JP6338061B2 - 低離型力性を有するインプリント材料 - Google Patents
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したがって、ナノインプリントリソグラフィは、光リソグラフィ技術に代わり、半導体デバイス、オプトデバイス、ディスプレイ、記憶媒体、バイオチップ等の製造への適用が期待されている技術であることから、ナノインプリントリソグラフィに用いる光ナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成物について様々な報告がなされている(特許文献2、特許文献3)。
(A)成分:プロピレンオキサイドユニットを有し又はプロピレンオキサイドユニット及びエチレンオキサイドユニットを有し、かつ重合性基を2つ有する化合物
(B)成分:シリコーン化合物
(C)成分:光重合開始剤
第2観点として、(D)成分として重合性基を3つ以上有する化合物をさらに含有する、第1観点に記載のインプリント材料に関する。
第3観点として、(E)成分としてエチレンオキサイドユニットを有し、かつ重合性基を2つ有する化合物をさらに含有する、第1観点又は第2観点に記載のインプリント材料に関する。
第4観点として、(F)成分として界面活性剤をさらに含有する、第1観点乃至第3観点のいずれか一つに記載のインプリント材料に関する。
第5観点として、(G)成分として溶剤をさらに含有する、第1観点乃至第4観点のいずれか一つに記載のインプリント材料に関する。
第6観点として、前記(A)成分の化合物は、前記重合性基として、アクリロイルオキシ基、メタアクリロイルオキシ基、ビニル基及びアリル基からなる群から選ばれる少なくとも1種の基を2つ有する化合物である、第1観点乃至第5観点のいずれか一つに記載のインプリント材料に関する。
第7観点として、前記(D)成分の化合物は、前記重合性基として、アクリロイルオキシ基、メタアクリロイルオキシ基、ビニル基及びアリル基からなる群から選ばれる少なくとも1種の基を3つ以上有する化合物である、第2観点に記載のインプリント材料に関する。
第8観点として、前記インプリント材料をフィルム上に塗布し、該フィルム上の塗膜をモールドの凹凸形状を有する面に接着させ、続いて該塗膜を光硬化させ、その後フィルム上の硬化膜をモールドの凹凸形状を有する面から90°剥離する試験において、計測された離型力、すなわち、該フィルム上の硬化膜をモールドの凹凸形状を有する面から剥離したときの荷重を該フィルムの横幅1cmあたりに換算した値が0g/cmより大きく0.5g/cm以下である、第1観点乃至第7観点のいずれか一つに記載のインプリント材料に関する。
第9観点として、第1観点乃至第8観点のうちいずれか一つに記載のインプリント材料から作製され、パターンが転写された膜に関する。
第10観点として、第9観点に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた光学部材に関する。
第11観点として、第9観点に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた固体撮像装置に関する。
第12観点として、第9観点に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えたLEDデバイスに関する。
第13観点として、第9観点に記載のパターンが転写された膜を備えた半導体素子に関する。
第14観点として、第9観点に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた太陽電池に関する。
第15観点として、第9観点に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えたディスプレイに関する。
第16観点として、第9観点に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた電子デバイスに関する。
また本発明のインプリント材料は、光硬化が可能であり、かつモールドの凹凸形状を有する面からの剥離時にパターンの一部に剥がれが生じないため、所望のパターンが正確に形成された膜が得られる。したがって、良好な光インプリントのパターン形成が可能である。
また、本発明のインプリント材料は、任意の基材上に製膜することができ、インプリント後に形成されるパターンが転写された膜は、太陽電池、LEDデバイス、ディスプレイなどの、耐擦傷性、高指紋拭き取り性及び高透明性が求められる部材を使用する製品へ好適に用いることができる。
さらに、本発明のインプリント材料は、上記(A)成分の化合物の種類及び含有割合を変更することで、硬化速度、動的粘度、膜厚をコントロールすることができる。したがって、本発明のインプリント材料は、製造するデバイス種と露光プロセス及び焼成プロセスの種類に対応した材料の設計が可能であり、プロセスマージンを拡大できるため、光学部材の製造に好適に用いることができる。
(A)成分の化合物は、一分子内にプロピレンオキサイドユニットを1つ以上、又はプロピレンオキサイドユニット及びエチレンオキサイドユニットをそれぞれ1つ以上有し、かつ重合性基を2つ、具体的には化合物の両末端に重合性基を有する化合物を指す。なお、上記プロピレンオキサイドユニットとは例えば(−CH(CH3)CH2O−)、(−CH2CH2CH2O−)を表し、上記エチレンオキサイドユニットとは例えば(−CH2CH2O−)を表す。また当該重合性基としては、例えば、アクリロイルオキシ基、メタアクリロイルオキシ基、ビニル基、アリル基が挙げられる。ここで、アクリロイルオキシ基はアクリロキシ基と、メタアクリロイルオキシ基はメタアクリロキシ基と表現されることがある。
また上記(A)成分の化合物の種類及び含有割合を変更することで、インプリント材料の動的粘度、インプリント時の硬化速度及び形成される膜厚をコントロールすることができる。
(B)成分であるシリコーン化合物は、分子内にシリコーン骨格(シロキサン骨格)を有する化合物を表し、特にジメチルシリコーン骨格を有することが好ましい。
(C)成分である光重合開始剤としては、光硬化時に使用する光源に吸収をもつものであれば、特に限定されるものではないが、例えば、tert−ブチルペルオキシ−iso−ブタレート、2,5−ジメチル−2,5−ビス(ベンゾイルジオキシ)ヘキサン、1,4−ビス[α−(tert−ブチルジオキシ)−iso−プロポキシ]ベンゼン、ジ−tert−ブチルペルオキシド、2,5−ジメチル−2,5−ビス(tert−ブチルジオキシ)ヘキセンヒドロペルオキシド、α−(iso−プロピルフェニル)−iso−プロピルヒドロペルオキシド、tert−ブチルヒドロペルオキシド、1,1−ビス(tert−ブチルジオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、ブチル−4,4−ビス(tert−ブチルジオキシ)バレレート、シクロヘキサノンペルオキシド、2,2’,5,5’−テトラ(tert−ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(tert−ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(tert−アミルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(tert−ヘキシルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’−ビス(tert−ブチルペルオキシカルボニル)−4,4’−ジカルボキシベンゾフェノン、tert−ブチルペルオキシベンゾエート、ジ−tert−ブチルジペルオキシイソフタレート等の有機過酸化物;9,10−アントラキノン、1−クロロアントラキノン、2−クロロアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,2−ベンズアントラキノン等のキノン類;ベンゾインメチル、ベンゾインエチルエーテル、α−メチルベンゾイン、α−フェニルベンゾイン等のベンゾイン誘導体;2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−1−[4−{4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)ベンジル}−フェニル]−2−メチル−プロパン−1−オン、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタン−1−オン、2−ジメチルアミノ−2−(4−メチル−ベンジル)−1−(4−モルホリン−4−イル−フェニル)−ブタン−1−オン等のアルキルフェノン系化合物;ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド系化合物;1,2−オクタンジオン,1−[4−(フェニルチオ)−,2−(O−ベンゾイルオキシム)]、エタノン,1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−,1−(O−アセチルオキシム)等のオキシムエステル系化合物が挙げられる。
本発明においては(D)成分として重合性基を3つ以上有する化合物を添加してもよい。(D)成分である重合性基を3つ以上有する化合物は光インプリントにより得られる膜の硬度を調整する役割を果たす。重合性基を3つ以上有する化合物の重合性基の数は、例えば3つ乃至6つであり、当該重合性基としては、例えば、アクリロイルオキシ基、メタアクリロイルオキシ基、ビニル基、アリル基が挙げられる。
本発明においては(E)成分としてエチレンオキサイドユニットを有し、かつ重合性基を2つ有する化合物を添加してもよい。(E)成分を添加することでより一層の離型力の低下を促進することが可能である。(E)成分であるエチレンオキサイドユニットを有し、かつ重合性基を2つ有する化合物は、一分子内にエチレンオキサイドユニットを1つ以上有し、かつ重合性基を2つ、具体的には化合物の両末端に重合性基を有する化合物を指す。なお、上記エチレンオキサイドユニットとは例えば(−CH2CH2O−)を表す。また当該重合性基としては、例えば、アクリロイルオキシ基、メタアクリロイルオキシ基、ビニル基、アリル基が挙げられる。
本発明においては(F)成分として界面活性剤を添加してもよい。(F)成分である界面活性剤は、得られる塗膜の製膜性を調整する役割を果たす。
上記界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタントリオレエート、ソルビタントリステアレート等のソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエート、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート等のポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等のノニオン系界面活性剤;商品名エフトップ(登録商標)EF301、同EF303、同EF352(三菱マテリアル電子化成株式会社(旧株式会社ジェムコ製))、商品名メガファック(登録商標)F171、同F173、同R−08、同R−30(DIC株式会社製)、フロラードFC430、同FC431(住友スリーエム株式会社製)、商品名アサヒガード(登録商標)AG710、サーフロン(登録商標)S−382、同SC101、同SC102、同SC103、同SC104、同SC105、同SC106(旭硝子株式会社製)等のフッ素系界面活性剤;及びオルガノシロキサンポリマーKP341(信越化学工業株式会社製)を挙げることができる。
本発明においては(G)成分として溶剤を含有してもよい。(G)成分である溶剤は、(A)成分である分子中にプロピレンオキサイドユニット又はプロピレンオキサイドユニットとエチレンオキサイドユニットを含有し、重合性基を2つ有する化合物及び(D)成分である重合性基を3つ以上有する化合物の粘度調節の役割を果たす。
溶剤が使用される場合、本発明のインプリント材料の全成分、すなわち前述の(A)成分乃至(F)成分、並びに後述するその他添加剤を含む全成分から(G)成分の溶剤を除いたものとして定義される固形分の割合が、前記インプリント材料に対して20質量%乃至80質量%となる量にて、好ましくは40質量%乃至60質量%となる量にて、溶剤を含有することが好ましい。
本発明のインプリント材料は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて、エポキシ化合物、光酸発生剤、光増感剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、密着補助剤又は離型性向上剤を含有することができる。
本発明のインプリント材料の調製方法は、特に限定されないが、(A)成分、(B)成分、(C)成分、並びに任意成分である(D)成分、(E)成分、(F)成分及び(G)成分並びに所望によりその他添加剤を混合し、インプリント材料が均一な状態となっていればよい。
また、(A)成分乃至(G)成分並びに所望によりその他添加剤を混合する際の順序は、均一なインプリント材料が得られるなら問題なく、特に限定されない。当該調製方法としては、例えば、(A)成分に(B)成分を所定の割合で混合する方法が挙げられる。また、これに更に(C)成分、(D)成分、(E)成分、(F)成分及び(G)成分を混合し、均一なインプリント材料とする方法も挙げられる。さらに、この調製方法の適当な段階において、必要に応じて、その他の添加剤を更に添加して混合する方法が挙げられる。
本発明のインプリント材料は、基材上に塗布し光硬化させることで所望の硬化膜を得ることができる。塗布方法としては、公知又は周知の方法、例えば、スピンコート法、ディップ法、フローコート法、インクジェット法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、スリットコート法、ロールコート法、転写印刷法、刷毛塗り、ブレードコート法、エアーナイフコート法を挙げることができる。
そして本発明のインプリント材料をフィルム上に塗布し、該フィルム上の塗膜をモールドの凹凸形状を有する面に接着させ、続いて該塗膜を、モールドの凹凸形状を有する面を接着させたまま光硬化させ、その後フィルム上の硬化膜をモールドの凹凸形状を有する面から90°剥離する試験において計測された離型力、すなわち、該フィルム上の硬化膜をモールドの凹凸形状を有する面から完全に剥離したときの荷重を該フィルムの横幅1cmあたりに換算した値が0g/cmより大きく0.5g/cm以下であることが好ましく、より好ましくは0.4g/cm以下である。
<実施例1>
NKエステル APG−700(以下、本明細書では「APG−700」と略称する。)(新中村化学工業株式会社製)を5g、BYK−333(ビックケミー・ジャパン株式会社製)を0.05g(APG−700の質量に対して1phr)準備し、これらを混合し、その混合物にLucirin(登録商標)TPO(BASFジャパン株式会社製)(以下、本明細書では「Lucirin TPO」と略称する。)を0.125g(APG−700の質量に対して2.5phr)加え、インプリント材料PNI−a1を調製した。
実施例1のAPG−700をファンクリル(登録商標)FA−023M(以下、本明細書では「FA−023M」と略称する。)(日立化成工業株式会社製)へ変更した以外は、実施例1と同様にインプリント材料PNI−a2を調製した。
実施例1のAPG−700をNKエコノマー A−1000PER(以下、本明細書では「A−1000PER」と略称する。)(新中村化学工業株式会社製)へ変更した以外は、実施例1と同様にインプリント材料PNI−a3を調製した。
KAYARAD(登録商標)DPEA−12(以下、本明細書では「DPEA−12」と略称する。)(日本化薬株式会社製)を0.5g、UA−306H(以下、本明細書では「306H」と略称する。)(共栄社化学株式会社製)を2g、APG−700を2.5g、BYK−333を0.05g(DPEA−12、306H及びAPG−700の総質量に対して1phr)準備し、これらを混合し、その混合物にLucirin TPOを0.125g(DPEA−12、306H及びAPG−700の総質量に対して2.5phr)加え、インプリント材料PNI−a4を調製した。
実施例4のBYK−333を0.1g(DPEA−12、306H及びAPG−700の総質量に対して2phr)へ変更した以外は、実施例4と同様にインプリント材料PNI−a5を調製した。
実施例4のAPG−700をA−1000PERへ、BYK−333を0.025g(DPEA−12、306H及びA−1000PERの総質量に対して0.5phr)へ変更した以外は、実施例4と同様にインプリント材料PNI−a6を調製した。
実施例6のBYK−333を0.05g(DPEA−12、306H及びA−1000PERの総質量に対して1phr)へ変更した以外は、実施例6と同様にインプリント材料PNI−a7を調製した。
実施例6のBYK−333を0.1g(DPEA−12、306H及びA−1000PERの総質量に対して2phr)へ変更した以外は、実施例6と同様にインプリント材料PNI−a8を調製した。
306Hを2.25gとA−1000PERを2.75g準備し、これらを混合し、その混合物にBYK−333を0.05g(306H及びA−1000PERの総質量に対して1phr)、Lucirin TPOを0.125g(306HとA−1000PERの総質量に対して2.5phr)加えてインプリント材料PNI−a9を調製した。
DPEA−12を1.25g、KAYARAD(登録商標)PET−30(以下、本明細書では「PET30」と略称する。)(日本化薬株式会社製)を1.25g、A−1000PERを2.5g準備し、これらを混合し、その混合物にBYK−333を0.1g(DPEA−12、PET30及びA−1000PERの総質量に対して2phr)、Lucirin TPOを0.125g(DPEA−12、PET30及びA−1000PERの総質量に対して2.5phr)加え、インプリント材料PNI−a10を調製した。
PET30を2g、A−1000PERを3g準備し、これらを混合し、その混合物にBYK−333を0.1g(PET30及びA−1000PERの総質量に対して2phr)、Lucirin TPOを0.125g(PET30及びA−1000PERの総質量に対して2.5phr)加え、インプリント材料PNI−a11を調製した。
NKエステル A−200(以下、本明細書では「A−200」と略称する。)(新中村化学工業株式会社製)を1.5g、A−1000PERを3g、DPEA−12を0.5g準備し、これらを混合し、その混合物にBYK−333を0.05g(A−200、A−1000PER及びDPEA−12の総質量に対して1phr)、Lucirin TPOを0.125g(A200、A−1000PER及びDPEA−12の総質量に対して2.5phr)加え、インプリント材料PNI−a12を調製した。
A−200を1.5g、A−1000PERを2.5g、DPEA−12を1g準備し、これらを混合し、その混合物にBYK−333を0.05g(A−200、A−1000PER及びDPEA−12の総質量に対して1phr)、Lucirin TPOを0.125g(A200、A−1000PER及びDPEA−12の総質量に対して2.5phr)加え、インプリント材料PNI−a13を調製した。
A−200を1.5g、A−1000PERを2g、DPEA−12を1.5g準備し、これらを混合し、その混合物にBYK−333を0.05g(A−200、A−1000PER及びDPEA−12の総質量に対して1phr)、Lucirin TPOを0.125g(A200、A−1000PER及びDPEA−12の総質量に対して2.5phr)加え、インプリント材料PNI−a14を調製した。
A−200を1.5g、A−1000PERを1.5g、DPEA−12を2g準備し、これらを混合し、その混合物にBYK−333を0.05g(A−200、A−1000PER及びDPEA−12の総質量に対して1phr)、Lucirin TPOを0.125g(A200、A−1000PER及びDPEA−12の総質量に対して2.5phr)加え、インプリント材料PNI−a15を調製した。
A−200を1.5g、A−1000PERを1g、DPEA−12を2.5g準備し、これらを混合し、その混合物にBYK−333を0.05g(A−200、A−1000PER及びDPEA−12の総質量に対して1phr)、Lucirin TPOを0.125g(A200、A−1000PER及びDPEA−12の総質量に対して2.5phr)加え、インプリント材料PNI−a16を調製した。
A−200を1.5g、A−1000PERを0.5g、DPEA−12を3g準備し、これらを混合し、その混合物にBYK−333を0.05g(A−200、A−1000PER及びDPEA−12の総質量に対して1phr)、Lucirin TPOを0.125g(A200、A−1000PER及びDPEA−12の総質量に対して2.5phr)加え、インプリント材料PNI−a17を調製した。
A−200を1g、A−1000PERを1.5g、DPEA−12を2.5g準備し、これらを混合し、その混合物にBYK−333を0.05g(A−200、A−1000PER及びDPEA−12の総質量に対して1phr)、Lucirin TPOを0.125g(A200、A−1000PER及びDPEA−12の総質量に対して2.5phr)加え、インプリント材料PNI−a18を調製した。
A−200を1g、A−1000PERを1g、DPEA−12を3g準備し、これらを混合し、その混合物にBYK−333を0.05g(A−200、A−1000PER及びDPEA−12の総質量に対して1phr)、Lucirin TPOを0.125g(A200、A−1000PER及びDPEA−12の総質量に対して2.5phr)加え、インプリント材料PNI−a19を調製した。
306Hを5g、BYK−333を0.05g(306Hの質量に対して1phr)、Lucirin TPOを0.125g(306Hの質量に対して2.5phr)準備し、これらを混合し、インプリント材料PNI−b1を調製した。
比較例1のBYK−333を0.1g(306Hの質量に対して2phr)へ変更した以外は、比較例1と同様にインプリント材料PNI−b2を調製した。
比較例1の306HをPET30へ変更した以外は、比較例1と同様にインプリント材料PNI−b3を調製した。
比較例2の306HをPET30へ変更した以外は、比較例2と同様にインプリント材料PNI−b4を調製した。
DPEA−12を0.5g、306Hを2g、APG−700を2.5g準備し、これらを混合し、その混合物にLucirin TPOを0.125g(DPEA−12、306HとAPG−700の総質量に対して2.5phr)加え、インプリント材料PNI−b5を調製した。
比較例5のAPG700をA−1000PERへ変更した以外は、比較例5と同様にインプリント材料PNI−b6を調製した。
ニッケル製のピッチ250nm、高さ250nmのモスアイパターンモールド(株式会社イノックス製)及びシリコンウエハを、オプツール(登録商標)DSX(ダイキン工業株式会社製)をノベック(登録商標)HFE−7100(ハイドロフルオロエーテル、住友スリーエム株式会社)(以下、本明細書では「ノベックHFE−7100」と略称する。)で0.1質量%に希釈した溶液へ浸漬し、温度が90℃、湿度が90RH%の高温高湿装置を用いて1時間処理し、ノベックHFE−7100でリンス後、エアーで乾燥させた。
実施例1乃至実施例19及び比較例1乃至比較例6で得られた各インプリント材料を、厚さ80μmのトリアセチルセルロースフィルム(富士フイルム株式会社製 フジタック(登録商標)を使用)(以下、本明細書では「TACフィルム」と略称する。)上にバーコーター(全自動フィルムアプリケーター KT−AB3120 コーテック株式会社製)を用いて塗布し、そのTACフィルム上の塗膜を前述の離型処理を施したモスアイパターンモールドへローラー圧着させた。続いて該塗膜に対し、TACフィルム側から無電極均一照射装置(QRE−4016A、株式会社オーク製作所製)にて、350mJ/cm2の露光を施し、光硬化を行った。そしてJIS Z0237を参考にして90°剥離試験を行い、モールドの凹凸形状を有する面と接着している、TACフィルム上に形成された硬化膜が、モールドの凹凸形状を有する面から完全に剥がれたときの荷重を測定した。そしてフィルムの幅1cm当たりの荷重を算出し、離型力(g/cm)とした。結果を表1に示す。
上記離型力試験後に得られた硬化膜について、スチールウール擦傷試験を行った。試験機は大栄精機(有)製を使用し、♯0000のスチールウールを使用した。単位面積当たりの荷重は20.4g/cm2とし、上記スチールウールを10往復させた。擦傷後の傷本数については以下のように評価した。結果を表1に示す。
0〜 5本:A
6〜10本:B
11〜20本:C
21〜30本:D
31〜40本:E
実施例1乃至実施例19及び比較例1乃至比較例6で得られた各インプリント材料を石英基板上にスピンコートし、前述の離型処理をしたシリコンウエハを接着させ、ナノインプリント装置(NM−0801HB、明昌機工株式会社製)に設置し、10秒間かけて100Nまで加圧して膜中の気泡を除去し、10秒間かけて除圧した後、無電極均一照射装置にて、350mJ/cm2の露光を施した。そしてシリコンウエハを剥がし、石英基板上に作製した厚さ5μmの膜について、透過率測定を行った。試験機としてSHIMADSU UV−3600(株式会社島津製作所製)を用いて、可視光領域における平均透過率を調べた。得られた結果を表1に示す。
実施例1乃至実施例8及び実施例12乃至実施例19で得られた各インプリント材料を、厚さ80μmのTACフィルム上にバーコーター(全自動フィルムアプリケーター KT−AB3120 コーテック株式会社製)を用いて塗布し、そのTACフィルム上の塗膜を前述の離型処理を施したモスアイパターンモールドへローラー圧着させた。続いて該塗膜に対し、TACフィルム側から無電極均一照射装置(QRE−4016A、株式会社オーク製作所製)にて、350mJ/cm2の露光を施し、光硬化を行った。モールドから離型後、上記TACフィルムにおいてモスアイパターンが転写された硬化膜が形成された面とは反対の面をスーパーラッカースプレー(アサヒペン株式会社製)にて黒色に塗装した。そして、TACフィルム上に形成された硬化膜のモスアイパターン上に人工指紋液(TDK株式会社製)を付着させ、上記スチールウール擦傷試験で用いた試験機にベンコット(登録商標)M−1(旭化成せんい株式会社製)を取り付け、570g/cm2の荷重にて50往復させる指紋の拭き取り試験を行い、目視にて指紋の拭き取り性を確認した。当該試験で行われる拭き取りは乾拭きである。拭き取り試験後、指紋の拭き取りができた場合を○、指紋の拭き取りができなかった即ち指紋が残存していた場合を×と評価した結果を、表2に示す。
以上、本発明のインプリント材料により得られる膜は、低離型力性を有し、またインプリント後も優れた耐擦傷性及び指紋の拭き取り性を有し、しかも透明性に優れるものとなる。
Claims (16)
- 下記(A)成分、(B)成分及び(C)成分を含有するインプリント材料であって、下記(A)成分の質量に対して下記(B)成分を0.2phr乃至4phrにて含有する、インプリント材料。
(A)成分:プロピレンオキサイドユニット及びエチレンオキサイドユニットを有し、かつ重合性基を2つ有する化合物
(B)成分:シリコーン化合物として、BYK−302、BYK−307、BYK−330、BYK−333、BYK−378(以上、ビックケミー・ジャパン株式会社製)及びKF−643(以上、信越化学工業株式会社製)のうちの一種又は二種以上の組み合わせ(C)成分:光重合開始剤 - (D)成分として重合性基を3つ以上有する化合物をさらに含有し、前記(A)成分及び前記(D)成分の総質量に対して前記(B)成分を0.2phr乃至4phrにて含有する、請求項1に記載のインプリント材料。
- (E)成分としてエチレンオキサイドユニットを有し、かつ重合性基を2つ有する化合物をさらに含有する、請求項1又は請求項2に記載のインプリント材料。
- (F)成分として界面活性剤をさらに含有する、請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載のインプリント材料。
- (G)成分として溶剤をさらに含有する、請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載のインプリント材料。
- 前記(A)成分の化合物は、前記重合性基として、アクリロイルオキシ基、メタアクリロイルオキシ基、ビニル基及びアリル基からなる群から選ばれる少なくとも1種の基を2つ有する化合物である、請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載のインプリント材料。
- 前記(D)成分の化合物は、前記重合性基として、アクリロイルオキシ基、メタアクリロイルオキシ基、ビニル基及びアリル基からなる群から選ばれる少なくとも1種の基を3つ
以上有する化合物である、請求項2に記載のインプリント材料。 - 前記インプリント材料をフィルム上に塗布し、該フィルム上の塗膜をモールドの凹凸形状を有する面に接着させ、続いて該塗膜を光硬化させ、その後フィルム上の硬化膜をモールドの凹凸形状を有する面から90°剥離する試験において、計測された離型力、すなわち、該フィルム上の硬化膜をモールドの凹凸形状を有する面から剥離したときの荷重を該フィルムの横幅1cmあたりに換算した値が0g/cmより大きく0.5g/cm以下である、請求項1乃至請求項7のいずれか一項に記載のインプリント材料。
- 請求項1乃至請求項8のうちいずれか一項に記載のインプリント材料から作製され、パターンが転写された膜。
- 請求項9に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた光学部材。
- 請求項9に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた固体撮像装置。
- 請求項9に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えたLEDデバイス。
- 請求項9に記載のパターンが転写された膜を備えた半導体素子。
- 請求項9に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた太陽電池。
- 請求項9に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えたディスプレイ。
- 請求項9に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた電子デバイス。
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