JP7312320B2 - 巻かれたエンドレスサブストレートに放射線によりパターンを導入する装置 - Google Patents

Description

本発明は、巻かれたエンドレスサブストレート（連続サブストレート）に放射線によりパターンを導入する装置、特に導電路の後続のエッチングのためにフレキシブルな感光性回路箔を露光するための装置に関する。

フレキシブルなキャリアに導電路を製造するための従来技術では、高い空間精度で実行すべき露光のために必要とされるミリメートルレンジからミリメートル未満レンジの箔を扱う定められた工程が制限因子である。片面又は両面を金属で隠された箔、例えば片面又は両面にフォトレジスト積層を有する箔又は片面又は両面にフォトレジスト積層による金属クラッディングを有しない箔が、箔部分として又は巻かれたエンドレスサブストレートとして使用される。特に、ロール又はローラを介して搬送されるフレキシブルなエンドレスサブストレートを処理・加工するとき、露光のための定められた台・支えがもっぱら湾曲して実現され得、それにより従来のマスク露光方法は連続的に実行され得ない。

巻かれたフレキシブルな箔でのマスク露光に関連するこの一式の問題に取り組むソリューションが特許文献１に記載されている。この場合、複数の更なるロール及び露光ドラムを介して２つのロール（解きロール及び巻きロール）の間に案内される準連続の箔ウェブが、マスクパターンを露光するために部分的に移動される。箔は真空によって露光ドラムに吸い込まれ、露光ユニットの運動と同期して、駆動される露光ドラムによって移動され、レーザー線により露光ドラムの母線のそれぞれに沿って箔上で行ごとにマスクパターンを露光する。露光ドラム上の箔のこの運動の間、固定して保持された解きロール及び巻きロールによって、２つの交互に積極的に案内される浮動ロール（ダンサーロール）が、箔を露光ドラムに及び露光ドラムから張り詰めて案内するために設けられ、次の箔領域が駆動される解きロール及び巻きロールに入ってくるときに正に切り替えられる。箔の露光ユニットとの正確な同期運動と露光中の真空吸引のために、不連続な箔の運動自体がプリント回路又はＰＣＢ（英語：プリント回路基板）の高スループットを阻む点で、このシステムは不都合である。

連続的な箔移動中に露光するためのパターン露光方法及び装置が特許文献２において同様な一組の問題に対して記載されている。この場合、規則的な格子パターンを有するフォトマスクが同様に露光ドラムの近傍に配置されるが、固定保持されており、また露光ストライプは露光ドラムに対する狭いギャップを介してそこを案内される箔に投影される。この露光ストライプは近接露光のために少なくとも１周期の（一様な）露光パターンを照明する。フォトマスク上の一様でない又は非周期的なパターンのためのアプローチは記載されていない。

さらに、デジタルなロールツーロールフォトリソグラフィーとしてフレキシブルな回路箔を製造するための方法が特許文献３から知られており、そこでは箔ウェブが搬送ドラムと共に第１位置から第２位置に移動され、箔ウェブの整列マーク（アラインメントマーク）がドラムの第１位置で測定されて、整列マークに基づいて箔ウェブの歪みが計算され、箔ウェブが第１位置から第２位置まで搬送されたときに露光が実行される。露光は、算出された整列マークの位置に対応して箔ウェブの場合により算出される歪みのために補正される露光パターンによって実行される。しかしながら、この文献はどのようにして箔ウェブの一様で、スリップの無い、歪みの少ない移動が実行されるか開示していない。

箔が、エンドレスサブストレートの関連する領域において穿孔として挿入されたターゲットを有するとき、付加的な問題が箔ウェブの登録（記録）及び案内に生じる。登録のために、入射光検出がカメラに依存する光源により困難となり、それで透過光検出が好ましい。この登録のために、処理ドラム自体が照明しなければならないか、箔ウェブが処理ドラムと接触する前に照明が「浮いて案内される」箔ウェブに行われなければならず、それは特にエンドレスサブストレートの低い張力の及び交互負荷の無い案内に関して高い要求をもたらす。

ＵＳ２０１２／０２４１４１９Ａ１ ＥＰ１９２２５８８Ｂ１ ＷＯ２０１０／０７５１５８Ａ１ 特開２０１５－１８８９１５号公報

本発明は、材料スリップ無く及び最小の材料歪みで連続的に前進するロールツーロール移動の際にパターンを高精度で導入することができる、放射線により巻かれたエンドレスサブストレートにパターンを導入するための新規な可能性を提供するという目的に基づいている。更なる目的は、問題なく様々な材料厚さ及び材料幅に適応でき、また処理ドラムの簡単且つ確実な調節と、多大なダウンタイムを必要とせずに標的マークの検出を可能とすることである。さらに、エンドレスサブストレートに存在する穿孔された標的マークの透過光登録が可能となり、またサブストレートウェブの部分的な左－右－傾斜が検出され、処理又は照射の間に補償されるべきである。

本発明によれば、上述した目的は、巻かれたエンドレスサブストレートに放射線によりパターンを導入する装置であって、エンドレスサブストレートは処理ドラム（加工ドラム）を介して解きロールから巻きロールに巻き取り可能に案内され、複数の標的マークを光学的に記録するための登録ユニット（記録ユニット）と放射線パターンを照射するための放射線源が２つの異なる方向で処理ドラムに向けられ、放射線パターンとエンドレスサブストレートの間の整列（調整、調節、アラインメント）を制御するための制御ユニットが設けられており、放射線パターンを、標的マークに基づいて登録ユニットによって算出されるエンドレスサブストレートの位置ずれに電子的に適応させる手段が制御ユニットに設けられている装置において、処理ドラムの駆動部により搬送移動を処理ドラムから定められた接触領域を介してエンドレスサブストレートにスリップ無く伝達するために、処理ドラムの周囲の少なくとも半分の定められた接触領域に沿ってエンドレスサブストレートをピンと張って案内するためのそれぞれの浮動ロールが、処理ドラムと解きロールの間と、処理ドラムと巻きロールの間に設置され、それぞれの浮動ロールは、処理ドラムにて接触領域に逆に作用する一定の力作用でエンドレスサブストレートの前進するサブストレートウェブ及び後退するサブストレートウェブをピンと張って案内するように調整・適応され、ここで定められた反作用力と浮動ロールへの一定の力作用の間の平衡を調節・確立するためのそれぞれの安定化装置が設置され、それぞれの浮動ロールのたわみ・振れ（deflections）の変化を記録するための測定ユニットに連結しており、及び解きロールと巻きロールは、測定ユニットにより取得される浮動ロールでの力平衡の外乱に基づいてその回転速度に関して制御される制御可能な駆動部を有する、ことにより達成される。

安定化装置は有利には、浮動ロールが回転運動を実行するために関節式に連結したレバー装置を有し、定められた反作用力と浮動ロールへの一定の力作用の間の平衡を維持するために、当該レバー装置に関節式に連結した空気圧の又は油圧の圧力制御シリンダーを含み、レバー装置は円弧に沿う浮動ロールのたわみを可能にする。

浮動ロールのたわみの変化を記録するための測定ユニットは好ましくは、レバー装置の回転軸における角度変化を測定するインクリメンタル角度変換器（インクリメンタル角度エンコーダー）として形成されている。

更なる実用的な構成では、測定ユニットは、圧力制御シリンダーのプッシュロッドの長さの直線変化を測定するインクリメンタル位置検出器（インクリメンタル変位センサー）として形成されている。

さらに、浮動ロールのたわみの変化を記録するための測定ユニットは有利には、光学角度変換器として形成されており、それによりレバー装置のレバーアームにおける偏向ミラーを介してラインセンサーに向けられる光ビームによって、レバー装置の角度変化がラインセンサーにて光ビームの位置変化として取得可能である。

測定ユニットは好ましくは、レバー装置のレバーアームにおけるたわみを測定する歪みゲージとして形成されている。

それぞれの浮動ロールの位置のための安定化装置は好ましくは、解きロールの又は巻きロールの回転速度コントローラと測定ユニットの間の制御ループを有するコントローラユニットに結合している。

複数の偏向ロール（方向転換ロール）が実用的には（合目的的に）、サブストレート案内ユニットにおいて浮動ロールに隣接して設けられており、当該偏向ロールは、解きロールの又は巻きロールの解き方向又は巻き方向を任意に変更するために設けられている。

複数の偏向ロールが、サブストレート案内ユニットにおいて浮動ロールに隣接して設けられており、当該偏向ロールはエンドレスサブストレートを案内するために設けられており、それにより処理ドラムに向かって前進するサブストレートウェブと後退するサブストレートウェブが空間的に上下に配置された解きロール及び巻きロールから及びこれらに案内されると有利であるとさらに判明した。

線形状の処理ビーム（加工ビーム）を有する放射線源とストリップ形状の走査領域を有する登録ユニットが有利には、処理ドラムの回転軸と平行になるようにビーム処理装置（ビーム加工装置）内に配置され、異なる軸平面において処理ドラムの母線にそれぞれ向けられている。

さらに実用的なビーム処理装置では、線形状の処理ビームを有する放射線源とストリップ形状の走査領域を有する登録ユニットが、処理ドラムの回転軸と平行になるようにビーム処理装置内に配置され、同一の軸平面において処理ドラムの正反対に位置する側に向けられている。

さらに、別な有利なビーム処理装置では、線形状の処理ビームを有する放射線源が回転軸と平行に及び処理ドラムの軸平面内に向けられており、ストリップ形状の走査領域を有する登録ユニットが、軸平面と平行な登録平面内で処理ドラムの反対側に向けられており、登録平面が前進するサブストレートウェブの前方に非常に遠くに位置しており、そのため裏面照明を照射するためのエアギャップが、エンドレスサブストレートと処理ドラムの接触領域の初めの前に存在する。

好ましくは、処理ドラムが移動可能なキャリッジ上に取り付けられており、それで放射線源の処理ビームと登録ユニットのストリップ形状の走査領域が、当該キャリッジの移動によって常により遠い処理ドラムの母線の接線方向に移動可能であり、それにより処理ビームの及び登録ユニットの焦点合わせが処理ドラム上に位置するエンドレスサブストレートに対して調節可能である。

処理ドラムは好ましくはキャリッジ上を移動可能であり、それにより登録平面及び軸平面における処理ドラムの母線に代えて、付加的に取り付けられる調節手段をキャリッジ上に適所に位置決めするために、処理ドラムは放射線源の軸平面及び登録ユニットの登録平面から外に移動可能である。

さらに有利な構成は、処理ドラムが複数の主較正マーク及び複数の第二較正マークを両方の縁領域に有し、これらのうち少なくとも第二較正マークは処理ビームによって一時的に生成可能であり、登録ユニットと放射線源の座標系の間の空間的関係の較正のために供される、ことにある。

実用的な構造変形例では、主較正マーク及び第二較正マークを生成するために、処理ドラムの縁領域は、適切な波長範囲の処理ビームに反応する光発色性コーティングを具備している。

別な構成では、処理ドラムは、永続的に取り込まれる主較正マークを導入するために縁領域においてスチールバンドで覆われており、このスチールバンドは、第二較正マークを生成するために、適切な波長範囲の処理ビームに反応する光発色性コーティングを有する。

本発明の特に有利な構成は、
－放射線源が線走査されるレーザーとして形成され、処理ビームが処理ドラムの縁領域にわたって走査可能であり、
－登録ユニットは、エンドレスサブストレートの複数の標的マークと、処理ドラムの縁領域における複数の主較正マーク及び複数の第二較正マークを撮影するための少なくとも２つのカメラを有し、及び
－処理ビームの繰り返しの強度測定を行うために、少なくとも１つの光検知器が処理ドラムに隣接して軸方向に配置されている、ことによって達成される。

変更されたバリエーションでは、全ての光検知器が処理ドラムの方向に回転軸と平行に整列され、処理ドラムに隣接して半径方向に入射する処理ビームの光を反射するための偏向ミラーがそれぞれ、処理ドラムと光検知器の間に位置決めされ、それで半径方向に入射する処理ビームの光がそれぞれの光検知器の方向に偏向される。

有利には、エンドレスサブストレートを押圧するための加圧ローラが処理ドラムに取り付けられている。その際、加圧ローラは、処理ビームの軸平面の前の領域において処理ドラムに取り付けられ得、当該加圧ローラは、ビーム処理（ビーム加工）の前にエンドレスサブストレートを清掃するためにクリーナーロールに同時に接触する。

加圧ローラが処理ドラムに取り付けられ、同時に、登録ユニットと処理ビームの間で実際に搬送されたエンドレスサブストレートのサブストレート表面の長さを測定するために高分解能エンコーダーを装備していると、さらに実用的である。

本発明は、フレキシブルなエンドレスサブストレート、特に感光性コーティングを有する箔にパターンを導入するための連続的な放射線処理（放射線加工）が、ロールツーロールにおいて特によく整列され且つ低い張力のサブストレート案内を必要とするという基本的考察から出発している。定められた処理速度に設定するためにそれ自体が通常は主駆動部である処理ドラムの前後の浮動ロールによってエンドレスサブストレートのサブストレートウェブのプリテンションによって及び処理ドラムへの真空吸引によってこの目的のために従来技術で利用される方法は、処理ドラムの表面におけるサブストレートウェブの一様な歪んでいない案内を損なう。この理由は、サブストレートウェブの速度を一定に且つなるべく引きずらずに維持するために、サブストレートウェブの（重ねて巻かれた層のために）ロール径に依存して適応される回転速度を実現しなければならない付加的に駆動される解きロール及び巻きロールであり、その際解きロール及び巻きロールに生じる変動がモーター制御される及び／又は重力制御される浮動ロールによって保証される。

本発明は、浮動ロールの経路追跡のために解き速度及び巻き速度の変化の際にサブストレートウェブに作用する一様でない牽引力を回避する、というのも浮動ロールがサブストレートウェブの表面に直交する別個の補償運動を何ら実行せず、むしろサブストレートウェブをピンと張るために低い力によってロールツーロール処理・加工の開始時に一度調節され、次いで一定の力によって保持され（「凍結され」）、それぞれの浮動ロールのほんの少しの位置変化が浮動ロールホルダーの変位・変動又は角度変化としてインクリメンタルに検出され、解きロール駆動部又は巻きロール駆動部の回転速度を制御するために使用されるからである。この目的のために、浮動ロールの軸は好ましくはレバー装置に設置され、それにより浮動ロールの軸位置の非常に小さな変化が非常に高分解能で角度変化又は変位変化として検出でき、解きロール及び巻きロールを制御するために使用できる。浮動ロールはほぼ不動のままであり、張力の変化を生じさせないので、エンドレスサブストレートに穿孔された標的マークも、処理ドラムとの接触領域のすぐ前でエンドレスサブストレートの前進するサブストレートウェブの領域において透過光照明によって登録され得る。

さらに、処理ドラムは有利には、サブストレートの移動方向に沿って（ビーム処理の走査方向に交差して）キャリッジガイドによって移動可能であり、それにより放射線源の及び登録ユニットの焦点合わせが最小の軸移動によって様々なサブストレート厚さに適合され得、処理ドラムのほぼ半径だけの移動によって標的マーク検出のためのビーム処理及び登録ユニットの設定を検査し、調節することが可能となる。

そのほかに、固定の較正マーク及び一時的な較正マークをサブストレートウェブで塞がれていない縁領域に導入することで、処理ドラムとビーム処理装置の間のオンライン較正がロールツーロール処理の間に可能である。

とりわけ、処理ドラムの近傍における前進する及び後退するサブストレートウェブの低負荷且つ歪みの少ない案内が穿孔された標的マークの登録を可能にする、というのも処理ドラムとエンドレスサブストレートの間の接触領域に達する前に、登録ユニットが既に前進するサブストレートウェブに向けられており、その際サブストレートウェブが楔形のエアギャップにて裏面側を照明され、ゆえに穿孔された標的マークが入射照明よりも実質的により正確に透過光方法によって検出され得るからである。エンドレスサブストレートの接触領域が処理ドラムを１８０°より明らかに大きく包囲するとき、サブストレートウェブの低い張力の及び少ない歪みの案内のために、接触領域の終わりにおいて従来の加圧ローラを省略できる。しかしながら、それは登録ユニットと処理ビームの間の位置に取り付けられてもよく、またエンドレスサブストレートをビーム処理の直前で再び又は初めて清掃するために、基本的な予備機能としてのクリーナーロールと結合されてもよい。

本発明により、材料スリップ無く、最小の起こり得る材料引っ張りで連続的に前進するロールツーロール移動の間に非常に正確にサブストレートウェブにパターンを導入することができる、放射線により巻かれたエンドレスサブストレートにパターンを導入する新規な可能性が実現される。さらに、様々な材料厚さ及び材料幅が問題なく適応され、穿孔された標的マークを有するエンドレスサブストレートの非常に正確な処理と、処理ドラムの簡単で確実な調節と、標的マーク取得が実現され、それにより材料調製のための、並びに、その同期走行補正と歪み補正のための、及び、標的マーク登録及びビーム処理の調節又は制御工学補正のための、必要とされるダウンタイムが著しく短くなる。

本発明を実施例を参照しながら以下でより詳細に説明する。

圧力制御シリンダーにより釣り合って保持された浮動ロールによってエンドレスサブストレートのサブストレートウェブに作用する一定の力を保証するフレキシブルなエンドレスサブストレートのロールツーロール法のための本発明に従う装置の概略図である。 サブストレートウェブガイドによるロールツーロール法のための本発明に従う装置の有利な構造バリエーションを示す図であり、解きロールと巻きロールが同じ機械サイドに配置され、浮動ロールを保持するレバーアームのたわみ（deflection）を測定することで制御される。 浮動ロールを支持するレバー装置の光学的に測定される角度変化に基づく解きロールと巻きロールの制御を有し、サブストレートウェブ移動の方向に対して長手方向にキャリッジ上を移動可能な処理ドラムを有する、本発明に従う装置のさらに好ましい構造を示す図である。ａ）では処理プロセス中が示され、ｂ）では登録ユニットと処理ビームの調節用の又は処理ドラムの簡単な交換用の処理インターバルが示されている。 サブストレートウェブ移動の方向に対して長手方向に移動可能な処理ドラムに基づく簡単なフォーカス可能性を有する、図２又は図３に従う本発明に従う装置のさらなる好ましい変更を示す図である。サブフィギュアａ）では最小焦点距離の調節を示し、サブフィギュアｂ）では増加した焦点距離の調節を示す。 図２又は図３に従うビーム処理装置の及び処理ドラムの有利な構造を示す図である。ここでは、連続的なサブストレート上の標的マークの光学的登録のため及び実行中の処理プロセスの際に光ビーム処理を較正するため、２つの可動なカメラが処理ドラムの縁領域に設置され、放射線測定用の複数の光検知器が処理ドラムの横に配置されている。 図５から変更されたビーム処理装置及び処理ドラムの構造を示す図である。ここでは、連続的なサブストレート上の標的マークの光学的登録のため及び実行中の処理の際に光ビーム処理を較正するため、３つの固定したカメラがエンドレスサブストレート及び処理ドラム上のマーク感知のために設置され、放射線源の光成分が、処理ドラムに隣接する放射線測定用の偏向ミラーを介して光検知器に向けられる。 １つの実施形態における本発明に従う装置を示す略図である。ここでは、入射照明が登録ユニットのために与えられ、解きロール及び巻きロールの走行方向が、処理ドラムに載ったサブストレートウェブの異なる側のためのサブストレートウェブのコーティング／仕上げの存在に応じて選択的に切り替えられ得る。解きロール及び巻きロールの速度制御のための外乱変数（擾乱変数）を得る測定ユニットのさらなる有利な実施形態を有する。 図７に従う装置におけるビーム処理装置の及び処理ドラムの有利な構成を示す略図である。ここでは、連続的なサブストレート上の標的マークの光学的登録のため及び実行中の処理プロセスの際に光ビーム処理を較正するため、２つの可動なカメラが処理ドラムの縁領域に設置され、放射線測定用の複数の光検知器が処理ドラムの横に配置されている。 本発明のさらなる有利な構成である。ここでは、登録ユニットが少なくとも４つの標的マークを有するエンドレスサブストレートの個々のセグメントを走査し、放射線パターンの標的マークに対する相関が制御ユニットにおいて、それぞれのセグメントの得られた標的マーク位置に基づき及びさらなるセグメントの標的マークの平均に基づき実行される。 本発明に従う装置のさらなる有利な構成である。ここでは、エンドレスサブストレートの裏面照明が登録ユニットのために与えられ、距離測定装置が解き及び巻きを制御するために測定ユニット用の圧力制御シリンダーに設置される。 図１０から変更された本発明の有利な構成である。ここでは、加圧ローラが登録ユニットと処理ビームの間に配置されており、高分解能エンコーダーを装備しており、クリーナーロールと結合している。 部分的に開いたハウジングの内部における本発明に従う装置の有利な構成の斜視図である。

図１に従う基本構成において、本発明に従う装置は、線走査される放射線源１１、登録ユニット１２、基本的構成部品としてパターン調製及び登録ユニット１２の標的マーク取得の制御及びパターン生成のために放射線源１１の放射線ラインを有する制御ユニット１３を有するビーム処理装置１と、駆動される処理ドラム２であって、エンドレスサブストレート３が処理ドラム２の円周の少なくとも半分に案内される処理ドラム２と、サブストレート案内ユニット４であって、エンドレスサブストレート３が処理ドラム２での解きのために解きロール４１から複数の偏向ロール４２及び浮動ロール４３を介して処理ドラムに、また処理ドラム２から偏向ロール４２及び浮動ロール４３を介して巻きロール４４に案内されるサブストレート案内ユニット４を有する。浮動ロール４３はそれぞれ、エンドレスサブストレート３を張るためにもたらされる重力や別な力に抗して圧力制御シリンダー４６により釣り合って保持されたレバー装置４５に関節式に連結しており、またそれぞれコントローラユニット４７を有し、コントローラユニットは、測定ユニットとして、釣り合い位置からのレバー装置４５のたわみ・振れ（deflections）を検知する測定変換器を有し、また解きロール４１又は巻きロール４４の回転速度コントローラ４７２への制御ループ４７３をそれぞれに有する。本実施形態では、測定変換器は、レバー装置４５の固定回転軸４５１におけるインクリメンタル角度変換器（incremental angle transducer）４７１である。

上述した、ビーム処理装置１の走査周波数（又はクロック周期）に関するエンドレスサブストレート３の非常に正確な移動は、放射線源１１によるエンドレスサブストレート３の直接照射のために実際に極めて重要である。ビーム処理の速度は処理ドラム２を介して設定される、すなわち、それ（処理ドラム）が、処理ドラム２の周囲の少なくとも半分に沿って実行されるエンドレスサブストレート３の前送り移動を保証する。この前送り移動を円滑に且つ一様に実行するために、エンドレスサブストレート３は、殆ど妨害力なく前に後に案内されなければならない。

さらに、エンドレスサブストレート３の直接照射のために、そこに位置する標的マーク３３（いわゆるターゲット）によるエンドレスサブストレート３への定められた空間的割り当てが必要である。エンドレスサブストレート３の縁領域における標的マーク３３（図５まで示されない）を検知する手段の図１に示される変形例は、好ましくは円形穴、三角形、長方形、特に正方形の形態の穿孔された標的マーク３３、又は上述した穿孔形状の２以上の組み合わせで形成される穴パターンに適している。この種の穿孔された標的マーク３３の登録の間、エンドレスサブストレート３の裏面照明１２２を用いてそれ（標的マーク）を登録ユニット１２で検知することが特に有利だと判明した。この目的のために、処理ドラム２に向かって前進するサブストレートウェブ３１（図２にのみ指定されている）の接触領域３６の初め３５の前のエアギャップ３４が照射される。それに代えて、処理ドラム２は冷光を発する又はさもなければ自己発光する表面（不図示）を有してもよい。

コントローラユニット４７の機能は、解きロール４１、処理ドラム２及び巻きロール４４の間のエンドレスサブストレート３に作用する力を制限し、それにより同じ大きさのできるだけ最小の力だけが解きロール側及び巻きロール側で処理ドラム２にてエンドレスサブストレート３に作用し、それでエンドレスサブストレート３がスリップも歪みもなく－場合によっては加圧ローラ２１（図２にのみ示される）の援助により－処理ドラム２にて一緒に運ばれるようにすることにある。解きロール側及び巻きロール側の力は以下に記載するようにして調整される。

処理工程の初めに、すなわちエンドレスサブストレート３が（いっぱいの）解きロール４１から（１又は複数の）偏向ロール４２、浮動ロール４３、処理ドラム２、浮動ロール４３及び（１又は複数の）偏向ロール４２を介して（空の）巻きロール４４までサブストレート案内ユニット４に張られたとき（挟まれたとき）、エンドレスサブストレート３は主に処理ドラム２によって動き始める；解きロール４１及び巻きロール４４はそれらがそれ（処理ドラム）に適合するように駆動される。従来技術によれば、浮動ロール４３は、処理ドラム２の絶え間ない駆動運動に対するエンドレスサブストレート３の解き及び巻きの間に存在する長さの差を補償するために使用され、浮動ロール４３の軸（シャフト）に絶え間なく作用する牽引力が、エンドレスサブストレート３の主移動方向におけるサブストレートウェブ３１，３２に直交する浮動ロール４３の直線補償運動を可能にする。

対照的に、本発明に従う装置でのロールからロールへ移動するエンドレスサブストレート３のために、精密エンコーダーにより制御される処理ドラム２の駆動部２２に加えて解きロール４１及び巻きロール４４のための２つの独立的に結合したコントローラがある。一旦処理ドラム２が駆動されると、解きロール４１及び巻きロール４４が対応的に制御されて駆動される。

設備を開始させる前に、最初に３つの全ての駆動軸が動かない静止状態において、定められた力がエンドレスサブストレート３の望ましいプリテンションに対応して浮動ロール４３にてそれぞれに調節され、所定の絶え間ない牽引力（例えば、重力、ばね力、磁力、電場力又は空気力）が制御可能な反作用力によってエンドレスサブストレート３への定められた力作用との釣り合い状態に「凍結される」。同じプリテンションが前進するサブストレートウェブ３１及び後退するサブストレートウェブ３２にて両方の浮動ロール４３のために調節される点を考慮して、浮動ロール４３と処理ドラム２の周りに巻かれたエンドレスサブストレート３を有する装置は静的釣り合い（静的平衡）にある。平面内でそれらの軸方向と直交して移動可能な浮動ロール４３の空間位置は、以下でより完全に説明される適切な位置測定装置によって検知され、解きロール４１及び巻きロール４４の回転速度を制御するために利用される。

この制御機能のために、各々の浮動ロール４３の軸はレバー装置４５に関節式に連結しており、第１の構成では、レバー装置４５の回転軸４５１で生じる角度変化が測定ユニットにより外乱変数として算出され、次いで解きロール４１又は巻きロール４４の回転速度をそれぞれ変える操作変数（manipulated variable）としてコントローラユニット４７で利用される。

微小に小さなたわみさえ解きロール４１及び巻きロール４４の適応された制御を始動させるために最小のたわみしか許容されないこの種の浮動ロールガイドは、解き速度及び巻き速度の装置依存の変化の結果として前進する又は後退するサブストレートウェブ３１又は３２にそれぞれ作用する及び別な風には浮動ロール４３の経路追跡の結果として生成される不規則な牽引力を防ぐ。本発明によれば、浮動ロール４３はエンドレスサブストレート３の主移動方向に対して交差する別個の補償運動を実行せず、むしろサブストレートウェブをピンと張るための小さい定められた牽引力（１０－１５０Ｎ、好ましくは１０－４０Ｎ）としてロールツーロール処理の初めに一度調節されていた一定の力によって「凍結して」保持される。初めに調節された静的釣り合いの状態は好ましくは圧力制御シリンダー４６（例えば空気圧シリンダー又は油圧シリンダー）によって維持され、解きロール４１又は巻きロール４４の回転速度のリセット制御のために監視される。

エンドレスサブストレート３の搬送が上述した３つの搬送駆動部、すなわち主コンベヤー駆動部としての処理ドラム２、適切に結合された予備駆動部としての解きロール４１及び巻きロール４４を始動させることで開始されると、駆動部、すなわち処理ドラム２、解きロール４１及び巻きロール４４が互いに調整されないとき、浮動ロール４３の位置はエンドレスサブストレート３の実際の移動に従って変化しようとする。これらの位置の変化は、それぞれの浮動ロール４３が回転可能に関節式に連結しているレバー装置４５にて角度変化に変換され、それにより浮動ロール４３の軸の安定したガイダンスが実現され、浮動ロール４３に存在する牽引力に対する反作用力の簡単な微調整が可能となる。

図１に従う例では、浮動ロール４３の位置変化がレバー装置４５の回転軸４５１に配置されたコントローラユニット４７のインクリメンタル角度変換器４７１によって外乱変数として取得され、制御ループ４７３を介して解きロール４１又は巻きロール４４の回転速度コントローラ４７２に制御変数として供給される。

本発明の他の実施形態では、浮動ロール４３のたわみはレバー装置４５での変位変化として検知され得る（図７及び図１０）。

変位変化は例えば、（図２に示されるように）歪みゲージ４７４によりレバー装置４５のレバーアーム４５２のたわみに基づいて取得され得、次いで同様に外乱変数として制御ループ４７３に供給される。

しかしながら、変位変化はまたシリンダー４６のプッシュロッドでインクリメンタル位置検出器４７５により測定されてもよい（図７に概略的に示されるように）。好ましくは、光センサー、特に干渉センサー又は撮像光電センサー、磁気センサー又は電気センサーがこの目的のために利用可能である。

さらに、外乱変数が他方で図１において既に利用されたレバー装置４５の角度変化から算出されることによって、外乱変数を図３におけるコントローラユニット４７の描写に従ってレバー装置４５で検知する感度を増加させる可能性がある。角度変化の検知は、この例では光反射を用いてレバーアーム４５２での鏡傾斜を介して光学的に実行される。このようにして、レバー装置４５の角度変化がそれぞれ、角度量の二倍に拡大され得、光電ラインセンサー４７６で検知され得る。光反射の位置のこの高分解能変化は次に、外乱変数として制御ループ４７３に供給され、解きロール４１又は巻きロール４４の回転運動に適応するために回転速度コントローラ４７２のための制御変数として利用される。

当該産業では慣例であるウェブエッジコントローラ６による制御によって、ロールツーロール装置のための搬送方向が正確に維持され、また処理されるエンドレスサブストレート３が正確に巻かれることを保証するために、上述した３つの搬送駆動部に加えて、ロールツーロール装置は、搬送方向に対して交差方向に移動可能な解きロール４１及び巻きロール４４の軸を有する。図３に従う実施形態では、処理ドラム２の上流でエンドレスサブストレート３からの塵や他の汚染物質を除去するために、クリーナーユニット５が、処理ドラム２に向かって前進するサブストレートウェブ３１においてウェブエッジコントローラ６の後に配置されている。

コントローラユニット４７での制御の目的は、浮動ロール４３の初期位置を維持することである。したがって、解きロール４１及び巻きロール４４でのエンドレスサブストレート３の搬送は常に、処理ドラム２の精密エンコーダーにより制御された駆動部２２に追従し、またそれは解きロール４１及び巻きロール４４のそれぞれの実際の巻き径とは独立してこれを行う。浮動ロール４３は制御精度内でそれらの初めに調節された位置に留まり、前進するサブストレートウェブ３１又は後退するサブストレートウェブ３２の調節されたプリテンションは一定のままである。

この原則を機能させるために、処理ドラム２とエンドレスサブストレート３の間の最小の摩擦が必要となる。これを低いサブストレートウェブのテンション（張力）の際にも保証するために、調節可能な押圧力を有する加圧ローラ２１（いわゆるニップローラ）が一般に使用される。加圧ローラ２１はさらに、ビーム処理領域の下流でエンドレスサブストレート３を処理ドラム２に対して押圧し、積極的ガイドによりそれと共に走行する。しかしながら、登録ユニット１２と線走査される放射線源１１の間で処理ドラム２の円筒表面に沿うエンドレスサブストレート３のスリップの無い搬送に必要な摩擦力は、エンドレスサブストレート３が少なくとも１８０°の角度領域にわたって処理ドラム２の表面に接触することにより、主として生成される。接触面が例えば図７に示されるように約２７０°にさらに増加すると、加圧ロール２１はエンドレスサブストレート３の適切な一体感（affinity）により完全に省略されてもよい。それ（エンドレスサブストレート）が－例えば材料依存の高い静止摩擦又は静電荷の結果－処理ドラム２に対して特に強い接着効果を示す場合、加圧ロール２１はまた、エンドレスサブストレート３の特定の材料に応じて省略できる。

図２は、特にコンパクトでスペース節約な装置構造が実現できるという図１を超える利点を有する本発明の好ましい実施形態を示す。サブストレート案内ユニット４のこの非常にコンパクトな構造では、解きロール４１及び巻きロール４４は同じ装置の側で上下に設置され、それでエンドレスサブストレート３は、処理ドラム２に向かって走行する１つのサブストレートウェブ３１と処理ドラム２から戻って走行する１つのサブストレートウェブ３２を有し、その両方は殆ど平行に案内され、したがって処理ドラム２の特に大きな周囲面積がエンドレスサブストレート３と接触する。それは、エンドレスサブストレート３の大面積サポートと確実なスリップの無い駆動に寄与する。

既に図１に関して記載したように、エンドレスサブストレート３のための実際の搬送駆動部は、巻きロール４４に戻るサブストレートウェブ３２の持ち上げの直前の加圧ローラ２１によりスリップなくエンドレスサブストレート３を搬送する処理ドラム２により形成される。処理ドラム２に向かって前進するサブストレートウェブ３１と処理ドラム２から戻るサブストレートウェブ３２は、偏向ロール４２、浮動ロール４３、及び、レバー装置４５、圧力制御シリンダー４６及びコントローラユニット４７を有する浮動ロールガイドの完全に同じ空間的構造を有し得る。この例では、両方のサブストレート３１，３２は、それぞれの浮動ロール４３のたわみの外乱変数が歪みゲージ４７４により検知される制御ループ４７３を有する。解きロール４１及び巻きロール４４の回転速度の制御は、図１を参照して既に記載したのと同じ方法で実行される。

処理ドラム２の周囲に沿うエンドレスサブストレート３の大面積接触のために、標的マーク３３（図５，６，８及び９にのみ図示）を検知するため、登録ユニット１２は、処理ドラム２の軸平面Ａと平行な登録平面Ｒ（図５及び６にのみ表示）内に、放射線源１１によって線走査される処理ビームＬの反対側に配置され得、それで特に穿孔された標的マーク３３もまた、エンドレスサブストレート３の接触領域３６の初め３５の前でさえ処理ドラム２にて放射線源１１の反対側の位置からの裏面照明１２２の下で捕えられ得る。選択された照射パターンの調整が制御ユニット１３においてコンピュータにより補正され、放射線源１１の直接制御を介して線走査される処理ビームＬの走査線に沿って適合され得ることにより、この向かい合った平行な位置決めは、放射線源１１及び登録ユニット１２の簡単な調節と、照射パターンの整列のための「オンザフライ」の標的マーク検出を可能にする。

処理ドラム２は、一行ごとに照射される放射線源１１の処理パターンと非常に正確に同期されるように回転する（パネルタイプの直接露光装置における、例えばOrbotech, IL社の「Paragon」、「Xpress」又は「Nuvogo」製品群におけるテーブル送りの同期に相当する）。この例では、標的マーク３３は処理ドラム２の下面で検出され、「１８０°後」より多く生じる照射のために標的マーク３３の取得データを供給する。放射線処理のための標的マーク３３の登録のために、少なくとも２組の標的マーク３３（すなわち、４つのターゲット）が１８０°回転移動の前にエンドレスサブストレート３上で検出されなければならず、正確にエンドレスサブストレート３の関連する領域で２次元で放射線処理が実行される。この目的のために、複数のカメラ１２１が軸平面Ａと平行な登録平面Ｒ（図５及び６にのみ図示）内に配置される。当該カメラ１２１は登録平面Ｒを通って移動する標的マーク３３を同時に検出する。

エンドレスサブストレート３の搬送方向に沿う全処理長さは閉じられていない、すなわち完全なプリント回路基板パネル３８（図９にのみ図示）を包囲する処理ジョブは、任意に、標的マーク３３により定められる、エンドレスサブストレート３の多数の領域から成り得る。「プリント回路基板パネル」３８によって、構成部品の装着、技術的に必要なエッジ・余白、はんだ付け工程及び分離工程などに関して、特に具体的なプリント回路基板シリーズ（製造バッチ）用の全製造コストに関連して、統合された回路基板レイアウトとして実現される技術的に最適化された複合回路基板装置が意味される。

照射も同様に、先に得られた幾何学的登録データから推定することで、標的マーク３３によって予め決定された表面にわたって実行され得る。しかしながら、プリント回路基板パネル３８（図９にのみ図示）内でさらに存在する標的マークを部分的に捕捉し、図９に関連して以下でより詳細に説明するように、処理ビームＬのための冗長な、精度を高める位置割り当てのためにそれらを使用することも可能である。

図３は、装置の更なる有利な構成を示す。図３のサブフィギュアａ）は、図２と同じ空間的にコンパクトな構成を実質的に示しており、ｙ方向に別個に移動可能なキャリッジ２５が、関連する駆動部２２、加圧ローラ２１、（１又は複数の）偏向ロール４２、及び、登録ユニット１２及び放射線源１１の線走査される処理ビームＬのための調節手段２３及び２４のそれぞれを有する処理ドラム２を担持している。

カメラ１２１（図５及び６にのみ表示）及び処理ビームＬの装置較正のために（サービス中又はメンテナンス中の較正とは無関係）、処理ドラム２は、解きロール４１及び巻きロール４４の方向に平行に移動可能である。調節手段２３及び２４（計量スケールの形態のジグ）が機械的に結合しており、処理ドラム２の移動と同時に走査処理ビームＬの下又はカメラ１２１の上に到達する。処理ビームＬ（走査中）及びカメラ１２１（位置決め及び画像取得）の個別の度量衡釣り合わせが、調節手段２３又は２４のこれら計量スケールの援助により実行される。

図３のサブフィギュアｂ）は、キャリッジ２５の移動・変位の結果を示し、カメラ１２１のための調節手段２３及び処理ビームＬのための調節手段２４が処理ドラム２への入射の対向点の先の位置に達するまで、処理ドラム２が走査処理ビームＬの平面から移動するように、キャリッジは移動している。処理ドラム２、加圧ローラ２１並びに調節手段２３及び２４を有するキャリッジ２５の初期位置は、移動経路を示すために薄い破線で示されている。処理間のインターバルにおける処理ドラム２の移動位置では、処理ビームＬ及び登録ユニット１２の調節が調節手段２３及び２４により実施され、又はその調節が検査される。さらに、処理ドラム２はこの位置で、例えばメンテナンス目的のために、簡単な方法で交換可能である。

以下の機能が移動可能なキャリッジ２５によって実行され得る。
１） 図３のサブフィギュアａ）に関連して上述したように、標的マーク３３（図５，６及び８においてのみ図示）を登録するためのカメラ１２１の較正、
２） サブフィギュアａ）で小さいサブストレート厚さのために及びサブフィギュアｂ）で大きいサブストレート厚さのために図４に詳細に示されたエンドレスサブストレート３の様々な材料厚さに適応するために照射工程のための放射線源１１及び登録ユニット１２の焦点合わせ、及び
３） 図５及び６に関連してより正確に記載する、処理ドラム２の縁領域にある較正マーク２７１及び２７２によるエンドレスサブストレート３の搬送方向（ｘ方向）に対して交差方向の処理ビームＬの幾何学的ビーム偏向の較正。

図４に従う本発明の実施形態では、上述した項目２）に従う焦点調整のために、放射線源１１及び登録ユニット１２を有する装置を最小厚さの処理すべきエンドレスサブストレート３上に正確にフォーカスするため、処理ドラム２の機械的回転軸Ｄが装置の標準設定（サブフィギュアａ））で走査処理ビームＬにより定められる軸平面Ａ（図５及び６にのみ図示）内に正確に位置し、それにより、より厚い材料の使用時に、ドラムの上部での処理ビームＬのフォーカス線の間の距離が処理ドラム２のｙ移動により（数ミリメートルだけ）焦点変化Δｚ_１だけ増加され得、ドラムの下面での登録ユニット１２のカメラ１２１（図５及び６にのみ図示）のフォーカス点の距離が焦点変化－Δｚ_２だけ適合され得る。簡単な焦点調整がこのステップにより可能となり、特に、処理ドラム２の周面に対する処理ビームＬの垂直向きからの許容できない大きなずれに達することなく、数百μｍまでの厚さ、好ましくは２０μｍ～２００μｍの範囲、特に好ましくは３０μｍ～１２０μｍを有するエンドレスサブストレート３に適合できる。標的マーク３３（図５にのみ図示）を登録するための登録ユニット１２のカメラ１２１の焦点位置はまた、有利には処理ビームＬの焦点変化Δｚ_１と同時に変化する。登録ユニット１２のカメラ１２１の光軸によって定められる登録平面Ｒが、軸平面Ａと平行であり、回転軸Ｄの移動によってこの例では穿孔された標的マーク３３の裏面照明１２２のために設けられるエアギャップ３４が同じ大きさだけ減少するように整列されたときに、これはエンドレスサブストレート３の裏面照明１２２に対して同じ傾向であるが、異なる方向（焦点変化－Δｚ_２）で行われる。処理ドラム２の回転軸Ｄの同じ移動・変位はさらに、図４～６における実施形態において入射照明１２３（図５及び６では不図示）を用いた焦点合わせ（focusing）のために利用できる。

走査処理ビームＬの及び登録ユニット１２のカメラ１２１の動的較正の描写のために図５を参照する。動的較正はビーム処理の露光工程の間又はそれとは独立して行われ得る。

装置は、５２０ｍｍのエンドレスサブストレート３の最大ウェブ幅用に設計されている。それはプリント回路基板にとって、特にフレキシブルプリント回路（フレキシブルＰＣＢ－フレキシブルプリント回路基板）にとって一般的である。処理ドラム２は比較的幅広く、両方の外側縁領域２６にて周囲に、その上側表面にはめ込まれた、主較正マーク２７１及び光発色性コーティングを有するスチールバンド２７を担持する。主較正マーク２７１は、装置の通常操作の間、（カメラ座標系において）登録ユニット１２の移動可能なカメラ１２１、好ましくは２つの移動可能なカメラ１２１によって検出され得、制御ユニット１３での対応するデータ処理後及び少なくとも１８０°の処理ドラム２の回転後、主較正マーク２７１の上に（放射線源の座標系において）第二の一時的較正マーク２７２を作るために走査処理ビームＬにより露光を生成する。第二較正マーク２７２の一時的露光像がスチールバンド２７のコーティングのフォトクロミック効果によって形成され、それで理想的には、処理ドラム２の登録ユニット１２の位置への更なる回転後に、重なり合って位置し、既に述べたように同じカメラ１２１で撮影される２つのマークが検知され得る。較正マーク２７１，２７２は好ましくは、ドット－リングの組み合わせ又は（異なる径の）リング－リングの組み合わせとして構成され、それにより２つの計算された中心点２７３及び２７４の間のずれが、登録ユニット１２（カメラ１２１）の及び放射線源１１（この場合、レーザー１４）の走査処理ビームＬの実際の幾何学的ずれを与える。

処理ビームＬによる処理中に生じる、図５において放射線源１１として使用されるレーザー１４の（特に、別個に示されていないレーザー１４のスキャナーの）起こり得る位置決め間違いが、登録から処理までの実行している処理工程中に補正データを計算することで簡単に除去され得る。

さらに、放射線源１１の走査領域は処理ドラム２の全体より広く、それにより、横に、すなわち処理ドラム２の縁領域２６の外側に配置される２つの光検知器２８が現在利用可能な放射線エネルギーを測定できる。この測定は、放射線源１１として使用されるレーザーの出力を制御し又は較正するために使用される。

図５は、処理ドラム２の縁領域２６における、感光性コーティング、例えば光発色性コーティングを有するスチールバンド２７をそれぞれ示し、そこでは第二の一時的較正マーク２７２がレーザー１４の処理ビームＬによる露光を介して生成される。第二の一時的較正マーク２７２は概観において規則的な連続性で黒い円として描かれている。主較正マーク２７１（そのうちの１つだけが明るいリングとして拡大詳細図に示されている）は、スチールバンド２７自体に（例えば、機械的な、化学的な又は光学的な方法で又はその組み合わせにより）書き込まれている。第二較正マーク２７２は、円形線（又は他の中心対称幾何学形状）の露光によって作られる。それはまずスチールバンド２７の光発色性コーティングに潜像を作る。

較正マーク２７１及び２７２の使用時には、例えば明るい小さいリングがカメラ１２１の１つにより所定の主較正マーク２７１として検出される一方、露光される第二較正マーク２７２の色の変化に起因して、大きなリングが、例えば第二較正マーク２７２の先に実行された円形リング露光の一時的に可視の黒いリングとして出現する。このように一時的に可視である第二較正マーク２７２は数分後にひとりでに消え、それにより同じ個所が潜伏生成されるリングパターンの露光のために再度使用できる。カメラ照明は、主較正マーク２７１及び第二較正マーク２７２を検知するためにカメラ１２１に含まれている。それはカメラ１２１に常に固有に備えられているが、カメラ照明は図５及び６では示されていない、というのもそこでは穿孔された標的マーク３３（不図示）のための裏面照明１２２の際のカメラ位置決めのみが示されており、これのために入射照明１２３は必要でないからである。しかしながら、実際には、入射光登録のために図８の等価図面に正確に示されているように、入射照明１２３は処理ドラム２の縁領域２６を用いた処理ビームＬの較正のために設けられている。

図５の拡大された詳細イラストレーションに描かれている例では、リング形状の照射パターンとそれに関連するカメラ１２１の間のずれ（偏差）Δｘ、Δｙは極めて大きい。較正の目的は、たった数μｍの、好ましくは２０μｍ以下の、特に好ましくは１０μｍ以下のずれを許容することである。

図５における構成に固有の特徴は、登録ユニット１２のカメラ１２１が少なくとも動的較正のために（しかしそれに限定されない）ｘ方向に移動可能である点にある。較正のためには、それらカメラが処理ドラム２の縁領域２６に移動され、そこで較正マーク２７１及び２７２の度量衡学的に歪んでいない画像を撮影する。さらに、縁領域２６に衝突する（及び超えて出ていく）放射線源１１の放射エネルギーを測定する複数の光検知器２８が、処理ドラム２の回転軸Ｄと平行に配置されており、それらは処理ビームＬの入射方向において処理ドラム２のすぐ隣に整列され、それでそれらは処理ドラム２に入射する強度のための大きさを算出できる。

しかしながら、感光性コーティングを有する処理ドラム２の縁領域２６はまた、別な永続的に実行可能な較正方法を可能にする。この場合、主較正マーク２７１の永続的な導入が省略され、代わりに、露光される主較正マーク２７１が登録ユニット１２による予め決定無しにレーザー１４により生成される（放射線源座標系において創出される）。処理ドラム２の登録ユニット１２までの回転後、この予め設定された主較正マーク２７１がカメラ座標において検知され、計算された第二較正マーク２７２の露光用の位置が設定される。少なくとも１つの縁領域２６上の処理ビームＬによる一時的な第二較正マーク２７２の露光後、理想的には重なり合って露光される２つの較正マーク２７１及び２７２の撮影がそれから登録ユニット１２の（１又は複数の）カメラ１２１により実行される。較正マーク２７１及び２７２の算出された差はそれから、エンドレスサブストレート３上の照射パターンの位置を補正するために使用できる。

図６は、その間に位置する処理ドラム２を有するビーム処理装置１のための図５に従う動的較正の変更された実施形態を示す。処理ドラム２の構成は図５と変わっていない。しかしながら、この装置ではエンドレスサブストレート３は、長方形の回路箔にあるようにプリント回路基板パネル３８（図９においてのみ図示）の中央における幾何学的歪みを検出するために、前進するサブストレートウェブ３１の縁だけでなく、サブストレートウェブ３１の真ん中又は任意の中間位置に標的マーク３３を具備している。この例では、標的マーク３３は、プリント回路基板パネル３８を整列するために登録ユニット１２の３つのカメラ１２１によって配置１－２－１で撮影される。３より多いカメラ１２１が使用できる。さらに、２－４－２の標的マーク配置及び２－２－２の標的マーク配置もまたこのカメラ１２１の装置によって検知可能である。さらに、処理動作が実行されている間カメラ１２１を変位させずに登録ユニット１２による登録とレーザー１４による処理（例えば、露光）の間の正しい整列を調べ、必要に応じて回復させるために、固定して位置決めされる際の２つの外側のカメラ１２１はまた、処理ドラム２の縁領域２６におけるスチールバンド２７上の主較正マーク２７１及び第二較正マーク２７２を撮影することができる。さらに、図６に従う構成では、処理ドラム２の端部側にある光検知器２８によるレーザー１４の強度又は出力の検出が実行され、それにより縁領域２６に（及び越えて）衝突するレーザー１４の放射エネルギーを測定するため、光検知器２８のそれぞれが処理ドラム２の回転軸Ｄと平行に向けられ、ビーム偏向のために前に配置された偏向ミラー２８１をそれぞれ有する。

図７は、図２に従う前進する及び後退するサブストレート３１及び３２の低負荷の且つ歪みの少ない案内の構成が印刷された標的マーク３３の入射光登録のために変更されただけである本発明の更なる実施形態を示す。さらに、入射光登録はまた、印刷された標的マーク３３又は他の方法で上部に適用された標的マーク３３のために、裏面照明１２２を用いてここに記載した全ての残りの実施例に対して付加的に又は選択的に可能であるが、これは明示的に記述されず、示されていない。

図７に従う構造変形例では、処理ドラム２は別個のユニットとして再び交換可能又は移動可能であり、この目的のために、キャリッジ２５に固定された２つの偏向ロール４２及び図３に関して記載される放射線源１１及び登録ユニット１２のための調節手段２３及び２４を有する。この構成では、処理ビームＬ及び登録ユニット１２は、図８における斜視図から明瞭に分かるように、処理ドラム２の軸平面Ａに沿って正反対に配置されている。図３及び図４に関連して記載したキャリッジ２５の全ての残りの機能が保持される。

さらには、巻きロール４１及び解きロール４４は以下のように構成されている、つまり、それらが互いに独立して任意の回転方向に使用でき、それにより、解きロール４１からのエンドレスサブストレート３の照射側の、操作上の自由な選択、巻きロール４４に巻く際の内側又は外側としての処理される側の位置の、操作上の自由な選択が可能である。この可能性は図７に、解きロール４１での及び巻きロール４４でのエンドレスサブストレート３の前進するサブストレートウェブ３１の及び後退するサブストレートウェブ３２の実線及び破線によって示されている。

さらに、図７では、加圧ローラ２１が処理ドラム２から省略されている。ここに示される構造的詳細に基づくこのための２つの別個の理由がある。一方では、この場合の接触領域３６が初め３５から終わり３７まで３／２・πの弧をほぼ取り囲むように、エンドレスサブストレート３の極めて大きな接触領域３６が処理ドラムの周囲に設けられ得る。他方では、エンドレスサブストレート３の付加的な真空吸引が実行され得る、その目的のために真空装置９が、多孔質の又は流路を具備した、処理ドラム２の真空構造体２９に接続している。単に択一的でなく共に使用できるこれらのオプションの両方は、駆動される処理ドラム２上でのエンドレスサブストレート３の望まれないスリップを防ぐのに役立つ。

図８は、図７に関して既に記述したパターニング用のビーム処理のための平面と処理ドラム２の共通の軸平面Ａにおける標的マーク３３の登録のための平面の統合を示す。このための必要条件は、エンドレスサブストレート３の表面に導入され、入射照明１２３の下で容易に検出可能な標的マーク３３である。図８に概略的に示される入射照明１２３は通常はカメラ１２１に一体化されており、外側から見えない。同じ方法が、登録ユニット１２に対する放射線源１１（又はレーザー１４）の動的較正のための図５に関して記載される方法にも適用される。移動可能なカメラ１２１は、エンドレスサブストレート３の標的マーク３３及び処理ドラム２の較正マーク２７１及び２７２の位置プリセットに適応して配置されている固定設置されたカメラ１２１と交換され得る。

登録ユニット１２と処理ビームＬの座標系を較正する際、図８に従う実施形態に関して、ちょうど第二較正マーク２７２のように、主較正マーク２７１が処理ビームＬによる処理ドラム２の光発色性コーティングされた縁領域２６の少なくとも１つの露光によって一時的に生成されると想定される。この場合、（放射線源座標系における）位置特定なしに放射線源１１により露光される較正マーク２７１が主較正マーク２７１の永続的な導入に取って代わる。処理ドラム２の１８０°の回転後、例えば小さい黒いリングとして（図８の細部に示される）又は点、四角、正三角形又は他の点対称形状としてこのようにして予め設定される主較正マーク２７１が、登録ユニット１２のカメラ座標系で検出され、計算された第二較正マーク２７２の露光用の位置が予め設定される。主較正マーク２７１から形状及び／又は大きさのずれた第二較正マーク２７２が少なくとも１つの縁領域２６で処理ビームＬによって露光された後、理想的には重なり合って露光される２つの較正マーク２７１及び２７２が次に登録ユニット１２の（１又は複数の）カメラ１２１で撮影される。次に、較正マーク２７１及び２７２における算出された差は、エンドレスサブストレート３上の照射パターンの位置を補正するために再び利用できる。

図９は、特に様々なプリント回路基板パネル３８（エンドレスサブストレート３上の混合パネル）のための、エンドレスサブストレート３に導入すべき照射パターンの回路データの、エンドレスサブストレート３における起こり得る歪みへの改良された適用を示す。その際、複数の別個の回路又はプリント回路基板パネル３８が歪みなく露光される。エンドレスサブストレート３は増大した量の標的マーク３３を有するが、標的マーク３３は特定の回路又はプリント回路基板パネル３８の縁位置の構成部品ではなく、むしろ図９に概略的に示される様々なプリント回路基板パネル３８の混合パネルのプリント回路基板パネル３８の全てが、関連付けられた一組のＣＡＭデータ（英語：コンピュータ支援製造データ）に統合されている。したがって、増大した量の標的マーク３３は特定の位置を個々の回路又はプリント回路基板パネルに割り当てるための手段ではなく、むしろ標的マーク３３は混合パネルの関連付けられたＣＡＭデータセットの接近して隣接したストライプ形状の領域に対して固定されている。したがって、標的マーク３３は、登録ユニット１２と走査処理ビームＬの位置の間のエンドレスサブストレート３の定義された狭いセグメント「領域１」から「領域９」に割り当てられ得る。

フレキシブルなエンドレスサブストレート３の幾何学的歪みは一般に、徐々に連続的に変化する振る舞いを有し、それにより－それら歪みが十分正確に検出可能であるとき－それらは回路又はプリント回路基板パネル３８の露光中に補正により織り込まれ得る。

この目的のために、所望のプリント回路基板パネル３８のために「領域１」セグメントで露光されるべき照射パターンが、「領域１」セグメントに登録された標的マーク３３に基づいて算出されるだけでなく、「領域２」から「領域ｎ」セグメントの標的マーク３３がさらに考慮されるときに改良され得ることも考慮される、ここで「領域ｎ」は本実施例における「領域７」セグメントであってもよい。歪んだ標的マーク位置を修正するための加えられるセグメントの具体的な数ｎは、放射パターンの複雑さに依存するだけでなく、とりわけ標的マーク３３に関連するセグメントの大きさとプリント回路基板パネル３８を担持するセグメントの数に依存する。しかしながら、小さめの数、例えば「領域２」から「領域５」のセグメントが加えられるとき、標的マーク３３の検出された位置ずれを平均化することで精度はかなり増加される。したがって、１つのセグメントから隣に「柔軟に」移行するために、複数の隣接するプリント回路基板パネル３８のために全体的な局所的なパターニング精度を同時に改善することが可能であり、それゆえに照射パターンの補正の際にギャップ・ジャンプが防止され得る。

図１０は、圧力制御シリンダー４６のプッシュロッドのインクリメンタルな長さ変化として測定される移動変化に基づく制御ループ４７３を有する本発明の更なる実施形態を示す。エンドレスサブストレート３は、－図７に従って記載されたように－偏向ロール４２を介して解きロール４１から任意の態様で受容でき、次いでウェブエッジコントローラ６によって交差方向に整列され、それが移動可能なキャリッジ２５上に設置された処理ドラム２に供給される前にクリーナーユニット５を介して及び更なる偏向ロール４２の間で、「凍結された」浮動ロール４３によって所定の方法で張られる。エンドレスサブストレート３は接触領域３６の初め３５から終わり３７まで処理ドラム２と共に約２４０°の角度を形成するように、エンドレスサブストレート３は２つの偏向ロール４２を介してキャリッジ２５上を案内される。したがって、図７におけるように、加圧ローラ２１がこの場合省略できる。本発明のこの実施形態では、図示していないが、真空構造体２９を具備した処理ドラム２は、図７に示されるように真空ユニット９が処理ドラム２に接続したときにエンドレスサブストレート３の付加的な真空吸引を実行できる。

接触領域３６の初め３５の前の約１０°の処理ドラム２の軸平面では、登録ユニット１２は前進するサブストレートウェブ３１に適応され、それによりサブストレートウェブ３１と処理ドラム２の間のエアギャップ３４に衝突する裏面照明１２２の結果、穿孔された標的マーク３３（図５，６，８及び９にのみ図示）の登録が可能となる。拡大された接触領域３６のために、加圧ローラ２１はこの実施例では省略でき、処理ビームＬのために選択される軸平面Ａ（図５，６，８にのみ図示）が接触領域３６の終わり３７の前に短く配置されている。

図１１は、図１０から変更した本発明の実施形態を示しており、図１０におけるように、圧力制御シリンダー４６のプッシュロッドでの移動変化が解きロール４１及び巻きロール４４の駆動部７（図１２にのみ図示）のためのそれぞれの制御ループ４７３に適用される。エンドレスサブストレート３と処理ドラム２の間の接触領域３６は、２つの偏向ロール４２によって約２２５°の角度領域まで拡大される。図１０とは異なり、処理ビームＬによって定められる軸平面Ａと、登録ユニット１２の登録平面Ｒは、互いに平行に指向しており（図５及び６と同様の方法で）、登録のための裏面照明１２２が、前進するサブストレートウェブ３１と処理ドラム２の間のエアギャップ３４に再び設けられている。

独特な特徴として、（点－点－破線で包囲された）概略的に示されているキャリッジ２５は、登録ユニット１２と処理ビームＬの間で処理ドラム２にて加圧ローラ２１を有する。当該加圧ローラ２１はクリーナーロール５１に同時に接触する。したがって、ビーム処理のすぐ近くでエンドレスサブストレート３の表面を再び又は初めて清掃することができる。したがって、ウェブエッジコントローラ６と浮動ロール４３の間のクリーナーユニット５は場合により省略でき、ゆえに破線でのみ示されている。

さらに、図１１において設置された加圧ローラ２１は高分解能エンコーダー２１１を装備でき、それにより登録ユニット１２と処理ビームＬの間で実際に走行されるエンドレスサブストレート３の材料表面の長さが－エンドレスサブストレート３の様々な厚さに依存して－検出され得る。これは、例えば２つの露光パターンの間の任意の長さの処理ギャップの後で正確に定められるパターン連続又はパターン反復を保証するために、標的マーク３３（図５，６，８及び９にのみ図示）に依存しない正しいスケーリング測定が必要な場合に必要となる。

スケーリング測定はまた、（それぞれが高分解能エンコーダー２１１有する）１又は複数の測定ホイールによって、又は処理ドラム２での高さ測定により材料厚さを測定して、直径の変化を使用して搬送される材料長さを変換することによって実行され得る。この場合、距離センサー又は高さセンサーが材料厚さを測定するために使用される（例えば、Micro-Epsilon社、ドイツによる「optoNCDT 1320」シリーズのレーザー三角測量センサー）。

図１２は、図２に従う構造が鏡面配置されている機械ハウジング８における本発明の更なる構成を示す。複数の駆動部７及び複数の支持要素８１がブラックボックスとして及びオペレータ制御パネル８２として付加的に示されている。

図２～図７に概略的に示される本発明の構成部品の内部配置を示すためにのみ開かれて描かれた閉じた機械ハウジング８における本発明のこの構成は、比較可能なロールツーロール処理機械（例えば、冒頭で引用した特許文献１及び特許文献４）に対して著しく減少した設置面積を示す。

この機械ハウジング８におけるかなりのスペースの節約は、解きロール４１及び巻きロール４４を上下に配置することでもたらされる。したがって、機械ハウジング８の同じ側でエンドレスサブストレート３の材料ロールを変更することが可能であるだけでなく、前進するサブストレートウェブ３１及び後退するサブストレートウェブ３２の案内を殆ど平行に且つコンパクトなサブストレート案内ユニット４内で構造化することも可能である。それとは別に、本発明に従って懸架される浮動ロール４３もまたスペースの節約に寄与する、というのも、従来の場所をとる直線軸運動と比較してそれらの適切な機能のために、解きロール４１及び巻きロール４４の駆動部７の制御を始動するためには微小な小さなたわみだけが必要となるからである。ここに示される変形例では、図１のように、レバー装置４５及びコントローラユニット４７がインクリメンタル角度変換器４７１を基礎として示されている。しかし、外乱変数を得るために先の実施例に記載した全ての測定ユニットが代わりに使用できる。ここでもレーザースキャナーを装備した（図４，５及び８にのみ示される）レーザー１４と想定される放射線源１１が登録ユニット１２の正反対に配置されており、それでエンドレスサブストレート３と処理ドラム２の間の接触領域３６が処理ドラム２の表面上１８０°以上に拡張される。追加の加圧ローラ２１がエンドレスサブストレート３のスリップが無くて歪みの少ない案内をもたらし、場合によっては高分解能エンコーダー２１１を有し、エンコーダーにより処理ドラム２によって実際に搬送されるエンドレスサブストレート３のサブストレート表面の長さが、図１１に関連して記載されたように正確に算出され得る。

処理ドラム２の領域でエンドレスサブストレート３を少ない力で案内する本質的な改良、すなわち浮動ロール４３の軸の無視できるほど小さな「遊び」のためにサブストレートウェブ３１，３２のスリップや力変動や歪み無く処理ドラム２の周りにエンドレスサブストレート３を巻く及び解く際ピンと張られたサブストレートウェブ３１，３２に加えて、装置全体のスペース要件の相当な減少が本発明に従う装置によって実現され得る。

１ ビーム処理装置
１１ （線形状の）放射線源
１２ 登録ユニット
１２１ カメラ
１２２ 裏面照明
１２３ 入射照明
１３ 制御ユニット
１４ レーザー
２ 処理ドラム
２１ 加圧ローラ
２１１ 高分解能エンコーダー
２２ （処理ドラム２の）駆動部
２３，２４ （登録ユニット１２、処理ビームＬのための）調節手段
２５ キャリッジ
２６ 縁領域
２７ （光発色性コーティングを有する）スチールバンド
２７１ （主）較正マーク
２７２ （第二、一時的）較正マーク
２７３ （主較正マーク２７１の）中心点
２７４ （第二較正マーク２７２の）中心点
２８ 光検知器
２８１ 偏向ミラー
２９ （処理ドラム２の）真空構造体
３ エンドレスサブストレート
３１，３２ （エンドレスサブストレート３の）（前進する、後退する）サブストレートウェブ
３３ 標的マーク
３４ エアギャップ
３５ 接触領域３６の初め
３６ エンドレスサブストレート３の処理ドラム２との接触領域
３７ 接触領域３６の終わり
３８ 回路／プリント回路基板パネル
４ サブストレート案内ユニット
４１ 解きロール
４２ 偏向ロール
４３ 浮動ロール
４４ 巻きロール
４５ レバー装置
４５１ 回転軸
４５２ レバーアーム
４６ （圧力制御）シリンダー
４７ コントローラユニット
４７１ インクリメンタル角度変換器
４７２ 回転速度コントローラ
４７３ 制御ループ
４７４ 歪みゲージ
４７５ インクリメンタル位置検出器
４７６ ラインセンサー
５ クリーナーユニット
５１ クリーナーロール
６ ウェブエッジコントローラ
７ 駆動部
８ 機械ハウジング
８１ 支持要素
８２ オペレータ制御パネル
９ 真空ユニット
Ａ （処理ドラム２の）軸平面
Ｒ 登録平面
Ｄ （処理ドラム２の）回転軸
Ｌ （線走査される）処理ビーム
Δｘ、Δｙ （較正マーク２７１，２７２の）ずれ
Δｚ、－Δｚ （処理ビームＬの；登録ユニット１２の）焦点変化

Claims (22)

1. 巻かれたエンドレスサブストレート（３）に放射線によりパターンを導入する装置であって、前記エンドレスサブストレート（３）は処理ドラム（２）を介して解きロール（４１）から巻きロール（４４）に巻き取り可能に案内され、複数の標的マーク（３３）を光学的に記録するための登録ユニット（１２）と放射線パターンを照射するための放射線源（１１）が２つの異なる方向において前記処理ドラム（２）に向けられ、放射線パターンとエンドレスサブストレート（３）の間の整列を制御し及び前記放射線パターンを空間的に区別するための制御ユニット（１３）が設けられており、前記放射線パターンを、前記標的マーク（３３）に基づいて前記登録ユニット（１２）によって算出される前記エンドレスサブストレート（３）の位置ずれに電子的に適応させる手段が前記制御ユニット（１３）に設けられている装置において、
   －前記処理ドラム（２）の駆動部（２２）により搬送移動を前記処理ドラム（２）から定められた接触領域（３６）を介して前記エンドレスサブストレート（３）にスリップ無く伝達するために、前記処理ドラム（２）の周囲の少なくとも半分の定められた接触領域（３６）に沿って前記エンドレスサブストレート（３）を張って案内するためのそれぞれの浮動ロール（４３）が、前記処理ドラム（２）と前記解きロール（４１）の間と前記処理ドラム（２）と前記巻きロール（４４）の間に設置され、
   －それぞれの前記浮動ロール（４３）は、前記処理ドラム（２）にて前記接触領域（３６）に逆に作用する一定の力作用で前記エンドレスサブストレート（３）の前進するサブストレートウェブ（３１）及び後退するサブストレートウェブ（３２）を張って案内するように調整され、ここで定められた反作用力と前記浮動ロール（４３）への一定の力作用の間の平衡を調節するためのそれぞれの安定化装置（４５，４６）が設置され、それぞれの前記浮動ロール（４３）の位置の変化を検出するための測定ユニット（４７１；４７４；４７５；４７６）に連結しており、及び
   －前記解きロール（４１）と前記巻きロール（４４）は、前記測定ユニット（４７１；４７４；４７５；４７６）により検出される前記浮動ロール（４３）位置の変化に基づいてその回転速度を制御される、制御可能な駆動部（７）を有する、ことを特徴とする装置。
2. 前記安定化装置は、前記浮動ロール（４３）が回転運動を実行するために関節式に連結したレバー装置（４５）を有し、前記定められた反作用力と前記浮動ロール（４３）への前記一定の力作用の間の平衡を維持するために、当該レバー装置（４５）に関節式に連結した空気圧の又は油圧の圧力制御シリンダー（４６）を含み、ここで前記レバー装置（４５）は円弧に沿う前記浮動ロール（４３）のたわみを可能にする、ことを特徴とする請求項１に記載の装置。
3. 前記浮動ロール（４３）のたわみの変化を記録するための前記測定ユニットは、前記レバー装置（４５）の回転軸（４５１）における角度変化を測定するインクリメンタル角度変換器（４７１）として形成されている、ことを特徴とする請求項２に記載の装置。
4. 前記測定ユニットは、前記圧力制御シリンダー（４６）のプッシュロッドの長さの直線変化を測定するインクリメンタル位置検出器（４７５）として形成されている、ことを特徴とする請求項２に記載の装置。
5. 前記浮動ロール（４３）のたわみの変化を記録するための前記測定ユニットは、光学角度変換器として形成されており、それにより前記レバー装置（４５）のレバーアーム（４５２）における偏向ミラーを介してラインセンサー（４７６）に向けられる光ビームによって、前記レバー装置（４５）の角度変化が前記ラインセンサー（４７６）にて前記光ビームの位置変化として取得可能である、ことを特徴とする請求項２に記載の装置。
6. 前記測定ユニットは、前記レバー装置（４５）のレバーアーム（４５２）におけるたわみを測定する歪みゲージ（４７４）として形成されている、ことを特徴とする請求項２に記載の装置。
7. 前記安定化装置（４５，４６）は、前記解きロール（４１）の又は前記巻きロール（４４）の回転速度コントローラ（４７２）と前記測定ユニット（４７１；４７４；４７５；４７６）の間の制御ループ（４７３）を有するコントローラユニット（４７）に結合している、ことを特徴とする請求項１～５のいずれか一項に記載の装置。
8. 複数の偏向ロール（４２）が、サブストレート案内ユニット（４）において前記浮動ロール（４３）に隣接して設けられており、当該偏向ロール（４２）は、前記解きロール（４１）の又は前記巻きロール（４４）の解き方向又は巻き方向を任意に変更するために設けられている、ことを特徴とする請求項１～６のいずれか一項に記載の装置。
9. 複数の偏向ロール（４２）が、サブストレート案内ユニット（４）において前記浮動ロール（４３）に隣接して設けられており、当該偏向ロール（４２）は前記エンドレスサブストレート（３）を案内するために設けられており、それにより前記処理ドラム（２）に向かって前進する前記サブストレートウェブ（３１）と前記後退するサブストレートウェブ（３２）が空間的に上下に配置された解きロール（４１）及び巻きロール（４４）から及びこれらに案内される、ことを特徴とする請求項１～６のいずれか一項に記載の装置。
10. 線形状の処理ビーム（Ｌ）を有する前記放射線源（１１）とストリップ形状の走査領域を有する前記登録ユニット（１２）が、前記処理ドラム（２）の回転軸（Ｄ）と平行になるようにビーム処理装置（１）内に配置され、異なる軸平面において前記処理ドラム（２）の母線にそれぞれ向けられている、ことを特徴とする請求項１に記載の装置。
11. 線形状の処理ビーム（Ｌ）を有する前記放射線源（１１）とストリップ形状の走査領域を有する前記登録ユニット（１２）が、前記処理ドラム（２）の回転軸（Ｄ）と平行になるようにビーム処理装置（１）内に配置され、同一の軸平面（Ａ）において前記処理ドラム（２）の正反対に位置する側に向けられている、ことを特徴とする請求項１に記載の装置。
12. ビーム処理装置（１）において、前記放射線源（１１）が線形状の処理ビーム（Ｌ）を有し、前記処理ビーム（Ｌ）は前記処理ドラム（２）の回転軸（Ｄ）と平行であって前記処理ドラム（２）の軸平面（Ａ）内に向けられており、ストリップ形状の走査領域を有する前記登録ユニット（１２）が、前記軸平面（Ａ）と平行な登録平面（Ｒ）内で前記処理ドラム（２）を介して前記放射線源（１１）の反対側に位置しており、ここで前記登録平面（Ｒ）が前記前進するサブストレートウェブ（３１）の前記処理ドラム（２）との前記接触領域（３６）の初め（３５）から離れた手前に位置しており、そのため裏面照明（１２２）を照射するためのエアギャップ（３４）が存在する、ことを特徴とする請求項１に記載の装置。
13. 前記処理ドラム（２）が移動可能なキャリッジ（２５）上に取り付けられており、それで前記放射線源（１１）の前記処理ビーム（Ｌ）と前記登録ユニット（１２）の前記ストリップ形状の走査領域が、当該キャリッジ（２５）の移動によって前記処理ドラム（２）の母線の接線方向に移動可能であり、それにより前記処理ビーム（Ｌ）の及び前記登録ユニット（１２）の焦点合わせが前記処理ドラム（２）上に位置する前記エンドレスサブストレート（３）に対して調節可能である、ことを特徴とする請求項１１～１２のいずれか一項に記載の装置。
14. 前記処理ドラム（２）が移動可能なキャリッジ（２５）上に取り付けられており、それにより前記登録平面（Ｒ）及び前記軸平面（Ａ）における前記処理ドラム（２）に代えて、前記キャリッジ（２５）上に付加的に取り付けられる調節手段（２３；２４）を、前記放射線源（１１）の軸平面（Ａ）及び前記登録ユニット（１２）の登録平面（Ｒ）内に位置させる、ことを特徴とする請求項１２に記載の装置。
15. 前記処理ドラム（２）は複数の主較正マーク（２７１）及び複数の第二較正マーク（２７２）を両方の縁領域（２６）に有し、これらのうち少なくとも前記第二較正マーク（２７２）は処理ビーム（Ｌ）によって一時的に生成可能であり、前記登録ユニット（１２）と前記放射線源（１１）の座標系の間の空間的関係の較正のために供される、ことを特徴とする請求項１～１４のいずれか一項に記載の装置。
16. 前記主較正マーク（２７１）及び前記第二較正マーク（２７２）を生成するために、前記処理ドラム（２）の前記縁領域（２６）は、適切な波長範囲の前記処理ビーム（Ｌ）に反応する光発色性コーティングを具備している、ことを特徴とする請求項１５に記載の装置。
17. 前記処理ドラム（２）は、永続的に取り込まれる前記主較正マーク（２７１）を導入するために前記縁領域（２６）においてスチールバンド（２７）で覆われており、前記スチールバンド（２７）は、前記第二較正マーク（２７２）を生成するために、適切な波長範囲の前記処理ビーム（Ｌ）に反応する光発色性コーティングを有する、ことを特徴とする請求項１５に記載の装置。
18. －前記放射線源（１１）が線走査されるレーザー（１４）として形成され、前記処理ビーム（Ｌ）が前記処理ドラム（２）の縁領域（２６）上を走査可能であり、
    －前記登録ユニット（１２）は、前記エンドレスサブストレート（３）の複数の標的マーク（３３）と、前記処理ドラム（２）の前記縁領域（２６）における複数の主較正マーク（２７１）及び複数の第二較正マーク（２７２）を撮影するための少なくとも２つのカメラ（１２１）を有し、及び
    －前記処理ビーム（Ｌ）の繰り返しの強度測定を行うために、少なくとも１つの光検知器（２８）が前記処理ドラム（２）に隣接して軸方向に配置されている、ことを特徴とする請求項１１～１７のいずれか一項に記載の装置。
19. 全ての光検知器（２８）が前記処理ドラム（２）の回転軸（Ｄ）と平行に整列され、前記処理ドラム（２）に隣接して半径方向に入射する前記処理ビーム（Ｌ）の光を反射するための偏向ミラー（２８１）がそれぞれ、処理ドラム（２）と光検知器（２８）の間に位置決めされ、それで半径方向に入射する前記処理ビーム（Ｌ）の光がそれぞれの前記光検知器（２８）の方向に偏向される、ことを特徴とする請求項１８に記載の装置。
20. 前記エンドレスサブストレート（３）を押圧するための加圧ローラ（２１）が前記処理ドラム（２）に取り付けられている、ことを特徴とする請求項１１～１９のいずれか一項に記載の装置。
21. 加圧ローラ（２１）が、前記処理ビーム（Ｌ）の軸平面の前の領域において前記処理ドラム（２）に取り付けられ、当該加圧ローラ（２１）は、ビーム処理の前に前記エンドレスサブストレート（３）を清掃するためにクリーナーロール（５１）に同時に接触している、ことを特徴とする請求項１１～１９のいずれか一項に記載の装置。
22. 加圧ローラ（２１）が前記処理ドラム（２）に取り付けられ、当該加圧ローラ（２１）は、同時に、前記登録ユニット（１２）と前記処理ビーム（Ｌ）の間で実際に搬送された前記エンドレスサブストレート（３）のサブストレート表面の長さを測定するためにエンコーダー（２１１）を装備している、ことを特徴とする請求項１１～１９のいずれか一項に記載の装置。

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