JP7255412B2 - 量子ドット、インク組成物及び印刷物 - Google Patents
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Description
本発明は、優れた外部蛍光量子効率を示す量子ドット、インクジェット方式に最適なインク組成物及び印刷物に関する。
量子ドットは、量子力学に従う独特な光学特性を発現させるために、電子を微小な空間に閉じ込めるために形成された極小さな粒（ドット）である。１粒の量子ドットの大きさは、直径１ナノメートルから数１０ナノメートルであり、約１万個以下の原子で構成されている。発する蛍光の波長が、粒の大きさで連続的に制御できること、蛍光強度の波長分布が対称性の高いシャープな発光が得られることから近年注目を集めている。
量子ドットは、人体を透過しやすい波長に蛍光を調整でき、体内のあらゆる場所に送達できることより生体イメージング用途としての発光材料、褪色の恐れがない太陽電池用途としての波長変換材料、エレクトロニクス・フォトニクス用途としての発光材料又は波長変換材料への展開検討が行われている。
量子ドットは、人体を透過しやすい波長に蛍光を調整でき、体内のあらゆる場所に送達できることより生体イメージング用途としての発光材料、褪色の恐れがない太陽電池用途としての波長変換材料、エレクトロニクス・フォトニクス用途としての発光材料又は波長変換材料への展開検討が行われている。
量子ドットを波長変換材料として利用すると、バックライトの光が量子ドット層を透過してしまい、量子ドット層にバックライトの光が十分吸収されず、光が十分に変換されないという課題がある。上記課題を解決するために、散乱を利用して光を拡散させる方法が提案されており、例えば、特許文献１には、量子ドットを含む色変換層とは別に、散乱粒子を有する光拡散層を設けることが記載されている。また、特許文献２には、リガンドとしてトリオクチルホスフィンを用いた量子ドットと無機散乱粒子とを含む、沈降安定性に優れる自発光樹脂組成物が記載されている。
一方、塗膜中の量子ドット濃度を高めることで光吸収及び光変換を向上させる方法が提案されており、量子ドットの表面に結合しているリガンドを最適化し塗膜や組成物中での相溶性を向上させることが検討されている。
例えば、特許文献３には、ポリアルキレングリコール鎖を半導体超微粒子に定着させて、親水性と生体物質への非特異吸着性とを両立させることが記載されている。また、特許文献４には、量子ドット、光散乱性粒子であるアルミナ被覆酸化チタン及び高分子分散剤を含む、沈降分離抑制性と吐出安定性に優れたインクジェットインキが記載されている。
一方、塗膜中の量子ドット濃度を高めることで光吸収及び光変換を向上させる方法が提案されており、量子ドットの表面に結合しているリガンドを最適化し塗膜や組成物中での相溶性を向上させることが検討されている。
例えば、特許文献３には、ポリアルキレングリコール鎖を半導体超微粒子に定着させて、親水性と生体物質への非特異吸着性とを両立させることが記載されている。また、特許文献４には、量子ドット、光散乱性粒子であるアルミナ被覆酸化チタン及び高分子分散剤を含む、沈降分離抑制性と吐出安定性に優れたインクジェットインキが記載されている。
しかしながら、特許文献１に記載の方法では、光拡散層を追加で設けることによって、光波長変換効率を向上させることができるが、表示装置自体の複雑さが増し、生産性、コスト面等に問題を生じる。また、特許文献２では、リガンドとしてトリオクチルホスフィンリガンドを用いており、量子ドットの濃度を高めると分散安定性及びインクジェット吐出性が低下し、光物性を向上することができない。
特許文献３では、リガンド設計により水への相溶性は得られるが、溶剤に対する相溶性が得られないという課題がある。また、特許文献３には、塗膜の外部変換効率について開示されていない。
さらに特許文献４では、長鎖アルキレンオキシ基を有するリガンドを用いており、特許文献２と同様に、量子ドットの濃度を高めると分散安定性及びインクジェット吐出性が低下し、光物性を向上することができない。
特許文献３では、リガンド設計により水への相溶性は得られるが、溶剤に対する相溶性が得られないという課題がある。また、特許文献３には、塗膜の外部変換効率について開示されていない。
さらに特許文献４では、長鎖アルキレンオキシ基を有するリガンドを用いており、特許文献２と同様に、量子ドットの濃度を高めると分散安定性及びインクジェット吐出性が低下し、光物性を向上することができない。
すなわち本発明の課題は、優れた外部蛍光量子効率を示す量子ドット、並びに、当該量子ドットを含む、優れた外部蛍光量子効率と、分散安定性に優れ良好なインクジェット吐出性とを有するインク組成物及び印刷物を提供することにある。
本発明は、以下の〔１〕～〔１０〕発明に関する。
〔１〕 下記一般式（１）で示される化合物で表面処理された半導体微粒子である、量子ドット（Ａ）。
一般式（１）
一般式（１）
［一般式（１）中、
Ｘ： 直接結合、又は分子量１５０以下の２価の連結基
Ｙ： メチレン基、メチン基、又は４置換炭素原子
Ｑ： スルファニル基、アルキルスルファニル基、又は硫黄原子を含有する１価の複素環基
Ｒ１： 直接結合、イミノ基（ＮＲ３）、酸素原子、又はＣＨ２Ｏ
Ｒ２： 水素原子、アルキル基、アミノ基（ＮＲ４Ｒ５）、又はアルコキシ基（ＯＲ６）
Ｒ３～Ｒ５： 各々独立して、アルキル基、又は水素原子
Ｒ６： アルキル基
ｍ： １～３の整数］
Ｘ： 直接結合、又は分子量１５０以下の２価の連結基
Ｙ： メチレン基、メチン基、又は４置換炭素原子
Ｑ： スルファニル基、アルキルスルファニル基、又は硫黄原子を含有する１価の複素環基
Ｒ１： 直接結合、イミノ基（ＮＲ３）、酸素原子、又はＣＨ２Ｏ
Ｒ２： 水素原子、アルキル基、アミノ基（ＮＲ４Ｒ５）、又はアルコキシ基（ＯＲ６）
Ｒ３～Ｒ５： 各々独立して、アルキル基、又は水素原子
Ｒ６： アルキル基
ｍ： １～３の整数］
〔２〕 前記半導体微粒子が化合物半導体である、〔１〕に記載の量子ドット（Ａ）。
〔３〕 前記半導体微粒子がコア・シェル型であり、前記一般式（１）で示される化合物でシェル表面が処理されてなる、〔１〕又は〔２〕に記載の量子ドット（Ａ）。
〔４〕 一般式（１）において、Ｒ１が酸素原子であり、Ｒ２がアルキル基である、〔１〕～〔３〕いずれか１項に記載の量子ドット（Ａ）。
〔５〕 一般式（１）のＸにおける２価の連結基の分子量が、１１０以下である、〔１〕～〔４〕いずれか１項に記載の量子ドット（Ａ）。
〔６〕 〔１〕～〔５〕いずれか１項に記載の量子ドット（Ａ）と溶剤（Ｂ）とを含むインク組成物。
〔７〕 〔１〕～〔５〕いずれか１項に記載の量子ドット（Ａ）とバインダー成分（Ｃ）とを含むインク組成物。
〔８〕 さらに、光散乱粒子（Ｄ）を含む、〔７〕に記載のインク組成物。
〔９〕 インクジェット方式で用いられる、〔６〕～〔８〕いずれか１項に記載のインク組成物。
〔１０〕 〔６〕～〔８〕いずれか１項に記載のインク組成物を用いて形成される印刷物。
本発明により、優れた外部蛍光量子効率を示す量子ドット、並びに、当該量子ドットを含む、優れた外部蛍光量子効率と、分散安定性に優れ良好なインクジェット吐出性とを有するインク組成物及び印刷物を提供することができる。
＜量子ドット（Ａ）＞
本発明の量子ドット（Ａ）は、下記一般式（１）で示される化合物で表面処理された半導体微粒子である。「表面処理された」とは、半導体微粒子表面の少なくとも一部に当該化合物を有していることであり、このような半導体微粒子の表面に存在する化合物をリガンドともいう。
以下、本発明を詳細に説明する。特段記載のない限り、「部」及び「％」は「質量部」及び「質量％」を表す。
本発明の量子ドット（Ａ）は、下記一般式（１）で示される化合物で表面処理された半導体微粒子である。「表面処理された」とは、半導体微粒子表面の少なくとも一部に当該化合物を有していることであり、このような半導体微粒子の表面に存在する化合物をリガンドともいう。
以下、本発明を詳細に説明する。特段記載のない限り、「部」及び「％」は「質量部」及び「質量％」を表す。
［半導体微粒子］
半導体微粒子は、主に無機物を成分とする半導体であり、単一組成でも、コア・シェル型でも、３層以上の複数層になっていてもよい。
半導体は、周期表１族元素、２族元素、１０族元素、１１族元素、１２族元素、１３族元素、１４族元素、１５族元素、１６族元素及び１７族元素で示される元素の群から選ばれる少なくとも２種以上の元素を含む化合物からなる半導体である。より好ましくは化合物半導体であり、化合物半導体は、Ｈ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、Ｃｕ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｈｇ、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｃ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｎ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｐｂ、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩで示される元素群から選ばれる少なくとも２種の元素を含む化合物からなる半導体であり、具体的にはＣｕＣｌ、ＣｄＳ、ＣｄＳｅ、ＣｄＴｅ、ＺｎＳ、ＺｎＳｅ、ＺｎＴｅ、ＭｇＴｅ、ＧａＡｓ、ＧａＰ、ＧａＳｂ、ＧａＮ、ＨｇＳ、ＨｇＳｅ、ＨｇＴｅ、ＩｎＡｓ、ＩｎＰ、ＩｎＳｂ、ＩｎＮ、ＡｌＡｓ、ＡｌＰ、ＡｌＳｂ、ＡｌＳ、ＰｂＳ、ＰｂＳｅ、Ｇｅ、Ｓｉ、ＣｕＩｎＳ２、ＡｇＩｎＳ２、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｐｂ、ＩｎＧａＰ、ＣＨ３ＮＨ３ＰｂＦ３、ＣＨ３ＮＨ３ＰｂＣｌ３、ＣＨ３ＮＨ３ＰｂＢｒ３、ＣＨ３ＮＨ３ＰｂＩ３、ＣｓＰｂＦ３、ＣｓＰｂＣｌ３、ＣｓＰｂＢｒ３、ＣｓＰｂＩ３、ＲｂＰｂＦ３、ＲｂＰｂＣｌ３、ＲｂＰｂＢｒ３、ＲｂＰｂＩ３、ＫＰｂＦ３、ＫＰｂＣｌ３、ＫＰｂＢｒ３、ＫＰｂＩ３等が挙げられる。
さらに好ましくは、Ｈ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、Ｃｕ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｃ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｎ、Ｐ、Ｏ，Ｓ，Ｔｅ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩで示される元素群から選ばれる少なくとも２種の元素を含む化合物からなる半導体である。
可視光を発光する用途では、バンドギャップの狭さからＩｎを構成元素として含む半導体が、さらに好ましい。
半導体微粒子は、主に無機物を成分とする半導体であり、単一組成でも、コア・シェル型でも、３層以上の複数層になっていてもよい。
半導体は、周期表１族元素、２族元素、１０族元素、１１族元素、１２族元素、１３族元素、１４族元素、１５族元素、１６族元素及び１７族元素で示される元素の群から選ばれる少なくとも２種以上の元素を含む化合物からなる半導体である。より好ましくは化合物半導体であり、化合物半導体は、Ｈ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、Ｃｕ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｈｇ、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｃ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｎ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｐｂ、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩで示される元素群から選ばれる少なくとも２種の元素を含む化合物からなる半導体であり、具体的にはＣｕＣｌ、ＣｄＳ、ＣｄＳｅ、ＣｄＴｅ、ＺｎＳ、ＺｎＳｅ、ＺｎＴｅ、ＭｇＴｅ、ＧａＡｓ、ＧａＰ、ＧａＳｂ、ＧａＮ、ＨｇＳ、ＨｇＳｅ、ＨｇＴｅ、ＩｎＡｓ、ＩｎＰ、ＩｎＳｂ、ＩｎＮ、ＡｌＡｓ、ＡｌＰ、ＡｌＳｂ、ＡｌＳ、ＰｂＳ、ＰｂＳｅ、Ｇｅ、Ｓｉ、ＣｕＩｎＳ２、ＡｇＩｎＳ２、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｐｂ、ＩｎＧａＰ、ＣＨ３ＮＨ３ＰｂＦ３、ＣＨ３ＮＨ３ＰｂＣｌ３、ＣＨ３ＮＨ３ＰｂＢｒ３、ＣＨ３ＮＨ３ＰｂＩ３、ＣｓＰｂＦ３、ＣｓＰｂＣｌ３、ＣｓＰｂＢｒ３、ＣｓＰｂＩ３、ＲｂＰｂＦ３、ＲｂＰｂＣｌ３、ＲｂＰｂＢｒ３、ＲｂＰｂＩ３、ＫＰｂＦ３、ＫＰｂＣｌ３、ＫＰｂＢｒ３、ＫＰｂＩ３等が挙げられる。
さらに好ましくは、Ｈ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、Ｃｕ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｃ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｎ、Ｐ、Ｏ，Ｓ，Ｔｅ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩで示される元素群から選ばれる少なくとも２種の元素を含む化合物からなる半導体である。
可視光を発光する用途では、バンドギャップの狭さからＩｎを構成元素として含む半導体が、さらに好ましい。
コア・シェル型の半導体微粒子は、コアを形成する半導体と異なる成分からなる半導体でコア構造を被覆した構造である。シェルをバントギャップの大きい半導体とすることで、光励起によって生成された励起子（電子－正孔対）はコア内に閉じ込められる。その結果、半導体微粒子表面での無輻射遷移の確率が減少し、発光の量子効率及び半導体量子ドットの蛍光特性の安定性が向上するため好ましい。
コアとシェルとを含めた半導体微粒子の平均粒径は０．５ｎｍ～１００ｎｍであることが好ましく、所望の発色が得られる粒径を選択することができる。コア・シェル型の場合、一つの半導体微粒子の中に複数のシェル微粒子を含有してもよい。単一半導体組成である場合の半導体微粒子の平均粒径及び、コア・シェル型のコアの平均粒径は０．５ｎｍ～１０ｎｍであることが好ましい。平均粒径が０．５ｎｍ以上であると合成面で好ましく、１０ｎｍ以下であると量子閉じ込め効果が向上し求める蛍光が得られやすいため好ましい。
また、表面にリガンドを有する量子ドットの平均粒径は、２ｎｍ～１μｍであることが好ましい。量子ドットの形状は、球状に限らず、棒状、円盤状、そのほかの形状であっても良い。
また、表面にリガンドを有する量子ドットの平均粒径は、２ｎｍ～１μｍであることが好ましい。量子ドットの形状は、球状に限らず、棒状、円盤状、そのほかの形状であっても良い。
ここで言う平均粒径とは、量子ドットを透過型電子顕微鏡で観察し、無作為に３０個のサイズを計測してその平均値を採用した値である。量子ドットの粒径は、量子ドットの半導体材質部を特定して、エネルギー分散型Ｘ線分析が付帯した走査型透過電子顕微鏡を用いることで、リガンドと半導体微粒子との電子密度の違いによる撮像の明暗から計測することができる。
［一般式（１）で示される化合物］
本発明の量子ドット（Ａ）は、半導体微粒子の表面にリガンドとして下記一般式（１）で示される化合物を有する。
本発明の量子ドット（Ａ）は、半導体微粒子の表面にリガンドとして下記一般式（１）で示される化合物を有する。
一般式（１）
［一般式（１）中、
Ｘ： 直接結合、又は分子量１５０以下の２価の連結基
Ｙ： メチレン基、メチン基、又は４置換炭素原子
Ｑ： スルファニル基、アルキルスルファニル基、又は硫黄原子を含有する１価の複素環基
Ｒ１： 直接結合、イミノ基（－ＮＲ３）、酸素原子、又はＣＨ２Ｏ
Ｒ２： 水素原子、アルキル基、アミノ基（－ＮＲ４Ｒ５）、又はアルコキシ基（－ＯＲ６）
Ｒ３～Ｒ５： 各々独立して、アルキル基、又は水素原子
Ｒ６： アルキル基
ｍ： １～３の整数］
Ｘ： 直接結合、又は分子量１５０以下の２価の連結基
Ｙ： メチレン基、メチン基、又は４置換炭素原子
Ｑ： スルファニル基、アルキルスルファニル基、又は硫黄原子を含有する１価の複素環基
Ｒ１： 直接結合、イミノ基（－ＮＲ３）、酸素原子、又はＣＨ２Ｏ
Ｒ２： 水素原子、アルキル基、アミノ基（－ＮＲ４Ｒ５）、又はアルコキシ基（－ＯＲ６）
Ｒ３～Ｒ５： 各々独立して、アルキル基、又は水素原子
Ｒ６： アルキル基
ｍ： １～３の整数］
一般式（１）の置換基について説明する。
Ｘにおける分子量１５０以下の２価の連結基は、特に限定されないが、好ましくは、アルキレン基、及びオキシアルキレン基からなる群から選ばれる少なくとも１種の基であり、アルキレン基とオキシアルキレン基とを組み合わせた基でもよい。２価の連結基の分子量は、１３０以下が好ましく、より好ましくは１１０以下である。
Ｘにおける分子量１５０以下の２価の連結基は、特に限定されないが、好ましくは、アルキレン基、及びオキシアルキレン基からなる群から選ばれる少なくとも１種の基であり、アルキレン基とオキシアルキレン基とを組み合わせた基でもよい。２価の連結基の分子量は、１３０以下が好ましく、より好ましくは１１０以下である。
アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、ヘキシレン基、ドデシレン基又はエ
イコシレン等の直鎖アルキレン基が挙げられ、前記アルキレン基は、炭素数１～３のアルキル基で置換されていてもよく、また、一部の水素が脱落し２重結合を形成していてもよいし、環を形成していてもよい。炭素数１～６のアルキレン基が好ましく、より好ましくは炭素数１～３のアルキレン基である。
イコシレン等の直鎖アルキレン基が挙げられ、前記アルキレン基は、炭素数１～３のアルキル基で置換されていてもよく、また、一部の水素が脱落し２重結合を形成していてもよいし、環を形成していてもよい。炭素数１～６のアルキレン基が好ましく、より好ましくは炭素数１～３のアルキレン基である。
オキシアルキレン基としては、オキシメチレン基、オキシエチレン基、オキシヘキシレンオキシド基、オキシドデシレン基、オキシエイコシレン基等の直鎖オキシアルキレン基等が挙げられるが、炭素数１～３のアルキル基で置換されていてもよく、また、一部の水素が脱落し２重結合を形成していてもよいし、環を形成していてもよい。炭素数１～５のオキシアルキレン基が好ましく、より好ましくは炭素数１～３のオキシアルキレン基である。
Ｒ２～Ｒ６におけるアルキル基、及び、Ｑのアルキルスルファニル基におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、ヘキシル基等の直鎖アルキル基が挙げられ、前記アルキル基は、炭素数１～３のアルキル基で置換されていてもよく、一部の水素が脱落し２重結合を形成していてもよく、環を形成していてもよい。当該アルキル基としては、炭素数１～６のアルキル基が好ましく、より好ましくは炭素数１～３のアルキル基であり、特に好ましくはメチル基である。
Ｑの硫黄原子を含有する１価の複素環基としては、例えば、チエニル基、テトラヒドロチエニル基、チアニル基、チアゾリル基又はチアジニル基が挙げられる。これらは、炭素数１～６のアルキル基で置換されていてもよい。より好ましくは、チエニル基又はチアニル基である。
一般式（１）の置換基Ｑとして好ましくは、スルファニル基、アルキルスルファニル基、チエニル基又はチアニル基であり、より好ましくは、スルファニル基である。
カルボニル基の数ｍは１～３の整数であるが、１又は２が好ましく、より好ましくは１である。すなわちＹはメチレン基であることが好ましい。
カルボニル基は、エステルとして存在することが好ましい。すなわち、Ｒ１が直接結合でありＲ２がアルコキシ基である場合、又は、Ｒ１が酸素原子又はＣＨ２ＯでありＲ２がアルキル基である場合が好ましく、より好ましくはＲ１が酸素原子でありＲ２がアルキル基である場合である。
量子ドットの含有比率を向上させ、かつ相溶性を確保する観点から、一般式（１）で示される化合物の分子量は８０～４００であることが好ましく、より好ましくは１００～２５０である。
一般式（１）で示される化合物及びその他の化合物の具体例を下記表１～３に示す。
量子ドット（Ａ）は、一般式（１）で示される化合物に加えて、さらに別の公知リガンドで表面処理されていてもよい。また、一般式（１）で示される化合物以外の公知のリガンドで表面処理された、公知の量子ドットを併用してもよい。
＜インク組成物＞
本発明の量子ドットは、さらに溶剤（Ｂ）及び／又はバインダー成分（Ｃ）を含むことでインク組成物とすることができる。
本発明の量子ドットは、さらに溶剤（Ｂ）及び／又はバインダー成分（Ｃ）を含むことでインク組成物とすることができる。
＜溶剤（Ｂ）＞
溶剤（Ｂ）は有機溶剤であることが好ましく、インクジェットインクとして用いる場合は、主に、後述のバインダー成分に対する溶解性、インクと接するプリンタ部材に対する膨潤作用、粘度、ノズルにおける乾燥性の観点から、最適なものを選択することができる。
有機溶剤は、アルコール系溶剤、グリコール系溶剤、エステル系溶剤及びケトン系溶剤からなる群から選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましい。これらは単独で、又は２種類以上を混合して使用することができる。
溶剤（Ｂ）は有機溶剤であることが好ましく、インクジェットインクとして用いる場合は、主に、後述のバインダー成分に対する溶解性、インクと接するプリンタ部材に対する膨潤作用、粘度、ノズルにおける乾燥性の観点から、最適なものを選択することができる。
有機溶剤は、アルコール系溶剤、グリコール系溶剤、エステル系溶剤及びケトン系溶剤からなる群から選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましい。これらは単独で、又は２種類以上を混合して使用することができる。
アルコール系溶剤としては、例えば、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ノナノール、デカノール、ウンデカノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、又はアミルアルコール等を挙げることができる。
グリコール系溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールイソプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、１－ブトキシエトキシプロパノール、又は１－メトキシ－２－プロピルアセテート等を挙げることができる。
エステル系溶剤としては、例えば、乳酸エチル、乳酸プロパン、又は乳酸ブチル等を挙げることができる。
ケトン系溶剤としては、例えば、シクロヘキサノン、エチルアミルケトン、ジアセトンアルコール、ジイソブチルケトン、イソホロン、メチルシクロヘキサノン、又はアセトフェノン等を挙げることができる。
溶剤（Ｂ）は、粘度、ノズルにおけるインキの乾燥性、含有成分に対する溶解性及び装置部材に対する膨潤作用の点から、下記一般式で表される溶剤（Ｓ－１）、溶剤（Ｓ－２）及びアセテート構造を２つ以上持つ溶剤（Ｓ－３）からなる群から選ばれる少なくとも１種であって、７６０ｍｍＨｇにおける沸点が１２０℃～２６０℃、好ましくは１７０℃以上の有機溶剤を含むことが好ましい。
溶剤（Ｓ－１）：
Ｒ１８－（Ｏ－Ｃ２Ｈ４）ｍ－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－ＣＨ３
［一般式中、Ｒ１８は炭素原子数１～８のアルキル基であり、Ｃ２Ｈ４は直鎖若しくは分岐エチレン鎖であり、１≦ｍ≦３である。］
溶剤（Ｓ－２）：
Ｒ１９－（Ｏ－Ｃ３Ｈ６）ｐ－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－ＣＨ３
［一般式中、Ｒ１９は炭素原子数１～８のアルキル基であり、Ｃ３Ｈ６は直鎖若しくは分岐プロピレン鎖であり、１≦ｐ≦３である。］
溶剤（Ｓ－１）：
Ｒ１８－（Ｏ－Ｃ２Ｈ４）ｍ－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－ＣＨ３
［一般式中、Ｒ１８は炭素原子数１～８のアルキル基であり、Ｃ２Ｈ４は直鎖若しくは分岐エチレン鎖であり、１≦ｍ≦３である。］
溶剤（Ｓ－２）：
Ｒ１９－（Ｏ－Ｃ３Ｈ６）ｐ－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－ＣＨ３
［一般式中、Ｒ１９は炭素原子数１～８のアルキル基であり、Ｃ３Ｈ６は直鎖若しくは分岐プロピレン鎖であり、１≦ｐ≦３である。］
溶剤（Ｓ－１）～（Ｓ－３）の具体例としては、例えばプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールジアセテート、１，３－ブチレングリコールジアセテート、１，６－ヘキサンジオールジアセテート、トリアセチン等を挙げることができるが、これに限定されるものではない。中でも、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート又はジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテートが、吐出安定性の点から好ましい。
また、溶剤（Ｂ）全量に対して、７６０ｍｍＨｇでの沸点が１７０℃以上の有機溶剤を６０質量％以上含むことが吐出安定性やノズルにおけるインキの乾燥性の点から好ましい。
溶剤（Ｂ）のＳＰ値は、好ましくは８～１３である。本発明におけるＳＰ値は、分子構造から計算するＦｅｄｏｒｓの推算法によって算出することができる。
＜バインダー成分（Ｃ）＞
バインダー成分（Ｃ）としては、樹脂（Ｃ１）又は重合性化合物（Ｃ２）を用いることができる。
バインダー成分（Ｃ）としては、樹脂（Ｃ１）又は重合性化合物（Ｃ２）を用いることができる。
［樹脂（Ｃ１）］
樹脂としては、熱硬化性樹脂又は熱可塑性樹脂いずれも用いることができ、例えば、石油系樹脂、マレイン酸樹脂、ニトロセルロース、セルロースアセテートブチレート、環化ゴム、塩化ゴム、アルキド樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、アミノ樹脂、ビニル樹脂、ブチラール樹脂、直鎖オレフィン樹脂、芳香族ポリエーテル樹脂、ポリイミド樹脂、フルオレンポリカーボネート樹脂、フルオレンポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド（アラミド）樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリパラフェニレン樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）樹脂、フッ素化芳香族ポリマー樹脂、エポキシ樹脂、アリルエステル硬化型樹脂又はシルセスキオキサン紫外線硬化樹脂等が挙げられる。
当該樹脂は、塗工、印刷方式や基材により適時選択することができる。中でもアクリル樹脂が処理剤との親和性の観点で好ましい。
樹脂としては、熱硬化性樹脂又は熱可塑性樹脂いずれも用いることができ、例えば、石油系樹脂、マレイン酸樹脂、ニトロセルロース、セルロースアセテートブチレート、環化ゴム、塩化ゴム、アルキド樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、アミノ樹脂、ビニル樹脂、ブチラール樹脂、直鎖オレフィン樹脂、芳香族ポリエーテル樹脂、ポリイミド樹脂、フルオレンポリカーボネート樹脂、フルオレンポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド（アラミド）樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリパラフェニレン樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）樹脂、フッ素化芳香族ポリマー樹脂、エポキシ樹脂、アリルエステル硬化型樹脂又はシルセスキオキサン紫外線硬化樹脂等が挙げられる。
当該樹脂は、塗工、印刷方式や基材により適時選択することができる。中でもアクリル樹脂が処理剤との親和性の観点で好ましい。
樹脂として具体的には、三菱レイヨン社製のＢＲ－５０、ＢＲ－５２、ＭＢ－２５３９、ＢＲ－６０、ＢＲ－６４、ＢＲ－７３、ＢＲ－７５、ＭＢ－２３８９、ＢＲ－８０、ＢＲ－８２、ＢＲ－８３、ＢＲ－８４、ＢＲ－８５、ＢＲ－８７、ＢＲ－８８、ＢＲ－９０、ＢＲ－９５、ＢＲ－９６、ＢＲ－１００、ＢＲ－１０１、ＢＲ－１０２、ＢＲ－１０５、ＢＲ－１０６、ＢＲ－１０７、ＢＲ－１０８、ＢＲ－１１０、ＢＲ－１１３、ＭＢ－２６６０、ＭＢ－２９５２、ＭＢ－３０１２、ＭＢ－３０１５、ＭＢ－７０３３、ＢＲ－１１５、ＭＢ－２４７８、ＢＲ－１１６、ＢＲ－１１７、ＢＲ－１１８、ＢＲ－１２２、ＥＲ－５０２、ウィルバ－・エリス社製のＡ－１１、Ａ－１２、Ａ－１４、Ａ－２１、Ｂ－３８、Ｂ－６０、Ｂ－６４、Ｂ－６６、Ｂ－７２、Ｂ－８２、Ｂ－４４、Ｂ－４８Ｎ、Ｂ－６７、Ｂ－９９Ｎ、ＤＭ－５５、ＢＡＳＦ社製のＪＯＮＣＲＹＬ６７、ＪＯＮＣＲＹＬ６７８、ＪＯＮＣＲＹＬ５８６、ＪＯＮＣＲＹＬ６１１、ＪＯＮＣＲＹＬ６８０、ＪＯＮＣＲＹＬ６８２、ＪＯＮＣＲＹＬ６８３、ＪＯＮＣＲＹＬ６９０、ＪＯＮＣＲＹＬ８１９、ＪＯＮＣＲＹＬ ＪＤＸ－Ｃ３０００、ＪＯＮＣＲＹＬ ＪＤＸ－Ｃ３０８０、日信化学工業製のソルバイン樹脂ＣＬ、ＣＮＬ、Ｃ５Ｒ、ＴＡ３、ＴＡ５Ｒ、ワッカー社製のビニル樹脂Ｅ１５／４５、Ｈ１４／３６、Ｈ４０／４３、Ｅ１５／４５Ｍ、Ｅ１５／４０Ｍ、荒川化学社製のスーパーエステル７５、エステルガムＨＰ、マルキッド３３、安原社製のＹＳポリスタ－ Ｔ８０、三井化学社製のＨｉｒｅｔｔｓ ＨＲＴ２００Ｘ、サートマー社製ＳＭＡ２６２５Ｐ、東洋紡製のバイロンシリーズ、ＤＩＣ製のポリライトシリーズ、宇部興産製のポリエステルポリオールシリーズ、東ソー製のニッポランシリーズ、ＡＤＥＫＡ製のアデカニューエースシリーズ、アデカポリエーテルシリーズ、ＡＧＣ製エクセノールシリーズ、第一工業製薬製のポリハードナー、ＤＫフレックス、ＤＫポリオール、ハードマスター、三洋化成製のプライムポールシリーズ、大成ファインケミカル製６０００シリーズ、三菱化学製のｊＥＲ８２８、ｊＥＲ８２５、ｊＥＲ８３４、ｊＥＲ１００１、ｊＥＲ１００２、ｊＥＲ１００９、ｊＥＲ１０１０、ｊＥＲ８０６、ｊＥＲ８０７、ｊＥＲ４００５Ｐ、ｊＥＲ４００７Ｐ、ｊＥＲ４０１０Ｐ、ｊＥＲ１２５６、ｊＥＲ１５２、ｊＥＲ１５４、ｊＥＲ１５７Ｓ７０、１０３１Ｓ、カネカのゼムラック等が挙げられる。
以上の樹脂は、単独で用いられてもよいし、２種以上併用されてもよい。
以上の樹脂は、単独で用いられてもよいし、２種以上併用されてもよい。
樹脂の質量平均分子量（Ｍｗ）は１,０００～５０,０００であることが好ましく、インクジェットヘッドからインク組成物を安定に吐出するために３,０００～４５,０００であることが特に好ましい。質量平均分子量が１,０００以上であると、印刷物の塗膜耐性が十分となり、質量平均分子量が５０,０００以下であると、インクジェットヘッド詰まりが起こり難く吐出性が良好となる。質量平均分子量Ｍｗはゲルパーミッションクロマトグラフィーによりスチレン換算分子量として求めることができる。
［硬化剤］
バインダー成分（Ｂ）が樹脂を含む場合、硬化剤を併用してもよい。硬化剤を併用する場合、硬化剤はバインダー成分に含まれる。
硬化剤としては、樹脂中の官能基と反応して分子間に架橋を形成するものが挙げられ、例えば、アミン化合物、イソシアネート化合物、ポリオール化合物、カルボン酸化合物、アクリレート系モノマー、カルボジイミド化合物、エポキシ化合物、オキセタン化合物、フェノール化合物、ベンゾオキサジン化合物、及びシランカップリング剤からなる群から選ばれる化合物１種若しくは２種以上を用いることができる。
バインダー成分（Ｂ）が樹脂を含む場合、硬化剤を併用してもよい。硬化剤を併用する場合、硬化剤はバインダー成分に含まれる。
硬化剤としては、樹脂中の官能基と反応して分子間に架橋を形成するものが挙げられ、例えば、アミン化合物、イソシアネート化合物、ポリオール化合物、カルボン酸化合物、アクリレート系モノマー、カルボジイミド化合物、エポキシ化合物、オキセタン化合物、フェノール化合物、ベンゾオキサジン化合物、及びシランカップリング剤からなる群から選ばれる化合物１種若しくは２種以上を用いることができる。
また、形成される架橋系としては、アミノ基－エポキシ架橋系、ウレタン結合架橋系、アルコキシシラン架橋系、エステル基架橋系又はこれらを２種以上組み合わせた複合架橋系が好適に用いられる。
アミノ基－エポキシ架橋系の具体例としては、２官能以上のアミン化合物及び２官能以上のエポキシ化合物の組み合わせとして、例えば、エポキシ樹脂と２官能以上のアミン化合物とが挙げられる。ウレタン結合架橋系の具体例としては、ポリオール化合物とポリイソシアネート化合物との組み合わせとして、例えば、ポリオール樹脂と２官能以上のイソシアネート化合物とが挙げられる。アルコキシシラン架橋系の具体例としては、アルコキシシリル基ペンダントアクリル樹脂の湿気硬化系が挙げられる。エステル基架橋系の具体例としては、カルボキシル基ペンダントアクリル化合物やカルボキシル基ペンダントポリエステルと、２官能以上のエポキシ化合物との組み合わせが挙げられ、例えば、エポキシ樹脂と２官能以上のカルボキシル基ペンダント化合物とが挙げられる。
２官能以上のアミン化合物としては、例えば、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ジプロピレンジアミン又はジエチルアミノプロピルアミン等の鎖状脂肪族ポリアミン；Ｎ－アミノエチルピペラジン、ジ（４－アミノ－３－メチルシクロヘキシル）メタン、Ａｒａｌｄｉｔ ＨＹ－９６４、メンセンジアミン、イソホロンジアミン、Ｓ Ｃｕｒｅ２１１、Ｓ Ｃｕｒｅ２１２、ジ（４－アミノシクロヘキシル）メタン又は１，３－アミノメチレンシクロヘキサン等の環状脂肪族ポリアミン；キシレンジアミン、キシリレンジアミン、キシリレンジアミン三量体、キシリレンジアミン誘導体、キシリレン誘導体等の脂肪族芳香族アミン；メラミン、ベンゾグアナミン、メタフェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン又はジアミノジフェニルスルフォン等の芳香族アミン；が挙げられる。これらは１種、あるいは２種以上組み合わせて使うことができる。
イソシアネート化合物の市販品として、例えば、ＤＩＣ社製バーノックシリーズ、三井化学製タケネートシリーズ、東ソー製コロネートシリーズ、ミリオネートシリーズ等が挙げられる。
カルボキシル基ペンダントアクリル化合物としては、例えば、（メタ）アクリル酸と共重合可能な（メタ）アクリル系モノマーとの共重合体が挙げられる。
カルボキシル基ペンダントポリエステルとしては、例えば、酸無水物基を２つ有する化合物とジオールとの付加反応物が挙げられる。前記酸無水物基を２つ有する化合物としては、例えば、エチレングリコールビスアンヒドロトリメリテート、グリセリンビスアンヒドロトリメリテートモノアセテート、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ピロメリット酸無水物、４，４‘－ビフタル酸無水物等が挙げられ、ジオールとしてはエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、オクタンジオール、ネオペンチルグリコール、シクロヘキサンジオール、シクロペンタンジオール等が挙げられ、公知のポリエステル合成法に従って合成することができる。
カルボキシル基ペンダントポリエステルとしては、例えば、酸無水物基を２つ有する化合物とジオールとの付加反応物が挙げられる。前記酸無水物基を２つ有する化合物としては、例えば、エチレングリコールビスアンヒドロトリメリテート、グリセリンビスアンヒドロトリメリテートモノアセテート、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ピロメリット酸無水物、４，４‘－ビフタル酸無水物等が挙げられ、ジオールとしてはエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、オクタンジオール、ネオペンチルグリコール、シクロヘキサンジオール、シクロペンタンジオール等が挙げられ、公知のポリエステル合成法に従って合成することができる。
［重合性化合物（Ｃ２）］
重合性化合物としては、光の照射又は熱によって重合する重合性モノマーを用いることができ、好ましくは光重合性モノマーである。使用できる光重合性モノマーとしては特に制限されず、光ラジカル重合性モノマー又は光カチオン重合性モノマーであってもよく、単官能モノマー、多官能モノマーを各々単独で用いてもよいし、併用してもよい。
重合性化合物としては、光の照射又は熱によって重合する重合性モノマーを用いることができ、好ましくは光重合性モノマーである。使用できる光重合性モノマーとしては特に制限されず、光ラジカル重合性モノマー又は光カチオン重合性モノマーであってもよく、単官能モノマー、多官能モノマーを各々単独で用いてもよいし、併用してもよい。
（光ラジカル重合性モノマー）
光ラジカル重合性モノマーの具体例としては、単官能モノマーとしてベンジル（メタ）アクリレート、（エトキシ（又はプロポキシ）化）２－フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（オキシエチル）（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、２－メトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２－エトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、β－カルボキシルエチル（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンフォルマル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボロニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、１，４－シクロヘキサンジメタノール（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、アクリルアミド（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、Ｎ－ビニルカプロラクタム、Ｎ－ビニルピロリドン、Ｎ－ビニルホルムアミド、Ｎ－アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、エステルアクリレート、メチロール化メラミンの（メタ）アクリル酸エステル、エポキシ （メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ウレタンアクリレート等の各種アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸、スチレン、酢酸ビニル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ビニルホルムアミド、アクリロニトリル等が挙げられる。
光ラジカル重合性モノマーの具体例としては、単官能モノマーとしてベンジル（メタ）アクリレート、（エトキシ（又はプロポキシ）化）２－フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（オキシエチル）（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、２－メトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２－エトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、β－カルボキシルエチル（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンフォルマル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボロニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、１，４－シクロヘキサンジメタノール（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、アクリルアミド（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、Ｎ－ビニルカプロラクタム、Ｎ－ビニルピロリドン、Ｎ－ビニルホルムアミド、Ｎ－アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、エステルアクリレート、メチロール化メラミンの（メタ）アクリル酸エステル、エポキシ （メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ウレタンアクリレート等の各種アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸、スチレン、酢酸ビニル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ビニルホルムアミド、アクリロニトリル等が挙げられる。
また、光ラジカル重合性の多官能モノマーとしては、ジメチロールトリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、（エトキシ（又はプロポキシ）化）ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、（ポリ）エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、（エトキシ（又はプロポキシ）化）１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、（エトキシ（又はプロポキシ）化）ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、（ネオペンチルグリコール変性）トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（又はテトラ） （メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（又はテトラ） （メタ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ（又はテトラ） （メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル等が挙げられる。
（光カチオン重合性モノマー）
光カチオン重合性モノマーの具体例としては、単官能モノマーとして、グリシジルメタクリレート、２－エチルヘキシルオキセタン、３－ヒドロキシメチル－３－メチルオキセタン、３－ヒドロキシメチル－３－エチルオキセタン、３－ヒドロキシメチル－３－プロピルオキセタン、３－ヒドロキシメチル－３－ノルマルブチルオキセタン、３－ヒドロキシメチル－３－フェニルオキセタン、３－ヒドロキシメチル－３－ベンジルオキセタン、３－ヒドロキシエチルー３－メチルオキセタン、３－ヒドロキシエチル－３－エチルオキセタン、３－ヒドロキシエチル－３－プロピルオキセタン、３－ヒドロキシエチル－３－フェニルオキセタン、３－ヒドロキシプロピル－３－エチルオキセタン、３－ヒドロキシプロピル－３－プロピルオキセタン、３－ヒドロキシプロピル－３－フェニルオキセタン、３－ヒドロキシブチル－３－メチルオキセタン等が挙げられる。
光カチオン重合性モノマーの具体例としては、単官能モノマーとして、グリシジルメタクリレート、２－エチルヘキシルオキセタン、３－ヒドロキシメチル－３－メチルオキセタン、３－ヒドロキシメチル－３－エチルオキセタン、３－ヒドロキシメチル－３－プロピルオキセタン、３－ヒドロキシメチル－３－ノルマルブチルオキセタン、３－ヒドロキシメチル－３－フェニルオキセタン、３－ヒドロキシメチル－３－ベンジルオキセタン、３－ヒドロキシエチルー３－メチルオキセタン、３－ヒドロキシエチル－３－エチルオキセタン、３－ヒドロキシエチル－３－プロピルオキセタン、３－ヒドロキシエチル－３－フェニルオキセタン、３－ヒドロキシプロピル－３－エチルオキセタン、３－ヒドロキシプロピル－３－プロピルオキセタン、３－ヒドロキシプロピル－３－フェニルオキセタン、３－ヒドロキシブチル－３－メチルオキセタン等が挙げられる。
また、光カチオン重合性の多官能モノマーとしては、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物、ビスフェノールＦ型エポキシ化合物、フェノールノボラック型エポキシ化合物、トリメチロールプロパングリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，２－エポキシ－４－ビニルシクロヘキサン、１－メチル－４－（２－メチルオキシラニル）－７－オキサビシクロ[４．１．０]へプタン、キシリレンビスオキセタン、３－エチル－３｛［（３ －エチルオキセタン－３－イル）メトキシ］メチル｝オキセタン等が挙げられる。
重合性化合物（Ｃ２）の含有量は、硬化性の観点からインク組成物の固形分全量に対し、好ましくは５～８０質量％である。
［重合開始剤］
バインダー成分（Ｂ）が重合性化合物を含む場合、重合開始剤を併用することが好ましい。重合開始剤としては、光重合開始剤又は熱重合開始剤が挙げられ、１種を単独で又は必要に応じて任意の比率で２種以上混合して用いることができる。なお、重合開始剤を併用する場合、重合開始剤はバインダー成分とみなす。
バインダー成分（Ｂ）が重合性化合物を含む場合、重合開始剤を併用することが好ましい。重合開始剤としては、光重合開始剤又は熱重合開始剤が挙げられ、１種を単独で又は必要に応じて任意の比率で２種以上混合して用いることができる。なお、重合開始剤を併用する場合、重合開始剤はバインダー成分とみなす。
バインダー成分（Ｂ）が光重合性化合物を含む場合、光重合開始剤を併用することが好ましい。光重合開始剤は、光ラジカル重合開始剤であっても光カチオン重合開始剤であってもよく、その種類は制限されない。光重合開始剤を含むことでインク組成物から形成されるインク層を紫外線照射により硬化させることができる。
（光ラジカル重合開始剤）
光ラジカル重合開始剤としては、４－フェノキシジクロロアセトフェノン、４－ｔ－ブチル－ジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、１－（４－イソプロピルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルフォリノプロパン－１－オン、２－（ジメチルアミノ）－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－［４－（４－モルフォリニル）フェニル］－１－ブタノン、又は２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタン－１－オン等のアセトフェノン系化合物；ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、又はベンジルジメチルケタール等のベンゾイン系化合物；ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４－フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、４－ベンゾイル－４’－メチルジフェニルサルファイド、又は３，３’，４，４’－テトラ（ｔ－ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物；チオキサントン、２－クロルチオキサントン、２－メチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４－ジイソプロピルチオキサントン、又は２，４－ジエチルチオキサントン等のチオキサントン系化合物；２，４，６－トリクロロ－ｓ－トリアジン、２－フェニル－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（ｐ－メトキシフェニル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（ｐ－トリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－ピペロニル－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－スチリル－ｓ－トリアジン、２－（ナフト－１－イル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（４－メトキシ－ナフト－１－イル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２，４－トリクロロメチル－（ピペロニル）－６－トリアジン、又は２，４－トリクロロメチル－（４’－メトキシスチリル）－６－トリアジン等のトリアジン系化合物；１，２－オクタンジオン，１－〔４－（フェニルチオ）フェニル－，２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）〕、又はエタノン，１－〔９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル〕－，１－（Ｏ－アセチルオキシム）等のオキシムエステル系化合物；ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、又は２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等のホスフィン系化合物；９，１０－フェナンスレンキノン、カンファーキノン、エチルアントラキノン等のキノン系化合物；ボレート系化合物；カルバゾール系化合物；イミダゾール系化合物；あるいは、チタノセン系化合物等が挙げられる。
光ラジカル重合開始剤としては、４－フェノキシジクロロアセトフェノン、４－ｔ－ブチル－ジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、１－（４－イソプロピルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルフォリノプロパン－１－オン、２－（ジメチルアミノ）－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－［４－（４－モルフォリニル）フェニル］－１－ブタノン、又は２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタン－１－オン等のアセトフェノン系化合物；ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、又はベンジルジメチルケタール等のベンゾイン系化合物；ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４－フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、４－ベンゾイル－４’－メチルジフェニルサルファイド、又は３，３’，４，４’－テトラ（ｔ－ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物；チオキサントン、２－クロルチオキサントン、２－メチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４－ジイソプロピルチオキサントン、又は２，４－ジエチルチオキサントン等のチオキサントン系化合物；２，４，６－トリクロロ－ｓ－トリアジン、２－フェニル－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（ｐ－メトキシフェニル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（ｐ－トリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－ピペロニル－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－スチリル－ｓ－トリアジン、２－（ナフト－１－イル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（４－メトキシ－ナフト－１－イル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２，４－トリクロロメチル－（ピペロニル）－６－トリアジン、又は２，４－トリクロロメチル－（４’－メトキシスチリル）－６－トリアジン等のトリアジン系化合物；１，２－オクタンジオン，１－〔４－（フェニルチオ）フェニル－，２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）〕、又はエタノン，１－〔９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル〕－，１－（Ｏ－アセチルオキシム）等のオキシムエステル系化合物；ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、又は２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等のホスフィン系化合物；９，１０－フェナンスレンキノン、カンファーキノン、エチルアントラキノン等のキノン系化合物；ボレート系化合物；カルバゾール系化合物；イミダゾール系化合物；あるいは、チタノセン系化合物等が挙げられる。
アセトフェノン系化合物の市販品としては、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ.Ｖ.社製の「Ｏｍｎｉｒａｄ ９０７」（２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルフォリノプロパン－１－オン）、「Ｏｍｎｉｒａｄ ３６９」（２－（ジメチルアミノ）－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－［４－（４－モルフォリニル）フェニル］－１－ブタノン）、「Ｏｍｎｉｒａｄ ３７９」２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタン－１－オン等が挙げられる。
また、ホスフィン系化合物の市販品としては、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ.Ｖ.社製の「Ｏｍｎｉｒａｄ ８１９」（ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド）、「Ｏｍｎｉｒａｄ ＴＰＯ Ｈ」（２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド）等が挙げられる。
また、ホスフィン系化合物の市販品としては、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ.Ｖ.社製の「Ｏｍｎｉｒａｄ ８１９」（ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド）、「Ｏｍｎｉｒａｄ ＴＰＯ Ｈ」（２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド）等が挙げられる。
（光カチオン重合開始剤）
光カチオン重合開始剤としては、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスファート、４－イソプロピル－４'－メチルジフェニルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボラート等のヨードニウム塩、トリ－p－トリルスルホニウムヘキサフルオロホスファート、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボラート等のスルフォニウム塩が挙げられる。
光カチオン重合開始剤としては、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスファート、４－イソプロピル－４'－メチルジフェニルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボラート等のヨードニウム塩、トリ－p－トリルスルホニウムヘキサフルオロホスファート、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボラート等のスルフォニウム塩が挙げられる。
ヨードニウム塩系化合物の市販品としては、富士フィルム和光純薬社製の「ＷＰＩ－１１３」（ビス[４－（アルキルＣ１０～Ｃ１３）フェニル]ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート）、「ＷＰＩ－１１６」（ビス[４－（アルキルＣ１０～Ｃ１３）フェニル]ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート）、「ＷＰＩ－１６９」（ビス[４－ターシャリーブチルフェニル]ヨードニウムビスペルフルオロブタンスルフォニルイミド）、「ＷＰＩ－１７０」ビス[４－ターシャリーブチルフェニル]ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート）、「ＷＰＩ－１２４」（ビス[４－（アルキルＣ１０～Ｃ１３）フェニル]ヨードニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート）等が挙げられる。
スルフォニウム塩系化合物の市販品としては、サンアプロ株式会社製のＣＰＩ－１００Ｐ（トリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスファート）、ＣＰＩ－１０１Ａ（トリアリールスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート）、ＣＰＩ－３１０ＢＰ（トリアリールスルホニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート）、ＢＡＳＦ株式会社製の「Ｉｒｇａｃｕｒｅ２９０」（テトラキスペンタフルオロフェニルボレート）等が挙げられる。
スルフォニウム塩系化合物の市販品としては、サンアプロ株式会社製のＣＰＩ－１００Ｐ（トリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスファート）、ＣＰＩ－１０１Ａ（トリアリールスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート）、ＣＰＩ－３１０ＢＰ（トリアリールスルホニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート）、ＢＡＳＦ株式会社製の「Ｉｒｇａｃｕｒｅ２９０」（テトラキスペンタフルオロフェニルボレート）等が挙げられる。
光重合開始剤は、１種を単独で、又は必要に応じて任意の比率で２種以上混合して用いてもよい。
熱重合開始剤としては、例えば、熱ラジカル重合開始剤、熱カチオン重合開始剤、熱アニオン重合開始剤又はこれらの混合物が挙げられる。
熱ラジカル重合開始剤としては、例えば、過酸化物やアゾ化合物等が挙げられ、高分子アゾ化合物からなる高分子アゾ開始剤を用いることもできる。
高分子アゾ開始剤としては、例えば、アゾ基を介してポリアルキレンオキサイドやポリジメチルシロキサン等のユニットが複数結合した構造を有するものが挙げられる。上記アゾ基を介してポリアルキレンオキサイド等のユニットが複数結合した構造を有する高分子アゾ開始剤としては、例えば、４，４'－アゾビス（４－シアノペンタン酸）とポリアルキレングリコールの重縮合物や、４，４'－アゾビス（４－シアノペンタン酸）と末端アミノ基を有するポリジメチルシロキサンの重縮合物等が挙げられる。
また、過酸化物としては、例えば、ケトンパーオキサイド、パーオキシケタール、ハイドロパーオキサイド、ジアルキルパーオキサイド、パーオキシエステル、ジアシルパーオキサイド、パーオキシジカーボネート等が挙げられる。
高分子アゾ開始剤としては、例えば、アゾ基を介してポリアルキレンオキサイドやポリジメチルシロキサン等のユニットが複数結合した構造を有するものが挙げられる。上記アゾ基を介してポリアルキレンオキサイド等のユニットが複数結合した構造を有する高分子アゾ開始剤としては、例えば、４，４'－アゾビス（４－シアノペンタン酸）とポリアルキレングリコールの重縮合物や、４，４'－アゾビス（４－シアノペンタン酸）と末端アミノ基を有するポリジメチルシロキサンの重縮合物等が挙げられる。
また、過酸化物としては、例えば、ケトンパーオキサイド、パーオキシケタール、ハイドロパーオキサイド、ジアルキルパーオキサイド、パーオキシエステル、ジアシルパーオキサイド、パーオキシジカーボネート等が挙げられる。
熱ラジカル重合開始剤の市販品としては、例えば、パーブチルＯ、パーヘキシルＯ、パーブチルＰＶ（いずれも日油社製）、Ｖ－３０、Ｖ－５０１、Ｖ－６０１、ＶＰＥ－０２０１、ＶＰＥ－０４０１、ＶＰＥ－０６０１（いずれも和光純薬工業社製）等が挙げられる。
熱カチオン重合開始剤としては、例えば、第四級アンモニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩等の各種オニウム塩類等が挙げられる。上記熱カチオン重合開始剤の市販品としては、例えば、アデカオプトンＣＰ－６６、アデカオプトンＣＰ－７７（いずれもＡＤＥＫＡ社製）、サンエイドＳＩ－６０Ｌ、サンエイドＳＩ－８０Ｌ、サンエイドＳＩ－１００Ｌ（いずれも三新化学工業社製）、ＣＩシリーズ（日本曹達社製）等が挙げられる。
＜光散乱粒子（Ｄ）＞
本発明のインク組成物は、光散乱粒子（Ｄ）を含有することができる。光散乱粒子（Ｄ）により光変換層内で光を散乱させることにより量子ドットの光吸収を増大させることができる。光散乱粒子としては、無機光散乱粒子（Ｄ１）又は有機光散乱粒子（Ｄ２）が挙げられる。
本発明のインク組成物は、光散乱粒子（Ｄ）を含有することができる。光散乱粒子（Ｄ）により光変換層内で光を散乱させることにより量子ドットの光吸収を増大させることができる。光散乱粒子としては、無機光散乱粒子（Ｄ１）又は有機光散乱粒子（Ｄ２）が挙げられる。
＜無機光散乱粒子（Ｄ１）＞
無機光散乱粒子（Ｄ１）としては、金属酸化物粒子を好適に用いることができる。
金属酸化物粒子としては、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化セリウム（ＣｅＯ２）、酸化ハフニウム（ＨｆＯ２）、五酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、五酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ２）、酸化スズ（Ｓｎ２Ｏ２）、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、及び酸化亜鉛（ＺｎＯ）からなる群から選択された少なくとも１種の材料からなる粒子が挙げられる。中でも酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）の粒子が好ましく、酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子が、透光性、分散性、耐候性、及び耐光性の観点から特に好ましい。
無機光散乱粒子（Ｄ１）としては、金属酸化物粒子を好適に用いることができる。
金属酸化物粒子としては、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化セリウム（ＣｅＯ２）、酸化ハフニウム（ＨｆＯ２）、五酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、五酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ２）、酸化スズ（Ｓｎ２Ｏ２）、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、及び酸化亜鉛（ＺｎＯ）からなる群から選択された少なくとも１種の材料からなる粒子が挙げられる。中でも酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）の粒子が好ましく、酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子が、透光性、分散性、耐候性、及び耐光性の観点から特に好ましい。
前記酸化チタンは特に制限がなく、あらかじめ表面処理された酸化チタン（ＴｉＯ２）を使用してもよい。表面処理を行うことで分散の安定化や耐候性を向上させることができる。表面処理法や表面処理剤は、公知のものを任意に用いることができる。
酸化チタンの具体例としては、石原産業社製「タイペークＣＲ－５０、５０－２、５７、８０、９０、９３、９５、９５３、９７、６０、６０－２、６３、６７、５８、５８－２、８５」「タイペークＲ－８２０，８３０、９３０、５５０、６３０、６８０、６７０、５８０、７８０、７８０－２、８５０、８５５」「タイペークＡ－１００、２２０」「タイペークＷ－１０」「タイペークＰＦ－７４０、７４４」「ＴＴＯ－５５（Ａ）、５５（Ｂ）、５５（Ｃ）、５５（Ｄ）、５５（Ｓ）、５５（Ｎ）、５１（Ａ）、５１（Ｃ）」「ＴＴＯ－Ｓ－１、２」「ＴＴＯ－Ｍ－１、２」、テイカ社製「チタニックスＪＲ－３０１、４０３、４０５、６００Ａ、６０５、６００Ｅ、６０３、８０５、８０６、７０１、８００、８０８」「チタニックスＪＡ－１、Ｃ、３、４、５」、「チタニックスＭＴ－０１、１０ＥＸ、０５、１００Ｓ、１００ＴＶ、１００Ｚ、１５０ＥＸ、１５０Ｗ、１００ＡＱ、１００ＷＰ、１００ＳＡ、１００ＨＤ、３００ＨＤ、５００ＨＤ、５００Ｂ、５００ＳＡ、５００ＳＡＳ、６００Ｂ、６００ＳＡ、７００Ｂ、７００ＨＤ、ＭＴＹ－０２、１１０Ｍ３Ｓ、７００ＢＳ、ＪＭＴ－１５０ＩＢ、１５０ＡＯ、１５０ＦＩ、１５０ＡＮＯ」、デュポン社製「タイピュアＲ－９００、９０２、９６０、７０６、９３１」等が挙げられる。
インク組成物の再分散性の観点から、金属酸化物微粒子間は、強い凝集がないことが好ましい。そのため、金属酸化物微粒子の平均一次粒子径は１００ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは３０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。上記範囲とすることで、粒子間の凝集を防ぐことができ、再分散性に優れたインク組成物を提供することができる。
＜有機光散乱粒子（Ｄ２）＞
有機光散乱粒子（Ｄ２）は有機成分からなる微粒子であり、その形状は特に制限されないが、バックライト等の光散乱効果の観点から球状であることが好ましい。球状の有機光散乱粒子を使用することで、バックライトが散乱されて量子ドット（Ａ）が十分に励起され、インク組成物から得られる印刷物の発光効率をより高めることができる。
有機光散乱粒子（Ｄ２）は有機成分からなる微粒子であり、その形状は特に制限されないが、バックライト等の光散乱効果の観点から球状であることが好ましい。球状の有機光散乱粒子を使用することで、バックライトが散乱されて量子ドット（Ａ）が十分に励起され、インク組成物から得られる印刷物の発光効率をより高めることができる。
有機微粒子としては、例えば、シリコーン系微粒子、メラミン系樹脂微粒子、メラミンーベンゾグアナミン系樹脂微粒子、アクリル系樹脂微粒子（例えば、ポリメチルメタクリレート系微粒子（以下、ＰＭＭＡ系微粒子という）、アクリル－スチレン系共重合体微粒子、ポリカーボネート系微粒子、ポリエチレン系微粒子、ポリスチレン系微粒子、ベンゾグアナミン系樹脂微粒子等が挙げられる。これらは単独で使用しても良いし、２種類以上併用して使用しても良い。
シリコーン系微粒子の具体例としては、ＫＭＰ－５９４、ＫＭＰ－５９７、ＫＭＰ－５９８、ＫＭＰ－６００、ＫＭＰ－６０１、ＫＭＰ－６０２（信越化学工業株式会社製）、トレフィルＥ－５０６Ｓ、ＥＰ－９２１５（東レ・ダウコーニング株式会社製）等が挙げられる。
メラミン系樹脂微粒子の具体例としては、エポスターＳＳ、エポスターＳ、エポスターＦＳ、エポスターＳ６、エポスターＳ１２（株式会社日本触媒製）等が挙げられる。
メラミンーベンゾグアナミン系樹脂微粒子の具体例としては、エポスターＭ３０（株式会社日本触媒製）が挙げられる。
メラミンーベンゾグアナミン系樹脂微粒子の具体例としては、エポスターＭ３０（株式会社日本触媒製）が挙げられる。
アクリル系樹脂微粒子の具体例としては、エポスターＭＡ１００２、エポスターＭＡ１００４、エポスターＭＡ１００６、エポスターＭＡ１０１０（株式会社日本触媒製）、タフチックＦＨ－Ｓ００５、タフチックＦＨ－Ｓ００８、タフチックＦＨ－Ｓ０１０、タフチックＦＨ－Ｓ０１５、タフチックＦＨ－Ｓ０２０（東洋紡株式会社製）、ケミスノーＭＸ－８０Ｈ３ｗＴ、ＭＸ－１５０、ＭＸ－１８０ＴＡ、ＭＸ－３００、ＭＸ－５００、ＭＸ－１０００、ＭＸ－１５００Ｈ、ＭＸ－２０００、ＭＸ－３０００（綜研化学株式会社製）等が挙げられる。
アクリル－スチレン系共重合体微粒子の具体例としてはエポスターＭＡ２００３（株式会社日本触媒社製）、ＦＳ－１０２、ＦＳ－２０１、ＦＳ－３０１、ＭＧ－４５１、ＭＧ－３５１、（日本ペイント・インダストリアルコーティングス株式会社製）等が挙げられる。
ポリカーボネート系微粒子の具体例としては、特開２０１４－１２５４９５号公報記載の微粒子、特開２０１１－２６４７１号公報記載の製造法によって得られる微粒子、特開２００１－２１３９７０号公報記載の方法によって得られる微粒子等が挙げられる。
ポリエチレン系微粒子の具体例としてはミペロンＸＭ－２２０、ＸＭ２２１Ｕ（三井化学株式会社製）、フロービーズＬＥ－１０８０（住友精化株式会社製）等が挙げられる。
ポリスチレン系微粒子の具体例としては、ケミスノーＳＸ－１３０Ｈ、ＳＸ－３５０Ｈ、ＳＸ－５００Ｈ（綜研化学株式会社製）等が挙げられる。
ポリスチレン系微粒子の具体例としては、ケミスノーＳＸ－１３０Ｈ、ＳＸ－３５０Ｈ、ＳＸ－５００Ｈ（綜研化学株式会社製）等が挙げられる。
ベンゾグアナミン系樹脂微粒子の具体例としては、エポスターＭＳ、エポスターＭ０５、エポスターＬ１５（株式会社日本触媒製）等が挙げられる。
また、有機光散乱粒子（Ｄ２）として、フッ素置換基を含有するアクリル系樹脂微粒子を用いることができる。このようなフッ素置換基含有アクリル系樹脂微粒子としては、例えば、フッ素置換基含有ポリメチルメタクリレート系微粒子、フッ素置換基含有アクリル－スチレン共重合体微粒子、フッ素置換基含有ポリカーボネート系微粒子、ポリフッ化ビニル微粒子等が挙げられる。フッ素を含有することで粒子間の凝集を防ぎ、一度沈降した後の再分散性が容易になる。更にフッ基を含有することで、量子ドット（Ａ）を含むバインダー成分より屈折率を下げることができ、散乱効果と併用して発光効率をより向上させることができるため好ましい。
有機光散乱粒子（Ｄ２）の平均粒子径は特に限定されないが、１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であることが好ましい。上記範囲にあることで、充分な散乱効果を発現できる。更に散乱強度（ヘイズ値）が小さくても散乱角度が広くなるため、全反射に有効な散乱が得られ、塗膜内部での散乱効果が高くなることで光効率が向上するため好ましい。有機光散乱粒子（Ｄ２）の平均粒子径及び粒度分布は、重合温度及び重合組成等の合成条件によって調整することができる。
光散乱粒子（Ｄ）は、インク組成物中での沈降を抑制する観点から分散体として用いることが好ましい。分散体は、光散乱粒子（Ｄ）の表面状態に合わせた分散剤を用いて分散して得ることができる。また、分散機、分散媒、分散時間又は分散剤等の条件を変更して、光散乱粒子（Ｄ）の平均粒子径及び粒度分布を調整することができる。
分散機としては、ペイントコンディショナー（レッドデビル社製）、ボールミル、サンドミル（シンマルエンタープライゼス社製「ダイノーミル」等）、アトライター、パールミル（アイリッヒ社製「ＤＣＰミル」等）、コボールミル、ホモミキサー、ホモジナイザー（エム・テクニック社製「クレアミックス」等）、湿式ジェットミル（ジーナス社製「ジーナスＰＹ」、ナノマイザー社製「ナノマイザー」）、微小ビーズミル（寿工業（株）社製「スーパーアペックミル」及び「ウルトラアペックミル」）等が使用できる。分散機にメディアを使う場合には、ガラスビーズ、ジルコニアビーズ、アルミナビーズ、磁性ビーズ又はポリスチレンビーズ等を用いることが好ましい。分散は、２種類以上の分散機又は大きさの異なる２種類以上のメディアをそれぞれ用いて段階的に実施してもよい。
分散機としては、ペイントコンディショナー（レッドデビル社製）、ボールミル、サンドミル（シンマルエンタープライゼス社製「ダイノーミル」等）、アトライター、パールミル（アイリッヒ社製「ＤＣＰミル」等）、コボールミル、ホモミキサー、ホモジナイザー（エム・テクニック社製「クレアミックス」等）、湿式ジェットミル（ジーナス社製「ジーナスＰＹ」、ナノマイザー社製「ナノマイザー」）、微小ビーズミル（寿工業（株）社製「スーパーアペックミル」及び「ウルトラアペックミル」）等が使用できる。分散機にメディアを使う場合には、ガラスビーズ、ジルコニアビーズ、アルミナビーズ、磁性ビーズ又はポリスチレンビーズ等を用いることが好ましい。分散は、２種類以上の分散機又は大きさの異なる２種類以上のメディアをそれぞれ用いて段階的に実施してもよい。
光散乱粒子（Ｄ）の含有量は、本発明のインク組成物全量に対し、２～２０質量％が好ましく、５～１２．５質量％がより好ましい。５質量％以上であると充分な散乱効果をにより高い発光効率となるため好ましい。１２．５質量％以下であると光散乱粒子同士の凝集が抑制されて塗膜表面のヘイズが上がらず、高い発光効率となるため好ましい。
インク組成物は、無機光散乱粒子（Ｄ１）及び有機光散乱粒子（Ｄ２）を両方含んでもよい。その場合、無機光散乱粒子（Ｄ１）に対する有機光散乱粒子（Ｄ２）の比率（（Ｄ２）／（Ｄ１））は、０．２以上４．５未満であることが好ましい。より好ましくは０．５以上４．０未満であり、特に好ましくは０．５以上１．０未満である。上記範囲にすることで、凝集体の沈降を抑制しつつ、沈降した場合でも再分散性にも優れるインク組成物を提供することができる。また、インク組成物から形成された印刷物についても高い外部量子効率を維持することができる。
本明細書において、「平均粒子径」及び「粒子径」とは、平均一次粒子径とは異なり、凝集による２次粒子の粒子径を加味した、インク組成物中での分散粒径のことである。これらは光学顕微鏡にて実測あるいは動的光散乱法によって求めることが出来る。ここで、平均一次粒子径と区別する理由は、同じ平均一次粒子径の散乱粒子を用いた場合であっても、インク組成物中での光散乱粒子（Ｄ）の分散状態により、平均粒子径及び粒度分布は異なる場合があるためである。「平均粒子径」は測定サンプルの５０体積％における分散粒径の値であり、粒子径が６００ｎｍ以上の粒子の含有量は、測定サンプルの分散粒径のうち、６００ｎｍ以上の粒子径の体積％である。これらは動的光散乱法では日機装（株）社製「ナノトラックＵＰＡ」で測定することができる。
＜その他成分＞
本発明のインク組成物は、インクジェットインクとして特にインクジェット方式に好適に用いられる。インク組成物には、印刷物への要求物性及び保存安定性の観点から、重合禁止剤、増感剤、添加剤等のその他成分を添加することができる。これらは単独で又は２種以上混合して用いることができる。
本発明のインク組成物は、インクジェットインクとして特にインクジェット方式に好適に用いられる。インク組成物には、印刷物への要求物性及び保存安定性の観点から、重合禁止剤、増感剤、添加剤等のその他成分を添加することができる。これらは単独で又は２種以上混合して用いることができる。
［重合禁止剤］
インク組成物は保存安定性を高めるため重合禁止剤を含んでもよい。重合禁止剤としては、例えば、４－メトキシフェノール、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、ｔ－ブチルハイドロキノン、２，５－ｔ－ブチル－４－メチルフェノール、フェノチアジン、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシルアミンのアルミニウム塩等が挙げられる。重合禁止剤の含有量は、硬化性を維持しつつ安定性を高める点から、インク組成物の固形分全量に対して０．０１～０．１質量％であることが好ましい。
インク組成物は保存安定性を高めるため重合禁止剤を含んでもよい。重合禁止剤としては、例えば、４－メトキシフェノール、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、ｔ－ブチルハイドロキノン、２，５－ｔ－ブチル－４－メチルフェノール、フェノチアジン、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシルアミンのアルミニウム塩等が挙げられる。重合禁止剤の含有量は、硬化性を維持しつつ安定性を高める点から、インク組成物の固形分全量に対して０．０１～０．１質量％であることが好ましい。
（増感剤）
インク組成物は、増感剤を含有してもよい。増感剤としては、カルコン誘導体、ジベンザルアセトン等に代表される不飽和ケトン類、ベンジルやカンファーキノン等に代表される１，２－ジケトン誘導体、ベンゾイン誘導体、フルオレン誘導体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン誘導体、キサンテン誘導体、チオキサンテン誘導体、キサントン誘導体、チオキサントン誘導体、クマリン誘導体、ケトクマリン誘導体、シアニン誘導体、メロシアニン誘導体、オキソノ－ル誘導体等のポリメチン色素、アクリジン誘導体、アジン誘導体、チアジン誘導体、オキサジン誘導体、インドリン誘導体、アズレン誘導体、アズレニウム誘導体、スクアリリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、テトラフェニルポルフィリン誘導体、トリアリールメタン誘導体、テトラベンゾポルフィリン誘導体、テトラピラジノポルフィラジン誘導体、フタロシアニン誘導体、テトラアザポルフィラジン誘導体、テトラキノキサリロポルフィラジン誘導体、ナフタロシアニン誘導体、サブフタロシアニン誘導体、ピリリウム誘導体、チオピリリウム誘導体、テトラフィリン誘導体、アヌレン誘導体、スピロピラン誘導体、スピロオキサジン誘導体、チオスピロピラン誘導体、金属アレーン錯体、有機ルテニウム錯体、又はミヒラーケトン誘導体、α－アシロキシエステル、アシルフォスフィンオキサイド、メチルフェニルグリオキシレート、ベンジル、９，１０－フェナンスレンキノン、カンファーキノン、エチルアンスラキノン、４，４’－ジエチルイソフタロフェノン、３，３’，又は４，４’－テトラ（ｔ－ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、４，４’－ジエチルアミノベンゾフェノン等が挙げられる。これらの増感剤は、１種を単独で、又は必要に応じて任意の比率で２種以上混合して用いることができる。
インク組成物は、増感剤を含有してもよい。増感剤としては、カルコン誘導体、ジベンザルアセトン等に代表される不飽和ケトン類、ベンジルやカンファーキノン等に代表される１，２－ジケトン誘導体、ベンゾイン誘導体、フルオレン誘導体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン誘導体、キサンテン誘導体、チオキサンテン誘導体、キサントン誘導体、チオキサントン誘導体、クマリン誘導体、ケトクマリン誘導体、シアニン誘導体、メロシアニン誘導体、オキソノ－ル誘導体等のポリメチン色素、アクリジン誘導体、アジン誘導体、チアジン誘導体、オキサジン誘導体、インドリン誘導体、アズレン誘導体、アズレニウム誘導体、スクアリリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、テトラフェニルポルフィリン誘導体、トリアリールメタン誘導体、テトラベンゾポルフィリン誘導体、テトラピラジノポルフィラジン誘導体、フタロシアニン誘導体、テトラアザポルフィラジン誘導体、テトラキノキサリロポルフィラジン誘導体、ナフタロシアニン誘導体、サブフタロシアニン誘導体、ピリリウム誘導体、チオピリリウム誘導体、テトラフィリン誘導体、アヌレン誘導体、スピロピラン誘導体、スピロオキサジン誘導体、チオスピロピラン誘導体、金属アレーン錯体、有機ルテニウム錯体、又はミヒラーケトン誘導体、α－アシロキシエステル、アシルフォスフィンオキサイド、メチルフェニルグリオキシレート、ベンジル、９，１０－フェナンスレンキノン、カンファーキノン、エチルアンスラキノン、４，４’－ジエチルイソフタロフェノン、３，３’，又は４，４’－テトラ（ｔ－ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、４，４’－ジエチルアミノベンゾフェノン等が挙げられる。これらの増感剤は、１種を単独で、又は必要に応じて任意の比率で２種以上混合して用いることができる。
また、本発明のインク組成物は、印刷適性や印刷物耐性を高めるため、表面調整剤、レベリング剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤等の添加剤を必要に応じて使用してもよい。
上記その他成分の含有量は、所望の量子ドット濃度によるが、量子ドット１質量部に対し、その他成分０～１００質量部であることが好ましい。１００質量部を超えると量子ドット含有率が低くなり、十分な蛍光強度が得られない場合がある。
本発明のインク組成物は、形成される塗工膜中での粒子の凝集による異物発生の抑制や平滑性を維持するために、分散後及び／また全成分配合後に、孔径５μｍ以下好ましくは３μｍ以下のフィルターでろ過することが好ましい。
本発明のインク組成物がインクジェット方式で用いられる場合、インクジェットインキの２５℃での粘度は２～１００ｍＰａ・ｓが好ましく、より好ましくは２～４０ｍＰａ・ｓであり、特に好ましくは４～２０ｍＰａ・ｓである。この粘度領域であれば、通常の４～１０ＫＨｚの周波数を有するヘッドから１０～５０ＫＨｚの高周波数のヘッドにおいても安定した吐出特性を示すことが可能となる。粘度が２ｍＰａ・ｓ以上である場合、高周波数のヘッドにおいて、吐出の追随性の低下が認められず好ましい。１００ｍＰａ・ｓ以下である場合、吐出性が良好であり、吐出安定性に優れることから好ましい。
インク組成物がインクジェット方式で用いられる場合、インクジェットインクの表面張力は、２０～４０ｍＮ／ｍが好ましく、２４～３５ｍＮ／ｍがより好ましい。２０ｍＮ／ｍ以上であるとインクが液滴を形成することができ、４０ｍＮ／ｍ以下であるとヘッドからインクが安定して吐出することができる。
またインク組成物は、ピエゾヘッドにおいては１０μＳ／ｃｍ以下の電気伝導率とし、ヘッド内部での電気的な腐食のないインキとすることが好ましい。またコンティニュアスタイプにおいては、電解質による電気伝導率の調整が必要であり、この場合には０．５ｍＳ／ｃｍ以上の電気伝導率に調整することが好ましい。
＜印刷物＞
本発明の印刷物は、基材上に、インク組成物から形成される量子ドットを含有する印刷層を有するものであり、印刷層がインクジェット印刷方式によって形成されることが好ましい。インクジェット方式で印刷物を形成する場合、本発明のインク組成物をインクジェット記録方式用プリンタのプリンタヘッドに供給し、このプリンタヘッドからインクジェットインキを基材上に吐出する。その後、インクジェットインキに含まれる溶剤を乾燥する工程、或いは、紫外線又は電子線等の活性エネルギー線を照射してインクジェットインキに含まれる重合性化合物を重合させる工程を経ることにより、基材上に、インク層（印刷層）を形成することができる。
本発明の印刷物は、基材上に、インク組成物から形成される量子ドットを含有する印刷層を有するものであり、印刷層がインクジェット印刷方式によって形成されることが好ましい。インクジェット方式で印刷物を形成する場合、本発明のインク組成物をインクジェット記録方式用プリンタのプリンタヘッドに供給し、このプリンタヘッドからインクジェットインキを基材上に吐出する。その後、インクジェットインキに含まれる溶剤を乾燥する工程、或いは、紫外線又は電子線等の活性エネルギー線を照射してインクジェットインキに含まれる重合性化合物を重合させる工程を経ることにより、基材上に、インク層（印刷層）を形成することができる。
溶剤を乾燥する工程は、溶剤を除去できれば限定されず風乾でもよい。乾燥温度は、好ましくは４０℃以上１８０℃以下であり、乾燥時間は１分以上であってもよく、１０分以上であってもよく、１２０分以下でもよい。上記温度範囲あるいは乾燥時間にすることで十分に溶剤を乾燥させた強度のある塗工膜を得ることができる。
また、活性エネルギー線の光源として紫外線を照射する場合、例えば高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、低圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、紫外線レーザー、ＬＥＤ、又は太陽光を使用することができる。露光量は１００ｍＪ/ｃｍ２以上であってよく２０００ｍＪｃｍ２以下であってもよい。上記光源で露光範囲にすることで十分に強度のあるインク層を得ることができる。
インクジェット法には特に制限は無く、公知の方法、例えば静電誘引力を利用してインキを吐出させる電荷制御方法、ピエゾ素子の振動圧力を利用するドロップオンデマンド方式（圧力パルス方式）、電気信号を音響ビームに変えインキに照射して放射圧を利用しインキを吐出させる音響インクジェット方式、及びインキを加熱して気泡を形成し、生じた圧力を利用するサーマルインクジェット（バブルジェット（登録商標））方式等の何れであっても良い。
またインクジェット法で用いるインクジェットヘッドは、オンデマンド方式でもコンティニアス方式でも構わない。さらに吐出法式としては、電気‐機械変換方式（例：シングルキャビティー型、ダブルキャビティー型、ベンダー型、ピストン型、シェアモード型、シェアードウォール型等）、電気‐熱変換方式（例：サーマルインクジェット型、バブルジェット（登録商標）型等）、静電吸引方式（例：電解制御型、スリットジェット型等）、及び放電方式（例：スパークジェット型等）などを具体的な例として挙げることができるが、何れの吐出方式を用いても構わない。なお、インクジェット法により記録を行う際に使用するインクノズル等については特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
インクジェットヘッドから吐出されるインクの液滴量としては、乾燥負荷軽減効果が大きく、画像品質の向上という点でも、０．２～２０ピコリットル（ｐＬ）が好ましく、１～１５ピコリットル（ｐＬ）がより好ましい。
［基材］
本発明の印刷物を構成する基材は特に限定されないが、ポリカーボネート、硬質塩ビ、軟質塩ビ、ポリスチレン、発砲スチロール、ＰＭＭＡ、ポリプロピレン、ポリエチレン、ＰＥＴ等のプラスチック基材やこれら混合又は変性品、上質紙、アート紙、コート紙、キャストコート紙、合成紙等の紙基材、ガラス、ステンレス等の金属基材、木材等が挙げられる。
本発明の印刷物を構成する基材は特に限定されないが、ポリカーボネート、硬質塩ビ、軟質塩ビ、ポリスチレン、発砲スチロール、ＰＭＭＡ、ポリプロピレン、ポリエチレン、ＰＥＴ等のプラスチック基材やこれら混合又は変性品、上質紙、アート紙、コート紙、キャストコート紙、合成紙等の紙基材、ガラス、ステンレス等の金属基材、木材等が挙げられる。
＜カラーフィルタ＞
本発明のインク組成物は、入射光を波長選択的に吸収し、一部の波長の光を透過又は反射させるカラーフィルタを形成するために用いることができ、当該カラーフィルタは、カラー液晶表示装置以外にカラー固体撮像素子、有機ＥＬ表示装置、量子ドット表示装置、及び電子ペーパー等の製造にも使用することができる。特にインクジェット方式を選択すると、必要な個所に必要な量を印刷することができ、量子ドット等の消費を抑制することができるため好ましい。
また、当該カラーフィルタは、赤色フィルタセグメント、緑色フィルタセグメント及び青色フィルタセグメントを備えており、さらにマゼンタ色フィルタセグメント、シアン色フィルタセグメント及び黄色フィルタセグメントを備えてもよく、少なくとも１つのフィルタセグメントが、本発明のインク組成物から形成されていればよい。
本発明のインク組成物は、入射光を波長選択的に吸収し、一部の波長の光を透過又は反射させるカラーフィルタを形成するために用いることができ、当該カラーフィルタは、カラー液晶表示装置以外にカラー固体撮像素子、有機ＥＬ表示装置、量子ドット表示装置、及び電子ペーパー等の製造にも使用することができる。特にインクジェット方式を選択すると、必要な個所に必要な量を印刷することができ、量子ドット等の消費を抑制することができるため好ましい。
また、当該カラーフィルタは、赤色フィルタセグメント、緑色フィルタセグメント及び青色フィルタセグメントを備えており、さらにマゼンタ色フィルタセグメント、シアン色フィルタセグメント及び黄色フィルタセグメントを備えてもよく、少なくとも１つのフィルタセグメントが、本発明のインク組成物から形成されていればよい。
本発明のインク組成物を用いてカラーフィルタを製造する場合、透明基板又は反射基板上にフィルタセグメントを形成する前に、あらかじめブラックマトリクスを形成してもよい。ブラックマトリクスとしては、クロムやクロム／酸化クロムの多層膜、窒化チタニウム等の無機膜や、遮光剤を分散した樹脂膜が用いられるが、これらに限定されない。また、上記の透明基板又は反射基板上に薄膜トランジスター（ＴＦＴ）をあらかじめ形成しておき、その後にフィルタセグメントを形成することもできる。また本発明のカラーフィルタ上には、必要に応じてオーバーコート膜や透明導電膜等を形成してもよい。
＜光波長変換層＞
本発明のインク組成物を用いて塗工・印刷後に有機溶剤を乾燥して形成された層又は、紫外線照射によって形成された硬化膜からなる層は、光波長変換層として用いることができる。光波長変換層は、励起光を長波長側の蛍光に変換して放出することが可能であり、励起光波長と放出蛍光波長の関係を維持できれば特に制限はなく、例として、青色や紫外光を励起光として用いて緑色や赤色の蛍光を得ることや、紫外光や可視光を励起光として近赤外領域の蛍光を得ること等を挙げることができる。
光波長変換層の厚みは、好ましくは１～５００μｍであり、より好ましくは１～５０μｍであり、さらに好ましくは１～１０μｍである。厚みが１μｍ以上であると、高い波長変換効果が得られるため、好ましい。また、厚みが５００μｍ以下であると、光源ユニットに組み込んだ場合に、光源ユニットを薄くすることができるため、好ましい。
本発明のインク組成物を用いて塗工・印刷後に有機溶剤を乾燥して形成された層又は、紫外線照射によって形成された硬化膜からなる層は、光波長変換層として用いることができる。光波長変換層は、励起光を長波長側の蛍光に変換して放出することが可能であり、励起光波長と放出蛍光波長の関係を維持できれば特に制限はなく、例として、青色や紫外光を励起光として用いて緑色や赤色の蛍光を得ることや、紫外光や可視光を励起光として近赤外領域の蛍光を得ること等を挙げることができる。
光波長変換層の厚みは、好ましくは１～５００μｍであり、より好ましくは１～５０μｍであり、さらに好ましくは１～１０μｍである。厚みが１μｍ以上であると、高い波長変換効果が得られるため、好ましい。また、厚みが５００μｍ以下であると、光源ユニットに組み込んだ場合に、光源ユニットを薄くすることができるため、好ましい。
＜光波長変換部材＞
前述の光波長変換層は、光波長変換部材として用いることができる。
光波長変換部材は、特定基材の少なくとも片面に、前述の光波長変換層が形成された部材である。基材は特に限定はないが、ポリカーボネート、硬質塩ビ、軟質塩ビ、ポリスチレン、発砲スチロール、ＰＭＭＡ、ポリプロピレン、ポリエチレン、ＰＥＴ等のプラスチック基材やこれら混合又は変性品、上質紙、アート紙、コート紙、キャストコート紙等の紙基材、ガラス、ステンレス等の金属基材等が挙げられる。
用途によって使用される基材は選択されるが、プリペイドカードや通行カード等であれば、耐久性の観点から、プラスチック基材やこれらの混合又は変性品が好ましい。情報記録媒体としての１次元バーコード、２次元バーコード、ＱＲコード（登録商標）（マトリックス型２次元コード）であれば、プラスチック基材の他にも紙基材が好ましい。波長変換用カラーフィルタであれば、透明基板が好ましい。
前述の光波長変換層は、光波長変換部材として用いることができる。
光波長変換部材は、特定基材の少なくとも片面に、前述の光波長変換層が形成された部材である。基材は特に限定はないが、ポリカーボネート、硬質塩ビ、軟質塩ビ、ポリスチレン、発砲スチロール、ＰＭＭＡ、ポリプロピレン、ポリエチレン、ＰＥＴ等のプラスチック基材やこれら混合又は変性品、上質紙、アート紙、コート紙、キャストコート紙等の紙基材、ガラス、ステンレス等の金属基材等が挙げられる。
用途によって使用される基材は選択されるが、プリペイドカードや通行カード等であれば、耐久性の観点から、プラスチック基材やこれらの混合又は変性品が好ましい。情報記録媒体としての１次元バーコード、２次元バーコード、ＱＲコード（登録商標）（マトリックス型２次元コード）であれば、プラスチック基材の他にも紙基材が好ましい。波長変換用カラーフィルタであれば、透明基板が好ましい。
＜発光素子＞
本発明のインク組成物を用いて形成された層は、発光素子における発光層として用いることができる。発光素子は、基板と、基板上に設けられた陰極と陽極を有し、両電極の間に発光層を備え、陰極及び陽極の少なくとも一方に電荷輸送層を備えている。さらに、発光素子の性質上、陽極及び陰極のうち少なくとも一方の電極は透明である。
発光素子の積層の態様としては、陽極側から、正孔輸送層、発光層、電子輸送層の順に積層されている態様が好ましい。さらに、正孔輸送層と発光層との間、又は、発光層と電子輸送層との間には、電荷ブロック層等を有していてもよい。陽極と正孔輸送層との間に、正孔注入層を有してもよく、陰極と電子輸送層との間には、電子注入層を有してもよい。また、発光層としては一層だけでもよく、また、第一発光層、第二発光層、第三発光層等に発光層を分割してもよい。さらに、各層は複数の二次層に分かれていてもよい。
本発明のインク組成物を用いて形成された層は、発光素子における発光層として用いることができる。発光素子は、基板と、基板上に設けられた陰極と陽極を有し、両電極の間に発光層を備え、陰極及び陽極の少なくとも一方に電荷輸送層を備えている。さらに、発光素子の性質上、陽極及び陰極のうち少なくとも一方の電極は透明である。
発光素子の積層の態様としては、陽極側から、正孔輸送層、発光層、電子輸送層の順に積層されている態様が好ましい。さらに、正孔輸送層と発光層との間、又は、発光層と電子輸送層との間には、電荷ブロック層等を有していてもよい。陽極と正孔輸送層との間に、正孔注入層を有してもよく、陰極と電子輸送層との間には、電子注入層を有してもよい。また、発光層としては一層だけでもよく、また、第一発光層、第二発光層、第三発光層等に発光層を分割してもよい。さらに、各層は複数の二次層に分かれていてもよい。
基板としては、例えば、公知の有機ＥＬ素子に用いられる基板を用いることができる。基板は樹脂フィルムであってもよく、ガスバリアフィルムであってもよく、特開２００４－１３６４６６号公報、特開２００４－１４８５６６号公報、特開２００５－２４６７１６号公報、特開２００５－２６２５２９号公報等に記載のガスバリアフィルムも好ましく用いることができる。
基板の厚みは、特に規定されないが３０μｍ～７００μｍが好ましく、より好ましくは４０μｍ～２００μｍ、さらに好ましくは５０μｍ～１５０μｍである。さらにいずれの場合もヘイズは３％以下が好ましく、より好ましくは２％以下、さらに好ましくは１％以下、全光透過率は７０％以上が好ましく、より好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上である。
基板の厚みは、特に規定されないが３０μｍ～７００μｍが好ましく、より好ましくは４０μｍ～２００μｍ、さらに好ましくは５０μｍ～１５０μｍである。さらにいずれの場合もヘイズは３％以下が好ましく、より好ましくは２％以下、さらに好ましくは１％以下、全光透過率は７０％以上が好ましく、より好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上である。
［陽極］
陽極は、通常、有機化合物あるいは無機化合物層に正孔を供給する電極としての機能を有していればよく、その形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、発光素子の用途、目的に応じて、公知の電極材料の中から適宜選択することができる。上述のごとく、陽極は、通常透明陽極として設けられる。透明陽極については、沢田豊監修「透明電極膜の新展開」シーエムシー刊（１９９９）に詳述がある。基板として耐熱性の低いプラスチック基材を用いる場合は、ＩＴＯ、ＩＺＯ又はＩＧＺＯを使用し、１５０℃以下の低温で成膜した透明陽極が好ましい。
陽極は、通常、有機化合物あるいは無機化合物層に正孔を供給する電極としての機能を有していればよく、その形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、発光素子の用途、目的に応じて、公知の電極材料の中から適宜選択することができる。上述のごとく、陽極は、通常透明陽極として設けられる。透明陽極については、沢田豊監修「透明電極膜の新展開」シーエムシー刊（１９９９）に詳述がある。基板として耐熱性の低いプラスチック基材を用いる場合は、ＩＴＯ、ＩＺＯ又はＩＧＺＯを使用し、１５０℃以下の低温で成膜した透明陽極が好ましい。
［陰極］
陰極は、通常、有機化合物あるいは無機化合物層に電子を注入する電極としての機能を有していればよく、その形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、発光素子の用途、目的に応じて、公知の電極材料の中から適宜選択することができる。
陰極を構成する材料としては、例えば、金属、合金、金属酸化物、電気伝導性化合物、これらの混合物等が挙げられる。具体例としては２属金属（例えばＭｇ、Ｃａ等）、金、銀、鉛、アルミニウム、リチウム－アルミニウム合金、マグネシウム－銀合金、インジウム、イッテルビウム等の希土類金属等が挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいが、安定性と電子注入性とを両立させる観点からは、２種以上を好適に併用することができる。
陰極は、通常、有機化合物あるいは無機化合物層に電子を注入する電極としての機能を有していればよく、その形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、発光素子の用途、目的に応じて、公知の電極材料の中から適宜選択することができる。
陰極を構成する材料としては、例えば、金属、合金、金属酸化物、電気伝導性化合物、これらの混合物等が挙げられる。具体例としては２属金属（例えばＭｇ、Ｃａ等）、金、銀、鉛、アルミニウム、リチウム－アルミニウム合金、マグネシウム－銀合金、インジウム、イッテルビウム等の希土類金属等が挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいが、安定性と電子注入性とを両立させる観点からは、２種以上を好適に併用することができる。
これらの中でも、陰極を構成する材料としては、アルミニウムを主体とする材料が好ましい。アルミニウムを主体とする材料とは、アルミニウム単独、アルミニウムと０．０１～１００質量％ のアルカリ金属又は２属金属との合金（例えば、リチウム－アルミニウム合金、マグネシウム－アルミニウム合金等）をいう。なお、陰極の材料については、特開平２－１５５９５号公報、特開平５－１２１１７２号公報に詳述されている。また、陰極と前記有機化合物又は無機化合物層との間に、アルカリ金属又は２属金属のフッ化物、酸化物等による誘電体層を０．１～５ｎｍの厚みで挿入してもよい。この誘電体層は、一種の電子注入層と見ることもできる。
陰極の厚みは、陰極を構成する材料により適宜選択することができ、一概に規定することはできないが、通常１０ｎｍ～５μｍ程度であり、５０ｎｍ～１μｍが好ましい。また、陰極は、透明であってもよいし、不透明であってもよい。なお、透明な陰極は、陰極の材料を１～１０ｎｍの厚さに薄く成膜し、さらにＩＴＯ、ＩＺＯやＩＧＺＯ等の透明な導電性材料を積層することにより形成することができる。
［発光層］
発光層は、電界印加時に、陽極、正孔注入層又は正孔輸送層から正孔を受け取り、陰極、電子注入層、又は電子輸送層から電子を受け取り、正孔と電子との再結合の場を提供して発光させる機能を有する層である。発光層は、量子ドットのみで構成されていてもよく、量子ドットとホスト材料との混合層の構成でもよい。発光材料は、さらに、蛍光発光材料でも燐光発光材料を含有してもよく、ドーパントは１種であっても２種以上であってもよい。ホスト材料は電荷輸送材料であることが好ましい。ホスト材料は１種であっても２種以上であってもよく、例えば、電子輸送性のホスト材料とホール輸送性のホスト材料とを混合した構成が挙げられる。さらに、発光層中に電荷輸送性を有さず、発光しない材料を含んでいてもよい。また、発光層は１層であっても２層以上であってもよく、それぞれの層が異なる発光色で発光してもよい。
発光層は、電界印加時に、陽極、正孔注入層又は正孔輸送層から正孔を受け取り、陰極、電子注入層、又は電子輸送層から電子を受け取り、正孔と電子との再結合の場を提供して発光させる機能を有する層である。発光層は、量子ドットのみで構成されていてもよく、量子ドットとホスト材料との混合層の構成でもよい。発光材料は、さらに、蛍光発光材料でも燐光発光材料を含有してもよく、ドーパントは１種であっても２種以上であってもよい。ホスト材料は電荷輸送材料であることが好ましい。ホスト材料は１種であっても２種以上であってもよく、例えば、電子輸送性のホスト材料とホール輸送性のホスト材料とを混合した構成が挙げられる。さらに、発光層中に電荷輸送性を有さず、発光しない材料を含んでいてもよい。また、発光層は１層であっても２層以上であってもよく、それぞれの層が異なる発光色で発光してもよい。
前記蛍光発光材料の例としては、例えば、ベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、スチリルベンゼン誘導体、ポリフェニル誘導体、ジフェニルブタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、ナフタルイミド誘導体、クマリン誘導体、縮合芳香族化合物、ペリノン誘導体、オキサジアゾール誘導体、オキサジン誘導体、アルダジン誘導体、ピラリジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、ビススチリルアントラセン誘導体、キナクリドン誘導体、ピロロピリジン誘導体、チアジアゾロピリジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、スチリルアミン誘導体、ジケトピロロピロール誘導体、芳香族ジメチリディン化合物、８－キノリノール誘導体の金属錯体やピロメテン誘導体の金属錯体に代表される各種金属錯体等、ポリチオフェン、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン等のポリマー化合物、有機シラン誘導体等の化合物等が挙げられる。
前記燐光発光材料は、例えば、遷移金属原子又はランタノイド原子を含む錯体が挙げられる。前記遷移金属原子としては、特に限定されないが、好ましくは、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、タングステン、レニウム、オスミウム、イリジウム、及び白金が挙げられ、より好ましくは、レニウム、イリジウム、及び白金である。
前記ランタノイド原子としては、ランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、ユーロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウム、ルテシウムが挙げられる。これらのランタノイド原子の中でも、ネオジム、ユーロピウム、及びガドリニウムが好ましい。
前記ランタノイド原子としては、ランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、ユーロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウム、ルテシウムが挙げられる。これらのランタノイド原子の中でも、ネオジム、ユーロピウム、及びガドリニウムが好ましい。
錯体の配位子としては、例えば、Ｇ．Ｗｉｌｋｉｎｓｏｎ等著，Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ Ｃｏｏｒｄｉｎａｔｉｏｎ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，ＰｅｒｇａｍｏｎＰｒｅｓｓ社１９８７年発行、Ｈ. Ｙｅｒｓｉｎ著, 「Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈｏｔｏｐｈｙｓｉｃｓ ｏｆ Ｃｏｏｒｄｉｎａｔｉｏｎ Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ」Ｓｐｒｉｎｇｅｒ－Ｖｅｒｌａｇ社１９８７年発行、山本明夫著「有機金属化学－基礎と応用－」裳華房社１９８２年発行等に記載の配位子等が挙げられる。
また、発光層に含有されるホスト材料としては、例えば、カルバゾール骨格を有するもの、ジアリールアミン骨格を有するもの、ピリジン骨格を有するもの、ピラジン骨格を有するもの、トリアジン骨格を有するもの及びアリールシラン骨格を有するものや、後述の正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層の項で例示されている材料が挙げられる。
［正孔注入層、正孔輸送層］
正孔注入層及び正孔輸送層は、陽極又は陽極側から正孔を受け取り陰極側に輸送する機能を有する層である。前述する機能を有すれば有機化合物であっても無機化合物であってもよく、低分子化合物でも高分子化合物でも金属酸化物であってもよい。正孔注入層、正孔輸送層は、具体的には、カルバゾール誘導体、トリフェニルアミン誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、ポルフィリン系化合物、フタロシアニン系化合物、有機シラン誘導体等の低分子化合物、カーボン、フラーレン等の炭素化合物、五酸化バナジウムや三酸化モリブデン等の金属酸化物からなる無機化合物、ポリビニルカルバゾール、ポリピロール、ポリ（３，４－エチレンジオキシチオフェン）－ポリ（スチレンスルホン酸）（ＰＥＤＯＴ－ＰＳＳ）等の高分子化合物等を含有する層であることが好ましい。
正孔注入層及び正孔輸送層は、陽極又は陽極側から正孔を受け取り陰極側に輸送する機能を有する層である。前述する機能を有すれば有機化合物であっても無機化合物であってもよく、低分子化合物でも高分子化合物でも金属酸化物であってもよい。正孔注入層、正孔輸送層は、具体的には、カルバゾール誘導体、トリフェニルアミン誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、ポルフィリン系化合物、フタロシアニン系化合物、有機シラン誘導体等の低分子化合物、カーボン、フラーレン等の炭素化合物、五酸化バナジウムや三酸化モリブデン等の金属酸化物からなる無機化合物、ポリビニルカルバゾール、ポリピロール、ポリ（３，４－エチレンジオキシチオフェン）－ポリ（スチレンスルホン酸）（ＰＥＤＯＴ－ＰＳＳ）等の高分子化合物等を含有する層であることが好ましい。
［電子注入層、電子輸送層］
電子注入層及び電子輸送層は、陰極又は陰極側から電子を受け取り陽極側に輸送する機能を有する層である。電子注入層、電子輸送層は、具体的には、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフタレン、ペリレン等の芳香環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン誘導体、８－キノリノール誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体、有機シラン誘導体等の低分子化合物、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化チタン（ＴｉＯ２）等の金属酸化物やアルカリ金属ドーピングされた有機あるいは無機化合物を含有する層であることが好ましい。
電子注入層及び電子輸送層は、陰極又は陰極側から電子を受け取り陽極側に輸送する機能を有する層である。電子注入層、電子輸送層は、具体的には、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフタレン、ペリレン等の芳香環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン誘導体、８－キノリノール誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体、有機シラン誘導体等の低分子化合物、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化チタン（ＴｉＯ２）等の金属酸化物やアルカリ金属ドーピングされた有機あるいは無機化合物を含有する層であることが好ましい。
［正孔ブロック層］
正孔ブロック層は、陽極側から発光層に輸送された正孔が、陰極側に通りぬけることを防止する機能を有する層である。本発明において、発光層と陰極側で隣接する有機化合物層として、正孔ブロック層を設けることができる。また、電子輸送層・電子注入層が正孔ブロック層の機能を兼ねていてもよい。
正孔ブロック層を構成する有機化合物の例としては、ＢＡｌｑ等のアルミニウム錯体、トリアゾール誘導体、ＢＣＰ等のフェナントロリン誘導体、等が挙げられる。また、陰極側から発光層に輸送された電子が陽極側に通りぬけることを防止する機能を有する層を、発光層と陽極側で隣接する位置に設けることもできる。正孔輸送層・正孔注入層がこの機能を兼ねていてもよい。
正孔ブロック層は、陽極側から発光層に輸送された正孔が、陰極側に通りぬけることを防止する機能を有する層である。本発明において、発光層と陰極側で隣接する有機化合物層として、正孔ブロック層を設けることができる。また、電子輸送層・電子注入層が正孔ブロック層の機能を兼ねていてもよい。
正孔ブロック層を構成する有機化合物の例としては、ＢＡｌｑ等のアルミニウム錯体、トリアゾール誘導体、ＢＣＰ等のフェナントロリン誘導体、等が挙げられる。また、陰極側から発光層に輸送された電子が陽極側に通りぬけることを防止する機能を有する層を、発光層と陽極側で隣接する位置に設けることもできる。正孔輸送層・正孔注入層がこの機能を兼ねていてもよい。
＜発光デバイス＞
また、光波長変換部材と発光素子とを組み合わせて、発光デバイスとして用いることができる。前記発光デバイスは、少なくとも、光波長変換部材の光波長変換層又は発光素子の発光層のいずれか一方が、本発明のインク組成物を用いて形成されていればよい。
光波長変換部材は、励起光を長波長側の蛍光に変換して放出するものであり、例えば、青色や紫外光を緑色や赤色の蛍光に変換することや、紫外光や可視光を近赤外領域の蛍光に変換することができる。光波長変換部材は、励起光波長と放出蛍光波長の関係を維持するものであれば特に制限はなく、適宜最適なものを選択することができる。
また、従来公知の発光素子の光源としては、発光ダイオード（ＬＥＤ）や半導体レーザー（ＬＤ）等の半導体発光素子、；有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）；又は量子ドット（quantum dot）を用いることができる。
また、光波長変換部材と発光素子とを組み合わせて、発光デバイスとして用いることができる。前記発光デバイスは、少なくとも、光波長変換部材の光波長変換層又は発光素子の発光層のいずれか一方が、本発明のインク組成物を用いて形成されていればよい。
光波長変換部材は、励起光を長波長側の蛍光に変換して放出するものであり、例えば、青色や紫外光を緑色や赤色の蛍光に変換することや、紫外光や可視光を近赤外領域の蛍光に変換することができる。光波長変換部材は、励起光波長と放出蛍光波長の関係を維持するものであれば特に制限はなく、適宜最適なものを選択することができる。
また、従来公知の発光素子の光源としては、発光ダイオード（ＬＥＤ）や半導体レーザー（ＬＤ）等の半導体発光素子、；有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）；又は量子ドット（quantum dot）を用いることができる。
以下に、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、以下の実施例は本発明の権利範囲を何ら制限するものではない。なお、実施例における「部」は「質量部」、「％」は「質量％」を表す。また、質量平均分子量は、ＧＰＣを用いて測定し、ポリスチレン換算で求めた。
＜一般式（１）で示される化合物（量子ドット処理剤）の合成＞
（化合物１の合成）
ディーン・スターク装置において酢酸２部、２－メルカプトエタノール１部、濃硫酸０．０５部、トルエン２０部を３時間加熱還流した。酢酸エチル４０部を加えた後、反応混合物を水２０部で２回洗い、最後に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液２０部で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、硫酸マグネシウムをろ別した後、有機溶媒を減圧留去することで、表１に示す化合物１を得た。収率は７０％であった。
（化合物１の合成）
ディーン・スターク装置において酢酸２部、２－メルカプトエタノール１部、濃硫酸０．０５部、トルエン２０部を３時間加熱還流した。酢酸エチル４０部を加えた後、反応混合物を水２０部で２回洗い、最後に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液２０部で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、硫酸マグネシウムをろ別した後、有機溶媒を減圧留去することで、表１に示す化合物１を得た。収率は７０％であった。
（化合物２の合成）
ディーン・スターク装置において酢酸２部、２－（２－（２－メルカプトエトキシ）エトキシ）エタノール、濃硫酸０．０５部、トルエン２０部を３時間加熱還流した。酢酸エチル４０部を加えた後、反応混合物を水２０部で２回洗い、最後に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液２０部で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、硫酸マグネシウムをろ別した後、有機溶媒を減圧留去することで、表１に示す化合物２を得た。収率は８０％であった。
ディーン・スターク装置において酢酸２部、２－（２－（２－メルカプトエトキシ）エトキシ）エタノール、濃硫酸０．０５部、トルエン２０部を３時間加熱還流した。酢酸エチル４０部を加えた後、反応混合物を水２０部で２回洗い、最後に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液２０部で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、硫酸マグネシウムをろ別した後、有機溶媒を減圧留去することで、表１に示す化合物２を得た。収率は８０％であった。
（化合物３の合成）
ディーン・スターク装置において酢酸２部、６－メルカプト－１－ヘキサノール、濃硫酸０．０５部、トルエン２０部を３時間加熱還流した。酢酸エチル４０部を加えた後、反応混合物を水２０部で２回洗い、最後に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液２０部で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、硫酸マグネシウムをろ別した後、有機溶媒を減圧留去することで、表１に示す化合物３を得た。収率は８６％であった。
ディーン・スターク装置において酢酸２部、６－メルカプト－１－ヘキサノール、濃硫酸０．０５部、トルエン２０部を３時間加熱還流した。酢酸エチル４０部を加えた後、反応混合物を水２０部で２回洗い、最後に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液２０部で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、硫酸マグネシウムをろ別した後、有機溶媒を減圧留去することで、表１に示す化合物３を得た。収率は８６％であった。
（化合物４の合成）
２－（２－（２－メルカプトエトキシ）エトキシ）エタノール１部と炭酸ジメチル６部を炭酸カリウム１部存在下で２４時間還流させた。炭酸カリウムをろ別した後、混合物を減圧留去し、表１に示す化合物４を得た。収率は８８％であった。
２－（２－（２－メルカプトエトキシ）エトキシ）エタノール１部と炭酸ジメチル６部を炭酸カリウム１部存在下で２４時間還流させた。炭酸カリウムをろ別した後、混合物を減圧留去し、表１に示す化合物４を得た。収率は８８％であった。
（化合物５の合成）
メルカプトプロピオン酸１部、メタノール１０部、濃硫酸０．０５部を３時間加熱還流した。反応混合物を減圧留去し、メタノールを除去した後、酢酸エチル４０部を加え、反応混合物を水２０部で２回洗い、最後に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液２０部で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、硫酸マグネシウムをろ別した後、有機溶媒を減圧留去することで、表１に示す化合物５を得た。収率は７７％であった。
メルカプトプロピオン酸１部、メタノール１０部、濃硫酸０．０５部を３時間加熱還流した。反応混合物を減圧留去し、メタノールを除去した後、酢酸エチル４０部を加え、反応混合物を水２０部で２回洗い、最後に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液２０部で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、硫酸マグネシウムをろ別した後、有機溶媒を減圧留去することで、表１に示す化合物５を得た。収率は７７％であった。
（化合物６の合成）
３，３－ジエトキシ－１－プロパノール１部、パラトルエンスルホン酸クロリド１部、ピリジン１．５部をテトラヒドロフラン２０部中で室温、２４時間反応させた。テトラヒドロフランを減圧留去した後、酢酸エチル２０部を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液２０部で２回洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、硫酸マグネシウムをろ別し、有機層を減圧留去した。次に、窒素雰囲気下、得られた混合物にエタノール１５部、水１部、チオ尿素２部を加え、３時間加熱還流した後、１０％水酸化ナトリウム２０部を加え、３時間加熱還流した。エタノールを減圧留去した後、水１０部を加え、ｐＨ＝２となるまで塩酸を加えた後、２時間室温で攪拌した。炭酸水素ナトリウムでｐＨが５～６となるまで調製した後、酢酸エチル２０部を加え、有機層は水１０部で２回洗った。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、硫酸マグネシウムをろ別し、有機層を減圧留去した。残留物はシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル１：ｎ－ヘキサン９）で精製し、表１に示す化合物６を得た。収率は５９％であった。
３，３－ジエトキシ－１－プロパノール１部、パラトルエンスルホン酸クロリド１部、ピリジン１．５部をテトラヒドロフラン２０部中で室温、２４時間反応させた。テトラヒドロフランを減圧留去した後、酢酸エチル２０部を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液２０部で２回洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、硫酸マグネシウムをろ別し、有機層を減圧留去した。次に、窒素雰囲気下、得られた混合物にエタノール１５部、水１部、チオ尿素２部を加え、３時間加熱還流した後、１０％水酸化ナトリウム２０部を加え、３時間加熱還流した。エタノールを減圧留去した後、水１０部を加え、ｐＨ＝２となるまで塩酸を加えた後、２時間室温で攪拌した。炭酸水素ナトリウムでｐＨが５～６となるまで調製した後、酢酸エチル２０部を加え、有機層は水１０部で２回洗った。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、硫酸マグネシウムをろ別し、有機層を減圧留去した。残留物はシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル１：ｎ－ヘキサン９）で精製し、表１に示す化合物６を得た。収率は５９％であった。
（化合物７の合成）
４－ヒドロキシ－２‐ブタノン１部、パラトルエンスルホン酸クロリド１部、ピリジン１．５部をテトラヒドロフラン２０部中で室温、２４時間反応させた。テトラヒドロフランを減圧留去した後、酢酸エチル２０部を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液２０部で２回洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、硫酸マグネシウムをろ別し、有機層を減圧留去した。次に、窒素雰囲気下、得られた混合物にエタノール１５部、水１部、チオ尿素２部を加え、３時間加熱還流した後、１０％水酸化ナトリウム２０部を加え、３時間加熱還流した。エタノールを減圧留去した後、水１０部を加え、ｐＨ＝２となるまで塩酸を加えた後、２時間室温で攪拌した。炭酸水素ナトリウムでｐＨが５～６となるまで調製した後、酢酸エチル２０部を加え、有機層は水１０部で２回洗った。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、硫酸マグネシウムをろ別し、有機層を減圧留去した。残留物はシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル１：ｎ－ヘキサン９）で精製し、表１に示す化合物７を得た。収率は４７％であった。
４－ヒドロキシ－２‐ブタノン１部、パラトルエンスルホン酸クロリド１部、ピリジン１．５部をテトラヒドロフラン２０部中で室温、２４時間反応させた。テトラヒドロフランを減圧留去した後、酢酸エチル２０部を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液２０部で２回洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、硫酸マグネシウムをろ別し、有機層を減圧留去した。次に、窒素雰囲気下、得られた混合物にエタノール１５部、水１部、チオ尿素２部を加え、３時間加熱還流した後、１０％水酸化ナトリウム２０部を加え、３時間加熱還流した。エタノールを減圧留去した後、水１０部を加え、ｐＨ＝２となるまで塩酸を加えた後、２時間室温で攪拌した。炭酸水素ナトリウムでｐＨが５～６となるまで調製した後、酢酸エチル２０部を加え、有機層は水１０部で２回洗った。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、硫酸マグネシウムをろ別し、有機層を減圧留去した。残留物はシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル１：ｎ－ヘキサン９）で精製し、表１に示す化合物７を得た。収率は４７％であった。
（化合物８の合成）
ジクロロメタン２０部に、６－メルカプトヘキサン酸１部、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルカルボジイミド１部、４－ジメチルアミノピリジン０．０５部を溶解させて攪拌した後、プロピルアミンを１．１部加え、室温で２４時間反応させた。溶媒を減圧留去した後、混合物を酢酸エチル２０部に溶解させ、５%塩酸１０部で３回洗った後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１０部で１回洗った。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、硫酸マグネシウムをろ別し、有機層を減圧留去することで、表１に示す化合物８を得た。収率は７０％であった。
ジクロロメタン２０部に、６－メルカプトヘキサン酸１部、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルカルボジイミド１部、４－ジメチルアミノピリジン０．０５部を溶解させて攪拌した後、プロピルアミンを１．１部加え、室温で２４時間反応させた。溶媒を減圧留去した後、混合物を酢酸エチル２０部に溶解させ、５%塩酸１０部で３回洗った後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１０部で１回洗った。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、硫酸マグネシウムをろ別し、有機層を減圧留去することで、表１に示す化合物８を得た。収率は７０％であった。
（化合物９の合成）
ジクロロメタン２０部に、酢酸１部、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルカルボジイミド１部、４－ジメチルアミノピリジン０．０５部を溶解させて攪拌した後、システアミンを１．１部加え、室温で２４時間反応させた。溶媒を減圧留去した後、混合物を酢酸エチル２０部に溶解させ、５%塩酸１０部で３回洗った後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１０部で１回
洗った。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、硫酸マグネシウムをろ別し、有機層を減圧留去することで、表１に示す化合物９を得た。収率は７０％であった。
ジクロロメタン２０部に、酢酸１部、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルカルボジイミド１部、４－ジメチルアミノピリジン０．０５部を溶解させて攪拌した後、システアミンを１．１部加え、室温で２４時間反応させた。溶媒を減圧留去した後、混合物を酢酸エチル２０部に溶解させ、５%塩酸１０部で３回洗った後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１０部で１回
洗った。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、硫酸マグネシウムをろ別し、有機層を減圧留去することで、表１に示す化合物９を得た。収率は７０％であった。
（化合物１０の合成）
Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド１０部にシステアミン０．８５部を溶解させ、０℃においてエチルイソシアネート０．７８部を加え、室温で２４時間反応させた。Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミドを減圧下で除去した後、混合物に酢酸エチル１０部を加え、水１０部で２回洗った。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、硫酸マグネシウムをろ別し、有機層を減圧留去することで、表１に示す化合物１０を得た。収率は５５％であった。
Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド１０部にシステアミン０．８５部を溶解させ、０℃においてエチルイソシアネート０．７８部を加え、室温で２４時間反応させた。Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミドを減圧下で除去した後、混合物に酢酸エチル１０部を加え、水１０部で２回洗った。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、硫酸マグネシウムをろ別し、有機層を減圧留去することで、表１に示す化合物１０を得た。収率は５５％であった。
（化合物１１の合成）
窒素雰囲気下、アセチルアセトナート１部をテトラヒドロフラン１０部に溶解させ、炭酸カリウム１．６部を加えた。次に、３－クロロ－１－プロパンチオール１部をテトラヒドロフラン３部に溶解させ、１時間で滴下した。室温で２４時間攪拌した後、テトラヒドロフランを減圧留去し、酢酸エチル２０部に溶解させた。混合物を５%希塩酸２０部で１回洗った後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗った。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、硫酸マグネシウムをろ別し、有機層を減圧留去することで、表２に示す化合物１１を得た。収率６７％であった。
窒素雰囲気下、アセチルアセトナート１部をテトラヒドロフラン１０部に溶解させ、炭酸カリウム１．６部を加えた。次に、３－クロロ－１－プロパンチオール１部をテトラヒドロフラン３部に溶解させ、１時間で滴下した。室温で２４時間攪拌した後、テトラヒドロフランを減圧留去し、酢酸エチル２０部に溶解させた。混合物を５%希塩酸２０部で１回洗った後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗った。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、硫酸マグネシウムをろ別し、有機層を減圧留去することで、表２に示す化合物１１を得た。収率６７％であった。
（化合物１２の合成）
窒素雰囲気下、マロン酸ジメチル１０部をテトラヒドロフラン１００部に溶解させ、０℃に冷却した後、６０％水素化ナトリウム３部を少しずつ加えた。次に、３－クロロ－１－プロパンチオール２部をテトラヒドロフラン２０部に溶解させ、１時間で滴下した。室温で２４時間攪拌した後、溶媒を減圧留去し、酢酸エチル１００部を加え、塩化アンモニウム水溶液を滴下し、水層を弱酸性とした。有機層を水１００部で３回洗った後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、硫酸マグネシウムをろ別し、有機層を減圧留去することで、表２に示す化合物１２を得た。収率は５６％であった。
窒素雰囲気下、マロン酸ジメチル１０部をテトラヒドロフラン１００部に溶解させ、０℃に冷却した後、６０％水素化ナトリウム３部を少しずつ加えた。次に、３－クロロ－１－プロパンチオール２部をテトラヒドロフラン２０部に溶解させ、１時間で滴下した。室温で２４時間攪拌した後、溶媒を減圧留去し、酢酸エチル１００部を加え、塩化アンモニウム水溶液を滴下し、水層を弱酸性とした。有機層を水１００部で３回洗った後、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、硫酸マグネシウムをろ別し、有機層を減圧留去することで、表２に示す化合物１２を得た。収率は５６％であった。
（化合物１３の合成）
ディーン・スターク装置において酢酸５部、１－チオグリセロール１部、濃硫酸０．０５部、トルエン３０部を３時間加熱還流した。トルエンを減圧留去した後、酢酸エチル４０部を加え、反応混合物を水２０部で２回洗い、最後に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液２０部で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、硫酸マグネシウムをろ別した後、有機溶媒を減圧留去することで、表２に示す化合物１３を得た。収率は６２％であった。
ディーン・スターク装置において酢酸５部、１－チオグリセロール１部、濃硫酸０．０５部、トルエン３０部を３時間加熱還流した。トルエンを減圧留去した後、酢酸エチル４０部を加え、反応混合物を水２０部で２回洗い、最後に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液２０部で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、硫酸マグネシウムをろ別した後、有機溶媒を減圧留去することで、表２に示す化合物１３を得た。収率は６２％であった。
（化合物１４の合成）
ディーン・スターク装置において酢酸５部、３－チオフェンメタノール１部、濃硫酸０．０５部、トルエン３０部を３時間加熱還流した。トルエンを減圧留去した後、酢酸エチル４０部を加え、反応混合物を水２０部で２回洗い、最後に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液２０部で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、硫酸マグネシウムをろ別した後、有機溶媒を減圧留去することで、表２に示す化合物１４を得た。収率は７７％であった。
ディーン・スターク装置において酢酸５部、３－チオフェンメタノール１部、濃硫酸０．０５部、トルエン３０部を３時間加熱還流した。トルエンを減圧留去した後、酢酸エチル４０部を加え、反応混合物を水２０部で２回洗い、最後に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液２０部で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、硫酸マグネシウムをろ別した後、有機溶媒を減圧留去することで、表２に示す化合物１４を得た。収率は７７％であった。
（化合物１５の合成）
ディーン・スターク装置において酢酸５部、２－チオフェンメタノール１部、濃硫酸０．０５部、トルエン３０部を３時間加熱還流した。トルエンを減圧留去した後、酢酸エチル４０部を加え、反応混合物を水２０部で２回洗い、最後に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液２０部で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、硫酸マグネシウムをろ別した後、有機溶媒を減圧留去することで、表２に示す化合物１５を得た。収率は７４％であった。
ディーン・スターク装置において酢酸５部、２－チオフェンメタノール１部、濃硫酸０．０５部、トルエン３０部を３時間加熱還流した。トルエンを減圧留去した後、酢酸エチル４０部を加え、反応混合物を水２０部で２回洗い、最後に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液２０部で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、硫酸マグネシウムをろ別した後、有機溶媒を減圧留去することで、表２に示す化合物１５を得た。収率は７４％であった。
（化合物１６の合成）
ディーン・スターク装置において酢酸５部、テトラヒドロ－２Ｈ－ピラン－４－オール１部、濃硫酸０．０５部、トルエン３０部を３時間加熱還流した。トルエンを減圧留去した後、酢酸エチル４０部を加え、反応混合物を水２０部で２回洗い、最後に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液２０部で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、硫酸マグネシウムをろ別した後、有機溶媒を減圧留去することで、表２に示す化合物１６を得た。収率は８１％であった。
ディーン・スターク装置において酢酸５部、テトラヒドロ－２Ｈ－ピラン－４－オール１部、濃硫酸０．０５部、トルエン３０部を３時間加熱還流した。トルエンを減圧留去した後、酢酸エチル４０部を加え、反応混合物を水２０部で２回洗い、最後に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液２０部で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、硫酸マグネシウムをろ別した後、有機溶媒を減圧留去することで、表２に示す化合物１６を得た。収率は８１％であった。
（化合物１８の合成）
ジクロロメタン２０部に、酢酸１部、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルカルボジイミド１部、４－ジメチルアミノピリジン０．０５部を溶解させて攪拌した後、３－メチルチオプロピルアミンを１．６部加え、室温で２４時間反応させた。溶媒を減圧留去した後、混合物を酢酸エチル２０部に溶解させ、５%塩酸１０部で３回洗った後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１０部で１回洗った。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、硫酸マグネシウムをろ別し、有機層を減圧留去することで、表２に示す化合物１８を得た。収率は７２％であった。
ジクロロメタン２０部に、酢酸１部、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルカルボジイミド１部、４－ジメチルアミノピリジン０．０５部を溶解させて攪拌した後、３－メチルチオプロピルアミンを１．６部加え、室温で２４時間反応させた。溶媒を減圧留去した後、混合物を酢酸エチル２０部に溶解させ、５%塩酸１０部で３回洗った後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１０部で１回洗った。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、硫酸マグネシウムをろ別し、有機層を減圧留去することで、表２に示す化合物１８を得た。収率は７２％であった。
＜量子ドットの製造＞
［比較例１］（量子ドットＱＤ－０）
無水酢酸亜鉛０．５５部、ドデカンチオール（化合物０）７．０部、オレイルアミン５．０部を加熱溶解し添加液を作成した。別途、塩化インジウム０．２２部、オクチルアミン８．２５部を反応容器に入れ、窒素バブリングを行いながら、１６５℃に加熱した。塩化インジウムが溶解した後、ジエチルアミノホスフィン０．８６部を短時間で注入し、２０分間１６５℃に制御した。その後、急冷し、４０℃に冷却した。上記添加液を注入し、２４０℃２時間加熱した後に、室温まで放冷した。放冷後、ヘキサンとエタノールを用いて再沈殿法で精製を行った。沈殿を回収し、減圧乾燥することで、コアがＩｎＰでシェルがＺｎＳのコア・シェル型半導体微粒子をドデカンチオール（化合物０）で表面処理した量子ドットＱＤ－０を得た。
［比較例１］（量子ドットＱＤ－０）
無水酢酸亜鉛０．５５部、ドデカンチオール（化合物０）７．０部、オレイルアミン５．０部を加熱溶解し添加液を作成した。別途、塩化インジウム０．２２部、オクチルアミン８．２５部を反応容器に入れ、窒素バブリングを行いながら、１６５℃に加熱した。塩化インジウムが溶解した後、ジエチルアミノホスフィン０．８６部を短時間で注入し、２０分間１６５℃に制御した。その後、急冷し、４０℃に冷却した。上記添加液を注入し、２４０℃２時間加熱した後に、室温まで放冷した。放冷後、ヘキサンとエタノールを用いて再沈殿法で精製を行った。沈殿を回収し、減圧乾燥することで、コアがＩｎＰでシェルがＺｎＳのコア・シェル型半導体微粒子をドデカンチオール（化合物０）で表面処理した量子ドットＱＤ－０を得た。
［実施例１］（量子ドットＱＤ－１）
量子ドットＱＤ－０を、トルエンに分散させて固形分濃度１％とした。希釈した液と同量の５％化合物１のトルエン溶液を添加し、１２時間撹拌した。トルエンとヘキサンを用いて再沈殿法で精製を行った。沈殿を回収し、減圧乾燥することで、化合物１で表面処理された量子ドットＱＤ－１を得た。
量子ドットＱＤ－０を、トルエンに分散させて固形分濃度１％とした。希釈した液と同量の５％化合物１のトルエン溶液を添加し、１２時間撹拌した。トルエンとヘキサンを用いて再沈殿法で精製を行った。沈殿を回収し、減圧乾燥することで、化合物１で表面処理された量子ドットＱＤ－１を得た。
［実施例２～１８］［比較例２～６］（量子ドットＱＤ－２～２３）
表面処理剤を表４に示す化合物２～２２に変更した以外は、ＱＤ－１と同様にして、量子ドットＱＤ－２～２３を調製した。
表面処理剤を表４に示す化合物２～２２に変更した以外は、ＱＤ－１と同様にして、量子ドットＱＤ－２～２３を調製した。
＜バインダー成分（Ｃ）樹脂の製造＞
（樹脂溶液１）
セパラブル４口フラスコに温度計、冷却管、窒素ガス導入管、撹拌装置を取り付けた反応容器にキシレン７０．０部を仕込み、８０℃に昇温し、反応容器内を窒素置換した後、滴下管よりｎ－ブチルメタクリレート１８．０部、メタクリル酸メチル１２．０部、２，２’－アゾビスイソブチロニトリル０．４部の混合物を２時間かけて滴下した。滴下終了後、更に３時間反応を継続し、質量平均分子量（Ｍｗ）２６，０００のアクリル樹脂の溶液を得た。室温まで冷却した後、樹脂溶液約２部をサンプリングして１８０℃、２０分加熱乾燥して固形分濃度を測定し、先に合成した樹脂溶液に固形分濃度が１０質量％になるようにキシレンを添加して、アクリル樹脂の樹脂溶液１を得た。
（樹脂溶液１）
セパラブル４口フラスコに温度計、冷却管、窒素ガス導入管、撹拌装置を取り付けた反応容器にキシレン７０．０部を仕込み、８０℃に昇温し、反応容器内を窒素置換した後、滴下管よりｎ－ブチルメタクリレート１８．０部、メタクリル酸メチル１２．０部、２，２’－アゾビスイソブチロニトリル０．４部の混合物を２時間かけて滴下した。滴下終了後、更に３時間反応を継続し、質量平均分子量（Ｍｗ）２６，０００のアクリル樹脂の溶液を得た。室温まで冷却した後、樹脂溶液約２部をサンプリングして１８０℃、２０分加熱乾燥して固形分濃度を測定し、先に合成した樹脂溶液に固形分濃度が１０質量％になるようにキシレンを添加して、アクリル樹脂の樹脂溶液１を得た。
（樹脂溶液２）
セパラブル４口フラスコに温度計、冷却管、窒素ガス導入管、撹拌装置を取り付けた反応容器にキシレン７０．０部を仕込み、８０℃に昇温し、反応容器内を窒素置換した後、滴下管よりｎ－ブチルメタクリレート１４．０部、メタクリル酸メチル１０．０部、スチレン６．０部、２，２’－アゾビスイソブチロニトリル０．４部の混合物を２時間かけて滴下した。滴下終了後、更に３時間反応を継続し、質量平均分子量（Ｍｗ）２６，０００のアクリル樹脂の溶液を得た。室温まで冷却した後、樹脂溶液約２部をサンプリングして１８０℃、２０分加熱乾燥して固形分濃度を測定し、先に合成した樹脂溶液に固形分濃度が１０質量％になるようにキシレンを添加して、アクリル樹脂の樹脂溶液２を得た。
セパラブル４口フラスコに温度計、冷却管、窒素ガス導入管、撹拌装置を取り付けた反応容器にキシレン７０．０部を仕込み、８０℃に昇温し、反応容器内を窒素置換した後、滴下管よりｎ－ブチルメタクリレート１４．０部、メタクリル酸メチル１０．０部、スチレン６．０部、２，２’－アゾビスイソブチロニトリル０．４部の混合物を２時間かけて滴下した。滴下終了後、更に３時間反応を継続し、質量平均分子量（Ｍｗ）２６，０００のアクリル樹脂の溶液を得た。室温まで冷却した後、樹脂溶液約２部をサンプリングして１８０℃、２０分加熱乾燥して固形分濃度を測定し、先に合成した樹脂溶液に固形分濃度が１０質量％になるようにキシレンを添加して、アクリル樹脂の樹脂溶液２を得た。
（樹脂溶液３）
ポリビニルブチラール樹脂（積水化学製「エスレックＢＬ－Ｓ」）を固形分濃度１０％となるようにトルエンに溶解し、樹脂溶液３を得た。
ポリビニルブチラール樹脂（積水化学製「エスレックＢＬ－Ｓ」）を固形分濃度１０％となるようにトルエンに溶解し、樹脂溶液３を得た。
（樹脂溶液４）
ノルボルネン２００部、シクロペンテン５０部、１－ヘキセン１８０部及びトルエン７５０部を、窒素置換した反応容器に仕込み、６０℃に加熱した。これに、トリエチルアルミニウム（１．５モル／ｌ）のトルエン溶液０．６２部、ｔｅｒｔ－Ｃ４Ｈ５ＯＨ／ＣＨ３ＯＨで変性（ｔｅｒｔ－Ｃ４Ｈ９ＯＨ／ＣＨ３ＯＨ／Ｗ＝０．３５／０．３／１；モル比）したＷＣｌ６溶液（濃度０．０５モル／ｌ）３．７部を加え、８０℃で３時間加熱攪拌して、開環重合反応、水素添加反応を行い、次いでトリメチルベンゼンを用いて固形分濃度を１０％に調製して、樹脂溶液４を得た。
ノルボルネン２００部、シクロペンテン５０部、１－ヘキセン１８０部及びトルエン７５０部を、窒素置換した反応容器に仕込み、６０℃に加熱した。これに、トリエチルアルミニウム（１．５モル／ｌ）のトルエン溶液０．６２部、ｔｅｒｔ－Ｃ４Ｈ５ＯＨ／ＣＨ３ＯＨで変性（ｔｅｒｔ－Ｃ４Ｈ９ＯＨ／ＣＨ３ＯＨ／Ｗ＝０．３５／０．３／１；モル比）したＷＣｌ６溶液（濃度０．０５モル／ｌ）３．７部を加え、８０℃で３時間加熱攪拌して、開環重合反応、水素添加反応を行い、次いでトリメチルベンゼンを用いて固形分濃度を１０％に調製して、樹脂溶液４を得た。
＜光散乱粒子（Ｄ）分散液の製造＞
（金属酸化物微粒子分散液（Ｄ１－１））
エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート６０部中に、ＭＴ７００Ｂ（テイカ株式会社製、微粒子酸化チタン、平均一次粒子径８０ｎｍ）を２０部、ＢＹＫ－２１５５（ビッグケミー株式会社製）を２０部配合し、ガラスビーズ（粒子径：８５０～１１８０μｍ）を加え、ペイントコンディショナーを用いて２時間分散処理を行い、金属酸化物微粒子分散液（Ｄ１－１）を得た。
得られた金属酸化物微粒子分散液（Ｄ１－１）中の金属酸化物微粒子の平均粒子径は８５ｎｍであった。
（金属酸化物微粒子分散液（Ｄ１－１））
エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート６０部中に、ＭＴ７００Ｂ（テイカ株式会社製、微粒子酸化チタン、平均一次粒子径８０ｎｍ）を２０部、ＢＹＫ－２１５５（ビッグケミー株式会社製）を２０部配合し、ガラスビーズ（粒子径：８５０～１１８０μｍ）を加え、ペイントコンディショナーを用いて２時間分散処理を行い、金属酸化物微粒子分散液（Ｄ１－１）を得た。
得られた金属酸化物微粒子分散液（Ｄ１－１）中の金属酸化物微粒子の平均粒子径は８５ｎｍであった。
（金属酸化物微粒子分散液（Ｄ１－２））
ＭＴ７００Ｂを、ＭＴ６００Ｂ（テイカ株式会社製、微粒子酸化チタン、平均一次粒子径５０ｎｍ）に変更した以外は、金属酸化物微粒子分散液（Ｄ１－１）と同様にして、金属酸化物微粒子分散液（Ｄ１－２）を得た。
得られた金属酸化物微粒子分散液（Ｄ１－２）中の金属酸化物微粒子の平均粒子径は４８ｎｍであった。
ＭＴ７００Ｂを、ＭＴ６００Ｂ（テイカ株式会社製、微粒子酸化チタン、平均一次粒子径５０ｎｍ）に変更した以外は、金属酸化物微粒子分散液（Ｄ１－１）と同様にして、金属酸化物微粒子分散液（Ｄ１－２）を得た。
得られた金属酸化物微粒子分散液（Ｄ１－２）中の金属酸化物微粒子の平均粒子径は４８ｎｍであった。
（金属酸化物微粒子分散液（Ｄ１－３））
ＭＴ７００Ｂを、ＭＴ６００ＳＡ（テイカ株式会社製、Ｓｉ、Ａｌ処理、微粒子酸化チタン、平均一次粒子径５０ｎｍ）に変更した以外は、金属酸化物微粒子分散液（Ｄ１－１）と同様にして、金属酸化物微粒子分散液（Ｄ１－３）を得た。
得られた金属酸化物微粒子分散液（Ｄ１－３）中の金属酸化物微粒子の平均粒子径は４９ｎｍであった。
ＭＴ７００Ｂを、ＭＴ６００ＳＡ（テイカ株式会社製、Ｓｉ、Ａｌ処理、微粒子酸化チタン、平均一次粒子径５０ｎｍ）に変更した以外は、金属酸化物微粒子分散液（Ｄ１－１）と同様にして、金属酸化物微粒子分散液（Ｄ１－３）を得た。
得られた金属酸化物微粒子分散液（Ｄ１－３）中の金属酸化物微粒子の平均粒子径は４９ｎｍであった。
（有機微粒子分散液（Ｄ２－１））
窒素雰囲気下、水５６０部の中に、トリフルオロエチルメタクレート５０部、メチルメタクリレート４０部、アリルメタクリレート５部、及びイソボルニルメタクリレート５部を添加、撹拌し、８０℃に昇温し、２，２－アゾビス（２－アミジノプロパン）ジヒドロクロリド０．１６７部をごく少量の水に溶解した水溶液を一気に加え、８０℃で８時間重合した。重合後、エチレングリコールモノブチルエーテルを加え、ストリッピングにより水を除去して固形分２０質量％に調整し、フッ素原子含有のアクリル樹脂微粒子である有機微粒子分散液（Ｄ２－１）を得た。
得られた有機微粒子分散液（Ｄ２－１）中の有機微粒子の平均粒子径は２８０ｎｍであった。
窒素雰囲気下、水５６０部の中に、トリフルオロエチルメタクレート５０部、メチルメタクリレート４０部、アリルメタクリレート５部、及びイソボルニルメタクリレート５部を添加、撹拌し、８０℃に昇温し、２，２－アゾビス（２－アミジノプロパン）ジヒドロクロリド０．１６７部をごく少量の水に溶解した水溶液を一気に加え、８０℃で８時間重合した。重合後、エチレングリコールモノブチルエーテルを加え、ストリッピングにより水を除去して固形分２０質量％に調整し、フッ素原子含有のアクリル樹脂微粒子である有機微粒子分散液（Ｄ２－１）を得た。
得られた有機微粒子分散液（Ｄ２－１）中の有機微粒子の平均粒子径は２８０ｎｍであった。
（有機微粒子分散液（Ｄ２－２～４））
溶剤組成とモノマー組成を、表５に示す組成及び配合量（部）に変更した以外は、有機微粒子分散液（Ｄ２－１）と同様の方法で、フッ素原子含有のアクリル樹脂微粒子である有機微粒子分散液（Ｄ２－２～４）を得た。得られた有機微粒子分散液の平均粒子径を表５に示す。
溶剤組成とモノマー組成を、表５に示す組成及び配合量（部）に変更した以外は、有機微粒子分散液（Ｄ２－１）と同様の方法で、フッ素原子含有のアクリル樹脂微粒子である有機微粒子分散液（Ｄ２－２～４）を得た。得られた有機微粒子分散液の平均粒子径を表５に示す。
（有機微粒子分散液（Ｄ２－５））
エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート８０部中に、エポスターＳ（日本触媒株式会社製、メラミン・ホルムアルデヒド縮合物、平均粒子径２００ｎｍ）を１６.０部、ＢＹＫ－１１１（ビッグケミー株式会社製）を４．０部配合し、ガラスビーズ（粒子径：８５０－１１８０μｍ）を加え、ペイントコンディショナーを用いて２時間分散処理を行い、メラミン樹脂微粒子である有機微粒子分散液（Ｄ２－５）を得た。
得られた有機微粒子分散液（Ｄ２－５）中の有機微粒子の平均粒子径は１７５ｎｍであった。
エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート８０部中に、エポスターＳ（日本触媒株式会社製、メラミン・ホルムアルデヒド縮合物、平均粒子径２００ｎｍ）を１６.０部、ＢＹＫ－１１１（ビッグケミー株式会社製）を４．０部配合し、ガラスビーズ（粒子径：８５０－１１８０μｍ）を加え、ペイントコンディショナーを用いて２時間分散処理を行い、メラミン樹脂微粒子である有機微粒子分散液（Ｄ２－５）を得た。
得られた有機微粒子分散液（Ｄ２－５）中の有機微粒子の平均粒子径は１７５ｎｍであった。
（有機微粒子分散液（Ｄ２－６））
エポスターＳを、エポスターＦＳ（日本触媒株式会社製、メラミン・ホルムアルデヒド縮合物、平均粒子径２００ｎｍ）に変更した以外は、有機微粒子分散液（Ｄ２－５）と同様にして、メラミン樹脂微粒子である有機微粒子分散液（Ｄ２－６）を得た。
得られた有機微粒子分散液（Ｄ２－６）中の有機微粒子の平均粒子径は１７３ｎｍであった。
エポスターＳを、エポスターＦＳ（日本触媒株式会社製、メラミン・ホルムアルデヒド縮合物、平均粒子径２００ｎｍ）に変更した以外は、有機微粒子分散液（Ｄ２－５）と同様にして、メラミン樹脂微粒子である有機微粒子分散液（Ｄ２－６）を得た。
得られた有機微粒子分散液（Ｄ２－６）中の有機微粒子の平均粒子径は１７３ｎｍであった。
（有機微粒子分散液（Ｄ２－７））
エポスターＳを、ＭＸ－８０Ｈ３ｗＴＭ（綜研化学株式会社製、架橋アクリル単分散粒子、平均粒子径８００ｎｍ）に変更した以外は、有機微粒子分散液（Ｄ２－５）と同様にして、架橋アクリル樹脂微粒子である有機微粒子分散液（Ｄ２－７）を得た。
得られた有機微粒子分散液（Ｄ２－７）中の有機微粒子の平均粒子径は７３２ｎｍであった。
エポスターＳを、ＭＸ－８０Ｈ３ｗＴＭ（綜研化学株式会社製、架橋アクリル単分散粒子、平均粒子径８００ｎｍ）に変更した以外は、有機微粒子分散液（Ｄ２－５）と同様にして、架橋アクリル樹脂微粒子である有機微粒子分散液（Ｄ２－７）を得た。
得られた有機微粒子分散液（Ｄ２－７）中の有機微粒子の平均粒子径は７３２ｎｍであった。
（有機微粒子分散液（Ｄ２－８））
エポスターＳを、ＭＸ－８０Ｈ３ｗＴＭ（綜研化学株式会社製、架橋アクリル単分散粒子、平均粒子径８００ｎｍ）に、ＢＹＫ－１１１をＢＹＫ－２１５５（ビッグケミー株式会社製）に変更した以外は、有機微粒子分散液（Ｄ２－５）と同様にして、架橋アクリル樹脂微粒子である有機微粒子分散液（Ｄ２－８）を得た。
得られた有機微粒子分散液（Ｄ２－６）中の有機微粒子の平均粒子径は６７３ｎｍであった。
エポスターＳを、ＭＸ－８０Ｈ３ｗＴＭ（綜研化学株式会社製、架橋アクリル単分散粒子、平均粒子径８００ｎｍ）に、ＢＹＫ－１１１をＢＹＫ－２１５５（ビッグケミー株式会社製）に変更した以外は、有機微粒子分散液（Ｄ２－５）と同様にして、架橋アクリル樹脂微粒子である有機微粒子分散液（Ｄ２－８）を得た。
得られた有機微粒子分散液（Ｄ２－６）中の有機微粒子の平均粒子径は６７３ｎｍであった。
＜インク組成物の調製＞
［実施例１０１］
（インク組成物１）
密閉できる容器に、量子ドット（ＱＤ－１）２５部と、樹脂溶液１ ４６．５部を計量し、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート２８．５部を加えた。その後、密閉して撹拌し、孔径１μｍのメンブレンフィルターを用いてろ過を行い、インク組成物１を得た。
［実施例１０１］
（インク組成物１）
密閉できる容器に、量子ドット（ＱＤ－１）２５部と、樹脂溶液１ ４６．５部を計量し、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート２８．５部を加えた。その後、密閉して撹拌し、孔径１μｍのメンブレンフィルターを用いてろ過を行い、インク組成物１を得た。
［実施例１０２～１２１、比較例１０１～１０５］
（インク組成物２～２１、０、５７～６０）
密閉できる容器に、表６及び表７に示した配合組成にて、量子ドット、樹脂溶液、溶剤の順番で計量した以外は、インク組成物１と同様にしてインク組成物２～２１、０、５７～６０を調製した。また、比較例１０１～１０５は、量子ドット２５部が完全に分散する量の溶剤を加えた。
（インク組成物２～２１、０、５７～６０）
密閉できる容器に、表６及び表７に示した配合組成にて、量子ドット、樹脂溶液、溶剤の順番で計量した以外は、インク組成物１と同様にしてインク組成物２～２１、０、５７～６０を調製した。また、比較例１０１～１０５は、量子ドット２５部が完全に分散する量の溶剤を加えた。
［実施例１２２］
（インク組成物２２）
密閉できる容器に、樹脂溶液１を４６．５部、量子ドット（ＱＤ－１）を２５部、金属酸化物微粒子分散液（Ｄ１－１）１６部、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート１２．５部を計量した。その後、密閉して撹拌し、孔径１μｍのメンブレンフィルターを用いてろ過を行い、インク組成物２２を得た。
（インク組成物２２）
密閉できる容器に、樹脂溶液１を４６．５部、量子ドット（ＱＤ－１）を２５部、金属酸化物微粒子分散液（Ｄ１－１）１６部、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート１２．５部を計量した。その後、密閉して撹拌し、孔径１μｍのメンブレンフィルターを用いてろ過を行い、インク組成物２２を得た。
［実施例１２３～１４０］
（インク組成物２３～４０）
密閉できる容器に、表６に示した配合組成にて、樹脂溶液、量子ドット、金属酸化物微粒子分散液、有機微粒子分散液の順番で計量した以外は、インク組成物２２と同様にしてインク組成物２３～４０を調製した。
（インク組成物２３～４０）
密閉できる容器に、表６に示した配合組成にて、樹脂溶液、量子ドット、金属酸化物微粒子分散液、有機微粒子分散液の順番で計量した以外は、インク組成物２２と同様にしてインク組成物２３～４０を調製した。
［実施例１４１］
（インク組成物４１）
密閉できる容器に、ジエチルアクリルアミドを６５部、重合性化合物、量子ドット（ＱＤ－２）を２５部、Ｏｍｎｉｒａｄ９０７（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ.Ｖ.社製光重合開始剤）７．５部、カヤキュアＤＥＴＸ－Ｓ（日本化薬社製光重合開始剤）２．５部を計量した。その後、密閉して撹拌し、孔径１μｍのメンブレンフィルターを用いてろ過を行い、インク組成物４１を得た。
（インク組成物４１）
密閉できる容器に、ジエチルアクリルアミドを６５部、重合性化合物、量子ドット（ＱＤ－２）を２５部、Ｏｍｎｉｒａｄ９０７（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ.Ｖ.社製光重合開始剤）７．５部、カヤキュアＤＥＴＸ－Ｓ（日本化薬社製光重合開始剤）２．５部を計量した。その後、密閉して撹拌し、孔径１μｍのメンブレンフィルターを用いてろ過を行い、インク組成物４１を得た。
［実施例１４２、１４３］
（インク組成物４２、４３）
密閉できる容器に、表６に示した配合組成にて、重合性化合物、量子ドット、Ｏｍｎｉｒａｄ９０７、カヤキュアＤＥＴＸ－Ｓの順番で計量した以外は、インク組成物４１と同様にしてインク組成物４２、４３を調製した。
（インク組成物４２、４３）
密閉できる容器に、表６に示した配合組成にて、重合性化合物、量子ドット、Ｏｍｎｉｒａｄ９０７、カヤキュアＤＥＴＸ－Ｓの順番で計量した以外は、インク組成物４１と同様にしてインク組成物４２、４３を調製した。
［実施例１４４］
（インク組成物４４）
密閉できる容器に、ジエチルアクリルアミドを４０部、量子ドット（ＱＤ－２）を２５部、Ｏｍｎｉｒａｄ９０７ ７．５部、カヤキュアＤＥＴＸ－Ｓ ２．５部、金属酸化物微粒子分散液（Ｄ１－１）２５部 を計量した。その後、密閉して撹拌し、孔径１μｍのメンブレンフィルターを用いてろ過を行い、インク組成物４４を得た。
（インク組成物４４）
密閉できる容器に、ジエチルアクリルアミドを４０部、量子ドット（ＱＤ－２）を２５部、Ｏｍｎｉｒａｄ９０７ ７．５部、カヤキュアＤＥＴＸ－Ｓ ２．５部、金属酸化物微粒子分散液（Ｄ１－１）２５部 を計量した。その後、密閉して撹拌し、孔径１μｍのメンブレンフィルターを用いてろ過を行い、インク組成物４４を得た。
［実施例１４５～１５３、比較例１０７～１１０］
（インク組成物４５～５３、６２～６５）
密閉できる容器に、表６及び表７に示した配合組成にて、重合性化合物、量子ドット、Ｏｍｎｉｒａｄ９０７、カヤキュアＤＥＴＸ－Ｓ、金属酸化物微粒子分散液、有機微粒子分散液の順番で計量した以外は、インク組成物４４と同様にしてインク組成物４５～５３、６２～６５を調製した。
（インク組成物４５～５３、６２～６５）
密閉できる容器に、表６及び表７に示した配合組成にて、重合性化合物、量子ドット、Ｏｍｎｉｒａｄ９０７、カヤキュアＤＥＴＸ－Ｓ、金属酸化物微粒子分散液、有機微粒子分散液の順番で計量した以外は、インク組成物４４と同様にしてインク組成物４５～５３、６２～６５を調製した。
［実施例１５４］
（インク組成物５４）
密閉できる容器に、量子ドット（ＱＤ－２）を２５部、ｊＥＲ１００１（三菱ケミカル社製、エポキシ樹脂）５部、ラッカマイドＴＤ－９８４（ＤＩＣ社製無溶剤ポリアミドアミン型アミン系硬化剤）１部、トルエン５３部、金属酸化物微粒子分散液（Ｄ１－１）１６部を計量した。その後、密閉して撹拌し、孔径１μｍのメンブレンフィルターを用いてろ過を行い、インク組成物５４を得た。
（インク組成物５４）
密閉できる容器に、量子ドット（ＱＤ－２）を２５部、ｊＥＲ１００１（三菱ケミカル社製、エポキシ樹脂）５部、ラッカマイドＴＤ－９８４（ＤＩＣ社製無溶剤ポリアミドアミン型アミン系硬化剤）１部、トルエン５３部、金属酸化物微粒子分散液（Ｄ１－１）１６部を計量した。その後、密閉して撹拌し、孔径１μｍのメンブレンフィルターを用いてろ過を行い、インク組成物５４を得た。
［実施例１５５、比較例１１１］
（インク組成物５５、６６）
密閉できる容器に、表６及び表７に示した配合組成にて、量子ドット、樹脂、硬化剤、溶剤、金属酸化物微粒子分散液を計量した。その後、密閉して撹拌し、孔径１μｍのメンブレンフィルターを用いてろ過を行い、インク組成物５５、６６を得た。
（インク組成物５５、６６）
密閉できる容器に、表６及び表７に示した配合組成にて、量子ドット、樹脂、硬化剤、溶剤、金属酸化物微粒子分散液を計量した。その後、密閉して撹拌し、孔径１μｍのメンブレンフィルターを用いてろ過を行い、インク組成物５５、６６を得た。
［実施例１５６］
（インク組成物５６）
密閉できる容器に、量子ドット（ＱＤ－２）２５部と、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート７５部を加えた。その後、密閉して撹拌し、孔径１μｍのメンブレンフィルターを用いてろ過を行い、インク組成物５６を得た。
（インク組成物５６）
密閉できる容器に、量子ドット（ＱＤ－２）２５部と、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート７５部を加えた。その後、密閉して撹拌し、孔径１μｍのメンブレンフィルターを用いてろ過を行い、インク組成物５６を得た。
以下に、表６及び表７中の略称を示す。
ＤＢＣＡ：ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート（沸点２４７℃、ＳＰ値８．９、溶剤（Ｓ－１）に該当）
ＰＧＭＡｃ：プロピレングリコールメチルエーテルアセテート（沸点１４７℃、ＳＰ値８．７、溶剤（Ｓ－２）に該当）
ＭＥＫ：メチルメチルケトン
ＤＥＡＡ：ジエチルアクリルアミド
ＤＰＧＤＡ：ジプロピレングリコールジアクリレート
ｊＥＲ１００１：三菱ケミカル社製エポキシ樹脂、エポキシ当量４５０～５００、数平均分子量９００
バイロン２００：東洋紡社製ポリエステル樹脂、ガラス転移温度６７℃、数平均分子量１７，０００
ＴＤ－９８４：ＤＩＣ社製無溶剤ポリアミドアミン型アミン系硬化剤「ラッカマイドＴＤ－９８４」、アミン価２８５～３１５ｍｇＫＯＨ／ｇ
Ｄ１１０Ｎ：三井化学社製「タケネートＤ－１１０Ｎ」、キシリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパン変性体
開始剤１：ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ.Ｖ.社製光重合開始剤「Ｏｍｎｉｒａｄ９０７」、α－アミノアルキルフェノン
開始剤２：日本化薬社製光重合開始剤「カヤキュアＤＥＴＸ－Ｓ」、２,４－ジエチルチオキサントン
ＤＢＣＡ：ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート（沸点２４７℃、ＳＰ値８．９、溶剤（Ｓ－１）に該当）
ＰＧＭＡｃ：プロピレングリコールメチルエーテルアセテート（沸点１４７℃、ＳＰ値８．７、溶剤（Ｓ－２）に該当）
ＭＥＫ：メチルメチルケトン
ＤＥＡＡ：ジエチルアクリルアミド
ＤＰＧＤＡ：ジプロピレングリコールジアクリレート
ｊＥＲ１００１：三菱ケミカル社製エポキシ樹脂、エポキシ当量４５０～５００、数平均分子量９００
バイロン２００：東洋紡社製ポリエステル樹脂、ガラス転移温度６７℃、数平均分子量１７，０００
ＴＤ－９８４：ＤＩＣ社製無溶剤ポリアミドアミン型アミン系硬化剤「ラッカマイドＴＤ－９８４」、アミン価２８５～３１５ｍｇＫＯＨ／ｇ
Ｄ１１０Ｎ：三井化学社製「タケネートＤ－１１０Ｎ」、キシリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパン変性体
開始剤１：ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ.Ｖ.社製光重合開始剤「Ｏｍｎｉｒａｄ９０７」、α－アミノアルキルフェノン
開始剤２：日本化薬社製光重合開始剤「カヤキュアＤＥＴＸ－Ｓ」、２,４－ジエチルチオキサントン
＜インク組成物の評価＞
得られたインク組成物について、以下の評価を実施した。結果を表８に示す。
得られたインク組成物について、以下の評価を実施した。結果を表８に示す。
［励起光透過率］
重合性化合物を含まないインク組成物は、バーコータ－を用いて乾燥後膜厚６．０μｍになるように透明フィルム（東レ（株）社製ポリエステルフィルム ルミラー７５Ｓ１０）に塗工し、１００℃環境下で乾燥させた。重合性化合物を含むインク組成物は、バーコータ－を用いて乾燥後膜厚６．０μｍになるように透明フィルム（東レ（株）社製ポリエステルフィルム ルミラー７５Ｓ１０）に塗工し、塗工フィルムを窒素置換したグローブボックス内に設置したＬＥＤ照射器を用いて、積算光量５００ｍＪ／ｃｍ２（ＵＶＡ換算）照射し、硬化させた。
得られた膜の励起光透過率を、大塚電子株式会社製ＱＥ－２０００を用いて測定し、下記基準で評価した。なお、励起波長は４５０ｎｍとした。
◎：１０％未満（良好）
○：１０％以上２０％未満（使用可能）
△：２０％以上３０％未満（使用不可）
×：３０%以上（不良）
重合性化合物を含まないインク組成物は、バーコータ－を用いて乾燥後膜厚６．０μｍになるように透明フィルム（東レ（株）社製ポリエステルフィルム ルミラー７５Ｓ１０）に塗工し、１００℃環境下で乾燥させた。重合性化合物を含むインク組成物は、バーコータ－を用いて乾燥後膜厚６．０μｍになるように透明フィルム（東レ（株）社製ポリエステルフィルム ルミラー７５Ｓ１０）に塗工し、塗工フィルムを窒素置換したグローブボックス内に設置したＬＥＤ照射器を用いて、積算光量５００ｍＪ／ｃｍ２（ＵＶＡ換算）照射し、硬化させた。
得られた膜の励起光透過率を、大塚電子株式会社製ＱＥ－２０００を用いて測定し、下記基準で評価した。なお、励起波長は４５０ｎｍとした。
◎：１０％未満（良好）
○：１０％以上２０％未満（使用可能）
△：２０％以上３０％未満（使用不可）
×：３０%以上（不良）
［外部量子効率］
重合性化合物を含まないインク組成物は、バーコータ－を用いて乾燥後膜厚６．０μｍになるように透明フィルム（東レ（株）社製ポリエステルフィルム ルミラー７５Ｓ１０）に塗工し、１００℃環境下で乾燥させた。重合性化合物を含むインク組成物は、バーコータ－を用いて乾燥後膜厚６．０μｍになるように透明フィルム（東レ（株）社製ポリエステルフィルム ルミラー７５Ｓ１０）に塗工し、塗工フィルムを窒素置換したグローブボックス内に設置したＬＥＤ照射器を用いて、積算光量５００ｍＪ／ｃｍ２（ＵＶＡ換算）照射し、硬化させた。
得られた膜の外部量子効率（ＥＱＥ）を、大塚電子株式会社製ＱＥ－２０００を用いて測定し、下記基準で評価した。なお、励起波長は４５０ｎｍとし、蛍光波長の積分範囲は５００ｎｍ～８００ｎｍとした。
◎：２０％以上（非常に良好）
○：１５％以上２０％未満（良好）
△：１０％以上１５％未満（使用可能）
×：１０％未満（使用不可）
重合性化合物を含まないインク組成物は、バーコータ－を用いて乾燥後膜厚６．０μｍになるように透明フィルム（東レ（株）社製ポリエステルフィルム ルミラー７５Ｓ１０）に塗工し、１００℃環境下で乾燥させた。重合性化合物を含むインク組成物は、バーコータ－を用いて乾燥後膜厚６．０μｍになるように透明フィルム（東レ（株）社製ポリエステルフィルム ルミラー７５Ｓ１０）に塗工し、塗工フィルムを窒素置換したグローブボックス内に設置したＬＥＤ照射器を用いて、積算光量５００ｍＪ／ｃｍ２（ＵＶＡ換算）照射し、硬化させた。
得られた膜の外部量子効率（ＥＱＥ）を、大塚電子株式会社製ＱＥ－２０００を用いて測定し、下記基準で評価した。なお、励起波長は４５０ｎｍとし、蛍光波長の積分範囲は５００ｎｍ～８００ｎｍとした。
◎：２０％以上（非常に良好）
○：１５％以上２０％未満（良好）
△：１０％以上１５％未満（使用可能）
×：１０％未満（使用不可）
［分散安定性］
得られたインク組成物について、インク組成物調製直後と、２５℃４８時間経時後について、振動式粘度計ビスコメイトＶＭ－１０Ａ－Ｌ（ＳＥＫＯＮＩＣ社製）を用いて、２５℃における粘度を測定して粘度の変化率を算出し、下記基準で評価を行った。
○：粘度変化率が±５％ 未満（良好）
△：粘度変化率が±５％以上±１０％未満（使用不可）
×：粘度変化率が±１０％以上（不良）
得られたインク組成物について、インク組成物調製直後と、２５℃４８時間経時後について、振動式粘度計ビスコメイトＶＭ－１０Ａ－Ｌ（ＳＥＫＯＮＩＣ社製）を用いて、２５℃における粘度を測定して粘度の変化率を算出し、下記基準で評価を行った。
○：粘度変化率が±５％ 未満（良好）
△：粘度変化率が±５％以上±１０％未満（使用不可）
×：粘度変化率が±１０％以上（不良）
［ＩＪ印刷試験］
得られたインク組成物を用いて、下記条件でＩＪ印刷試験を行った。得られた印刷物及び吐出状況について、下記基準で評価を行った。
重合性化合物を含むインク組成物は、印刷後乾燥の代わりに、窒素置換したグローブボックス内に設置したＬＥＤ照射器を用いて、積算光量５００ｍＪ／ｃｍ２（ＵＶＡ換算）を照射して硬化させた。硬化剤を含むインク組成物は、印刷後乾燥の代わりに４０℃３日間エージングして硬化させた。
（印刷条件）
印刷機ＤｉｍａｔｉｘＭａｔｅｒｉａｌｓＰｒｉｎｔｅｒ
カートリッジ１０ＤｉｍａｔｉｘＭａｔｅｒｉａｌｓＣａｒｔｒｉｇｅｓ、１０ｐＬ
印刷パターン１ｍｍ間隔の格子模様
基板丸カバーガラス・松浪ガラス工業製
基板温度３０℃
印刷後乾燥４０℃２０分
（評価基準）
○：印刷パターン通りに吐出できた（良好）
×：ノズル詰りが発生した（不良）
得られたインク組成物を用いて、下記条件でＩＪ印刷試験を行った。得られた印刷物及び吐出状況について、下記基準で評価を行った。
重合性化合物を含むインク組成物は、印刷後乾燥の代わりに、窒素置換したグローブボックス内に設置したＬＥＤ照射器を用いて、積算光量５００ｍＪ／ｃｍ２（ＵＶＡ換算）を照射して硬化させた。硬化剤を含むインク組成物は、印刷後乾燥の代わりに４０℃３日間エージングして硬化させた。
（印刷条件）
印刷機ＤｉｍａｔｉｘＭａｔｅｒｉａｌｓＰｒｉｎｔｅｒ
カートリッジ１０ＤｉｍａｔｉｘＭａｔｅｒｉａｌｓＣａｒｔｒｉｇｅｓ、１０ｐＬ
印刷パターン１ｍｍ間隔の格子模様
基板丸カバーガラス・松浪ガラス工業製
基板温度３０℃
印刷後乾燥４０℃２０分
（評価基準）
○：印刷パターン通りに吐出できた（良好）
×：ノズル詰りが発生した（不良）
［ＩＪ連続吐出性］
得られたインク組成物を用いて、上述の印刷試験と同様にしてＩＪ連続吐出を行った。吐出状況を目視で確認し、下記基準で評価を行った。
（評価基準）
○：連続吐出可能時間が、３０分間以上である（良好）
△：連続吐出可能時間が、１０分間以上、３０分間未満である（使用可能）
×：連続吐出可能時間が、１０分間未満である（使用不可）
得られたインク組成物を用いて、上述の印刷試験と同様にしてＩＪ連続吐出を行った。吐出状況を目視で確認し、下記基準で評価を行った。
（評価基準）
○：連続吐出可能時間が、３０分間以上である（良好）
△：連続吐出可能時間が、１０分間以上、３０分間未満である（使用可能）
×：連続吐出可能時間が、１０分間未満である（使用不可）
特定のリガンド化合物で表面処理された半導体微粒子である量子ドットを含む本発明のインク組成物を用いた塗膜は、励起光透過率が低く、高い外部量子効率（ＥＱＥ）を有し、且つ分散安定性に優れていた。また、良好なＩＪ吐出性を有しており、インクジェットインク用に有用であることが示された。
実施例では、いずれも励起光透過率が低く優れていた。これは、実施例で用いたリガンド化合物１～１８が分子鎖の末端にカルボニル構造を有しており、これが溶剤と量子ドットとの親和性を高め、励起光透過率が適格水準となる濃度まで量子ドットが分散されたためと考えられる。
Ｒ１が酸素原子であり、Ｒ２がアルキル基であるアセトキシ末端を有するリガンド化合物（化合物１～３、１３～１５）で表面処理された量子ドットを含む実施例１０１～１０３、１１３～１１５は、その他のリガンド化合物と比較して、外部量子効率が優れていた。
金属酸化物微粒子を併用した実施例１２２～１４０、１４４～１５５は、金属酸化物微粒子が散乱体として機能したため、励起光透過が更に低下した。また、金属酸化物微粒子の併用に伴い外部量子効率も向上しているが、これは、散乱光が量子ドットに吸収される経路が増えたためだと考えられる。
また、Ｒ１が酸素原子であり、Ｒ２がアルキル基であるアセトキシ末端を有する化合物で表面処理され、且つ光散乱粒子を含む実施例１２２～１２４、１２９～１４０、１４４～１５３は、外部量子効率が特に優れていた。これは、アセトキシ末端を有するリガンド化合物が、光散乱粒子の存在下においても、量子ドットを安定に分散させる性能を有しているためだと推測される。
実施例では、いずれも励起光透過率が低く優れていた。これは、実施例で用いたリガンド化合物１～１８が分子鎖の末端にカルボニル構造を有しており、これが溶剤と量子ドットとの親和性を高め、励起光透過率が適格水準となる濃度まで量子ドットが分散されたためと考えられる。
Ｒ１が酸素原子であり、Ｒ２がアルキル基であるアセトキシ末端を有するリガンド化合物（化合物１～３、１３～１５）で表面処理された量子ドットを含む実施例１０１～１０３、１１３～１１５は、その他のリガンド化合物と比較して、外部量子効率が優れていた。
金属酸化物微粒子を併用した実施例１２２～１４０、１４４～１５５は、金属酸化物微粒子が散乱体として機能したため、励起光透過が更に低下した。また、金属酸化物微粒子の併用に伴い外部量子効率も向上しているが、これは、散乱光が量子ドットに吸収される経路が増えたためだと考えられる。
また、Ｒ１が酸素原子であり、Ｒ２がアルキル基であるアセトキシ末端を有する化合物で表面処理され、且つ光散乱粒子を含む実施例１２２～１２４、１２９～１４０、１４４～１５３は、外部量子効率が特に優れていた。これは、アセトキシ末端を有するリガンド化合物が、光散乱粒子の存在下においても、量子ドットを安定に分散させる性能を有しているためだと推測される。
Claims (10)
- 下記一般式（１）で示される化合物で表面処理された半導体微粒子である、量子ドット（Ａ）。
一般式（１）
Ｘ： 直接結合、又は分子量１５０以下の２価の連結基
Ｙ： メチレン基、メチン基、又は４置換炭素原子
Ｑ： スルファニル基、アルキルスルファニル基、又は硫黄原子を含有する１価の複素環基
Ｒ1： 直接結合、イミノ基（ＮＲ3）、酸素原子、又はＣＨ2Ｏ
Ｒ2： 炭素数１～３のアルキル基
Ｒ 3 ： 各々独立して、アルキル基、又は水素原子
ｍ： １～３の整数］ - 前記半導体微粒子が化合物半導体である、請求項１に記載の量子ドット（Ａ）。
- 前記半導体微粒子がコア・シェル型であり、前記一般式（１）で示される化合物でシェル表面が処理されてなる、請求項１又は２に記載の量子ドット（Ａ）。
- 一般式（１）において、Ｒ1が酸素原子であり、Ｒ2が炭素数１～３のアルキル基である、請求項１～３いずれか１項に記載の量子ドット（Ａ）。
- 一般式（１）のＸにおける２価の連結基の分子量が、１１０以下である、請求項１～４いずれか１項に記載の量子ドット（Ａ）。
- 請求項１～５いずれか１項に記載の量子ドット（Ａ）と溶剤（Ｂ）とを含むインク組成物。
- 請求項１～５いずれか１項に記載の量子ドット（Ａ）とバインダー成分（Ｃ）とを含むインク組成物。
- さらに、光散乱粒子（Ｄ）を含む、請求項７に記載のインク組成物。
- インクジェット方式で用いられる、請求項６～８いずれか１項に記載のインク組成物。
- 請求項６～８いずれか１項に記載のインク組成物を用いて形成される印刷物。
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