ｆ１７ は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又はアラルキル基を示す。Ｒ Ｆ１８ は、アルキル基、－Ｌ Ｆ１９ －Ｏ－Ｒ Ｆ２０ 、アリール基、又はアラルキル基を表す。ただし、Ｌ Ｆ１９ はアルキレン基を示し、Ｒ Ｆ２０ はアルキル基を表す。）
（一般式（ＢＤＣ）中、Ｒ ＢＣＤ１ 、及びＲ ＢＣＤ２ は、各々独立に、アルキル基、又はアラルキル基を示す。） - 請求項１～請求項１５のいずれか１項に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。 - 請求項１～請求項１５のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
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