JP7260481B2 - 6-(シクロプロパンカルボキサミド)-4-((2-メトキシ-3-(1-メチル-1H-1,2,4-トリアゾール-3-イル)フェニル)アミノ)-N-(メチル-d3)ピリダジン-3-カルボキサミドの結晶形態 - Google Patents

6-(シクロプロパンカルボキサミド)-4-((2-メトキシ-3-(1-メチル-1H-1,2,4-トリアゾール-3-イル)フェニル)アミノ)-N-(メチル-d3)ピリダジン-3-カルボキサミドの結晶形態 Download PDF

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Description

関連出願
(関連出願に対する相互参照)
本出願は、2017年3月30日に出願された米国仮出願第62/478,789号の優先権を主張し、この全体が本明細書において参考として援用される。
(本発明の技術分野)
本発明は、一般的に、6-(シクロプロパンカルボキサミド)-4-((2-メトキシ-3-(1-メチル-1H-1,2,4-トリアゾール-3-イル)フェニル)アミノ)-N-(メチル-d)ピリダジン-3-カルボキサミドの結晶形態に関連がある。
(発明の背景)
6-(シクロプロパンカルボキサミド)-4-((2-メトキシ-3-(1-メチル-1H-1,2,4-トリアゾール-3-イル)フェニル)アミノ)-N-(メチル-d)ピリダジン-3-カルボキサミドの化合物は、式(I):
Figure 0007260481000001
の構造を有しており、本明細書において「化合物(I)」として示される。化合物(I)は、米国特許第9,505,748 B2号において実施例52として開示されており、これは、現在の譲受人に譲渡されている。米国特許第9,505,748B2号は、化合物(I)を用いる治療方法も開示している。
化合物(I)は、乾癬、乾癬性関節炎、ループス、ループス腎炎、シェーグレン症候群、炎症性腸疾患、クローン病、強直性脊椎炎などの自己免疫疾患および自己炎症性疾患を治療するために現在臨床試験中のTyk2阻害剤である。
医薬的使用を目的とした化合物の合成において、合成過程の完了時および次の処理前に、化合物を単離および精製して、該化合物を医薬製剤にて提供することが必要である。単離および精製工程は、連続した工程を組み合わせても、または別々に行うことも可能であり、反応混合物のその他の成分からの単離中および/または単離した化合物試料から不純物を除去するための精製中に収量の低下を最小限に抑えて精製固体として化合物を提供する。
単離および/または精製工程から再現可能に製造できる固体形態を提供することが望ましい。
さらに、ある貯蔵条件の範囲で、例えば温度および湿度が異なる条件の範囲で、物理的および化学的に安定している固体形態の精製化合物を単離することが望ましい。
さらに、別の固体形態、例えば、無定形形態へと変換できる追加処理に適した固体形態の化合物を提供することも望ましい。
さらに、他の固体形態を製造できる様に、溶媒/溶液への十分な溶解性を有する固体形態の化合物を提供することが望ましい。
出願人は、驚くべきことに、ある範囲の貯蔵条件で、物理的および化学的に安定している固体形態の化合物(I)を提供する化合物(I)の結晶形態を見出した。
さらに、出願人は、驚くべきことに、ある範囲の貯蔵条件で、物理的および化学的に安定であり、かつ別の固体形態、例えば無定形形態に変換できる固体形態の化合物(I)を提供する化合物(I)の結晶形態を見出した。
さらに、出願人は、驚くべきことに、ある範囲の貯蔵条件で、物理的および化学的に安定であり、別の固体形態、例えば無定形に変換でき、かつ別の固体形態を製造できる可能にするために溶媒/溶液に十分な溶解性を持っている化合物(I)を提供する化合物(I)の結晶形態を発見し、
本発明はまた、別の重要な態様にも関する。
発明の概要
本発明は、化合物(I)の結晶形態Aを提供する。特定の結晶形態、例えば「形態A」などを特徴付けるために本明細書に用いた名称は、類似または同一の物理的および化学的特性を有するあらゆる他の物質に関する制限と考えるべきではなく、むしろ特定の形態を特徴付けるために本明細書で使用される名称は、本明細書に記載した特性情報に従って解釈される識別子であると解されるべきである。
図1は、化合物(I)の結晶形Aの実測粉末X線回折パターン(CuKα, λ=1.54178Å、T=25℃)を示す。 図2は、化合物(I)の結晶形態Aの示差走査熱量測定(DSC)サーモグラムを示す。 図3は、化合物(I)の形態Aの熱重量分析(TGA)サーモグラムを示す。 図4は、25℃で測定された化合物(I)の形態Aの水分吸着等温線を示す。
発明の詳細な説明
本発明の特徴および利点は、以下の詳細な説明を読めば、当業者であれば、より容易に理解され得るであろう。明確にするために、別個の実施形態の文脈で上記および下記に記載されている本発明の特定の特徴を組み合わせて、単一の実施形態を形成してもよいことを理解されたい。明確にするために、別個の実施形態の文脈で上記および下記に記載されている本発明の特定の特徴を組み合わせて、一つの実施形態を形成してもよいことを理解されたい。逆に、簡潔にするために、一つの実施形態の文脈で説明されている本発明の様々な特徴を組み合わせて、それらのサブコンビネーションを形成することもできる。
特定の形態、例えば「形態A」を特徴付けるために本明細書で使用される名称は、本明細書で提示される特性情報に従って解釈される単なる識別子であり、類似または同一の物理的および化学的特性を有するその他の物質を除外するように限定するものでは無い。
本明細書に記載された定義は、参照により本明細書に組み込まれたあらゆる特許、特許出願および/または特許出願公開に記載された定義より優先される。
「約」という用語が前に付いた成分、重量%、温度などを表す全ての数値は、単に近似値としてのみ理解されるべきであり、記載された数値の上下の僅かな変動を含んで、その記載された数字と実質的に同じ結果を得ることができる。従って、反対の結果が示されない限り、「約」という語が先行する数値パラメータは、得ようとする所望の特性に応じて変化し得る近似値である。少なくとも、均等論の適用をクレームの範囲に限定する意図ではなく、各数値パラメーターは、少なくとも、報告された有効数字の数値を考慮して、また通常の四捨五入を用いることにより解釈されるべきである。
全ての測定値は、実験誤差の影響を受けており、また本発明の範囲内にある。
本明細書で使用されるとおり、「多形体」とは、同一の化学構造を有するが、結晶を形成する分子および/またはイオンが異なる空間的配置を有する結晶形態をいう。
本明細書で使用されるとおり、「非晶質」とは、結晶ではない分子および/またはイオンの固体形態をいう。非晶質固体は、シャープな最大値を持つ明確なX線回折パターンを示さない。
本明細書で使用されるとおり、「多形体」とは、同じ化学構造を有するが結晶を形成する分子および/またはイオンの異なる空間的配置を有する結晶形態をいう。
明細書で使用されるとおり、「実質的に純粋」とは、結晶形態に使用する場合、化合物の重量に基づいて、90重量%を超える、例えば90、91、92、93、94、95、96、97、98および99重量%の純度ならびに約100重量%に等しい化合物(I)を有する化合物を意味する。残存する物質は、化合物の他の形態および/または反応不純物および/またはその調製から生じる処理不純物を含む。例えば、化合物(I)の結晶形態は、現時点で既知であり、かつ当技術分野で一般的に受け入れられている手段により測定された場合に、90重量%を超える純度を有するという場合に実質的に純粋であるとみなされ、その場合に残っている10重量%の物質は、無定形および/またはその他の形態の化合物(I)および/または反応不純物および/または処理不純物を含む。
本明細書で使用されるとおり、特定のピーク群から選択された多数のピークを「含む」粉末X線回折(PXRD)パターンとは、特定のピーク群に含まれない別のピークを有するPXRDパターンを含むことが意図されている。例えば、A、B、C、D、E、F、GおよびHから選択された4つ以上、好ましくは5つ以上の2θ値を含むPXRDパターンは、(a)以下から選択される4つ以上、好ましくは5つ以上の2θ値;A、B、C、D、E、F、G、およびH、ならびに(b)A、B、C、D、E、F、G、Hのいずれのピークでもないゼロ個以上のピークを有するPXRDパターンを含むことが意図される。
反応不純物および/または処理不純物の存在は、例えば、クロマトグラフィー、核磁気共鳴分光法、質量分析および/または赤外分光法などの当技術分野で知られている分析技術によって決定できる。
本明細書で使用されるとおり、単位胞パラメータ「単位胞当たりの分子」は、単位胞内の化合物(I)の分子の数をいう。
実施例(I)の形態A
一実施形態において、化合物(I)は、形態Aを含む結晶材料として提供される。化合物(I)の結晶形態Aは、溶液不含結晶形態として提供される。
一実施形態において、化合物(I)の結晶形態Aは、以下に表されたものとおおよそ等しい単位胞パラメーターを特徴とする:
a=8.90±0.05Å
b=10.48±0.05Å
c=11.34±0.05Å
α=96.7±0.5°
β=90.8±0.5°
γ=100.4±0.5°
空間群:P-1
単位胞あたりの分子数(Z):2
単位胞体積=1032±10Å
密度(計算値)1.369g/cm
(ここで、化合物(I)の形態Aの単位胞パラメーターは、約25℃の温度で測定される)。
表1
化合物(I)の形態A
選択されたPXRD2θ値(CuKα λ=1.5418Å)
Figure 0007260481000002

一実施形態において、化合物(I)の結晶形態Aは、7.8±0.2;8.7±0.2;10.1±0.2;12.0±0.2;12.4±0.2;13.0±0.2;15.8±0.2;18.9±0.2;19.3±0.2;および20.4±0.2から選択される4つ以上の2θ値(CuKα λ=1.5418Å)を含む粉末X線回折パターンを特徴とし、ここで該形態AのPXRDパターンは約25℃の温度で測定される。
一実施形態において、化合物(I)の結晶形態Aは、7.8±0.2;8.7±0.2;10.1±0.2;12.0±0.2;12.4±0.2;13.0±0.2;15.8±0.2;18.9±0.2;19.3±0.2;および20.4±0.2から選択される5つ以上の2θ値(CuKα λ=1.5418Å)を含む粉末X線回折パターンを特徴とし、ここで該形態AのPXRDパターンは、約25℃の温度で測定される。
一実施形態において、化合物(I)の結晶形態Aは、7.8±0.2、8.7±0.2;10.1±0.2;12.0±0.2;12.4±0.2;13.0±0.2;15.8±0.2;18.9±0.2;19.3±0.2;および20.4±0.2から選択される6以上の2θ値(CuKα λ=1.5418Å)を含む粉末X線回折パターンを特徴とし、ここで該形態AのPXRDパターンは、約25℃の温度で測定される。
一実施形態において、化合物(I)の結晶形態Aは、10.1±0.2および15.8±0.2の2θ値(CuKα λ=1.5418Å);ならびに7.8±0.2;8.7±0.2;12.0±0.2;12.4±0.2;13.0±0.2;15.8±0.2;18.9±0.2;および19.3±0.2から選択される3以上の2θ値(CuKα λ=1.5418Å)を含む粉末X線回折パターンを特徴とし、ここで該形態AのPXRDパターンは、約25℃の温度で測定される。
一実施形態において、化合物(I)の結晶形態Aは、(i) 約25℃の温度で測定された10.1±0.2および15.8±0.2で2θ値(CuKα λ=1.5418Å)を含む粉末X線回折パターン;ならびに(ii)264℃~269℃の範囲で吸熱を示すことにより特徴付けられる。
一実施形態において、化合物(I)の結晶形態Aは、実質的に図1に示されるような、実測粉末X線回折パターンを特徴とする。
一実施形態において、化合物(I)の結晶形態Aは、264℃~269℃の範囲における吸熱を特徴とする。
一実施形態において、化合物(I)の結晶形態Aは、図2に示されるような示差走査熱量測定(DSC)サーモグラムを特徴とする。
一実施形態において、化合物(I)の結晶形態Aは、(i)約25℃の温度で測定された10.1±0.2および15.8±0.2の2θ値(CuKα λ=1.5418Å)を含む粉末X線回折パターン;ならびに(ii)図2に示されたサーモグラムと実質的に一致する示差走査熱量測定(DSC)サーモグラムを特徴とする。
一実施形態において、化合物(I)の結晶形態Aは、形態Aの試料重量に基づいて、約150℃の温度に加熱した時に0.2%以下の重量損失を示す熱重量分析(TGA)サーモグラムを特徴とする。
一実施形態において、化合物(I)の結晶形態Aは、図3に示された通りの熱重量分析(TGA)サーモグラムを示す。
一実施形態において、化合物(I)の結晶形態Aは、実質的に図4に示された通りの水分吸着等温線を示す。
また更なる実施形態において、化合物(I)の結晶形態Aは、実質的に純粋である。
別の実施形態において、化合物(I)の結晶形態は、主に形態Aからなる。この実施形態の結晶形態は、化合物(I)の形態Aの結晶形態の重量に基づいて、少なくとも約90重量%、好ましくは少なくとも約95重量%、より好ましくは少なくとも約99重量%の化合物(I)の形態Aを含み得る。
一実施形態において、6-(シクロプロパンカルボキサミド)-4-((2-メトキシ-3-(1-メチル-1H-1,2,4-トリアゾール-3-イル)フェニル)アミノ)-N-(メチル-d)ピリダジン-3-カルボキサミドを含む組成物を提供するものであって、ここで少なくとも95重量%、好ましくは少なくとも97重量%、より好ましくは少なくとも99重量%の前記6-(シクロプロパンカルボキサミド)-4-((2-メトキシ-3-(1-メチル-1H-1,2,4-トリアゾール-3-イル)フェニル)アミノ)-N-(メチル-d)ピリダジン-3-カルボキサミドは結晶形態Aで存在している。
結晶形態は、例えば、適切な溶媒からの結晶化または再結晶化、昇華、溶融物からの成長、別の相からの固相変換、超臨界流体からの結晶化およびジェットスプレーを含めた、様々な方法によって製造できる。結晶化のための技術または溶媒混合物からの結晶形態の再結晶化は、例えば、溶媒の蒸発、溶媒混合物の温度の低下、分子および/または塩の過飽和溶媒混合物の結晶シーディング、溶媒混合物の凍結乾燥および溶媒混合物への貧溶媒(逆溶媒)の添加が含まれる。ハイスループット結晶化技術を用いて、多形体を含めた結晶形態を製造することができる。
多形体を含む薬剤の結晶体、製造方法および薬剤結晶の特徴分析は、Solid-State Chemistry of Drugs, S.R。Byrn, R.R.Pfeiffer, and J.G.Stowell, 2nd Edition, SSCI, West Lafayette, Indiana(1999)において議論されている。
溶媒を用いる結晶化技術について、溶媒選択は、通常、1以上のファクター、例えば、化合物の溶解度、結晶化技術および溶媒の蒸気圧に依って変わる。溶媒を組合せて用いてもよく、例えば、化合物を第一溶媒に溶解して、溶液を得て、次いで貧溶媒を添加して、溶液中の化合物の溶解度を低下させ、結晶を形成させてもよい。貧溶媒とは、化合物の溶解度が低い溶媒である。
結晶を製造する一つの方法において、化合物を、適切な溶媒に懸濁および/または攪拌してスラリーを得るが、これは溶解を促進するために加熱されてもよい。本明細書で使用される「スラリー」という用語は、化合物の飽和溶液を意味しており、ここで該溶媒は、所定の温度で化合物と溶媒の不均一な混合物が得られるように更なる量の化合物を含んでもよい。
種晶を、結晶化を促進するために、任意の結晶化混合物に加えてもよい。種晶を用いて、特定の多形体の成長を制御するか、または結晶生成物の粒子サイズ分布を制御することができる。従って、必要とされる種晶量の算出は、例えば、“Programmed Cooling of Batch Crystallizers,” J.W. Mullin and J. Nyvlt, Chemical Engineering Science, 1971, 26, 369-377に記載されている通り、利用出来る種晶のサイズおよび生成物の目的とする平均粒子サイズに依存している。一般的には、小さなサイズの種晶は、バッチ内での結晶の成長を効果的に制御するために必要とされる。小さなサイズの種晶は、大きな結晶を篩い分け、粉砕または微粉化によるか、または溶液の微晶質化することにより製造され得る。結晶の粉砕または微粉化により、所望の結晶形態から、結晶化度の変化(即ち、無定形または他の多形体への変化)が起こらないよう注意する必要がある。
冷却した結晶化混合物を真空下で濾過し、単離した固体を、冷再結晶化溶媒などの適切な溶媒で洗浄し、窒素パージ下にて乾燥させて、所望の結晶形態を得ることができる。単離された固体を、固体核磁気共鳴、示差走査熱量測定、粉末X線回折などの適切な分光技術または分析技術によって分析して、生成物の好ましい結晶形態の形成を確かめることができる。得られる結晶形態は、通常、結晶化手順で最初に用いられた化合物の重量に基づいて、約70重量%以上の単離収率、好ましくは90重量%以上の単離収率で生成される。必要に応じて、生成物を、共粉砕するか、またはメッシュスクリーンに通して、生成物を細かくすることができる。
結晶形態を、化合物(I)を製造するための最終工程の反応媒体から直接製造することができる。結晶形態は、例えば、化合物(I)を結晶化し得る最終処理工程からの溶媒または溶媒混合物を用いて達成され得る。あるいは、結晶形態を、蒸留または溶媒添加技術により得ることもできる。この目的に適切な溶媒は、例えば、前記非極性溶媒および極性溶媒、例えば、プロトン性極性溶媒、例えばアルコールおよび極性非プロトン溶媒、例えばケトンを包含する。
試料中の複数の多形体の存在は、技術、例えば、粉末X線回折(PXRD)または固体状態核磁気共鳴分光学により決定され得る。例えば、実験的に測定されたPXRDパターンとシュミレーションPXRDパターンとの比較において、余分なピークの存在は、試料中の1以上の多形体の存在を示している。シュミレーションPXRDは、単結晶X線データから算出してもよい(Smith, D.K., “A FORTRAN Program for Calculating X-Ray Powder Diffraction patterns,” Lawrence Radiation Laboratory, Livermore, California, UCRL-7196 (April 1963)。
化合物(I)の形態Aは、様々な技術を用いて特徴付けを行うことができ、この操作は、当業者にはよく知られている。この形態は、単結晶X線解析を用いて、特徴付けおよび識別することができるが、これは、固定した分析温度での単結晶の単位胞測定に基づいて為される。単位胞に関する詳細な記載は、Stout & Jensen, X-Ray Structure Determination: A Practical Guide, Macmillan Co., New York (1968), Chapter 3に示されており、これは出典明示により本明細書に組み込まれる。別法として、結晶構造の特徴付けを行う別の手段は、粉末X線回折分析によるものであって、該回折プロファイルは、純粋な粉末材料を示すシミュレートプロファイルと比較され、両者とも同じ分析温度で行い、目的の形態についての実測値が一連の2θ値(通常は4つ以上)として特徴付けされる。
目的の形態を特性付けする別の手段として、例えば、固体核磁気共鳴(ssNMR)、示差走査熱量測定、熱分析および振動分光法などを使用し得る。これらのパラメーターを、組み合わせて使用して、目的の形態を特徴付けすることもできる。
有用性
化合物(I)の結晶形態Aを、合成過程の完了時に他の成分から化合物(I)を単離するため;および/または1または一連の結晶化工程により化合物(I)を精製するために、使用することができる。単離および精製工程は、組み合わせて、または別々の処理工程として行ってもよい。
下記に、本発明の好ましい実施形態である以下の実施例により本発明をさらに説明する。全ての温度は、具体的に特定しない限り、摂氏(℃)である。これらの実施例は、限定するものでは無く、むしろ例示であり、それら添付の特許請求の範囲によって規定される本発明の精神および範囲内に入るその他の実施形態が存在し得ることは理解されよう。
参照のために、以下の略語を本明細書中で使用される。
Figure 0007260481000003
実施例1:化合物(I)の結晶形態Aの製造
6-クロロ-4-((2-メトキシ-3-(1-メチル-1H-1,2,4-トリアゾール-3-イル)フェニル)アミノ)-N-(メチル-d)ピリダジン-3-カルボキサミド(1.2g)を、Rotovapおよび超音波処理によりジオキサン(40mL)に溶解した。窒素ガスで5分間パージした後に、パージしながら、シクロプロパンカルボキサミド(0.6g)、Pd(dba)(0.3g)、XANTPHOS(0.3g)およびCsCO(2.1g)を加えた。反応混合物を、130℃に加熱して、次いで濾過して、濃縮して、ジオキサンを除去した。メタノールおよびDCMを加えて、Celiteを加えた後に生成物を溶解した。材料を乾燥させて、純粋な酢酸エチルで溶出するISCOで精製して、得られる生成物をカラムに流して、化合物(I)を結晶形態A(100%純度)として得た。
実施例2:化合物(I)の結晶形態Aの製造
化合物(I)(2g)を、室温(25℃)で、化合物(I)が完全に溶解するまで、THF(143mL)および水(7mL)中において混合して、溶液を調製した。該溶液を、室温でポリッシュ濾過して、次いでSpeedvacを用いて終夜乾燥させた。得られる固体を、60℃でEtOAc(12mL)中に懸濁させて、得られるスラリーを、60℃で終夜エージングした。スラリーを濾過して、ウェットケーキをEtOAc(5mL)で洗った。湿性ケーキを、50~60℃の温度範囲で真空オーブンにて乾燥させて、化合物(I)(1.5g)を形態A(98.3%純度)として得た。
実施例3:化合物(I)の結晶形態Aの製造
溶液を、1-メチルイミダゾール(1.9g)、ACN(17mL)、()メタンアミン(3.3g)、6-シクロプロパンアミド-4-{[2-メトキシ-3-(1-メチル-1H-1,2,4-トリアゾール-3-イル)フェニル]アミノ}ピリダジン-3-カルボン酸(17.0g)、半亜鉛塩、ACN(17mL)およびNMP(8.5mL)を、NMP(34mL)に入れて調製した。溶液を、65℃に加熱した。65℃で1時間エージングした後に、HOBt(3.3g)およびEDC HCl(10.3g)を、溶液に入れて、反応を開始した。該溶液を、15分間エージングして、反応完了させて、次いでACN(17mL)を入れた。新たに形成したスラリーを、65℃で30分間エージングして、この後に水(17mL)およびACN(51mL)を入れた。スラリーを、2時間かけて-10℃に冷却して、12時間エージングした。冷スラリーを、濾過して、結晶固体を、2:1 水:ACN(51mL)、次いでACN(51mL)で洗った。湿性ケーキを、50~100℃の範囲内の温度で、真空オーブン内で乾燥させて、化合物(I)を形態Aで得た。
実施例4:化合物(I)の結晶形態A
溶液を、化合物(I)(10g)をNMP(55mL)中で混合して、化合物(I)が完全に溶解するまで、スラリーを70℃で加熱することにより調製した。該溶液を、62.5~85℃の範囲のバッチ温度でポリッシュ濾過した。濾液を70℃まで温めて、次いでIPA(30mL)をバッチに加えた。バッチを、70℃に戻して、この時点で1重量%の化合物(I)の種晶を加えた。新たに形成したスラリーを、1時間70℃でエージングして、この後IPA(60mL)を1時間かけてバッチに入れた。スラリーを、3.5時間かけて-10℃に冷却した。冷スラリーを、-10℃で12時間エージングした。冷スラリーを濾過して、結晶固体をIPA(2x40mL)で洗った。湿性ケーキを、50~100℃の範囲の温度で真空オーブン内にて乾燥させて、化合物(I)(8.5g)を形態A(>99.9 AP純度)にて得た。
6-(シクロプロパンカルボキサミド)-4-((2-メトキシ-3-(1-メチル-1H-1,2,4-トリアゾール-3-イル)フェニル)アミノ)-N-(メチル-d)ピリダジン-3-カルボキサミドの合成
工程1:化合物2の製造
Figure 0007260481000004

ガラスを焼き付けた反応容器に、トルエン(0.26kg)、スルホラン(3.4kg)、化合物1(1.0kg)およびPOCl(2.7kg)を入れた。粗生成物を、0℃に冷却した。トリエチルアミン(0.89kg)を入れて、得られる粗製混合物を、65℃に加熱して、反応が完了するまでエージングした。反応生成物を、5℃に冷却した。
別の反応器中に、水(7.5kg)を入れて、5℃に冷却した。反応生成物を、ゆっくりと水溶液に加えて、内部温度を5℃以下に維持する。別の水(0.5kg)を使用して、この反応容器をリンスして、変換を助けた。得られる混合物を、5℃で3時間攪拌して、次いでMTBE(3x4.5kg)で3回抽出した。有機層を合わせて、緩衝水溶液(5.0L/kg,15wt%KHPO/KHPO)(pH7)および水(2.5kg)を用いて、順に洗った。粗生成物を、全体積がおおよそ3L/kgとなるまで真空下で蒸留した。ACN(2x6.3kg)を加えて、次いで更なる蒸留を行い、~3L/kgとした。粗生成物を、20℃に冷却して、化合物2を30~36重量%溶液として90~95%収率で得た。
工程2:化合物3の製造
Figure 0007260481000005
ACN(2.7kg)、臭化リチウム(1.18kg)および水(0.65kg)を、25℃でガラスを焼き付けた反応容器に加えた。上記で調製した化合物2の粗製溶液(制限試薬)を加えて、次いでDIPEA(1.82kg)を加えた。得られるスラリーを、反応が完了するまで25℃で攪拌した。生成物を、濾過により単離した。粗製固体を、ACN(1.6kg)で洗った。このケーキを、45℃で真空下にて乾燥させた。化合物3を、98APおよび83%収率にて単離した。
工程3:化合物8の製造
Figure 0007260481000006

水(6.0kg,6.0L/kg)および化合物7(1.0kg)を、25℃でガラスを焼き付けた反応容器に入れた。酢酸亜鉛脱水和物(1.08kg,1.0等量)を加えて、次いで化合物3(1.28kg,1.20等量)を加えた。反応容器の辺縁を、2-プロパノール(0.79kg,1.0L/kg)および水(1.50kg,1.50L/kg)でリンスした。得られる均質溶液を、反応が完了するまで65℃に加熱した。水(7.0kg,7.0L/kg)を加えて、粗製混合物を20℃に冷却して、30分間エージングさせた。生成物を、濾過により単離した。粗製固体を、水(6.0kg,6.0L/kg)、水(6.0kg,6.0L/kg)、THF(5.3kg,6.0L/kg)およびTHF(5.3kg,6.0L/kg)で順に洗った。ケーキを、70℃で真空乾燥した。化合物8を、98APおよび94%収率にて単離した。
工程4:化合物9の製造
Figure 0007260481000007

別のガラスを焼き付けた反応容器を、窒素でフラッシュした。トルエン(0.87kg,1.0L/kg)およびMeCN(0.79kg,1.0L/kg)を入れて、その後(2R)-1-[(1R)-1-[ビス(1,1-ジメチルエチル)ホスフィノ]エチル]-2-(ジシクロヘンキシホスフィノ)フェロセン(Josiphos SL-009-01)(14.1g,1.0mol%)および酢酸パラジウム(2.9g,0.5mol%)を入れた。反応容器の辺縁を、トルエン(0.43kg,0.5L/kg)でリンスした。得られる事前形成した触媒溶液を、次工程で利用するまで窒素下において保持した。
20℃で、トルエン(3.46kg,4.0L/kg)およびACN(1.57kg,2.0L/kg)を、窒素でフラッシュしたガラスを焼き付けた反応容器に入れた。化合物8(1.00kg)を加えて、次いでDBU(0.39kg,1.00等量)を加えた。反応容器のふちを、トルエン(0.43kg,0.5L/kg)で洗った。化合物10(0.54kg,2.5等量)およびKCO(325meshgrade,0.70kg,2.0等量)を、反応混合物に加えて、次いでトルエン(1.30kg,1.5L/kg)およびACN(0.79kg,1.0L/kg)を加えた。事前形成した触媒溶液を、反応混合物に移して、これを75℃に加熱して、反応が完了するまで攪拌した。
反応粗生成物を、20℃に冷却した。酢酸水溶液(50体積%,4.0kg,4.0L/kg)を、1時間かけてゆっくりと入れた。次いで、氷酢酸(10.5kg,10.0L/kg)を加えた。得られる均一溶液をヘプタン(2×3.42kg,2×5.0L/kg)で2回洗浄した。底部水層を集めて、汚れが無い反応器に移した。水(5.0kg,5.0L/kg)を加えて、次いで化合物9の種晶(0.01kg,1.0wt%)を加えた。スラリーを、20℃で2時間エージングさせた。追加の水(2.0kg,2.0L/kg)を加えて、スラリーを、更に6時間エージングさせた。生成物を濾過により単離した。粗製ケーキを、ACN水溶液(50体積%,4.5kg,5.0L/kg)、次いでACN(3.9kg,5.0L/kg)で洗った。ケーキを、65℃で真空乾燥させた。化合物9を、98.5APおよび84%収率にて単離した。
工程5:化合物(I)の製造
Figure 0007260481000008

NMP(2.06kg,2.0L/kg)およびACN(0.78kg,1.0L/kg)を、ガラスを焼き付けた反応容器に入れて、20℃で攪拌した。N-メチルイミダゾール(0.13kg,0.7等量)、化合物13(0.17kg,1.2等量)および化合物9(1.00kg)を、反応混合物に入れた。混合物を、65℃に加熱して、均質になるまでエージングした。HOBt 20%含水(0.17kg,0.5等量)、次いでEDC・HCl(0.54kg,1.4等量)を反応混合物に入れた。反応容器を、ACN(0.78kg,1.0L/kg)でリンスして、次いで得られる混合物を、反応が完了するまで、65℃でエージングした。この反応を、水(1.0kg,1L/kg)を入れて停止させて、次いでACN(3.0kg,3L/kg)で希釈した。反応混合物を、65℃で1時間エージングした後に、0℃に冷却して、0℃で更に12時間攪拌した。生成物を、濾過により単離した。湿性ケーキを、2:1の水:ACN(2.8kg,3L/kg)で洗い、次いでACN(2.4kg,3L/kg)で洗い、その後完全真空下において65℃で乾燥させた。化合物Iを、>99.5%純度かつ91%収率で単離した。
NMP(6.2kg,6.0L/kg)および化合物I(1.0kg)を、ガラスを焼き付けた反応容器に入れた。このバッチを70℃に加熱して、淡黄色溶液を形成させて、次いでこれを、70℃で、ポリッシュフィルターに通して濾過して、汚れが無い容器に移した。2-プロパノール(2.4kg,3L/kg)を加え、次いで化合物Iの種晶(0.005kg,0.005kg/kg)を加えた。1時間のエージング後、追加の2-プロパノール(4.8kg,6L/kg)を、2時間かけて入れた(3L/kg/hr)。スラリーを、70℃で1時間熟成させて、0℃までゆっくり冷却し、0℃でさらに12時間エージングさせた。生成物を、濾過により単離した。湿性ケーキを、2-プロパノール(2x3.1kg,2x4L/kg)で洗った後、65℃で完全真空下において乾燥させた。化合物Iを、>99.9%純度および83%収率で単離した。
化合物7の製造
工程1: N-メチル-N-ホルミルヒドラジンの製造
Figure 0007260481000009

ガラスを焼き付けた反応容器に、0℃で、メタノール(1.6kg/kg,2.0L/kg)およびメチルヒドラジン(1kg)を入れた。メチルホルメート(0.57kg/kg,1.1等量)を滴加した。粗生成物を20℃まで温めて、更に6時間エージングさせた。粗生成物を、全容量がおおよそ0.5L/kgとなるまで、真空下において蒸留させた。共沸乾燥を目的として、2-Me/THF(5x3.6kg/kg)を使用した5回のプット/テイク蒸留を行った。粗生成物を、20℃に冷却した。N-メチル-N-ホルミルヒドラジンを、89~90重量%溶液として、89~91%収率にて単離した。
工程2:化合物5の製造
Figure 0007260481000010

ガラスを焼き付けた反応容器に、カリウム tert-ブトキシド(1.5kg/kg,2.4等量)およびTHF(12.2kg/kg)を0℃で入れた。化合物4(1.0kg)、N-メチル-N-ホルミルヒドラジン(1.0kg/kg,2.30等量)およびTHF(5.3kg/kg,6.0L/kg)の混合物をゆっくりと加えた。反応容器の辺縁を、THF(0.5kg/kg)でリンスした。反応粗製物を、反応が完了するまで0℃でエージングさせた。水(5.0kg/kg)を加え、得られた混合物を0℃で30分間エージングさせて、40℃に加熱し、さらに30分間エージングした。層を分離し、水層を廃棄した。有機層をブライン(15wt%、5.7kg/kg)で洗った後に、総量が約5L/kgになるまで真空蒸留した。共沸乾燥の目的で、酢酸エチル(4x10L/kg)を用いた4回のプット/テイク蒸留を行った。粗生成物を20℃に冷却して、硫酸(0.66kg/kg,1.10当量)を加え、スラリーを2~3時間撹拌した。生成物を濾過により単離した。ケーキを酢酸エチル(2×6.5L/kg)とヘプタン(8L/kg)で連続的に洗い、45℃で真空乾燥した。化合物5を、99APかつ収率83%にて単離した。
工程3:化合物6の製造
Figure 0007260481000011

ガラスを焼き付けた反応容器に、濃硫酸(4.5kg/kg)および化合物5(1.0kg)を、0~5℃で入れた。硝酸(68重量%,0.35kg/kg,1.2等量)を滴加した。混合物を、反応が完了するまで0~5℃で攪拌した。
別の反応器内で、水(12kg/kg)とメタノール(6.5kg/kg,8.3L/kg)を20℃で十分に混合した。硝化粗製物を、メタノール水混合物にゆっくりと移した。反応容器のふちを、メタノール(0.5kg/kg)でリンスした。粗生成物を、40~45℃に加熱した。水酸化アンモニウム水溶液(25重量%,7.4kg/kg)を、ゆっくりと加えた。得られるスラリーを、20℃に冷却し、3時間撹拌した。生成物を濾過により単離した。ケーキを、水(2x6L/kg)で洗い、45℃で真空乾燥した。化合物6を、99APかつ95%収率で単離した。
工程4:化合物7の製造
Figure 0007260481000012

窒素でフラッシュした高圧反応容器に、メタノール(8.0kg/kg)および化合物6(1.0kg)を入れた。酸素を慎重に排除して、炭酸水素ナトリウム(0.6kg/kg,2.0当量)およびPd/C(10%負荷、50%含水、0.02kg/kg)を加えた。反応容器を水素(41~46psi)で加圧し、反応混合物を20℃で6時間エージングして、その後45℃に加熱し、反応が完了するまでエージングした。反応容器に窒素をフラッシュして、反応粗生成物を濾過して、Pd/Cを除去した。メタノール(5kg/kg)を用いて、変換を促進させた。合わせた濾液を、総体積が約2.5L/kgになるまで真空蒸留した。水(10kg/kg)を加えて、総体積が約2.5L/kgになるまで粗生成物を真空蒸留した。粗生成物を70℃に加熱した。ブライン(25重量%,9.0kg/kg)を加えて、得られる粗生成物を、70℃で6時間攪拌した。0℃に冷却した後、粗生成物を、さらにエージングした。生成物を濾過により単離した。ケーキを、0℃に予冷した塩水(25重量%,2.0kg/kg)で洗い、45℃で真空乾燥した。化合物7を、99APかつ88%収率にて単離した。
化合物13の製造
工程1:化合物11および化合物12の製造
Figure 0007260481000013

窒素を流したガラスを焼き付けた反応容器に、水(16.3L/kg)および水酸化ナトリウム(3.3kg,3.0等量)を入れた。混合物を、水酸化ナトリウムが完全に溶解するまで、エージングさせた。粗生成物を0℃に冷却した。d-メタノール(1.0kg)およびTHF(4.5L/kg)を入れた。TsCl(6.3kg,1.2等量)/THF(6.3kg,7.1L/kg)の溶液を、2時間かけて攪拌した。粗生成物を、反応が完了するまで0℃で攪拌した。バッチを、20℃に温めた。層を分離した。集めた有機層を、MTBE(4.0kg,5.4L/kg)で希釈して、ブライン(25wt%,4.0kg,その後12kg)で2回洗った。有機層を、全体積がおおよそ10L/kgとなるまで真空蒸発させた。ACN(2×10L/kg)を用いる2回のプット/テイク蒸留を、共沸乾燥を目的として行った。粗生成物を20℃に冷却した。ACN(10.0kg,12.8L/kg)およびNaN(CHO)(3.3kg,1.2当量)を添加した。粗生成物を65℃に加熱し、反応が完了するまで撹拌した。5℃に冷却した後、混合物を濾過し、粗ケーキをACN(2×2.5kg,2×3.2L/kg)で2回洗った。合わせた濾液を、総体積が約3L/kgになるまで真空下において蒸留した。粗生成物を20℃に冷却した。化合物12を、60~70%収率にて、80~85wt%の油として単離した。
工程2:実施例13の製造
Figure 0007260481000014

ガラスを焼き付けた反応容器に、20℃で、化合物12(1.0kg)およびメタノール(3.9kg,5.0L/kg)を加えた。HCl/IPA溶液(5~6Normal,4.5kg,1.5等量)を加えた。得られる混合物を、50℃に加熱して、反応が完了するまで攪拌した。THF(10kg,11.2L/kg)をゆっくりと加えて、粗生成物を、0℃に2時間かけて冷却して、スラリーを得た。生成物を、濾過により単離した。ケーキを、THF(3.7kg,4.1L/kg)で洗い、45℃で真空乾燥させた。化合物13を、80%収率にて単離した。
任意の化合物13の再結晶:
メタノール(5.6kg,8.3L/kg)および化合物13(1.0kg)を、ガラスを焼き付けた反応容器に入れた。DBU(0.1kg)をゆっくりと加えた。粗生成物を1時間撹拌した。THF(12.4kg,13.9L/kg)を、ゆっくりと加えて、得られたスラリーを2時間エージングした。生成物を、濾過により単離した。ケーキを、THF(2.6kg,2.9L/kg)で洗い、真空下において45℃で乾燥させた。化合物13を、60%収率(第一回クラップ)にて単離した。母液を、全体積がおおよそ1L/kgとなるまで真空蒸留した。メタノール(2×2.8kg,2×3.6L/kg)を用いて、2回のプット/テイク蒸留を行い、溶液を濃縮して、~1L/kgとした。粗生成物を20℃に冷却した。THF(4.8kg,5.4L/kg)を加えて、得られたスラリーを2時間エージングさせた。生成物を濾過により単離した。ケーキを、THF(1.0kg)で洗い、真空下において45℃で乾燥させた。化合物13を、25%収率にて単離した(2回目の収集)。
実施例5:化合物(I)の形態Aの物理的および化学的安定性
微粒子された化合物(I)の形態Aの試料を、4週間、温度および湿度の様々な条件で貯蔵した。DSC、TGAおよびPXRDにより特徴付けられた物理的安定性を、2および4週間の時点で測定した。試料を4週間貯蔵した場合、その物理的形態における変化は検出されなかった。表2のデータは、試料の化学的安定性における測定値の変化が無かったことを示す。
表2
Figure 0007260481000015
化合物(I)の形態Aの水分収着等温線を、図4に示した。化合物(I)の形態Aは、25℃で25~75%の相対湿度にて、0.1重量%以下の非吸湿性であった。
この結果は、化合物(I)の形態Aが非吸湿性物質であって、十分な効力を維持しており、有意な物理的または化学的分解が生じず、これらの不純物プロファイルは、試験した温度および湿度条件で変化しないままであることを示した。
単結晶データ
APEXII CCDおよび単色Cu Kα照射(λ=1.54178Å)のMICROSTARマイクロフォーカス回転陽極X線発生器を備えたBruker kappa回折計を用いて、単結晶データを集めた。単結晶は、データ収集中は室温(約25℃)で存在する。
最終単位胞パラメーターを、全データセットを用いて決定した。該構造を直接法によって解析し、SHELXTLソフトウェアプログラムパッケージ(G.M. Sheldrick, SHELXTL, Bruker AXS, Madison, WI USA)を用いて、フルマトリックス最小二乗によって精密化した。構造の精密化は、Σw(|F|-|F|)(式中、wは、実測強度における誤差に基づく適切な重み係数であり、Fは、測定反射に基づく構造係数であり、Fcは計算反射に基づく構造係数である)により規定された関数の最小化に関する。精密化された結晶構造モデルと実験X線回折データとの一致は、残差因子 R=Σ||Fo|-|Fc||/Σ|Fo|およびwR=[Σw(|Fo|-|Fc|)/Σw|Fo|]1/2を使用して評価される。示差フーリエマップを、精密化の全ステージで調べた。全ての非水素原子を、異方性の熱変位パラメーターで精密化した。水素原子を、理想化幾何学的方法により一般的に計算して、等方性温度係数を用いて、固定パラメーターを用いる構造因子計算値に含めた。
PXRD
粉末X-線回折(PXRD)データを、Vantec-Q5000検出器を備えたBruker C2 GADDSを用いて得た。放射線は、Cu Kα(40KV, 40mA)であった。試料-検出器の距離は~20cmであった。入射光学システムには、ゲーベルミラーおよび0.3mmコリメーターが含まれる。粉末試料を、直径の1mm以下の密閉ガラスキャピラリー内において;このキャピラリーを、データ収集中に回転させた。データを、少なくとも1000秒の試料暴露時間にて22θ35°の範囲について集めた。得られる2次回折アークを精密化し、~2から~30°2θの範囲内で0.05° 2θのステップサイズにて1次元PXRDパターンを作成した。
DSC
示差走査熱量測定(DSC)実験を、TA InstrumentsTM model Q2000で行った。試料(約2~6mg)を、アルミニウムパン内で秤量して、100mgまで正確に記録して、DSCに移した。機器を、50mL/minにて窒素ガスでパージした。データを、10℃/分の加熱速度で室温から300℃の間で収集した。プロットを、吸熱ピークの下方で行った。
TGA(オープンパン)
熱重量分析(TGA)試験を、TA InstrumentsTM model Q5000で行った。試料(約10~30mg)を、事前に風袋重量を計ったプラチナパンに置いた。試料重量を、正確に測定して、計器により千ミリグラムまで記録した。炉を、100mL/minにて窒素ガスでパージした。データを、10℃/minの加熱速度にて、室温~300℃まで収集した。
VTI
水分収着等温線は、約10mgの試料を使用して、TA Instrument VTI-SA+Vapor Sorption Analyzerで集めた。試料を、0.0005重量%/分の損失率が10分間得られるまで60℃で乾燥させた。試料を、25℃で、かつ3または4、5、15、25、35、45、50、65、75、85、および95%の相対湿度(RH)で試験した。各相対湿度での平衡は、35分間で0.0003wt%/分の速度に達した時点または最大600分間の時点で到達した。

Claims (9)

  1. 6-(シクロプロパンカルボキサミド)-4-((2-メトキシ-3-(1-メチル-1H-1,2,4-トリアゾール-3-イル)フェニル)アミノ)-N-(メチル-d)ピリダジン-3-カルボキサミドの結晶体Aの製造方法であって、
    (a)1-メチルイミダゾール(1.9g)、ACN(17mL)、()メタンアミン(3.3g)、6-シクロプロパンアミド-4-{[2-メトキシ-3-(1-メチル-1H-1,2,4-トリアゾール-3-イル)フェニル]アミノ}ピリダジン-3-カルボン酸・半亜鉛塩(17.0g)、ACN(17mL)、およびNMP(8.5mL)を、NMP(34mL)に加え、溶液を得て;
    (b)該溶液を加熱し;
    (c)加熱した溶液をエージングし;
    (d)HOBt(3.3g)およびEDC HCl(10.3g)をエージングした加熱溶液に加え;
    (e)得られた(d)をエージングし;
    (f)ACN(17mL)を得られた(e)に加え、スラリーを得て;
    (g)該スラリーをエージングし;
    (h)水(17mL)およびACN(51mL)をエージングしたスラリーに加え;
    (i)得られた(h)を冷却し、冷スラリーを得て;
    (j)冷スラリーをエージングし;
    (k)エージングした冷スラリーを濾過し、結晶固体を得て;
    (l)結晶固体を2:1 水:ACN(51mL)、次いでACN(51mL)で洗浄し、湿性ケーキを得て;および
    (m)湿性ケーキを乾燥する
    ことを含む製造方法であって、得られた6-(シクロプロパンカルボキサミド)-4-((2-メトキシ-3-(1-メチル-1H-1,2,4-トリアゾール-3-イル)フェニル)アミノ)-N-(メチル-d)ピリダジン-3-カルボキサミドの結晶体Aが、下記(i)~(iv):
    (i)単位胞パラメーター:
    a=8.90±0.05Å
    b=10.48±0.05Å
    c=11.34±0.05Å
    α=96.7±0.5°
    β=90.8±0.5°
    γ=100.4±0.5°
    空間群:P-1
    単位胞あたりの分子数(Z):2
    (ここで、該結晶体Aの単位胞パラメーターは、25℃の温度で測定されている);
    (ii)7.8±0.2;8.7±0.2;10.1±0.2;12.0±0.2;12.4±0.2;13.0±0.2;15.8±0.2;18.9±0.2;19.3±0.2;および20.4±0.2から選択される4以上の2θ値(CuKα λ=1.5418Å)を含む、粉末X線回折パターン(ここで、該結晶体AのPXRDパターンは、25℃の温度で測定されている);
    (iii)264℃~269℃の範囲における吸熱;または
    (iv)10.1±0.2および15.8±0.2の2θ値(CuKα λ=1.5418Å)を含む、粉末X線回折パターン(ここで、該結晶体のPXRDパターンは、25℃の温度で測定されている);ならびに264℃~269℃の範囲の吸熱
    の内の一つ以上から特徴付けられる、方法。
  2. (b)において、該溶液を65℃に加熱し、(c)において、加熱した溶液を1時間65℃でエージングする、請求項に記載の方法。
  3. (e)において、エージングが15分間起こる、請求項に記載の方法。
  4. (g)において、スラリーを30分間65℃でエージングする、請求項に記載の方法。
  5. (i)において、得られた(h)を2時間かけて-10℃に冷却し、(j)において、冷スラリーを12時間エージングする、請求項に記載の方法。
  6. (m)において、乾燥を真空オーブン中、50℃~100℃の温度で行う、請求項に記載の方法。
  7. 6-(シクロプロパンカルボキサミド)-4-((2-メトキシ-3-(1-メチル-1H-1,2,4-トリアゾール-3-イル)フェニル)アミノ)-N-(メチル-d)ピリダジン-3-カルボキサミドの結晶体Aの製造方法であって、得られた6-(シクロプロパンカルボキサミド)-4-((2-メトキシ-3-(1-メチル-1H-1,2,4-トリアゾール-3-イル)フェニル)アミノ)-N-(メチル-d)ピリダジン-3-カルボキサミドの結晶体Aが、
    下記の単位胞パラメーター:
    a=8.90±0.05Å
    b=10.48±0.05Å
    c=11.34±0.05Å
    α=96.7±0.5°
    β=90.8±0.5°
    γ=100.4±0.5°
    空間群:P-1
    単位胞あたりの分子数(Z):2
    (ここで、該結晶体Aの単位胞パラメーターは、25℃の温度で測定されている)
    で特徴づけられる、請求項に記載の方法。
  8. 6-(シクロプロパンカルボキサミド)-4-((2-メトキシ-3-(1-メチル-1H-1,2,4-トリアゾール-3-イル)フェニル)アミノ)-N-(メチル-d)ピリダジン-3-カルボキサミドの結晶体Aの製造方法であって、得られた6-(シクロプロパンカルボキサミド)-4-((2-メトキシ-3-(1-メチル-1H-1,2,4-トリアゾール-3-イル)フェニル)アミノ)-N-(メチル-d)ピリダジン-3-カルボキサミドの結晶体Aが、
    7.8±0.2;8.7±0.2;10.1±0.2;12.0±0.2;12.4±0.2;13.0±0.2;15.8±0.2;18.9±0.2;19.3±0.2;および20.4±0.2から選択される4以上の2θ値(CuKα λ=1.5418Å)を含む、粉末X線回折パターン(ここで、該結晶体AのPXRDパターンは、25℃の温度で測定されている)
    で特徴づけられる、請求項に記載の方法。
  9. 6-(シクロプロパンカルボキサミド)-4-((2-メトキシ-3-(1-メチル-1H-1,2,4-トリアゾール-3-イル)フェニル)アミノ)-N-(メチル-d)ピリダジン-3-カルボキサミドの結晶体Aの製造方法であって、得られた6-(シクロプロパンカルボキサミド)-4-((2-メトキシ-3-(1-メチル-1H-1,2,4-トリアゾール-3-イル)フェニル)アミノ)-N-(メチル-d)ピリダジン-3-カルボキサミドの結晶体Aが、
    10.1±0.2および15.8±0.2の2θ値(CuKα λ=1.5418Å)を含む、粉末X線回折パターン(ここで、該結晶体のPXRDパターンは、25℃の温度で測定されている);ならびに264℃~269℃の範囲の吸熱
    で特徴づけられる、請求項に記載の方法。
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