JP7311844B2 - ハードコート用硬化性組成物 - Google Patents
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Description
このような観点から、携帯情報端末機器の筐体表面には、指紋などに対する防汚性を有していることが望まれている。しかし、初期の防汚性はかなりのレベルに達しているとしても、人が毎日手で触れるため、使用中にその機能が低下する場合が多い。そのため、使用過程での防汚性の耐久性が課題であった。
このようなパーフルオロポリエーテルに、有機溶媒に対する溶解性及びハードコート層における分散性を付与するために、パーフルオロポリエーテルに有機部位を付加する手法が用いられている。更に、耐擦傷性を付与するために、(メタ)アクリレート基に代表される活性エネルギー線硬化性部位を結合させる手法が用いられている。
これまで、耐擦傷性を有した防汚性ハードコート層として、ハードコート層表面に防汚性を付与する成分として、ポリ(オキシパーフルオロアルキレン)鎖の両末端に、ポリ(オキシアルキレン)基及び1つのウレタン結合を介して(メタ)アクリロイル基を有する化合物を、表面改質剤として用いた技術が開示されている(特許文献1)。
一方、大気下で光硬化させたハードコート層は、窒素雰囲気下で該組成物を硬化させたハードコート層に比べて、十分な耐擦傷性が得られず、また防汚性の耐久性が劣る場合があるという課題もあった。
(a)ジペンタエリスリトールポリ(メタ)アクリレート100質量部、
(b)ポリ(オキシパーフルオロアルキレン)基を含むパーフルオロポリエーテルであって、その分子鎖の両末端に、ウレタン結合を介して、活性エネルギー線重合性基を有するパーフルオロポリエーテル(但し、前記ポリ(オキシパーフルオロアルキレン)基と前記ウレタン結合との間にポリ(オキシアルキレン)基を有するパーフルオロポリエーテルを除く。)0.05質量部~10質量部、及び
(c)活性エネルギー線によりラジカルを発生する重合開始剤1質量部~20質量部
を含み、
前記(a)ジペンタエリスリトールポリ(メタ)アクリレートは、液体クロマトグラフィー質量分析法の測定結果から下記式に従い算出された、ペンタ(メタ)アクリレートとヘキサ(メタ)アクリレートの総量に対するヘキサ(メタ)アクリレートの割合であるヘキサ体比率が50mol%以上100mol%以下である、硬化性組成物に関する。
ヘキサ体比率[mol%]=(AH1+AH2)÷(AP1+AP2+AH1+AH2)×100
AP1:ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートのプロトン付加体の抽出イオンクロマトグラムのピーク面積
AP2:ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートのアンモニウム付加体の抽出イオンクロマトグラムのピーク面積
AH1:ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートのプロトン付加体の抽出イオンクロマトグラムのピーク面積
AH2:ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートのアンモニウム付加体の抽出イオンクロマトグラムのピーク面積
第2観点として、前記(b)パーフルオロポリエーテルは、その分子鎖の両末端それぞれにおいてウレタン結合を介して活性エネルギー線重合性基を少なくとも2つ有する、第1観点に記載の硬化性組成物に関する。
第3観点として、前記(b)パーフルオロポリエーテルは、その分子鎖の両末端それぞれにおいてウレタン結合を介して活性エネルギー線重合性基を少なくとも3つ有する、第2観点に記載の硬化性組成物に関する。
第4観点として、前記ポリ(オキシパーフルオロアルキレン)基が、繰り返し単位-[OCF2]-及び繰り返し単位-[OCF2CF2]-の双方を有し、これら繰り返し単位をブロック結合、ランダム結合、又は、ブロック結合及びランダム結合にて結合してなる基である、第1観点乃至第3観点のうち何れか一つに記載の硬化性組成物に関する。
第5観点として、前記(b)パーフルオロポリエーテルが下記式[1]で表される部分構造を有する、第4観点に記載の硬化性組成物に関する。
第6観点として、さらに(d)溶媒を含む、第1観点乃至第5観点のうち何れか一つに記載の硬化性組成物に関する。
第7観点として、第1観点乃至第6観点のうち何れか一つに記載の硬化性組成物の硬化物からなる硬化膜に関する。
第8観点として、フィルム基材の少なくとも一方の面にハードコート層を備えるハードコートフィルムであって、該ハードコート層が第7観点に記載の硬化膜からなる、ハードコートフィルムに関する。
第9観点として、フィルム基材の少なくとも一方の面にハードコート層を備えるハードコートフィルムであって、該ハードコート層が、第1観点乃至第6観点のうち何れか一つに記載の硬化性組成物をフィルム基材上に塗布し塗膜を形成する工程と、該塗膜に活性エネルギー線を照射し硬化する工程とを含む方法により形成されてなる、ハードコートフィルムに関する。
第10観点として、前記ハードコート層が1μm~10μmの層厚を有する、第8観点又は第9観点に記載のハードコートフィルムに関する。
第11観点として、フィルム基材の少なくとも一方の面にハードコート層を備えるハードコートフィルムの製造方法であって、第1観点乃至第6観点のうち何れか一つに記載の硬化性組成物をフィルム基材上に塗布し塗膜を形成する工程と、該塗膜に大気下で活性エネルギー線を照射し硬化する工程とを含む、ハードコートフィルムの製造方法に関する。
第12観点として、前記ハードコート層が1μm~10μmの層厚を有する、第11観点に記載の製造方法に関する。
また、本発明によれば、前記硬化性組成物の硬化物からなる硬化膜又はそれより形成されるハードコート層が表面に付与されたハードコートフィルムを提供することができ、耐擦傷性及び外観に優れ且つ防汚耐久性を有するハードコートフィルムを提供することができる。
本発明の硬化性組成物は、詳細には、
(a)ジペンタエリスリトールポリ(メタ)アクリレート100質量部、
(b)ポリ(オキシパーフルオロアルキレン)基を含むパーフルオロポリエーテルであって、その分子鎖の両末端に、ウレタン結合を介して、活性エネルギー線重合性基を有するパーフルオロポリエーテル(但し、前記ポリ(オキシパーフルオロアルキレン)基と前記ウレタン結合との間にポリ(オキシアルキレン)基を有するパーフルオロポリエーテルを除く。)0.05質量部~10質量部、及び
(c)活性エネルギー線によりラジカルを発生する重合開始剤1質量部~20質量部
を含む、硬化性組成物に関する。
以下、まず上記(a)~(c)の各成分について説明する。
(a)ジペンタエリスリトールポリ(メタ)アクリレートとしては、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート及びジペンタエリスリトールモノ(メタ)アクリレートからなる群から選択される1種以上の化合物の混合物、好ましくは、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート及びジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレートの混合物、より好ましくはジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート及びジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートの混合物又はジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートが挙げられる。
なお、本発明において(メタ)アクリレート化合物とは、アクリレート化合物とメタクリレート化合物の両方をいう。また(メタ)アクリル酸は、アクリル酸とメタクリル酸の両方をいう。
ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートの割合を50mol%以上とすることで、硬化性組成物を大気下で硬化させて形成される硬化膜が十分な耐擦傷性を有するものとなる。
ヘキサ体比率[mol%]=(AH1+AH2)÷(AP1+AP2+AH1+AH2)×100
AP1:ジペンタエリスリトールペンタアクリレートのプロトン付加体(m/z=525.197)の抽出イオンクロマトグラム(以下、「XIC」と称する)のピーク面積
AP2:ジペンタエリスリトールペンタアクリレートのアンモニウム付加体(m/z=542.223)のXICのピーク面積
AH1:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートのプロトン付加体(m/z=579.207)のXICのピーク面積
AH2:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートのアンモニウム付加体(m/z=596.234)のXICのピーク面積
本発明では、(b)成分として、ポリ(オキシパーフルオロアルキレン)基を含むパーフルオロポリエーテルであって、その分子鎖の両末端に、ポリ(オキシアルキレン)基を介さずにウレタン結合を介して、活性エネルギー線重合性基を有するパーフルオロポリエーテル(以下、単に「(b)分子鎖の両末端に重合性基を有するパーフルオロポリエーテル」とも称する)を使用する。(b)成分は、本発明の硬化性組成物を適用するハードコート層における表面改質剤としての役割を果たす。
また、(b)成分は、(a)成分との相溶性に優れ、それにより、ハードコート層が白濁するのを抑制して、透明な外観を呈するハードコート層の形成を可能とする。
尚、上記のポリ(オキシアルキレン)基とは、オキシアルキレン基の繰り返し単位数が2以上であり且つオキシアルキレン基におけるアルキレン基は無置換のアルキレン基である基を意図する。
上記オキシパーフルオロアルキレン基は、一種を単独で使用してもよく、或いは二種以上を組み合わせて使用してもよく、その場合、複数種のオキシパーフルオロアルキレン基の結合はブロック結合及びランダム結合の何れであってもよい。
中でも上記ポリ(オキシパーフルオロアルキレン)基として、繰り返し単位:-[OCF2]-と-[OCF2CF2]-とが、モル比率で[繰り返し単位:-[OCF2]-]:[繰り返し単位:-[OCF2CF2]-]=2:1~1:2となる割合で含む基であることが好ましく、およそ1:1となる割合で含む基であることがより好ましい。これら繰り返し単位の結合は、ブロック結合及びランダム結合の何れであってもよい。
上記オキシパーフルオロアルキレン基の繰り返し単位数は、その繰り返し単位数の総計として5~30の範囲であることが好ましく、7~21の範囲であることがより好ましい。
また、上記ポリ(オキシパーフルオロアルキレン)基のゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)によるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量(Mw)は、1,000~5,000、好ましくは1,500~3,000である。
上記式[B1]~式[B12]で表される構造の中で、式[B1]及び式[B2]がm=1の場合に相当し、式[B3]~式[B6]がm=2の場合に相当し、式[B7]~式[B9]がm=3の場合に相当し、式[B10]~式[B12]がm=5の場合に相当する。
これらの中でも、式[B3]で表される構造が好ましく、特に式[B3]と式[A3]の組合せが好ましい。
上記式[1]中のnは、繰り返し単位-[OCF2CF2]-の数と、繰り返し単位-[OCF2]-の数との総数を表し、5~30の範囲の整数が好ましく、7~21の範囲の整数がより好ましい。また、前記繰り返し単位-[OCF2CF2]-の数と、前記繰り返し単位-[OCF2]-の数との比率は、2:1~1:2の範囲であることが好ましく、およそ1:1の範囲とすることがより好ましい。これら繰り返し単位の結合は、ブロック結合及びランダム結合の何れであってもよい。
(b)分子鎖の両末端に重合性基を有するパーフルオロポリエーテルを0.05質量部以上の割合で使用することで、ハードコート層が十分な防汚性(撥水性及び撥油性)を有する。また、(b)分子鎖の両末端に重合性基を有するパーフルオロポリエーテルを10質量部以下の割合で使用することで、(a)ジペンタエリスリトールポリ(メタ)アクリレートと十分に相溶し、より白濁の少ないハードコート層が得られる。
本発明の硬化性組成物において好ましい活性エネルギー線によりラジカルを発生する重合開始剤(以下、単に「(c)重合開始剤」とも称する)は、例えば、電子線、紫外線、X線等の活性エネルギー線により、特に紫外線照射によりラジカルを発生する重合開始剤である。
上記(c)重合開始剤としては、例えばベンゾイン類、アルキルフェノン類、チオキサントン類、アゾ類、アジド類、ジアゾ類、o-キノンジアジド類、アシルホスフィンオキシド類、オキシムエステル類、有機過酸化物、ベンゾフェノン類、ビスクマリン類、ビスイミダゾール類、チタノセン類、チオール類、ハロゲン化炭化水素類、トリクロロメチルトリアジン類、及びヨードニウム塩、スルホニウム塩などのオニウム塩類等が挙げられる。これらは一種単独で或いは二種以上を混合して用いてもよい。
中でも本発明では、透明性、表面硬化性、薄膜硬化性の観点から(c)重合開始剤として、アルキルフェノン類を使用することが好ましい。アルキルフェノン類を使用することにより、耐擦傷性がより向上した硬化膜を得ることができる。
本発明の硬化性組成物は、更に(d)溶媒を含んでいてもよく、すなわちワニス(膜形成材料)の形態としてもよい。
上記溶媒としては、前記(a)成分~(c)成分を溶解し、また後述する硬化膜(ハードコート層)形成にかかる塗工時の作業性や硬化前後の乾燥性等を考慮して適宜選択すればよく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、テトラリン等の芳香族炭化水素類;n-ヘキサン、n-ヘプタン、ミネラルスピリット、シクロヘキサン等の脂肪族又は脂環式炭化水素類;塩化メチル、臭化メチル、ヨウ化メチル、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、トリクロロエチレン、パークロロエチレン、o-ジクロロベンゼン等のハロゲン化物類;酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、メトキシブチルアセテート、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル類又はエステルエーテル類;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ-n-プロピルエーテル、プロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、プロピレングリコールモノ-n-ブチルエーテル等のエーテル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジ-n-ブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;メタノール、エタノール、n-プロパノール、イソプロピルアルコール、n-ブタノール、イソブチルアルコール、tert-ブチルアルコール、2-エチルヘキシルアルコール、ベンジルアルコール、エチレングリコール等のアルコール類;N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチル-2-ピロリドン等のアミド類;ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、並びにこれらの溶媒のうち2種以上を混合した溶媒が挙げられる。
(d)溶媒の使用量は特に限定されないが、例えば本発明の硬化性組成物における固形分濃度が1質量%~70質量%、好ましくは5質量%~50質量%となる濃度で使用する。ここで固形分濃度(不揮発分濃度とも称する)とは、本発明の硬化性組成物の前記(a)成分~(d)成分(及び所望によりその他添加剤)の総質量(合計質量)に対する固形分(全成分から溶媒成分を除いたもの)の含有量を表す。
また、本発明の硬化性組成物には、本発明の効果を損なわない限り、必要に応じて一般的に添加される添加剤、例えば、重合禁止剤、光増感剤、レベリング剤、界面活性剤、密着性付与剤、可塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、貯蔵安定剤、帯電防止剤、無機充填剤、顔料、染料等を適宜配合してよい。
本発明の硬化性組成物は、基材上に塗布(コーティング)して塗膜を形成し、該塗膜に活性エネルギー線を照射して重合(硬化)させることにより、硬化膜を形成できる。該硬化膜も本発明の対象である。また後述するハードコートフィルムにおけるハードコート層を該硬化膜からなるものとすることができる。
この場合の前記基材としては、例えば、各種樹脂(ポリカーボネート、ポリメタクリレート、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレート(PET)やポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル、ポリウレタン、熱可塑性ポリウレタン(TPU)、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリイミド、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、トリアセチルセルロース、アクリロニトリル-ブタジエン-スチレン共重合体(ABS)、アクリロニトリル-スチレン共重合体(AS)、ノルボルネン系樹脂等)、金属、木材、紙、ガラス、スレート等を挙げることができる。これら基材の形状は板状、フィルム状又は3次元成形体でもよい。
基材上に硬化性組成物を塗布し塗膜を形成した後、必要に応じてホットプレート、オーブン等の加熱手段で塗膜を予備乾燥して溶媒を除去する(溶媒除去工程)。この際の加熱乾燥の条件としては、例えば、40℃~120℃で、30秒~10分程度とすることが好ましい。
活性エネルギー線の照射は、大気下であっても、窒素等の不活性ガス雰囲気下であっても構わない。本発明の硬化性組成物は、大気下で硬化させた場合であっても十分な効果が得られるため、手間やコストの観点から、大気下で照射すれば十分である。
さらにその後、ポストベークを行うことにより、具体的にはホットプレート、オーブンなどを用いて加熱することにより重合を完結させてもよい。
なお、形成される硬化膜の厚さは、乾燥、硬化後において、通常0.01μm~50μm、好ましくは0.05μm~20μmである。
本発明の硬化性組成物を用いて、フィルム基材の少なくとも一方の面(表面)にハードコート層を備えるハードコートフィルムを製造することができる。該ハードコートフィルムも本発明の対象であり、該ハードコートフィルムは、例えばタッチパネルや液晶ディスプレイ等の各種表示素子の表面を保護するために好適に用いられる。
また前記フィルム基材上への硬化性組成物の塗布方法(塗膜形成工程)及び塗膜への活性エネルギー線照射方法(硬化工程)は、前述の<硬化膜>に挙げた方法を用いることができる。また本発明の硬化性組成物に溶媒が含まれる(ワニス形態の)場合、塗膜形成工程の後、必要に応じて該塗膜を乾燥し溶媒除去する工程を含むことができる。その場合、前述の<硬化膜>に挙げた塗膜の乾燥方法(溶媒除去工程)を用いることができる。
こうして得られたハードコート層の層厚は、好ましくは1μm~20μm、より好ましくは1μm~10μmである。
なお、実施例において、試料の調製及び物性の分析に用いた装置及び条件は、以下の通りである。
装置:(株)エスエムテー製 PM-9050MC
バー:オーエスジーシステムプロダクツ(株)製 A-Bar OSP-22、最大ウエット膜厚22μm(ワイヤーバー#9相当)
塗布速度:4m/分
(2)オーブン
装置:アドバンテック東洋(株)製 無塵乾燥器 DRC433FA
(3)UV硬化
装置:ヘレウス(株)製 CV-110QC-G
ランプ:ヘレウス(株)製 高圧水銀ランプH-bulb
窒素パージボックス:ヘレウス(株)製
(4)LC-MS
[LC]
装置:(株)島津製作所製 超高速液体クロマトグラフ Prominence(登録商標)UFLC XRシリーズ
カラム:日本ウォーターズ(株)製 XBridge BEH C18(2.1mm×75mm、2.5μm)
カラム温度:40℃
検出器:UV(210nm)
移動相A:0.1質量%ギ酸超純水溶液
移動相B:0.1質量%ギ酸アセトニトリル溶液
流速:0.3mL/分
グラジエント: 0分[移動相A:移動相B=98:2(体積比)]
12分[移動相A:移動相B=2:98(体積比)]
15分[移動相A:移動相B=2:98(体積比)]
試料濃度:0.5mg/mL(アセトニトリル溶液)
注入量:1μL
[MS]
装置:(株)エービー・サイエックス製 TripleTOF 5600+
イオン化:ESI
モード:Positive
スキャンレンジ:m/z=50~1,000
(5)ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)
装置:東ソー(株)製 HLC-8220GPC
カラム:昭和電工(株)製 Shodex(登録商標)GPC K-804L、GPC K-805L
カラム温度:40℃
溶離液:テトラヒドロフラン
検出器:RI
(6)耐擦傷性試験
装置:新東科学(株)製 往復摩耗試験機 TRIBOGEAR TYPE:30S
走査速度:5,000mm/分
走査距離:50mm
(7)接触角測定
装置:協和界面科学(株)製 DropMaster DM-501
測定温度:23℃
PFPE1:分子鎖の両末端それぞれにポリ(オキシアルキレン)基を介さずヒドロキシ基を2つ有するパーフルオロポリエーテル[ソルベイスペシャルティポリマーズ社製 Fomblin(登録商標)T4]
PFPE2:分子鎖の両末端にポリ(オキシアルキレン)基(繰返し単位数8又は9)を介してヒドロキシ基を有するパーフルオロポリエーテル[ソルベイスペシャルティポリマーズ社製 Fluorolink 5147X]
BEI:1,1-ビス(アクリロイルオキシメチル)エチルイソシアネート[昭和電工(株)製 カレンズ(登録商標)BEI]
DOTDD:ジネオデカン酸ジオクチル錫[日東化成(株)製 ネオスタン(登録商標)U-830]
SM3:分子鎖の片末端に(メタ)アクリロイル基を有するパーフルオロポリエーテル[信越化学工業(株)製 フッ素系防汚添加剤 KY-1203、不揮発分20質量%MEK/MIBK溶液]
SM4:分子鎖の片末端に(メタ)アクリロイル基を有するパーフルオロポリエーテル[ダイキン工業(株)製 指紋付着防止剤 オプツール(登録商標)DAC-HP、不揮発分20質量%溶液]
DPHA80:ジペンタエリスリトールペンタアクリレート/ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート混合物[新中村化学工業(株)製 NKエステルA-DPH、ヘキサ体比率80mol%(LC-MS)]
DPHA66:ジペンタエリスリトールペンタアクリレート/ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート混合物[東亞合成(株)製 アロニックス(登録商標)M-406、ペンタ体25-35%(カタログ値)、ヘキサ体比率66mol%(LC-MS)]
DPHA51:ジペンタエリスリトールペンタアクリレート/ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート混合物[東亞合成(株)製 アロニックス(登録商標)M-404、ペンタ体30-40%(カタログ値)、ヘキサ体比率51mol%(LC-MS)]
DPHA47:ジペンタエリスリトールペンタアクリレート/ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート混合物[日本化薬(株)製 KAYARAD DPHA、ヘキサ体比率47mol%(LC-MS)]
DPHA33:ジペンタエリスリトールペンタアクリレート/ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート混合物[東亞合成(株)製 アロニックス(登録商標)M-403、ペンタ体50-60%(カタログ値)、ヘキサ体比率33mol%(LC-MS)]
O2959:2-ヒドロキシ-1-(4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル)-2-メチルプロパン-1-オン[IGM Resins社製 OMNIRAD(登録商標)2959]
MEK:メチルエチルケトン
PGME:プロピレングリコールモノメチルエーテル
ヘキサ体比率[mol%]=(AH1+AH2)÷(AP1+AP2+AH1+AH2)×100
AP1:ジペンタエリスリトールペンタアクリレートのプロトン付加体(m/z=525.197)のXICのピーク面積
AP2:ジペンタエリスリトールペンタアクリレートのアンモニウム付加体(m/z=542.223)のXICのピーク面積
AH1:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートのプロトン付加体(m/z=579.207)のXICのピーク面積
AH2:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートのアンモニウム付加体(m/z=596.234)のXICのピーク面積
スクリュー管に、PFPE1 1.19g(0.5mmol)、BEI0.52g(2.0mmol)、DOTDD0.017g(PFPE1及びBEIの合計質量の0.01倍量)、及びMEK1.67gを仕込んだ。この混合物を、スターラーチップを用いて室温(およそ23℃)で24時間撹拌して、目的化合物であるSM1の50質量%MEK溶液を得た。
得られたSM1のGPCによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量:Mwは3,000、分散度:Mw(重量平均分子量)/Mn(数平均分子量)は1.2であった。
スクリュー管に、PFPE2 1.05g(0.5mmol)、BEI0.26g(1.0mmol)、DOTDD0.013g(PFPE2及びBEIの合計質量の0.01倍量)、及びMEK1.30gを仕込んだ。この混合物を、スターラーチップを用いて室温(およそ23℃)で24時間撹拌して、目的化合物であるSM2の50質量%MEK溶液を得た。
得られたSM2のGPCによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量:Mwは3,100、分散度:Mw/Mnは1.1であった。
表1の記載に従って以下の各成分を混合し、表1に記載の固形分濃度の硬化性組成物を調製した。なお、ここで固形分とは溶媒以外の成分を指す。また、表1中、[部]とは[質量部]を表す。
(1)多官能モノマー:表1に記載の多官能モノマー 100質量部
(2)表面改質剤:表1に記載の表面改質剤を表1に記載の量(固形分換算)
(3)重合開始剤:O2959 2.5質量部
(4)溶媒:PGMEを表1に記載の量
また、硬化条件を、前記大気下、露光量1,300mJ/cm2から、窒素雰囲気下、露光量300mJ/cm2に変更した以外は同様に操作して、およそ5μmの層(膜)厚を有するハードコート層(硬化膜)を有するハードコートフィルムを作製した。
ハードコート層表面を、往復摩耗試験機に取り付けたスチールウール[ボンスター販売(株)製 ボンスター(登録商標)#0000(超極細)]で1kg/cm2の荷重を掛けて1,000往復擦り、白色光源下で、傷の程度を目視で確認し以下の基準A及びCに従い評価した。
A:傷無し
C:傷が発生
上記擦傷試験の前後のハードコート層表面の水接触角から、その維持率[%](=試験後接触角÷試験前接触角×100)を算出し防汚耐久性として評価した。なお、接触角は、水1μLをハードコート層表面に付着させ、その5秒後の接触角θを5点で測定し、その平均値を接触角値とした。
一方、ジペンタエリスリトールポリアクリレートとして、ヘキサ体比率が50mol%よりも低いジペンタエリスリトールペンタアクリレート/ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート混合物を配合した比較例1及び比較例2の硬化性組成物を用いて作製したハードコートフィルムは、硬化性組成物を大気下で硬化した場合には優れた耐擦傷性を有しないものであった。
Claims (11)
- (a)ジペンタエリスリトールポリ(メタ)アクリレート100質量部、
(b)ポリ(オキシパーフルオロアルキレン)基を含むパーフルオロポリエーテルであって、その分子鎖の両末端それぞれに、ウレタン結合を介して、活性エネルギー線重合性基として(メタ)アクリロイル基又はビニル基を2つ以上有するパーフルオロポリエーテル(但し、前記ポリ(オキシパーフルオロアルキレン)基と前記ウレタン結合との間にポリ(オキシアルキレン)基を有するパーフルオロポリエーテルを除く。)0.05質量部~10質量部、及び
(c)活性エネルギー線によりラジカルを発生する重合開始剤1質量部~20質量部
を含み、
前記(a)ジペンタエリスリトールポリ(メタ)アクリレートは、液体クロマトグラフィー質量分析法の測定結果から下記式に従い算出された、ペンタ(メタ)アクリレートとヘキサ(メタ)アクリレートの総量に対するヘキサ(メタ)アクリレートの割合であるヘキサ体比率が50mol%以上100mol%以下である、硬化性組成物。
ヘキサ体比率[mol%]=(AH1+AH2)÷(AP1+AP2+AH1+AH2)×100
AP1:ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートのプロトン付加体の抽出イオンクロマトグラムのピーク面積
AP2:ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートのアンモニウム付加体の抽出イオンクロマトグラムのピーク面積
AH1:ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートのプロトン付加体の抽出イオンクロマトグラムのピーク面積
AH2:ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートのアンモニウム付加体の抽出イオンクロマトグラムのピーク面積 - 前記(b)パーフルオロポリエーテルは、その分子鎖の両末端それぞれにおいてウレタン結合を介して(メタ)アクリロイル基又はビニル基を少なくとも3つ有する、請求項1に記載の硬化性組成物。
- 前記ポリ(オキシパーフルオロアルキレン)基が、繰り返し単位-[OCF2]-及び繰り返し単位-[OCF2CF2]-の双方を有し、これら繰り返し単位をブロック結合、ランダム結合、又は、ブロック結合及びランダム結合にて結合してなる基である、請求項1又は請求項2に記載の硬化性組成物。
- 前記(b)パーフルオロポリエーテルが下記式[1]で表される部分構造を有する、請求項3に記載の硬化性組成物。
(上記式[1]中、
nは、繰り返し単位-[OCF2CF2]-の数と繰り返し単位-[OCF2]-の数との総数であって、5~30の整数を表し、
前記繰り返し単位-[OCF2CF2]-及び前記繰り返し単位-[OCF2]-は、ブロック結合、ランダム結合、又は、ブロック結合及びランダム結合の何れかにて結合してなる。) - さらに(d)溶媒を含む、請求項1乃至請求項4のうち何れか一項に記載の硬化性組成物。
- 請求項1乃至請求項5のうち何れか一項に記載の硬化性組成物の硬化物からなる硬化膜。
- フィルム基材の少なくとも一方の面にハードコート層を備えるハードコートフィルムであって、該ハードコート層が請求項6に記載の硬化膜からなる、ハードコートフィルム。
- フィルム基材の少なくとも一方の面にハードコート層を備えるハードコートフィルムであって、該ハードコート層が、請求項1乃至請求項5のうち何れか一項に記載の硬化性組成物をフィルム基材上に塗布し塗膜を形成する工程と、該塗膜に活性エネルギー線を照射し硬化する工程とを含む方法により形成されてなる、ハードコートフィルム。
- 前記ハードコート層が1μm~10μmの層厚を有する、請求項7又は請求項8に記載のハードコートフィルム。
- フィルム基材の少なくとも一方の面にハードコート層を備えるハードコートフィルムの製造方法であって、請求項1乃至請求項5のうち何れか一項に記載の硬化性組成物をフィルム基材上に塗布し塗膜を形成する工程と、該塗膜に大気下で活性エネルギー線を照射し硬化する工程とを含む、ハードコートフィルムの製造方法。
- 前記ハードコート層が1μm~10μmの層厚を有する、請求項10に記載の製造方法。
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