JP6997418B2 - インプリント用レプリカモールド材料 - Google Patents
インプリント用レプリカモールド材料 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6997418B2 JP6997418B2 JP2019535146A JP2019535146A JP6997418B2 JP 6997418 B2 JP6997418 B2 JP 6997418B2 JP 2019535146 A JP2019535146 A JP 2019535146A JP 2019535146 A JP2019535146 A JP 2019535146A JP 6997418 B2 JP6997418 B2 JP 6997418B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- replica mold
- component
- imprint
- mass
- mold material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 0 C*CC(*)(C1CCC(***C(C(*)=C)=*)CC1)C(CC1)CCC1C(C)(C)O*OC(C(*)=C)=O Chemical compound C*CC(*)(C1CCC(***C(C(*)=C)=*)CC1)C(CC1)CCC1C(C)(C)O*OC(C(*)=C)=O 0.000 description 2
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C33/00—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
- B29C33/38—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor characterised by the material or the manufacturing process
- B29C33/40—Plastics, e.g. foam or rubber
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/02—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Description
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、硬化時に低硬化収縮率を示し、硬化物が高透明性を有し、且つウェハレベル成形用のレプリカモールドを作製するのに好適なレプリカモールド材料、及び当該レプリカモールド材料から作製された、パターンを有するレプリカモールドを提供することを目的とする。
下記(A)成分、(B)成分及び(C)成分を含有するインプリント用レプリカモールド材料に関する。
(A):下記式(1)で表されるジ(メタ)アクリレート化合物
(B):下記式(2)で表される構造単位及び下記式(3)で表される構造単位を有する非架橋性の共重合体
(C):前記(A)成分と前記(B)成分との合計100質量%に対し、0.01質量%乃至1質量%の光重合開始剤
第2観点として、
前記(A)成分と前記(B)成分との合計100質量%に対し、該(B)成分を1質量%乃至50質量%含む、第1観点に記載のインプリント用レプリカモールド材料に関する。
第3観点として、
前記(B)成分の重量平均分子量が標準ポリスチレン換算で2,000乃至100,000である、第1観点又は第2観点に記載のインプリント用レプリカモールド材料に関する。
第4観点として、
前記脂環式炭化水素基はイソボルニル基である、第1観点乃至第3観点のいずれか一つに記載のインプリント用レプリカモールド材料に関する。
第5観点として、
(D)成分としてチオール基を少なくとも1つ有する化合物をさらに含有する、第1観点乃至第4観点のいずれか一つに記載のインプリント用レプリカモールド材料に関する。
第6観点として、
(E)成分として酸化防止剤をさらに含有する、第1観点乃至第5観点のいずれか一つに記載のインプリント用レプリカモールド材料に関する。
第7観点として、
(F)成分として界面活性剤をさらに含有する、第1観点乃至第6観点のいずれか一つに記載のインプリント用レプリカモールド材料に関する。
第8観点として、
第1観点乃至第7観点のいずれか一つに記載のインプリント用レプリカモールド材料から作製された、パターンを有するインプリント用レプリカモールドに関する。
第9観点として、
前記パターンがレンズ形状の反転パターンである、第8観点に記載のインプリント用レプリカモールドに関する。
第10観点として、
前記インプリント用レプリカモールドの最大厚さが2.0mmである、第8観点又は第9観点に記載のインプリント用レプリカモールドに関する。
第11観点として、
第1観点乃至第7観点のいずれか一つに記載のインプリント用レプリカモールド材料をマスターモールド上に塗布する工程、
前記レプリカモールド材料を介して前記マスターモールドを基材と圧着する工程、
前記マスターモールドを前記基材に圧着させたまま該基材を通して前記レプリカモールド材料を露光し、該レプリカモールド材料を光硬化する工程、及び
前記光硬化する工程の後、前記基材上に得られた光硬化物を前記マスターモールドから離型する工程を含むインプリント用レプリカモールドの作製方法に関する。
第12観点として、
第1観点乃至第7観点のいずれか一つに記載のインプリント用レプリカモールド材料を基材上に塗布する工程、
前記レプリカモールド材料を介して前記基材をマスターモールドと圧着する工程、
前記マスターモールドを前記基材に圧着させたまま該基材を通して前記レプリカモールド材料を露光し、該レプリカモールド材料を光硬化する工程、及び
前記光硬化する工程の後、前記基材上に得られた光硬化物を前記マスターモールドから離型する工程を含むインプリント用レプリカモールドの作製方法に関する。
(A)成分の化合物は、下記式(1)で表されるジ(メタ)アクリレート化合物である。
(B)成分の非架橋性の共重合体は下記式(2)で表される構造単位及び下記式(3)で表される構造単位を有する非架橋性の共重合体である。ここで、非架橋性とは、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、グリシジル基、エポキシシクロヘキシル基等の反応性基を有さないことを意味する。
上記(B)成分の非架橋性の共重合体の重量平均分子量は、標準ポリスチレン換算で、好ましくは2,000乃至100,000であり、より好ましくは3,000乃至50,000である。上記重量平均分子量が2,000未満であると、インプリント用レプリカモールド材料の硬化時に低い硬化収縮率を得ることができず、上記重量平均分子量が100,000を超えると当該レプリカモールド材料の硬化性が低下する。
(C)成分である光重合開始剤は、本発明のインプリント用レプリカモールド材料の光硬化時に使用する光源に吸収をもつものであれば、特に限定されるものではない。例えば、tert-ブチルペルオキシ-iso-ブチレート、2,5-ジメチル-2,5-ビス(ベンゾイルジオキシ)ヘキサン、1,4-ビス[α-(tert-ブチルジオキシ)-iso-プロポキシ]ベンゼン、ジ-tert-ブチルペルオキシド、2,5-ジメチル-2,5-ビス(tert-ブチルジオキシ)ヘキセンヒドロペルオキシド、α-(iso-プロピルフェニル)-iso-プロピルヒドロペルオキシド、tert-ブチルヒドロペルオキシド、1,1-ビス(tert-ブチルジオキシ)-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン、ブチル-4,4-ビス(tert-ブチルジオキシ)バレレート、シクロヘキサノンペルオキシド、2,2’,5,5’-テトラ(tert-ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’-テトラ(tert-ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’-テトラ(tert-アミルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’-テトラ(tert-ヘキシルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’-ビス(tert-ブチルペルオキシカルボニル)-4,4’-ジカルボキシベンゾフェノン、tert-ブチルペルオキシベンゾエート、ジ-tert-ブチルジペルオキシイソフタレート等の有機過酸化物;9,10-アントラキノン、1-クロロアントラキノン、2-クロロアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,2-ベンズアントラキノン等のキノン類;ベンゾインメチル、ベンゾインエチルエーテル、α-メチルベンゾイン、α-フェニルベンゾイン等のベンゾイン誘導体;2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-プロパン-1-オン、1-[4-(2-ヒドロキシエトキシ)-フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン、2-ヒドロキシ-1-[4-{4-(2-ヒドロキシ-2-メチル-プロピオニル)ベンジル}-フェニル]-2-メチル-プロパン-1-オン、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルホリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノフェニル)-1-ブタノン、2-ジメチルアミノ-2-(4-メチル-ベンジル)-1-(4-モルホリン-4-イル-フェニル)-ブタン-1-オン等のアルキルフェノン系化合物;ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-フェニルホスフィンオキサイド、2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-ホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド系化合物;2-(O-ベンゾイルオキシム)-1-[4-(フェニルチオ)フェニル]-1,2-オクタンジオン、1-(O-アセチルオキシム)-1-[9-エチル-6-(2-メチルベンゾイル)-9H-カルバゾール-3-イル]エタノン等のオキシムエステル系化合物が挙げられる。
(D)成分であるチオール基を少なくとも1つ有する化合物としては、例えば、メルカプト酢酸メチル、3-メルカプトプロピオン酸メチル、3-メルカプトプロピオン酸2-エチルヘキシル、3-メルカプトプロピオン酸3-メトキシブチル、3-メルカプトプロピオン酸n-オクチル、3-メルカプトプロピオン酸ステアリル、1,4-ビス(3-メルカプトプロピオニルオキシ)ブタン、1,4-ビス(3-メルカプトブチリルオキシ)ブタン、トリメチロールエタントリス(3-メルカプトプロピオネート)、トリメチロールエタントリス(3-メルカプトブチレート)、トリメチロールプロパントリス(3-メルカプトプロピオネート)、トリメチロールプロパントリス(3-メルカプトブチレート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトブチレート)、ジペンタエリスリトールヘキサキス(3-メルカプトプロピオネート)、ジペンタエリスリトールヘキサキス(3-メルカプトブチレート)、トリス[2-(3-メルカプトプロピオニルオキシ)エチル]イソシアヌレート、トリス[2-(3-メルカプトブチリルオキシ)エチル]イソシアヌレート等のメルカプトカルボン酸エステル類;エタンチオール、2-メチルプロパン-2-チオール、1-ドデカンチオール、2,3,3,4,4,5-ヘキサメチルヘキサン-2-チオール(tert-ドデカンチオール)、エタン-1,2-ジチオール、プロパン-1,3-ジチオール、ベンジルチオール等のアルキルチオール類;ベンゼンチオール、3-メチルベンゼンチオール、4-メチルベンゼンチオール、ナフタレン-2-チオール、ピリジン-2-チオール、ベンゾイミダゾール-2-チオール、ベンゾチアゾール-2-チオール等の芳香族チオール類;2-メルカプトエタノール、4-メルカプト-1-ブタノール等のメルカプトアルコール類;3-(トリメトキシシリル)プロパン-1-チオール、3-(トリエトキシシリル)プロパン-1-チオール等のシラン含有チオール類が挙げられる。
(E)成分である酸化防止剤は市販品として入手が可能であり、その具体例としては、IRGANOX(登録商標)245、同1010、同1035、同1076、同1135[以上、BASFジャパン(株)製]、スミライザー(登録商標)GA-80、同GP、同MDP-S、同BBM-S、同WX-R[以上、住友化学(株)製]、アデカスタブ(登録商標)AO-20、同AO-30、同AO-40、同AO-50、同AO-50F、同AO-60、同AO-60G、同AO-80、同AO-330、同PEP-36、同PEP-8、同PEP-10、同2112、同2112RG、同1178、同1500、同C、同135A、同3010、同TPP、同AO-412S、同AO-503(以上、(株)ADEKA製)が挙げられる。
(F)成分である界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタントリオレエート、ソルビタントリステアレート等のソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエート、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート等のポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等のノニオン系界面活性剤が挙げられる。
本発明のインプリント用レプリカモールド材料は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて、一分子中に(メタ)アクリロイルオキシ基を1つ有する化合物、一分子中に(メタ)アクリロイルオキシ基を2つ有する化合物(但し、前記式(1)で表されるジ(メタ)アクリレート化合物を除く。)、エポキシ化合物、光酸発生剤、光増感剤、紫外線吸収剤、連鎖移動剤、密着補助剤、離型性向上剤及び溶媒を含有することができる。
本発明のインプリント用レプリカモールド材料の調製方法は、特に限定されないが、(A)成分、(B)成分、(C)成分、並びに所望により(D)成分、(E)成分、(F)成分及びその他添加剤を混合し、インプリント用レプリカモール材料が均一な状態となっていればよい。また、(A)成分乃至(C)成分、並びに所望により(D)成分乃至(F)成分及びその他添加剤を混合する際の順序は、均一なインプリント用レプリカモールド材料が得られるなら問題なく、特に限定されない。当該レプリカモールド材料の調製方法としては、例えば、(A)成分、(B)成分を所定の割合で混合し、これに更に(C)成分、並びに所望により(D)成分、(E)成分及び(F)成分を適宜混合し、均一なインプリント用レプリカモールド材料とする方法も挙げられる。さらに、この調製方法の適当な段階において、必要に応じて、その他の添加剤を更に添加して混合する方法が挙げられる。
本発明のインプリント用レプリカモールド材料を、基材上又はマスターモールド上に塗布し、当該基材と当該マスターモールドを貼り合わせて光硬化させ、得られた光硬化物をそのマスターモールドから離型することで所望のインプリント用レプリカモールドを得ることができる。塗布方法としては、公知又は周知の方法、例えば、ポッティング法、スピンコート法、ディップ法、フローコート法、インクジェット法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、スリットコート法、ロールコート法、転写印刷法、刷毛塗り、ブレードコート法、エアーナイフコート法を挙げることができる。
装置:(株)島津製作所 製 GPCシステム
GPCカラム:Shodex(登録商標)GPC KF-804L及びGPC KF-803L
カラム温度:40℃
溶媒:テトラヒドロフラン
流量:1mL/分
標準試料:ポリスチレン
AIBN:アゾビスイソブチロニトリル
PGMEA:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
2Lの四つ口フラスコにPGMEAを178.84g入れ、窒素雰囲気下、内温80℃で攪拌した。ここに、メタクリル酸メチル(東京化成工業(株)製)120g、イソボルニルアクリレート(東京化成工業(株)製)249.66g、AIBN(関東化学(株)製)5.904g、及びPGMEA697.48gを混合させた溶液を2時間かけて滴下し、滴下後17時間反応させた。反応溶液をメタノール(純正化学(株)製)6.3kgに滴下し、析出したポリマーを133.3Paの減圧下、80℃で乾燥し、(B)成分である非架橋性の共重合体MI55を330.4g得た。GPCにて、得られたMI55の重量平均分子量を測定したところ、標準ポリスチレン換算で20,100であった。
200mLの四つ口フラスコにPGMEAを18.97g入れ、窒素雰囲気下、内温80℃で攪拌した。ここに、メタクリル酸メチル(東京化成工業(株)製)6.5g、イソボルニルアクリレート(東京化成工業(株)製)31.55g、AIBN(関東化学(株)製)1.78g、及びPGMEA73.97gを混合させた溶液を2時間かけて滴下し、滴下後17時間反応させた。反応溶液をメタノール(純正化学(株)製)1.3kgに滴下し、析出したポリマーを133.3Paの減圧下、80℃で乾燥し、(B)成分である非架橋性の共重合体MI37を23.78g得た。GPCにて、得られたMI37の重量平均分子量を測定したところ、標準ポリスチレン換算で9,700であった。
200mLの四つ口フラスコにPGMEAを19.23g入れ、窒素雰囲気下、内温80℃で攪拌した。ここに、メタクリル酸メチル(東京化成工業(株)製)12.0g、FA-513AS(日立化成工業(株)製)26.41g、AIBN(関東化学(株)製)1.97g、及びPGMEA74.98gを混合させた溶液を2時間かけて滴下し、滴下後17時間反応させた。反応溶液をメタノール(純正化学(株)製)1.3kgに滴下し、析出したポリマーを133.3Paの減圧下、80℃で乾燥し、(B)成分である非架橋性の共重合体MT55を26.91g得た。GPCにて、得られたMT55の重量平均分子量を測定したところ、標準ポリスチレン換算で9,800であった。
200mLの四つ口フラスコにPGMEAを14.42g入れ、窒素雰囲気下、内温80℃で攪拌した。ここに、メタクリル酸メチル(東京化成工業(株)製)9.0g、ADMA(大阪有機化学工業(株)製)19.8g、AIBN(関東化学(株)製)1.48g、及びPGMEA56.23gを混合させた溶液を2時間かけて滴下し、滴下後17時間反応させた。反応溶液をメタノール(純正化学(株)製)1.0kgに滴下し、析出したポリマーを133.3Paの減圧下、80℃で乾燥し、(B)成分である非架橋性の共重合体MA55を21.23g得た。GPCにて、得られたMA55の重量平均分子量を測定したところ、標準ポリスチレン換算で9,650であった。
200mLの四つ口フラスコにメタクリル酸メチル(東京化成工業(株)製)15.0g、イソボルニルアクリレート(東京化成工業(株)製)31.21g、及びPGMEA73.88gを入れ、窒素雰囲気下、内温80℃で攪拌した。ここにAIBN(関東化学(株)製)2.46g及びPGMEA46.74gを混合させた溶液を2時間かけて滴下し、滴下後17時間反応させた。反応溶液をメタノール(純正化学(株)製)1.0kgに滴下し、析出したポリマーを133.3Paの減圧下、80℃で乾燥し、(B)成分である非架橋性の共重合体MI55Lを30.0g得た。GPCにて、得られたMI55Lの重量平均分子量を測定したところ、標準ポリスチレン換算で4,600であった。
200mLの四つ口フラスコにPGMEAを20.55g入れ、窒素雰囲気下、内温80℃で攪拌した。ここに、メタクリル酸メチル(東京化成工業(株)製)25.0g、イソボルニルアクリレート(東京化成工業(株)製)17.34g、AIBN(関東化学(株)製)0.82g、及びPGMEA80.15gを混合させた溶液を2時間かけて滴下し、滴下後17時間反応させた。反応溶液をメタノール(純正化学(株)製)1.0kgに滴下し、析出したポリマーを133.3Paの減圧下、80℃で乾燥し、(B)成分である非架橋性の共重合体MI7525を32.4g得た。GPCにて、得られたMI7525の重量平均分子量を測定したところ、標準ポリスチレン換算で20,600であった。
<実施例1>
ニューフロンティア(登録商標)HBPE-4(第一工業製薬(株)製)(以下、本明細書では「HBPE-4」と略称する。)9.5g、合成例1で得られたMI55を0.5g、及びIRGACURE(登録商標)184(BASFジャパン(株)製)(以下、本明細書では「IRGACURE184」と略称する。)を0.01g(HBPE-4及びMI55の総質量100質量%に対して0.1質量%)加え、インプリント用レプリカモールド材料RM-a1を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、(A)成分、(B)成分及び(C)成分を含む。
HBPE-4を9g、合成例1で得られたMI55を1g、及びIRGACURE184を0.01g(HBPE-4及びMI55の総質量100質量%に対して0.1質量%)加え、インプリント用レプリカモールド材料RM-a2を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、(A)成分、(B)成分及び(C)成分を含む。
HBPE-4を7g、合成例1で得られたMI55を3g、及びIRGACURE184を0.01g(HBPE-4及びMI55の総質量100質量%に対して0.1質量%)加え、インプリント用レプリカモールド材料RM-a3を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、(A)成分、(B)成分及び(C)成分を含む。
HBPE-4を5g、合成例1で得られたMI55を5g、及びIRGACURE184を0.01g(HBPE-4及びMI55の総質量100質量%に対して0.1質量%)加え、インプリント用レプリカモールド材料RM-a4を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、(A)成分、(B)成分及び(C)成分を含む。
HBPE-4を9g、合成例1で得られたMI55を1g、IRGACURE184を0.01g(HBPE-4及びMI55の総質量100質量%に対して0.1質量%)、及びチオカルコール(登録商標)20(花王(株)製)(以下、本明細書では「チオカルコール20」と略称する。)を0.05g(HBPE-4及びMI55の総質量100質量%に対して0.5質量%)加え、インプリント用レプリカモールド材料RM-a5を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、(A)成分、(B)成分、(C)成分及び(D)成分を含む。
HBPE-4を9g、合成例1で得られたMI55を1g、IRGACURE184を0.01g(HBPE-4及びMI55の総質量100質量%に対して0.1質量%)、及びカレンズMT(登録商標)PE1(昭和電工(株)製)を0.05g(HBPE-4及びMI55の総質量100質量%に対して0.5質量%)加え、インプリント用レプリカモールド材料RM-a6を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、(A)成分、(B)成分、(C)成分及び(D)成分を含む。
HBPE-4を9g、合成例1で得られたMI55を1g、IRGACURE184を0.01g(HBPE-4及びMI55の総質量100質量%に対して0.1質量%)、及びIRGANOX(登録商標)1010(BASFジャパン(株)製)を0.01g(HBPE-4及びMI55の総質量100質量%に対して0.1質量%)加え、インプリント用レプリカモールド材料RM-a7を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、(A)成分、(B)成分、(C)成分及び(E)成分を含む。
HBPE-4を9g、合成例1で得られたMI55を1g、IRGACURE184を0.01g(HBPE-4及びMI55の総質量100質量%に対して0.1質量%)、及びBYK-UV3570(ビックケミー・ジャパン(株)製)を0.1g(HBPE-4及びMI55の総質量100質量%に対して1質量%)加え、インプリント用レプリカモールド材料RM-a8を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、(A)成分、(B)成分、(C)成分及び(F)成分を含む。
HBPE-4を9g、合成例2で得られたMI37を1g、及びIRGACURE184を0.01g(HBPE-4及びMI37の総質量100質量%に対して0.1質量%)加え、インプリント用レプリカモールド材料RM-a9を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、(A)成分、(B)成分及び(C)成分を含む。
HBPE-4を9g、合成例3で得られたMT55を1g、及びIRGACURE184を0.01g(HBPE-4及びMT55の総質量100質量%に対して0.1質量%)加え、インプリント用レプリカモールド材料RM-a10を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、(A)成分、(B)成分及び(C)成分を含む。
HBPE-4を9g、合成例4で得られたMA55を1g、及びIRGACURE184を0.01g(HBPE-4及びMA55の総質量100質量%に対して0.1質量%)加え、インプリント用レプリカモールド材料RM-a11を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、(A)成分、(B)成分及び(C)成分を含む。
HBPE-4を9g、合成例1で得られたMI55を1g、及びIRGACURE184を0.05g(HBPE-4及びMI55の総質量100質量%に対して0.5質量%)加え、インプリント用レプリカモールド材料RM-a12を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、(A)成分、(B)成分及び(C)成分を含む。
HBPE-4を9.75g、合成例1で得られたMI55を0.25g、及びIRGACURE184を0.01g(HBPE-4及びMI55の総質量100質量%に対して0.1質量%)加え、インプリント用レプリカモールド材料RM-a13を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、(A)成分、(B)成分及び(C)成分を含む。
HBPE-4を8.5g、合成例5で得られたMI55Lを1.0g、NKエステル A-NPG(新中村化学工業(株)製)(以下、本明細書では「A-NPG」と略称する。)0.5g及びIRGACURE184を0.01g(HBPE-4、MI55L及びA-NPGの総質量100質量%に対して0.1質量%)加え、インプリント用レプリカモールド材料RM-a14を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、(A)成分、(B)成分及び(C)成分を含む。
HBPE-4を8.0g、合成例5で得られたMI55Lを1.0g、A-NPGを1.0g及びIRGACURE184を0.01g(HBPE-4、MI55L及びA-NPGの総質量100質量%に対して0.1質量%)加え、インプリント用レプリカモールド材料RM-a15を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、(A)成分、(B)成分及び(C)成分を含む。
HBPE-4を8.5g、合成例5で得られたMI55Lを1.0g、NKエステル A-200(新中村化学工業(株)製)(以下、本明細書では「A-200」と略称する。)0.5g及びIRGACURE184を0.01g(HBPE-4、MI55L及びA-200の総質量100質量%に対して0.1質量%)加え、インプリント用レプリカモールド材料RM-a16を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、(A)成分、(B)成分及び(C)成分を含む。
HBPE-4を8.0g、合成例5で得られたMI55Lを1.0g、A-200を1.0g及びIRGACURE184を0.01g(HBPE-4、MI55L及びA-200の総質量100質量%に対して0.1質量%)加え、インプリント用レプリカモールド材料RM-a17を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、(A)成分、(B)成分及び(C)成分を含む。
HBPE-4を8.5g、合成例5で得られたMI55Lを1.0g、NKエステル A-600(新中村化学工業(株)製)(以下、本明細書では「A-600」と略称する。)0.5g及びIRGACURE184を0.01g(HBPE-4、MI55L及びA-600の総質量100質量%に対して0.1質量%)加え、インプリント用レプリカモールド材料RM-a18を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、(A)成分、(B)成分及び(C)成分を含む。
HBPE-4を8.0g、合成例5で得られたMI55Lを1.0g、A-600を1.0g及びIRGACURE184を0.01g(HBPE-4、MI55L及びA-600の総質量100質量%に対して0.1質量%)加え、インプリント用レプリカモールド材料RM-a19を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、(A)成分、(B)成分及び(C)成分を含む。
HBPE-4を7.5g、合成例5で得られたMI55Lを1.0g、A-600を1.5g及びIRGACURE184を0.01g(HBPE-4、MI55L及びA-600の総質量100質量%に対して0.1質量%)加え、インプリント用レプリカモールド材料RM-a20を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、(A)成分、(B)成分及び(C)成分を含む。
HBPE-4を7.0g、合成例5で得られたMI55Lを1.0g、A-600を2.0g及びIRGACURE184を0.01g(HBPE-4、MI55L及びA-600の総質量100質量%に対して0.1質量%)加え、インプリント用レプリカモールド材料RM-a21を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、(A)成分、(B)成分及び(C)成分を含む。
HBPE-4を9.75g、合成例1で得られたMI55を0.25g、チオカルコール20を0.05g(HBPE-4及びMI55の総質量100質量%に対して0.5質量%)及びIRGACURE184を0.01g(HBPE-4及びMI55の総質量100質量%に対して0.1質量%)加え、インプリント用レプリカモールド材料RM-a22を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、(A)成分、(B)成分、(C)成分及び(D)成分を含む。
HBPE-4を9.75g、合成例1で得られたMI55を0.25g、チオカルコール20を0.1g(HBPE-4及びMI55の総質量100質量%に対して1.0質量%)及びIRGACURE184を0.01g(HBPE-4及びMI55の総質量100質量%に対して0.1質量%)加え、インプリント用レプリカモールド材料RM-a23を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、(A)成分、(B)成分、(C)成分及び(D)成分を含む。
HBPE-4を9.75g、合成例1で得られたMI55を0.25g、カレンズMT(登録商標)NR1(昭和電工(株)製)(以下、本明細書では「NR1」と略称する。)を0.1g(HBPE-4及びMI55の総質量100質量%に対して1.0質量%)及びIRGACURE184を0.01g(HBPE-4及びMI55の総質量100質量%に対して0.1質量%)加え、インプリント用レプリカモールド材料RM-a24を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、(A)成分、(B)成分、(C)成分及び(D)成分を含む。
HBPE-4を9.75g、合成例1で得られたMI55を0.25g、NR1を0.5g(HBPE-4及びMI55の総質量100質量%に対して5.0質量%)及びIRGACURE184を0.01g(HBPE-4及びMI55の総質量100質量%に対して0.1質量%)加え、インプリント用レプリカモールド材料RM-a25を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、(A)成分、(B)成分、(C)成分及び(D)成分を含む。
HBPE-4を9.75g、合成例1で得られたMI55を0.25g、PEPT(SC有機化学(株)製)(以下、本明細書では「PEPT」と略称する。)を0.1g(HBPE-4及びMI55の総質量100質量%に対して1.0質量%)及びIRGACURE184を0.01g(HBPE-4及びMI55の総質量100質量%に対して0.1質量%)加え、インプリント用レプリカモールド材料RM-a26を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、(A)成分、(B)成分、(C)成分及び(D)成分を含む。
HBPE-4を9.75g、合成例1で得られたMI55を0.25g、PEPTを0.5g(HBPE-4及びMI55の総質量100質量%に対して5.0質量%)及びIRGACURE184を0.01g(HBPE-4及びMI55の総質量100質量%に対して0.1質量%)加え、インプリント用レプリカモールド材料RM-a27を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、(A)成分、(B)成分、(C)成分及び(D)成分を含む。
HBPE-4を9.75g、合成例6で得られたMI7525を0.25g、チオカルコール20を0.1g(HBPE-4及びMI7525の総質量100質量%に対して1.0質量%)及びIRGACURE184を0.01g(HBPE-4及びMI7525の総質量100質量%に対して0.1質量%)加え、インプリント用レプリカモールド材料RM-a28を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、(A)成分、(B)成分、(C)成分及び(D)成分を含む。
HBPE-4を9g、合成例1で得られたMI55を1g、及びIRGACURE184を0.2g(HBPE-4及びMI55の総質量100質量%に対して2質量%)加え、インプリント用レプリカモールド材料RM-b1を調製した。本比較例のインプリント用レプリカモールド材料は、(C)成分の含有割合が、(A)成分と(B)成分との合計100質量%に対し0.01質量%乃至1質量%の上限値を超えている。
HBPE-4を9g、合成例1で得られたMI55を1g、及びIRGACURE184を0.0005g(HBPE-4及びMI55の総質量100質量%に対して0.005質量%)加え、インプリント用レプリカモールド材料RM-b2を調製した。本比較例のインプリント用レプリカモールド材料は、(C)成分の含有割合が、(A)成分と(B)成分との合計100質量%に対し0.01質量%乃至1質量%の下限値未満である。
HBPE-4を10g、及びIRGACURE184を0.01g(HBPE-4の質量100質量%に対して0.1質量%)加え、インプリント用レプリカモールド材料RM-b3を調製した。本比較例のインプリント用レプリカモールド材料は、(A)成分及び(C)成分を含むが(B)成分を含まない。
NKエステル A-DON(新中村化学工業(株)製)(以下、A-DONと略称する。)を9g、合成例1で得られたMI55を1g、及びIRGACURE184を0.01g(A-DON及びMI55の総質量100質量%に対して0.1質量%)加え、インプリント用レプリカモールド材料RM-b4を調製した。本比較例のインプリント用レプリカモールド材料は、(B)成分及び(C)成分を含むが(A)成分を含まない。
実施例1乃至実施例28及び比較例1乃至比較例4で得られた各インプリント用レプリカモールド材料を、予めNOVEC(登録商標)1720(スリーエムジャパン(株)製)(以下、本明細書では「NOVEC1720」と略称する。)を用いて離型処理したニッケル製モールド(2mm径×300μm深さの凹レンズ型を縦3列×横5列の15個配置)へポッティングし、その上に石英ガラス基板を被せ、ナノインプリント装置NM-0801HB(明昌機工(株)製)を用いて光インプリントを行った。光インプリントは、常時23℃の条件で、a)10秒間かけて500Nまで加圧、b)高圧水銀ランプを用いて5000mJ/cm2の露光、c)10秒間かけて除圧、d)ニッケル製モールドと石英ガラス基板を分離して離型、というシーケンスで行い、当該石英ガラス基板上に凸レンズパターンを得た。その石英ガラス基板上に得られた凸レンズパターンを150℃のホットプレートで5分間加熱し、インプリント用レプリカモールドを得た。使用した前記石英ガラス基板は、予めKBM-5103(信越化学工業(株)製)をスピンコートし、150℃のホットプレートで5分間加熱することにより、密着処理を行ったものである。得られたインプリント用レプリカモールドについて、工業用顕微鏡 ECLIPSE L150((株)ニコン製)を用いて、凸レンズパターンの剥がれ・割れの有無を観察した。その結果を表1、表2及び表3に示す。
前述の方法により得られたレプリカモールドのうち、凸レンズパターンの剥がれ・割れがいずれも観察されなかったレプリカモールドの凸レンズパターン表面上へ、NOVEC1720をスピンコートし、100℃のホットプレートで10分間加熱することにより、前記レプリカモールド表面を離型処理した。
NKエステル A-DOG(新中村化学工業(株)製)を5g及びUM-90(1/3)DA(宇部興産(株)製)5gを混合し、その混合物にIRGACURE184を0.2g加え、インプリント材料を調製した。
調製したインプリント材料を、前述の密着処理を行った石英ガラス基板上へポッティングし、その上に前述の離型処理したレプリカモールドを被せ、ナノインプリント装置NM-0801HB(明昌機工(株)製)を用いて光インプリントを行った。光インプリントは、常時23℃の条件で、a)10秒間かけて500Nまで加圧、b)高圧水銀ランプを用いて5000mJ/cm2の露光、c)10秒間かけて除圧、d)レプリカモールドと石英ガラス基板を分離して離型、というシーケンスで行い、当該石英ガラス基板上に凹レンズパターンを得た。工業用顕微鏡 ECLIPSE L150((株)ニコン製)を用いて、得られた凹レンズパターンの剥がれ・割れの有無を観察した。その結果を表1、表2及び表3に示す。
実施例1乃至実施例28及び比較例1乃至比較例4で得られた各インプリント用レプリカモールド材料を、0.5mm厚のシリコーンゴム製スペーサーとともに、NOVEC1720で表面処理をしたガラス基板2枚で挟み込んだ。この挟み込んだインプリント用レプリカモールド材料を、バッチ式UV照射装置(高圧水銀灯2kW×1灯)(アイグラフィックス(株)製)を用いて40mW/cm2で125秒間UV露光した。得られた硬化物を前記ガラス基板から剥離した後、150℃のホットプレートで5分間加熱することで、厚さ0.5mmの硬化膜を作製した。得られた硬化膜の波長365nmにおける透過率を、分光光度計UV2600((株)島津製作所製)を用い、リファレンスを空気にした状態で測定した。その結果を表4、表5及び表6に示す。
実施例1乃至実施例28及び比較例1乃至比較例4で得られた各インプリント用レプリカモールド材料(いずれも液体)、及び当該レプリカモールド材料から作製された前述の硬化膜について、乾式自動密度計アキュピック1330-01((株)島津製作所製)を用いて、密度を測定した。そして以下の式より、硬化収縮率を算出した。
硬化収縮率=((硬化後の膜密度-硬化前のレプリカモールド材料の密度)/硬化後の膜密度)×100%
得られた結果を表4、表5及び表6に示す。
Claims (12)
- 下記(A)成分、(B)成分及び(C)成分を含有するインプリント用レプリカモールド材料。
(A):下記式(1)で表されるジ(メタ)アクリレート化合物
(B):下記式(2)で表される構造単位及び下記式(3)で表される構造単位を有する非架橋性の共重合体
(C):前記(A)成分と前記(B)成分との合計100質量%に対し、0.01質量%乃至1質量%の光重合開始剤 - 前記(A)成分と前記(B)成分との合計100質量%に対し、該(B)成分を1質量%乃至50質量%含む、請求項1に記載のインプリント用レプリカモールド材料。
- 前記(B)成分の重量平均分子量が標準ポリスチレン換算で2,000乃至100,000である、請求項1又は請求項2に記載のインプリント用レプリカモールド材料。
- 前記脂環式炭化水素基はイソボルニル基である、請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載のインプリント用レプリカモールド材料。
- (D)成分としてチオール基を少なくとも1つ有する化合物をさらに含有する、請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載のインプリント用レプリカモールド材料。
- (E)成分として酸化防止剤をさらに含有する、請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載のインプリント用レプリカモールド材料。
- (F)成分として界面活性剤をさらに含有する、請求項1乃至請求項6のいずれか一項に記載のインプリント用レプリカモールド材料。
- 請求項1乃至請求項7のいずれか一項に記載のインプリント用レプリカモールド材料から作製された、パターンを有するインプリント用レプリカモールド。
- 前記パターンがレンズ形状の反転パターンである、請求項8に記載のインプリント用レプリカモールド。
- 前記インプリント用レプリカモールドの最大厚さが2.0mmである、請求項8又は請求項9に記載のインプリント用レプリカモールド。
- 請求項1乃至請求項7のいずれか一項に記載のインプリント用レプリカモールド材料をマスターモールド上に塗布する工程、
前記レプリカモールド材料を介して前記マスターモールドを基材と圧着する工程、
前記マスターモールドを前記基材に圧着させたまま該基材を通して前記レプリカモールド材料を露光し、該レプリカモールド材料を光硬化する工程、及び
前記光硬化する工程の後、前記基材上に得られた光硬化物を前記マスターモールドから離型する工程を含むインプリント用レプリカモールドの作製方法。 - 請求項1乃至請求項7のいずれか一項に記載のインプリント用レプリカモールド材料を基材上に塗布する工程、
前記レプリカモールド材料を介して前記基材をマスターモールドと圧着する工程、
前記マスターモールドを前記基材に圧着させたまま該基材を通して前記レプリカモールド材料を露光し、該レプリカモールド材料を光硬化する工程、及び
前記光硬化する工程の後、前記基材上に得られた光硬化物を前記マスターモールドから離型する工程を含むインプリント用レプリカモールドの作製方法。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017152459 | 2017-08-07 | ||
JP2017152459 | 2017-08-07 | ||
JP2018060704 | 2018-03-27 | ||
JP2018060704 | 2018-03-27 | ||
PCT/JP2018/028899 WO2019031360A1 (ja) | 2017-08-07 | 2018-08-01 | インプリント用レプリカモールド材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2019031360A1 JPWO2019031360A1 (ja) | 2020-06-25 |
JP6997418B2 true JP6997418B2 (ja) | 2022-01-17 |
Family
ID=65272008
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019535146A Active JP6997418B2 (ja) | 2017-08-07 | 2018-08-01 | インプリント用レプリカモールド材料 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6997418B2 (ja) |
TW (1) | TW201925322A (ja) |
WO (1) | WO2019031360A1 (ja) |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010018644A (ja) | 2008-07-08 | 2010-01-28 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 硬化性組成物及びパターン形成方法 |
JP2010024317A (ja) | 2008-07-17 | 2010-02-04 | Nippon Kayaku Co Ltd | リン原子含有重合体、それを含む樹脂組成物、及びその用途 |
JP2010159369A (ja) | 2009-01-09 | 2010-07-22 | Hitachi Chem Co Ltd | 光硬化性樹脂組成物、これを用いたパターン形成方法及び微細構造体 |
WO2011065546A1 (ja) | 2009-11-30 | 2011-06-03 | 日立化成工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂ワニス、感光性樹脂フィルム、及び感光性樹脂硬化物 |
JP2012068376A (ja) | 2010-09-22 | 2012-04-05 | Mitsubishi Gas Chemical Co Inc | 光学デバイス |
WO2012096071A1 (ja) | 2011-01-13 | 2012-07-19 | 丸善石油化学株式会社 | 光インプリント用樹脂組成物、パターン形成方法及びエッチングマスク |
JP2014108979A (ja) | 2012-11-30 | 2014-06-12 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 被覆材組成物、及び積層物の製造方法 |
JP2016134629A (ja) | 2015-01-21 | 2016-07-25 | 東洋合成工業株式会社 | 光学部材の製造方法及びそれに用いられる組成物 |
JP2016215460A (ja) | 2015-05-19 | 2016-12-22 | 東ソー株式会社 | レプリカ成型用組成物、該組成物から得られた成型型及び該組成物を用いたレプリカの製造方法 |
-
2018
- 2018-08-01 WO PCT/JP2018/028899 patent/WO2019031360A1/ja active Application Filing
- 2018-08-01 JP JP2019535146A patent/JP6997418B2/ja active Active
- 2018-08-07 TW TW107127392A patent/TW201925322A/zh unknown
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010018644A (ja) | 2008-07-08 | 2010-01-28 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 硬化性組成物及びパターン形成方法 |
JP2010024317A (ja) | 2008-07-17 | 2010-02-04 | Nippon Kayaku Co Ltd | リン原子含有重合体、それを含む樹脂組成物、及びその用途 |
JP2010159369A (ja) | 2009-01-09 | 2010-07-22 | Hitachi Chem Co Ltd | 光硬化性樹脂組成物、これを用いたパターン形成方法及び微細構造体 |
WO2011065546A1 (ja) | 2009-11-30 | 2011-06-03 | 日立化成工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂ワニス、感光性樹脂フィルム、及び感光性樹脂硬化物 |
JP2012068376A (ja) | 2010-09-22 | 2012-04-05 | Mitsubishi Gas Chemical Co Inc | 光学デバイス |
WO2012096071A1 (ja) | 2011-01-13 | 2012-07-19 | 丸善石油化学株式会社 | 光インプリント用樹脂組成物、パターン形成方法及びエッチングマスク |
JP2014108979A (ja) | 2012-11-30 | 2014-06-12 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 被覆材組成物、及び積層物の製造方法 |
JP2016134629A (ja) | 2015-01-21 | 2016-07-25 | 東洋合成工業株式会社 | 光学部材の製造方法及びそれに用いられる組成物 |
JP2016215460A (ja) | 2015-05-19 | 2016-12-22 | 東ソー株式会社 | レプリカ成型用組成物、該組成物から得られた成型型及び該組成物を用いたレプリカの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201925322A (zh) | 2019-07-01 |
JPWO2019031360A1 (ja) | 2020-06-25 |
WO2019031360A1 (ja) | 2019-02-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101560249B1 (ko) | 저유전율 임프린트 재료 | |
KR102121762B1 (ko) | 방오성을 갖는 요철형상의 표면을 갖는 구조체 및 그 제조방법 | |
JP5263560B2 (ja) | 高硬度インプリント材料 | |
KR102226670B1 (ko) | 실세스퀴옥산 화합물 및 변성 실리콘 화합물을 포함하는 임프린트 재료 | |
US9169342B2 (en) | Highly abrasion-resistant imprint material containing urethane compound | |
JP6802532B2 (ja) | インプリント材料 | |
JP2013095833A (ja) | 高屈折率インプリント材料 | |
JP6997418B2 (ja) | インプリント用レプリカモールド材料 | |
JP6997417B2 (ja) | インプリント用レプリカモールド材料 | |
US9533467B2 (en) | Imprint material having low mold release property | |
WO2019031312A1 (ja) | モールド用離型剤 | |
JP7288247B2 (ja) | インプリント用レプリカモールド及びその作製方法 | |
KR102411425B1 (ko) | 임프린트재료 | |
WO2019111798A1 (ja) | 固体樹脂を含有するモールド用離型剤 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210629 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20210629 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210908 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20211117 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20211130 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6997418 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |