JPWO2019031360A1 - インプリント用レプリカモールド材料 - Google Patents

Abstract

【課題】新規なインプリント用レプリカモールド材料を提供する。【解決手段】下記（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分を含有するインプリント用レプリカモールド材料。（Ａ）：下記式（１）で表されるジ（メタ）アクリレート化合物【化１】（式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｒ3及びＲ4はそれぞれ独立にアルキレン基を表し、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、ｒ1及びｒ2はそれぞれ独立に整数を表す。）（Ｂ）：下記式（２）で表される構造単位及び下記式（３）で表される構造単位を有する非架橋性の共重合体【化２】（式中、Ｒ7及びＲ8はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｘ1は鎖状アルキル基を表し、Ｘ2はイソボルニル構造、アダマンタン構造、トリシクロデカン構造等を有する脂環式炭化水素基を表す。）（Ｃ）：光重合開始剤【選択図】なし

Description

本発明は、インプリント用レプリカモールド材料、及び当該材料から作製された、パターンを有するインプリント用レプリカモールドに関する。より詳しくは、前記レプリカモールド材料の硬化時における収縮率（以下、本明細書では「硬化収縮率」と略称する。）が小さく、厚膜であっても紫外線領域において高透明性を有する、パターンを有するインプリント用レプリカモールドに関するものである。本明細書において“厚膜”とは、０．０１ｍｍ以上の厚さで、最大厚さ２．０ｍｍの膜を表す。

樹脂レンズは、携帯電話、デジタルカメラ、車載カメラなどの電子機器に用いられており、その電子機器の目的に応じた、優れた光学特性を有するものであることが求められる。また、当該樹脂レンズは、使用態様に合わせて、高い耐久性、例えば耐熱性及び耐候性、並びに歩留まりよく成形できる高い生産性が求められている。このような要求を満たす樹脂レンズ用の材料としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、シクロオレフィンポリマー、メタクリル樹脂等の熱可塑性の透明樹脂が使用されてきた。

樹脂レンズの製造にあたり、歩留まりや生産効率の向上、さらにはレンズ積層時の光軸ずれの抑制のために、熱可塑性樹脂の射出成型から、室温で液状の硬化性樹脂を使った押し付け成形によるウェハレベル成形への移行が盛んに検討されている。ウェハレベル成形では、生産性の観点から、ガラス基板等の支持体上にレンズを形成するハイブリッドレンズ方式が一般的である。

ウェハレベル成形においては、モールドもウェハレベルで成型される必要がある。一般的な樹脂レンズ製造用のモールドは、金属を掘削及び研磨したものが用いられているが、ウェハレベルでは面内に多数のレンズパターンを有し、かつその面内誤差や画素間ピッチを正確に制御する必要がある。そのため、モールドの作製が非常に困難なうえ、高価となってしまう。さらに、金属製のモールドを用いる場合、樹脂レンズ用材料の硬化に用いるＵＶ光が透過しないため、レンズが成形される支持体の素材に制限が生じる。そのため、マスターモールドとレプリカモールド材料を用いてレプリカモールドを作製し、そのレプリカモールドを用いてウェハレベル成形を行うことが一般的である。その中で、特許文献１に記載のように、比較的安価な一画素分のマスターモールドと、レプリカモールド材料とを用いて、ウェハ内のステップアンドリピート成型でレプリカモールドを作製する方法が開発されている。

しかしながら、一般的に用いられるレプリカモールド材料は、樹脂レンズの製造工程に用いるＵＶ光、特に波長３６５ｎｍの透過率が低く、当該レプリカモールド材料の硬化時における硬化収縮率が高い。そのため、樹脂レンズ用材料の硬化不良や光硬化プロセスの長時間化、さらにはマスターモールドのパターン形状再現性が低いといった問題が生じている。

特許第４２２６０６１号公報（特開２００９−１７２７７３号公報）

本発明者らが知る限り、カメラモジュール用レンズの成型向けのレプリカモールドの作製に使用し得ると共に、硬化時に低い硬化収縮率を示し、硬化物が高い透明性を有するレプリカモールド材料は未だなく、その開発が望まれていた。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、硬化時に低硬化収縮率を示し、硬化物が高透明性を有し、且つウェハレベル成形用のレプリカモールドを作製するのに好適なレプリカモールド材料、及び当該レプリカモールド材料から作製された、パターンを有するレプリカモールドを提供することを目的とする。

本発明者らは、上記の課題を解決するべく鋭意検討を行った結果、アルキレンオキサイド変性した水添ビスフェノールＡ骨格を有し、かつ両末端に重合性基を有する化合物、特定の構造単位を有する非架橋性の共重合体、及び光重合開始剤を含有する材料をレプリカモールド材料として使用することにより、次の知見を得、本発明を完成した。すなわち、本発明のインプリント用レプリカモールド材料は、硬化時に低い硬化収縮率を有し、厚膜でも紫外線領域において高い透明性を有する。

すなわち本発明は、第１観点として、
下記（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分を含有するインプリント用レプリカモールド材料に関する。
（Ａ）：下記式（１）で表されるジ（メタ）アクリレート化合物

（式中、Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｒ³及びＲ⁴はそれぞれ独立に炭素原子数１乃至４のアルキレン基を表し、Ｒ⁵及びＲ⁶はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、ｒ¹及びｒ²はそれぞれ独立に１乃至５の整数を表す。）
（Ｂ）：下記式（２）で表される構造単位及び下記式（３）で表される構造単位を有する非架橋性の共重合体

（式中、Ｒ⁷及びＲ⁸はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｘ¹は炭素原子数１乃至６の鎖状アルキル基を表し、Ｘ²はシクロペンタン構造、シクロヘキサン構造、ノルボルナン構造、イソボルニル構造、アダマンタン構造、又はトリシクロデカン構造を有する脂環式炭化水素基表す。）
（Ｃ）：前記（Ａ）成分と前記（Ｂ）成分との合計１００質量％に対し、０．０１質量％乃至１質量％の光重合開始剤
第２観点として、
前記（Ａ）成分と前記（Ｂ）成分との合計１００質量％に対し、該（Ｂ）成分を１質量％乃至５０質量％含む、第１観点に記載のインプリント用レプリカモールド材料に関する。
第３観点として、
前記（Ｂ）成分の重量平均分子量が標準ポリスチレン換算で２，０００乃至１００，０００である、第１観点又は第２観点に記載のインプリント用レプリカモールド材料に関する。
第４観点として、
前記脂環式炭化水素基はイソボルニル基である、第１観点乃至第３観点のいずれか一つに記載のインプリント用レプリカモールド材料に関する。
第５観点として、
（Ｄ）成分としてチオール基を少なくとも１つ有する化合物をさらに含有する、第１観点乃至第４観点のいずれか一つに記載のインプリント用レプリカモールド材料に関する。
第６観点として、
（Ｅ）成分として酸化防止剤をさらに含有する、第１観点乃至第５観点のいずれか一つに記載のインプリント用レプリカモールド材料に関する。
第７観点として、
（Ｆ）成分として界面活性剤をさらに含有する、第１観点乃至第６観点のいずれか一つに記載のインプリント用レプリカモールド材料に関する。
第８観点として、
第１観点乃至第７観点のいずれか一つに記載のインプリント用レプリカモールド材料から作製された、パターンを有するインプリント用レプリカモールドに関する。
第９観点として、
前記パターンがレンズ形状の反転パターンである、第８観点に記載のインプリント用レプリカモールドに関する。
第１０観点として、
前記インプリント用レプリカモールドの最大厚さが２．０ｍｍである、第８観点又は第９観点に記載のインプリント用レプリカモールドに関する。
第１１観点として、
第１観点乃至第７観点のいずれか一つに記載のインプリント用レプリカモールド材料をマスターモールド上に塗布する工程、
前記レプリカモールド材料を介して前記マスターモールドを基材と圧着する工程、
前記マスターモールドを前記基材に圧着させたまま該基材を通して前記レプリカモールド材料を露光し、該レプリカモールド材料を光硬化する工程、及び
前記光硬化する工程の後、前記基材上に得られた光硬化物を前記マスターモールドから離型する工程を含むインプリント用レプリカモールドの作製方法に関する。
第１２観点として、
第１観点乃至第７観点のいずれか一つに記載のインプリント用レプリカモールド材料を基材上に塗布する工程、
前記レプリカモールド材料を介して前記基材をマスターモールドと圧着する工程、
前記マスターモールドを前記基材に圧着させたまま該基材を通して前記レプリカモールド材料を露光し、該レプリカモールド材料を光硬化する工程、及び
前記光硬化する工程の後、前記基材上に得られた光硬化物を前記マスターモールドから離型する工程を含むインプリント用レプリカモールドの作製方法に関する。

本発明のインプリント用レプリカモールド材料は、前記式（１）で表されるジ（メタ）アクリレート化合物と、前記式（２）で表される構造単位及び前記式（３）で表される構造単位を有する非架橋性の共重合体とを含有することにより、低い硬化収縮率を有し、当該レプリカモールド材料から作製された、パターンを有するレプリカモールドは、厚膜でも紫外線領域において高い透明性を有する。

また本発明のインプリント用レプリカモールド材料は、光硬化が可能であり、かつマスターモールドからの剥離時にパターンの一部に剥がれが生じない。そして当該レプリカモールド材料は、光硬化時における硬化収縮率が低いため、所望のパターンが正確に形成されたレプリカモールドが得られる。したがって、このレプリカモールドを用いて光インプリントを行うことで、良好なパターン形成が可能である。

また本発明のインプリント用レプリカモールド材料は、任意の基材上に製膜することができ、当該基材上に形成された膜は、厚膜でも紫外線領域において高い透明性を有する。このため、本発明のインプリント用レプリカモールド材料から作製されたレプリカモールドは、固体撮像素子、センサー用レンズなどの形状精度の求められる光学部材の製造に好適に用いることができる。

さらに、本発明のインプリント用レプリカモールド材料は、上記（Ｂ）成分の非架橋性の共重合体の種類及び含有割合を変更することで、動的粘度、膜厚をコントロールすることができる。したがって、本発明のインプリント用レプリカモールド材料は、製造するデバイス種と露光プロセス及びベークプロセスの種類に対応した材料の設計が可能であり、プロセスマージンを拡大できるため、光学部材の製造用モールドとして好適に用いることができる。

［（Ａ）成分］
（Ａ）成分の化合物は、下記式（１）で表されるジ（メタ）アクリレート化合物である。

（式中、Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｒ³及びＲ⁴はそれぞれ独立に炭素原子数１乃至４のアルキレン基を表し、Ｒ⁵及びＲ⁶はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、ｒ¹及びｒ²はそれぞれ独立に１乃至５の整数を表す。）

上記式（１）で表される化合物としては、例えば、エトキシ変性水添ビスフェノールＡジアクリレート、エトキシ変性水添ビスフェノールＡジメタクリレート、プロポキシ変性水添ビスフェノールＡジアクリレート、プロポキシ変性水添ビスフェノールＡジメタクリレート、ブトキシ変性水添ビスフェノールＡジアクリレート、ブトキシ変性水添ビスフェノールＡジメタクリレート、エトキシプロポキシ変性水添ビスフェノールＡジアクリレート、エトキシプロポキシ変性水添ビスフェノールＡジメタクリレート、エトキシ変性水添ビスフェノールＦジアクリレート、及びエトキシ変性水添ビスフェノールＦジメタクリレートが挙げられる。

上記式（１）で表される化合物は、市販品として入手が可能であり、その具体例としてはニューフロンティア（登録商標）ＨＢＰＥ−４、同ＨＢＰＥＭ−１０（以上、第一工業製薬（株）製）が挙げられる。

上記（Ａ）成分のジ（メタ）アクリレート化合物は、１種単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。

本発明のインプリント用レプリカモールド材料における上記（Ａ）成分の含有割合は、上記（Ａ）成分及び後述する（Ｂ）成分の総質量１００質量％に基づいて、３０質量％以上９９質量％以下であることが好ましく、より好ましくは４５質量％以上９９質量％以下である。上記（Ａ）成分の含有割合が３０質量％未満であると、インプリント用レプリカモールド材料の硬化性が低下し、当該（Ａ）成分の含有割合が９９質量％を超えると、当該レプリカモールド材料の硬化時に低い硬化収縮率を得ることができない。

［（Ｂ）成分］
（Ｂ）成分の非架橋性の共重合体は下記式（２）で表される構造単位及び下記式（３）で表される構造単位を有する非架橋性の共重合体である。ここで、非架橋性とは、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、グリシジル基、エポキシシクロヘキシル基等の反応性基を有さないことを意味する。

（式中、Ｒ⁷及びＲ⁸はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｘ¹は炭素原子数１乃至６の鎖状アルキル基を表し、Ｘ²はシクロペンタン構造、シクロヘキサン構造、ノルボルナン構造、イソボルニル構造、アダマンタン構造、又はトリシクロデカン構造を有する脂環式炭化水素基表す。）

上記（Ｂ）成分の非架橋性の共重合体において、式（２）で表される構造単位の単量体としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）クリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−アミル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、２−メチルブチル（メタ）アクリレート、ｎ−へキシル（メタ）アクリレート、２−エチルブチル（メタ）アクリレートが挙げられる。

上記（Ｂ）成分の非架橋性の共重合体において、式（３）で表される構造単位の単量体としては、例えば、シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロへキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、１−アダマンチル（メタ）アクリレート、２−メチル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート、２−エチル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートが挙げられる。

上記単量体は市販品として入手が可能であり、その具体例としては、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート（以上、東京化成工業（株）製）、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、イソプロピルアクリレート、イソプロピルメタクリレート、ｎ−アミルアクリレート、ｎ−アミルメタクリレート、イソアミルアクリレート、イソアミルメタクリレート、２−メチルブチルアクリレート、２−メチルブチルメタクリレート、ｎ−へキシルアクリレート、ｎ−へキシルメタクリレート、２−エチルブチルアクリレート、２−エチルブチルメタクリレート（以上、ＡＢＣＲ ＧｍｂＨ ＆ Ｃｏ. ＫＧ製）、ライトエステルＭ、ライトエステルＥ、ライトエステルＮＢ、ライトエステルＩＢ、ライトエステルＴＢ、ライトエステルＣＨ、ライトエステルＩＢ−Ｘ、ライトアクリレートＩＡＡ、ライトアクリレートＩＢ−ＸＡ（以上、共栄社化学（株）製）、ＡＩＢ、ＴＢＡ、ビスコート＃１５５、ＩＢＸＡ、ＡＤＡ、ＡＤＭＡ、ＭＡＤＡ、ＭＡＤＭＡ、ＥｔＡＤＡ、ＥＡＭＡ（Ｐ）（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ファンクリル（登録商標）ＦＡ−５１３ＡＳ、同ＦＡ−５１３Ｍ（以上、日立化成（株）製）が挙げられる。

上記（Ｂ）成分の非架橋性の共重合体を得る方法としては特に限定はされないが、例えば上記単量体、溶媒および熱ラジカル開始剤を混合し、加熱攪拌する方法が挙げられる。

本発明のインプリント用レプリカモールド材料における上記（Ｂ）成分の含有割合は、上記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総質量１００質量％に基づいて、１質量％乃至７０質量％であることが好ましく、より好ましくは１質量％乃至５５質量％以下である。
上記（Ｂ）成分の非架橋性の共重合体の重量平均分子量は、標準ポリスチレン換算で、好ましくは２，０００乃至１００，０００であり、より好ましくは３，０００乃至５０，０００である。上記重量平均分子量が２，０００未満であると、インプリント用レプリカモールド材料の硬化時に低い硬化収縮率を得ることができず、上記重量平均分子量が１００，０００を超えると当該レプリカモールド材料の硬化性が低下する。

［（Ｃ）成分］
（Ｃ）成分である光重合開始剤は、本発明のインプリント用レプリカモールド材料の光硬化時に使用する光源に吸収をもつものであれば、特に限定されるものではない。例えば、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ−ｉｓｏ−ブチレート、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ベンゾイルジオキシ）ヘキサン、１，４−ビス［α−（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ）−ｉｓｏ−プロポキシ］ベンゼン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシド、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ）ヘキセンヒドロペルオキシド、α−（ｉｓｏ−プロピルフェニル）−ｉｓｏ−プロピルヒドロペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、ブチル−４，４−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ）バレレート、シクロヘキサノンペルオキシド、２，２’，５，５’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−アミルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ヘキシルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシカルボニル）−４，４’−ジカルボキシベンゾフェノン、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシベンゾエート、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジペルオキシイソフタレート等の有機過酸化物；９，１０−アントラキノン、１−クロロアントラキノン、２−クロロアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノン等のキノン類；ベンゾインメチル、ベンゾインエチルエーテル、α−メチルベンゾイン、α−フェニルベンゾイン等のベンゾイン誘導体；２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−［４−｛４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）ベンジル｝−フェニル］−２−メチル−プロパン−１−オン、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−１−ブタノン、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチル−ベンジル）−１−（４−モルホリン−４−イル−フェニル）−ブタン−１−オン等のアルキルフェノン系化合物；ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド系化合物；２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−１，２−オクタンジオン、１−（Ｏ−アセチルオキシム）−１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタノン等のオキシムエステル系化合物が挙げられる。

上記光重合開始剤は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）６５１、同１８４、同５００、同２９５９、同１２７、同７５４、同９０７、同３６９、同３７９、同３７９ＥＧ、同８１９、同８１９ＤＷ、同１８００、同１８７０、同７８４、同ＯＸＥ０１、同ＯＸＥ０２、同２５０、同１１７３、同ＭＢＦ、同４２６５、同ＴＰＯ（以上、ＢＡＳＦジャパン（株）製）、ＫＡＹＡＣＵＲＥ（登録商標）ＤＥＴＸ、同ＭＢＰ、同ＤＭＢＩ、同ＥＰＡ、同ＯＡ（以上、日本化薬（株）製）、ＶＩＣＵＲＥ−１０、同５５（以上、ＳＴＡＵＦＦＥＲ Ｃｏ．ＬＴＤ製）、ＥＳＡＣＵＲＥ（登録商標）ＫＩＰ１５０、同ＴＺＴ、同１００１、同ＫＴＯ４６、同ＫＢ１、同ＫＬ２００、同ＫＳ３００、同ＥＢ３、トリアジン−ＰＭＳ、トリアジンＡ、トリアジンＢ（以上、日本シイベルヘグナー（株）製）、アデカオプトマーＮ−１７１７、同Ｎ−１４１４、同Ｎ−１６０６（（株）ＡＤＥＫＡ製）が挙げられる。

上記光重合開始剤は、１種単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。

本発明のインプリント用レプリカモールド材料における（Ｃ）成分の含有割合は、上記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総質量１００質量％に対して、例えば０．０１質量％乃至１質量％であり、好ましくは０．０１質量％乃至０．５質量％であり、より好ましくは０．０５質量％乃至０．５質量％である。上記（Ｃ）成分の含有割合が０．０１質量％未満の場合には、インプリント用レプリカモールド材料は十分な硬化性が得られず、そのためパターニング特性が悪化し、上記（Ｃ）成分の含有割合が１質量％よりも多いと、当該レプリカモールド材料から得られる硬化物は紫外線領域における十分な透明性を有することができないからである。

［（Ｄ）成分］
（Ｄ）成分であるチオール基を少なくとも１つ有する化合物としては、例えば、メルカプト酢酸メチル、３−メルカプトプロピオン酸メチル、３−メルカプトプロピオン酸２−エチルヘキシル、３−メルカプトプロピオン酸３−メトキシブチル、３−メルカプトプロピオン酸ｎ−オクチル、３−メルカプトプロピオン酸ステアリル、１，４−ビス（３−メルカプトプロピオニルオキシ）ブタン、１，４−ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタン、トリメチロールエタントリス（３−メルカプトプロピオネート）、トリメチロールエタントリス（３−メルカプトブチレート）、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトブチレート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトブチレート）、トリス［２−（３−メルカプトプロピオニルオキシ）エチル］イソシアヌレート、トリス［２−（３−メルカプトブチリルオキシ）エチル］イソシアヌレート等のメルカプトカルボン酸エステル類；エタンチオール、２−メチルプロパン−２−チオール、１−ドデカンチオール、２，３，３，４，４，５−ヘキサメチルヘキサン−２−チオール（ｔｅｒｔ−ドデカンチオール）、エタン−１，２−ジチオール、プロパン−１，３−ジチオール、ベンジルチオール等のアルキルチオール類；ベンゼンチオール、３−メチルベンゼンチオール、４−メチルベンゼンチオール、ナフタレン−２−チオール、ピリジン−２−チオール、ベンゾイミダゾール−２−チオール、ベンゾチアゾール−２−チオール等の芳香族チオール類；２−メルカプトエタノール、４−メルカプト−１−ブタノール等のメルカプトアルコール類；３−（トリメトキシシリル）プロパン−１−チオール、３−（トリエトキシシリル）プロパン−１−チオール等のシラン含有チオール類が挙げられる。

上記チオール基を少なくとも１つ有する化合物は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、チオカルコール（登録商標）２０（花王（株）製）、カレンズＭＴ（登録商標）ＰＥ１、同ＢＤ１、同ＮＲ１、ＴＰＭＢ、ＴＥＭＢ（以上、昭和電工（株）製）、及びＴＭＭＰ、ＴＥＭＰＩＣ、ＰＥＭＰ、ＥＧＭＰ−４、ＤＰＭＰ、ＴＭＭＰ ＩＩ−２０Ｐ、ＰＥＭＰ ＩＩ−２０Ｐ、ＰＥＰＴ（以上、ＳＣ有機化学（株）製）が挙げられる。

本発明のインプリント用レプリカモールド材料における（Ｄ）成分は１種単独で、又は２種以上を混合して用いてもよい。また、その含有割合は、上記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総質量１００質量％に対して、例えば０．０１質量％乃至３０質量％であり、より好ましくは０．０５質量％乃至２０質量％である。

［（Ｅ）成分］
（Ｅ）成分である酸化防止剤は市販品として入手が可能であり、その具体例としては、ＩＲＧＡＮＯＸ（登録商標）２４５、同１０１０、同１０３５、同１０７６、同１１３５［以上、ＢＡＳＦジャパン（株）製］、スミライザー（登録商標）ＧＡ−８０、同ＧＰ、同ＭＤＰ−Ｓ、同ＢＢＭ−Ｓ、同ＷＸ−Ｒ［以上、住友化学（株）製］、アデカスタブ（登録商標）ＡＯ−２０、同ＡＯ−３０、同ＡＯ−４０、同ＡＯ−５０、同ＡＯ−５０Ｆ、同ＡＯ−６０、同ＡＯ−６０Ｇ、同ＡＯ−８０、同ＡＯ−３３０、同ＰＥＰ−３６、同ＰＥＰ−８、同ＰＥＰ−１０、同２１１２、同２１１２ＲＧ、同１１７８、同１５００、同Ｃ、同１３５Ａ、同３０１０、同ＴＰＰ、同ＡＯ−４１２Ｓ、同ＡＯ−５０３（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）が挙げられる。

本発明のインプリント用レプリカモールド材料における（Ｅ）成分は１種単独で、又は２種以上を混合して用いてもよい。また、その含有割合としては、上記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総質量１００質量％に基づいて、例えば０．０１質量％乃至２０質量％であり、さらに好ましくは０．０５質量％乃至１０質量％である。

［（Ｆ）成分］
（Ｆ）成分である界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタントリオレエート、ソルビタントリステアレート等のソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエート、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート等のポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等のノニオン系界面活性剤が挙げられる。

上記界面活性剤は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、エフトップ（登録商標）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５２（以上、三菱マテリアル電子化成（株）製）、メガファック（登録商標）Ｆ−１７１、同Ｆ−１７３、同Ｆ−４７７、同Ｆ−４８６、同Ｆ−５５４、同Ｆ−５５６、同Ｒ−０８、同Ｒ−３０、同Ｒ−３０Ｎ、同Ｒ−４０、同Ｒ−４０−ＬＭ、同ＲＳ−５６、同ＲＳ−７５、同ＲＳ−７２−Ｋ、同ＲＳ−７６−Ｅ、同ＲＳ−７６−ＮＳ、同ＲＳ−７８、同ＲＳ−９０（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１（以上、スリーエムジャパン（株）製）、アサヒガード（登録商標）ＡＧ７１０、サーフロン（登録商標）Ｓ−３８２、同ＳＣ１０１、同ＳＣ１０２、同ＳＣ１０３、同ＳＣ１０４、同ＳＣ１０５、同ＳＣ１０６（以上、旭硝子（株）製）等のフッ素系界面活性剤；及びオルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、ＢＹＫ−３０２、ＢＹＫ−３０７、ＢＹＫ−３２２、ＢＹＫ−３２３、ＢＹＫ−３３０、ＢＹＫ−３３３、ＢＹＫ−３７０、ＢＹＫ−３７５、ＢＹＫ−３７８、ＢＹＫ−ＵＶ３５００、ＢＹＫ−ＵＶ３５７０（以上、ビックケミー・ジャパン（株）製）を挙げることができる。

本発明のインプリント用レプリカモールド材料における界面活性剤は１種単独で、又は２種以上を混合して用いてもよい。また、その含有割合としては、上記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総質量１００質量％に基づいて、好ましくは０．０１質量％乃至４０質量％であり、より好ましくは０．０１質量％乃至１０質量％である。

［その他添加剤］
本発明のインプリント用レプリカモールド材料は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて、一分子中に（メタ）アクリロイルオキシ基を１つ有する化合物、一分子中に（メタ）アクリロイルオキシ基を２つ有する化合物（但し、前記式（１）で表されるジ（メタ）アクリレート化合物を除く。）、エポキシ化合物、光酸発生剤、光増感剤、紫外線吸収剤、連鎖移動剤、密着補助剤、離型性向上剤及び溶媒を含有することができる。

上記一分子中に（メタ）アクリロイルオキシ基を１つ有する化合物は、透明性や硬化収縮率を損なわず、粘度を調整するために添加することが可能であり、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ノルマルオクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、シクロへキシル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、（２−メチル−２−エチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メチル（メタ）アクリレート、シクロヘキサンスピロ−２−（１，３−ジオキソラン−４−イル）メチル（メタ）アクリレート、３−エチル−３−オキセタニルメチル（メタ）アクリレート、１−アダマンチル（メタ）アクリレート、γ−ブチロラクトン（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートが挙げられる。これらの中で、硬化収縮率、及び紫外線領域における透明性を損なわない点において、脂環構造を含有する化合物が好ましい。

上記一分子中に（メタ）アクリロイルオキシ基を１つ有する化合物は市販品として入手が可能であり、その具体例としては、ＨＥＡ、ＨＰＡ、４−ＨＢＡ、ＡＩＢ、ＴＢＡ、ＮＯＡＡ、ＩＯＡＡ、ＩＮＡＡ、ＬＡ、ＳＴＡ、ＩＳＴＡ、ＩＢＸＡ、２−ＭＴＡ、ビスコート＃１５５、ビスコート＃１６０、ビスコート＃１９２、ビスコート＃１５０、ビスコート＃１９０、ビスコート＃ＭＴＧ、ビスマーＭＰＥ４００Ａ、ビスマーＭＰＥ５５０Ａ、ＭＥＤＯＬ−１０、ＣＨＤＯＬ−１０、ＯＸＥ−１０、ＯＸＥ−３０、１−ＡＤＡ、１−ＡＤＭＡ、ＧＢＬＡ、ＧＢＬＭＡ（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ファンクリル（登録商標）ＦＡ−５１３ＡＳ、同ＦＡ−５１３Ｍ（以上、日立化成（株）製）が挙げられる。

上記一分子中に（メタ）アクリロイルオキシ基を２つ有する化合物としては、例えば、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロパンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリイソプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジオキサングリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性ジアクリレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（アクリロイル）システイン、Ｎ，Ｎ’−ビス（メタクリロイル）システイン、チオジグリコールジ（メタ）アクリレートが挙げられる。

上記化合物は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）Ｒ−５２６、同ＮＰＧＤＡ、同ＰＥＧ４００ＤＡ、同Ｒ−６０４、同Ｒ−６８４（以上、日本化薬（株）製）、アロニックＭ２１５、同Ｍ−２２０、同Ｍ−２２５、同Ｍ−２７０、同Ｍ−２４０（以上、東亞合成（株）製）、ビスコート１９５、同２３０、同２６０、同３１０ＨＰ、同３３５ＨＰ（以上大阪有機化学工業（株）製）、ＮＫエステル Ａ−２００、同Ａ−４００、同Ａ−６００、同Ａ−１０００、同Ａ−ＨＤ−Ｎ、同−Ａ−ＮＯＤ−Ｎ、同Ａ−ＤＯＤ、同Ａ−ＤＣＰ、同Ａ−ＤＯＧ、同Ａ−ＮＰＧ、同７０１Ａ、同ＡＰＧ−１００、同ＡＰＧ−２００、同ＡＰＧ−４００、同ＡＰＧ−７００、同１Ｇ、同２Ｇ、同３Ｇ、同４Ｇ、同９Ｇ、同１４Ｇ、同２３Ｇ、同ＤＣＰ、同ＨＤ−Ｎ、同ＮＯＤ−Ｎ、同ＤＯＤ−Ｎ、同ＮＰＧ、同ＤＣＰ、同７０１、同３ＰＧ、同９ＰＧ（以上、新中村化学工業（株）製）が挙げられる。

上記エポキシ化合物としては、例えば、エポリード（登録商標）ＧＴ−４０１、同ＰＢ３６００、セロキサイド（登録商標）２０２１Ｐ、同２０００、同３０００、ＥＨＰＥ３１５０、同ＥＨＰＥ３１５０ＣＥ（以上、（株）ダイセル製）、ＥＰＩＣＬＯＮ（登録商標）８４０、同８４０−Ｓ、同Ｎ−６６０、同Ｎ−６７３−８０Ｍ（以上、ＤＩＣ（株）製）が挙げられる。

上記光酸発生剤としては、例えば、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）ＰＡＧ１０３、同ＰＡＧ１０８、同ＰＡＧ１２１、同ＰＡＧ２０３、同ＣＧＩ７２５（以上、ＢＡＳＦジャパン（株）製）、ＷＰＡＧ−１４５、ＷＰＡＧ−１７０、ＷＰＡＧ−１９９、ＷＰＡＧ−２８１、ＷＰＡＧ−３３６、ＷＰＡＧ−３６７（以上、和光純薬工業（株）製）、ＴＦＥ−トリアジン、ＴＭＥ−トリアジン、ＭＰ−トリアジン、ジメトキシトリアジン、ＴＳ−９１、ＴＳ−０１（（株）三和ケミカル製）、ＣＰＩ−１００Ｐ、ＣＰＩ−１０１Ａ、ＣＰＩ−２００Ｋ、ＣＰＩ−１１０Ｐ、ＣＰＩ−２１０Ｓ、ＣＰＩ−１１０Ｂ（（以上、サンアプロ（株）製）が挙げられる。

上記光増感剤としては、例えば、チオキサンテン系、チオキサントン系、キサンテン系、ケトン系、チオピリリウム塩系、ベーススチリル系、メロシアニン系、３−置換クマリン系、３，４−置換クマリン系、シアニン系、アクリジン系、チアジン系、フェノチアジン系、アントラセン系、コロネン系、ベンズアントラセン系、ペリレン系、ケトクマリン系、クマリン系、ボレート系が挙げられる。上記光増感剤は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、アントラキュアー（登録商標）ＵＶＳ−５８１、同ＵＶＳ−１３３１（以上、川崎化成工業（株）製）、ＫＡＹＡＣＵＲＥ（登録商標）ＤＥＴＸ−Ｓ（日本化薬（株）製）が挙げられる。この光増感剤は、１種単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。当該光増感剤を用いることによって、ＵＶ領域の吸収波長を調整することもできる。

上記紫外線吸収剤としては、例えば、ＴＩＮＵＶＩＮ（登録商標）ＰＳ、同９９−２、同１０９、同３２８、同３８４−２、同４００、同４０５、同４６０、同４７７、同４７９、同９００、同９２８、同１１３０、同１１１ＦＤＬ、同１２３、同１４４、同１５２、同２９２、同５１００、同４００−ＤＷ、同４７７−ＤＷ、同９９−ＤＷ、同１２３−ＤＷ、同５０５０、同５０６０、同５１５１（以上、ＢＡＳＦジャパン（株）製）が挙げられる。この紫外線吸収剤は、１種単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。当該紫外線吸収剤を用いることによって、本発明のインプリント用レプリカモールド材料の光硬化時に、膜の最表面の硬化速度を制御することができ、レプリカモールドを作製する際のマスターモールドからの離型性、及び作製したレプリカモールドを用いて樹脂レンズ用材料を成型する際の当該レプリカモールドからの離型性を向上できる場合がある。

上記連鎖移動剤としては、例えば、ジエチルジスルフィド、ジプロピルジスルフィド、ジイソプロピルジスルフィド、ジブチルジスルフィド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジスルフィド、ジペンチルジスルフィド、ジイソペンチルジスルフィド、ジヘキシルジスルフィド、ジシクロヘキシルジスルフィド、ジデシルジスルフィド、ビス（２，３，３，４，４，５−ヘキサメチルヘキサン−２−イル）ジスルフィド（ジ−ｔｅｒｔ−ドデシルジスルフィド）、ビス（２，２−ジエトキシエチル）ジスルフィド、ビス（２−ヒドロキシエチル）ジスルフィド、ジベンジルジスルフィド等のアルキルジスルフィド類；ジフェニルジスルフィド、ジ−ｐ−トリルジスルフィド、ジ（ピリジン−２−イル）ピリジルジスルフィド、ジ（ベンゾイミダゾール−２−イル）ジスルフィド、ジ（ベンゾチアゾール−２−イル）ジスルフィド等の芳香族ジスルフィド類；テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィド、ビス（ペンタメチレン）チウラムジスルフィド等のチウラムジスルフィド類；α−メチルスチレンダイマーが挙げられる。この連鎖移動剤は、１種単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。

上記密着補助剤としては、例えば、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシランが挙げられる。当該密着補助剤を用いることによって、基材との密着性が向上する。当該密着補助剤の含有量は、上記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総質量１００質量％に基づいて、好ましくは５質量％乃至５０質量％であり、より好ましくは１０質量％乃至５０質量％である。

上記離型性向上剤としては、例えば、フッ素含有化合物が挙げられる。フッ素含有化合物としては、例えば、Ｒ−５４１０、Ｒ−１４２０、Ｍ−５４１０、Ｍ−１４２０、Ｅ−５４４４、Ｅ−７４３２、Ａ−１４３０、Ａ−１６３０（以上、ダイキン工業（株）製）が挙げられる。

上記溶媒としては、例えば、トルエン、ｐ−キシレン、ｏ−キシレン、スチレン、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコ−ルジメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコール、１−オクタノール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、プロピレングリコール、ベンジルアルコール、１，３−ブタンジオール、１,４−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、γ−ブチロラクトン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルｎ−ブチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソブチル、酢酸ｎ−ブチル、乳酸エチル、ピルビン酸エチル、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、アリルアルコール、ｎ−プロパノール、２−メチル−２−ブタノール、イソブタノール、ｎ−ブタノール、２−メチル−１−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−１−ペンタノール、２−エチルヘキサノール、トリメチレングリコール、１−メトキシ−２−ブタノール、イソプロピルエーテル、１，４−ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、Ｎ−シクロヘキシル−２−ピロリジンが挙げられる。上記溶媒は上記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の粘度を調節することができるものであれば、特に限定されるものではない。

上記溶媒は、１種単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。溶媒が使用される場合、本発明のインプリント用レプリカモールド材料の全成分、すなわち前述の（Ａ）成分乃至（Ｆ）成分並びにその他添加剤を含む全成分から溶媒を除いたものとして定義される固形分は、５０質量％乃至９９質量％であり、７０質量％乃至９９質量％であることが好ましい。

［インプリント用レプリカモールド材料の調製］
本発明のインプリント用レプリカモールド材料の調製方法は、特に限定されないが、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、並びに所望により（Ｄ）成分、（Ｅ）成分、（Ｆ）成分及びその他添加剤を混合し、インプリント用レプリカモール材料が均一な状態となっていればよい。また、（Ａ）成分乃至（Ｃ）成分、並びに所望により（Ｄ）成分乃至（Ｆ）成分及びその他添加剤を混合する際の順序は、均一なインプリント用レプリカモールド材料が得られるなら問題なく、特に限定されない。当該レプリカモールド材料の調製方法としては、例えば、（Ａ）成分、（Ｂ）成分を所定の割合で混合し、これに更に（Ｃ）成分、並びに所望により（Ｄ）成分、（Ｅ）成分及び（Ｆ）成分を適宜混合し、均一なインプリント用レプリカモールド材料とする方法も挙げられる。さらに、この調製方法の適当な段階において、必要に応じて、その他の添加剤を更に添加して混合する方法が挙げられる。

［光インプリント及びパターンを有するレプリカモールド］
本発明のインプリント用レプリカモールド材料を、基材上又はマスターモールド上に塗布し、当該基材と当該マスターモールドを貼り合わせて光硬化させ、得られた光硬化物をそのマスターモールドから離型することで所望のインプリント用レプリカモールドを得ることができる。塗布方法としては、公知又は周知の方法、例えば、ポッティング法、スピンコート法、ディップ法、フローコート法、インクジェット法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、スリットコート法、ロールコート法、転写印刷法、刷毛塗り、ブレードコート法、エアーナイフコート法を挙げることができる。

本発明のインプリント用レプリカモールド材料から得られるレプリカモールドは、マスターモールドから離型後に加熱することで紫外線領域における透明性を向上させることができる。加熱方法はホットプレート、オーブン等の使用が挙げられる。

本発明のインプリント用レプリカモールド材料を塗布するための基材としては、例えば、シリコン、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）が製膜されたガラス（ＩＴＯ基板）、シリコンナイトライド（ＳｉＮ）が製膜されたガラス（ＳｉＮ基板）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）が製膜されたガラス、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、アクリル、プラスチック、ガラス、石英、セラミックス等からなる基材を挙げることができる。また、可撓性を有するフレキシブル基材、例えばトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリメタクリル酸メチル、シクロオレフィン（コ）ポリマー、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリイミド、ポリアミド、ポリオレフィン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルフォン、並びにこれらポリマーを組み合わせた共重合体からなる基材を用いることも可能である。

本発明のインプリント用レプリカモールド材料を光硬化させる光源としては、特に限定されないが、例えば、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、無電極ランプ、メタルハライドランプ、ＫｒＦエキシマーレーザー、ＡｒＦエキシマーレーザー、Ｆ₂エキシマーレーザー、電子線（ＥＢ）、極端紫外線（ＥＵＶ）、紫外線ＬＥＤ（ＵＶ−ＬＥＤ）を挙げることができる。また、波長は、一般的には、４３６ｎｍのＧ線、４０５ｎｍのＨ線、３６５ｎｍのＩ線、又はＧＨＩ混合線を用いることができる。さらに、露光量は、好ましくは、３０ｍＪ／ｃｍ²乃至１００００ｍＪ／ｃｍ²であり、より好ましくは１００ｍＪ／ｃｍ²乃至８０００ｍＪ／ｃｍ²である。

なお、前述のその他添加剤である溶媒を用いる場合には、光照射前の塗膜及び光照射後の光硬化物の少なくとも一方に対し、溶媒を蒸発させる目的で、ベーク工程を加えてもよい。ベーク工程に使用する機器としては、特に限定されるものではなく、例えば、ホットプレート、オーブン、ファーネスを用いて、適切な雰囲気下、すなわち大気、窒素等の不活性ガス、又は真空中でベークすることができるものであればよい。ベーク温度は、溶媒を蒸発させる目的を達成できるなら特に限定されないが、例えば、４０℃乃至２００℃で行うことができる。

光インプリントを行う装置は、目的のパターンが得られれば特に限定されないが、例えば、東芝機械（株）製のＳＴ５０、Ｏｂｄｕｃａｔ社製のＳｉｎｄｒｅ（登録商標）６０、明昌機工（株）製のＮＭ−０８０１ＨＢ等の市販されている装置にて、基材とマスターモールドを圧着し、光硬化後に当該マスターモールドから硬化物を離型する方法を用いることができる。

また、本発明で用いる光インプリントに使用するマスターモールドの材料としては、例えば、石英、シリコン（Ｓｉ）、ニッケル、アルミナ（Ａｌ₂Ｏ₃）、カルボニルシラン、グラッシーカーボンを挙げることができるが、目的のパターンが得られるなら、特に限定されない。また、マスターモールドは、離型性を高めるために、その表面にフッ素系化合物等の薄膜を形成する離型処理を行ってもよい。離型処理に用いる離型剤としては、例えば、ダイキン工業（株）製のオプツール（登録商標）ＨＤ、同ＤＳＸが挙げられるが、目的のパターンが得られるなら、特に限定されない。

本発明により得られるインプリント用レプリカモールドのパターンサイズは特に限定されず、例えばナノメートルオーダー、マイクロメートルオーダー、ミリメートルオーダーでも良好なパターンを得ることが可能である。

以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明を更に詳しく説明するが、本発明は、これら実施例に限定されるものでない。なお、下記合成例において、物性の分析に用いた装置及び条件は、以下の通りである。

（１）ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）
装置：（株）島津製作所 製 ＧＰＣシステム
ＧＰＣカラム：Ｓｈｏｄｅｘ（登録商標）ＧＰＣ ＫＦ−８０４Ｌ及びＧＰＣ ＫＦ−８０３Ｌ
カラム温度：４０℃
溶媒：テトラヒドロフラン
流量：１ｍＬ／分
標準試料：ポリスチレン

また、下記合成例に記載の略記号は以下の意味を表す。
ＡＩＢＮ：アゾビスイソブチロニトリル
ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート

＜合成例１＞
２Ｌの四つ口フラスコにＰＧＭＥＡを１７８．８４ｇ入れ、窒素雰囲気下、内温８０℃で攪拌した。ここに、メタクリル酸メチル（東京化成工業（株）製）１２０ｇ、イソボルニルアクリレート（東京化成工業（株）製）２４９．６６ｇ、ＡＩＢＮ（関東化学（株）製）５．９０４ｇ、及びＰＧＭＥＡ６９７．４８ｇを混合させた溶液を２時間かけて滴下し、滴下後１７時間反応させた。反応溶液をメタノール（純正化学（株）製）６．３ｋｇに滴下し、析出したポリマーを１３３．３Ｐａの減圧下、８０℃で乾燥し、（Ｂ）成分である非架橋性の共重合体ＭＩ５５を３３０．４ｇ得た。ＧＰＣにて、得られたＭＩ５５の重量平均分子量を測定したところ、標準ポリスチレン換算で２０，１００であった。

＜合成例２＞
２００ｍＬの四つ口フラスコにＰＧＭＥＡを１８．９７ｇ入れ、窒素雰囲気下、内温８０℃で攪拌した。ここに、メタクリル酸メチル（東京化成工業（株）製）６．５ｇ、イソボルニルアクリレート（東京化成工業（株）製）３１．５５ｇ、ＡＩＢＮ（関東化学（株）製）１．７８ｇ、及びＰＧＭＥＡ７３．９７ｇを混合させた溶液を２時間かけて滴下し、滴下後１７時間反応させた。反応溶液をメタノール（純正化学（株）製）１．３ｋｇに滴下し、析出したポリマーを１３３．３Ｐａの減圧下、８０℃で乾燥し、（Ｂ）成分である非架橋性の共重合体ＭＩ３７を２３．７８ｇ得た。ＧＰＣにて、得られたＭＩ３７の重量平均分子量を測定したところ、標準ポリスチレン換算で９，７００であった。

＜合成例３＞
２００ｍＬの四つ口フラスコにＰＧＭＥＡを１９．２３ｇ入れ、窒素雰囲気下、内温８０℃で攪拌した。ここに、メタクリル酸メチル（東京化成工業（株）製）１２．０ｇ、ＦＡ−５１３ＡＳ（日立化成工業（株）製）２６．４１ｇ、ＡＩＢＮ（関東化学（株）製）１．９７ｇ、及びＰＧＭＥＡ７４．９８ｇを混合させた溶液を２時間かけて滴下し、滴下後１７時間反応させた。反応溶液をメタノール（純正化学（株）製）１．３ｋｇに滴下し、析出したポリマーを１３３．３Ｐａの減圧下、８０℃で乾燥し、（Ｂ）成分である非架橋性の共重合体ＭＴ５５を２６．９１ｇ得た。ＧＰＣにて、得られたＭＴ５５の重量平均分子量を測定したところ、標準ポリスチレン換算で９，８００であった。

＜合成例４＞
２００ｍＬの四つ口フラスコにＰＧＭＥＡを１４．４２ｇ入れ、窒素雰囲気下、内温８０℃で攪拌した。ここに、メタクリル酸メチル（東京化成工業（株）製）９．０ｇ、ＡＤＭＡ（大阪有機化学工業（株）製）１９．８ｇ、ＡＩＢＮ（関東化学（株）製）１．４８ｇ、及びＰＧＭＥＡ５６．２３ｇを混合させた溶液を２時間かけて滴下し、滴下後１７時間反応させた。反応溶液をメタノール（純正化学（株）製）１．０ｋｇに滴下し、析出したポリマーを１３３．３Ｐａの減圧下、８０℃で乾燥し、（Ｂ）成分である非架橋性の共重合体ＭＡ５５を２１．２３ｇ得た。ＧＰＣにて、得られたＭＡ５５の重量平均分子量を測定したところ、標準ポリスチレン換算で９，６５０であった。

＜合成例５＞
２００ｍＬの四つ口フラスコにメタクリル酸メチル（東京化成工業（株）製）１５．０ｇ、イソボルニルアクリレート（東京化成工業（株）製）３１．２１ｇ、及びＰＧＭＥＡ７３．８８ｇを入れ、窒素雰囲気下、内温８０℃で攪拌した。ここにＡＩＢＮ（関東化学（株）製）２．４６ｇ及びＰＧＭＥＡ４６．７４ｇを混合させた溶液を２時間かけて滴下し、滴下後１７時間反応させた。反応溶液をメタノール（純正化学（株）製）１．０ｋｇに滴下し、析出したポリマーを１３３．３Ｐａの減圧下、８０℃で乾燥し、（Ｂ）成分である非架橋性の共重合体ＭＩ５５Ｌを３０．０ｇ得た。ＧＰＣにて、得られたＭＩ５５Ｌの重量平均分子量を測定したところ、標準ポリスチレン換算で４，６００であった。

＜合成例６＞
２００ｍＬの四つ口フラスコにＰＧＭＥＡを２０．５５ｇ入れ、窒素雰囲気下、内温８０℃で攪拌した。ここに、メタクリル酸メチル（東京化成工業（株）製）２５．０ｇ、イソボルニルアクリレート（東京化成工業（株）製）１７．３４ｇ、ＡＩＢＮ（関東化学（株）製）０．８２ｇ、及びＰＧＭＥＡ８０．１５ｇを混合させた溶液を２時間かけて滴下し、滴下後１７時間反応させた。反応溶液をメタノール（純正化学（株）製）１．０ｋｇに滴下し、析出したポリマーを１３３．３Ｐａの減圧下、８０℃で乾燥し、（Ｂ）成分である非架橋性の共重合体ＭＩ７５２５を３２．４ｇ得た。ＧＰＣにて、得られたＭＩ７５２５の重量平均分子量を測定したところ、標準ポリスチレン換算で２０，６００であった。

［インプリント用レプリカモールド材料の調製］
＜実施例１＞
ニューフロンティア（登録商標）ＨＢＰＥ−４（第一工業製薬（株）製）（以下、本明細書では「ＨＢＰＥ−４」と略称する。）９．５ｇ、合成例１で得られたＭＩ５５を０．５ｇ、及びＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）１８４（ＢＡＳＦジャパン（株）製）（以下、本明細書では「ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４」と略称する。）を０．０１ｇ（ＨＢＰＥ−４及びＭＩ５５の総質量１００質量％に対して０．１質量％）加え、インプリント用レプリカモールド材料ＲＭ−ａ１を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分を含む。

＜実施例２＞
ＨＢＰＥ−４を９ｇ、合成例１で得られたＭＩ５５を１ｇ、及びＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４を０．０１ｇ（ＨＢＰＥ−４及びＭＩ５５の総質量１００質量％に対して０．１質量％）加え、インプリント用レプリカモールド材料ＲＭ−ａ２を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分を含む。

＜実施例３＞
ＨＢＰＥ−４を７ｇ、合成例１で得られたＭＩ５５を３ｇ、及びＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４を０．０１ｇ（ＨＢＰＥ−４及びＭＩ５５の総質量１００質量％に対して０．１質量％）加え、インプリント用レプリカモールド材料ＲＭ−ａ３を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分を含む。

＜実施例４＞
ＨＢＰＥ−４を５ｇ、合成例１で得られたＭＩ５５を５ｇ、及びＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４を０．０１ｇ（ＨＢＰＥ−４及びＭＩ５５の総質量１００質量％に対して０．１質量％）加え、インプリント用レプリカモールド材料ＲＭ−ａ４を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分を含む。

＜実施例５＞
ＨＢＰＥ−４を９ｇ、合成例１で得られたＭＩ５５を１ｇ、ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４を０．０１ｇ（ＨＢＰＥ−４及びＭＩ５５の総質量１００質量％に対して０．１質量％）、及びチオカルコール（登録商標）２０（花王（株）製）（以下、本明細書では「チオカルコール２０」と略称する。）を０．０５ｇ（ＨＢＰＥ−４及びＭＩ５５の総質量１００質量％に対して０．５質量％）加え、インプリント用レプリカモールド材料ＲＭ−ａ５を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分を含む。

＜実施例６＞
ＨＢＰＥ−４を９ｇ、合成例１で得られたＭＩ５５を１ｇ、ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４を０．０１ｇ（ＨＢＰＥ−４及びＭＩ５５の総質量１００質量％に対して０．１質量％）、及びカレンズＭＴ（登録商標）ＰＥ１（昭和電工（株）製）を０．０５ｇ（ＨＢＰＥ−４及びＭＩ５５の総質量１００質量％に対して０．５質量％）加え、インプリント用レプリカモールド材料ＲＭ−ａ６を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分を含む。

＜実施例７＞
ＨＢＰＥ−４を９ｇ、合成例１で得られたＭＩ５５を１ｇ、ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４を０．０１ｇ（ＨＢＰＥ−４及びＭＩ５５の総質量１００質量％に対して０．１質量％）、及びＩＲＧＡＮＯＸ（登録商標）１０１０（ＢＡＳＦジャパン（株）製）を０．０１ｇ（ＨＢＰＥ−４及びＭＩ５５の総質量１００質量％に対して０．１質量％）加え、インプリント用レプリカモールド材料ＲＭ−ａ７を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｅ）成分を含む。

＜実施例８＞
ＨＢＰＥ−４を９ｇ、合成例１で得られたＭＩ５５を１ｇ、ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４を０．０１ｇ（ＨＢＰＥ−４及びＭＩ５５の総質量１００質量％に対して０．１質量％）、及びＢＹＫ−ＵＶ３５７０（ビックケミー・ジャパン（株）製）を０．１ｇ（ＨＢＰＥ−４及びＭＩ５５の総質量１００質量％に対して１質量％）加え、インプリント用レプリカモールド材料ＲＭ−ａ８を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｆ）成分を含む。

＜実施例９＞
ＨＢＰＥ−４を９ｇ、合成例２で得られたＭＩ３７を１ｇ、及びＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４を０．０１ｇ（ＨＢＰＥ−４及びＭＩ３７の総質量１００質量％に対して０．１質量％）加え、インプリント用レプリカモールド材料ＲＭ−ａ９を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分を含む。

＜実施例１０＞
ＨＢＰＥ−４を９ｇ、合成例３で得られたＭＴ５５を１ｇ、及びＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４を０．０１ｇ（ＨＢＰＥ−４及びＭＴ５５の総質量１００質量％に対して０．１質量％）加え、インプリント用レプリカモールド材料ＲＭ−ａ１０を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分を含む。

＜実施例１１＞
ＨＢＰＥ−４を９ｇ、合成例４で得られたＭＡ５５を１ｇ、及びＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４を０．０１ｇ（ＨＢＰＥ−４及びＭＡ５５の総質量１００質量％に対して０．１質量％）加え、インプリント用レプリカモールド材料ＲＭ−ａ１１を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分を含む。

＜実施例１２＞
ＨＢＰＥ−４を９ｇ、合成例１で得られたＭＩ５５を１ｇ、及びＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４を０．０５ｇ（ＨＢＰＥ−４及びＭＩ５５の総質量１００質量％に対して０．５質量％）加え、インプリント用レプリカモールド材料ＲＭ−ａ１２を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分を含む。

＜実施例１３＞
ＨＢＰＥ−４を９．７５ｇ、合成例１で得られたＭＩ５５を０．２５ｇ、及びＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４を０．０１ｇ（ＨＢＰＥ−４及びＭＩ５５の総質量１００質量％に対して０．１質量％）加え、インプリント用レプリカモールド材料ＲＭ−ａ１３を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分を含む。

＜実施例１４＞
ＨＢＰＥ−４を８．５ｇ、合成例５で得られたＭＩ５５Ｌを１．０ｇ、ＮＫエステル Ａ−ＮＰＧ（新中村化学工業（株）製）（以下、本明細書では「Ａ−ＮＰＧ」と略称する。）０．５ｇ及びＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４を０．０１ｇ（ＨＢＰＥ−４、ＭＩ５５Ｌ及びＡ−ＮＰＧの総質量１００質量％に対して０．１質量％）加え、インプリント用レプリカモールド材料ＲＭ−ａ１４を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分を含む。

＜実施例１５＞
ＨＢＰＥ−４を８．０ｇ、合成例５で得られたＭＩ５５Ｌを１．０ｇ、Ａ−ＮＰＧを１．０ｇ及びＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４を０．０１ｇ（ＨＢＰＥ−４、ＭＩ５５Ｌ及びＡ−ＮＰＧの総質量１００質量％に対して０．１質量％）加え、インプリント用レプリカモールド材料ＲＭ−ａ１５を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分を含む。

＜実施例１６＞
ＨＢＰＥ−４を８．５ｇ、合成例５で得られたＭＩ５５Ｌを１．０ｇ、ＮＫエステル Ａ−２００（新中村化学工業（株）製）（以下、本明細書では「Ａ−２００」と略称する。）０．５ｇ及びＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４を０．０１ｇ（ＨＢＰＥ−４、ＭＩ５５Ｌ及びＡ−２００の総質量１００質量％に対して０．１質量％）加え、インプリント用レプリカモールド材料ＲＭ−ａ１６を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分を含む。

＜実施例１７＞
ＨＢＰＥ−４を８．０ｇ、合成例５で得られたＭＩ５５Ｌを１．０ｇ、Ａ−２００を１．０ｇ及びＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４を０．０１ｇ（ＨＢＰＥ−４、ＭＩ５５Ｌ及びＡ−２００の総質量１００質量％に対して０．１質量％）加え、インプリント用レプリカモールド材料ＲＭ−ａ１７を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分を含む。

＜実施例１８＞
ＨＢＰＥ−４を８．５ｇ、合成例５で得られたＭＩ５５Ｌを１．０ｇ、ＮＫエステル Ａ−６００（新中村化学工業（株）製）（以下、本明細書では「Ａ−６００」と略称する。）０．５ｇ及びＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４を０．０１ｇ（ＨＢＰＥ−４、ＭＩ５５Ｌ及びＡ−６００の総質量１００質量％に対して０．１質量％）加え、インプリント用レプリカモールド材料ＲＭ−ａ１８を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分を含む。

＜実施例１９＞
ＨＢＰＥ−４を８．０ｇ、合成例５で得られたＭＩ５５Ｌを１．０ｇ、Ａ−６００を１．０ｇ及びＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４を０．０１ｇ（ＨＢＰＥ−４、ＭＩ５５Ｌ及びＡ−６００の総質量１００質量％に対して０．１質量％）加え、インプリント用レプリカモールド材料ＲＭ−ａ１９を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分を含む。

＜実施例２０＞
ＨＢＰＥ−４を７．５ｇ、合成例５で得られたＭＩ５５Ｌを１．０ｇ、Ａ−６００を１．５ｇ及びＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４を０．０１ｇ（ＨＢＰＥ−４、ＭＩ５５Ｌ及びＡ−６００の総質量１００質量％に対して０．１質量％）加え、インプリント用レプリカモールド材料ＲＭ−ａ２０を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分を含む。

＜実施例２１＞
ＨＢＰＥ−４を７．０ｇ、合成例５で得られたＭＩ５５Ｌを１．０ｇ、Ａ−６００を２．０ｇ及びＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４を０．０１ｇ（ＨＢＰＥ−４、ＭＩ５５Ｌ及びＡ−６００の総質量１００質量％に対して０．１質量％）加え、インプリント用レプリカモールド材料ＲＭ−ａ２１を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分を含む。

＜実施例２２＞
ＨＢＰＥ−４を９．７５ｇ、合成例１で得られたＭＩ５５を０．２５ｇ、チオカルコール２０を０．０５ｇ（ＨＢＰＥ−４及びＭＩ５５の総質量１００質量％に対して０．５質量％）及びＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４を０．０１ｇ（ＨＢＰＥ−４及びＭＩ５５の総質量１００質量％に対して０．１質量％）加え、インプリント用レプリカモールド材料ＲＭ−ａ２２を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分を含む。

＜実施例２３＞
ＨＢＰＥ−４を９．７５ｇ、合成例１で得られたＭＩ５５を０．２５ｇ、チオカルコール２０を０．１ｇ（ＨＢＰＥ−４及びＭＩ５５の総質量１００質量％に対して１．０質量％）及びＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４を０．０１ｇ（ＨＢＰＥ−４及びＭＩ５５の総質量１００質量％に対して０．１質量％）加え、インプリント用レプリカモールド材料ＲＭ−ａ２３を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分を含む。

＜実施例２４＞
ＨＢＰＥ−４を９．７５ｇ、合成例１で得られたＭＩ５５を０．２５ｇ、カレンズＭＴ（登録商標）ＮＲ１（昭和電工（株）製）（以下、本明細書では「ＮＲ１」と略称する。）を０．１ｇ（ＨＢＰＥ−４及びＭＩ５５の総質量１００質量％に対して１．０質量％）及びＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４を０．０１ｇ（ＨＢＰＥ−４及びＭＩ５５の総質量１００質量％に対して０．１質量％）加え、インプリント用レプリカモールド材料ＲＭ−ａ２４を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分を含む。

＜実施例２５＞
ＨＢＰＥ−４を９．７５ｇ、合成例１で得られたＭＩ５５を０．２５ｇ、ＮＲ１を０．５ｇ（ＨＢＰＥ−４及びＭＩ５５の総質量１００質量％に対して５．０質量％）及びＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４を０．０１ｇ（ＨＢＰＥ−４及びＭＩ５５の総質量１００質量％に対して０．１質量％）加え、インプリント用レプリカモールド材料ＲＭ−ａ２５を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分を含む。

＜実施例２６＞
ＨＢＰＥ−４を９．７５ｇ、合成例１で得られたＭＩ５５を０．２５ｇ、ＰＥＰＴ（ＳＣ有機化学（株）製）（以下、本明細書では「ＰＥＰＴ」と略称する。）を０．１ｇ（ＨＢＰＥ−４及びＭＩ５５の総質量１００質量％に対して１．０質量％）及びＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４を０．０１ｇ（ＨＢＰＥ−４及びＭＩ５５の総質量１００質量％に対して０．１質量％）加え、インプリント用レプリカモールド材料ＲＭ−ａ２６を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分を含む。

＜実施例２７＞
ＨＢＰＥ−４を９．７５ｇ、合成例１で得られたＭＩ５５を０．２５ｇ、ＰＥＰＴを０．５ｇ（ＨＢＰＥ−４及びＭＩ５５の総質量１００質量％に対して５．０質量％）及びＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４を０．０１ｇ（ＨＢＰＥ−４及びＭＩ５５の総質量１００質量％に対して０．１質量％）加え、インプリント用レプリカモールド材料ＲＭ−ａ２７を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分を含む。

＜実施例２８＞
ＨＢＰＥ−４を９．７５ｇ、合成例６で得られたＭＩ７５２５を０．２５ｇ、チオカルコール２０を０．１ｇ（ＨＢＰＥ−４及びＭＩ７５２５の総質量１００質量％に対して１．０質量％）及びＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４を０．０１ｇ（ＨＢＰＥ−４及びＭＩ７５２５の総質量１００質量％に対して０．１質量％）加え、インプリント用レプリカモールド材料ＲＭ−ａ２８を調製した。本実施例のインプリント用レプリカモールド材料は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分を含む。

＜比較例１＞
ＨＢＰＥ−４を９ｇ、合成例１で得られたＭＩ５５を１ｇ、及びＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４を０．２ｇ（ＨＢＰＥ−４及びＭＩ５５の総質量１００質量％に対して２質量％）加え、インプリント用レプリカモールド材料ＲＭ−ｂ１を調製した。本比較例のインプリント用レプリカモールド材料は、（Ｃ）成分の含有割合が、（Ａ）成分と（Ｂ）成分との合計１００質量％に対し０．０１質量％乃至１質量％の上限値を超えている。

＜比較例２＞
ＨＢＰＥ−４を９ｇ、合成例１で得られたＭＩ５５を１ｇ、及びＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４を０．０００５ｇ（ＨＢＰＥ−４及びＭＩ５５の総質量１００質量％に対して０．００５質量％）加え、インプリント用レプリカモールド材料ＲＭ−ｂ２を調製した。本比較例のインプリント用レプリカモールド材料は、（Ｃ）成分の含有割合が、（Ａ）成分と（Ｂ）成分との合計１００質量％に対し０．０１質量％乃至１質量％の下限値未満である。

＜比較例３＞
ＨＢＰＥ−４を１０ｇ、及びＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４を０．０１ｇ（ＨＢＰＥ−４の質量１００質量％に対して０．１質量％）加え、インプリント用レプリカモールド材料ＲＭ−ｂ３を調製した。本比較例のインプリント用レプリカモールド材料は、（Ａ）成分及び（Ｃ）成分を含むが（Ｂ）成分を含まない。

＜比較例４＞
ＮＫエステル Ａ−ＤＯＮ（新中村化学工業（株）製）（以下、Ａ−ＤＯＮと略称する。）を９ｇ、合成例１で得られたＭＩ５５を１ｇ、及びＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４を０．０１ｇ（Ａ−ＤＯＮ及びＭＩ５５の総質量１００質量％に対して０．１質量％）加え、インプリント用レプリカモールド材料ＲＭ−ｂ４を調製した。本比較例のインプリント用レプリカモールド材料は、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分を含むが（Ａ）成分を含まない。

［インプリント用レプリカモールドの作製］
実施例１乃至実施例２８及び比較例１乃至比較例４で得られた各インプリント用レプリカモールド材料を、予めＮＯＶＥＣ（登録商標）１７２０（スリーエムジャパン（株）製）（以下、本明細書では「ＮＯＶＥＣ１７２０」と略称する。）を用いて離型処理したニッケル製モールド（２ｍｍ径×３００μｍ深さの凹レンズ型を縦３列×横５列の１５個配置）へポッティングし、その上に石英ガラス基板を被せ、ナノインプリント装置ＮＭ−０８０１ＨＢ（明昌機工（株）製）を用いて光インプリントを行った。光インプリントは、常時２３℃の条件で、ａ）１０秒間かけて５００Ｎまで加圧、ｂ）高圧水銀ランプを用いて５０００ｍＪ／ｃｍ²の露光、ｃ）１０秒間かけて除圧、ｄ）ニッケル製モールドと石英ガラス基板を分離して離型、というシーケンスで行い、当該石英ガラス基板上に凸レンズパターンを得た。その石英ガラス基板上に得られた凸レンズパターンを１５０℃のホットプレートで５分間加熱し、インプリント用レプリカモールドを得た。使用した前記石英ガラス基板は、予めＫＢＭ−５１０３（信越化学工業（株）製）をスピンコートし、１５０℃のホットプレートで５分間加熱することにより、密着処理を行ったものである。得られたインプリント用レプリカモールドについて、工業用顕微鏡 ＥＣＬＩＰＳＥ Ｌ１５０（（株）ニコン製）を用いて、凸レンズパターンの剥がれ・割れの有無を観察した。その結果を表１、表２及び表３に示す。

［レプリカモールドの離型処理］
前述の方法により得られたレプリカモールドのうち、凸レンズパターンの剥がれ・割れがいずれも観察されなかったレプリカモールドの凸レンズパターン表面上へ、ＮＯＶＥＣ１７２０をスピンコートし、１００℃のホットプレートで１０分間加熱することにより、前記レプリカモールド表面を離型処理した。

［インプリント材料の調製］
ＮＫエステル Ａ−ＤＯＧ（新中村化学工業（株）製）を５ｇ及びＵＭ−９０（１／３）ＤＡ（宇部興産（株）製）５ｇを混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４を０．２ｇ加え、インプリント材料を調製した。

［レプリカモールドを用いた凹レンズパターンの作製］
調製したインプリント材料を、前述の密着処理を行った石英ガラス基板上へポッティングし、その上に前述の離型処理したレプリカモールドを被せ、ナノインプリント装置ＮＭ−０８０１ＨＢ（明昌機工（株）製）を用いて光インプリントを行った。光インプリントは、常時２３℃の条件で、ａ）１０秒間かけて５００Ｎまで加圧、ｂ）高圧水銀ランプを用いて５０００ｍＪ／ｃｍ²の露光、ｃ）１０秒間かけて除圧、ｄ）レプリカモールドと石英ガラス基板を分離して離型、というシーケンスで行い、当該石英ガラス基板上に凹レンズパターンを得た。工業用顕微鏡 ＥＣＬＩＰＳＥ Ｌ１５０（（株）ニコン製）を用いて、得られた凹レンズパターンの剥がれ・割れの有無を観察した。その結果を表１、表２及び表３に示す。

［硬化膜の作製及び光学特性評価］
実施例１乃至実施例２８及び比較例１乃至比較例４で得られた各インプリント用レプリカモールド材料を、０．５ｍｍ厚のシリコーンゴム製スペーサーとともに、ＮＯＶＥＣ１７２０で表面処理をしたガラス基板２枚で挟み込んだ。この挟み込んだインプリント用レプリカモールド材料を、バッチ式ＵＶ照射装置（高圧水銀灯２ｋＷ×１灯）（アイグラフィックス（株）製）を用いて４０ｍＷ／ｃｍ²で１２５秒間ＵＶ露光した。得られた硬化物を前記ガラス基板から剥離した後、１５０℃のホットプレートで５分間加熱することで、厚さ０．５ｍｍの硬化膜を作製した。得られた硬化膜の波長３６５ｎｍにおける透過率を、分光光度計ＵＶ２６００（（株）島津製作所製）を用い、リファレンスを空気にした状態で測定した。その結果を表４、表５及び表６に示す。

［硬化収縮率測定］
実施例１乃至実施例２８及び比較例１乃至比較例４で得られた各インプリント用レプリカモールド材料（いずれも液体）、及び当該レプリカモールド材料から作製された前述の硬化膜について、乾式自動密度計アキュピック１３３０−０１（（株）島津製作所製）を用いて、密度を測定した。そして以下の式より、硬化収縮率を算出した。
硬化収縮率＝（（硬化後の膜密度−硬化前のレプリカモールド材料の密度）／硬化後の膜密度）×１００％
得られた結果を表４、表５及び表６に示す。

表１及び表２に示す結果より、実施例１乃至実施例２８で調製されたインプリント用レプリカモールド材料から作製されたレプリカモールドの凸レンズパターンは、割れ・剥がれがいずれも観察されなかった。また、得られたレプリカモールドを用い、光インプリントにより作製した凹レンズパターンにも、割れ・剥がれはいずれも観察されなかった。一方、表３に示す結果より、比較例２及び比較例４で調製されたインプリント用レプリカモールド材料から作製されたレプリカモールドの凸レンズパターンには、割れ・剥がれの少なくとも一方が観察された。そして比較例１で調製されたインプリント用レプリカモールド材料から作製されたレプリカモールドを用い、光インプリントにより作製した凹レンズパターンには、剥がれが観察された。

表４及び表５に示す結果より、実施例１乃至実施例２８で調製されたインプリント用レプリカモールド材料から作製された硬化膜はいずれも、０．５ｍｍの厚膜において、波長３６５ｎｍにおける透過率が８０％以上であり、紫外線領域における高い透明性が確認された。さらに、硬化収縮率はいずれも５．０％以下と低い値を示した。一方、表６に示す結果より、比較例１、比較例３及び比較例４で調製されたインプリント用レプリカモールド材料から作製された硬化膜は、波長３６５ｎｍにおける透過率が８０％を下回るか、又は硬化収縮率が５．０％を上回る結果となった。

以上の結果から、本発明のインプリント用レプリカモールド材料は、光硬化時における硬化収縮率が低く、当該レプリカモールド材料から作製された成形体は、紫外線領域における高い透明性を有するものとなる。

Claims (12)

1. 下記（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分を含有するインプリント用レプリカモールド材料。
   （Ａ）：下記式（１）で表されるジ（メタ）アクリレート化合物
   

   

   （式中、Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｒ³及びＲ⁴はそれぞれ独立に炭素原子数１乃至４のアルキレン基を表し、Ｒ⁵及びＲ⁶はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、ｒ¹及びｒ²はそれぞれ独立に１乃至５の整数を表す。）
   （Ｂ）：下記式（２）で表される構造単位及び下記式（３）で表される構造単位を有する非架橋性の共重合体
   

   

   （式中、Ｒ⁷及びＲ⁸はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｘ¹は炭素原子数１乃至６の鎖状アルキル基を表し、Ｘ²はシクロペンタン構造、シクロヘキサン構造、ノルボルナン構造、イソボルニル構造、アダマンタン構造、又はトリシクロデカン構造を有する脂環式炭化水素基を表す。）
   （Ｃ）：前記（Ａ）成分と前記（Ｂ）成分との合計１００質量％に対し、０．０１質量％乃至１質量％の光重合開始剤
2. 前記（Ａ）成分と前記（Ｂ）成分との合計１００質量％に対し、該（Ｂ）成分を１質量％乃至５０質量％含む、請求項１に記載のインプリント用レプリカモールド材料。
3. 前記（Ｂ）成分の重量平均分子量が標準ポリスチレン換算で２，０００乃至１００，０００である、請求項１又は請求項２に記載のインプリント用レプリカモールド材料。
4. 前記脂環式炭化水素基はイソボルニル基である、請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載のインプリント用レプリカモールド材料。
5. （Ｄ）成分としてチオール基を少なくとも１つ有する化合物をさらに含有する、請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載のインプリント用レプリカモールド材料。
6. （Ｅ）成分として酸化防止剤をさらに含有する、請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載のインプリント用レプリカモールド材料。
7. （Ｆ）成分として界面活性剤をさらに含有する、請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載のインプリント用レプリカモールド材料。
8. 請求項１乃至請求項７のいずれか一項に記載のインプリント用レプリカモールド材料から作製された、パターンを有するインプリント用レプリカモールド。
9. 前記パターンがレンズ形状の反転パターンである、請求項８に記載のインプリント用レプリカモールド。
10. 前記インプリント用レプリカモールドの最大厚さが２．０ｍｍである、請求項８又は請求項９に記載のインプリント用レプリカモールド。
11. 請求項１乃至請求項７のいずれか一項に記載のインプリント用レプリカモールド材料をマスターモールド上に塗布する工程、
    前記レプリカモールド材料を介して前記マスターモールドを基材と圧着する工程、
    前記マスターモールドを前記基材に圧着させたまま該基材を通して前記レプリカモールド材料を露光し、該レプリカモールド材料を光硬化する工程、及び
    前記光硬化する工程の後、前記基材上に得られた光硬化物を前記マスターモールドから離型する工程を含むインプリント用レプリカモールドの作製方法。
12. 請求項１乃至請求項７のいずれか一項に記載のインプリント用レプリカモールド材料を基材上に塗布する工程、
    前記レプリカモールド材料を介して前記基材をマスターモールドと圧着する工程、
    前記マスターモールドを前記基材に圧着させたまま該基材を通して前記レプリカモールド材料を露光し、該レプリカモールド材料を光硬化する工程、及び
    前記光硬化する工程の後、前記基材上に得られた光硬化物を前記マスターモールドから離型する工程を含むインプリント用レプリカモールドの作製方法。