JP2000003846A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
- Publication number
- JP2000003846A JP2000003846A JP10167190A JP16719098A JP2000003846A JP 2000003846 A JP2000003846 A JP 2000003846A JP 10167190 A JP10167190 A JP 10167190A JP 16719098 A JP16719098 A JP 16719098A JP 2000003846 A JP2000003846 A JP 2000003846A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposure
- light source
- exposure apparatus
- shutter
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 露光時以外のウエハへの不要な露光を防ぐと
ともに、シャッタや光源への熱ストレスを軽減する。 【解決手段】 光源制御装置２からの電力投入により水
銀ランプ１から発生した露光光１０は、シャッタ３が開
状態の時、露光用光学系７内で所定の状態に整えられ、
レチクル４へと射出される。レチクル４を透過した露光
光１０は、投影レンズ６を通過し、ステージ１１上のウ
エハ５に投影され、レチクル４の像をウエハ５へと転写
する。光源制御装置２は水銀ランプ１の照度を、非露光
時には露光時よりも下げるように水銀ランプ１への投入
電力を制御する。
ともに、シャッタや光源への熱ストレスを軽減する。 【解決手段】 光源制御装置２からの電力投入により水
銀ランプ１から発生した露光光１０は、シャッタ３が開
状態の時、露光用光学系７内で所定の状態に整えられ、
レチクル４へと射出される。レチクル４を透過した露光
光１０は、投影レンズ６を通過し、ステージ１１上のウ
エハ５に投影され、レチクル４の像をウエハ５へと転写
する。光源制御装置２は水銀ランプ１の照度を、非露光
時には露光時よりも下げるように水銀ランプ１への投入
電力を制御する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体の露光装置に
関する。
関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体の製造工程でウエハの露光
に用いられる露光装置は、光源から発せられた露光光で
レチクル像を、投影レンズを介してウエハへと投影、転
写するものである。この種の露光装置では、露光工程の
最中、あるいは露光工程を実行するため露光装置の投影
レンズ下へとウエハが搬送される途中、もしくは露光工
程が終了し、次の工程に進むため投影レンズ下からウエ
ハが搬出される途中で、露光に関係する装置に何らかの
動作不具合が発生し、露光装置の投影レンズ下に、ウエ
ハがある一定時間以上移動せずに停止した場合に、露光
光の通過を阻止する目的で、光源の近傍で、かつ、露光
光の通過経路にシャッタを配し、露光時以外はシャッタ
を閉めて、露光光によるウエハへの露光を中断させる機
能を有していた。
に用いられる露光装置は、光源から発せられた露光光で
レチクル像を、投影レンズを介してウエハへと投影、転
写するものである。この種の露光装置では、露光工程の
最中、あるいは露光工程を実行するため露光装置の投影
レンズ下へとウエハが搬送される途中、もしくは露光工
程が終了し、次の工程に進むため投影レンズ下からウエ
ハが搬出される途中で、露光に関係する装置に何らかの
動作不具合が発生し、露光装置の投影レンズ下に、ウエ
ハがある一定時間以上移動せずに停止した場合に、露光
光の通過を阻止する目的で、光源の近傍で、かつ、露光
光の通過経路にシャッタを配し、露光時以外はシャッタ
を閉めて、露光光によるウエハへの露光を中断させる機
能を有していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ようにシャッタを閉めても、上記の動作不具合が発生す
ると、シャッタからの漏れ光により、ウエハ面への不要
なレチクル像の転写がなされるという問題があった。
ようにシャッタを閉めても、上記の動作不具合が発生す
ると、シャッタからの漏れ光により、ウエハ面への不要
なレチクル像の転写がなされるという問題があった。
【０００４】また、シャッタを閉じることで、シャッタ
が長時間露光光にさらされると、シャッタの温度が上昇
し、場合によっては変形してしまう恐れがあった。また
シャッタを閉じることによる、露光装置内の温度の過度
な上昇、及び過度な冷却が与える、光源として用いられ
る水銀ランプへの熱ストレスにより、水銀ランプの寿命
の低下、破裂や発光のチラツキを発生させる恐れがあっ
た。
が長時間露光光にさらされると、シャッタの温度が上昇
し、場合によっては変形してしまう恐れがあった。また
シャッタを閉じることによる、露光装置内の温度の過度
な上昇、及び過度な冷却が与える、光源として用いられ
る水銀ランプへの熱ストレスにより、水銀ランプの寿命
の低下、破裂や発光のチラツキを発生させる恐れがあっ
た。
【０００５】そこで本発明は、露光時以外のウエハへの
不要な露光を防ぐとともに、シャッタや光源への熱スト
レスを軽減する露光装置を提供することを目的とする。
不要な露光を防ぐとともに、シャッタや光源への熱スト
レスを軽減する露光装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明の露光装置は、ウエハにレチクル像を転写する
ための露光光を発生させる光源と、前記露光光を所定の
状態に整える露光用光学系と、前記露光光の通過経路に
配され、非露光時には前記露光用光学系への前記露光光
の通過を阻止するシャッタとを有する露光装置におい
て、前記光源の照度を、前記非露光時には露光時よりも
下げるように前記光源への投入電力を制御する光源制御
手段を有する。
に本発明の露光装置は、ウエハにレチクル像を転写する
ための露光光を発生させる光源と、前記露光光を所定の
状態に整える露光用光学系と、前記露光光の通過経路に
配され、非露光時には前記露光用光学系への前記露光光
の通過を阻止するシャッタとを有する露光装置におい
て、前記光源の照度を、前記非露光時には露光時よりも
下げるように前記光源への投入電力を制御する光源制御
手段を有する。
【０００７】上記の通りの本発明では、光源の照度は光
源制御装置により、非露光時には露光時よりも下げられ
る。これにより、シャッタからの漏れ光が少なくなり、
ウエハへの不要な露光が防止されるとともに光源の不必
要な発熱も抑制される。
源制御装置により、非露光時には露光時よりも下げられ
る。これにより、シャッタからの漏れ光が少なくなり、
ウエハへの不要な露光が防止されるとともに光源の不必
要な発熱も抑制される。
【０００８】非露光時は、露光装置が正常に作動してお
り、かつ、露光を行わない通常待機時と、露光装置の動
作不具合による異常停止である長時間待機時とに区分さ
れ、光源制御手段は、長時間待機時の照度を、通常待機
時の照度よりも下げるように前記光源への投入電力を制
御するものでもよい。
り、かつ、露光を行わない通常待機時と、露光装置の動
作不具合による異常停止である長時間待機時とに区分さ
れ、光源制御手段は、長時間待機時の照度を、通常待機
時の照度よりも下げるように前記光源への投入電力を制
御するものでもよい。
【０００９】露光装置は、光源、シャッタ及び光源とシ
ャッタとの周囲の温度を調整するための冷却手段を有す
るものでもよい。
ャッタとの周囲の温度を調整するための冷却手段を有す
るものでもよい。
【００１０】また、冷却手段は、ファンであってもよ
く、そのファンの送風量は、ファン制御手段からの投入
電力によって制御されるものでもよい。この場合、特
に、ファン制御手段は、光源制御手段により光源に与え
られる投入電力と同期してファンへの投入電力を制御す
ることにより、光源の発熱量に応じてファンが駆動され
るので光源が過度に冷却されることがなくなる。
く、そのファンの送風量は、ファン制御手段からの投入
電力によって制御されるものでもよい。この場合、特
に、ファン制御手段は、光源制御手段により光源に与え
られる投入電力と同期してファンへの投入電力を制御す
ることにより、光源の発熱量に応じてファンが駆動され
るので光源が過度に冷却されることがなくなる。
【００１１】
【発明の実施の形態】次に本発明の実施の形態について
図面を参照して説明する。
図面を参照して説明する。
【００１２】図１は、本発明による露光装置の一実施形
態の概略構成を示す図である。
態の概略構成を示す図である。
【００１３】図１に示すように、本実施形態の露光装置
は、光源制御装置２からの電力投入により露光光１０を
発する水銀ランプ１と、水銀ランプ１から発せられた露
光光１０を所定の状態に整えてレチクル４に射出するた
めの、各種レンズやミラーなどの光学素子を含む露光用
光学系７と、露光用光学系７から射出され、レチクル４
を透過した露光光１０をウエハ５に投影させるための投
影レンズ６と、ウエハ５が載置されるステージ１１とを
有する。
は、光源制御装置２からの電力投入により露光光１０を
発する水銀ランプ１と、水銀ランプ１から発せられた露
光光１０を所定の状態に整えてレチクル４に射出するた
めの、各種レンズやミラーなどの光学素子を含む露光用
光学系７と、露光用光学系７から射出され、レチクル４
を透過した露光光１０をウエハ５に投影させるための投
影レンズ６と、ウエハ５が載置されるステージ１１とを
有する。
【００１４】光源制御装置２は、露光装置の稼動状況に
合わせて水銀ランプ１への投入電力を３段階に切り換え
ることが可能であり、この切り換えにより水銀ランプ１
の照度が調整される。
合わせて水銀ランプ１への投入電力を３段階に切り換え
ることが可能であり、この切り換えにより水銀ランプ１
の照度が調整される。
【００１５】また、露光用光学系７には、その内部での
露光光の進行方向に関して上記光学素子よりも水銀ラン
プ１に近い位置にシャッタ３が配置されている。シャッ
タ３は、その開閉動作により露光光を通過させたり、遮
断したりするためのものである。
露光光の進行方向に関して上記光学素子よりも水銀ラン
プ１に近い位置にシャッタ３が配置されている。シャッ
タ３は、その開閉動作により露光光を通過させたり、遮
断したりするためのものである。
【００１６】シャッタ３が開状態では、光源制御装置２
からの電力投入により水銀ランプ１から発せられた露光
光１０は、露光用光学系７内を通過し、所定の状態に整
えられた後、レチクル４を透過して、さらに投影レンズ
６を通過する。これによって、レチクル４の像がウエハ
５へと投影、転写される。
からの電力投入により水銀ランプ１から発せられた露光
光１０は、露光用光学系７内を通過し、所定の状態に整
えられた後、レチクル４を透過して、さらに投影レンズ
６を通過する。これによって、レチクル４の像がウエハ
５へと投影、転写される。
【００１７】水銀ランプ１の近傍には、水銀ランプ１の
発熱に起因する、水銀ランプ１及びシャッタ３の温度上
昇を抑制するため、水銀ランプ１及びシャッタ３の周囲
に露光装置外へ向かう空気流をつくることによってこれ
らを冷却する排気ファン８が配置されている。排気ファ
ン８の出力、すなわち送風量はファン制御装置９によっ
て制御される。ファン制御装置９は光源制御装置２と同
期して、排気ファン８への投入電力を３段階に切り換え
るものであり、この切り換えにより排気ファン８の出力
が調整される。
発熱に起因する、水銀ランプ１及びシャッタ３の温度上
昇を抑制するため、水銀ランプ１及びシャッタ３の周囲
に露光装置外へ向かう空気流をつくることによってこれ
らを冷却する排気ファン８が配置されている。排気ファ
ン８の出力、すなわち送風量はファン制御装置９によっ
て制御される。ファン制御装置９は光源制御装置２と同
期して、排気ファン８への投入電力を３段階に切り換え
るものであり、この切り換えにより排気ファン８の出力
が調整される。
【００１８】次に、上述した露光装置での、光源制御装
置２及びファン制御装置９による水銀ランプ１及び排気
ファン８への投入電力の制御例について図２を参照して
説明する。
置２及びファン制御装置９による水銀ランプ１及び排気
ファン８への投入電力の制御例について図２を参照して
説明する。
【００１９】図２は図１に示した露光装置の水銀ランプ
１と排気ファン８とへの投入電力のタイムチャートであ
る。
１と排気ファン８とへの投入電力のタイムチャートであ
る。
【００２０】光源制御装置２は、ロの状態では、露光時
に必要な所定の照度を発生させる投入電力ＰEHを水銀ラ
ンプ１に与える。イの状態では、露光装置が正常に作動
しており、かつ、露光を行わない状態である、露光時に
比較して照度の低い通常待機時の照度を発生させる、投
入電力ＰEHより低い投入電力ＰEMを水銀ランプ１に与え
る。ハの状態では、露光工程の最中、あるいは露光工程
を実行するため露光装置の投影レンズ６下へとウエハ５
が搬送される途中、もしくは露光工程が終了し、次の工
程に進むため投影レンズ６下からウエハ５が搬出される
途中で、露光に関係する装置に何らかの動作不具合が発
生し、露光装置の投影レンズ６下に、ウエハ５がある一
定時間以上移動せずに停止した場合、イの状態より更に
照度の低い、長時間待機時の照度を発生させる投入電力
ＰEMより低い投入電力ＰELを水銀ランプ１に与える。
に必要な所定の照度を発生させる投入電力ＰEHを水銀ラ
ンプ１に与える。イの状態では、露光装置が正常に作動
しており、かつ、露光を行わない状態である、露光時に
比較して照度の低い通常待機時の照度を発生させる、投
入電力ＰEHより低い投入電力ＰEMを水銀ランプ１に与え
る。ハの状態では、露光工程の最中、あるいは露光工程
を実行するため露光装置の投影レンズ６下へとウエハ５
が搬送される途中、もしくは露光工程が終了し、次の工
程に進むため投影レンズ６下からウエハ５が搬出される
途中で、露光に関係する装置に何らかの動作不具合が発
生し、露光装置の投影レンズ６下に、ウエハ５がある一
定時間以上移動せずに停止した場合、イの状態より更に
照度の低い、長時間待機時の照度を発生させる投入電力
ＰEMより低い投入電力ＰELを水銀ランプ１に与える。
【００２１】以上のように水銀ランプ１の照度を光源制
御装置２により調整することによって、非露光時には水
銀ランプ１の照度が下がり、水銀ランプ１の発熱量及び
光量が低く抑えられるため、水銀ランプ１の寿命が延び
るとともに、長時間待機時の漏れ光による、ウエハ５へ
の不要な露光が避けられる。
御装置２により調整することによって、非露光時には水
銀ランプ１の照度が下がり、水銀ランプ１の発熱量及び
光量が低く抑えられるため、水銀ランプ１の寿命が延び
るとともに、長時間待機時の漏れ光による、ウエハ５へ
の不要な露光が避けられる。
【００２２】ところで、排気ファン８は、水銀ランプ１
及びシャッタ３の周囲の温度上昇を、より抑えるうえで
有効であるが、排気ファン８の出力が一定であると、水
銀ランプ１の照度を低下させた場合に、水銀ランプ１が
過度に冷却され、水銀ランプ１に大きな温度差による熱
ストレスを与えることとなる。そこで以下に説明するよ
うに、水銀ランプ１の照度に対応して排気ファン８の出
力を調整するのが好ましい。
及びシャッタ３の周囲の温度上昇を、より抑えるうえで
有効であるが、排気ファン８の出力が一定であると、水
銀ランプ１の照度を低下させた場合に、水銀ランプ１が
過度に冷却され、水銀ランプ１に大きな温度差による熱
ストレスを与えることとなる。そこで以下に説明するよ
うに、水銀ランプ１の照度に対応して排気ファン８の出
力を調整するのが好ましい。
【００２３】点灯温度条件を満たすためには、常に投入
電力に対応した温度調節をする必要がある水銀ランプ１
に対して、ファン制御装置９は、上記の光源制御装置２
の投入電力に同期して排気ファン８への投入電力を３段
階に切り換えることで対応している。すなわち、排気フ
ァン８に対して、ロの状態では、水銀ランプ１から露光
時に発せられる高熱を排気するための投入電力ＰFHを排
気ファン８に与える。また、イの状態では通常待機時に
水銀ランプ１の最適温度を維持するための、投入電力Ｐ
FHより低い投入電力ＰFMを排気ファン８に与える。さら
に、ハの状態では長時間待機時に水銀ランプ１の温度を
下げすぎないよう、投入電力ＰFMより低い最適温度を維
持するための投入電力ＰFLを排気ファン８に与える。こ
れにより水銀ランプ１に対しての急激な温度変化を防ぐ
こととなり、水銀ランプ１の寿命が延びるだけでなく、
発光のチラツキを防止し、レチクル面の露光照度が安定
する。また、水銀ランプ１の急激な温度変化による熱ス
トレスが軽減されるため、熱ストレスによる水銀ランプ
１の破裂の危険性が減少する。さらに、排気ファン８は
水銀ランプ１の温度を調整するだけでなく、シャッタ３
が過度の高温にさらされることによる変形を防ぐととも
に、水銀ランプ１とシャッタ３近傍の雰囲気温度の調整
を行うことで、露光用光学系７内の雰囲気温度も調整す
る。
電力に対応した温度調節をする必要がある水銀ランプ１
に対して、ファン制御装置９は、上記の光源制御装置２
の投入電力に同期して排気ファン８への投入電力を３段
階に切り換えることで対応している。すなわち、排気フ
ァン８に対して、ロの状態では、水銀ランプ１から露光
時に発せられる高熱を排気するための投入電力ＰFHを排
気ファン８に与える。また、イの状態では通常待機時に
水銀ランプ１の最適温度を維持するための、投入電力Ｐ
FHより低い投入電力ＰFMを排気ファン８に与える。さら
に、ハの状態では長時間待機時に水銀ランプ１の温度を
下げすぎないよう、投入電力ＰFMより低い最適温度を維
持するための投入電力ＰFLを排気ファン８に与える。こ
れにより水銀ランプ１に対しての急激な温度変化を防ぐ
こととなり、水銀ランプ１の寿命が延びるだけでなく、
発光のチラツキを防止し、レチクル面の露光照度が安定
する。また、水銀ランプ１の急激な温度変化による熱ス
トレスが軽減されるため、熱ストレスによる水銀ランプ
１の破裂の危険性が減少する。さらに、排気ファン８は
水銀ランプ１の温度を調整するだけでなく、シャッタ３
が過度の高温にさらされることによる変形を防ぐととも
に、水銀ランプ１とシャッタ３近傍の雰囲気温度の調整
を行うことで、露光用光学系７内の雰囲気温度も調整す
る。
【００２４】以上により、ウエハ５が投影レンズ６の下
で長時間停止するような場合でも、水銀ランプ１への投
入電力を、長時間待機時の低く抑えられた投入電力ＰEL
とすることで、水銀ランプ１の照度が低く抑えられ、シ
ャッタ３を含む露光用光学系７からの漏れ光が減少し、
よってレチクル像のウエハ５への不要な像転写を防ぐこ
とができる。また、これと同期して排気ファン８へも長
時間待機時の低く抑えた投入電力ＰFLとすることで水銀
ランプ１、シャッタ３及びその近傍の雰囲気温度を適温
に保つことができる。
で長時間停止するような場合でも、水銀ランプ１への投
入電力を、長時間待機時の低く抑えられた投入電力ＰEL
とすることで、水銀ランプ１の照度が低く抑えられ、シ
ャッタ３を含む露光用光学系７からの漏れ光が減少し、
よってレチクル像のウエハ５への不要な像転写を防ぐこ
とができる。また、これと同期して排気ファン８へも長
時間待機時の低く抑えた投入電力ＰFLとすることで水銀
ランプ１、シャッタ３及びその近傍の雰囲気温度を適温
に保つことができる。
【００２５】上記実施の形態は、水銀ランプ１及び排気
ファン８への投入する電力値の切り換え段数が３段階で
ある例を示したが、待機状態を通常待機時と長時間待機
時とに区別せず、２段階の切り換えとしてもよい。
ファン８への投入する電力値の切り換え段数が３段階で
ある例を示したが、待機状態を通常待機時と長時間待機
時とに区別せず、２段階の切り換えとしてもよい。
【００２６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
光源の照度を非露光時には露光時よりも下げる光源制御
装置により、露光時以外の光源の照度を低く抑えること
で、ウエハへの不要な露光を防ぐとともに、シャッタ、
光源への熱ストレスを軽減することができる。また、冷
却手段を用いることによって、光源やシャッタの温度上
昇がより効率的に抑制される。特に冷却手段としてファ
ンを用い、ファン制御装置により、光源への投入電力に
同期するようにファンへの投入電力を制御することで、
光源の急激な温度変化を防止することができる。
光源の照度を非露光時には露光時よりも下げる光源制御
装置により、露光時以外の光源の照度を低く抑えること
で、ウエハへの不要な露光を防ぐとともに、シャッタ、
光源への熱ストレスを軽減することができる。また、冷
却手段を用いることによって、光源やシャッタの温度上
昇がより効率的に抑制される。特に冷却手段としてファ
ンを用い、ファン制御装置により、光源への投入電力に
同期するようにファンへの投入電力を制御することで、
光源の急激な温度変化を防止することができる。
【図１】本発明の露光装置の一実施形態の概略構成を示
す図である。
す図である。
【図２】本発明の露光装置の光源と排気ファンとの投入
電力のタイムチャートである。
電力のタイムチャートである。
１ 水銀ランプ ２ 光源制御装置 ３ シャッタ ４ レチクル ５ ウエハ ６ 投影レンズ ７ 露光用光学系 ８ 排気ファン ９ ファン制御装置 １０ 露光光 １１ ステージ
Claims (6)
- 【請求項１】 ウエハにレチクル像を転写するための露
光光を発生させる光源と、前記露光光を所定の状態に整
える露光用光学系と、前記露光光の通過経路に配され、
非露光時には前記露光用光学系への前記露光光の通過を
阻止するシャッタとを有する露光装置において、 前記光源の照度を、前記非露光時には露光時よりも下げ
るように前記光源への投入電力を制御する光源制御手段
を有することを特徴とする露光装置。 - 【請求項２】 前記非露光時は、前記露光装置が正常に
作動しており、かつ、露光を行わない通常待機時と、前
記露光装置の動作不具合による異常停止である長時間待
機時とに区分され、前記光源制御手段は、前記長時間待
機時の照度を、前記通常待機時の照度よりも下げるよう
に前記光源への投入電力を制御する請求項１に記載の露
光装置。 - 【請求項３】 前記光源、前記シャッタ及び前記光源と
前記シャッタとの周囲の温度を調整するための冷却手段
を有する請求項１または２に記載の露光装置。 - 【請求項４】 前記冷却手段は、ファンである請求項３
に記載の露光装置。 - 【請求項５】 前記ファンの送風量は、ファン制御手段
からの投入電力によって制御される請求項４に記載の露
光装置。 - 【請求項６】 前記ファン制御手段は、前記光源制御手
段により前記光源に与えられる投入電力と同期して前記
ファンへの投入電力を制御する請求項５に記載の露光装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10167190A JP2000003846A (ja) | 1998-06-15 | 1998-06-15 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10167190A JP2000003846A (ja) | 1998-06-15 | 1998-06-15 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000003846A true JP2000003846A (ja) | 2000-01-07 |
Family
ID=15845108
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10167190A Pending JP2000003846A (ja) | 1998-06-15 | 1998-06-15 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000003846A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013080070A (ja) * | 2011-10-04 | 2013-05-02 | Dainippon Printing Co Ltd | 省エネルギーパターン描画方法及び省エネルギーパターン描画プログラム |
| WO2019111769A1 (ja) * | 2017-12-08 | 2019-06-13 | フェニックス電機株式会社 | ランプの点灯方法 |
| WO2022224576A1 (ja) * | 2021-04-23 | 2022-10-27 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 照明装置の制御方法及び露光装置 |
-
1998
- 1998-06-15 JP JP10167190A patent/JP2000003846A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013080070A (ja) * | 2011-10-04 | 2013-05-02 | Dainippon Printing Co Ltd | 省エネルギーパターン描画方法及び省エネルギーパターン描画プログラム |
| WO2019111769A1 (ja) * | 2017-12-08 | 2019-06-13 | フェニックス電機株式会社 | ランプの点灯方法 |
| CN111466011A (zh) * | 2017-12-08 | 2020-07-28 | 凤凰电机公司 | 灯的点亮方法 |
| JPWO2019111769A1 (ja) * | 2017-12-08 | 2020-11-26 | フェニックス電機株式会社 | ランプの点灯方法 |
| TWI794352B (zh) * | 2017-12-08 | 2023-03-01 | 日商鳳凰電機股份有限公司 | 燈之點亮方法 |
| JP7278596B2 (ja) | 2017-12-08 | 2023-05-22 | フェニックス電機株式会社 | ランプの点灯方法 |
| TWI815773B (zh) * | 2017-12-08 | 2023-09-11 | 日商鳳凰電機股份有限公司 | 燈之點亮方法 |
| WO2022224576A1 (ja) * | 2021-04-23 | 2022-10-27 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 照明装置の制御方法及び露光装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US8134107B2 (en) | Projection display apparatus having a correlation table that stores the correlation between an external condition and the value of power supplied to a light source | |
| US7622720B2 (en) | Exposure device | |
| US5974816A (en) | Temperature-control method and apparatus | |
| JP2000003846A (ja) | 露光装置 | |
| US7319505B2 (en) | Exposure apparatus and device fabrication method | |
| JPH06194621A (ja) | 液晶プロジェクタ | |
| JP2008292761A (ja) | 露光装置及びデバイス製造方法 | |
| JPH11338163A (ja) | 照明装置、露光装置及び照明方法 | |
| JP2903655B2 (ja) | 投写型表示装置 | |
| CN110727164B (zh) | 光源模组、应用其的投影机及其光源控制方法 | |
| JP2001244178A (ja) | 露光装置および露光方法ならびにデバイス製造方法 | |
| JP4631798B2 (ja) | 投射型表示装置 | |
| JPS6236819A (ja) | 半導体焼付露光装置 | |
| US6400444B2 (en) | Exposure apparatus and device producing method using the same | |
| KR200169701Y1 (ko) | 반도체 노광장치 | |
| JPH08181067A (ja) | 露光用光源および露光装置 | |
| JP2010128301A (ja) | 露光装置 | |
| JP2826785B2 (ja) | 投影露光装置 | |
| WO2022224576A1 (ja) | 照明装置の制御方法及び露光装置 | |
| JPH0636984A (ja) | 露光装置 | |
| TW202038020A (zh) | 光源裝置、光刻裝置、及物品製造方法 | |
| JP2003007586A (ja) | 温調装置および露光装置 | |
| KR100436548B1 (ko) | 베이크 장치를 사용한 웨이퍼 가공 방법 | |
| KR102666441B1 (ko) | 에지 노광 장치 및 광원 출력 제어 방법 | |
| KR200344735Y1 (ko) | 스테퍼에 구비된 램프의 타원경 보호장치 |