JP7278596B2 - ランプの点灯方法 - Google Patents
ランプの点灯方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7278596B2 JP7278596B2 JP2019558157A JP2019558157A JP7278596B2 JP 7278596 B2 JP7278596 B2 JP 7278596B2 JP 2019558157 A JP2019558157 A JP 2019558157A JP 2019558157 A JP2019558157 A JP 2019558157A JP 7278596 B2 JP7278596 B2 JP 7278596B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposure
- power
- discharge lamp
- lamp
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/7055—Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/2004—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by the use of a particular light source, e.g. fluorescent lamps or deep UV light
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70008—Production of exposure light, i.e. light sources
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J61/00—Gas-discharge or vapour-discharge lamps
- H01J61/84—Lamps with discharge constricted by high pressure
- H01J61/88—Lamps with discharge constricted by high pressure with discharge additionally constricted by envelope
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02B—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO BUILDINGS, e.g. HOUSING, HOUSE APPLIANCES OR RELATED END-USER APPLICATIONS
- Y02B20/00—Energy efficient lighting technologies, e.g. halogen lamps or gas discharge lamps
- Y02B20/40—Control techniques providing energy savings, e.g. smart controller or presence detection
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Discharge Lamps And Accessories Thereof (AREA)
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
- Circuit Arrangements For Discharge Lamps (AREA)
Description
露光対象物を露光する露光時間には、ランプに対して露光用電力を供給し、
前記露光時間以外には、前記ランプに対して、前記露光用電力よりも低く、かつ、前記ランプの点灯状態を維持できる待機電力を供給するランプの点灯方法であって、
前記ランプはLEDであり、前記露光用電力を供給する時間は、
前記LEDのジャンクション温度が前記露光用電力を前記LEDに供給し続けた場合における前記LEDの定常ジャンクション温度に到達する時間よりも短く、
前記LEDに供給する前記露光用電力を上昇させた直後に生じる前記LEDからの光の照射強度のピークが生じるまでの時間よりも長く、かつ、
露光するフォトレジストの受光感度に合わせてひとつの前記露光時間を少なくとも第1露光時間と第2露光時間とに分けるとともに、前記第1露光時間および前記第2露光時間における光の照射強度をそれぞれ設定し、前記露光時間の間に前記ランプからの照射強度を設定した前記照射強度に変化させることを特徴とする
ランプの点灯方法が提供される。
(露光機10の構成)
図1は、本発明が適用された実施例1に係る露光機10を示す。露光機10は、大略、露光装置50と、インテグレータ12と、凹面鏡14と、照射面16と、シャッター24とで構成されている。
図2は、本発明が適用された実施例1に係る露光装置50を示す図である。また、図3は、露光装置50の平面図である。露光装置50は、複数の光源装置100と、フレーム52と、放電灯用スイッチ53と、放電灯用電源54と、制御部60とを備えている。
露光装置50の電源スイッチ(図示せず)が投入されると、放電灯用スイッチ53がオンになり、放電灯用電源54から光源装置100の放電灯110に対する給電が開始される。給電が開始されると、放電灯110が点灯する。なお、この段階で放電灯用電源54から放電灯110に供給される電力は待機電力Lである。
本実施例によれば、シャッター24が閉じられており、露光対象物Xの露光を実施しないときには、放電灯用電源54から放電灯110に対して待機電力Lが供給されており、シャッター24が開けられ、露光対象物Xの露光が実施される際には、放電灯用電源54から放電灯110に対して、待機電力Lよりも高い露光用電力Hが供給される。
上述した実施例では、ランプとして放電灯110を使用する場合の点灯方法について説明したが、放電灯110に代えて、LED(発光ダイオード)やレーザーをランプとして使用してもよい。
ランプとしてLEDやレーザを使用する場合も、もちろん放電灯110を使用する場合も、露光時間内における光源装置100から照射される光の照射強度を一定にしてもよいし、これに代えて、図14に示すように、連続露光時間を例えば2つ(「第1露光時間」と「第2露光時間」)に分けて、これら第1露光時間と第2露光時間とで、光源装置100から照射される光の照射強度を変化させるようにしてもよい。
50…露光装置、52…フレーム、53…放電灯用スイッチ、54…放電灯用電源、58…凹所、60…制御部
100…光源装置
110…放電灯、112…発光管部、114…シール部、116…内部空間、118…箔、120…電極、122…リード棒、124…水銀
150…リフレクタ、151…リフレクタ容器、152…反射面、154…開口、155…底頸部、156…シール部挿設孔
170…絶縁ベース、172…リフレクタ挿入穴、174…内側空間、176…電源ケーブル挿通穴
X…露光対象物、H…露光用電力、L…待機電力
Claims (2)
- 露光対象物を露光する露光時間には、ランプに対して露光用電力を供給し、
前記露光時間以外には、前記ランプに対して、前記露光用電力よりも低く、かつ、前記ランプの点灯状態を維持できる待機電力を供給するランプの点灯方法であって、
前記ランプはLEDであり、前記露光用電力を供給する時間は、
前記LEDのジャンクション温度が前記露光用電力を前記LEDに供給し続けた場合における前記LEDの定常ジャンクション温度に到達する時間よりも短く、
前記LEDに供給する前記露光用電力を上昇させた直後に生じる前記LEDからの光の照射強度のピークが生じるまでの時間よりも長く、かつ、
露光するフォトレジストの受光感度に合わせてひとつの前記露光時間を少なくとも第1露光時間と第2露光時間とに分けるとともに、前記第1露光時間および前記第2露光時間における光の照射強度をそれぞれ設定し、前記露光時間の間に前記ランプからの照射強度を設定した前記照射強度に変化させることを特徴とする
ランプの点灯方法。 - 前記露光時間以外には、前記ランプに対して供給する電力を停止して消灯させることを特徴とする請求項1に記載の点灯方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017236525 | 2017-12-08 | ||
JP2017236525 | 2017-12-08 | ||
PCT/JP2018/043624 WO2019111769A1 (ja) | 2017-12-08 | 2018-11-27 | ランプの点灯方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2019111769A1 JPWO2019111769A1 (ja) | 2020-11-26 |
JP7278596B2 true JP7278596B2 (ja) | 2023-05-22 |
Family
ID=66751056
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019558157A Active JP7278596B2 (ja) | 2017-12-08 | 2018-11-27 | ランプの点灯方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7278596B2 (ja) |
KR (1) | KR20200096916A (ja) |
CN (1) | CN111466011B (ja) |
TW (2) | TWI794352B (ja) |
WO (1) | WO2019111769A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2022167503A (ja) * | 2021-04-23 | 2022-11-04 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 照明装置の制御方法及び露光装置 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000003846A (ja) | 1998-06-15 | 2000-01-07 | Canon Inc | 露光装置 |
JP2010056219A (ja) | 2008-08-27 | 2010-03-11 | Stanley Electric Co Ltd | 半導体発光素子のジャンクション温度の制御方法 |
JP2010123804A (ja) | 2008-11-20 | 2010-06-03 | Moritex Corp | Led駆動装置 |
JP2011014766A (ja) | 2009-07-03 | 2011-01-20 | Koito Mfg Co Ltd | 発光モジュールおよび車両用灯具 |
WO2012090489A1 (ja) | 2010-12-27 | 2012-07-05 | パナソニック株式会社 | 発光ダイオード用駆動回路及びled光源 |
JP2012212836A (ja) | 2011-03-31 | 2012-11-01 | Ushio Inc | 放電ランプ点灯装置 |
WO2013147052A1 (ja) | 2012-03-29 | 2013-10-03 | 株式会社オーク製作所 | 放電ランプを備えた照明装置 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6970811B1 (en) * | 2000-03-22 | 2005-11-29 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Hardware modeling of LED relative brightness |
JP2002373840A (ja) | 2001-06-14 | 2002-12-26 | Fuji Electric Co Ltd | 露光装置および露光方法 |
JP4633681B2 (ja) * | 2006-07-25 | 2011-02-16 | シーシーエス株式会社 | 光照射システム及び光制御装置 |
JP4937808B2 (ja) * | 2007-03-26 | 2012-05-23 | フェニックス電機株式会社 | 光源装置ならびにこれを用いた露光装置 |
TWI456356B (zh) * | 2009-04-09 | 2014-10-11 | Nsk Technology Co Ltd | 曝光裝置用之光照射裝置及其點亮控制方法、曝光裝置及基板 |
JP5541192B2 (ja) * | 2011-02-18 | 2014-07-09 | ウシオ電機株式会社 | 紫外線照射装置 |
-
2018
- 2018-11-27 KR KR1020207015668A patent/KR20200096916A/ko not_active Application Discontinuation
- 2018-11-27 CN CN201880076452.4A patent/CN111466011B/zh active Active
- 2018-11-27 WO PCT/JP2018/043624 patent/WO2019111769A1/ja active Application Filing
- 2018-11-27 JP JP2019558157A patent/JP7278596B2/ja active Active
- 2018-12-06 TW TW107144003A patent/TWI794352B/zh active
- 2018-12-06 TW TW112104828A patent/TWI815773B/zh active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000003846A (ja) | 1998-06-15 | 2000-01-07 | Canon Inc | 露光装置 |
JP2010056219A (ja) | 2008-08-27 | 2010-03-11 | Stanley Electric Co Ltd | 半導体発光素子のジャンクション温度の制御方法 |
JP2010123804A (ja) | 2008-11-20 | 2010-06-03 | Moritex Corp | Led駆動装置 |
JP2011014766A (ja) | 2009-07-03 | 2011-01-20 | Koito Mfg Co Ltd | 発光モジュールおよび車両用灯具 |
WO2012090489A1 (ja) | 2010-12-27 | 2012-07-05 | パナソニック株式会社 | 発光ダイオード用駆動回路及びled光源 |
JP2012212836A (ja) | 2011-03-31 | 2012-11-01 | Ushio Inc | 放電ランプ点灯装置 |
WO2013147052A1 (ja) | 2012-03-29 | 2013-10-03 | 株式会社オーク製作所 | 放電ランプを備えた照明装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2019111769A1 (ja) | 2020-11-26 |
TWI794352B (zh) | 2023-03-01 |
CN111466011B (zh) | 2023-05-23 |
TW202324501A (zh) | 2023-06-16 |
TW201931438A (zh) | 2019-08-01 |
TWI815773B (zh) | 2023-09-11 |
KR20200096916A (ko) | 2020-08-14 |
WO2019111769A1 (ja) | 2019-06-13 |
CN111466011A (zh) | 2020-07-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6887388B2 (ja) | 無電極単一cwレーザ駆動キセノンランプ | |
KR101432349B1 (ko) | 레이저 구동 광원 | |
JP5322217B2 (ja) | 光源装置 | |
JP2012230924A (ja) | レーザ駆動の光源及び方法 | |
US20100225232A1 (en) | Lighting method of light source apparatus | |
TW201113928A (en) | Light source device | |
US20190021158A1 (en) | Laser-driven light source device | |
JP7278596B2 (ja) | ランプの点灯方法 | |
JP2020505733A (ja) | 無電極単一低電力cwレーザー駆動プラズマランプ | |
JP4215107B2 (ja) | 光源装置、プロジェクタ | |
RU2680143C2 (ru) | Способ генерации широкополосного оптического излучения с высокой яркостью | |
JP2004056086A (ja) | ランプ点灯制御装置および光照射装置 | |
JP7274761B2 (ja) | 放電灯を含む光源装置、照射装置、および放電灯の判定方法 | |
TWI786180B (zh) | 光源裝置及其點亮方法、具備光源裝置的照射裝置 | |
JP5754699B2 (ja) | 半導体リソグラフィ用光源装置 | |
JP4897397B2 (ja) | 紫外線照射装置 | |
JP2007317529A (ja) | 高圧放電ランプ | |
JP2006344383A (ja) | 光照射装置 | |
US8698115B1 (en) | Light source device and method for generating extreme ultraviolet light | |
WO2018042888A1 (ja) | レーザ駆動ランプ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20211105 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20211108 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20221115 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230111 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230425 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230428 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7278596 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |