JP6916473B2

JP6916473B2 - モールド用離型剤

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Publication number: JP6916473B2
Application number: JP2019535131A
Authority: JP
Inventors: 淳平小林; 将幸原口; 加藤　拓; 拓加藤; 偉大長澤; 圭介首藤; 由紀菅原
Original assignee: Nissan Chemical Corp
Current assignee: Nissan Chemical Corp
Priority date: 2017-08-07
Filing date: 2018-07-31
Publication date: 2021-08-11
Anticipated expiration: 2038-07-31
Also published as: TW201910452A; WO2019031312A1; JPWO2019031312A1

Description

本発明は、インプリント時にモールド上に塗布して使用する離型剤に関する。前記離型剤が適用されるモールドとしては、樹脂製モールドのみならず、例えば金属製モールド、シリコン（Ｓｉ）製モールド、アルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）製モールド及び石英製モールドにも採用される。

１９９５年、現プリンストン大学のチョウ教授らがナノインプリントリソグラフィという新たな技術を提唱した（特許文献１）。ナノインプリントリソグラフィは、任意のパターンを有するモールドを樹脂膜が形成された基材と接触させ、該樹脂膜を加圧すると共に、熱又は光を外部刺激として用い、目的のパターンを、硬化した該樹脂膜に形成する技術である。このナノインプリントリソグラフィは、従来の半導体デバイス製造における光リソグラフィ等に比べて簡便・安価にナノスケールの加工が可能であるという利点を有する。したがって、ナノインプリントリソグラフィは、光リソグラフィ技術に代わり、半導体デバイス、オプトデバイス、ディスプレイ、記憶媒体、バイオチップ等の製造への適用が期待されている技術であることから、ナノインプリントリソグラフィに用いる光ナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成物について様々な報告がなされている（特許文献２、特許文献３）。

ナノインプリントリソグラフィ（以下、本明細書では「インプリント」と略称する。）では、インプリント後、モールドから硬化樹脂膜を離型する際の離型性を向上させるため、あらかじめモールド上へ離型剤を塗布し離型処理する手法が一般的に用いられており、シリコン製等のモールドに使用する離型剤について様々な報告がなされている。（特許文献４、特許文献５）

米国特許第５７７２９０５号明細書特開２００８−１０５４１４号公報特開２００８−２０２０２２号公報特許第５２７４８３９号明細書特開２０１１−１４８１１７号公報

離型処理された同一のモールドを用いて繰り返しインプリントを行うと、次第に該モールドから離型剤の塗布膜（離型剤から形成された被膜）が剥がれ、離型性の悪化が起こる。そのため、従来モールドに使用する離型剤はモールド材料と化学的に反応する基を保持させ、これを該モールド表面に存在する官能基と結合させて使用することが多い。そして、離型剤が塗布されたモールドの表面形状は、インプリントされる光硬化樹脂の形状に大きな影響を与えるため、離型剤から形成された被膜表面の粗さはできるだけ小さくなることが望まれる。上述したように、モールド表面に塗布して使用するインプリント離型剤の報告はこれまでにも種々なされているが、シリコン製モールドや金属製モールドの他、樹脂製モールドにも使用可能な離型剤について具体的な検討や報告は殆どなされていない。特に、樹脂製モールドを用いて繰り返しインプリントを行う際に使用する離型剤や、該離型剤から形成された被膜表面の粗さについての検討や報告も殆どなされていない。

本発明は、上記の事情に基づいてなされたものであり、その解決しようとする課題は、モールドの離型処理された表面の二乗平均粗さが１ｎｍ未満であり、かつ、該モールドを用いて繰り返しインプリントを行うことを可能にする、モールド用離型剤の提供を目的とする。また、本明細書では、形成されるパターンサイズがナノメートルオーダーである場合に限らず、例えば、マイクロメートルオーダー及びミリメートルオーダーである場合を含む光ナノインプリント技術を、光インプリントと称する。

本発明者らは、上記の課題を解決するべく鋭意検討を行った結果、離型剤の構成成分として特定の多官能（メタ）アクリレート化合物、光重合開始剤及び溶媒を採用することにより、次の知見を得、本発明を完成した。すなわち、本発明のモールド用離型剤は、これをモールドの表面に適用することにより、離型処理された表面を該モールドに形成することができる。これにより該モールドを用いて繰り返しインプリントを行うことが可能となり、さらに該離型処理された表面の二乗平均粗さが１ｎｍ未満となる。

すなわち本発明は、第１観点として、
下記（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分を含有するモールド用離型剤。
（Ａ）：下記式（１）で表される基及び下記式（２ａ）又は式（２ｂ）で表される基を含む線状又は鎖状の分子鎖の全ての末端に、ウレタン結合を介して、下記式（３）で表される基を含む重合性基を有する、多官能（メタ）アクリレート化合物
（Ｂ）：前記（Ａ）成分の質量に基づいて０．０５ｐｈｒ乃至１５ｐｈｒの光重合開始剤
（Ｃ）：溶媒

（式中、Ｒ^１は炭素原子数１又は２のパーフルオロアルキレン基を表し、Ｒ^２ａは炭素原子数２又は３のアルキレン基を表し、Ｒ^２ｂは炭素原子数２又は３の３価の炭化水素基を表し、＊はそれぞれ前記ウレタン結合の−Ｏ−基と結合する結合手を表し、ｐ及びｑはそれぞれ前記式（１）で表される基の数及び前記式（２ａ）で表される基の数を表すと共に独立して２以上の整数を表し、Ｒ^３はメチル基又は水素原子を表す。）
第２観点として、前記ｑが、５乃至１２の整数である、第１観点に記載のモールド用離型剤。
第３観点として、前記式（２ａ）で表される基がポリ（オキシエチレン）基である、第１観点又は第２観点に記載のモールド用離型剤。
第４観点として、前記重合性基が前記式（３）で表される基を少なくとも２つ含む、第１観点乃至第３観点のいずれか一に記載のモールド用離型剤。
第５観点として、前記式（１）で表される基が、オキシパーフルオロメチレン基及びオキシパーフルオロエチレン基の双方を有する基である、第１観点乃至第４観点のいずれか一に記載のモールド用離型剤。
第６観点として、前記モールド用離型剤の総質量１００質量％に対し、前記（Ａ）成分の割合が０．０５質量％乃至１０質量％である、第１観点乃至第５観点のいずれか一に記載のモールド用離型剤。
第７観点として、（Ｄ）成分としてさらに光増感剤を含有する、第１観点乃至第６観点のいずれか一に記載のモールド用離型剤。
第８観点として、第１観点乃至第７観点のいずれか一に記載のモールド用離型剤から形成された被膜を備えた、離型処理された表面を有するモールド。
第９観点として、前記モールドは金属製モールド、シリコン製モールド、アルミナ製モールド、石英製モールド及び樹脂製モールドからなる群から選択される、第８観点に記載の離型処理された表面を有するモールド。
第１０観点として、第１観点乃至第７観点のいずれか一に記載のモールド用離型剤を樹脂製モールド上に塗布する工程、及び前記樹脂製モールド上に塗布されたモールド用離型剤をベークし、露光して前記樹脂製モールドの表面に被膜を形成する工程を有する、離型処理された樹脂製モールドの作製方法。
第１１観点として、第８観点又は第９観点に記載の離型処理された表面を有するモールドを光硬化性樹脂に圧着する工程、前記光硬化性樹脂を該モールドに圧着させたまま光硬化する工程、及び前記光硬化する工程の後、得られた光硬化物を前記離型処理された表面を有するモールドから離型する工程を有する、パターンが転写された最大膜厚が１．５ｍｍの硬化膜の作製方法。
第１２観点として、前記離型処理された表面の二乗平均粗さが１ｎｍ未満である、第８観点又は第９観点に記載の離型処理された表面を有するモールド。

本発明のモールド用離型剤を採用することにより、モールドの離型処理された表面の二乗平均粗さを１ｎｍ未満とすることができ、かつ、該モールド用離型剤から形成される被膜がモールド表面から剥がれ難いものとなり、該モールド用離型剤を適用した樹脂製モールド、石英製モールド、アルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）製モールド、シリコン（Ｓｉ）製モールド及び金属製モールドを用いて繰り返しインプリントを行うことが可能になる。
特に樹脂製モールドに本発明のモールド用離型剤を適用する場合、該樹脂製モールドの表面と前記モールド用離型剤から形成される被膜とがインターミキシング（一体化）するか、又は該樹脂製モールドの表面に存在する重合性基と該被膜とが反応することができるため、該被膜が該樹脂製モールドから剥がれにくいものとなる。また、石英製モールド、アルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）製モールド、シリコン（Ｓｉ）製モールド及び金属製モールドに本発明のモールド用離型剤を適用する場合、好ましくはこれらのモールドの表面をシランカップリング剤で処理した後、その表面に本発明のモールド用離型剤を適用することで、前記被膜がこれらのモールドから剥がれにくいものとなる。

さらに、本発明のモールド用離型剤は、上記（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分の種類及び含有割合を変更することで、硬化速度、動的粘度、膜厚、塗布性をコントロールすることができる。したがって、本発明のモールド用離型剤は、モールド、製造するデバイス種、製造工程及びベーク工程の種類に対応した離型剤の設計が可能である。

［（Ａ）成分］
（Ａ）成分の多官能（メタ）アクリレート化合物は、前記式（１）で表される基及び前記式（２ａ）又は式（２ｂ）で表される基を含む線状又は鎖状の分子鎖の全ての末端に、ウレタン結合を介して、（メタ）アクリロイルオキシ基を含む重合性基を有する。なお、本発明において（メタ）アクリレート化合物とは、アクリレート化合物とメタクリレート化合物の両方を意味する。また例えば（メタ）アクロイルオキシ基は、アクリロイルオキシ基とメタクリロイルオキシ基の双方を意味する。
ここで、上記多官能（メタ）アクリレート化合物は、単官能（メタ）アクリレート化合物を除く、２官能以上のアクリレート化合物又はメタクリレート化合物である。そして、上記ウレタン結合とは、−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−で表される構造をいう。上記多官能（メタ）アクリレート化合物は、１分子中に、ウレタン結合を少なくとも２つ、及び（メタ）アクリロイルオキシ基を含む重合性基を少なくとも２つ有する。
なお前記式（１）で表される基はポリ（オキシパーフルオロアルキレン）基と称することがあり、前記式（２ａ）で表される基はポリ（オキシアルキレン）基と称することがある。上記（メタ）アクリロイルオキシ基は、前記式（３）で表される基である。

上記式（１）で表される基におけるオキシパーフルオロアルキレン基：−（Ｏ−Ｒ^１）−のＲ^１の炭素原子数は１又は２である。すなわち、上記式（１）で表される基は、炭素原子数１又は２の２価のフッ化炭素基と酸素原子が交互に連結した構造を有し、オキシパーフルオロアルキレン基は炭素原子数１又は２の２価のフッ化炭素基と酸素原子が連結した構造を有する。該オキシパーフルオロアルキレン基として具体的には、−（ＯＣＦ_２）−（すなわち、オキシパーフルオロメチレン基）及び−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−（すなわち、オキシパーフルオロエチレン基）が挙げられる。上記オキシパーフルオロアルキレン基は、−（ＯＣＦ_２）−及び−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−のうちいずれか１種を単独で使用してもよく、２種を組み合わせて使用してもよい。２種を組み合わせて使用する場合、−（ＯＣＦ_２）−及び−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−の結合はブロック結合及びランダム結合の何れであってもよい。

モールドの離型性を高める観点から、前記式（１）で表される基として、−（ＯＣＦ_２）−（すなわち、オキシパーフルオロメチレン基）と−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−（すなわち、オキシパーフルオロエチレン基）の双方を有する基を用いることが好ましい。前記式（１）で表される基として、−（ＯＣＦ_２）−と−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−とが、モル比率で［−（ＯＣＦ_２）−］：［−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−］＝２：１〜１：２となる割合で含む基であることが好ましく、およそ１：１となる割合で含む基であることがより好ましい。これらの結合は、ブロック結合及びランダム結合の何れであってもよい。前記式（１）で表される基の数〈ｐ〉は、２以上の整数であり、５乃至３０の範囲であることが好ましく、７乃至２１の範囲であることがより好ましい。

また、前記式（１）で表される基のゲル浸透クロマトグラフィーによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量（Ｍｗ）は、１，０００乃至５，０００、好ましくは１，５００乃至３，０００である。

前記式（２ａ）で表される基におけるオキシアルキレン基：−（Ｏ−Ｒ^２ａ）−のＲ^２ａの炭素原子数は２又は３である。すなわち、前記式（２ａ）で表される基は、炭素原子数２又は３のアルキレン基と酸素原子が交互に連結した構造を有し、オキシアルキレン基は炭素原子数２又は３のアルキレン基と酸素原子が連結した構造を有する。上記オキシアルキレン基としては、オキシエチレン基、オキシプロピレン基、及びオキシトリメチレン基が挙げられる。上記オキシアルキレン基は、１種を単独で使用してもよく、或いは２種以上を組み合わせて使用してもよく、その場合、２種以上のオキシアルキレン基の結合はブロック結合及びランダム結合の何れであってもよい。

前記式（２ａ）で表される基は、ポリ（オキシエチレン）基であることが好ましい。前記式（２ａ）で表される基の数〈ｑ〉は２以上の整数であり、例えば２乃至１５の範囲であり、好ましくは２乃至１２の範囲、又は５乃至１２の範囲、或いは７乃至１２の範囲である。

前記式（２ｂ）で表される基における３価の炭化水素基：Ｒ^２ｂの炭素原子数は２又は３である。すなわち、前記式（２ｂ）で表される基は、炭素原子数２又は３のアルカントリレン基（炭素原子数２又は３のアルキレン基の任意の炭素原子から一個の水素原子を除去した３価の基）に１つの酸素原子が連結した構造を有する。
前記式（２ｂ）で表される基の中でも、１，２，３−プロパントリイル基の１位（又は３位）に１つの酸素原子が連結した基であることが好ましい。

上記線状又は鎖状の分子鎖は、前述の式（１）で表される基及び前述の式（２ａ）又は式（２ｂ）で表される基を含む分子鎖であれば限定されない。
上記線状又は鎖状の分子鎖において、式（１）で表される基と式（２ａ）又は式（２ｂ）で表される基の結合順序は特に限定されず、また各基の数は特に限定されない。
また、上記線状又は鎖状の分子鎖において、式（１）で表される基と式（２ａ）又は式（２ｂ）で表される基は単結合で結合（直接結合）されていてもよいし、炭素原子数１乃至３のアルキレン基、炭素原子数１乃至３のパーフルオロアルキレン基、或いはそれらの組み合わせ等の構造（連結基）を介して結合されていてもよい。

上記重合性基は、（メタ）アクリロイルオキシ基を１つ有するものに限らず、２つ以上有するものであってもよい。上記重合性基として、例えば、以下に示す式［Ｘ１］乃至式［Ｘ５］で表される構造（末端基）、及びこれらの構造（末端基）におけるアクリロイルオキシ基をメタクリロイルオキシ基に置換した構造が挙げられる。

（Ａ）成分の多官能（メタ）アクリレート化合物は、工業的製造が容易であるという点から、以下に示す構造式（Ａ−１）で表される化合物、（Ａ−２）で表される化合物及び（Ａ−３）で表される化合物、及びこれらの化合物中のアクリロイルオキシ基をメタクリロイルオキシ基に置換した化合物を好ましい例として挙げることができる。なお、下記構造式中、末端のＸはそれぞれ前記式［Ｘ１］乃至式［Ｘ５］で表される構造（末端基）のうちの１つを表し、ＰＦＰＥは前記ポリ（オキシパーフルオロアルキレン）基を表し、ｑ_１及びｑ_２はそれぞれ独立してオキシエチレン基の数、例えば２乃至１５の整数を表し、好ましくは２乃至１２の整数を表し、又は５乃至１２の整数を表し、或いは７乃至１２の整数を表す。

前記（Ａ）成分の多官能（メタ）アクリレート化合物において、１つの重合性基は、（メタ）アクリロイルオキシ基を２つ以上有する、例えば上記式［Ｘ３］乃至式［Ｘ５］で表される構造（末端基）であることが好ましい。

本発明において（Ａ）成分は、前記モールド用離型剤の総質量、すなわち、該（Ａ）成分と後述する、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、並びに任意成分である（Ｄ）成分及びその他添加剤との総質量１００質量％に対し、好ましくは０．０５質量％乃至１０質量％、より好ましくは０．５質量％乃至８質量％の割合で使用することが望ましい。

本発明のモールド用離型剤の（Ａ）成分は、例えば、前記式（１）で表される基の両末端に、直接結合するか或いは前記連結基を介して結合する、前記式（２ａ）又は式（２ｂ）で表される基を介して少なくとも２つのヒドロキシ基を有する化合物において、その少なくとも２つのヒドロキシ基に対して、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、１，１−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネート等の、（メタ）アクリロイルオキシ基を有するイソシアネート化合物をウレタン化反応させる方法により得られる。（Ａ）成分のゲル浸透クロマトグラフィーによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量（Ｍｗ）は、１，５００乃至７，０００、好ましくは２，０００乃至６，０００である。

なお本発明のモールド用離型剤は、（Ａ）成分に加えて、上記式（１）で表される基及び上記式（２ａ）又は式（２ｂ）で表される基を含む線状又は鎖状の分子鎖の一部の末端にのみウレタン結合を介して、（メタ）アクリロイルオキシ基を含む重合性基を有し、且つ該線状又は鎖状の分子鎖の他の末端にヒドロキシ基を有する化合物（すなわち該他の末端においては重合性基を有していない化合物）が含まれていてもよい。本発明のモールド用離型剤はさらに、上記式（１）で表される基及び上記式（２ａ）又は式（２ｂ）で表される基を含む線状又は鎖状の分子鎖の全ての末端にヒドロキシ基を有する化合物、すなわち上記重合性基を有していない化合物が含まれていてもよい。

［（Ｂ）成分］
（Ｂ）成分である光重合開始剤は、光硬化時に使用する光源に吸収をもつものであれば、特に限定されるものではない。該光重合開始剤として、例えば、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ−ｉｓｏ−ブチレート、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ベンゾイルジオキシ）ヘキサン、１，４−ビス［α−（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ）−ｉｓｏ−プロポキシ］ベンゼン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシド、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ）ヘキセンヒドロペルオキシド、α−（ｉｓｏ−プロピルフェニル）−ｉｓｏ−プロピルヒドロペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、ブチル−４，４−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ）バレレート、シクロヘキサノンペルオキシド、２，２’，５，５’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−アミルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ヘキシルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシカルボニル）−４，４’−ジカルボキシベンゾフェノン、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシベンゾエート、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジペルオキシイソフタレート等の有機過酸化物；９，１０−アントラキノン、１−クロロアントラキノン、２−クロロアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノン等のキノン類；ベンゾインメチル、ベンゾインエチルエーテル、α−メチルベンゾイン、α−フェニルベンゾイン等のベンゾイン誘導体；２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−［４−｛４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）ベンジル｝−フェニル］−２−メチル−プロパン−１−オン、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−１−ブタノン、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチル−ベンジル）−１−（４−モルホリン−４−イル−フェニル）−ブタン−１−オン等のアルキルフェノン系化合物；ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド系化合物；２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−１，２−オクタンジオン、１−（Ｏ−アセチルオキシム）−１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタノン等のオキシムエステル系化合物が挙げられる。

上記光重合開始剤は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）６５１、同１８４、同５００、同２９５９、同１２７、同７５４、同９０７、同３６９、同３７９、同３７９ＥＧ、同８１９、同８１９ＤＷ、同１８００、同１８７０、同７８４、同ＯＸＥ０１、同ＯＸＥ０２、同２５０、同１１７３、同ＭＢＦ、同４２６５、同ＴＰＯ（以上、ＢＡＳＦジャパン（株）製）、ＫＡＹＡＣＵＲＥ（登録商標）ＤＥＴＸ、同ＭＢＰ、同ＤＭＢＩ、同ＥＰＡ、同ＯＡ（以上、日本化薬（株）製）、ＶＩＣＵＲＥ−１０、同５５（以上、ＳＴＡＵＦＦＥＲＣｏ．ＬＴＤ製）、ＥＳＡＣＵＲＥ（登録商標）ＫＩＰ１５０、同ＴＺＴ、同１００１、同ＫＴＯ４６、同ＫＢ１、同ＫＬ２００、同ＫＳ３００、同ＥＢ３、トリアジン−ＰＭＳ、トリアジンＡ、トリアジンＢ（以上、日本シイベルヘグナー（株）製）、アデカオプトマーＮ−１７１７、同Ｎ−１４１４、同Ｎ−１６０６（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）が挙げられる。

上記光重合開始剤は、１種単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。

本発明のモールド用離型剤における（Ｂ）成分の含有割合は、上記（Ａ）成分の質量に基づいて、例えば０．０５ｐｈｒ乃至１５ｐｈｒであり、好ましくは０．１ｐｈｒ乃至１５ｐｈｒであり、或いは０．１ｐｈｒ乃至１０ｐｈｒであり、より好ましくは０．５ｐｈｒ乃至８ｐｈｒである。（Ｂ）成分の含有割合が０．０５ｐｈｒ未満の場合には、十分な硬化性が得られず、繰り返しインプリントを行う間に、離型性が悪化しやすくなる。一方、（Ｂ）成分の含有割合が１５ｐｈｒを超える場合、紫外線領域における透明性が低下する。本明細書において“ｐｈｒ”とは、（Ａ）成分の質量１００ｇに対する、例えば（Ｂ）成分である光重合開始剤の質量を表す。

［（Ｃ）成分］
（Ｃ）成分である溶媒は、前記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の粘度調節の役割を果たし、該（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の粘度を調節することができるものであれば、特に限定されるものではない。また、前述の（Ａ）成分の製造時において反応系に使用した溶媒をそのまま（Ｃ）成分の溶媒として用いることもできる。

該溶媒としては、例えば、トルエン、ｐ−キシレン、ｏ−キシレン、スチレン、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコ−ルジメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコール、１−オクタノール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、プロピレングリコール、ベンジルアルコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、γ−ブチロラクトン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルｎ−ブチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソブチル、酢酸ｎ−ブチル、乳酸エチル、ピルビン酸エチル、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、アリルアルコール、ｎ−プロパノール、２−メチル−２−ブタノール、イソブタノール、ｎ−ブタノール、２−メチル−１−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−１−ペンタノール、２−エチルヘキサノール、トリメチレングリコール、１−メトキシ−２−ブタノール、イソプロピルエーテル、１，４−ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、Ｎ−シクロヘキシル−２−ピロリジン、メチルパーフルオロプロピルエーテル、メチルノナフルオロブチルエーテル、メチルノナフルオロイソブチルエーテル、エチルノナフルオロブチルエーテル、エチルノナフルオロイソブチルエーテル、１，１，１，２，２，３，４，５，５，５−デカフロオロ−３−メトキシ−４−（トリフルオロメチル）−ペンタン、１，１，２，２−テトラフルオロエチル−２，２，２−トリフルオロエチルエーテル、１，１，１，２，３，４，４，５，５，５−デカフルオロペンタン、ペンタフルオロノナン、ヘキサフルオロベンゼン、ヘプタデカフルオロ−ｎ−オクチルブロミド、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メトキシプロパン、オクタデカフルオロオクタン、オクタフルオロシクロペンテン、パーフルオロトリブチルアミン、パーフルオロデカリン、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサン、パーフルオロヘプタン、オクタフルオロトルエン、パーフルオロトリペンチルアミン、パーフルオロトリエチルアミン、パーフルオロ（１，３−ジメチルシクロヘキサン）、パーフルオロイソヘキサンが挙げられる。

上記溶媒は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、Ｎｏｖｅｃ（登録商標）７０００、同７１００、同７２００、同７３００（以上、スリーエムジャパン（株）製）、アサヒクリン（登録商標）ＡＥ−３０００、同ＡＥ−３１００Ｅ（以上、旭硝子（株）製）、バートレル（登録商標）ＸＦ、同ＸＦ−ＵＰ、同ＸＥ−ＸＰ、同Ｘ−Ｅ１０、同Ｘ−Ｐ１０、同Ｘ−Ｄ、同Ｘ−ＧＹ、同ＭＣＡ、同ＳＤＧ、同ＳＭＴ、同ＳＦＲ、同ＤＣ、同シネラ、同スープリオン、同サイオン（以上、三井・デュポンフロロケミカル（株）製）が挙げられる。

［（Ｄ）成分］
本発明のモールド用離型剤は、必要に応じて光増感剤を（Ｄ）成分として含有することができる。該光増感剤としては、例えば、チオキサンテン系、チオキサントン系、キサンテン系、ケトン系、チオピリリウム塩系、ベーススチリル系、メロシアニン系、３−置換クマリン系、３，４−置換クマリン系、シアニン系、アクリジン系、チアジン系、フェノチアジン系、アントラセン系、コロネン系、ベンズアントラセン系、ペリレン系、ケトクマリン系、クマリン系、ボレート系が挙げられる。上記光増感剤は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、アントラキュアー（登録商標）ＵＶＳ−５８１、同ＵＶＳ−１３３１（以上、川崎化成工業（株）製）、ＫＡＹＡＣＵＲＥ（登録商標）ＤＥＴＸ−Ｓ（日本化薬（株）製）が挙げられる。この光増感剤は、１種単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。上記光増感剤を用いることによって、ＵＶ領域の吸収波長を調整することもできる。本発明のモールド用離型剤が（Ｄ）成分を含有する場合、その含有割合は、上記（Ａ）成分の質量に基づいて、例えば０．０１ｐｈｒ乃至１０ｐｈｒであり、好ましくは０．０５ｐｈｒ乃至５ｐｈｒである。

［その他添加剤］
本発明のモールド用離型剤は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて界面活性剤、連鎖移動剤を含有することができる。

上記界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタントリオレエート、ソルビタントリステアレート等のソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエート、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート等のポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等のノニオン系界面活性剤が挙げられる。上記界面活性剤は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、エフトップ（登録商標）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５２（以上、三菱マテリアル電子化成（株）製）、メガファック（登録商標）Ｆ−１７１、同Ｆ−１７３、同Ｆ−４７７、同Ｆ−４８６、同Ｆ−５５４、同Ｆ−５５６、同Ｒ−０８、同Ｒ−３０、同Ｒ−３０Ｎ、同Ｒ−４０、同Ｒ−４０−ＬＭ、同ＲＳ−５６、同ＲＳ−７５、同ＲＳ−７２−Ｋ、同ＲＳ−７６−Ｅ、同ＲＳ−７６−ＮＳ、同ＲＳ−７８、同ＲＳ−９０（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１（以上、スリーエムジャパン（株）製）、アサヒガード（登録商標）ＡＧ７１０、サーフロン（登録商標）Ｓ−３８２、同ＳＣ１０１、同ＳＣ１０２、同ＳＣ１０３、同ＳＣ１０４、同ＳＣ１０５、同ＳＣ１０６（以上、旭硝子（株）製）等のフッ素系界面活性剤；及びオルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、ＢＹＫ−３０２、ＢＹＫ−３０７、ＢＹＫ−３２２、ＢＹＫ−３２３、ＢＹＫ−３３０、ＢＹＫ−３３３、ＢＹＫ−３７０、ＢＹＫ−３７５、ＢＹＫ−３７８、ＢＹＫ−ＵＶ３５００、ＢＹＫ−ＵＶ３５７０（以上、ビックケミー・ジャパン（株）製）が挙げられる。上記界面活性剤は、１種単独で、又は２種以上を混合して用いてもよい。

上記連鎖移動剤としては、例えば、チオール化合物として、メルカプト酢酸メチル、３−メルカプトプロピオン酸メチル、３−メルカプトプロピオン酸２−エチルヘキシル、３−メルカプトプロピオン酸３−メトキシブチル、３−メルカプトプロピオン酸ｎ−オクチル、３−メルカプトプロピオン酸ステアリル、１，４−ビス（３−メルカプトプロピオニルオキシ）ブタン、１，４−ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタン、トリメチロールエタントリス（３−メルカプトプロピオネート）、トリメチロールエタントリス（３−メルカプトブチレート）、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトブチレート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトブチレート）、テトラエチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）、トリス［２−（３−メルカプトプロピオニルオキシ）エチル］イソシアヌレート、トリス［２−（３−メルカプトブチリルオキシ）エチル］イソシアヌレート、１，３，５−トリス（３−メルカプトブチリルオキシエチル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６−（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン等のメルカプトカルボン酸エステル類；エタンチオール、２−メチルプロパン−２−チオール、ｎ−ドデカンチオール、２，３，３，４，４，５−ヘキサメチルヘキサン−２−チオール（ｔｅｒｔ−ドデカンチオール）、エタン−１，２−ジチオール、プロパン−１，３−ジチオール、ベンジルチオール等のアルキルチオール類；ベンゼンチオール、３−メチルベンゼンチオール、４−メチルベンゼンチオール、ナフタレン−２−チオール、ピリジン−２−チオール、ベンゾイミダゾール−２−チオール、ベンゾチアゾール−２−チオール等の芳香族チオール類；２−メルカプトエタノール、４−メルカプト−１−ブタノール等のメルカプトアルコール類；３−（トリメトキシシリル）プロパン−１−チオール、３−（トリエトキシシリル）プロパン−１−チオール等のシラン含有チオール類；ビス（２−メルカプトエチル）エーテルが挙げられ、ジスルフィド化合物として、ジエチルジスルフィド、ジプロピルジスルフィド、ジイソプロピルジスルフィド、ジブチルジスルフィド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジスルフィド、ジペンチルジスルフィド、ジイソペンチルジスルフィド、ジヘキシルジスルフィド、ジシクロヘキシルジスルフィド、ジデシルジスルフィド、ビス（２，３，３，４，４，５−ヘキサメチルヘキサン−２−イル）ジスルフィド（ジ−ｔｅｒｔ−ドデシルジスルフィド）、ビス（２，２−ジエトキシエチル）ジスルフィド、ビス（２−ヒドロキシエチル）ジスルフィド、ジベンジルジスルフィド等のアルキルジスルフィド類；ジフェニルジスルフィド、ジ−ｐ−トリルジスルフィド、ジ（ピリジン−２−イル）ピリジルジスルフィド、ジ（ベンゾイミダゾール−２−イル）ジスルフィド、ジ（ベンゾチアゾール−２−イル）ジスルフィド等の芳香族ジスルフィド類；テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィド、ビス（ペンタメチレン）チウラムジスルフィド等のチウラムジスルフィド類；α−メチルスチレンダイマーが挙げられる。この連鎖移動剤は、１種単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。

［モールド用離型剤の調製］
本発明のモールド用離型剤の調製方法は、特に限定されないが、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、並びに任意で（Ｄ）成分及び上記その他添加剤を混合し、均一な状態となっていればよい。また、（Ａ）成分乃至（Ｃ）成分、並びに所望により（Ｄ）成分及び上記その他添加剤を混合する際の順序は、均一なモールド用離型剤が得られるなら、特に限定されない。例えば、（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分を所定の割合で混合し、均一なモールド用離型剤を調製する方法が挙げられる。さらに、この調製方法の適当な段階において、必要に応じて、（Ｄ）成分及び上記その他の添加剤を更に添加して混合する方法が挙げられる。
なお本発明のモールド用離型剤において、その粘度は、モールドに適用（塗布）するのに適する粘度であれば特に限定されない。例えば、０．５ｍＰａ・ｓから１００ｍＰａ・ｓの範囲の粘度に調整し用いることができる。

［離型処理された表面を有するモールド］
本発明のモールド用離型剤は、これをモールドの表面へ塗布し、露光により光硬化させることで、該モールドの表面に被膜を作製することができる。該被膜が作製されたモールドは、離型処理された表面を有する。そして本発明は、前記モールド用離型剤から形成された被膜を備えた、離型処理された表面を有するモールドも対象とする。

［モールド用離型剤の塗布方法］
前記塗布方法としては、公知又は周知の方法、例えば、スピンコート法、ディップ法、フローコート法、インクジェット法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、スリットコート法、ロールコート法、転写印刷法、刷毛塗り、ブレードコート法、エアーナイフコート法を挙げることができる。

本発明のモールド用離型剤が塗布されるモールドとしては、樹脂製モールド、例えば（メタ）アクリロイルオキシ基を１分子中に少なくとも２つ有する化合物を含有する樹脂組成物を光硬化させて得られる樹脂製モールド、石英製モールド、アルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）製モールド、シリコン（Ｓｉ）製モールド、及びニッケル、アルミニウム等の金属製モールドが挙げられる。

上述の各種のモールドに、特に石英製モールド、アルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）製モールド、シリコン（Ｓｉ）製モールド及び金属製モールドに、本発明のモールド用離型剤を適用する場合、好ましくはこれらのモールドの表面をシランカップリング剤（接着補助剤）で処理した後、その処理表面に本発明のモールド用離型剤を適用することが望ましい。シランカップリング剤を用いた前処理を行うことにより、該モールド用離型剤より作製された被膜とモールドとの密着性が向上し、該被膜がモールドから一層剥がれにくいものとすることができる。
上記シランカップリング剤としては特に限定されないが、例えば、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、メタクリロキシオクチルトリメトキシシラン、メタクリロキシオクチルトリエトキシシラン、オクテニルトリメトキシシラン、オクテニルトリエトキシシランを挙げることができる。

本発明のモールド用離型剤を硬化させる光源としては、特に限定されないが、例えば、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、無電極ランプ、メタルハライドランプ、ＫｒＦエキシマーレーザー、ＡｒＦエキシマーレーザー、Ｆ_２エキシマーレーザー、電子線（ＥＢ）、極端紫外線（ＥＵＶ）、紫外線ＬＥＤ（ＵＶ−ＬＥＤ）を挙げることができる。また、波長は、一般的には、４３６ｎｍのＧ線、４０５ｎｍのＨ線、３６５ｎｍのＩ線、又はＧＨＩ混合線を用いることができる。さらに露光量は、好ましくは、３０ｍＪ／ｃｍ^２乃至１００００ｍＪ／ｃｍ^２、より好ましくは１００ｍＪ／ｃｍ^２乃至８０００ｍＪ／ｃｍ^２である。

本発明のモールド用離型剤の（Ｃ）成分である溶媒を蒸発させる目的で、該モールド用離型剤を塗布後、光硬化前にベーク工程を加えてもよい。ベーク工程に使用する機器としては、特に限定されるものではなく、例えば、ホットプレート、オーブン、又はファーネスを用いて、適切な雰囲気下、すなわち大気、窒素等の不活性ガス、又は真空中でベークすることができるものであればよい。ベーク温度は、溶媒を蒸発させることが可能な、例えば、４０℃乃至２００℃で行うことができる。

こうして得られた被膜の厚さは特に限定されないが、例えば０．０１μｍ乃至１μｍの範囲とすることができる。

また本発明において、前記モールド用離型剤から形成された被膜（離型処理された表面）は、その表面粗さが１ｎｍ未満であることが好ましい。
本発明において“表面粗さ”とは、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）によって測定された二乗平均粗さ：ＲＭＳ（ＲｏｏｔＭｅａｎＳｑｕａｒｅ：平均線から測定曲線までの偏差の二乗を平均した値の平方根）を表す。
好ましくは、表面粗さ（二乗平均粗さ：ＲＭＳ）は０．８ｎｍ以下、例えば０．６ｎｍ以下とすることができる。表面粗さ（二乗平均粗さ：ＲＭＳ）は小さいほどよいが、その下限値を設定するのであればＲＭＳ＞０ｎｍである。

また本発明は、前記モールド用離型剤を樹脂製モールド上に塗布する工程、及び前記樹脂製モールド上に塗布されたモールド用離型剤をベークし、露光して前記樹脂製モールドの表面に被膜を形成する工程を有する、離型処理された樹脂製モールドの作製方法も対象とするものである。

［光インプリント及びパターンが転写された膜の作製方法］
本発明は、前記離型処理された表面を有するモールドを用いる光インプリントによるパターン転写膜の作製法も対象とする。
すなわち、前記離型処理された表面を有するモールドを光硬化性樹脂に圧着する工程、前記光硬化性樹脂を該モールドに圧着させたまま光硬化する工程、及び前記光硬化する工程の後、得られた光硬化物を前記離型処理された表面を有するモールドから離型する工程を有する、パターンが転写された最大膜厚が１．５ｍｍの硬化膜の作製方法も、本発明の対象である。
上記の光硬化性樹脂や光硬化に用いる光源、光インプリントを行う装置は特に限定されず、従来の光インプリント法において使用されている樹脂や光源、装置を使用することができる。
上記方法において得られるパターンが転写された膜において、その最大膜厚は１．５ｍｍであることが好ましく、またパターンサイズはナノメートルオーダー、マイクロメートルオーダー、及びミリメートルオーダーのいずれであってもよい。

以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明を更に詳しく説明するが、本発明は、これら実施例に限定されるものでない。なお、下記合成例、及び離型剤から形成された被膜の表面粗さ評価において、物性の分析に用いた装置及び条件は、以下の通りである。

（１）ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）
装置：（株）島津製作所製ＧＰＣシステム
ＧＰＣカラム：Ｓｈｏｄｅｘ（登録商標）ＧＰＣＫＦ−８０４Ｌ及びＧＰＣＫＦ−８０３Ｌ
カラム温度：４０℃
溶媒：テトラヒドロフラン
流量：１ｍＬ／分
標準試料：ポリスチレン
（２）原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）
装置：デジタルインスツルメンツ社製ナノスコープＩＶ型ディメンション３１００

また、略記号は以下の意味を表す。
ＰＦＰＥ１：ポリ（オキシエチレン）基（該基の数８乃至９）を介して両末端にヒドロキシ基を有するパーフルオロポリエーテル［ソルベイスペシャルティポリマーズ社製Ｆｌｕｏｒｏｌｉｎｋ（登録商標）５１４７Ｘ］
ＰＦＰＥ２：両末端それぞれに、前記式（２ｂ）で表される基を介してヒドロキシ基を２つずつ有するパーフルオロポリエーテル［ソルベイスペシャルティポリマーズ社製Ｆｏｍｂｌｉｎ（登録商標）Ｔ４］
ＢＥＩ：１，１−ビス（アクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネート［昭和電工（株）製カレンズ（登録商標）ＢＥＩ］
ＤＢＴＤＬ：ジラウリン酸ジブチル錫［東京化成工業（株）製］
ＤＯＴＤＤ：ジオクチル錫ジネオデカノエート［日東化成（株）製ネオスタン（登録商標）Ｕ−８３０］
ＡＩＢＮ：アゾビスイソブチロニトリル
ＭＥＫ：メチルエチルケトン
ＭＩＢＫ：メチルイソブチルケトン
ＰＧＭＥ：プロピレングリコールモノメチルエーテル
ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート

＜合成例１＞
ナスフラスコに、ＰＦＰＥ１１０．５ｇ（５ｍｍｏｌ）、ＢＥＩ２．３９ｇ（１０．０ｍｍｏｌ）、ＤＢＴＤＬ０．１２９ｇ及びＭＥＫ１２．９ｇを仕込んだ。上記ナスフラスコ内の混合物を、スターラーチップを用いて室温（およそ２３℃）で２４時間撹拌し、反応物を得た。この反応物へＰＧＭＥＡを３０．３７ｇ加え、エバポレーターにてＭＥＫを留去し、（Ａ）成分である多官能アクリレート化合物ＳＭ１を含むＰＧＭＥＡ溶液を固形分３０質量％で得た。得られたＳＭ１のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは３，４００、分散度：Ｍｗ（重量平均分子量）／Ｍｎ（数平均分子量）は１．１であった。

＜合成例２＞
ナスフラスコに、ＰＦＰＥ１１０．５ｇ（５ｍｍｏｌ）、ＢＥＩ２．３９ｇ（１０．０ｍｍｏｌ）、ＤＯＴＤＤ０．０６４４ｇ及びＰＧＭＥＡ１２．９ｇを仕込んだ。上記ナスフラスコ内の混合物を、スターラーチップを用いて室温（およそ２３℃）で４８時間撹拌し、反応物を得た。この反応物へＰＧＭＥＡを３８．９ｇ加え、（Ａ）成分である多官能アクリレート化合物ＳＭ２を含むＰＧＭＥＡ溶液を固形分２０質量％で得た。得られたＳＭ２のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは３，４１０、分散度：Ｍｗ（重量平均分子量）／Ｍｎ（数平均分子量）は１．１であった。

＜合成例３＞
ＰＧＭＥＡ６１．２ｇを三つ口フラスコに入れ、窒素雰囲気下にて１００℃に加熱した。そこへメタクリル酸２−（パーフルオロへキシル）エチル３０．００ｇ、シクロへキシルマレイミド１６．５９ｇ、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル９．０３ｇ及びＡＩＢＮ５．５６ｇをＰＧＭＥＡ１８３．６ｇに溶解させた溶液を１時間かけて滴下し、１００℃で２４時間撹拌し、反応溶液を得た。この反応溶液を室温まで冷却した後、ＤＢＴＤＬ０．４４ｇ、ヒドロキノン０．０１ｇ及び２−アクリロイルオキシエチルイソシアネート９．７９ｇを加えて６０℃に加熱し、２４時間撹拌した。その後、反応溶液を室温まで冷却し、（Ａ）成分に該当しない下記式（４）で表される共重合体ＣＨＭ−Ａを含むＰＧＭＥＡ溶液を固形分２２．６質量％で得た。得られたＣＨＭ−ＡのＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは２１，０００、分散度：Ｍｗ（重量平均分子量）／Ｍｎ（数平均分子量）は２．１であった。

＜合成例４＞
ナスフラスコに、ＰＦＰＥ２１１．４５ｇ（５ｍｍｏｌ）、ＢＥＩ４．７９ｇ（２０．０ｍｍｏｌ）、ＤＯＴＤＤ０．１６２ｇ及びＭＥＫ１６．２４ｇを仕込んだ。上記ナスフラスコ内の混合物を、窒素雰囲気下にてスターラーチップを用いて室温（およそ２３℃）で７２時間撹拌し、反応物を得た。この反応物へＰＧＭＥＡを６４．９６ｇ加え、エバポレーターにてＭＥＫを留去し、（Ａ）成分である多官能アクリレート化合物ＳＭ３を含むＰＧＭＥＡ溶液を固形分２０質量％で得た。得られたＳＭ３のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは２，７５０、分散度：Ｍｗ（重量平均分子量）／Ｍｎ（数平均分子量）は１．１であった。

＜合成例５＞
ナスフラスコに、ＰＦＰＥ２１１．４５ｇ（５ｍｍｏｌ）、ＢＥＩ４．７９ｇ（２０．０ｍｍｏｌ）、ＤＯＴＤＤ０．１６２ｇ及びＰＧＭＥＡ１６．２４ｇを仕込んだ。上記ナスフラスコ内の混合物を、窒素雰囲気下にてスターラーチップを用いて室温（およそ２３℃）で７２時間撹拌し、反応物を得た。この反応物へＰＧＭＥＡを４８．７２ｇ加え、（Ａ）成分である多官能アクリレート化合物ＳＭ４を含むＰＧＭＥＡ溶液を固形分２０質量％で得た。得られたＳＭ４のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは２，７６０、分散度：Ｍｗ（重量平均分子量）／Ｍｎ（数平均分子量）は１．１であった。

＜実施例１＞
（Ａ）成分として合成例１で得られたＳＭ１を含むＰＧＭＥＡ溶液１．００ｇ、（Ｂ）成分としてＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）１２７（ＢＡＳＦジャパン（株）製、２−ヒドロキシ−１−［４−｛４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）ベンジル｝−フェニル］−２−メチル−プロパン−１−オン）（以下、本明細書では「ＩＲＧＡＣＵＲＥ１２７」と略称する。）を０．００６０ｇ、及び（Ｃ）成分としてＰＧＭＥＡを７．６７ｇ混合し、モールド用離型剤ＩＰ−Ａを調製した。

＜実施例２＞
（Ａ）成分として合成例２で得られたＳＭ２を含むＰＧＭＥＡ溶液１．００ｇ、（Ｂ）成分としてＩＲＧＡＣＵＲＥ１２７を０．００４０ｇ、及び（Ｃ）成分としてＰＧＭＥＡを４．８０ｇ混合し、モールド用離型剤ＩＰ−Ｂを調製した。

＜実施例３＞
（Ａ）成分として合成例２で得られたＳＭ２を含むＰＧＭＥＡ溶液１．００ｇ、（Ｂ）成分としてＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）８１９（ＢＡＳＦジャパン（株）製、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド）（以下、本明細書では「ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９」と略称する。）を０．００４０ｇ、（Ｃ）成分としてＰＧＭＥＡを４．８１ｇ、及び（Ｄ）成分としてアントラキュアー（登録商標）ＵＶＳ−５８１（川崎化成工業（株）製）（以下、本明細書では「ＵＶＳ−５８１」と略称する。）を０．０００２ｇ混合し、モールド用離型剤ＩＰ−Ｃを調製した。

＜実施例４＞
（Ａ）成分として合成例２で得られたＳＭ２を含むＰＧＭＥＡ溶液１．００ｇ、（Ｂ）成分としてＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９を０．００４０ｇ、（Ｃ）成分としてＰＧＭＥＡを４．８１０ｇ、及び（Ｄ）成分としてＫＡＹＡＣＵＲＥ（登録商標）ＤＥＴＸ−Ｓ（日本化薬（株）製）（以下、本明細書では「ＤＥＴＸ−Ｓ」と略称する。）を０．０００２ｇ混合し、モールド用離型剤ＩＰ−Ｄを調製した。

＜実施例５＞
（Ａ）成分として合成例２で得られたＳＭ２を含むＰＧＭＥＡ溶液１．００ｇ、（Ｂ）成分としてＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）ＯＸＥ−０１（ＢＡＳＦジャパン（株）製、２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−１，２−オクタンジオン）を０．００４０ｇ、（Ｃ）成分としてＰＧＭＥＡを４．８１ｇ、及び（Ｄ）成分としてＵＶＳ−５８１を０．０００２ｇ混合し、モールド用離型剤ＩＰ−Ｅを調製した。

＜実施例６＞
（Ａ）成分として合成例１で得られたＳＭ１を含むＰＧＭＥＡ溶液１．００ｇ、（Ｂ）成分としてＩＲＧＡＣＵＲＥ１２７を０．０００３０ｇ、及び（Ｃ）成分としてＰＧＭＥＡを７．５８ｇ混合し、モールド用離型剤ＩＰ−Ｆを調製した。

＜実施例７＞
（Ａ）成分として合成例１で得られたＳＭ１を含むＰＧＭＥＡ溶液１．００ｇ、（Ｂ）成分としてＩＲＧＡＣＵＲＥ１２７を０．０３０ｇ、及び（Ｃ）成分としてＰＧＭＥＡを８．４０ｇ混合し、モールド用離型剤ＩＰ−Ｇを調製した。

＜実施例８＞
（Ａ）成分として合成例４で得られたＳＭ３を含むＰＧＭＥＡ溶液１．００ｇ、（Ｂ）成分としてＩＲＧＡＣＵＲＥ１２７を０．００４０ｇ、及び（Ｃ）成分としてＰＧＭＥＡを４．８２ｇ混合し、モールド用離型剤ＩＰ−Ｈを調製した。

＜実施例９＞
（Ａ）成分として合成例５で得られたＳＭ４を含むＰＧＭＥＡ溶液１．００ｇ、（Ｂ）成分としてＩＲＧＡＣＵＲＥ１２７を０．００４０ｇ、及び（Ｃ）成分としてＰＧＭＥＡを４．８２ｇ混合し、モールド用離型剤ＩＰ−Ｉを調製した。

＜実施例１０＞
（Ａ）成分として合成例４で得られたＳＭ３を含むＰＧＭＥＡ溶液１．００ｇ、（Ｂ）成分としてＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９を０．００４０ｇ、（Ｃ）成分としてＰＧＭＥＡを４．８３ｇ、及び（Ｄ）成分としてＤＥＴＸ−Ｓを０．０００２ｇ混合し、モールド用離型剤ＩＰ−Ｊを調製した。

＜実施例１１＞
（Ａ）成分として合成例５で得られたＳＭ４を含むＰＧＭＥＡ溶液１．００ｇ、（Ｂ）成分としてＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９を０．００４０ｇ、（Ｃ）成分としてＰＧＭＥＡを４．８３ｇ、及び（Ｄ）成分としてＤＥＴＸ−Ｓを０．０００２ｇ混合し、モールド用離型剤ＩＰ−Ｋを調製した。

＜比較例１＞
Ｆｌｕｏｒｏｌｉｎｋ（登録商標）ＭＤ７００（ソルベイスペシャルティポリマーズ社製）（以下、本明細書では「ＭＤ７００」と略称する。）を０．４０ｇ、（Ｂ）成分としてＩＲＧＡＣＵＲＥ１２７を０．００４２ｇ、及び（Ｃ）成分としてＰＧＭＥＡを５．６６ｇ混合し、モールド用離型剤ＩＰ−ａを調製した。
本比較例及び後述する比較例２で使用するＭＤ７００は、両末端ウレタンメタクリレート変性したパーフルオロポリエーテル（２官能メタクリレート化合物）であるが、前記式（２ａ）又は式（２ｂ）で表される基を含まないため（Ａ）成分に該当しない。したがって、本比較例のモールド用離型剤は、（Ａ）成分を含まない点で、本発明の実施例のモールド用離型剤と異なる。

＜比較例２＞
ＭＤ７００を０．４０ｇ、（Ｂ）成分としてＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９を０．００４２ｇ、（Ｄ）成分としてＵＶＳ−５８１を０．０００２ｇ、及び（Ｃ）成分としてＰＧＭＥＡを５．６６ｇ混合し、モールド用離型剤ＩＰ−ｂを調製した。
本比較例のモールド用離型剤は、上述の通り、（Ａ）成分を含まない点で、本発明の実施例のモールド用離型剤と異なる。

＜比較例３＞
１，６−ビス（アクリロイルオキシ）−２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロヘキサン（東京化成工業（株）製）を０．２１ｇ、（Ｂ）成分としてＩＲＧＡＣＵＲＥ１２７を０．００４２ｇ、及び（Ｃ）成分としてＰＧＭＥＡを５．９１ｇ混合し、モールド用離型剤ＩＰ−ｃを調製した。
本比較例で使用する上記１，６−ビス（アクリロイルオキシ）−２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロヘキサンは、フルオロアルキル基を有する２官能のメタアクリレート化合物であるが、前記式（１）で表される基及び前記式（２ａ）又は式（２ｂ）で表される基を含まず、またウレタン結合も含んでおらず、（Ａ）成分に該当しない。
したがって、本比較例のモールド用離型剤は、（Ａ）成分を含まない点で、本発明の実施例のモールド用離型剤と異なる。

＜比較例４＞
合成例３で得られたＣＨＭ−Ａを含むＰＧＭＥＡ溶液１．００ｇ、（Ｂ）成分としてＩＲＧＡＣＵＲＥ１２７を０．００４５ｇ、及び（Ｃ）成分としてＰＧＭＥＡを５．５５ｇ混合し、モールド用離型剤ＩＰ−ｄを調製した。
本比較例で使用する上記ＣＨＭ−Ａは、前述の通り式（４）で表される共重合体であり（Ａ）成分に該当せず、本比較例のモールド用離型剤は、（Ａ）成分を含まない点で、本発明の実施例のモールド用離型剤と異なる。

＜比較例５＞
ＰＦＰＥ１を０．２１ｇ及び（Ｃ）成分としてＰＧＭＥＡを５．７９ｇ混合し、モールド用離型剤ＩＰ−ｅを調製した。
本比較例で使用するＰＦＰＥ１は、前述の通りポリ（オキシエチレン）基を介して両末端にヒドロキシ基を有するパーフルオロポリエーテルであり、該化合物の両末端においてウレタン結合を介して結合した重合性基を有しておらず、（Ａ）成分に該当しない。
すなわち本比較例のモールド用離型剤は、（Ａ）成分に加え、（Ｂ）成分をも含まない点で、本発明の実施例のモールド用離型剤と異なる。

＜比較例６＞
Ｎｏｖｅｃ（登録商標）１７２０（スリーエムジャパン（株）製）を用意し、これをモールド用離型剤ＩＰ−ｆとした。
本比較例で使用するＮｏｖｅｃ１７２０は、光インプリントに使用するモールド用離型剤などにも使用される従来既知のフッ素系化合物であり、パーフロオロエーテル基含有シラン化合物である。
すなわち本比較例のモールド用離型剤は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分を含まない点で、本発明の実施例のモールド用離型剤と異なる。

＜比較例７＞
（Ａ）成分として合成例１で得られたＳＭ１を含むＰＧＭＥＡ溶液１．００ｇ、（Ｂ）成分としてＩＲＧＡＣＵＲＥ１２７を０．０６ｇ、及び（Ｃ）成分としてＰＧＭＥＡを９．１５ｇ混合し、モールド用離型剤ＩＰ−ｇを調製した。
すなわち本比較例のモールド用離型剤は、（Ｂ）成分の含有割合が、（Ａ）成分の質量に基づいて０．０５ｐｈｒ乃至１５ｐｈｒの上限値を超えている点で、本発明の実施例のモールド用離型剤と異なる。

＜比較例８＞
（Ａ）成分として合成例１で得られたＳＭ１を含むＰＧＭＥＡ溶液１０．００ｇ、（Ｂ）成分としてＩＲＧＡＣＵＲＥ１２７を０．０００３０ｇ、及び（Ｃ）成分としてＰＧＭＥＡを７５．１２ｇ混合し、モールド用離型剤ＩＰ−ｈを調製した。
すなわち本比較例のモールド用離型剤は、（Ｂ）成分の含有割合が、（Ａ）成分の質量に基づいて０．０５ｐｈｒ乃至１５ｐｈｒの下限値未満である点で、本発明の実施例のモールド用離型剤と異なる。

＜光硬化性樹脂（インプリント材料）の作製＞
ＮＫエステルＡ−ＤＯＧ（以下、本明細書では「Ａ−ＤＯＧ」と略称する。）（新中村化学工業（株）製）を５ｇ及びＵＭ−９０（１／３）ＤＡ（宇部興産（株）製）を５ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）１８４（ＢＡＳＦジャパン（株）製）を０．２ｇ（Ａ−ＤＯＧ及びＵＭ−９０（１／３）ＤＡの総質量に対して２ｐｈｒ）、チオカルコール（登録商標）２０（花王（株）製）を０．０５ｇ（Ａ−ＤＯＧ及びＵＭ−９０（１／３）ＤＡの総質量に対して０．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−Ａを調製した。

［離型処理された樹脂製モールドの作製１］
直径９．５ｍｍ、最大高さ０．２５ｍｍの凸レンズ形状を有する樹脂製モールド上へ、実施例１乃至実施例１１、並びに比較例１乃至比較例４、比較例７及び比較例８で得られたモールド用離型剤ＩＰ−Ａ、ＩＰ−Ｂ、ＩＰ−Ｃ、ＩＰ−Ｄ、ＩＰ−Ｅ、ＩＰ−Ｆ、ＩＰ−Ｇ、ＩＰ−Ｈ、ＩＰ−Ｉ、ＩＰ−Ｊ、ＩＰ−Ｋ、ＩＰ−ａ、ＩＰ−ｂ、ＩＰ−ｃ、ＩＰ−ｄ、ＩＰ−ｇ、ＩＰ−ｈをそれぞれスピンコーターで製膜し、ホットプレートを用いて８０℃で５分間ベークした。その後、窒素雰囲気下にてバッチ式ＵＶ照射装置（高圧水銀灯２ｋＷ×１灯）（アイグラフィックス（株）製）を用いて４０ｍＷ／ｃｍ^２で１２５秒間ＵＶ露光し、離型処理された樹脂製モールドを作製した。
なお本例並びに以降の例において、樹脂製モールドとして、（メタ）アクリロイルオキシ基を１分子中に少なくとも２つ有する化合物を含有する樹脂組成物を光硬化させて得られる樹脂製モールドを用いた。

［離型処理された樹脂製モールドの作製２］
直径９．５ｍｍ、最大高さ０．２５ｍｍの凸レンズ形状を有する樹脂製モールド上へ、実施例３乃至実施例５、実施例１０及び実施例１１で得られたモールド用離型剤ＩＰ−Ｃ、ＩＰ−Ｄ、ＩＰ−Ｅ、ＩＰ−Ｊ、ＩＰ−Ｋをそれぞれスピンコーターで製膜し、ホットプレートを用いて８０℃で５分間ベークした。その後、窒素雰囲気下にてバッチ式ＵＶ照射装置（高圧水銀灯２ｋＷ×１灯）（アイグラフィックス（株）製）を用いて、ｉ線透過フィルターを通し、４０ｍＷ／ｃｍ^２で１２５秒間ＵＶ露光し、離型処理された樹脂製モールドを作製した。

［離型処理された樹脂製モールドの作製３］
直径９．５ｍｍ、最大高さ０．２５ｍｍの凸レンズ形状を有する樹脂製モールド上へ、比較例５及び比較例６で得られたモールド用離型剤ＩＰ−ｅ、ＩＰ−ｆをそれぞれスピンコーターで製膜し、ホットプレートを用いて８０℃で５分間ベークし、離型処理された樹脂製モールドを作製した。

［離型処理された樹脂製モールドを使用した光インプリント］
３−アクリロキシプロピルトリメトキシシランを石英ガラス基板上にスピンコートし、ホットプレートを用いて１５０℃で５分間ベークし、石英ガラス基板にシランカップリング処理を行った。その後、該石英ガラス基板のシランカップリング処理面へ、インプリント材料ＰＮＩ−Ａをポッティングし、前述の作製１、作製２及び作製３にしたがって離型処理された樹脂製モールドで挟み込み、ナノインプリント装置ＮＭ−０８０１ＨＢ（明昌機工（株）製）で光インプリントを行った。光インプリントは、常時２３℃の条件で、ａ）１０秒間かけて５００Ｎまで加圧、ｂ）高圧水銀ランプを用いて６０００ｍＪ／ｃｍ^２の露光、ｃ）１０秒間かけて除圧、ｄ）離型処理された樹脂製モールドと石英ガラス基板とを分離して離型、というシーケンスで行い、石英ガラス基板上に直径９．５ｍｍ、最大深さ０．２５ｍｍの凹レンズ形状パターンを作製した。

［繰り返しインプリント可能回数の測定］
前述の光インプリントにて使用した、作製１、作製２及び作製３にしたがって離型処理された樹脂製モールドをそのまま用いて、前述と同様の光インプリントを繰り返し行い、石英ガラス基板上に直径９．５ｍｍ、最大深さ０．２５ｍｍの凹レンズ形状パターンが形成されなくなるまでの、光インプリントの回数を測定した。得られた結果を表１に示す。

［モールド用離型剤から形成された被膜の表面粗さ評価］
４インチのシリコンウエハ上へ、実施例１乃至実施例１１、比較例１乃至比較例８で得られたモールド用離型剤ＩＰ−Ａ、ＩＰ−Ｂ、ＩＰ−Ｃ、ＩＰ−Ｄ、ＩＰ−Ｅ、ＩＰ−Ｆ、ＩＰ−Ｇ、ＩＰ−Ｈ、ＩＰ−Ｉ、ＩＰ−Ｊ、ＩＰ−Ｋ、ＩＰ−ａ、ＩＰ−ｂ、ＩＰ−ｃ、ＩＰ−ｄ、ＩＰ−ｅ、ＩＰ−ｆ、ＩＰ−ｇ、ＩＰ−ｈをそれぞれスピンコートし、ホットプレートを用いて８０℃で５分間ベークした。その後、窒素雰囲気下にてバッチ式ＵＶ照射装置（高圧水銀灯２ｋＷ×１灯）（アイグラフィックス（株）製）を用いて４０ｍＷ／ｃｍ^２で１２５秒間ＵＶ露光し、モールド用離型剤の被膜を作製した。その後、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて該被膜の二乗平均粗さ（ＲＭＳ）を測定した。得られた結果を表２に示す。

［透明性評価］
直径９．５ｍｍ、最大深さ０．２５ｍｍの凹レンズ形状を有する樹脂製モールド上へ実施例１及び比較例７で得られたモールド用離型剤ＩＰ−Ａ、ＩＰ−ｇをそれぞれスピンコーターで製膜し、ホットプレートを用いて８０℃で５分間ベークした。その後、窒素雰囲気下にてバッチ式ＵＶ照射装置（高圧水銀灯２ｋＷ×１灯）（アイグラフィックス（株）製）を用いて４０ｍＷ／ｃｍ^２で１２５秒間ＵＶ露光し、離型処理された樹脂製モールドを作製した。そして離型処理された樹脂製モールドの３６５ｎｍにおける透過率を、分光光度計ＵＶ２６００（（株）島津製作所製）を用い、リファレンスを空気にした状態で測定した。得られた結果を表２に示す。

表１に示す結果より、実施例１乃至実施例１１で調製されたモールド用離型剤で離型処理された樹脂製モールドを使用することで、繰り返しのインプリントが可能となった。一方、比較例１乃至比較例６及び比較例８で調製されたモールド用離型剤で離型処理された樹脂製モールドを使用する場合、繰り返しのインプリントは不可能である、又は実施例１乃至実施例１１と比較して繰り返しインプリントの回数は少ない結果となった。また、表２に示す結果より、実施例１乃至実施例１１で調製されたモールド用離型剤から得られた被膜のＲＭＳは１ｎｍ未満となった。また、比較例７で調製されたモールド用離型剤で離型処理された樹脂製モールドは、透明性が実施例１と比較して低い結果となった。以上、本発明のモールド用離型剤を使用して樹脂製モールドを離型処理することで、該樹脂製モールドを用いて繰り返しのインプリントを可能にし、かつ得られるモールド用離型剤の被膜のＲＭＳは非常に小さいものとなる。

［離型処理された金属製モールドの作製］
ニッケル製のピッチ２５０ｎｍ、高さ２５０ｎｍのモスアイパターンモールド（（株）イノックス製）上へ３−アクリロキシプロピルトリメトキシシランをスピンコートし、ホットプレートを用いて１５０℃で５分間ベークし、シランカップリング処理を行った。そして、該モールドのシランカップリング処理面へ、実施例１で得られたモールド用離型剤ＩＰ−Ａをスピンコーターで製膜し、ホットプレートを用いて８０℃で５分間ベークした。その後、窒素雰囲気下にてバッチ式ＵＶ照射装置（高圧水銀灯２ｋＷ×１灯）（アイグラフィックス（株）製）を用いて４０ｍＷ／ｃｍ^２で１２５秒間ＵＶ露光し、離型処理されたニッケル製モールドを作製した。

［離型処理された金属製モールドを使用した光インプリント］
３−アクリロキシプロピルトリメトキシシランを石英ガラス基板上にスピンコートし、ホットプレートを用いて１５０℃で５分間ベークし、石英ガラス基板にシランカップリング処理を行った。その後、該石英ガラス基板のシランカップリング処理面へ、インプリント材料ＰＮＩ−Ａをポッティングし、前述の離型処理された金属製モールドで挟み込み、ナノインプリント装置ＮＭ−０８０１ＨＢ（明昌機工（株）製）で光インプリントを行った。光インプリントは、常時２３℃の条件で、ａ）１０秒間かけて５００Ｎまで加圧、ｂ）高圧水銀ランプを用いて６０００ｍＪ／ｃｍ^２の露光、ｃ）１０秒間かけて除圧、ｄ）離型処理された金属製モールドと石英ガラス基板とを分離して離型、というシーケンスで行い、石英ガラス基板上にピッチ２５０ｎｍ、高さ２５０ｎｍのモスアイ形状パターンを作製した。得られた形状を走査型電子顕微鏡Ｓ−４８００（（株）日立ハイテクノロジーズ製）を用いて確認したところ、いずれも割れ・剥がれ等の無い良好なパターン形状であった。

Claims

下記（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分を含有するモールド用離型剤。
（Ａ）：下記式（１）で表される基及び下記式（２ａ）又は式（２ｂ）で表される基を含む線状又は鎖状の分子鎖の全ての末端に、ウレタン結合を介して、下記式（３）で表される基を含む重合性基を有する、多官能（メタ）アクリレート化合物
（Ｂ）：前記（Ａ）成分の質量に基づいて０．０５ｐｈｒ乃至１５ｐｈｒの光重合開始剤（Ｃ）：溶媒

（式中、式（１）で表される基における−（Ｏ−Ｒ ^１）−はオキシパーフルオロメチレン基及びオキシパーフルオロエチレン基のうちいずれか１種、又は２種の組み合わせを表し、Ｒ^２ａは炭素原子数２又は３のアルキレン基を表し、Ｒ^２ｂは炭素原子数２又は３の３価の炭化水素基を表し、＊はそれぞれ前記ウレタン結合の−Ｏ−基と結合する結合手を表し、ｐ及びｑはそれぞれ前記式（１）で表される基の数及び前記式（２ａ）で表される基の数を表すと共に独立して２以上の整数を表し、Ｒ^３はメチル基又は水素原子を表す。）
前記ｑが、５乃至１２の整数である、請求項１に記載のモールド用離型剤。
前記式（２ａ）で表される基がポリ（オキシエチレン）基である、請求項１又は請求項２に記載のモールド用離型剤。
前記重合性基が前記式（３）で表される基を少なくとも２つ含む、請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載のモールド用離型剤。
前記式（１）で表される基における−（Ｏ−Ｒ ^１）−が、オキシパーフルオロメチレン基及びオキシパーフルオロエチレン基の２種の組み合わせを表す、請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載のモールド用離型剤。
前記モールド用離型剤の総質量１００質量％に対し、前記（Ａ）成分の割合が０．０５質量％乃至１０質量％である、請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載のモールド用離型剤。
（Ｄ）成分としてさらに光増感剤を含有する、請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載のモールド用離型剤。
請求項１乃至請求項７のいずれか一項に記載のモールド用離型剤から形成された被膜を備えた、離型処理された表面を有するモールド。
前記モールドは金属製モールド、シリコン製モールド、アルミナ製モールド、石英製モールド及び樹脂製モールドからなる群から選択される、請求項８に記載の離型処理された表面を有するモールド。
請求項１乃至請求項７のいずれか一項に記載のモールド用離型剤を樹脂製モールド上に塗布する工程、及び前記樹脂製モールド上に塗布されたモールド用離型剤をベークし、露光して前記樹脂製モールドの表面に被膜を形成する工程を有する、離型処理された樹脂製モールドの作製方法。
請求項８又は請求項９に記載の離型処理された表面を有するモールドを光硬化性樹脂に圧着する工程、前記光硬化性樹脂を該モールドに圧着させたまま光硬化する工程、及び前記光硬化する工程の後、得られた光硬化物を前記離型処理された表面を有するモールドから離型する工程を有する、パターンが転写された最大膜厚が１．５ｍｍの硬化膜の作製方法。
前記離型処理された表面の二乗平均粗さが１ｎｍ未満である、請求項８又は請求項９に記載の離型処理された表面を有するモールド。