JP7288247B2 - インプリント用レプリカモールド及びその作製方法 - Google Patents
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Description
本明細書において“厚膜”とは、0.01mm以上の厚さで、最大厚さ2.0mmの膜を表す。
A層:下記(a1)成分及び(a2)成分を含む組成物の硬化物から成る構造体
(a1)成分:ラジカル重合性基を1分子中に少なくとも1つ有する化合物
(a2)成分:前記(a1)成分100質量%に対し、0.01質量%乃至0.3質量%の光ラジカル重合開始剤
B層:下記(b1)成分及び(b2)成分を含む組成物の硬化物から成る膜
(b1)成分:フッ素原子を含む線状又は鎖状の分子鎖からなる化合物であって該分子鎖の末端にラジカル重合性基を有する化合物
(b2)成分:前記(b1)成分100質量%に対し、0.05質量%乃至15質量%の光ラジカル重合開始剤
(式中、R1は炭素原子数1又は2のパーフルオロアルキレン基を表し、R2aは炭素原子数2又は3のアルキレン基を表し、R2bは炭素原子数2又は3の3価の炭化水素基を表し、*はそれぞれ前記ウレタン結合の-O-基と結合する結合手を表し、p及びqはそれぞれ前記式(1)で表される基の繰り返し数及び前記式(2a)で表される基の繰り返し数を表すと共に独立して2以上の整数を表し、R3はメチル基又は水素原子を表す。)
(式中、R4及びR5はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、R6及びR7はそれぞれ独立に炭素原子数1乃至4のアルキレン基を表し、R8及びR9はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、r1及びr2はそれぞれ独立に1乃至5の整数を表す。)
(a1)成分:ラジカル重合性基を1分子中に少なくとも1つ有する化合物
(a2)成分:前記(a1)成分100質量%に対し、0.1質量%乃至1質量%の光ラジカル重合開始剤
(b1)成分:フッ素原子を含む線状又は鎖状の分子鎖からなる化合物であって該分子鎖の末端にラジカル重合性基を有する化合物
(b2)成分:前記(b1)成分100質量%に対し、0.05質量%乃至15質量%の光ラジカル重合開始剤
(b3)成分:溶媒
を通して下記(a1)成分及び(a2)成分を含む組成物を露光し、該組成物を光硬化する工程、前記光硬化する工程の後、前記基材上に得られた硬化物を前記マスターモールドから離型しA層を形成する工程、前記A層上に下記(b1)成分乃至(b3)成分を含む組成物を塗布する工程、及び下記(b1)成分乃至(b3)成分を含む組成物を40℃乃至200℃でベークし、その後露光して前記A層に接着したB層を形成する工程、を含むインプリント用レプリカモールドの作製方法である。
(a1)成分:ラジカル重合性基を1分子中に少なくとも1つ有する化合物
(a2)成分:前記(a1)成分100質量%に対し、0.1質量%乃至1質量%の光ラジカル重合開始剤
(b1)成分:フッ素原子を含む線状又は鎖状の分子鎖からなる化合物であって該分子鎖の末端にラジカル重合性基を有する化合物
(b2)成分:前記(b1)成分100質量%に対し、0.05質量%乃至15質量%の光ラジカル重合開始剤
(b3)成分:溶媒
(a1)成分は、ラジカル重合性基を1分子中に少なくとも1つ有する化合物である。該ラジカル重合性基として、例えば(メタ)アクリロイルオキシ基が挙げられる。本発明において(メタ)アクリロイルオキシ基は、アクリロイルオキシ基とメタクリロイルオキシ基の双方を意味する。また、(メタ)アクリレートは、アクリレートとメタクリレートの双方を意味する。
(a2)成分の光ラジカル重合開始剤は、本発明のインプリント用レプリカモールドのA層を形成するための組成物の光硬化時に使用する光源に吸収をもつものであれば、特に限定されるものではない。該(a2)成分の光ラジカル重合開始剤として、例えば、tert-ブチルペルオキシ-iso-ブチレート、2,5-ジメチル-2,5-ビス(ベンゾイルジオキシ)ヘキサン、1,4-ビス[α-(tert-ブチルジオキシ)-iso-プロポキシ]ベンゼン、ジ-tert-ブチルペルオキシド、2,5-ジメチル-2,5-ビス(tert-ブチルジオキシ)ヘキセンヒドロペルオキシド、α-(iso-プロピルフェニル)-iso-プロピルヒドロペルオキシド、tert-ブチルヒドロペルオキシド、1,1-ビス(tert-ブチルジオキシ)-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン、ブチル-4,4-ビス(tert-ブチルジオキシ)バレレート、シクロヘキサノンペルオキシド、2,2’,5,5’-テトラ(tert-ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’-テトラ(tert-ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’-テトラ(tert-アミルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’-テトラ(tert-ヘキシルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’-ビス(tert-ブチルペルオキシカルボニル)-4,4’-ジカルボキシベンゾフェノン、tert-ブチルペルオキシベンゾエート、ジ-tert-ブチルジペルオキシイソフタレート等の有機過酸化物;9,10-アントラキノン、1-クロロアントラキノン、2-クロロアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,2-ベンズアントラキノン等のキノン類;ベンゾインメチル、ベンゾインエチルエーテル、α-メチルベンゾイン、α-フェニルベンゾイン等のベンゾイン誘導体;2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-[4-(2-ヒドロキシエトキシ)-フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン、2-ヒドロキシ-1-[4-{4-(2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオニル)ベンジル}-フェニル]-2-メチルプロパン-1-オン、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルホリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノフェニル)-1-ブタノン、2-ジメチルアミノ-2-(4-メチル-ベンジル)-1-(4-モルホリン-4-イル-フェニル)-ブタン-1-オン等のアルキルフェノン系化合物;ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-フェニルホスフィンオキサイド、2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-ホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド系化合物;2-(O-ベンゾイルオキシム)-1-[4-(フェニルチオ)フェニル]-1,2-オクタンジオン、1-(O-アセチルオキシム)-1-[9-エチル-6-(2-メチルベンゾイル)-9H-カルバゾール-3-イル]エタノン等のオキシムエステル系化合物が挙げられる。
(b1)成分は、フッ素原子を含む線状又は鎖状の分子鎖の末端にラジカル重合性基を有する化合物である。該ラジカル重合性基として、例えば(メタ)アクリロイルオキシ基が挙げられる。
(b2)成分の光ラジカル重合開始剤は、本発明のインプリント用レプリカモールドのB層を形成するための組成物の光硬化時に使用する光源に吸収をもつものであれば、特に限定されるものではない。該(b2)成分として、前記(a2)成分と同様の光ラジカル重合開始剤が挙げられる。前記(b2)成分は1種単独で用いてもよく、又は2種以上を混合して用いてもよい。該(b2)成分の光ラジカル重合開始剤の含有割合は、前記(b1)成分100質量%に対し0.05質量%乃至15質量%である。
(b3)成分である溶媒は、前記(b1)成分及び(b2)成分の粘度調節の役割を果たし、該(b1)成分及び(b2)成分の粘度を調節することができるものであれば、特に限定されるものではない。該(b3)成分は、前記B層を形成する工程で除去される。
本発明のインプリント用レプリカモールドのA層を形成するための組成物は、必要に応じて溶媒を含有することができる。また、前記A層を形成するための組成物及び前記B層を形成するための組成物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて界面活性剤、連鎖移動剤、及び光増感剤を含有することができる。
本発明のインプリント用レプリカモールドのA層を形成するための組成物及びB層を形成するための組成物の調製方法は、特に限定されない。前記A層を形成するための組成物の場合、例えば前記(a1)成分、前記(a2)成分、及び必要に応じてその他添加剤を混合し、組成物が均一な状態となっていればよい。また、前記B層を形成するための組成物の場合、例えば(b1)成分、(b2)成分、(b3)成分、及び必要に応じてその他添加剤を混合し、組成物が均一な状態となっていればよい。そして、前記A層を形成するための組成物及び前記B層を形成するための組成物の各成分を混合する順序は、均一な組成物が得られるなら問題なく、特に限定されない。
装置:(株)島津製作所製 GPCシステム
GPCカラム:Shodex(登録商標)GPC KF-804L及びGPC KF-803L
カラム温度:40℃
溶媒:テトラヒドロフラン
流量:1mL/分
標準試料:ポリスチレン
PFPE1:ポリ(オキシエチレン)基(繰り返し単位の数8乃至9)を介して両末端にヒドロキシ基を有するパーフルオロポリエーテル[ソルベイスペシャルティポリマーズ社製 Fluorolink(登録商標)5147X]
PFPE2:両末端それぞれに、前記式(2b)で表される基を介してヒドロキシ基を2つずつ有するパーフルオロポリエーテル[ソルベイスペシャルティポリマーズ社製 Fomblin(登録商標)T4]
BEI:1,1-ビス(アクリロイルオキシメチル)エチルイソシアネート[昭和電工(株)製 カレンズ(登録商標)BEI]
DBTDL:ジラウリン酸ジブチル錫[東京化成工業(株)製]
DOTDD:ジオクチル錫ジネオデカノエート[日東化成(株)製 ネオスタン(登録商標)U-830]
AIBN:アゾビスイソブチロニトリル
MEK:メチルエチルケトン
MIBK:メチルイソブチルケトン
PGME:プロピレングリコールモノメチルエーテル
PGMEA:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
2Lの四つ口フラスコにPGMEAを178.84g入れ、窒素雰囲気下、内温80℃で攪拌した。ここに、メタクリル酸メチル(東京化成工業(株)製)120g、イソボルニルアクリレート(東京化成工業(株)製)249.66g、AIBN(関東化学(株)製)5.904g、及びPGMEA697.48gを混合させた溶液を2時間かけて滴下し、滴下後17時間反応させた。反応溶液をメタノール(純正化学(株)製)6.3kgに滴下し、析出したポリマーを133.3Paの減圧下、80℃で乾燥し、非架橋性の共重合体MI55を330.4g得た。GPCにて、得られたMI55の重量平均分子量を測定したところ、標準ポリスチレン換算で20,100であった。
ナスフラスコに、PFPE1 10.5g(5mmol)、BEI 2.39g(10.0mmol)、DBTDL 0.129g及びMEK 12.9gを仕込んだ。上記ナスフラスコ内の混合物を、スターラーチップを用いて室温(およそ23℃)で24時間撹拌し、反応物を得た。この反応物へPGMEAを30.37g加え、エバポレーターにてMEKを留去し、(b1)成分である、SM1を含むPGMEA溶液を固形分30質量%で得た。得られたSM1のGPCによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Mwは3,400、分散度:Mw(重量平均分子量)/Mn(数平均分子量)は1.1であった。
ナスフラスコに、PFPE1 10.5g(5mmol)、BEI 2.39g(10.0mmol)、DOTDD 0.0644g及びPGMEA12.9gを仕込んだ。上記ナスフラスコ内の混合物を、スターラーチップを用いて室温(およそ23℃)で48時間撹拌し、反応物を得た。この反応物へPGMEAを38.9g加え、(b1)成分であるSM2を含むPGMEA溶液を固形分20質量%で得た。得られたSM2のGPCによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Mwは3,410、分散度:Mw(重量平均分子量)/Mn(数平均分子量)は1.1であった。
ナスフラスコに、PFPE2 11.45g(5mmol)、BEI 4.79g(20.0mmol)、DOTDD 0.162g及びMEK 16.24gを仕込んだ。上記ナスフラスコ内の混合物を、窒素雰囲気下にてスターラーチップを用いて室温(およそ23℃)で72時間撹拌し、反応物を得た。この反応物へPGMEAを64.96g加え、エバポレーターにてMEKを留去し、(b1)成分であるSM3を含むPGMEA溶液を固形分20質量%で得た。得られたSM3のGPCによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Mwは2,750、分散度:Mw(重量平均分子量)/Mn(数平均分子量)は1.1であった。
ナスフラスコに、PFPE2 11.45g(5mmol)、BEI 4.79g(20.0mmol)、DOTDD 0.162g及びPGMEA 16.24gを仕込んだ。上記ナスフラスコ内の混合物を、窒素雰囲気下にてスターラーチップを用いて室温(およそ23℃)で72時間撹拌し、反応物を得た。この反応物へPGMEAを48.72g加え、(b1)成分であるSM4を含むPGMEA溶液を固形分20質量%で得た。得られたSM4のGPCによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Mwは2,760、分散度:Mw(重量平均分子量)/Mn(数平均分子量)は1.1であった。
<調製例1>
ニューフロンティア(登録商標)HBPE-4(第一工業製薬(株)製)(以下、本明細書では「HBPE-4」と略称する。)7g、KAYARAD(登録商標)PET-30(日本化薬(株)製)(以下、本明細書では「PET-30」と略称する。)を3g、及びIRGACURE(登録商標)184(BASFジャパン(株)製)(以下、本明細書では「IRGACURE 184」と略称する。)を0.01g(HBPE-4、PET-30の総質量に対して0.1質量%)加え、組成物A1を調製した。
HBPE-4を9g、合成例1で得たMI55を1g、及びIRGACURE 184を0.01g(HBPE-4、MI55の総質量に対して0.1質量%)加え、組成物A2を調製した。
HBPE-4を9.5g、合成例1で得たMI55を0.5g、及びIRGACURE 184を0.01g(HBPE-4、MI55の総質量に対して0.1質量%)加え、組成物A3を調製した。
HBPE-4を9.75g、合成例1で得たMI55を0.25g、及びIRGACURE 184を0.01g(HBPE-4、MI55の総質量に対して0.1質量%)加え、組成物A4を調製した。
HBPE-4を5g、NKエステル A-DOG(以下、本明細書では「A-DOG」と略称する。)(新中村化学工業(株)製)を5g、及びIRGACURE 184を0.01g(HBPE-4、A-DOG総質量に対して0.1質量%)加え、組成物A5を調製した。
PET-30を7g、NKエステル A-200(新中村化学工業(株)製)を1.5g、A-DOGを1.5g、及びIRGACURE 184を0.01g(PET-30、A-200、A-DOG総質量に対して0.1質量%)加え、組成物A6を調製した。
HBPE-4を5g、NKエステル A-DCP(以下、本明細書では「A-DCP」と略称する。)(新中村化学工業(株)製)を5g、及びIRGACURE 184を0.01g(HBPE-4、A-DCP総質量に対して0.1質量%)加え、組成物A7を調製した。
A-DCPを5g、1-ADMA(大阪有機化学工業(株)製)を5g、及びIRGACURE 184を0.01g(A-DCP、1-ADMA総質量に対して0.1質量%)加え、組成物A8を調製した。
A-DCPを5g、1-ADMA(大阪有機化学工業(株)製)を5g、及びIRGACURE 184を0.5g(A-DCP、1-ADMA総質量に対して5質量%)加え、組成物A9を調製した。
<調製例10>
LINC-5A(共栄社化学(株)製)を0.285g、2,2,2-トリフルオロエチルアクリレート(ダイキン工業(株)製)を0.015g、IRGACURE(登録商標)819(BASFジャパン(株)製、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-フェニルホスフィンオキサイド)(以下、本明細書では「IRGACURE 819」と略称する。)を0.006g、及びPGMEAを8.44g混合し、組成物(離型剤)B1を調製した。
LINC-162A(共栄社化学(株)製)を0.3g、IRGACURE 819を0.006g、及びPGMEAを8.44g混合し、組成物(離型剤)B2を調製した。
LINC-102A(共栄社化学(株)製)を0.3g、IRGACURE 819を0.006g、及びPGMEAを8.44g混合し、組成物(離型剤)B3を調製した。
LINC-5A(共栄社化学(株)製)を0.3g、IRGACURE 819を0.006g、及びPGMEAを8.44g混合し、組成物(離型剤)B4を調製した。
DAC-HP(ダイキン工業(株)製)を1.0g、IRGACURE 819を0.004g、及びPGMEAを4.82g混合し、組成物(離型剤)B5を調製した。
合成例2で得られたSM1を含むPGMEA溶液1.00g、IRGACURE(登録商標)127(BASFジャパン(株)製、2-ヒドロキシ-1-[4-{4-(2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオニル)ベンジル}-フェニル]-2-メチルプロパン-1-オン)を0.0060g、及び(C)成分としてPGMEAを7.67g混合し、組成物(離型剤)B6を調製した。
合成例3で得られたSM2を含むPGMEA溶液1.00g、IRGACURE 819を0.0040g、KAYACURE(登録商標)DETX-S(日本化薬(株)製)(以下、本明細書では「DETX-S」と略称する。)を0.0002g及びPGMEAを4.80g混合し、組成物(離型剤)B7を調製した。
合成例4で得られたSM3を含むPGMEA溶液1.00g、IRGACURE 819を0.0040g、DETX-Sを0.0002g及びPGMEAを4.83g混合し、組成物(離型剤)B8を調製した。
合成例5で得られたSM4を含むPGMEA溶液1.00g、IRGACURE 819を0.0040g、DETX-Sを0.0002g及びPGMEAを4.83g混合し、組成物(離型剤)B9を調製した。
<実施例1>
調製例1で得られた組成物A1を、予めNOVEC(登録商標)1720(スリーエムジャパン(株)製)(以下、本明細書では「NOVEC1720」と略称する。)を用いて離型処理したニッケル製モールド(2mm径×300μm深さの凹レンズ型を縦3列×横5列の15個配置)へポッティングし、その上に石英ガラス基板を被せ、ナノインプリント装置NM-0801HB(明昌機工(株)製)を用いて光インプリントを行った。光インプリントは、常時23℃の条件で、a)10秒間かけて500Nまで加圧、b)高圧水銀ランプを用いて5000mJ/cm2の露光、c)10秒間かけて除圧、d)ニッケル製モールドと石英ガラス基板を分離して離型、というシーケンスで行い、該石英ガラス基板上に2mm径×300μm高さの凸レンズパターンを得た。その石英ガラス基板上に得られた凸レンズパターンを150℃のホットプレートで5分間加熱し、A層を形成した。使用した前記石英ガラス基板は、予めKBM-5103(信越化学工業(株)製)をスピンコートし、150℃のホットプレートで5分間加熱することにより、密着処理を行ったものである。得られたA層上へ調製例10で得られた組成物(離型剤)B1をスピンコーターで製膜し、ホットプレートを用いて80℃で5分間ベークした。その後、窒素雰囲気下にてバッチ式UV照射装置(高圧水銀灯2kW×1灯)(アイグラフィックス(株)製)を用いて、i線透過フィルターを通し、40mW/cm2で125秒間UV露光し、A前記層上へB層を形成し、インプリント用レプリカモールドRM-1を作製した。
調製例10で得られた組成物(離型剤)B1を調製例11で得られた組成物(離型剤)B2へ変更した以外は、実施例1と同様の方法でインプリント用レプリカモールドRM-2を作製した。
調製例10で得られた組成物(離型剤)B1を調製例12で得られた組成物(離型剤)B3へ変更した以外は、実施例1と同様の方法でインプリント用レプリカモールドRM-3を作製した。
調製例10で得られた組成物(離型剤)B1を調製例13で得られた組成物(離型剤)B4へ変更した以外は、実施例1と同様の方法でインプリント用レプリカモールドRM-4を作製した。
調製例10で得られた組成物(離型剤)B1を調製例14で得られた組成物(離型剤)B5へ変更した以外は、実施例1と同様の方法でインプリント用レプリカモールドRM-5を作製した。
調製例10で得られた組成物(離型剤)B1を調製例16で得られた組成物(離型剤)B7へ変更した以外は、実施例1と同様の方法でインプリント用レプリカモールドRM-6を作製した。
調製例1で得られた組成物A1を調製例2で得られた組成物A2へ変更し、調製例10で得られた組成物(離型剤)B1を調製例16で得られた組成物(離型剤)B7へ変更した以外は、実施例1と同様の方法でインプリント用レプリカモールドRM-7を作製した。
調製例1で得られた組成物A1を調製例3で得られた組成物A3へ変更し、調製例10で得られた組成物(離型剤)B1を調製例16で得られた組成物(離型剤)B7へ変更した以外は、実施例1と同様の方法でインプリント用レプリカモールドRM-8を作製した。
調製例1で得られた組成物A1を調製例4で得られた組成物A4へ変更し、調製例10で得られた組成物(離型剤)B1を調製例15で得られた組成物(離型剤)B6へ変更した以外は、実施例1と同様の方法でインプリント用レプリカモールドRM-9を作製した。
調製例1で得られた組成物A1を調製例4で得られた組成物A4へ変更し、調製例10で得られた組成物(離型剤)B1を調製例16で得られた組成物(離型剤)B7へ変更した以外は、実施例1と同様の方法でインプリント用レプリカモールドRM-10を作製した。
調製例1で得られた組成物A1を調製例4で得られた組成物A4へ変更し、調製例10で得られた組成物(離型剤)B1を調製例17で得られた組成物(離型剤)B8へ変更した以外は、実施例1と同様の方法でインプリント用レプリカモールドRM-11を作製した。
調製例1で得られた組成物A1を調製例4で得られた組成物A4へ変更し、調製例10で得られた組成物(離型剤)B1を調製例18で得られた組成物(離型剤)B9へ変更した以外は、実施例1と同様の方法でインプリント用レプリカモールドRM-12を作製した。
調製例1で得られた組成物A1を調製例5で得られた組成物A5へ変更し、調製例10で得られた組成物(離型剤)B1を調製例16で得られた組成物(離型剤)B7へ変更した以外は、実施例1と同様の方法でインプリント用レプリカモールドRM-13を作製した。
調製例1で得られた組成物A1を調製例6で得られた組成物A6へ変更し、調製例10で得られた組成物(離型剤)B1を調製例16で得られた組成物(離型剤)B7へ変更した以外は、実施例1と同様の方法でインプリント用レプリカモールドRM-14を作製した。
調製例1で得られた組成物A1を調製例7で得られた組成物A7へ変更し、調製例10で得られた組成物(離型剤)B1を調製例16で得られた組成物(離型剤)B7へ変更した以外は、実施例1と同様の方法でインプリント用レプリカモールドRM-15を作製した。
調製例1で得られた組成物A1を調製例8で得られた組成物A8へ変更し、調製例10で得られた組成物(離型剤)B1を調製例16で得られた組成物(離型剤)B7へ変更した以外は、実施例1と同様の方法でインプリント用レプリカモールドRM-16を作製した。
調製例1で得られた組成物A1を調製例8で得られた組成物A8へ変更した以外は、実施例1と同様の方法でA層を形成した。得られたA層上へNOVEC1720をスピンコートし、150℃のホットプレートで5分間加熱することにより、インプリント用レプリカモールドRM-19を作製した。
調製例1で得られた組成物A1を調製例8で得られた組成物A8へ変更した以外は、実施例1と同様の方法でA層を形成した。得られたA層上へPFPE1をスピンコートし、150℃のホットプレートで5分間加熱することにより、インプリント用レプリカモールドRM-20を作製した。
調製例1で得られた組成物A1を調製例9で得られた組成物A9へ変更し、調製例10で得られた組成物(離型剤)B1を調製例11で得られた組成物(離型剤)B2へ変更した以外は、実施例1と同様の方法でインプリント用レプリカモールドRM-21を作製した。
NKエステル A-DOG(新中村化学工業(株)製)を5g及びラジカル重合性基含有ポリカーボネートETERNACOLL(登録商標)UM-90(1/3)DA(宇部興産(株)製)5gを混合し、その混合物にIRGACURE184を0.2g加え、インプリント材料を調製した。
調製したインプリント材料を、実施例1に記載した方法で密着処理した石英ガラス基板上へポッティングし、その上に実施例1乃至実施例16及び比較例1乃至比較例3で得られた各インプリント用レプリカモールドを被せ、ナノインプリント装置NM-0801HB(明昌機工(株)製)を用いて光インプリントを行った。光インプリントは、常時23℃の条件で、a)10秒間かけて500Nまで加圧、b)高圧水銀ランプを用いて5000mJ/cm2の露光、c)10秒間かけて除圧、d)レプリカモールドと石英ガラス基板を分離して離型、というシーケンスで行い、該石英ガラス基板上に凹レンズパターンを得た。工業用顕微鏡 ECLIPSE L150((株)ニコン製)を用いて、得られた凹レンズパターンの剥がれ・割れの有無を観察した。その結果を表1及び表2に示す。
実施例1乃至実施例16及び比較例1乃至比較例3で得られた各インプリント用レプリカモールドの波長365nmにおける透過率を、分光光度計UV2600((株)島津製作所製)を用い、リファレンスを石英ガラスにした状態で測定した。その結果を表1及び表2に示す。透過率を測定した前記インプリント用レプリカモールドは、2mm径×300μm高さの凸レンズパターンを有する。
実施例1乃至実施例16及び比較例1乃至比較例3で得られた各インプリント用レプリカモールドをそのまま用いて、前述と同様の光インプリントを繰り返し、最大10回まで行い、2mm径×300μm深さの凹レンズ形状パターンが形成されなくなるまでの、光インプリントの回数を測定した。得られた結果を表1及び表2に示す。
Claims (13)
- 下記A層及び該A層に接着した下記B層を備えたインプリント用レプリカモールド。
A層:下記(a1)成分及び(a2)成分を含む組成物の硬化物から成る構造体
(a1)成分:ラジカル重合性基を1分子中に少なくとも1つ有する化合物
(a2)成分:前記(a1)成分100質量%に対し、0.01質量%乃至0.3質量%の光ラジカル重合開始剤
B層:下記(b1)成分及び(b2)成分を含む組成物の硬化物から成る膜
(b1)成分:フッ素原子を含む線状又は鎖状の分子鎖からなる化合物であって該分子鎖の末端にラジカル重合性基を有する化合物
(b2)成分:前記(b1)成分100質量%に対し、0.05質量%乃至15質量%の光ラジカル重合開始剤 - 前記(b1)成分の化合物は、下記式(1)で表される基及び下記式(2a)又は式(2b)で表される基を含む前記線状又は鎖状の分子鎖の全ての末端に、ウレタン結合を介して、下記式(3)で表される基を有する多官能(メタ)アクリレート化合物である、請求項1に記載のインプリント用レプリカモールド。
れぞれ前記式(1)で表される基の繰り返し数及び前記式(2a)で表される基の繰り返し数を表すと共に独立して2以上の整数を表し、R3はメチル基又は水素原子を表す。) - 前記式(2a)で表される基の繰り返し数を表すqが5乃至12の整数である、請求項2に記載のインプリント用レプリカモールド。
- 前記式(2a)で表される基がポリ(オキシエチレン)基である、請求項2又は請求項3に記載のインプリント用レプリカモールド。
- 前記式(1)で表される基が、オキシパーフルオロメチレン基及びオキシパーフルオロエチレン基の双方を有する基である、請求項2乃至請求項4のいずれか一項に記載のインプリント用レプリカモールド。
- 前記(b1)成分の化合物が重量平均分子量1000乃至30000のマクロモノマー又はポリマーである、請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載のインプリント用レプリカモールド。
- 前記(b1)成分及び(b2)成分を含む組成物が更に光増感剤を含有する、請求項1乃至請求項6のいずれか一項に記載のインプリント用レプリカモールド。
- 前記(a1)成分が少なくとも2種の化合物を含有し、該2種の化合物のうち少なくとも1種の化合物は(メタ)アクリロイルオキシ基を1分子中に少なくとも2つ有する化合物である、請求項1に記載のインプリント用レプリカモールド。
- 前記A層がレンズ形状の反転パターンを有する、請求項1乃至請求項9のいずれか一項に記載のインプリント用レプリカモールド。
- 前記A層の厚さが2.0mm以下である、請求項1乃至請求項10のいずれか一項に記載のインプリント用レプリカモールド。
- 下記(a1)成分及び(a2)成分を含む組成物をマスターモールド上に塗布する工程、下記(a1)成分及び(a2)成分を含む組成物を介して前記マスターモールドを基材に圧着する工程、
前記マスターモールドを前記基材に圧着させたまま該基材を通して下記(a1)成分及び
(a2)成分を含む組成物を露光し、該組成物を光硬化する工程、
前記光硬化する工程の後、前記基材上に得られた硬化物を前記マスターモールドから離型しA層を形成する工程、
前記A層上に下記(b1)成分乃至(b3)成分を含む組成物を塗布する工程、及び
下記(b1)成分乃至(b3)成分を含む組成物を40℃乃至200℃でベークし、その後露光して前記A層に接着したB層を形成する工程、を含むインプリント用レプリカモールドの作製方法。
(a1)成分:ラジカル重合性基を1分子中に少なくとも1つ有する化合物
(a2)成分:前記(a1)成分100質量%に対し、0.1質量%乃至1質量%の光ラジカル重合開始剤
(b1)成分:フッ素原子を含む線状又は鎖状の分子鎖からなる化合物であって該分子鎖の末端にラジカル重合性基を有する化合物
(b2)成分:前記(b1)成分100質量%に対し、0.05質量%乃至15質量%の光ラジカル重合開始剤
(b3)成分:溶媒 - 下記(a1)成分及び(a2)成分を含む組成物を基材上に塗布する工程、
下記(a1)成分及び(a2)成分を含む組成物を介して前記基材をマスターモールドに圧着する工程、
前記マスターモールドを前記基材に圧着させたまま該基材を通して下記(a1)成分及び(a2)成分を含む組成物を露光し、該組成物を光硬化する工程、
前記光硬化する工程の後、前記基材上に得られた硬化物を前記マスターモールドから離型しA層を形成する工程、
前記A層上に下記(b1)成分乃至(b3)成分を含む組成物を塗布する工程、及び
下記(b1)成分乃至(b3)成分を含む組成物を40℃乃至200℃でベークし、その後露光して前記A層に接着したB層を形成する工程、を含むインプリント用レプリカモールドの作製方法。
(a1)成分:ラジカル重合性基を1分子中に少なくとも1つ有する化合物
(a2)成分:前記(a1)成分100質量%に対し、0.1質量%乃至1質量%の光ラジカル重合開始剤
(b1)成分:フッ素原子を含む線状又は鎖状の分子鎖からなる化合物であって該分子鎖の末端にラジカル重合性基を有する化合物
(b2)成分:前記(b1)成分100質量%に対し、0.05質量%乃至15質量%の光ラジカル重合開始剤
(b3)成分:溶媒
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Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004358969A (ja) | 2003-06-04 | 2004-12-24 | Komag Inc | ナノ・インプリント・リソグラフィ用の潤滑性付与レジスト膜 |
JP2007526820A (ja) | 2003-12-19 | 2007-09-20 | ザ ユニバーシティ オブ ノース カロライナ アット チャペル ヒル | ソフトリソグラフィー又はインプリントリソグラフィーを用いる分離微小構造及び分離ナノ構造の作製方法 |
JP2007307752A (ja) | 2006-05-17 | 2007-11-29 | Asahi Glass Co Ltd | モールドおよびその製造方法 |
JP2010000719A (ja) | 2008-06-20 | 2010-01-07 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | フィルム状レプリカモールド、その製造方法および微細凹凸構造を有するフィルム製品の製造方法 |
JP2010080670A (ja) | 2008-09-26 | 2010-04-08 | Hitachi Industrial Equipment Systems Co Ltd | 微細構造体及びその製造方法 |
JP2010105357A (ja) | 2008-10-31 | 2010-05-13 | Konica Minolta Opto Inc | 成形装置、成形型部材、ウエハレンズ及びウエハレンズ用成形型の製造方法 |
JP2015131481A (ja) | 2013-12-12 | 2015-07-23 | 株式会社トクヤマ | ナノインプリント用レプリカ金型の製造方法 |
WO2017172791A1 (en) | 2016-03-31 | 2017-10-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprint resist and substrate pretreatment for reducing fill time in nanoimprint lithography |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5951165B2 (ja) * | 1976-05-17 | 1984-12-12 | 株式会社日立製作所 | 電力増幅器 |
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WO2013061726A1 (ja) * | 2011-10-28 | 2013-05-02 | 東レ株式会社 | ガスバリア性フィルム |
CN106575606B (zh) * | 2014-08-21 | 2020-03-27 | 日产化学工业株式会社 | 压印材料 |
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Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004358969A (ja) | 2003-06-04 | 2004-12-24 | Komag Inc | ナノ・インプリント・リソグラフィ用の潤滑性付与レジスト膜 |
JP2007526820A (ja) | 2003-12-19 | 2007-09-20 | ザ ユニバーシティ オブ ノース カロライナ アット チャペル ヒル | ソフトリソグラフィー又はインプリントリソグラフィーを用いる分離微小構造及び分離ナノ構造の作製方法 |
JP2007307752A (ja) | 2006-05-17 | 2007-11-29 | Asahi Glass Co Ltd | モールドおよびその製造方法 |
JP2010000719A (ja) | 2008-06-20 | 2010-01-07 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | フィルム状レプリカモールド、その製造方法および微細凹凸構造を有するフィルム製品の製造方法 |
JP2010080670A (ja) | 2008-09-26 | 2010-04-08 | Hitachi Industrial Equipment Systems Co Ltd | 微細構造体及びその製造方法 |
JP2010105357A (ja) | 2008-10-31 | 2010-05-13 | Konica Minolta Opto Inc | 成形装置、成形型部材、ウエハレンズ及びウエハレンズ用成形型の製造方法 |
JP2015131481A (ja) | 2013-12-12 | 2015-07-23 | 株式会社トクヤマ | ナノインプリント用レプリカ金型の製造方法 |
WO2017172791A1 (en) | 2016-03-31 | 2017-10-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprint resist and substrate pretreatment for reducing fill time in nanoimprint lithography |
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