JP7271853B2 - 光学デバイス - Google Patents

光学デバイス Download PDF

Info

Publication number
JP7271853B2
JP7271853B2 JP2021556313A JP2021556313A JP7271853B2 JP 7271853 B2 JP7271853 B2 JP 7271853B2 JP 2021556313 A JP2021556313 A JP 2021556313A JP 2021556313 A JP2021556313 A JP 2021556313A JP 7271853 B2 JP7271853 B2 JP 7271853B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
layer
less
optical device
active liquid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2021556313A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2022526114A (ja
Inventor
ミン リー、セオン
クン ジョン、ビョン
フン キム、ナム
ウン キム、ジュン
シン リー、ヨン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
LG Chem Ltd
Original Assignee
LG Chem Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by LG Chem Ltd filed Critical LG Chem Ltd
Publication of JP2022526114A publication Critical patent/JP2022526114A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7271853B2 publication Critical patent/JP7271853B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133371—Cells with varying thickness of the liquid crystal layer
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133528—Polarisers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1341—Filling or closing of cells
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/22—Absorbing filters
    • G02B5/223—Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
    • G02F2201/50—Protective arrangements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2202/00—Materials and properties
    • G02F2202/28—Adhesive materials or arrangements

Description

本出願は、２０１９年３月２７日付で提出された大韓民国特許出願第１０－２０１９－００３５０３２号に基づく優先権の利益を主張し、当該大韓民国特許出願の文献に開示されたすべての内容は、本明細書の一部として含まれる。
本出願は、光学デバイスに関する。
液晶化合物を用いて透過率を可変できるように設計された透過率可変装置は、多様に知られている。例えば、ホスト物質（ｈｏｓｔ ｍａｔｅｒｉａｌ）と二色性染料ゲスト（ｄｉｃｈｒｏｉｃ ｄｙｅ ｇｕｅｓｔ）の混合物を適用した、いわゆるＧＨセル（Ｇｕｅｓｔ ｈｏｓｔ ｃｅｌｌ）を用いた光学デバイスが知られている。このような透過率可変装置は、サングラスやメガネなどのアイウェア（ｅｙｅｗｅａｒ）、建物の外壁や車両のサンルーフなどを含む様々な用途に適用されている。
このようなデバイスにおいて液晶層は、対向配置された２層の基板層の間に形成された間隙に充填された液晶物質を含み、前記液晶物質の配向を調節して光を変調する。前記間隙により形成された空間内を液晶物質が完全に充填するのが理想的である。
例えば、前記間隙による空間の体積に対して過量の液晶物質が存在すると、図１に示すように、過量の液晶物質により液晶セル１内で凝集された液晶物質や、液晶セル１から盛り上がった部位２などにより外観不良が発生しうる。逆に、前記間隙による空間の体積に対して少量の液晶物質が存在すると、液晶層内で発生した空隙がやはり外観不良を起こすことがある。
本出願は、光学デバイスを提供する。本出願は、過度に過量であるか、または少量の光変調物質あるいは光変調物質の熱収縮などにより発生する不良が防止された光学デバイスを提供することを一つの目的とする。
本明細書において言及する物性のうち、測定温度や圧力が結果に影響を及ぼす場合に、特に規定しない限り、当該物性は、常温と常圧で測定したものである。
用語の常温は、加温または減温しない自然のままの温度で、一般的に約１０℃～３０℃の範囲内のいずれかの温度、約２３℃または約２５℃程度の温度であってもよい。また、特に規定しない限り、本明細書において温度の単位は、℃である。
用語の常圧は、特に減らしたり、高めたりしない自然のままの圧力で、一般的に大気圧のような１気圧程度の圧力を意味する。
本出願の光学デバイスは、透過率の調節が可能な光学デバイスであって、例えば、少なくとも透過モードと遮断モードの間をスイッチングできる光学デバイスであってもよい。
前記透過モードは、光学デバイスが相対的に高い透過率を示す状態であり、遮断モードは、相対的に低い透過率の状態である。
一例において、前記光学デバイスは、透過モードにおける透過率が約１５％以上、約１８％以上、約２０％以上、約２５％以上、約３０％以上、約３５％以上、約４０％以上、約４５％以上または約５０％以上であってもよい。また、前記光学デバイスは、遮断モードにおける透過率が約２０％以下、約１５％以下、約１０％以下、約５％以下または約１％以下程度であってもよい。
透過モードにおける透過率は、数値が高いほど有利であり、遮断モードにおける透過率は、低いほど有利であるため、それぞれの上限と下限は、特に制限されるものではない。一例において、前記透過モードにおける透過率は、約１００％以下、約９５％以下、約９０％以下、約８５％以下、約８０％以下、約７５％以下、約７０％以下、約６５％以下または約６０％以下であってもよい。前記遮断モードにおける透過率は、約０％以上、約１％以上、約２％以上、約３％以上、約４％以上、約５％以上、約６％以上、約７％以上、約８％以上、約９％以上または約１０％以上であってもよい。
前記透過率は、直進光透過率であってもよい。用語の直進光透過率は、所定の方向に光学デバイスを入射した光に対して、前記入射方向と同じ方向に前記光学デバイスを透過した光（直進光）の割合であってもよい。一例において、前記透過率は、前記光学デバイスの表面法線と平行な方向に入射した光に対して測定した結果（法線光透過率）であってもよい。
本出願の光学デバイスにおいて透過率が調節される光は、ＵＶ－Ａ領域の紫外線、可視光または近赤外線であってもよい。したがって、前記透過率は、目的光によって紫外線、可視光または近赤外線に対する透過率であってもよい。一般的に使用される定義によれば、ＵＶ－Ａ領域の紫外線は、３２０ｎｍ～３８０ｎｍの範囲内の波長を有する放射線を意味するものとして使用され、可視光は、３８０ｎｍ～７８０ｎｍの範囲内の波長を有する放射線を意味するものとして使用され、近赤外線は、７８０ｎｍ～２０００ｎｍの範囲内の波長を有する放射線を意味するものとして使用される。
本出願の光学デバイスは、少なくとも前記透過モードと遮断モードの間をスイッチングできるように設計される。必要な場合に光学デバイスは、前記透過及び遮断モードの他に他のモード、例えば、前記透過及び遮断モードの透過率の間の任意の透過率を示すことができるモードなどのような様々な第３のモードも具現できるように設計されてもよい。
このようなモード間のスイッチングは、光学デバイスがアクティブ液晶フィルム層を含むことにより達成できる。前記アクティブ液晶フィルム層は、少なくとも２つ以上の光軸の配向状態、例えば、第１及び第２の配向状態の間をスイッチングできる液晶素子である。前記光軸は、アクティブ液晶フィルム層に含まれている液晶化合物が棒（ｒｏｄ）状である場合には、その長軸方向を意味し、円盤（ｄｉｓｃｏｔｉｃ）状である場合には、前記円盤平面の法線方向を意味する。例えば、アクティブ液晶フィルム層がある配向状態で互いに光軸が方向が異なる複数の液晶化合物を含む場合にアクティブ液晶フィルム層の光軸は平均光軸と定義し、この場合、平均光軸は、前記液晶化合物の光軸のベクトル和を意味する。
アクティブ液晶フィルム層において配向状態は、エネルギーの印加、例えば、電圧の印加によって変更できる。例えば、前記アクティブ液晶フィルム層は、電圧の印加のない状態で前記第１及び第２の配向状態のいずれかの配向状態を有し、電圧が印加されると、他の配向状態にスイッチングされてもよい。
第１及び第２の配向状態のいずれかの配向状態で前記遮断モードが具現され、他の配向状態で前記透過モードが具現され得る。便宜上、本明細書では、前記第１の状態で遮断モードが具現されるものとして記述するが、遮断モードは、第２の状態でも具現され得る。
本出願の光学デバイスにおいて前記アクティブ液晶フィルム層は、２枚の外郭基板の間でカプセル化剤によりカプセル化されていてもよい。本明細書において前記２枚の外郭基板のいずれかは、第１の外郭基板と呼ばれ、他の一つは、第２の外郭基板と呼ばれる。しかし、前記用いられた用語の第１及び第２は、２枚の外郭基板を区別するための呼称であり、両者の前後関係や上下関係を規定するものではない。
前記カプセル化は、前記アクティブ液晶フィルム層が２枚の外郭基板の間でカプセル化剤により囲まれている状態である。例えば、前記アクティブ液晶フィルム層のすべての面、例えば、上面と下面、そして、すべての側面が前記カプセル化剤により囲まれていてもよい。前記アクティブ液晶フィルム層のすべての面がカプセル化剤により囲まれているということは、前記すべての面が実質的にカプセル化剤により囲まれているということで、アクティブ液晶フィルム層のスイッチングのために外部電源を印加できるように形成された端子部などの連結部は、カプセル化剤の外部に出ていてもよい。また、アクティブ液晶フィルム層のすべての面は、前記カプセル化剤と直接接触してもよく、アクティブ液晶フィルム層の面とカプセル化剤の間に他の要素（例えば、後述する偏光層や段差形成層など）が存在してもよい。
このようなカプセル化は、接着剤で行われてもよく、このような場合に前記カプセル化剤は、接着剤であってもよい。
例えば、接着剤である前記カプセル化剤は、前記外郭基板、アクティブ液晶フィルム層、アクティブ液晶フィルム層及び／又は光学デバイスの他の要素（例えば、偏光層や段差形成層）などを相互に接着させながら、前記カプセル化構造を具現してもよい。例えば、目的構造によって外郭基板、アクティブ液晶フィルム層、接着フィルム（カプセル化剤を形成）及び／又はその他の他の要素を積層した後に真空状態で圧着する方式で前記構造を具現できる。
前記接着剤としては、特別な制限なく公知の材料が用いられてもよく、例えば、公知の熱可塑性ポリウレタン（ＴＰＵ：Ｔｈｅｒｍｏｐｌａｓｔｉｃ Ｐｏｌｙｕｒｅｔｈａｎｅ）接着剤、ＴＰＳ（Ｔｈｅｒｍｏｐｌａｓｔｉｃ Ｓｔａｒｃｈ）接着剤、ポリアミド接着剤、アクリル系接着剤、ポリエステル接着剤、ＥＶＡ（Ｅｔｈｙｌｅｎｅ Ｖｉｎｙｌ Ａｃｅｔａｔｅ）接着剤、ポリエチレンまたはポリプロピレンなどのポリオレフィン接着剤またはポリオレフィンエラストマー接着剤（ＰＯＥ接着剤）などが用いられてもよい。このような接着剤は、フィルム状であってもよい。
前記光学デバイスは、前記アクティブ液晶フィルム層とともに、やはり第１及び第２の外郭基板の間でカプセル化剤によりカプセル化された段差形成層を含んでもよい。前記段差形成層は、前記アクティブ液晶フィルム層の少なくとも一面に配置されていてもよい。用語の段差形成層は、前記アクティブ液晶層の少なくとも一定部位で、いわゆるセルギャップ（ｃｅｌｌ ｇａｐ）の段差を形成する層を意味する。すなわち、段差形成層とアクティブ液晶フィルム層がすべて２枚の外郭基板の間でカプセル化された構造を有しているため、前記段差形成層及びアクティブ液晶フィルム層の面積を調節することになると、前記アクティブ液晶フィルム層の少なくとも一部の領域が前記段差形成層により押されて前記段差が形成され得る。このような構造によってアクティブ液晶フィルム層のセルギャップ（ｃｅｌｌ ｇａｐ）内に存在する過量の光変調物質及び／又は空隙が前記押される力によって押し出され、前記段差形成層により押されている領域では、セルギャップによる空間を光変調物質が理想的に充填している構造が具現され得る。
図２は、例示的な光学デバイスであって、２枚の外郭基板１０１、１０２の間でカプセル化剤４００によってカプセル化された段差形成層３００とアクティブ液晶フィルム層を含むデバイスの側面図である。
図２に示されたように、前記アクティブ液晶フィルム層は、対向配置された２層の基材フィルム層２０１、２０２を含んでもよい。前記２層の基材フィルム層２０１、２０２は、いわゆるシーラント５００によって間隙を形成するように合着されており、その間隙には液晶物質が存在する。後述するように、前記間隙の空間には、前記液晶物質とともに、いわゆる異方性色素が存在してもよい。図２に示されたように、段差形成層３００とカプセル化剤４００の作用により、前記アクティブ液晶フィルム層には、前記段差形成層３００によって押されている領域２０１１と押されていない領域２０１２が発生することになる。この構造において、過剰の光変調物質（液晶物質及び／又は異方性染料など）や気泡などが前記押されていない領域２０１２に移動することになり、前記押されている領域２０１１では、理想的な状態が具現される。図２において、押されている領域２０１１、押されていない領域２０１２の間に存在する点線は、前記領域を図面上において区別するための仮想線である。また、前記構造によると、光学デバイスの使用状態に応じて液晶物質などの光変調物質の熱収縮などにより発生する光変調物質の枯渇による、いわゆるｗｈｉｔｅ ｓｐｏｔ問題も解決できる。
図３は、図２においてアクティブ液晶フィルム層と段差形成層３００を別々に示した図である。
図３のように、前記構造においてアクティブ液晶フィルム層の対向配置された２層の基材フィルム層の間隔（いわゆる、ｃｅｌｌ ｇａｐ）は、段差形成層により押されている領域２０１１と押されていない領域２０１２で互いに異なる。
一例において、前記段差形成層により押されている領域２０１１における基材フィルム層２０１、２０２の間隔（図３のＧ１）と押されていない領域２０１２における基材フィルム層２０１、２０２の間隔（図３のＧ２）の割合（１００×Ｇ１／Ｇ２）は、約１０％～９５％程度の範囲内であってもよい。前記割合（１００×Ｇ１／Ｇ２）は、他の例において、１１％以上程度、１２％以上程度、１３％以上程度、１４％以上程度、１５％以上程度、１６％以上程度、１７％以上程度、１８％以上程度、１９％以上程度、２０％以上程度、２１％以上程度、２２％以上程度、２３％以上程度、２４％以上程度、２５％以上程度、２６％以上程度、２７％以上程度、２８％以上程度、２９％以上程度、３０％以上程度、３１％以上程度、３２％以上程度、３３％以上程度、３４％以上程度、３５％以上程度、３６％以上程度、３７％以上程度、３８％以上程度、３９％以上程度、４０％以上程度、４１％以上程度、４２％以上程度、４３％以上程度、４４％以上程度、４５％以上程度、４６％以上程度、４７％以上程度、４８％以上程度、４９％以上程度、５０％以上程度、５１％以上程度、５２％以上程度、５３％以上程度、５４％以上程度、５５％以上程度、５６％以上程度、５７％以上程度、５８％以上程度、５９％以上程度、６０％以上程度、６１％以上程度、６２％以上程度、６３％以上程度、６４％以上程度、６５％以上程度、６６％以上程度、６７％以上程度、６８％以上程度、６９％以上程度、７０％以上程度、７１％以上程度、７２％以上程度、７３％以上程度、７４％以上程度、７５％以上程度、７６％以上程度、７７％以上程度、７８％以上程度、７９％以上程度、８０％以上程度、８１％以上程度、８２％以上程度、８３％以上程度、８４％以上程度、８５％以上程度、８６％以上程度、８７％以上程度、８８％以上程度、８９％以上程度、９０％以上程度、９１％以上程度、９２％以上程度、９３％以上程度、または９４％以上程度であるか、または９４％以下程度、９３％以下程度、９２％以下程度、９１％以下程度、９０％以下程度、８９％以下程度、８８％以下程度、８７％以下程度、８６％以下程度、８５％以下程度、８４％以下程度、８３％以下程度、８２％以下程度、８１％以下程度、８０％以下程度、７９％以下程度、７８％以下程度、７７％以下程度、７６％以下程度、７５％以下程度、７４％以下程度、７３％以下程度、７２％以下程度、７１％以下程度、７０％以下程度、６９％以下程度、６８％以下程度、６７％以下程度、６６％以下程度、６５％以下程度、６４％以下程度、６３％以下程度、６２％以下程度、６１％以下程度、６０％以下程度、５９％以下程度、５８％以下程度、５７％以下程度、５６％以下程度、５５％以下程度、５４％以下程度、５３％以下程度、５２％以下程度または５１％以下程度であってもよい。
前記のような割合は、例えば、アクティブ液晶フィルム層のセルギャップ、段差形成層の厚さ及び／又はカプセル化剤によりカプセル化圧力などを制御して調節してもよい。
一例において、前記構造においてアクティブ液晶フィルム層の面積（Ａ１）と段差形成層の面積（Ａ２）の割合（１００×Ａ２／Ａ１）は、７０％～９８％内であってもよい。前記割合（１００×Ａ２／Ａ１）は、他の例において、７１％以上程度、７２％以上程度、７３％以上程度、７４％以上程度、７５％以上程度、７６％以上程度、７７％以上程度、７８％以上程度、７９％以上程度、８０％以上程度、８１％以上程度、８２％以上程度、８３％以上程度、８４％以上程度、８５％以上程度、８６％以上程度、８７％以上程度、８８％以上程度、８９％以上程度、９０％以上程度、９１％以上程度、９２％以上程度、９３％以上程度または９４％以上程度、９５％以上程度、９６％以上程度または９７％以上程度であるか、９７％以下程度、９６％以下程度、９５％以下程度、９４％以下程度、９３％以下程度、９２％以下程度、９１％以下程度、９０％以下程度、８９％以下程度、８８％以下程度、８７％以下程度、８６％以下程度、８５％以下程度、８４％以下程度、８３％以下程度、８２％以下程度、８１％以下程度、８０％以下程度、７９％以下程度、７８％以下程度、７７％以下程度、７６％以下程度、７５％以下程度、７４％以下程度、７３％以下程度、７２％以下程度または７１％以下程度であってもよい。前記面積は、アクティブ液晶フィルム層及び段差形成層をそれぞれ上部または下部で観察したときの面積である。また、アクティブ液晶フィルム層の面積は、前記フィルム層の全体面積であるか、またはシーラント５００の内側で形成される領域（図３のＡ）の面積であってもよい。
前記割合の制御によってアクティブ液晶フィルム層のセルギャップ内で段差形成層により押されていない領域の体積が過剰の光変調物質及び／又は気泡が適切に押し出されるように調節されてもよい。
このような構造において、前記段差形成層により押されているアクティブ液晶フィルム層の領域の面が光学デバイスで光変調領域、すなわち一例において透過率が調節される領域を形成してもよい。
アクティブ液晶フィルム層において、前記２つの領域２０１１、２０１２は、様々な形で存在してもよい。例えば、図４に例示的に示したように、上面または下面で観察したときに前記段差形成層により押されていないアクティブ液晶フィルム層の領域２０１２は、段差形成層により押されているアクティブ液晶フィルム層の領域２０１１の少なくとも一つの端に存在してもよい。
他の例において、図５に示されたように、上面又は下面で観察したときに前記段差形成層により押されていないアクティブ液晶フィルム層の領域２０１２は、段差形成層により押されているアクティブ液晶フィルム層の領域２０１１の周辺でベゼルを形成していてもよい。
前記形態は目的に応じて変更してもよい。例えば、目的とする前記段差形成層により押されていない領域２０１２の体積や光学デバイスのデザインなどを考慮して、前記内容を変更してもよい。
前述した構造において適用される各構成の具体的な種類は、特に制限されず、公知の構成が適用されてもよい。
例えば、一例において、前記アクティブ液晶フィルム層の基材フィルム層の間の間隙に含まれる光変調物質としては、代表的に液晶物質が適用されてもよく、その際、具体的な液晶物質の種類も特に制限されるものではない。
一例において、前記アクティブ液晶フィルム層は、いわゆるゲストホスト液晶フィルム層であってもよい。このような場合に、前記間隙では液晶物質（液晶ホスト）とともに異方性染料が含まれてもよい。このような液晶フィルム層は、いわゆるゲストホスト効果を用いた液晶層であって、前記液晶物質（液晶ホスト）の配向方向によって前記異方性染料が整列される液晶層を含む。前記液晶ホストの配向方向は、前述の外部エネルギーの印加有無によって調節してもよい。
このような液晶ホストとしては特別な制限なく、ゲストホスト効果の具現のために適用される一般的な種類の液晶化合物が用いられてもよい。
例えば、前記液晶ホストとしては、スメクチック液晶化合物、ネマチック液晶化合物またはコレステリック液晶化合物が用いられてもよい。このような液晶化合物は、棒（ｒｏｄ）状であるか、または円盤（ｄｉｓｃｏｔｉｃ）状であってもよい。
このような液晶化合物は、例えば、約４０℃以上、約５０℃以上、約６０℃以上、約７０℃以上、約８０℃以上、約９０℃以上、約１００℃以上または約１１０℃以上の透明点（ｃｌｅａｒｉｎｇ ｐｏｉｎｔ）を有するか、または前記範囲の相転移点、すなわち、ネマチックなどの液晶相から等方相への相転移点を有することが選ばれてもよい。一例において、前記透明点または相転移点は、約１６０℃以下、約１５０℃以下または約１４０℃以下であってもよい。
前記液晶化合物は、誘電率異方性が負数または正数であってもよい。前記誘電率異方性の絶対値は、目的を考慮して適切に選ばれてもよい。例えば、前記誘電率異方性は、３超過または７超過であるか、または－２未満または－３未満であってもよい。
液晶化合物は、約０.０１以上または約０.０４以上の光学異方性（βｎ）を有してもよい。液晶化合物の光学異方性は、他の例において、約０.３以下または約０.２７以下であってもよい。
ゲストホスト液晶層の液晶ホストとして用いられてもよい液晶化合物は、本技術分野の専門家に公知されており、それらから自由に選ばれてもよい。
いわゆる、ゲストホスト液晶フィルム層である場合に、前記液晶層（２つの基材フィルム層の間に形成される間隙）は、前記液晶ホストとともに異方性染料を含んでもよい。用語の「染料」は、可視光領域、例えば、３８０ｎｍ～７８０ｎｍの波長範囲内で少なくとも一部または全体の範囲内の光を集中的に吸収及び／又は変形させることができる物質を意味し、用語の「異方性染料」は、前記可視光領域の少なくとも一部または全体の範囲で光の異方性吸収が可能な物質を意味する。
異方性染料としては、例えば、液晶ホストの整列状態によって整列され得る特性を有することが知られている公知の染料を選択して用いてもよい。例えば、異方性染料としては、アゾ染料またはアントラキノン染料などを用いてもよく、広い波長範囲での光吸収を達成するため、液晶層は、１種または２種以上の染料を含んでもよい。
異方性染料の二色比（ｄｉｃｈｒｏｉｃ ｒａｔｉｏ）は、目的を考慮して適切に選ばれてもよい。例えば、前記異方性染料は、二色比が５以上～２０以下の範囲内であってもよい。用語の「二色比」は、例えば、ｐ型染料である場合、染料の長軸方向に平行な偏光の吸収を前記長軸方向に垂直な方向に平行な偏光の吸収で除した値を意味する。異方性染料は、可視光領域の波長範囲内、例えば、約３８０ｎｍ～７８０ｎｍまたは約４００ｎｍ～７００ｎｍの波長範囲内で少なくとも一部の波長またはいずれかの波長または全範囲で前記二色比を有してもよい。
液晶層内における異方性染料の含量は、目的を考慮して適切に選ばれてもよい。例えば、液晶ホストと異方性染料の合計重量を基準に前記異方性染料の含量は、０.１～１０重量％の範囲内で選ばれてもよい。異方性染料の割合は、目的とする透過率と液晶ホストに対する異方性染料の溶解度などを考慮して変更してもよい。
液晶層は、前記液晶ホストと異方性染料を基本的に含み、必要な場合に他の任意の添加剤を公知の形態に応じてさらに含んでもよい。添加剤の例としては、キラルドーパントまたは安定化剤などが例示されてもよいが、これに制限されるものではない。
前記液晶層の厚さ（ｃｅｌｌ ｇａｐの厚さ）は、目的、例えば、目的とする異方性度などを考慮して適切に選ばれてもよい。一例において、前記液晶層の厚さは、約０.０１μｍ以上、０.０５μｍ以上、０.１μｍ以上、０.５μｍ以上、１μｍ以上、１.５μｍ以上、２μｍ以上、２.５μｍ以上、３μｍ以上、３.５μｍ以上、４μｍ以上、４.５μｍ以上、５μｍ以上、５.５μｍ以上、６μｍ以上、６.５μｍ以上、７μｍ以上、７.５μｍ以上、８μｍ以上、８.５μｍ以上、９μｍ以上または９.５μｍ以上であってもよい。このように厚さを制御することにより、透過状態での透過率と遮断状態での透過率の差の大きい光学デバイス、すなわちコントラスト比が大きなデバイスを具現できる。前記厚さは厚いほど、高いコントラスト比の具現が可能であり、特に制限されるものではないが、一般的に約３０μｍ以下、２５μｍ以下、２０μｍ以下または１５μｍ以下であってもよい。また、前記厚さは、前記段差形成層により押されている領域の厚さである。
前記アクティブ液晶フィルム層は、第１の配向状態と前記第１の配向状態とは異なる第２の配向状態の間をスイッチングしてもよい。前記スイッチングは、例えば、電圧のような外部エネルギーの印加により調節してもよい。例えば、電圧無印加状態で前記第１及び第２の配向状態のいずれかの状態が維持され、電圧印加により他の配向状態にスイッチングされてもよい。
前記第１及び第２の配向状態は、一例において、それぞれ水平配向、垂直配向、ツイストネマチック配向またはコレステリック配向状態から選ばれてもよい。例えば、遮断モードにおいてアクティブ液晶フィルム層または液晶層は、少なくとも水平配向、ツイストネマチック配向またはコレステリック配向であり、透過モードにおいてアクティブ液晶フィルム層または液晶層は、垂直配向または前記遮断モードの水平配向とは異なる方向の光軸を持つ水平配向状態であってもよい。アクティブ液晶フィルム層は、電圧無印加状態で前記遮断モードが具現されるノーマリブラックモード（Ｎｏｒｍａｌｌｙ Ｂｌａｃｋ Ｍｏｄｅ）の素子であるか、または電圧無印加状態で前記透過モードが具現されるノーマリトランスペアレントモード（Ｎｏｒｍａｌｌｙ Ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ Ｍｏｄｅ）を具現できる。
液晶層の配向状態において当該液晶層の光軸がどの方向に形成されているのかを確認する方式は、公知である。例えば、液晶層の光軸の方向は、光軸方向を知っている他の偏光板を用いて測定してもよく、これは公知の測定機器、例えば、Ｊａｓｃｏ社のＰ－２０００などのｐｏｌａｒｉｍｅｔｅｒを用いて測定してもよい。
液晶ホストの誘電率異方性、液晶ホストを配向させる配向膜の配向方向などを調節して、前記のような通常透過または遮断モードのアクティブ液晶フィルム層を具現する方式は、公知である。
前述のように、前記アクティブ液晶フィルム層は、対向配置されている２枚の基材フィルム層を含んでもよい。アクティブ液晶フィルム層は、前記２枚の基材フィルム層の間で前記２枚の基材フィルム層の間隔を維持するスペーサー及び／又は対向配置された２枚の基材フィルム層の間隔が維持された状態で前記基材フィルム層を付着させているシーラントをさらに含んでもよい。前記スペーサー及び／又はシーラントとしては、特別な制限なく公知の素材が用いられてもよい。
基材フィルム層としては、例えば、ガラスなどからなる無機フィルムまたはプラスチックフィルムなどが用いられてもよい。プラスチックフィルムとしては、ＴＡＣ（ｔｒｉａｃｅｔｙｌ ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ）フィルム、ノルボルネン誘導体などのＣＯＰ（ｃｙｃｌｏ ｏｌｅｆｉｎ ｃｏｐｏｌｙｍｅｒ）フィルム、ＰＭＭＡ（ｐｏｌｙ（ｍｅｔｈｙｌ ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）などのアクリルフィルム、ＰＣ（ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ）フィルム、ＰＥ（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ）フィルム、ＰＰ（ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌｅｎｅ）フィルム、ＰＶＡ（ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ）フィルム、ＤＡＣ（ｄｉａｃｅｔｙｌ ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ）フィルム、Ｐａｃ（Ｐｏｌｙａｃｒｙｌａｔｅ）フィルム、ＰＥＳ（ｐｏｌｙ ｅｔｈｅｒ ｓｕｌｆｏｎｅ）フィルム、ＰＥＥＫ（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｅｔｈｅｒｋｅｔｏｎ）フィルム、ＰＰＳ（ｐｏｌｙｐｈｅｎｙｌｓｕｌｆｏｎｅ）フィルム、ＰＥＩ（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｉｍｉｄｅ）フィルム、ＰＥＮ（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｍａｐｈｔｈａｔｌａｔｅ）フィルム、ＰＥＴ（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｔｅｒｅｐｈｔａｌａｔｅ）フィルム、ＰＩ（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）フィルム、ＰＳＦ（ｐｏｌｙｓｕｌｆｏｎｅ）フィルム、ＰＡＲ（ｐｏｌｙａｒｙｌａｔｅ）フィルムまたはフッ素樹脂フィルムなどが用いられてもよいが、これに制限されるものではない。基材フィルム層には、必要に応じて、金、銀、二酸化ケイ素または一酸化ケイ素などのケイ素化合物のコーティング層や、反射防止層などのコーティング層が存在してもよい。
基材フィルム層としては、前記言及された様々な素材の中で、段差形成層により押されることが可能なものが適切に用いられてもよい。
基材フィルム層の厚さは、特に制限されず、例えば、約５０μｍ～２００μｍ程度の範囲内であってもよい。
アクティブ液晶フィルム層において、前記基材フィルム層の一面、例えば、前記アクティブ液晶フィルム層に向かう基材フィルム層の面上には、導電層及び／又は配向膜が存在してもよい。
基材フィルム層の面上に存在する導電層は、アクティブ液晶フィルム層に電圧を印加するための構成として、特別な制限なく公知の導電層が適用されてもよい。導電層としては、例えば、導電性高分子、導電性金属、導電性ナノワイヤーまたはＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）などの金属酸化物などが適用されてもよい。本出願において適用できる導電層の例としては、前記に制限されず、この分野でアクティブ液晶フィルム層に適用できるものとして知られているすべての種類の導電層が用いられてもよい。
一例において、前記基材フィルム層の面上には、配向膜が存在する。例えば、基材フィルム層の一面に先ず導電層が形成され、その上部に配向膜が形成されてもよい。配向膜は、アクティブ液晶フィルム層に含まれる液晶ホストの配向を制御するための構成であり、特別な制限なく公知の配向膜を適用してもよい。業界で公知された配向膜としては、ラビング配向膜や光配向膜などがあり、本出願において用いられてもよい配向膜は、前記公知の配向膜であり、これは特に制限されるものではない。
適切な光軸の配向を達成するため、前記配向膜の配向方向が制御されてもよい。例えば、対向配置されている２枚の基材フィルム層の各面に形成された２つの配向膜の配向方向は、互いに約－１０度～１０度の範囲内の角度、－７度～７度の範囲内の角度、－５度～５度の範囲内の角度または－３度～３度の範囲内の角度をなすか、互いに概ね平行であってもよい。他の例において、前記２つの配向膜の配向方向は、約８０度～１００度の範囲内の角度、約８３度～９７度の範囲内の角度、約８５度～９５度の範囲の角度内または約８７度～９２度の範囲内の角度をなすか、または互いに概ね垂直であってもよい。
このような配向方向によってアクティブ液晶フィルム層の光軸の方向が決定されるため、前記配向方向は、アクティブ液晶フィルム層の光軸の方向を確認してから確認してもよい。
前記のような構成を有するアクティブ液晶フィルム層の形態は特に制限されず、光学デバイスの適用用途に応じて決められてもよく、一般的には、フィルムまたはシート状である。
前記光学デバイスに含まれる段差形成層の種類も特に制限されるものではない。例えば、光学デバイス内で適切な厚さをもって前記段差を形成できる透明素材は、すべて前記段差形成層として用いられてもよい。
一例において、前記段差形成層は、透明高分子フィルムであってもよい。前記において用語の透明は、前述した直進光透過率が約３０％以上、約３５％以上、約４０％以上、約４５％以上または約５０％以上であるか、または約１００％以下、約９５％以下、約９０％以下、約８５％以下、約８０％以下、約７５％以下、約７０％以下、約６５％以下または約６０％以下である状態を意味する。このときの基準光は、紫外線、可視光線または近赤外線線などであってもよく、一例では、約５５０ｎｍの波長の光であってもよい。
透明高分子フィルムとしては、様々な素材が知られており、例えば、ＴＡＣ（ｔｒｉａｃｅｔｙｌ ｃｅｌｌｌｏｓｅ）フィルム、ノルボルネン誘導体などのＣＯＰ（ｃｙｃｌｏ ｏｌｅｆｉｎ ｃｏｐｏｌｙｍｅｒ）フィルム、ＰＭＭＡ（ｐｏｌｙ（ｍｅｔｈｙｌ ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）などのアクリルフィルム、ＰＣ（ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ）フィルム、ＰＥ（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ）フィルム、ＰＰ（ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌｅｎｅ）フィルム、ＰＶＡ（ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ）フィルム、ＤＡＣ(ｄｉａｃｅｔｙｌ ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ）フィルム、Ｐａｃ（Ｐｏｌｙａｃｒｙｌａｔｅ）フィルム、ＰＥＳ（ｐｏｌｙ ｅｔｈｅｒ ｓｕｌｆｏｎｅ）フィルム、ＰＥＥＫ（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｅｔｈｅｒｋｅｔｏｎ）フィルム、ＰＰＳ（ｐｏｌｙｐｈｅｎｙｌｓｕｌｆｏｎｅ）フィルム、ＰＥＩ（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｉｍｉｄｅ）フィルム、ＰＥＮ（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｍａｐｈｔｈａｔｌａｔｅ）フィルム、ＰＥＴ（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｔｅｒｅｐｈｔａｌａｔｅ）フィルム、ＰＩ（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）フィルム、ＰＳＦ（ｐｏｌｙｓｕｌｆｏｎｅ）フィルム、ＰＡＲ（ｐｏｌｙａｒｙｌａｔｅ）フィルムまたはフッ素樹脂フィルムなどが用いられてもよいが、これに制限されるものではない。
段差形成層としては、硬化性または可塑性樹脂層を適用してもよい。すなわち、硬化性または可塑性樹脂組成物などを適用して光学デバイス内の適切な位置に適切な厚さで段差が形成されるように層を形成して前記段差形成層を形成してもよい。このとき、硬化性または可塑性樹脂層の前述した透明性を示すものであれば、特に制限されず適用されてもよく、例えば、通常、接着性樹脂層若しくは粘着樹脂層を形成できる硬化性または可撓性樹脂層や、その他の任意の硬化性または可塑性樹脂層が適用されてもよい。例えば、前記硬化性または可塑性樹脂層を形成する材料としては、エポキシ系、アクリレート系、ウレタン系、ラバー系またはケイ素系のオリゴマーまたは高分子材料などが例示されてもよいが、これに制限されるものではない。
前記段差形成層の厚さは、目的とする段差に応じて当業者が制御しうる。例えば、前記厚さは、約５μｍ以上、１０μｍ以上、１５μｍ以上、２０μｍ以上、２５μｍ以上、３０μｍ以上、３５μｍ以上または４０μｍ以上程度であるか、または約３００μｍ以下程度、２８０μｍ以下程度、２６０μｍ以下程度、２４０μｍ以下程度、２２０μｍ以下程度、２００μｍ以下程度、１８０μｍ以下程度、１６０μｍ以下程度、１４０μｍ以下程度、１２０μｍ以下程度または１００μｍ以下程度であってもよいが、これは目的に応じて変更されてもよい。
光学デバイスに適用される外郭基板の種類も特に制限されるものではない。外郭基板としては、例えば、グラスなどからなる無機基板またはプラスチック基板が用いられてもよい。プラスチック基板としては、ＴＡＣ（ｔｒｉａｃｅｔｙｌ ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ）フィルム、ノルボルネン誘導体などのＣＯＰ（ｃｙｃｌｏ ｏｌｅｆｉｎ ｃｏｐｏｌｙｍｅｒ）フィルム、ＰＭＭＡ（ｐｏｌｙ（ｍｅｔｈｙｌ ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）などのアクリルフィルム、ＰＣ（ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ）フィルム、ＰＥ（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ）フィルム、ＰＰ（ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌｅｎｅ）フィルム、ＰＶＡ（ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ）フィルム、ＤＡＣ(ｄｉａｃｅｔｙｌ ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ）フィルム、Ｐａｃ（Ｐｏｌｙａｃｒｙｌａｔｅ）フィルム、ＰＥＳ（ｐｏｌｙ ｅｔｈｅｒ ｓｕｌｆｏｎｅ）フィルム、ＰＥＥＫ（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｅｔｈｅｒｋｅｔｏｎ）フィルム、ＰＰＳ（ｐｏｌｙｐｈｅｎｙｌｓｕｌｆｏｎｅ）フィルム、ＰＥＩ（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｉｍｉｄｅ）フィルム、ＰＥＮ（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｍａｐｈｔｈａｔｌａｔｅ）フィルム、ＰＥＴ（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｔｅｒｅｐｈｔａｌａｔｅ）フィルム、ＰＩ（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）フィルム、ＰＳＦ（ｐｏｌｙｓｕｌｆｏｎｅ）フィルム、ＰＡＲ（ｐｏｌｙａｒｙｌａｔｅ）フィルムまたはフッ素樹脂フィルムなどが用いられてもよいが、これに制限されるものではない。外郭基板には、必要に応じて、金、銀、二酸化ケイ素または一酸化ケイ素などのケイ素化合物のコーティング層や、反射防止層などのコーティング層が存在してもよい。
外郭基板が光学異方性である場合に対向配置されている外郭基板の遅相軸のなす角度は、例えば、約－１０度～１０度の範囲内、－７度～７度の範囲内、－５度～５度の範囲内または－３度～３度の範囲内であるか、概ね平行であってもよい。
外郭基板の厚さは、特に制限されず、例えば、約０.３ｍｍ以上であってもよい。前記厚さは、他の例において、約０.５ｍｍ以上、約０.７ｍｍ以上、約１ｍｍ以上、約１.５ｍｍ以上または約２ｍｍ以上程度であってもよく、１０ｍｍ以下、９ｍｍ以下、８ｍｍ以下、７ｍｍ以下、６ｍｍ以下、５ｍｍ以下、４ｍｍ以下、３ｍｍ以下、約２ｍｍ以下または約１ｍｍ以下程度であってもよい。
外郭基板は、平ら（ｆｌａｔ）な基板であるか、または曲面形状を有する基板であってもよい。例えば、前記２枚の外郭基板は、同時に平らな基板であるか、同時に曲面形状を持つか、または、いずれかは平らな基板であり、他の一つは曲面形状の基板であってもよい。前記において同時に曲面形状を有する場合には、それぞれの曲率または曲率半径は、同一または異なってもよい。
本明細書において、曲率または曲率半径は、業界で公知の方式で測定してもよく、例えば、２Ｄ Ｐｒｏｆｉｌｅ Ｌａｓｅｒ Ｓｅｎｓｏｒ（レーザーセンサー）、Ｃｈｒｏｍａｔｉｃ ｃｏｎｆｏｃａｌ ｌｉｎｅ ｓｅｎｓｏｒ（共焦点センサー）または３Ｄ Ｍｅａｓｕｒｉｎｇ Ｃｏｎｆｏｒｃａｌ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｙなどの非接触式装備を用いて測定してもよい。このような装備を用いて曲率または曲率半径を測定する方式は、公知である。
前記基板に関連して例えば、表面と裏面における曲率または曲率半径が異なる場合には、それぞれ対向する面の曲率または曲率半径、すなわち第１の外郭基板の場合、第２の外郭基板と対向する面の曲率または曲率半径と、第２の外郭基板の場合、第１の外郭基板と対向する面の曲率または曲率半径が基準となり得る。また、当該面における曲率または曲率半径が一定ではなく、異なる部分が存在する場合には、最も大きな曲率若しくは曲率半径、最も小さい曲率若しくは曲率半径または平均曲率若しくは平均曲率半径が基準となり得る。
前記基板は、両者が曲率または曲率半径の差が１０％以内、９％以内、８％以内、７％以内、６％以内、５％以内、４％以内、３％以内、２％以内または１％以内であってもよい。前記曲率または曲率半径の差は、大きな曲率または曲率半径をＣＬといい、小さな曲率または曲率半径をＣＳというときに、１００×（ＣＬ－ＣＳ）／ＣＳで計算される数値である。また、前記曲率または曲率半径の差の下限は、特に制限されない。２枚の外郭基板の曲率または曲率半径の差は、同一であってもよいので、前記曲率または曲率半径の差は、０％以上または０％超過であってもよい。
前記のような曲率または曲率半径の制御は、本出願の光学デバイスのようにアクティブ液晶フィルム層などが接着フィルムでカプセル化された構造において有用である。
第１及び第２の外郭基板がすべて曲面である場合に、両者の曲率は、同じ符号であってもよい。言い換えれば、前記２つの外郭基板は、すべて同じ方向に屈曲されていてもよい。すなわち、前記の場合は、第１の外郭基板の曲率中心と第２の外郭基板の曲率中心が、すべて第１及び第２の外郭基板の上部及び下部の中で同じ部分に存在する場合である。
第１及び第２の外郭基板のそれぞれの曲率または曲率半径の具体的な範囲は、特に制限されるものではない。一例において、前記それぞれの基板の曲率半径は、１００Ｒ以上、２００Ｒ以上、３００Ｒ以上、４００Ｒ以上、５００Ｒ以上、６００Ｒ以上、７００Ｒ以上、８００Ｒ以上または９００Ｒ以上であるか、または１０,０００Ｒ以下、９,０００Ｒ以下、８,０００Ｒ以下、７,０００Ｒ以下、６,０００Ｒ以下、５,０００Ｒ以下、４,０００Ｒ以下、３,０００Ｒ以下、２,０００Ｒ以下、１,９００Ｒ以下、１,８００Ｒ以下、１,７００Ｒ以下、１,６００Ｒ以下、１,５００Ｒ以下、１,４００Ｒ以下、１,３００Ｒ以下、１,２００Ｒ以下、１,１００Ｒ以下または１,０５０Ｒ以下であってもよい。前記においてＲは、半径が１ｍｍである円の反った程度を意味する。したがって、前記において、例えば、１００Ｒは、半径が１００ｍｍである円の反った程度またはそのような円に対する曲率半径である。もちろん基板が平らな場合に曲率は０であり、曲率半径は無限大である。
第１及び第２の外郭基板は、前記範囲で同一または異なる曲率半径を有してもよい。一例において、第１及び第２の外郭基板の曲率が互いに異なる場合に、その中で曲率の大きな基板の曲率半径が前記範囲内であってもよい。一例において、第１及び第２の外郭基板の曲率が互いに異なる場合には、その中で曲率の大きな基板が光学デバイスの使用時に、より重力方向に配置される基板であってもよい。
すなわち、前記カプセル化のためには、後述のように、接着フィルムを用いたオートクレーブ（Ａｕｔｏｃｌａｖｅ）工程が行われてもよく、この過程では、通常、高温及び高圧が適用される。しかし、このようなオートクレーブ工程後にカプセル化に適用された接着フィルムが高温で長時間保管されるなどの一部の場合には、一部再融解などが起こり、外郭基板が広がるという問題が発生することがある。このような現象が起こることになると、カプセル化されたアクティブ液晶フィルム層に力が作用し、内部に気泡が形成されることがある。しかし、基板間の曲率または曲率半径を前記のように制御すると、接着フィルムによる合着力が低下しても復元力と重力の和である合力が作用して広がりを防ぐことができ、オートクレーブのような工程圧力にもよく耐えることができる。
光学デバイスは、前記アクティブ液晶フィルム層とともに偏光層をさらに含んでもよい。このような偏光層もカプセル化剤によりカプセル化されていてもよい。図６は、図２の構造において偏光層６００が追加された場合の図である。図のように偏光層６００は、前記アクティブ液晶フィルム層の少なくとも一側に配置されてもよい。ただし、後述のように、段差形成層３００そのものが前記偏光層であってもよく、このような場合に光学デバイスの構造は、図２に示されたように形成されてもよい。前記偏光層としては、例えば、吸収型直線偏光層、すなわち、一方向に形成された光吸収軸と、それとは概ね垂直に形成された光透過軸を有する偏光層を用いてもよい。
偏光層は、前記アクティブ液晶フィルム層の第１の配向状態で前記遮断状態が具現されると仮定する場合に、前記第１の配向状態の平均光軸（光軸のベクトルの和）と、前記偏光層の光吸収軸のなす角度が８０度～１００度または８５度～９５度となるか、概ね垂直になるように光学デバイスに配置されているか、または３５度～５５度または約４０度～５０度となるか、約４５度となるように光学デバイスに配置されていてもよい。
配向膜の配向方向を基準とするときに、前述のように対向配置されたアクティブ液晶フィルム層の２枚の基材フィルム層の各面上に形成された配向膜の配向方向が互いに約－１０度～１０度の範囲内の角度、－７度～７度の範囲内の角度、－５度～５度の範囲内の角度または－３度～３度の範囲内の角度をなすか、または互いに概ね平行な場合に、前記２つの配向膜のいずれかの配向膜の配向方向と前記偏光層の光吸収軸のなす角度が８０度～１００度または８５度～９５度をなすか、または概ね垂直になることがある。
他の例において、前記２つの配向膜の配向方向が約８０度～１００度の範囲内の角度、約８３度～９７度の範囲内の角度、約８５度～９５度の範囲の角度内または約８７度～９２度の範囲内角度をなすか、または互いに概ね垂直である場合には、２枚の配向膜のうち前記偏光層により近くに配置された配向膜の配向方向と前記偏光層の光吸収軸のなす角度が８０度～１００度または８５度～９５度をなすか、または概ね垂直になることがある。
例えば、図６に示されたように、前記アクティブ液晶フィルム層と前記偏光層は、互いに積層された状態で前記アクティブ液晶フィルム層の第１の配向方向の光軸（平均光軸）と前記偏光層の光吸収軸が前記関係となるように配置されてもよい。一例において、前記偏光層が後述する偏光コーティング層である場合には、前記偏光コーティング層が前記アクティブ液晶フィルム層の内部に存在する構造も具現され得る。例えば、少なくとも一つの基材フィルム層上に前述の導電層、前記偏光コーティング層及び前記配向膜が順次形成されていてもよい。
本出願の光学デバイスで適用されてもよい前記偏光層の種類は特に制限されるものではない。例えば、偏光層としては、既存のＬＣＤなどに用いられる通常の素材、例えば、ＰＶＡ（ｐｏｌｙ（ｖｉｎｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ））偏光層などや、リオトロピック液晶（ＬＬＣ：Ｌｙｏｔｒｏｐｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｙｓｔａｌ）や、反応性液晶（ＲＭ：Ｒｅａｃｔｉｖｅ Ｍｅｓｏｇｅｎ）と二色性色素（ｄｉｃｈｒｏｉｃ ｄｙｅ）を含む偏光コーティング層のようにコーティング方式で具現した偏光層が用いられてもよい。本明細書において前記のようにコーティング方式で具現された偏光層は、偏光コーティング層と呼称されることもある。前記リオトロピック液晶としては、特別な制限なく公知の液晶が用いられてもよく、例えば、二色比（ｄｉｃｈｒｏｉｃ ｒａｔｉｏ）が３０～４０程度であるリオトロピック液晶層を形成できるリオトロピック液晶が用いられてもよい。一方、偏光コーティング層が反応性液晶（ＲＭ：Ｒｅａｃｔｉｖｅ Ｍｅｓｏｇｅｎ）と二色性色素（ｄｉｃｈｒｏｉｃ ｄｙｅ）を含む場合、前記二色性色素としては、線形の色素を使用するか、またはディスコチック状の色素（ｄｉｓｃｏｔｉｃ ｄｙｅ）が用いられてもよい。
本出願の光学デバイスは、前記のようなアクティブ液晶フィルム層と偏光層をそれぞれ一つずつだけ含んでもよい。したがって、前記光学デバイスは、ただ一つの前記アクティブ液晶フィルム層だけを含み、ただ一つの偏光層だけを含んでもよい。
一例において、前記偏光層それ自体の面積と厚さを調節することにより、前記偏光層が、前記段差形成層として作用するようにすることもできる。
光学デバイスは、前記構成の他にも必要な任意の構成をさらに含んでもよく、例えば、位相差層、光学補償層、反射防止層、ハードコート層などの公知の構成を適切な位置に含んでもよい。
前記のような光学デバイスは、任意の方式で製造してもよい。例えば、前記光学デバイスは、目的とする構造によって前記外郭基板、前記接着フィルム（カプセル化剤を構成）、前記段差形成層、前記アクティブ液晶フィルム層及び／又はその他の構成を積層した後、オートクレーブ工程などの加圧工程において前記積層体を適用して製造してもよい。このような過程において、前記段差形成層及び加圧によって目的とする構造が形成され得る。
このとき、積層体の製造は、例えば、公知のラミネーション法を適用して行ってもよい。
次に、合着工程、例えば、オートクレーブ工程によって前記カプセル化を完了してもよい。前記オートクレーブ工程の条件は、特別な制限がなく、例えば、適用された接着フィルムの種類に応じて適切な温度及び圧力の下で行ってもよい。通常のオートクレート工程の温度は、約８０℃以上、９０℃以上または１００℃以上であり、圧力は、２気圧以上であるが、これに制限されるものではない。前記工程の温度の上限は、約２００℃以下、１９０℃以下、１８０℃以下または１７０℃以下程度であってもよく、工程圧力の上限は、約１０気圧以下、９気圧以下、８気圧以下、７気圧以下または６気圧以下程度であってもよい。
前記のような光学デバイスは、様々な用途で用いられてもよく、例えば、サングラスやＡＲ（Ａｒｇｕｍｅｎｔｅｄ Ｒｅａｌｉｔｙ）またはＶＲ（Ｖｉｒｔｕａｌ Ｒｅａｌｉｔｙ）用アイウェア（ｅｙｅｗｅａｒ）などのアイウェア類、建物の外壁や車両用サンルーフなどに用いられてもよい。
一例において、前記光学デバイスは、それ自体で車両用サンルーフであってもよい。
例えば、少なくとも一つ以上の開口部が形成されている車体を含む自動車において、前記開口部に装着された前記光学デバイスまたは車両用サンルーフを装着して用いられてもよい。
このとき、外郭基板の曲率または曲率半径が互いに異なる場合には、その中で曲率半径がより小さな基板、すなわち曲率がより大きな基板がより重力方向に配置されてもよい。
本出願は、サングラスやＡＲ（Ａｒｇｕｍｅｎｔｅｄ Ｒｅａｌｉｔｙ）またはＶＲ（Ｖｉｒｔｕａｌ Ｒｅａｌｉｔｙ）用アイウェア（ｅｙｅｗｅａｒ）などのアイウェア類、建物の外壁や車両用サンルーフなどの様々な用途に使用できる光学デバイスを提供する。本出願では、過度に過量であるか、または少量の光変調物質あるいは光変調物質の熱収縮などにより発生する不良が防止された光学デバイスを提供することを一つの目的とする。
従来のアクティブ液晶フィルム層の問題点を説明するための図である。 本出願の光学デバイスを説明するための例示的な図である。 本出願の光学デバイスを説明するための例示的な図である。 本出願の光学デバイスを説明するための例示的な図である。 本出願の光学デバイスを説明するための例示的な図である。 本出願の光学デバイスを説明するための例示的な図である。 それぞれ実施例１及び２の光学デバイスの外観状態を観察した図である。 それぞれ実施例１及び２の光学デバイスの外観状態を観察した図である。 比較例１の光学デバイスの外観状態を観察した図である。
以下、実施例及び比較例によって本出願を具体的に説明するが、本出願の範囲が下記実施例に制限されるものではない。
実施例１．
アクティブ液晶フィルム層としてゲスト－ホストアクティブ液晶フィルム層（セルギャップ：約１２μｍ、基材フィルム層の種類：ＰＥＴ（ｐｏｌｙ（ｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）フィルム）、液晶／染料混合物の種類：Ｍｅｒｃｋ社のＭＡＴ－１６－９６９液晶と異方性染料（ＢＡＳＦ社、Ｘ１２）の混合物）とＰＶＡ（ｐｏｌｙｖｉｎｙｌａｌｃｏｈｏｌ）フィルム系偏光層（厚さ：約１００μｍ）を２枚の外郭基板の間で熱可塑性ポリウレタン接着フィルム（厚さ：約０.３８ｍｍ、メーカー：Ａｒｇｏｔｅｃ社、製品名：ＡｒｇｏＦｌｅｘ）でカプセル化し、光学デバイスを製造した。
前記外郭基板としては、厚さが約３ｍｍ程度のガラス基板を使用し、２枚の外郭基板の両方の曲率半径は、約４,０００Ｒ程度であった。
前記アクティブ液晶フィルム層としては、上部観察時に横方向の長さが約８５０ｍｍであり、縦の長さが約６００ｍｍ程度である四角形のフィルム層を適用し、ＰＶＡフィルム系偏光層としては、上部観察時に横の長さが約８３０ｍｍであり、縦の長さが約５８０ｍｍである四角形のフィルム層を適用した。前記アクティブ液晶フィルム層の横及び縦の長さは、基材フィルム層の間隔を維持するシーラントの内側の領域に対する長さである。
図２に示された構造が形成されるように第１の外郭基板１００、接着フィルム（カプセル化剤４００を形成）、偏光層３００、アクティブ液晶フィルム層、接着フィルム（カプセル化剤４００を形成）及び第２の外郭基板１０２を配置し、アクティブ液晶フィルム層と偏光層の側面にも接着フィルム（カプセル化剤４００を形成）を配置した。前記偏光層とアクティブ液晶フィルム層は、互いの中心が一致するように配置した。
次に、約１００℃の温度及び２気圧程度の圧力でオートクレーブ工程を行って光学デバイスを製造した。
実施例２．
実施例１と同じ方式で光学デバイスを製造するが、偏光層を段差形成層に適用せず、別途の高分子フィルムを段差形成層に適用して光学デバイスを製造した。実施例２では、偏光層としてアクティブ液晶フィルム層と横及び縦の長さが同じフィルム（幅：約８５０ｍｍ、縦：約６００ｍｍ程度）を適用した。前記段差形成層を形成する高分子フィルムとしては、ＰＥＴ（ｐｏｌｙ（ｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ））フィルムを適用し、前記ＰＥＴフィルムが持つ非等方性を考慮してアクティブ液晶フィルム層の外郭にも別途の高分子フィルムを配置した。追加されたフィルムは、上部観察時に横の長さが約８３０ｍｍであり、縦の長さが約５８０ｍｍ程度であり、厚さは、約４０～９５μｍの範囲であった。前記偏光層とＰＥＴフィルムを除いて、他の構成は、実施例１と同じものを用いた。
図６に示された構造が形成されるように第１の外郭基板１００、接着フィルム（カプセル化剤４００を形成）、偏光層６００、アクティブ液晶フィルム層、前記ＰＥＴフィルム３００、接着フィルム（カプセル化剤４００を形成）及び第２の外郭基板１０２を配置し、アクティブ液晶フィルム層と偏光層の側面にも接着フィルム（カプセル化剤４００を形成）を配置した。前記偏光層、ＰＥＴフィルムとアクティブ液晶フィルム層は、互いの中心が一致するように配置した。
次に、約１００℃の温度及び２気圧程度の圧力でオートクレーブ工程を行って、光学デバイスを製造した。
比較例１．
偏光層として、アクティブ液晶フィルム層と横及び縦の長さが同一の同じ面積のＰＶＡフィルムを適用したことを除いては、実施例１と同様に光学デバイスを製造した。
図７及び図８は、それぞれ前記実施例１及び２の光学デバイスの外観状態を確認した写真であり、図９は、比較例１の光学デバイスの外観状態を確認した写真である。図のように、実施例１及び２の場合、段差形成層により押されている領域では、不良が確認されなかったが、比較例１の場合、むらのような不良が多数確認された。

Claims (13)

  1. 対向配置された第１及び第２の外郭基板、
    アクティブ液晶フィルム層、および
    段差形成層を備え、
    前記アクティブ液晶フィルム層と前記段差形成層は前記第１及び第２の外郭基板の間でカプセル化剤によりカプセル化されており、
    前記アクティブ液晶フィルム層は、対向配置された２層の基材フィルム層と、前記基材フィルム層の間隙に存在する液晶物質を含み、
    前記アクティブ液晶フィルム層は、前記段差形成層により前記液晶物質が押されている領域と、前記段差形成層により前記液晶物質が押されていない領域と、を含む、光学デバイス。
  2. 前記基材フィルム層の間隙には、異方性染料がさらに存在する、請求項１に記載の光学デバイス。
  3. 前記アクティブ液晶フィルム層の対向配置された前記２層の基材フィルム層の間隔が前記段差形成層により押されている領域と押されていない領域で互いに異なる、請求項１または２に記載の光学デバイス。
  4. 前記段差形成層により押されている領域における前記基材フィルム層の間隔（Ｇ１）と押されていない領域における前記基材フィルム層の間隔（Ｇ２）の割合（１００×[Ｇ１／Ｇ２]）が１０％～９５％の範囲内である、請求項３に記載の光学デバイス。
  5. 前記アクティブ液晶フィルム層の面積（Ａ１）と前記段差形成層の面積（Ａ２）の割合（１００×[Ａ２／Ａ１]）が７０％～９８％の範囲内である、請求項１から４の何れか一項に記載の光学デバイス。
  6. 前記段差形成層により押されている前記アクティブ液晶フィルム層の領域が光変調領域を形成する、請求項１から５の何れか一項に記載の光学デバイス。
  7. 前記段差形成層により押されていない前記アクティブ液晶フィルム層の領域が前記段差形成層により押されている前記アクティブ液晶フィルム層の領域の少なくとも一つの端に存在する、請求項１から６の何れか一項に記載の光学デバイス。
  8. 前記段差形成層により押されていない前記アクティブ液晶フィルム層の領域は、前記段差形成層により押されている前記アクティブ液晶フィルム層の領域の周辺でベゼルを形成している、請求項１から７の何れか一項に記載の光学デバイス。
  9. 前記段差形成層は、透明高分子フィルム層、可塑性樹脂層または硬化樹脂層である、請求項１から８の何れか一項に記載の光学デバイス。
  10. 前記第１及び第２の外郭基板の間でカプセル化剤によりカプセル化された偏光層をさらに含む、請求項１から９の何れか一項に記載の光学デバイス。
  11. 前記偏光層が前記段差形成層である、請求項１０に記載の光学デバイス。
  12. 前記第１及び第２の外郭基板のうち少なくとも一つの基板は、曲面基板である、請求項１から１１の何れか一項に記載の光学デバイス。
  13. 前記第１及び第２の外郭基板の曲率の差が１０％以内である、請求項１２に記載の光学デバイス。
JP2021556313A 2019-03-27 2020-03-26 光学デバイス Active JP7271853B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190035032A KR20200114002A (ko) 2019-03-27 2019-03-27 광학 디바이스
KR10-2019-0035032 2019-03-27
PCT/KR2020/004119 WO2020197282A1 (ko) 2019-03-27 2020-03-26 광학 디바이스

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2022526114A JP2022526114A (ja) 2022-05-23
JP7271853B2 true JP7271853B2 (ja) 2023-05-12

Family

ID=72609102

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021556313A Active JP7271853B2 (ja) 2019-03-27 2020-03-26 光学デバイス

Country Status (7)

Country Link
US (1) US11435615B2 (ja)
EP (1) EP3951450B1 (ja)
JP (1) JP7271853B2 (ja)
KR (1) KR20200114002A (ja)
CN (1) CN113614586B (ja)
TW (1) TWI734428B (ja)
WO (1) WO2020197282A1 (ja)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006251431A (ja) 2005-03-11 2006-09-21 Citizen Watch Co Ltd 液晶光学素子とその製造方法
WO2018042884A1 (ja) 2016-08-30 2018-03-08 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 光学デバイス及び光学デバイスの製造方法
WO2018199619A1 (ko) 2017-04-25 2018-11-01 주식회사 엘지화학 광학 디바이스

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01186911A (ja) * 1988-01-21 1989-07-26 Asahi Glass Co Ltd 調光装置及びその製造方法
JPH08313889A (ja) * 1995-05-12 1996-11-29 Sony Corp 表示パネル
US5888679A (en) * 1997-03-27 1999-03-30 Canon Kabushiki Kaisha Production process of color filter, color filter produced thereby and liquid crystal display device using such color filter
JP2000227601A (ja) * 1998-11-30 2000-08-15 Ricoh Co Ltd 液晶素子
JP3366292B2 (ja) * 1999-08-25 2003-01-14 鹿児島日本電気株式会社 液晶表示パネルおよびその製造方法
US6999237B2 (en) * 2001-09-12 2006-02-14 Lightmaster Systems, Inc. Method and apparatus for configuration and assembly of a video projection light management system
KR20060047183A (ko) * 2004-04-22 2006-05-18 삼성전자주식회사 액정 표시 장치
US20050237461A1 (en) 2004-04-22 2005-10-27 Nak-Cho Choi Liquid crystal display and panel therefor
CN101135745A (zh) 2006-08-31 2008-03-05 精工爱普生株式会社 光学元件、其制造方法以及投影机
JP2008203518A (ja) 2007-02-20 2008-09-04 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd 表示素子の製造方法
WO2009031263A1 (ja) * 2007-09-07 2009-03-12 Sharp Kabushiki Kaisha 液晶表示パネル及びその製造方法
JP5596025B2 (ja) * 2008-06-21 2014-09-24 レンズベクター インコーポレーテッド 有効な電極構造の動的な再構築を利用する電気光学装置
CN102109702B (zh) * 2009-12-25 2014-11-05 株式会社日本显示器中部 平板显示设备的制造方法
JP6074128B2 (ja) * 2010-04-15 2017-02-01 デクセリアルズ株式会社 光学体およびその製造方法、日射遮蔽部材、窓材、内装部材ならびに建具
US9482861B2 (en) * 2010-10-22 2016-11-01 The Regents Of The University Of Michigan Optical devices with switchable particles
KR20130011420A (ko) * 2011-07-21 2013-01-30 삼성전자주식회사 공간 광변조기 및 이를 적용한 광학장치
JP6870907B2 (ja) * 2014-03-31 2021-05-12 日東電工株式会社 光学部材、偏光板のセットおよび液晶表示装置
KR20150141260A (ko) * 2014-06-09 2015-12-18 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
JP6199828B2 (ja) * 2014-08-14 2017-09-20 藤森工業株式会社 表面保護フィルム、及びそれが貼合された光学部品
WO2017061768A1 (ko) 2015-10-05 2017-04-13 주식회사 엘지화학 광학 필름
KR102024250B1 (ko) * 2015-10-05 2019-09-23 주식회사 엘지화학 광학 필름
US11137639B2 (en) 2017-05-09 2021-10-05 Merck Patent Gmbh Optical device comprising a switchable layer and at least one optical layer
KR102533684B1 (ko) 2017-09-25 2023-05-16 배경호 상온 성형 세라믹 단열패널용 조성물, 이로부터 형성된 상온 성형 세라믹 단열패널 및 그 제조방법

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006251431A (ja) 2005-03-11 2006-09-21 Citizen Watch Co Ltd 液晶光学素子とその製造方法
WO2018042884A1 (ja) 2016-08-30 2018-03-08 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 光学デバイス及び光学デバイスの製造方法
WO2018199619A1 (ko) 2017-04-25 2018-11-01 주식회사 엘지화학 광학 디바이스

Also Published As

Publication number Publication date
KR20200114002A (ko) 2020-10-07
CN113614586B (zh) 2023-09-15
EP3951450B1 (en) 2023-12-13
TWI734428B (zh) 2021-07-21
EP3951450A4 (en) 2022-05-11
TW202102881A (zh) 2021-01-16
CN113614586A (zh) 2021-11-05
JP2022526114A (ja) 2022-05-23
WO2020197282A1 (ko) 2020-10-01
US20220146878A1 (en) 2022-05-12
EP3951450A1 (en) 2022-02-09
US11435615B2 (en) 2022-09-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6852861B2 (ja) 光学デバイス
JP6747754B2 (ja) 光学デバイス
JP6950139B2 (ja) 光学デバイス
US10996387B2 (en) Optical device
KR102437158B1 (ko) 광학 디바이스
JP7102540B2 (ja) 光学デバイス
US20210223602A1 (en) Optical Device
JP7271853B2 (ja) 光学デバイス
JP7298814B2 (ja) 光学デバイス
US11513381B2 (en) Method for manufacturing optical device
KR20220006830A (ko) 광학 디바이스
JP7275451B2 (ja) 光学デバイス
JP7187758B2 (ja) 光学素子
JP7298815B2 (ja) 光学デバイス
KR102411602B1 (ko) 광학 디바이스의 제조 방법
KR20200103446A (ko) 광학 디바이스의 제조방법 및 광학 디바이스
KR20200103445A (ko) 광학 디바이스의 제조방법 및 광학 디바이스
KR20220045615A (ko) 광학 디바이스

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20210922

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20220905

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20220906

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20221130

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20230328

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20230406

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7271853

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150