JP7234348B2 - 感光性転写材料、樹脂パターンの製造方法、回路配線の製造方法、及び、タッチパネルの製造方法 - Google Patents
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Description
本開示は、感光性転写材料、樹脂パターンの製造方法、回路配線の製造方法、及び、タッチパネルの製造方法に関する。
静電容量型入力装置などのタッチパネルを備えた表示装置（有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置及び液晶表示装置など）では、視認部のセンサーに相当する電極パターン、周辺配線部分及び取り出し配線部分の配線などの導電層パターンがタッチパネル内部に設けられている。
一般的にパターン化した層の形成には、必要とするパターン形状を得るための工程数が少ないといったことから、感光性転写材料を用いて任意の基板上に設けた感光性樹脂組成物の層に対して、所望のパターンを有するマスクを介して露光した後に現像する方法が広く使用されている。
一般的にパターン化した層の形成には、必要とするパターン形状を得るための工程数が少ないといったことから、感光性転写材料を用いて任意の基板上に設けた感光性樹脂組成物の層に対して、所望のパターンを有するマスクを介して露光した後に現像する方法が広く使用されている。
また、従来の感光性樹脂積層体、感光性樹脂組成物、又は、パターン形成方法としては、特許文献１～４に記載されたものが知られている。
特許文献１には、支持フィルム上に、層厚が１０μｍ以上１００μｍ以下の第一層と、層厚が０．１μｍ以上１０μｍ以下の第二層と、感光性樹脂層とを順次積層してなる感光性樹脂積層体であって、上記第一層が、熱可塑性樹脂を含有し、そして上記第二層が、ポリビニルアルコール：７５～９９質量％と、下記一般式（Ｉ）：
Ｒ１－Ｏ－（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ１－Ｒ２ （Ｉ）
｛式中、Ｒ１及びＲ２は、Ｈ又はＣＨ３であり、これらは同一であっても相違してもよく、そしてｎ１は、３～２５の整数である。｝で表される化合物、及び下記一般式（ＩＩ）：
特許文献１には、支持フィルム上に、層厚が１０μｍ以上１００μｍ以下の第一層と、層厚が０．１μｍ以上１０μｍ以下の第二層と、感光性樹脂層とを順次積層してなる感光性樹脂積層体であって、上記第一層が、熱可塑性樹脂を含有し、そして上記第二層が、ポリビニルアルコール：７５～９９質量％と、下記一般式（Ｉ）：
Ｒ１－Ｏ－（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ１－Ｒ２ （Ｉ）
｛式中、Ｒ１及びＲ２は、Ｈ又はＣＨ３であり、これらは同一であっても相違してもよく、そしてｎ１は、３～２５の整数である。｝で表される化合物、及び下記一般式（ＩＩ）：
｛式中、Ｒ３は、Ｈ又は炭素数１～６のアルキル基であり、そしてｎ２は、９～１０，０００の整数である。｝で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物：１～２５質量％、とを含有してなることを特徴とする感光性樹脂積層体が記載されている。
特許文献２には、（ａ）カルボキシル基含有単量体を共重合成分として含む、アルカリ可溶性熱可塑性共重合体、（ｂ）少なくとも１つの末端エチレン性不飽和基を有する付加重合性モノマー、（ｃ）光重合開始剤、（ｄ）ロイコ染料、（ｅ）塩基性染料、及び（ｆ）下記式（Ｉ）：
｛式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に二価の有機基であり、Ｒ3及びＲ4はそれぞれ独立に水素又は炭素数１～５のアルキル基であり、Ｒ5，Ｒ6及びＲ7はそれぞれ独立に水素又は炭素数が１～２０のアルキル基、ビニル基、フェニル基若しくはベンジル基であり、そしてｎは１～３の整数である。ただし、Ｒ6及びＲ7が結合して環を形成していてもよい。｝で表される化合物を含有することを特徴とする、感光性樹脂組成物が記載されている。
特許文献３には、基材上に感光性樹脂組成物（Ａ）を塗布した後、疎水性熱可塑性樹脂層（Ｂ）と水溶性又は水膨潤性樹脂層（Ｃ）からなる積層フィルムを、その水溶性又は水膨潤性樹脂層（Ｃ）表面が感光性樹脂組成物（Ａ）表面と接するように、該感光性樹脂組成物（Ａ）表面に圧着した後、疎水性熱可塑性樹脂層（Ｂ）を剥離し、次いで露出した水溶性樹脂層（Ｃ）表面にパターンマスクを当接して露光・現像を行うことを特徴とするレジストパターン形成法が記載されている。
特許文献４には、熱又は光により消色する消色性染料を少なくとも含有し、液晶表示装置用基板上に形成される感光性樹脂組成物であって、上記消色性染料中のＮａ＋及びＫ＋のそれぞれの含有量が２０００ｐｐｍ以下であり、かつＮａ＋及びＫ＋の合計含有量が２０００ｐｐｍ以下であることを特徴とする感光性樹脂組成物が記載されている。
特許文献１：国際公開第２００９／０９６２９２号
特許文献２：特開２０１０－２７１３９５号公報
特許文献３：特開平１０－３１９５９９号公報
特許文献４：特開２００３－３３０１７７号公報
特許文献２：特開２０１０－２７１３９５号公報
特許文献３：特開平１０－３１９５９９号公報
特許文献４：特開２００３－３３０１７７号公報
本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、露光部及び非露光部の視認性、並びに、得られるパターンの解像性に優れる感光性転写材料を提供することである。
また、本発明の他の実施形態が解決しようとする課題は、上記感光性転写材料を用いた樹脂パターンの製造方法、回路配線の製造方法、及び、タッチパネルの製造方法を提供することである。
また、本発明の他の実施形態が解決しようとする課題は、上記感光性転写材料を用いた樹脂パターンの製造方法、回路配線の製造方法、及び、タッチパネルの製造方法を提供することである。
上記課題を解決するための手段には、以下の態様が含まれる。
＜１＞ 仮支持体、熱可塑性樹脂層、中間層、及び、ネガ型感光性層をこの順に有し、上記熱可塑性樹脂層が、アルカリ可溶性樹脂Ａ、発色時の波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍにおける最大吸収波長が４５０ｎｍ以上であり、酸、塩基、又はラジカルにより最大吸収波長が変化する色素Ｂ、及び、光により酸、塩基、又はラジカルを発生する化合物Ｃを含有する感光性転写材料。
＜２＞ 上記ネガ型感光性層の層厚が、６μｍ未満である＜１＞に記載の感光性転写材料。
＜３＞ 上記色素Ｂが、酸により最大吸収波長が変化する色素であり、かつ、上記化合物Ｃが、光により酸を発生する化合物である＜１＞又は＜２＞に記載の感光性転写材料。
＜４＞ 上記熱可塑性樹脂層に含まれる上記色素Ｂの含有量が、上記熱可塑性樹脂層の全質量に対し、０．２質量％以上である＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の感光性転写材料。
＜５＞ 上記ネガ型感光性層が、発色時の波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍにおける最大吸収波長が４５０ｎｍ以上であり、酸、塩基、又はラジカルにより最大吸収波長が変化する色素Ｎを含有する＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の感光性転写材料。
＜６＞ 上記ネガ型感光性層に含まれる上記色素Ｎの含有量が、上記ネガ型感光性層の全質量に対し、０．１質量％～１質量％である＜５＞に記載の感光性転写材料。
＜７＞ 上記熱可塑性樹脂層が、可塑剤を更に含有する＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載の感光性転写材料。
＜８＞ 上記可塑剤が、（メタ）アクリレート化合物を含有する＜７＞に記載の感光性転写材料。
＜９＞ 上記中間層が、ポリビニルアルコールを含有する＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の感光性転写材料。
＜１０＞ ＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載の感光性転写材料における上記仮支持体に対してネガ型感光性層を有する側の最外層を、導電層を有する基板に接触させて貼り合わせる工程と、上記ネガ型感光性層をパターン露光する工程と、露光された上記ネガ型感光性層を現像して樹脂パターンを形成する工程と、をこの順に含む樹脂パターンの製造方法。
＜１１＞ ＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載の感光性転写材料における上記仮支持体に対してネガ型感光性層を有する側の最外層を、導電層を有する基板に接触させて貼り合わせる工程と、上記ネガ型感光性層をパターン露光する工程と、露光された上記ネガ型感光性層を現像して樹脂パターンを形成する工程と、上記樹脂パターンが配置されていない領域における上記基板をエッチング処理する工程と、をこの順に含む回路配線の製造方法。
＜１２＞ ＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載の感光性転写材料における上記仮支持体に対してネガ型感光性層を有する側の最外層を、導電層を有する基板に接触させて貼り合わせる工程と、上記ネガ型感光性層をパターン露光する工程と、露光された上記ネガ型感光性層を現像して樹脂パターンを形成する工程と、上記樹脂パターンが配置されていない領域における上記基板をエッチング処理する工程と、をこの順に含むタッチパネルの製造方法。
＜１＞ 仮支持体、熱可塑性樹脂層、中間層、及び、ネガ型感光性層をこの順に有し、上記熱可塑性樹脂層が、アルカリ可溶性樹脂Ａ、発色時の波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍにおける最大吸収波長が４５０ｎｍ以上であり、酸、塩基、又はラジカルにより最大吸収波長が変化する色素Ｂ、及び、光により酸、塩基、又はラジカルを発生する化合物Ｃを含有する感光性転写材料。
＜２＞ 上記ネガ型感光性層の層厚が、６μｍ未満である＜１＞に記載の感光性転写材料。
＜３＞ 上記色素Ｂが、酸により最大吸収波長が変化する色素であり、かつ、上記化合物Ｃが、光により酸を発生する化合物である＜１＞又は＜２＞に記載の感光性転写材料。
＜４＞ 上記熱可塑性樹脂層に含まれる上記色素Ｂの含有量が、上記熱可塑性樹脂層の全質量に対し、０．２質量％以上である＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の感光性転写材料。
＜５＞ 上記ネガ型感光性層が、発色時の波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍにおける最大吸収波長が４５０ｎｍ以上であり、酸、塩基、又はラジカルにより最大吸収波長が変化する色素Ｎを含有する＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の感光性転写材料。
＜６＞ 上記ネガ型感光性層に含まれる上記色素Ｎの含有量が、上記ネガ型感光性層の全質量に対し、０．１質量％～１質量％である＜５＞に記載の感光性転写材料。
＜７＞ 上記熱可塑性樹脂層が、可塑剤を更に含有する＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載の感光性転写材料。
＜８＞ 上記可塑剤が、（メタ）アクリレート化合物を含有する＜７＞に記載の感光性転写材料。
＜９＞ 上記中間層が、ポリビニルアルコールを含有する＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の感光性転写材料。
＜１０＞ ＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載の感光性転写材料における上記仮支持体に対してネガ型感光性層を有する側の最外層を、導電層を有する基板に接触させて貼り合わせる工程と、上記ネガ型感光性層をパターン露光する工程と、露光された上記ネガ型感光性層を現像して樹脂パターンを形成する工程と、をこの順に含む樹脂パターンの製造方法。
＜１１＞ ＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載の感光性転写材料における上記仮支持体に対してネガ型感光性層を有する側の最外層を、導電層を有する基板に接触させて貼り合わせる工程と、上記ネガ型感光性層をパターン露光する工程と、露光された上記ネガ型感光性層を現像して樹脂パターンを形成する工程と、上記樹脂パターンが配置されていない領域における上記基板をエッチング処理する工程と、をこの順に含む回路配線の製造方法。
＜１２＞ ＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載の感光性転写材料における上記仮支持体に対してネガ型感光性層を有する側の最外層を、導電層を有する基板に接触させて貼り合わせる工程と、上記ネガ型感光性層をパターン露光する工程と、露光された上記ネガ型感光性層を現像して樹脂パターンを形成する工程と、上記樹脂パターンが配置されていない領域における上記基板をエッチング処理する工程と、をこの順に含むタッチパネルの製造方法。
本発明の一実施形態によれば、露光部及び非露光部の視認性、並びに、得られるパターンの解像性に優れる感光性転写材料を提供することができる。
また、本発明の他の実施形態によれば、上記感光性転写材料を用いた樹脂パターンの製造方法、回路配線の製造方法、及び、タッチパネルの製造方法を提供することができる。
また、本発明の他の実施形態によれば、上記感光性転写材料を用いた樹脂パターンの製造方法、回路配線の製造方法、及び、タッチパネルの製造方法を提供することができる。
以下、本開示の内容について説明する。なお、添付の図面を参照しながら説明するが、符号は省略する場合がある。
また、本明細書において「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、「（メタ）アクリル」はアクリル及びメタクリルの双方、又は、いずれかを表し、「（メタ）アクリレート」はアクリレート及びメタクリレートの双方、又は、いずれかを表す。
更に、本明細書において組成物中の各成分の量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する該当する複数の物質の合計量を意味する。
本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけでなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。
本明細書における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
本明細書において「露光」とは、特に断らない限り、光を用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も含む。また、露光に用いられる光としては、一般的に、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、電子線等の活性光線（活性エネルギー線）が挙げられる。
また、本明細書における化学構造式は、水素原子を省略した簡略構造式で記載する場合もある。
本開示において、「質量％」と「重量％」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
また、本開示において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
また、本開示における重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、特に断りのない限り、ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ２０００ＨｘＬ（何れも東ソー（株）製の商品名）のカラムを使用したゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）分析装置により、溶剤ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、示差屈折計により検出し、標準物質としてポリスチレンを用いて換算した分子量である。
また、本明細書において「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、「（メタ）アクリル」はアクリル及びメタクリルの双方、又は、いずれかを表し、「（メタ）アクリレート」はアクリレート及びメタクリレートの双方、又は、いずれかを表す。
更に、本明細書において組成物中の各成分の量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する該当する複数の物質の合計量を意味する。
本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけでなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。
本明細書における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
本明細書において「露光」とは、特に断らない限り、光を用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も含む。また、露光に用いられる光としては、一般的に、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、電子線等の活性光線（活性エネルギー線）が挙げられる。
また、本明細書における化学構造式は、水素原子を省略した簡略構造式で記載する場合もある。
本開示において、「質量％」と「重量％」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
また、本開示において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
また、本開示における重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、特に断りのない限り、ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ２０００ＨｘＬ（何れも東ソー（株）製の商品名）のカラムを使用したゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）分析装置により、溶剤ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、示差屈折計により検出し、標準物質としてポリスチレンを用いて換算した分子量である。
（感光性転写材料）
本開示に係る感光性転写材料は、仮支持体、熱可塑性樹脂層、中間層、及び、ネガ型感光性層をこの順に有し、上記熱可塑性樹脂層が、アルカリ可溶性樹脂Ａ、発色時の波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍにおける最大吸収波長が４５０ｎｍ以上であり、酸、塩基、又はラジカルにより最大吸収波長が変化する色素Ｂ、及び、光により酸、塩基、又はラジカルを発生する化合物Ｃを含有する。
本開示に係る感光性転写材料は、仮支持体、熱可塑性樹脂層、中間層、及び、ネガ型感光性層をこの順に有し、上記熱可塑性樹脂層が、アルカリ可溶性樹脂Ａ、発色時の波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍにおける最大吸収波長が４５０ｎｍ以上であり、酸、塩基、又はラジカルにより最大吸収波長が変化する色素Ｂ、及び、光により酸、塩基、又はラジカルを発生する化合物Ｃを含有する。
従来のネガ型感光性転写材料では、露光部及び非露光部の視認性（露光部と非露光部との色の違いによる視認しやすさ、いわゆる、「焼き出し性」）と、得られるパターンの解像性との両立が困難であることを、本発明者らは見出した。
具体的には例えば、詳細な機構は不明であるが、露光部と非露光部との視認性を向上させるため、ネガ型感光性層に焼き出し剤を多く添加した場合、現像残渣が多く生じ、解像性が低下することを、本発明者らは見出した。
本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、上記構成の感光性転写材料とすることにより、露光部及び非露光部の視認性（焼き出し性）、並びに、得られるパターンの解像性に優れる感光性転写材料が得られることを見出した。
詳細な上記効果の発現機構は不明であるが、仮支持体、熱可塑性樹脂層、中間層、及び、ネガ型感光性層をこの順に有する層構成であり、かつ、上記熱可塑性樹脂層が、アルカリ可溶性樹脂Ａ、発色時の波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍにおける最大吸収波長が４５０ｎｍ以上であり、酸、塩基、又はラジカルにより最大吸収波長が変化する色素Ｂ、及び、光により酸、塩基、又はラジカルを発生する化合物Ｃを含有することにより、露光により発色性又は消色性に優れ、露光部及び非露光部の視認性に優れるとともに、現像残渣を抑制でき、また、熱可塑性樹脂層を有することにより、転写性（ラミネート性）に優れ、転写面における気泡等の混入を抑制でき、得られるパターンの解像性に優れると推定される。
具体的には例えば、詳細な機構は不明であるが、露光部と非露光部との視認性を向上させるため、ネガ型感光性層に焼き出し剤を多く添加した場合、現像残渣が多く生じ、解像性が低下することを、本発明者らは見出した。
本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、上記構成の感光性転写材料とすることにより、露光部及び非露光部の視認性（焼き出し性）、並びに、得られるパターンの解像性に優れる感光性転写材料が得られることを見出した。
詳細な上記効果の発現機構は不明であるが、仮支持体、熱可塑性樹脂層、中間層、及び、ネガ型感光性層をこの順に有する層構成であり、かつ、上記熱可塑性樹脂層が、アルカリ可溶性樹脂Ａ、発色時の波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍにおける最大吸収波長が４５０ｎｍ以上であり、酸、塩基、又はラジカルにより最大吸収波長が変化する色素Ｂ、及び、光により酸、塩基、又はラジカルを発生する化合物Ｃを含有することにより、露光により発色性又は消色性に優れ、露光部及び非露光部の視認性に優れるとともに、現像残渣を抑制でき、また、熱可塑性樹脂層を有することにより、転写性（ラミネート性）に優れ、転写面における気泡等の混入を抑制でき、得られるパターンの解像性に優れると推定される。
以下、本開示に係る感光性転写材料について、詳細に説明する。
＜熱可塑性樹脂層＞
本開示に係る感光性転写材料は、仮支持体、熱可塑性樹脂層、中間層、及び、ネガ型感光性層をこの順に有する。
また、上記熱可塑性樹脂層は、アルカリ可溶性樹脂Ａ、発色時の波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍにおける最大吸収波長が４５０ｎｍ以上であり、酸、塩基、又はラジカルにより最大吸収波長が変化する色素Ｂ、及び、光により酸、塩基、又はラジカルを発生する化合物Ｃを含有する。
本開示に係る感光性転写材料は、仮支持体、熱可塑性樹脂層、中間層、及び、ネガ型感光性層をこの順に有する。
また、上記熱可塑性樹脂層は、アルカリ可溶性樹脂Ａ、発色時の波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍにおける最大吸収波長が４５０ｎｍ以上であり、酸、塩基、又はラジカルにより最大吸収波長が変化する色素Ｂ、及び、光により酸、塩基、又はラジカルを発生する化合物Ｃを含有する。
〔アルカリ可溶性樹脂Ａ〕
熱可塑性樹脂層は、アルカリ可溶性樹脂Ａを含有する。
なお、本開示において、「アルカリ可溶性」とは、２２℃において炭酸ナトリウムの１質量％水溶液１００ｇへの溶解度が０．１ｇ以上であることを意味する。
また、アルカリ可溶性樹脂Ａは、熱可塑性樹脂であることが好ましい。
アルカリ可溶性樹脂Ａとしては、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、スチレン－アクリル共重合体、ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリヒドロキシスチレン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリベンゾオキサゾール樹脂、ポリシロキサン樹脂、ポリエチレンイミン、ポリアリルアミン、ポリアルキレングリコール等が挙げられる。
中でも、アルカリ可溶性樹脂Ａとしては、現像性及び転写性の観点から、アクリル樹脂であることがより好ましい。
ここで、アクリル樹脂は、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位（「（メタ）アクリル酸により形成された構成単位」ともいう。他についても同様である。）、（メタ）アクリル酸エステルに由来する構成単位及び（メタ）アクリル酸アミドに由来する構成単位よりなる群から選ばれた少なくとも１種の構成単位を有する樹脂を指し、上記構成単位の含有量が、樹脂の全質量に対し、５０質量％以上であることが好ましい。
中でも、アクリル樹脂中における（メタ）アクリル酸に由来する構成単位及び（メタ）アクリル酸エステルに由来する構成単位の合計割合は、３０質量％～１００質量％が好ましく、５０質量％～１００質量％がより好ましい。
また、アルカリ可溶性樹脂Ａは、作製時における層間の成分混合抑制性の観点から、中間層に含まれる樹脂と異なる樹脂であることが好ましい。
熱可塑性樹脂層は、アルカリ可溶性樹脂Ａを含有する。
なお、本開示において、「アルカリ可溶性」とは、２２℃において炭酸ナトリウムの１質量％水溶液１００ｇへの溶解度が０．１ｇ以上であることを意味する。
また、アルカリ可溶性樹脂Ａは、熱可塑性樹脂であることが好ましい。
アルカリ可溶性樹脂Ａとしては、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、スチレン－アクリル共重合体、ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリヒドロキシスチレン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリベンゾオキサゾール樹脂、ポリシロキサン樹脂、ポリエチレンイミン、ポリアリルアミン、ポリアルキレングリコール等が挙げられる。
中でも、アルカリ可溶性樹脂Ａとしては、現像性及び転写性の観点から、アクリル樹脂であることがより好ましい。
ここで、アクリル樹脂は、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位（「（メタ）アクリル酸により形成された構成単位」ともいう。他についても同様である。）、（メタ）アクリル酸エステルに由来する構成単位及び（メタ）アクリル酸アミドに由来する構成単位よりなる群から選ばれた少なくとも１種の構成単位を有する樹脂を指し、上記構成単位の含有量が、樹脂の全質量に対し、５０質量％以上であることが好ましい。
中でも、アクリル樹脂中における（メタ）アクリル酸に由来する構成単位及び（メタ）アクリル酸エステルに由来する構成単位の合計割合は、３０質量％～１００質量％が好ましく、５０質量％～１００質量％がより好ましい。
また、アルカリ可溶性樹脂Ａは、作製時における層間の成分混合抑制性の観点から、中間層に含まれる樹脂と異なる樹脂であることが好ましい。
また、アルカリ可溶性樹脂Ａは、酸基を有する重合体を含むことが好ましい。
酸基としては、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基、ホスホン酸基等が挙げられ、カルボキシ基が好ましく用いられる。
酸基を有する重合体は、特に制限はないが、アルカリ現像性の観点から、酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のアルカリ可溶性樹脂であることが好ましく、酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有アクリル樹脂であることがより好ましい。
酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有アクリル樹脂としては、特に制限はなく、公知の樹脂から適宜選択して用いることができる。
例えば、特開２０１１－９５７１６号公報の段落００２５に記載のポリマーのうちの酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有アクリル樹脂であるアルカリ可溶性樹脂、特開２０１０－２３７５８９号公報の段落００３３～段落００５２に記載のポリマーのうちの酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有アクリル樹脂、特開２０１６－２２４１６２号公報の段落００５３～段落００６８に記載のバインダーポリマーのうちの酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有アクリル樹脂等が好ましく挙げられる。
上記カルボキシ基含有アクリル樹脂におけるカルボキシ基を有するモノマーの共重合比は、アクリル樹脂の全質量に対して、５質量％～５０質量％であることが好ましく、１０質量％～４０質量％であることがより好ましく、１２質量％～３０質量％であることが更に好ましい。
また、アルカリ可溶性樹脂Ａは、現像性及び転写性の観点から、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位を有するアクリル樹脂であることが好ましい。
酸基としては、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基、ホスホン酸基等が挙げられ、カルボキシ基が好ましく用いられる。
酸基を有する重合体は、特に制限はないが、アルカリ現像性の観点から、酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のアルカリ可溶性樹脂であることが好ましく、酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有アクリル樹脂であることがより好ましい。
酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有アクリル樹脂としては、特に制限はなく、公知の樹脂から適宜選択して用いることができる。
例えば、特開２０１１－９５７１６号公報の段落００２５に記載のポリマーのうちの酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有アクリル樹脂であるアルカリ可溶性樹脂、特開２０１０－２３７５８９号公報の段落００３３～段落００５２に記載のポリマーのうちの酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有アクリル樹脂、特開２０１６－２２４１６２号公報の段落００５３～段落００６８に記載のバインダーポリマーのうちの酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有アクリル樹脂等が好ましく挙げられる。
上記カルボキシ基含有アクリル樹脂におけるカルボキシ基を有するモノマーの共重合比は、アクリル樹脂の全質量に対して、５質量％～５０質量％であることが好ましく、１０質量％～４０質量％であることがより好ましく、１２質量％～３０質量％であることが更に好ましい。
また、アルカリ可溶性樹脂Ａは、現像性及び転写性の観点から、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位を有するアクリル樹脂であることが好ましい。
アルカリ可溶性樹脂Ａは、反応性基を有していてもよい。反応性基としては、付加重合可能な基であればよく、エチレン性不飽和基；ヒドロキシ基、カルボキシ基等の重縮合性基；エポキシ基、（ブロック）イソシアネート基等の重付加反応性基等が挙げられる。
アルカリ可溶性樹脂Ａの酸価は、アルカリ可溶性であれば、特に制限はないが、アルカリ現像性の観点から、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ～２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましく、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ～１５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがより好ましい。
アルカリ可溶性樹脂Ａの重量平均分子量は、１，０００以上が好ましく、１万～１０万がより好ましく、２万～５万が更に好ましい。
アルカリ可溶性樹脂Ａの重量平均分子量は、１，０００以上が好ましく、１万～１０万がより好ましく、２万～５万が更に好ましい。
熱可塑性樹脂層は、アルカリ可溶性樹脂Ａを１種単独で含有していても、２種以上を含有していてもよい。
アルカリ可溶性樹脂Ａの含有量は、現像性及び転写性の観点から、熱可塑性樹脂層の全質量に対し、１０質量％以上９９質量％以下であることが好ましく、２０質量％以上９０質量％以下であることがより好ましく、４０質量％以上８０質量％以下であることが更に好ましく、５０質量％以上７０質量％以下であることが特に好ましい。
アルカリ可溶性樹脂Ａの含有量は、現像性及び転写性の観点から、熱可塑性樹脂層の全質量に対し、１０質量％以上９９質量％以下であることが好ましく、２０質量％以上９０質量％以下であることがより好ましく、４０質量％以上８０質量％以下であることが更に好ましく、５０質量％以上７０質量％以下であることが特に好ましい。
＜色素Ｂ＞
熱可塑性樹脂層は、発色時の波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍにおける最大吸収波長が４５０ｎｍ以上であり、酸、塩基、又はラジカルにより最大吸収波長が変化する色素Ｂ（単に「色素Ｂ」ともいう。）を含有する。
本開示において、色素が「酸、塩基又はラジカルにより極大吸収波長が変化する」とは、発色状態にある色素が酸、塩基又はラジカルにより消色する態様、消色状態にある色素が酸、塩基又はラジカルにより発色する態様、発色状態にある色素が他の色相の発色状態に変化する態様のいずれの態様を指すものであってもよい。
具体的には、色素Ｂは、露光により消色状態から変化して発色する化合物であってもよいし、露光により発色状態から変化して消色する化合物であってもよい。この場合、露光により酸、塩基又はラジカルが熱可塑性樹脂層内において発生し作用することにより、発色又は消色の状態が変化する色素でもよく、酸、塩基又はラジカルにより熱可塑性樹脂層内の状態（例えばｐＨ）が変化することで発色又は消色の状態が変化する色素でもよい。また、露光を介さずに、酸、塩基又はラジカルが刺激として直接的に与えられて発色又は消色の状態が変化する色素でもよい。
中でも、露光部及び非露光部の視認性、及び、解像性の観点から、色素Ｂは、酸又はラジカルにより最大吸収波長が変化する色素であることが好ましく、酸により最大吸収波長が変化する色素であることがより好ましく、色素Ｂが、酸により最大吸収波長が変化する色素であり、かつ、後述する化合物Ｃが、光により酸を発生する化合物であることが特に好ましい。
また、露光部及び非露光部の視認性の観点から、色素Ｂは、酸、塩基、又はラジカルにより発色する色素であることが好ましい。
熱可塑性樹脂層は、発色時の波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍにおける最大吸収波長が４５０ｎｍ以上であり、酸、塩基、又はラジカルにより最大吸収波長が変化する色素Ｂ（単に「色素Ｂ」ともいう。）を含有する。
本開示において、色素が「酸、塩基又はラジカルにより極大吸収波長が変化する」とは、発色状態にある色素が酸、塩基又はラジカルにより消色する態様、消色状態にある色素が酸、塩基又はラジカルにより発色する態様、発色状態にある色素が他の色相の発色状態に変化する態様のいずれの態様を指すものであってもよい。
具体的には、色素Ｂは、露光により消色状態から変化して発色する化合物であってもよいし、露光により発色状態から変化して消色する化合物であってもよい。この場合、露光により酸、塩基又はラジカルが熱可塑性樹脂層内において発生し作用することにより、発色又は消色の状態が変化する色素でもよく、酸、塩基又はラジカルにより熱可塑性樹脂層内の状態（例えばｐＨ）が変化することで発色又は消色の状態が変化する色素でもよい。また、露光を介さずに、酸、塩基又はラジカルが刺激として直接的に与えられて発色又は消色の状態が変化する色素でもよい。
中でも、露光部及び非露光部の視認性、及び、解像性の観点から、色素Ｂは、酸又はラジカルにより最大吸収波長が変化する色素であることが好ましく、酸により最大吸収波長が変化する色素であることがより好ましく、色素Ｂが、酸により最大吸収波長が変化する色素であり、かつ、後述する化合物Ｃが、光により酸を発生する化合物であることが特に好ましい。
また、露光部及び非露光部の視認性の観点から、色素Ｂは、酸、塩基、又はラジカルにより発色する色素であることが好ましい。
本開示における色素Ｂの発色機構の例としては、熱可塑性樹脂層に光酸発生剤、光塩基発生剤又は光ラジカル発生剤を添加して、露光した後に上記光酸発生剤等から発生する酸、塩基又はラジカルによって、酸反応性色素、塩基反応性色素又はラジカル反応性色素（例えばロイコ色素）が発色する態様等が挙げられる。
色素Ｂは、発色時における波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍにおける極大吸収波長が４５０ｎｍ以上であり、露光部及び非露光部の視認性の観点から、５５０ｎｍ以上であることが好ましく、５５０ｎｍ以上７００ｎｍ以下であることがより好ましく、５５０ｎｍ以上６５０ｎｍ以下であることが更に好ましい。
また、色素Ｂは、発色時における波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍの極大吸収波長を１つのみ有していてもよく、２つ以上有していてもよい。色素Ｂが発色時における波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍの極大吸収波長を２つ以上有する場合は、２つ以上の発色時における極大吸収波長のうち、吸光度の最も高い発色時における極大吸収波長が４５０ｎｍ以上であればよい。
極大吸収波長の測定方法は、大気の雰囲気下で、２５℃にて分光光度計：ＵＶ３１００（（株）島津製作所製）を用いて、４００ｎｍ～７８０ｎｍの範囲で透過スペクトルを測定し、光の強度が極小となる波長（極大吸収波長）を測定するものとする。
また、色素Ｂは、発色時における波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍの極大吸収波長を１つのみ有していてもよく、２つ以上有していてもよい。色素Ｂが発色時における波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍの極大吸収波長を２つ以上有する場合は、２つ以上の発色時における極大吸収波長のうち、吸光度の最も高い発色時における極大吸収波長が４５０ｎｍ以上であればよい。
極大吸収波長の測定方法は、大気の雰囲気下で、２５℃にて分光光度計：ＵＶ３１００（（株）島津製作所製）を用いて、４００ｎｍ～７８０ｎｍの範囲で透過スペクトルを測定し、光の強度が極小となる波長（極大吸収波長）を測定するものとする。
露光により発色又は消色する色素としては、例えば、ロイコ化合物が挙げられる。
また、露光により消色する色素としては、例えば、ロイコ化合物、ジアリールメタン系色素、オキザジン系色素、キサンテン系色素、イミノナフトキノン系色素、アゾメチン系色素、アントラキノン系色素等が挙げられる。
中でも、色素Ｂとしては、露光部及び非露光部の視認性の観点から、ロイコ化合物が好ましい。
ロイコ化合物としては、トリアリールメタン系（例えばトリフェニルメタン系）、スピロピラン系、フルオラン系、ジアリールメタン系、ローダミンラクタム系、インドリルフタリド系、ロイコオーラミン系等が挙げられる。中でも、トリアリールメタン骨格を有するロイコ化合物（トリアリールメタン系色素）及びフルオラン骨格を有するロイコ化合物（フルオラン系色素）が好ましく、トリフェニルメタン格を有するロイコ化合物（トリフェニルメタン系色素）及びフルオラン骨格を有するロイコ化合物（フルオラン系色素）がより好ましい。
また、ロイコ化合物としては、露光部及び非露光部の視認性の観点から、ラクトン環、スルチン環、又はスルトン環を有していることが好ましい。ロイコ化合物が、ラクトン環、スルチン環、又はスルトン環を有していることにより、例えば光酸発生剤から発生する酸と反応して、閉環状態に変化して消色する、又は開環状態に変化して発色することができる。ラクトン環、スルチン環、又はスルトン環が開環するものが好ましく、ラクトン環を有し、ラクトン環が開環して発色するロイコ化合物がより好ましい。
また、露光により消色する色素としては、例えば、ロイコ化合物、ジアリールメタン系色素、オキザジン系色素、キサンテン系色素、イミノナフトキノン系色素、アゾメチン系色素、アントラキノン系色素等が挙げられる。
中でも、色素Ｂとしては、露光部及び非露光部の視認性の観点から、ロイコ化合物が好ましい。
ロイコ化合物としては、トリアリールメタン系（例えばトリフェニルメタン系）、スピロピラン系、フルオラン系、ジアリールメタン系、ローダミンラクタム系、インドリルフタリド系、ロイコオーラミン系等が挙げられる。中でも、トリアリールメタン骨格を有するロイコ化合物（トリアリールメタン系色素）及びフルオラン骨格を有するロイコ化合物（フルオラン系色素）が好ましく、トリフェニルメタン格を有するロイコ化合物（トリフェニルメタン系色素）及びフルオラン骨格を有するロイコ化合物（フルオラン系色素）がより好ましい。
また、ロイコ化合物としては、露光部及び非露光部の視認性の観点から、ラクトン環、スルチン環、又はスルトン環を有していることが好ましい。ロイコ化合物が、ラクトン環、スルチン環、又はスルトン環を有していることにより、例えば光酸発生剤から発生する酸と反応して、閉環状態に変化して消色する、又は開環状態に変化して発色することができる。ラクトン環、スルチン環、又はスルトン環が開環するものが好ましく、ラクトン環を有し、ラクトン環が開環して発色するロイコ化合物がより好ましい。
また、色素Ｂの具体例としては、ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチルグリーン、クリスタルバイオレット、ベイシックフクシン、メチルバイオレット２Ｂ、キナルジンレッド、ローズベンガル、メタニルイエロー、チモールスルホフタレイン、キシレノールブルー、メチルオレンジ、パラメチルレッド、コンゴーフレッド、ベンゾプルプリン４Ｂ、α－ナフチルレッド、ナイルブルー２Ｂ、ナイルブルーＡ、メチルバイオレット、マラカイトグリーン、パラフクシン、ビクトリアピュアブルー－ナフタレンスルホン酸塩、ビクトリアピュアブルーＢＯＨ（保土谷化学工業（株）製）、オイルブルー＃６０３（オリエント化学工業（株）製）、オイルピンク＃３１２（オリエント化学工業（株）製）、オイルレッド５Ｂ（オリエント化学工業（株）製）、オイルスカーレット＃３０８（オリエント化学工業（株）製）、オイルレッドＯＧ（オリエント化学工業（株）製）、オイルレッドＲＲ（オリエント化学工業（株）製）、オイルグリーン＃５０２（オリエント化学工業（株）製）、スピロンレッドＢＥＨスペシャル（保土谷化学工業（株）製）、ｍ－クレゾールパープル、クレゾールレッド、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ、スルホローダミンＢ、オーラミン、４－ｐ－ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、２－カルボキシアニリノ－４－ｐ－ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、２－カルボキシステアリルアミノ－４－ｐ－Ｎ，Ｎ－ビス（ヒドロキシエチル）アミノ－フェニルイミノナフトキノン、１－フェニル－３－メチル－４－ｐ－ジエチルアミノフェニルイミノ－５－ピラゾロン、１－β－ナフチル－４－ｐ－ジエチルアミノフェニルイミノ－５－ピラゾロン等の染料やｐ，ｐ’，ｐ”－ヘキサメチルトリアミノトリフェニルメタン（ロイコクリスタルバイオレット）、Ｐｅｒｇａｓｃｒｉｐｔ Ｂｌｕｅ ＳＲＢ（チバガイギー社製）等のロイコ化合物が挙げられる。
上記の他に、下記に示すロイコ化合物も好適なものとして挙げられる。具体例には、クリスタルバイオレットラクトン、マラカイトグリーンラクトン、ベンゾイルロイコメチレンブルー、２－（Ｎ－フェニル－Ｎ－メチルアミノ）－６－（Ｎ－ｐ－トリル－Ｎ－エチル）アミノフルオラン、２－アニリノ－３－メチル－６－（Ｎ－エチル－ｐ－トルイジノ）フルオラン、３，６－ジメトキシフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－５－メチル－７－（Ｎ，Ｎ－ジベンジルアミノ）フルオラン、３－（Ｎ－シクロヘキシル－Ｎ－メチルアミノ）－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－６－メチル－７－キシリジノフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－６－メチル－７－クロロフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－６－メトキシ－７－アミノフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－７－（４－クロロアニリノ）フルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－７－クロロフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－７－ベンジルアミノフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－７，８－ベンゾフロオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジブチルアミノ）－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジブチルアミノ）－６－メチル－７－キシリジノフルオラン、３－ピペリジノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－ピロリジノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３，３－ビス（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）フタリド、３，３－ビス（１－ｎ－ブチル－２－メチルインドール－３－イル）フタリド、３，３－ビス（ｐ－ジメチルアミノフェニル）－６－ジメチルアミノフタリド、３－（４－ジエチルアミノ－２－エトキシフェニル）－３－（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）－４－ザフタリド、３－（４－ジエチルアミノフェニル）－３－（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）フタリド、３’，６’－ビス（ジフェニルアミノ）スピロイソベンゾフラン-１（３Ｈ）,９’－［９Ｈ］キサンテン－３－オンなどが挙げられる。
色素Ｂは、１種単独で使用しても、２種以上を使用してもよい。
色素Ｂの含有量は、露光部及び非露光部の視認性の観点から、熱可塑性樹脂層の全質量に対し、０．２質量％以上であることが好ましく、０．２質量％～６質量％であることがより好ましく、０．２質量％～５質量％であることが更に好ましく、０．２５質量％～３．０質量％であることが特に好ましい。
色素Ｂの含有量は、露光部及び非露光部の視認性の観点から、熱可塑性樹脂層の全質量に対し、０．２質量％以上であることが好ましく、０．２質量％～６質量％であることがより好ましく、０．２質量％～５質量％であることが更に好ましく、０．２５質量％～３．０質量％であることが特に好ましい。
ここで、色素Ｂの含有量は、熱可塑性樹脂層に含まれる色素Ｂの全てを発色状態にした場合の色素の含有量を意味する。以下に、色素Ｂが酸又は塩基により最大吸収波長が変化する色素である場合における定量方法を説明する。
色素０．００１ｇ、及び、０．０１ｇを、アセトン及び水の混合溶液（アセトン／水＝２／１［質量比］）１００ｍＬに溶かし、０．１ｍｏｌ／Ｌ（０．１Ｎ）の塩酸水溶液を加えてｐＨ＝１に調製し、又は、０．０１ｍｏｌ／Ｌ（０．０１Ｎ）の水酸化ナトリウム水溶液を加えてｐＨ＝１４に調製し、全ての色素を発色状態にする。その後、大気の雰囲気下で、２５℃にて分光光度計（ＵＶ３１００、（株）島津製作所製）を用いて、吸光度を測定し、検量線を作製する。
次に、色素０．１ｇを熱可塑性樹脂層０．１ｇに変更した以外は上記と同様の方法で、ｐＨ＝１に調製、又は、ｐＨ＝１４に調製して、吸光度を測定する。そして色素の吸光度から作製した検量線と熱可塑性樹脂層の吸光度から、熱可塑性樹脂層に含まれる色素の量を算出する。
色素０．００１ｇ、及び、０．０１ｇを、アセトン及び水の混合溶液（アセトン／水＝２／１［質量比］）１００ｍＬに溶かし、０．１ｍｏｌ／Ｌ（０．１Ｎ）の塩酸水溶液を加えてｐＨ＝１に調製し、又は、０．０１ｍｏｌ／Ｌ（０．０１Ｎ）の水酸化ナトリウム水溶液を加えてｐＨ＝１４に調製し、全ての色素を発色状態にする。その後、大気の雰囲気下で、２５℃にて分光光度計（ＵＶ３１００、（株）島津製作所製）を用いて、吸光度を測定し、検量線を作製する。
次に、色素０．１ｇを熱可塑性樹脂層０．１ｇに変更した以外は上記と同様の方法で、ｐＨ＝１に調製、又は、ｐＨ＝１４に調製して、吸光度を測定する。そして色素の吸光度から作製した検量線と熱可塑性樹脂層の吸光度から、熱可塑性樹脂層に含まれる色素の量を算出する。
〔化合物Ｃ〕
熱可塑性樹脂層は、光により酸、塩基、又はラジカルを発生する化合物Ｃ（単に「化合物Ｃ」ともいう。）を含有する。
化合物Ｃは、紫外線、可視光線等の活性光線を受けて、酸、塩基、又はラジカルを発生する化合物であることが好ましい。
化合物Ｃとしては、公知の、光酸発生剤、光塩基発生剤、及び、光ラジカル発生剤（光ラジカル重合開始剤）を用いることができる。
熱可塑性樹脂層は、光により酸、塩基、又はラジカルを発生する化合物Ｃ（単に「化合物Ｃ」ともいう。）を含有する。
化合物Ｃは、紫外線、可視光線等の活性光線を受けて、酸、塩基、又はラジカルを発生する化合物であることが好ましい。
化合物Ｃとしては、公知の、光酸発生剤、光塩基発生剤、及び、光ラジカル発生剤（光ラジカル重合開始剤）を用いることができる。
－光酸発生剤－
熱可塑性樹脂層は、解像性の観点から、光酸発生剤を含むことが好ましい。
本開示で使用される光酸発生剤としては、紫外線、遠紫外線、Ｘ線、電子線等の活性光線を照射することにより酸を発生することができる化合物である。
本開示で使用される光酸発生剤としては、波長３００ｎｍ以上、好ましくは波長３００ｎｍ～４５０ｎｍの活性光線に感応し、酸を発生する化合物が好ましいが、その化学構造は制限されない。また、波長３００ｎｍ以上の活性光線に直接感応しない光酸発生剤についても、増感剤と併用することによって波長３００ｎｍ以上の活性光線に感応し、酸を発生する化合物であれば、増感剤と組み合わせて好ましく用いることができる。
本開示で使用される光酸発生剤としては、ｐＫａが４以下の酸を発生する光酸発生剤が好ましく、ｐＫａが３以下の酸を発生する光酸発生剤がより好ましく、ｐＫａが２以下の酸を発生する光酸発生剤が特に好ましい。ｐＫａの下限値は特に定めないが、例えば、－１０．０以上であることが好ましい。
熱可塑性樹脂層は、解像性の観点から、光酸発生剤を含むことが好ましい。
本開示で使用される光酸発生剤としては、紫外線、遠紫外線、Ｘ線、電子線等の活性光線を照射することにより酸を発生することができる化合物である。
本開示で使用される光酸発生剤としては、波長３００ｎｍ以上、好ましくは波長３００ｎｍ～４５０ｎｍの活性光線に感応し、酸を発生する化合物が好ましいが、その化学構造は制限されない。また、波長３００ｎｍ以上の活性光線に直接感応しない光酸発生剤についても、増感剤と併用することによって波長３００ｎｍ以上の活性光線に感応し、酸を発生する化合物であれば、増感剤と組み合わせて好ましく用いることができる。
本開示で使用される光酸発生剤としては、ｐＫａが４以下の酸を発生する光酸発生剤が好ましく、ｐＫａが３以下の酸を発生する光酸発生剤がより好ましく、ｐＫａが２以下の酸を発生する光酸発生剤が特に好ましい。ｐＫａの下限値は特に定めないが、例えば、－１０．０以上であることが好ましい。
光酸発生剤としては、イオン性光酸発生剤及び非イオン性光酸発生剤を挙げることができる。
イオン性光酸発生剤の例として、ジアリールヨードニウム塩類及びトリアリールスルホニウム塩類等のオニウム塩化合物、第四級アンモニウム塩類等を挙げることができる。これらのうち、オニウム塩化合物が好ましく、トリアリールスルホニウム塩類及びジアリールヨードニウム塩類が特に好ましい。
イオン性光酸発生剤としては、特開２０１４－８５６４３号公報の段落０１１４～段落０１３３に記載のイオン性光酸発生剤も好ましく用いることができる。
非イオン性光酸発生剤の例としては、トリクロロメチル－ｓ－トリアジン類、ジアゾメタン化合物、イミドスルホネート化合物、及び、オキシムスルホネート化合物などを挙げることができる。これらの中でも、感度、解像性、及び、密着性の観点から、光酸発生剤がオキシムスルホネート化合物であることが好ましい。トリクロロメチル－ｓ－トリアジン類、ジアゾメタン化合物及びイミドスルホネート化合物の具体例としては、特開２０１１－２２１４９４号公報の段落００８３～段落００８８に記載の化合物が例示できる。
イオン性光酸発生剤の例として、ジアリールヨードニウム塩類及びトリアリールスルホニウム塩類等のオニウム塩化合物、第四級アンモニウム塩類等を挙げることができる。これらのうち、オニウム塩化合物が好ましく、トリアリールスルホニウム塩類及びジアリールヨードニウム塩類が特に好ましい。
イオン性光酸発生剤としては、特開２０１４－８５６４３号公報の段落０１１４～段落０１３３に記載のイオン性光酸発生剤も好ましく用いることができる。
非イオン性光酸発生剤の例としては、トリクロロメチル－ｓ－トリアジン類、ジアゾメタン化合物、イミドスルホネート化合物、及び、オキシムスルホネート化合物などを挙げることができる。これらの中でも、感度、解像性、及び、密着性の観点から、光酸発生剤がオキシムスルホネート化合物であることが好ましい。トリクロロメチル－ｓ－トリアジン類、ジアゾメタン化合物及びイミドスルホネート化合物の具体例としては、特開２０１１－２２１４９４号公報の段落００８３～段落００８８に記載の化合物が例示できる。
オキシムスルホネート化合物としては、国際公開第２０１８／１７９６４０号の段落００８４～段落００８８に記載されたものを好適に用いることができる。
光酸発生剤としては、感度及び解像性の観点から、オニウム塩化合物、及び、オキシムスルホネート化合物よりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物を含むことが好ましく、オキシムスルホネート化合物を含むことがより好ましい。
また、好ましい光酸発生剤として、例えば、以下の構造の光酸発生剤が挙げられる。
また、好ましい光酸発生剤として、例えば、以下の構造の光酸発生剤が挙げられる。
－光ラジカル発生剤－
熱可塑性樹脂層は、光ラジカル発生剤（光ラジカル重合開始剤）を含むことが好ましい。
光ラジカル発生剤としては、例えば、ジメチルアミノ安息香酸エチル（ＤＢＥ、ＣＡＳ Ｎｏ．１０２８７－５３－３）、ベンゾインメチルエーテル、アニシル（ｐ，ｐ’－ジメトキシベンジル）、ＴＡＺ－１１０（商品名：みどり化学（株）製）、ベンゾフェノン、ＴＡＺ－１１１（商品名：みどり化学（株）製）、ＩｒｇａｃｕｒｅＯＸＥ０１、ＯＸＥ０２、ＯＸＥ０３（ＢＡＳＦ社製）、ＯＸＥ０４（ＢＡＳＦ社製）、Ｏｍｎｉｒａｄ６５１及び３６９（商品名：ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製）、２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニル－１，２’－ビイミダゾール（東京化成工業（株）製）などを挙げることができる。
熱可塑性樹脂層は、光ラジカル発生剤（光ラジカル重合開始剤）を含むことが好ましい。
光ラジカル発生剤としては、例えば、ジメチルアミノ安息香酸エチル（ＤＢＥ、ＣＡＳ Ｎｏ．１０２８７－５３－３）、ベンゾインメチルエーテル、アニシル（ｐ，ｐ’－ジメトキシベンジル）、ＴＡＺ－１１０（商品名：みどり化学（株）製）、ベンゾフェノン、ＴＡＺ－１１１（商品名：みどり化学（株）製）、ＩｒｇａｃｕｒｅＯＸＥ０１、ＯＸＥ０２、ＯＸＥ０３（ＢＡＳＦ社製）、ＯＸＥ０４（ＢＡＳＦ社製）、Ｏｍｎｉｒａｄ６５１及び３６９（商品名：ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製）、２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニル－１，２’－ビイミダゾール（東京化成工業（株）製）などを挙げることができる。
光ラジカル発生剤としては、特に制限はなく、公知の光ラジカル重合開始剤を用いることができる。
光ラジカル発生剤としては、オキシムエステル構造を有する光重合開始剤、α－アミノアルキルフェノン構造を有する光重合開始剤、α－ヒドロキシアルキルフェノン構造を有する光重合開始剤、アシルフォスフィンオキサイド構造を有する光重合開始剤、Ｎ－フェニルグリシン構造を有する光重合開始剤等が挙げられ、オキシムエステル構造を有する光重合開始剤、α－アミノアルキルフェノン構造を有する光重合開始剤、α－ヒドロキシアルキルフェノン構造を有する重合開始剤及びＮ－フェニルグリシン構造を有する光重合開始剤よりなる群から選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましい。
光ラジカル発生剤としては、オキシムエステル構造を有する光重合開始剤、α－アミノアルキルフェノン構造を有する光重合開始剤、α－ヒドロキシアルキルフェノン構造を有する光重合開始剤、アシルフォスフィンオキサイド構造を有する光重合開始剤、Ｎ－フェニルグリシン構造を有する光重合開始剤等が挙げられ、オキシムエステル構造を有する光重合開始剤、α－アミノアルキルフェノン構造を有する光重合開始剤、α－ヒドロキシアルキルフェノン構造を有する重合開始剤及びＮ－フェニルグリシン構造を有する光重合開始剤よりなる群から選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましい。
光ラジカル発生剤としては、２，４，５－トリアリールイミダゾール二量体及びその誘導体からなる群より選択される少なくとも１種を含むことも好ましい。なお、２，４，５－トリアリールイミダゾール二量体及びその誘導体における２つの２，４，５－トリアリールイミダゾール構造はそれぞれ、同一であっても、異なっていてもよい。
２，４，５－トリアリールイミダゾール二量体の誘導体としては、例えば、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジ（メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２－（ｏ－フルオロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体、２－（ｏ－メトキシフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体、２－（ｐ－メトキシフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体が好ましく挙げられる。
光ラジカル発生剤としては、例えば、特開２０１１－９５７１６号公報の段落００３１～段落００４２、特開２０１５－１４７８３号公報の段落００６４～段落００８１に記載された重合開始剤を用いてもよい。
２，４，５－トリアリールイミダゾール二量体の誘導体としては、例えば、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジ（メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２－（ｏ－フルオロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体、２－（ｏ－メトキシフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体、２－（ｐ－メトキシフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体が好ましく挙げられる。
光ラジカル発生剤としては、例えば、特開２０１１－９５７１６号公報の段落００３１～段落００４２、特開２０１５－１４７８３号公報の段落００６４～段落００８１に記載された重合開始剤を用いてもよい。
光ラジカル発生剤の市販品としては、１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－１，２－オクタンジオン－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標） ＯＸＥ－０１、ＢＡＳＦ社製）、１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］エタノン－１－（Ｏ－アセチルオキシム）（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ－０２、ＢＡＳＦ社製）、２－（ジメチルアミノ）－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－［４－（４－モルフォリニル）フェニル］－１－ブタノン（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ ３７９ＥＧ、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ ９０７、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、２－ヒドロキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオニル）ベンジル］フェニル｝－２－メチルプロパン－１－オン（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ １２７、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）ブタノン－１（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ ３６９、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ １１７３、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ １８４、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ ６５１、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、２，４，６－トリメチルベンゾリル－ジフェニルフォスフィンオキシド（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ ＴＰＯ Ｈ、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾリル）フェニルフォスフィンオキシド（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ ８１９、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、オキシムエステル系の光重合開始剤（商品名：Ｌｕｎａｒ ６、ＤＫＳＨジャパン（株）製）、２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビスイミダゾール（２－（２－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体）（商品名：Ｂ－ＣＩＭ、Ｈａｍｐｆｏｒｄ社製）、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体（商品名：ＢＣＴＢ、東京化成工業（株）製）などが好ましく挙げられる。
－光塩基発生剤－
熱可塑性樹脂層は、光塩基発生剤を含むこともできる。
光塩基発生剤の例としては、２－ニトロベンジルシクロヘキシルカルバメート、トリフェニルメタノール、Ｏ－カルバモイルヒドロキシルアミド、Ｏ－カルバモイルオキシム、［［（２，６－ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］シクロヘキシルアミン、ビス［［（２－ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ヘキサン－１，６－ジアミン、４－（メチルチオベンゾイル）－１－メチル－１－モルホリノエタン、（４－モルホリノベンゾイル）－１－ベンジル－１－ジメチルアミノプロパン、Ｎ－（２－ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロリジン、ヘキサアンミンコバルト（ＩＩＩ）トリス（トリフェニルメチルボレート）、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－ブタノン、２，６－ジメチル－３，５－ジアセチル－４－（２－ニトロフェニル）－１，４－ジヒドロピリジン、２，６－ジメチル－３，５－ジアセチル－４－（２，４－ジニトロフェニル）－１，４－ジヒドロピリジン等を挙げることができる。
熱可塑性樹脂層は、光塩基発生剤を含むこともできる。
光塩基発生剤の例としては、２－ニトロベンジルシクロヘキシルカルバメート、トリフェニルメタノール、Ｏ－カルバモイルヒドロキシルアミド、Ｏ－カルバモイルオキシム、［［（２，６－ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］シクロヘキシルアミン、ビス［［（２－ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ヘキサン－１，６－ジアミン、４－（メチルチオベンゾイル）－１－メチル－１－モルホリノエタン、（４－モルホリノベンゾイル）－１－ベンジル－１－ジメチルアミノプロパン、Ｎ－（２－ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロリジン、ヘキサアンミンコバルト（ＩＩＩ）トリス（トリフェニルメチルボレート）、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－ブタノン、２，６－ジメチル－３，５－ジアセチル－４－（２－ニトロフェニル）－１，４－ジヒドロピリジン、２，６－ジメチル－３，５－ジアセチル－４－（２，４－ジニトロフェニル）－１，４－ジヒドロピリジン等を挙げることができる。
熱可塑性樹脂層は、化合物Ｃを、１種単独で含んでいてもよいし、２種以上を含んでいてもよい。
化合物Ｃの含有量は、露光部及び非露光部の視認性、及び、解像性の観点から、熱可塑性樹脂層の全質量に対して、０．１質量％～１０質量％であることが好ましく、０．５質量％～５質量％であることがより好ましい。
化合物Ｃの含有量は、露光部及び非露光部の視認性、及び、解像性の観点から、熱可塑性樹脂層の全質量に対して、０．１質量％～１０質量％であることが好ましく、０．５質量％～５質量％であることがより好ましい。
〔可塑剤〕
熱可塑性樹脂層は、転写性、解像性、基材への密着性及び現像性の観点から、可塑剤を含有することが好ましい。
上記可塑剤は、アルカリ可溶性樹脂Ａよりも分子量又は重量平均分子量が小さいことが好ましい。可塑剤の分子量としては、２００～２，０００が好ましい。
可塑剤は、アルカリ可溶性樹脂Ａと相溶して可塑性を発現する化合物であれば特に限定されないが、可塑性付与の観点から、可塑剤は、分子中にアルキレンオキシ基を有することが好ましく、ポリアルキレングリコール化合物であることがより好ましい。可塑剤に含まれるアルキレンオキシ基は、ポリエチレンオキシ構造又はポリプロピレンオキシ構造であることがより好ましい。
熱可塑性樹脂層は、転写性、解像性、基材への密着性及び現像性の観点から、可塑剤を含有することが好ましい。
上記可塑剤は、アルカリ可溶性樹脂Ａよりも分子量又は重量平均分子量が小さいことが好ましい。可塑剤の分子量としては、２００～２，０００が好ましい。
可塑剤は、アルカリ可溶性樹脂Ａと相溶して可塑性を発現する化合物であれば特に限定されないが、可塑性付与の観点から、可塑剤は、分子中にアルキレンオキシ基を有することが好ましく、ポリアルキレングリコール化合物であることがより好ましい。可塑剤に含まれるアルキレンオキシ基は、ポリエチレンオキシ構造又はポリプロピレンオキシ構造であることがより好ましい。
また、上記可塑剤は、解像性及び保存安定性の観点から、（メタ）アクリレート化合物を含有することが好ましく、相溶性、解像性及び基材への密着性の観点から、アルカリ可溶性樹脂Ａが、アクリル樹脂であり、かつ上記可塑剤が、（メタ）アクリレート化合物を含有することがより好ましい。
上記可塑剤として用いられる（メタ）アクリレート化合物としては、後述するネガ型感光性層における重合性化合物に含まれる（メタ）アクリレート化合物が好ましく挙げられる。
また、保存安定性の観点から、同じ（メタ）アクリレート化合物を、熱可塑性樹脂層及びネガ型感光性層の両方にそれぞれ含むことが好ましい。同じ（メタ）アクリレート化合物を、熱可塑性樹脂層及びネガ型感光性層の両方にそれぞれ含むことで、層間の成分拡散が抑制され、保存安定性が向上する。
上記可塑剤として（メタ）アクリレート化合物を含有する場合、転写性の観点から、露光後の露光部においても上記（メタ）アクリレート化合物が熱可塑性樹脂層中において重合しないことが好ましい。
また、上記可塑剤として用いられる（メタ）アクリレート化合物は、解像性、基材への密着性及び現像性の観点から、多官能（メタ）アクリレート化合物であることが好ましい。
更に、上記可塑剤として用いられる（メタ）アクリレート化合物としては、酸基を有する（メタ）アクリレート化合物、ウレタン（メタ）アクリレート化合物等も好適に用いることができる。
上記可塑剤として用いられる（メタ）アクリレート化合物としては、後述するネガ型感光性層における重合性化合物に含まれる（メタ）アクリレート化合物が好ましく挙げられる。
また、保存安定性の観点から、同じ（メタ）アクリレート化合物を、熱可塑性樹脂層及びネガ型感光性層の両方にそれぞれ含むことが好ましい。同じ（メタ）アクリレート化合物を、熱可塑性樹脂層及びネガ型感光性層の両方にそれぞれ含むことで、層間の成分拡散が抑制され、保存安定性が向上する。
上記可塑剤として（メタ）アクリレート化合物を含有する場合、転写性の観点から、露光後の露光部においても上記（メタ）アクリレート化合物が熱可塑性樹脂層中において重合しないことが好ましい。
また、上記可塑剤として用いられる（メタ）アクリレート化合物は、解像性、基材への密着性及び現像性の観点から、多官能（メタ）アクリレート化合物であることが好ましい。
更に、上記可塑剤として用いられる（メタ）アクリレート化合物としては、酸基を有する（メタ）アクリレート化合物、ウレタン（メタ）アクリレート化合物等も好適に用いることができる。
熱可塑性樹脂層は、可塑剤を、１種単独で含んでいてもよいし、２種以上を含んでいてもよい。
可塑剤の含有量は、転写性、解像性、基材への密着性及び現像性の観点から、熱可塑性樹脂層の全質量に対し、１質量％～７０質量％であることが好ましく、１０質量％～６０質量％であることがより好ましく、２０質量％～５０質量％であることが特に好ましい。
可塑剤の含有量は、転写性、解像性、基材への密着性及び現像性の観点から、熱可塑性樹脂層の全質量に対し、１質量％～７０質量％であることが好ましく、１０質量％～６０質量％であることがより好ましく、２０質量％～５０質量％であることが特に好ましい。
〔界面活性剤〕
熱可塑性樹脂層は、厚さ均一性の観点から、界面活性剤を含有することが好ましい。
界面活性剤としては、アニオン性、カチオン性、ノニオン性（非イオン性）、及び、両性界面活性剤が挙げられる。好ましい界面活性剤はノニオン性界面活性剤である。
ノニオン性界面活性剤の例としては、ポリオキシエチレン高級アルキルエーテル類、ポリオキシエチレン高級アルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレングリコールの高級脂肪酸ジエステル類、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤を挙げることができる。
熱可塑性樹脂層は、厚さ均一性の観点から、界面活性剤を含有することが好ましい。
界面活性剤としては、アニオン性、カチオン性、ノニオン性（非イオン性）、及び、両性界面活性剤が挙げられる。好ましい界面活性剤はノニオン性界面活性剤である。
ノニオン性界面活性剤の例としては、ポリオキシエチレン高級アルキルエーテル類、ポリオキシエチレン高級アルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレングリコールの高級脂肪酸ジエステル類、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤を挙げることができる。
界面活性剤としては、例えば、国際公開第２０１８／１７９６４０号の段落０１２０～段落０１２５に記載の界面活性剤を用いることができる。
また、界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファックＦ－５５２又はＦ－５５４（以上、ＤＩＣ（株）製）を用いることができる。
その他、特許第４５０２７８４号公報の段落００１７、特開２００９－２３７３６２号公報の段落００６０～段落００７１に記載の界面活性剤も用いることができる。
また、界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファックＦ－５５２又はＦ－５５４（以上、ＤＩＣ（株）製）を用いることができる。
その他、特許第４５０２７８４号公報の段落００１７、特開２００９－２３７３６２号公報の段落００６０～段落００７１に記載の界面活性剤も用いることができる。
熱可塑性樹脂層は、界面活性剤を、１種単独で含んでいてもよいし、２種以上を含んでいてもよい。
界面活性剤の含有量は、熱可塑性樹脂層の全質量に対し、０．００１質量％～１０質量％であることが好ましく、０．０１質量％～３質量％であることがより好ましい。
界面活性剤の含有量は、熱可塑性樹脂層の全質量に対し、０．００１質量％～１０質量％であることが好ましく、０．０１質量％～３質量％であることがより好ましい。
〔増感剤〕
熱可塑性樹脂層は、増感剤を更に含むことができる。
増感剤としては、例えば、公知の増感剤などが挙げられる。
増感剤としては、例えば、ジアルキルアミノベンゾフェノン化合物、ピラゾリン化合物、アントラセン化合物、クマリン化合物、キサントン化合物、チオキサントン化合物、アクリドン化合物、オキサゾール化合物、ベンゾオキサゾール化合物、チアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、トリアゾール化合物（例えば、１，２，４－トリアゾール）、スチルベン化合物、トリアジン化合物、チオフェン化合物、ナフタルイミド化合物、トリアリールアミン化合物、及びアミノアクリジン化合物が挙げられる。
増感剤としては、増感効果を発現させる波長に光吸収を有することが好ましい。特にレーザー光の発光波長に吸収を有する増感剤を選択することでレーザー光による書き込みが可能となりより好ましい。波長４０５ｎｍに吸収を有する増感剤は、一般的な半導体レーザー露光に対応することが可能となり特に好ましい。
波長４０５ｎｍに吸収を有する増感剤の種類としては増感させるラジカル発生剤、光塩基発生剤、光酸発生剤に合わせて適宜選択可能だが、ジエチルキサントン、ジエチルアミノベンゾフェノン、１，１０－ジブトキシアントラセンなどが、増感効果が高いため特に好ましい。
熱可塑性樹脂層は、増感剤を更に含むことができる。
増感剤としては、例えば、公知の増感剤などが挙げられる。
増感剤としては、例えば、ジアルキルアミノベンゾフェノン化合物、ピラゾリン化合物、アントラセン化合物、クマリン化合物、キサントン化合物、チオキサントン化合物、アクリドン化合物、オキサゾール化合物、ベンゾオキサゾール化合物、チアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、トリアゾール化合物（例えば、１，２，４－トリアゾール）、スチルベン化合物、トリアジン化合物、チオフェン化合物、ナフタルイミド化合物、トリアリールアミン化合物、及びアミノアクリジン化合物が挙げられる。
増感剤としては、増感効果を発現させる波長に光吸収を有することが好ましい。特にレーザー光の発光波長に吸収を有する増感剤を選択することでレーザー光による書き込みが可能となりより好ましい。波長４０５ｎｍに吸収を有する増感剤は、一般的な半導体レーザー露光に対応することが可能となり特に好ましい。
波長４０５ｎｍに吸収を有する増感剤の種類としては増感させるラジカル発生剤、光塩基発生剤、光酸発生剤に合わせて適宜選択可能だが、ジエチルキサントン、ジエチルアミノベンゾフェノン、１，１０－ジブトキシアントラセンなどが、増感効果が高いため特に好ましい。
熱可塑性樹脂層は、増感剤を、１種単独で含んでいてもよいし、２種以上を含んでいてもよい。
増感剤の含有量は、目的により適宜選択できるが、光源に対する感度の向上、及び、露光部及び非露光部の視認性の観点から、熱可塑性樹脂層の全質量に対し、０．０１質量％～５質量％の範囲が好ましく、０．０５質量％～１質量％の範囲がより好ましい。
増感剤の含有量は、目的により適宜選択できるが、光源に対する感度の向上、及び、露光部及び非露光部の視認性の観点から、熱可塑性樹脂層の全質量に対し、０．０１質量％～５質量％の範囲が好ましく、０．０５質量％～１質量％の範囲がより好ましい。
また、熱可塑性樹脂層には、上述した以外のその他の添加剤を含有していてもよい。その他の添加剤としては、特に制限はなく、公知の添加剤を用いることができる。
更に、熱可塑性樹脂層の好ましい態様については、特開２０１４－８５６４３号公報の段落０１８９～段落０１９３を参照することもできる。
更に、熱可塑性樹脂層の好ましい態様については、特開２０１４－８５６４３号公報の段落０１８９～段落０１９３を参照することもできる。
熱可塑性樹脂層の層厚は、特に制限はないが、転写性、解像性、及び、露光部及び非露光部の視認性の観点から、１μｍ～２０μｍが好ましく、１μｍ～１０μｍがより好ましく、１μｍ～５μｍが特に好ましい。
本開示における各層の層厚の測定方法は、転写材料の面方向に対し垂直な方向の断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）により観察し、測定するものとする。また、層厚は、厚さを１０点以上測定し、その平均値とする。
本開示における各層の層厚の測定方法は、転写材料の面方向に対し垂直な方向の断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）により観察し、測定するものとする。また、層厚は、厚さを１０点以上測定し、その平均値とする。
＜＜熱可塑性樹脂層の形成方法＞＞
本開示における熱可塑性樹脂層は、熱可塑性樹脂層の形成に用いる成分と、溶剤とを含有する熱可塑性樹脂組成物を調製し、塗布及び乾燥して形成することができる。各成分を、それぞれ予め溶剤に溶解させた溶液とした後、得られた溶液を所定の割合で混合して組成物を調製することもできる。以上の如くして調製した組成物は、例えば、孔径０．２μｍ～３０μｍのフィルター等を用いてろ過を行ってもよい。
熱可塑性樹脂組成物を仮支持体上に塗布し、乾燥させることで、本開示における熱可塑性樹脂層を形成することができる。
塗布方法は特に限定されず、スリット塗布、スピン塗布、カーテン塗布、インクジェット塗布などの公知の方法で塗布することができる。
また、後述するカバーフィルム上に、ネガ型感光性層、及び、中間層等を形成した上に、熱可塑性樹脂層を形成することもできる。
本開示における熱可塑性樹脂層は、熱可塑性樹脂層の形成に用いる成分と、溶剤とを含有する熱可塑性樹脂組成物を調製し、塗布及び乾燥して形成することができる。各成分を、それぞれ予め溶剤に溶解させた溶液とした後、得られた溶液を所定の割合で混合して組成物を調製することもできる。以上の如くして調製した組成物は、例えば、孔径０．２μｍ～３０μｍのフィルター等を用いてろ過を行ってもよい。
熱可塑性樹脂組成物を仮支持体上に塗布し、乾燥させることで、本開示における熱可塑性樹脂層を形成することができる。
塗布方法は特に限定されず、スリット塗布、スピン塗布、カーテン塗布、インクジェット塗布などの公知の方法で塗布することができる。
また、後述するカバーフィルム上に、ネガ型感光性層、及び、中間層等を形成した上に、熱可塑性樹脂層を形成することもできる。
－溶剤－
溶剤としては、公知の溶剤を使用でき、例えば、国際公開第２０１８／１７９６４０号の段落００９２～段落００９４に記載された溶剤を用いることができる。
また、特開２０１８－１７７８８９公報の段落００１４に記載された２０℃における蒸気圧が１ｋＰａ以上１６ｋＰａ以下の溶剤を好ましく用いることができる。
本開示に用いることができる溶剤は、１種単独で用いてもよく、２種を併用してもよい。
熱可塑性樹脂組成物を塗布する際における溶剤の含有量は、熱可塑性樹脂組成物中の全固形分１００質量部に対し、５０質量部～１，９００質量部であることが好ましく、１００質量部～９００質量部であることがより好ましい。
溶剤としては、公知の溶剤を使用でき、例えば、国際公開第２０１８／１７９６４０号の段落００９２～段落００９４に記載された溶剤を用いることができる。
また、特開２０１８－１７７８８９公報の段落００１４に記載された２０℃における蒸気圧が１ｋＰａ以上１６ｋＰａ以下の溶剤を好ましく用いることができる。
本開示に用いることができる溶剤は、１種単独で用いてもよく、２種を併用してもよい。
熱可塑性樹脂組成物を塗布する際における溶剤の含有量は、熱可塑性樹脂組成物中の全固形分１００質量部に対し、５０質量部～１，９００質量部であることが好ましく、１００質量部～９００質量部であることがより好ましい。
＜中間層＞
本開示に係る感光性転写材料は、熱可塑性樹脂層とネガ型感光性層との間に、中間層を有する。中間層を有することにより、複数層を塗布する際及び塗布後の保存の際における成分の混合を抑制することができる。
また、中間層は、現像性、並びに、複数層を塗布する際及び塗布後の保存の際における成分の混合を抑制する観点から、水溶性の層であることが好ましい。
なお、本開示において、「水溶性」とは、２２℃においてｐＨ７．０の水１００ｇへの溶解度が０．１ｇ以上であることを意味する。
更に、中間層は、特開平５－７２７２４号公報に「分離層」として記載されている、酸素遮断機能のある酸素遮断層であることが好ましく、露光時の感度がアップし、露光機の時間負荷を低減し、生産性が向上する。
本開示に係る感光性転写材料は、熱可塑性樹脂層とネガ型感光性層との間に、中間層を有する。中間層を有することにより、複数層を塗布する際及び塗布後の保存の際における成分の混合を抑制することができる。
また、中間層は、現像性、並びに、複数層を塗布する際及び塗布後の保存の際における成分の混合を抑制する観点から、水溶性の層であることが好ましい。
なお、本開示において、「水溶性」とは、２２℃においてｐＨ７．０の水１００ｇへの溶解度が０．１ｇ以上であることを意味する。
更に、中間層は、特開平５－７２７２４号公報に「分離層」として記載されている、酸素遮断機能のある酸素遮断層であることが好ましく、露光時の感度がアップし、露光機の時間負荷を低減し、生産性が向上する。
酸素遮断層としては、低い酸素透過性を示し、水又はアルカリ水溶液（２２℃の炭酸ナトリウムの１質量％水溶液）に分散又は溶解するものが好ましく、公知のものの中から適宜選択することができる。
中間層は、樹脂を含有することが好ましい。上記樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルピロリドン系樹脂、セルロース系樹脂、アクリルアミド系樹脂、ポリエチレンオキサイド系樹脂、ゼラチン、ビニルエーテル系樹脂、ポリアミド樹脂、及び、これらの共重合体などの樹脂を用いて構成することができる。
また、上記樹脂は、水溶性樹脂であることが好ましい。
中間層は、上記樹脂を１種単独で含有していても、２種以上を含有していてもよい。
中でも、中間層は、酸素遮断性、並びに、複数層を塗布する際及び塗布後の保存の際における成分の混合を抑制する観点から、ポリビニルアルコールを含有することが好ましく、ポリビニルアルコール、及び、ポリビニルピロリドンを含有することが特に好ましい。
中間層は、樹脂を含有することが好ましい。上記樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルピロリドン系樹脂、セルロース系樹脂、アクリルアミド系樹脂、ポリエチレンオキサイド系樹脂、ゼラチン、ビニルエーテル系樹脂、ポリアミド樹脂、及び、これらの共重合体などの樹脂を用いて構成することができる。
また、上記樹脂は、水溶性樹脂であることが好ましい。
中間層は、上記樹脂を１種単独で含有していても、２種以上を含有していてもよい。
中でも、中間層は、酸素遮断性、並びに、複数層を塗布する際及び塗布後の保存の際における成分の混合を抑制する観点から、ポリビニルアルコールを含有することが好ましく、ポリビニルアルコール、及び、ポリビニルピロリドンを含有することが特に好ましい。
中間層における樹脂の含有量は、特に制限はないが、酸素遮断性、並びに、複数層を塗布する際及び塗布後の保存の際における成分の混合を抑制する観点から、中間層の全質量に対し、５０質量％～１００質量％であることが好ましく、７０質量％～１００質量％であることがより好ましく、８０質量％～１００質量％であることが更に好ましく、９０質量％～１００質量％であることが特に好ましい。
中間層には、必要に応じて界面活性剤などの添加剤を添加してもよい。
中間層の層厚は、０．１μｍ～５μｍであることが好ましく、０．５μｍ～３μｍであることがより好ましい。中間層の厚みが上記の範囲内であると、酸素遮断性を低下させることがなく、複数層を塗布する際及び塗布後の保存の際における成分の混合を抑制でき、また、現像時の中間層除去時間が増大するのを防止することができる。
中間層には、添加剤として酸性化合物を添加することができる。酸性化合物を添加することで樹脂中に含有する塩基性化合物が中和され、発色性を向上できる場合がある。酸性化合物としては公知の酸性化合物を選択すればよいが、中でも不揮発性の強酸が好ましい。具体的には硫酸、トシル酸などを挙げることができる。
酸性化合物の含有量は、中間層の全質量に対し、０．００１質量％～１０質量％が好ましく、０．０１質量％～１質量％がより好ましい。
中間層の層厚は、０．１μｍ～５μｍであることが好ましく、０．５μｍ～３μｍであることがより好ましい。中間層の厚みが上記の範囲内であると、酸素遮断性を低下させることがなく、複数層を塗布する際及び塗布後の保存の際における成分の混合を抑制でき、また、現像時の中間層除去時間が増大するのを防止することができる。
中間層には、添加剤として酸性化合物を添加することができる。酸性化合物を添加することで樹脂中に含有する塩基性化合物が中和され、発色性を向上できる場合がある。酸性化合物としては公知の酸性化合物を選択すればよいが、中でも不揮発性の強酸が好ましい。具体的には硫酸、トシル酸などを挙げることができる。
酸性化合物の含有量は、中間層の全質量に対し、０．００１質量％～１０質量％が好ましく、０．０１質量％～１質量％がより好ましい。
中間層は、上記樹脂及び必要に応じ添加剤を用いて調製した中間層組成物を塗布して塗設することができる。この組成物の調製には溶剤を使用でき、上記溶剤としては、上記樹脂が溶解するものであれば特に制限はなく、特に、水、又は、上記水に水混和性の有機溶剤を混合した混合溶剤が好ましい。
水混和性の有機溶剤としては、アルコール化合物が好ましく挙げられ、炭素数１～６のアルコール化合物がより好ましく挙げられる。
水混和性の有機溶剤としては、アルコール化合物が好ましく挙げられ、炭素数１～６のアルコール化合物がより好ましく挙げられる。
＜ネガ型感光性層＞
本開示に係る感光性転写材料は、ネガ型感光性層を有する。
本開示において用いられるネガ型感光性層は、特に制限はなく、公知のネガ型感光性層を用いることができる。また、本開示において用いられるネガ型感光性層は、パターン形成性の観点から、酸基を有する重合体、重合性化合物、及び、光重合開始剤を含有することが好ましい。
ネガ型感光性層としては、例えば、特開２０１６－２２４１６２号公報に記載の感光性樹脂層を用いてもよい。
本開示に係る感光性転写材料は、ネガ型感光性層を有する。
本開示において用いられるネガ型感光性層は、特に制限はなく、公知のネガ型感光性層を用いることができる。また、本開示において用いられるネガ型感光性層は、パターン形成性の観点から、酸基を有する重合体、重合性化合物、及び、光重合開始剤を含有することが好ましい。
ネガ型感光性層としては、例えば、特開２０１６－２２４１６２号公報に記載の感光性樹脂層を用いてもよい。
〔重合性化合物〕
ネガ型感光性層は、重合性化合物を含有することが好ましい。
重合性化合物としては、エチレン性不飽和化合物が好ましい。
エチレン性不飽和化合物は、ネガ型感光性層の感光性（すなわち、光硬化性）及び硬化膜の強度に寄与する成分である。
また、エチレン性不飽和化合物は、１つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物である。
ネガ型感光性層は、重合性化合物を含有することが好ましい。
重合性化合物としては、エチレン性不飽和化合物が好ましい。
エチレン性不飽和化合物は、ネガ型感光性層の感光性（すなわち、光硬化性）及び硬化膜の強度に寄与する成分である。
また、エチレン性不飽和化合物は、１つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物である。
ネガ型感光性層は、エチレン性不飽和化合物として、２官能以上のエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましい。
ここで、２官能以上のエチレン性不飽和化合物とは、一分子中にエチレン性不飽和基を２つ以上有する化合物を意味する。
エチレン性不飽和基としては、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。
エチレン性不飽和化合物としては、（メタ）アクリレート化合物が好ましい。
ここで、２官能以上のエチレン性不飽和化合物とは、一分子中にエチレン性不飽和基を２つ以上有する化合物を意味する。
エチレン性不飽和基としては、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。
エチレン性不飽和化合物としては、（メタ）アクリレート化合物が好ましい。
２官能エチレン性不飽和化合物としては、特に制限はなく、公知の化合物の中から適宜選択でき、具体的には、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（Ａ－ＤＣＰ、新中村化学工業（株）製）、トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート（ＤＣＰ、新中村化学工業（株）製）、１，９－ノナンジオールジアクリレート（Ａ－ＮＯＤ－Ｎ、新中村化学工業（株）製）、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（Ａ－ＨＤ－Ｎ、新中村化学工業（株）製）等が挙げられる。
また、２官能エチレン性不飽和化合物としては、ビスフェノール構造を有する２官能エチレン性不飽和化合物も好適に用いられる。
ビスフェノール構造を有する２官能エチレン性不飽和化合物としては、特開２０１６－２２４１６２号公報の段落００７２～段落００８０に記載の化合物が挙げられる。
具体的には、アルキレンオキサイド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート等が挙げられ、２，２－ビス（４－（メタクリロキシジエトキシ）フェニル）プロパン、２，２－ビス（４－（メタクリロキシエトキシプロポキシ）フェニル）プロパン、ビスフェノールＡの両端にそれぞれ平均５モルずつのエチレンオキサイドを付加したポリエチレングリコールのジメタクリレート（ＢＰＥ－５００、新中村化学工業（株）製）等が好ましく挙げられる。
また、２官能エチレン性不飽和化合物としては、ビスフェノール構造を有する２官能エチレン性不飽和化合物も好適に用いられる。
ビスフェノール構造を有する２官能エチレン性不飽和化合物としては、特開２０１６－２２４１６２号公報の段落００７２～段落００８０に記載の化合物が挙げられる。
具体的には、アルキレンオキサイド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート等が挙げられ、２，２－ビス（４－（メタクリロキシジエトキシ）フェニル）プロパン、２，２－ビス（４－（メタクリロキシエトキシプロポキシ）フェニル）プロパン、ビスフェノールＡの両端にそれぞれ平均５モルずつのエチレンオキサイドを付加したポリエチレングリコールのジメタクリレート（ＢＰＥ－５００、新中村化学工業（株）製）等が好ましく挙げられる。
３官能以上のエチレン性不飽和化合物としては、特に制限はなく、公知の化合物の中から適宜選択でき、例えば、ジペンタエリスリトール（トリ／テトラ／ペンタ／ヘキサ）（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール（トリ／テトラ）（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート骨格の（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。
ここで、「（トリ／テトラ／ペンタ／ヘキサ）（メタ）アクリレート」は、トリ（メタ）アクリレート、テトラ（メタ）アクリレート、ペンタ（メタ）アクリレート、及びヘキサ（メタ）アクリレートを包含する概念であり、「（トリ／テトラ）（メタ）アクリレート」は、トリ（メタ）アクリレート及びテトラ（メタ）アクリレートを包含する概念である。
エチレン性不飽和化合物としては、カプロラクトン変性（メタ）アクリレート化合物（日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＣＡ－２０、新中村化学工業（株）製Ａ－９３００－１ＣＬ等）、アルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート化合物（日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ ＲＰ－１０４０、新中村化学工業（株）製ＡＴＭ－３５Ｅ、Ａ－９３００、ダイセル・オルネクス社製ＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標） １３５等）、エトキシル化グリセリントリアクリレート（新中村化学工業（株）製Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ等）、アロニックス（登録商標）ＴＯ－２３４９（東亞合成（株）製）、アロニックスＭ－５２０（東亞合成（株）製）、又は、アロニックスＭ－５１０（東亞合成（株）製）等が挙げられる。
エチレン性不飽和化合物としては、ウレタン（メタ）アクリレート化合物（好ましくは３官能以上のウレタン（メタ）アクリレート化合物）も用いることができ、例えば、８ＵＸ－０１５Ａ（大成ファインケミカル（株）製）、ＵＡ－３２Ｐ（新中村化学工業（株）製）、ＵＡ－１１００Ｈ（新中村化学工業（株）製）等が挙げられる。
また、エチレン性不飽和化合物としては、特開２００４－２３９９４２号公報の段落００２５～段落００３０に記載の酸基を有する重合性化合物を用いてもよい。
エチレン性不飽和化合物としては、ウレタン（メタ）アクリレート化合物（好ましくは３官能以上のウレタン（メタ）アクリレート化合物）も用いることができ、例えば、８ＵＸ－０１５Ａ（大成ファインケミカル（株）製）、ＵＡ－３２Ｐ（新中村化学工業（株）製）、ＵＡ－１１００Ｈ（新中村化学工業（株）製）等が挙げられる。
また、エチレン性不飽和化合物としては、特開２００４－２３９９４２号公報の段落００２５～段落００３０に記載の酸基を有する重合性化合物を用いてもよい。
本開示に用いられる重合性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）としては、２００～３，０００が好ましく、２８０～２，２００がより好ましく、３００～２，２００が更に好ましい。
重合性化合物は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。
ネガ型感光性層における重合性化合物の含有量は、ネガ型感光性層の全質量に対し、１０質量％～７０質量％が好ましく、２０質量％～６０質量％がより好ましく、２０質量％～５０質量％が更に好ましい。
ネガ型感光性層における重合性化合物の含有量は、ネガ型感光性層の全質量に対し、１０質量％～７０質量％が好ましく、２０質量％～６０質量％がより好ましく、２０質量％～５０質量％が更に好ましい。
〔酸基を有する重合体〕
ネガ型感光性層は、酸基を有する重合体を含有することが好ましい。
ネガ型感光性層に含まれる酸基を重合体の好ましい形態は、上述のアルカリ可溶性樹脂Ａと同様である。
ネガ型感光性層は、酸基を有する重合体を含有することが好ましい。
ネガ型感光性層に含まれる酸基を重合体の好ましい形態は、上述のアルカリ可溶性樹脂Ａと同様である。
ネガ型感光性層は、酸基を有する重合体を、１種単独で含んでいてもよいし、２種以上を含んでいてもよい。
ネガ型感光性層における酸基を有する重合体の含有量は、感光性の観点から、ネガ型感光性層の全質量に対し、１０質量％以上９０質量％以下であることが好ましく、２０質量％以上８０質量％以下であることがより好ましく、３０質量％以上７０質量％以下であることが更に好ましい。
ネガ型感光性層における酸基を有する重合体の含有量は、感光性の観点から、ネガ型感光性層の全質量に対し、１０質量％以上９０質量％以下であることが好ましく、２０質量％以上８０質量％以下であることがより好ましく、３０質量％以上７０質量％以下であることが更に好ましい。
〔光重合開始剤〕
ネガ型感光性層は、光重合開始剤を含むことが好ましい。
光重合開始剤は、紫外線、可視光線等の活性光線を受けて、重合性化合物の重合を開始する。
光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知の光重合開始剤を用いることができる。
光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤、及び、光カチオン重合開始剤が挙げられ、光ラジカル重合開始剤であることが好ましい。
また、光ラジカル重合開始剤としては、上述した光ラジカル発生剤が挙げられ、好ましい態様も同様である。
更に、ネガ型感光性層における光重合開始剤としては、感光性、露光部及び非露光部の視認性、及び、解像性の観点から、２，４，５－トリアリールイミダゾール二量体及びその誘導体からなる群より選択される少なくとも１種を含むことが好ましい。
ネガ型感光性層は、光重合開始剤を含むことが好ましい。
光重合開始剤は、紫外線、可視光線等の活性光線を受けて、重合性化合物の重合を開始する。
光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知の光重合開始剤を用いることができる。
光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤、及び、光カチオン重合開始剤が挙げられ、光ラジカル重合開始剤であることが好ましい。
また、光ラジカル重合開始剤としては、上述した光ラジカル発生剤が挙げられ、好ましい態様も同様である。
更に、ネガ型感光性層における光重合開始剤としては、感光性、露光部及び非露光部の視認性、及び、解像性の観点から、２，４，５－トリアリールイミダゾール二量体及びその誘導体からなる群より選択される少なくとも１種を含むことが好ましい。
ネガ型感光性層は、光重合開始剤を、１種単独で含んでいてもよいし、２種以上を含んでいてもよい。
ネガ型感光性層における光重合開始剤の含有量は、特に制限はないが、ネガ型感光性層の全質量に対し、０．１質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がより好ましく、１．０質量％以上が更に好ましい。
また、光重合開始剤の含有量は、ネガ型感光性層の全質量に対し、１０質量％以下が好ましく、５質量％以下がより好ましい。
ネガ型感光性層における光重合開始剤の含有量は、特に制限はないが、ネガ型感光性層の全質量に対し、０．１質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がより好ましく、１．０質量％以上が更に好ましい。
また、光重合開始剤の含有量は、ネガ型感光性層の全質量に対し、１０質量％以下が好ましく、５質量％以下がより好ましい。
〔色素Ｎ〕
ネガ型感光性層は、露光部及び非露光部の視認性、現像後のパターン視認性、及び、解像性の観点から、発色時の波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍにおける最大吸収波長が４５０ｎｍ以上であり、酸、塩基、又はラジカルにより最大吸収波長が変化する色素Ｎ（単に「色素Ｎ」ともいう。）を含有することが好ましい。色素Ｎを含有すると、詳細なメカニズムは不明であるが、基材への密着性が向上し、解像性により優れる。
色素Ｎの好ましい態様は、後述する以外は、色素Ｂの好ましい態様と同様である。
色素Ｎは、露光部及び非露光部の視認性、現像後のパターン視認性、及び、解像性の観点から、ラジカルにより最大吸収波長が変化する色素であることが好ましく、ラジカルにより発色する色素であることがより好ましい。
色素Ｎとしては、例えば、ロイコクリスタルバイオレット、クリスタルバイオレットラクトン、ビクトリアピュアブルー－ナフタレンスルホン酸塩等が好適に挙げられる。
ネガ型感光性層は、露光部及び非露光部の視認性、現像後のパターン視認性、及び、解像性の観点から、発色時の波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍにおける最大吸収波長が４５０ｎｍ以上であり、酸、塩基、又はラジカルにより最大吸収波長が変化する色素Ｎ（単に「色素Ｎ」ともいう。）を含有することが好ましい。色素Ｎを含有すると、詳細なメカニズムは不明であるが、基材への密着性が向上し、解像性により優れる。
色素Ｎの好ましい態様は、後述する以外は、色素Ｂの好ましい態様と同様である。
色素Ｎは、露光部及び非露光部の視認性、現像後のパターン視認性、及び、解像性の観点から、ラジカルにより最大吸収波長が変化する色素であることが好ましく、ラジカルにより発色する色素であることがより好ましい。
色素Ｎとしては、例えば、ロイコクリスタルバイオレット、クリスタルバイオレットラクトン、ビクトリアピュアブルー－ナフタレンスルホン酸塩等が好適に挙げられる。
色素Ｎは、１種単独で使用しても、２種以上を使用してもよい。
色素Ｎの含有量は、露光部及び非露光部の視認性、現像後のパターン視認性、及び、解像性の観点から、ネガ型感光性層の全質量に対し、０．１質量％以上であることが好ましく、０．１質量％～１０質量％であることがより好ましく、０．１質量％～５質量％であることが更に好ましく、０．１質量％～１質量％であることが特に好ましい。
また、色素Ｎの含有量は、ネガ型感光性層に含まれる色素Ｎの全てを発色状態にした場合の色素の含有量を意味する。定量方法については、色素Ｂと同様である。
色素Ｎの含有量は、露光部及び非露光部の視認性、現像後のパターン視認性、及び、解像性の観点から、ネガ型感光性層の全質量に対し、０．１質量％以上であることが好ましく、０．１質量％～１０質量％であることがより好ましく、０．１質量％～５質量％であることが更に好ましく、０．１質量％～１質量％であることが特に好ましい。
また、色素Ｎの含有量は、ネガ型感光性層に含まれる色素Ｎの全てを発色状態にした場合の色素の含有量を意味する。定量方法については、色素Ｂと同様である。
〔その他の添加剤〕
ネガ型感光性層は、上記成分以外にも、必要に応じて公知の添加剤を含むことができる。
その他の添加剤としては、公知のものを用いることができ、例えば、重合禁止剤、可塑剤、増感剤、水素供与体、ヘテロ環状化合物等が挙げられる。
可塑剤及びヘテロ環状化合物としては、国際公開第２０１８／１７９６４０号の段落００９７～段落０１０３及び段落０１１１～段落０１１８に記載されたものが挙げられる。
更に、本開示に係る感光性転写材料におけるネガ型感光性層は、溶剤を含んでいてもよい。溶剤を含む感光性樹脂組成物によりネガ型感光性層を形成した場合、溶剤が残留することもある。
ネガ型感光性層は、上記成分以外にも、必要に応じて公知の添加剤を含むことができる。
その他の添加剤としては、公知のものを用いることができ、例えば、重合禁止剤、可塑剤、増感剤、水素供与体、ヘテロ環状化合物等が挙げられる。
可塑剤及びヘテロ環状化合物としては、国際公開第２０１８／１７９６４０号の段落００９７～段落０１０３及び段落０１１１～段落０１１８に記載されたものが挙げられる。
更に、本開示に係る感光性転写材料におけるネガ型感光性層は、溶剤を含んでいてもよい。溶剤を含む感光性樹脂組成物によりネガ型感光性層を形成した場合、溶剤が残留することもある。
－重合禁止剤－
ネガ型感光性層は、重合禁止剤を含んでいてもよい。
重合禁止剤としては、例えば、特許第４５０２７８４号公報の段落００１８に記載された熱重合防止剤を用いることができる。
中でも、フェノチアジン、フェノキサジン又は４－メトキシフェノールを好適に用いることができる。
ネガ型感光性層は、重合禁止剤を含んでいてもよい。
重合禁止剤としては、例えば、特許第４５０２７８４号公報の段落００１８に記載された熱重合防止剤を用いることができる。
中でも、フェノチアジン、フェノキサジン又は４－メトキシフェノールを好適に用いることができる。
ネガ型感光性層は、重合禁止剤を、１種単独で含んでいてもよいし、２種以上を含んでいてもよい。
ネガ型感光性層が重合禁止剤を含有する場合、重合禁止剤の含有量は、ネガ型感光性層の全質量に対して、０．０１質量％～３質量％が好ましく、０．０１質量％～１質量％がより好ましく、０．０１質量％～０．８質量％が更に好ましい。
ネガ型感光性層が重合禁止剤を含有する場合、重合禁止剤の含有量は、ネガ型感光性層の全質量に対して、０．０１質量％～３質量％が好ましく、０．０１質量％～１質量％がより好ましく、０．０１質量％～０．８質量％が更に好ましい。
－増感剤－
ネガ型感光性層は、増感剤を更に含むことができる。
ネガ用増感剤としては、例えば、公知の増感剤、染料、又は顔料などが挙げられる。
増感剤としては、上述した増感剤が挙げられる。
ネガ型感光性層は、増感剤を更に含むことができる。
ネガ用増感剤としては、例えば、公知の増感剤、染料、又は顔料などが挙げられる。
増感剤としては、上述した増感剤が挙げられる。
ネガ型感光性層は、増感剤を、１種単独で含んでいてもよいし、２種以上を含んでいてもよい。
増感剤の含有量は、目的により適宜選択できるが、光源に対する感度の向上、重合速度と連鎖移動のバランスによる硬化速度の向上などの観点から、ネガ型感光性層の全質量に対し、０．０１質量％～５質量％が好ましく、０．０５質量％～１質量％がより好ましい。
増感剤の含有量は、目的により適宜選択できるが、光源に対する感度の向上、重合速度と連鎖移動のバランスによる硬化速度の向上などの観点から、ネガ型感光性層の全質量に対し、０．０１質量％～５質量％が好ましく、０．０５質量％～１質量％がより好ましい。
また、本開示におけるネガ型感光性層には、金属酸化物粒子、酸化防止剤、分散剤、酸増殖剤、現像促進剤、導電性繊維、着色剤、熱ラジカル重合開始剤、熱酸発生剤、紫外線吸収剤、増粘剤、架橋剤、及び、有機又は無機の沈殿防止剤などの公知の添加剤を更に加えることができる。
その他の成分の好ましい態様については特開２０１４－８５６４３号公報の段落０１６５～段落０１８４にそれぞれ記載があり、この公報の内容は本明細書に組み込まれる。
その他の成分の好ましい態様については特開２０１４－８５６４３号公報の段落０１６５～段落０１８４にそれぞれ記載があり、この公報の内容は本明細書に組み込まれる。
＜＜ネガ型感光性層の層厚＞＞
ネガ型感光性層の層厚としては、露光部及び非露光部の視認性、基材への密着性、及び、解像性の観点から、８μｍ未満であることが好ましく、６μｍ未満であることがより好ましく、０．８μｍ～５μｍが更に好ましく、２μｍ～４μｍが特に好ましい。
ネガ型感光性層の層厚としては、露光部及び非露光部の視認性、基材への密着性、及び、解像性の観点から、８μｍ未満であることが好ましく、６μｍ未満であることがより好ましく、０．８μｍ～５μｍが更に好ましく、２μｍ～４μｍが特に好ましい。
＜＜ネガ型感光性層の形成方法＞＞
本開示におけるネガ型感光性層は、ネガ型感光性層の形成に用いる成分と、溶剤とを含有する感光性組成物を調製し、塗布及び乾燥して形成することができる。各成分を、それぞれ予め溶剤に溶解させた溶液とした後、得られた溶液を所定の割合で混合して組成物を調製することもできる。以上の如くして調製した組成物は、例えば、孔径０．２μｍ～３０μｍのフィルター等を用いてろ過を行ってもよい。
仮支持体上に、熱可塑性樹脂層、及び、中間層等を形成した上に、ネガ型感光性層を形成することができる。
塗布方法は特に限定されず、スリット塗布、スピン塗布、カーテン塗布、インクジェット塗布などの公知の方法で塗布することができる。
また、感光性組成物をカバーフィルム上に塗布し、乾燥させることで、本開示におけるネガ型感光性層を形成することもできる。
本開示におけるネガ型感光性層は、ネガ型感光性層の形成に用いる成分と、溶剤とを含有する感光性組成物を調製し、塗布及び乾燥して形成することができる。各成分を、それぞれ予め溶剤に溶解させた溶液とした後、得られた溶液を所定の割合で混合して組成物を調製することもできる。以上の如くして調製した組成物は、例えば、孔径０．２μｍ～３０μｍのフィルター等を用いてろ過を行ってもよい。
仮支持体上に、熱可塑性樹脂層、及び、中間層等を形成した上に、ネガ型感光性層を形成することができる。
塗布方法は特に限定されず、スリット塗布、スピン塗布、カーテン塗布、インクジェット塗布などの公知の方法で塗布することができる。
また、感光性組成物をカバーフィルム上に塗布し、乾燥させることで、本開示におけるネガ型感光性層を形成することもできる。
＜仮支持体＞
本開示に係る感光性転写材料は、仮支持体を有する。
仮支持体は、熱可塑性樹脂層を少なくとも支持し、剥離可能な支持体である。
本開示に用いられる仮支持体は、ネガ型感光性層をパターン露光する場合において、仮支持体を介してネガ型感光性層を露光し得る観点から光透過性を有することが好ましい。
光透過性を有するとは、パターン露光に使用する光の主波長の透過率が５０％以上であることを意味し、パターン露光に使用する光の主波長の透過率は、露光感度向上の観点から、６０％以上が好ましく、７０％以上がより好ましい。透過率の測定方法としては、大塚電子（株）製ＭＣＰＤ Ｓｅｒｉｅｓを用いて測定する方法が挙げられる。
仮支持体としては、ガラス基板、樹脂フィルム、紙等が挙げられ、強度及び可撓性等の観点から、樹脂フィルムが特に好ましい。樹脂フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム等が挙げられる。中でも、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。
本開示に係る感光性転写材料は、仮支持体を有する。
仮支持体は、熱可塑性樹脂層を少なくとも支持し、剥離可能な支持体である。
本開示に用いられる仮支持体は、ネガ型感光性層をパターン露光する場合において、仮支持体を介してネガ型感光性層を露光し得る観点から光透過性を有することが好ましい。
光透過性を有するとは、パターン露光に使用する光の主波長の透過率が５０％以上であることを意味し、パターン露光に使用する光の主波長の透過率は、露光感度向上の観点から、６０％以上が好ましく、７０％以上がより好ましい。透過率の測定方法としては、大塚電子（株）製ＭＣＰＤ Ｓｅｒｉｅｓを用いて測定する方法が挙げられる。
仮支持体としては、ガラス基板、樹脂フィルム、紙等が挙げられ、強度及び可撓性等の観点から、樹脂フィルムが特に好ましい。樹脂フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム等が挙げられる。中でも、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。
仮支持体の厚さ（層厚）は、特に限定されず、５μｍ～１００μｍの範囲が好ましく、取扱い易さ、汎用性などの点で、１０μｍ～５０μｍの範囲がより好ましい。
仮支持体の厚さは、支持体としての強度、回路配線形成用基板との貼り合わせに求められる可撓性、最初の露光工程で要求される光透過性などの観点から、材質に応じて選択すればよい。
仮支持体の厚さは、支持体としての強度、回路配線形成用基板との貼り合わせに求められる可撓性、最初の露光工程で要求される光透過性などの観点から、材質に応じて選択すればよい。
仮支持体の好ましい態様については、例えば、特開２０１４－８５６４３号公報の段落００１７～段落００１８に記載があり、この公報の内容は本開示に組み込まれる。
＜カバーフィルム＞
本開示に係る感光性転写材料は、感光性転写材料における仮支持体が設けられた側の面とは反対側の面に、カバーフィルムを有することが好ましい。
カバーフィルムとしては、樹脂フィルム、紙等が挙げられ、強度及び可撓性等の観点から、樹脂フィルムが特に好ましい。樹脂フィルムとしては、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム等が挙げられる。中でも、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。
本開示に係る感光性転写材料は、感光性転写材料における仮支持体が設けられた側の面とは反対側の面に、カバーフィルムを有することが好ましい。
カバーフィルムとしては、樹脂フィルム、紙等が挙げられ、強度及び可撓性等の観点から、樹脂フィルムが特に好ましい。樹脂フィルムとしては、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム等が挙げられる。中でも、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。
カバーフィルムの厚さ（層厚）は、特に限定されず、例えば、１μｍ～２ｍｍのものが好ましく挙げられる。
＜その他の層＞
本開示に係る感光性転写材料は、上述した以外の層（以下、「その他の層」ともいう。）を有していてもよい。その他の層としては、コントラストエンハンスメント層等を挙げることができる。
コントラストエンハンスメント層の好ましい態様については国際公開第２０１８／１７９６４０号の段落０１３４、及び、更に他の層の好ましい態様については特開２０１４－８５６４３号公報の段落０１９４～段落０１９６にそれぞれ記載があり、この公報の内容は本明細書に組み込まれる。
本開示に係る感光性転写材料は、上述した以外の層（以下、「その他の層」ともいう。）を有していてもよい。その他の層としては、コントラストエンハンスメント層等を挙げることができる。
コントラストエンハンスメント層の好ましい態様については国際公開第２０１８／１７９６４０号の段落０１３４、及び、更に他の層の好ましい態様については特開２０１４－８５６４３号公報の段落０１９４～段落０１９６にそれぞれ記載があり、この公報の内容は本明細書に組み込まれる。
ここで図１を参照して、本開示に係る感光性転写材料の層構成の一例を概略的に示す。
図１に示す感光性転写材料１００は、仮支持体１０と、熱可塑性樹脂層１２と、中間層１４と、ネガ型感光性層１６と、カバーフィルム１８とがこの順に積層されている。
図１に示す感光性転写材料１００は、仮支持体１０と、熱可塑性樹脂層１２と、中間層１４と、ネガ型感光性層１６と、カバーフィルム１８とがこの順に積層されている。
（感光性転写材料の製造方法）
本開示に係る感光性転写材料の製造方法は、特に制限はなく、公知の製造方法、例えば、公知の各層の形成方法等を用いることができる。
中でも、本開示に係る感光性転写材料の製造方法としては、熱可塑性樹脂組成物を仮支持体上に塗布及び乾燥し熱可塑性樹脂層を形成する工程、中間層組成物を熱可塑性樹脂層上に塗布及び乾燥し中間層を形成する工程、並びに、感光性組成物を中間層上に塗布及び乾燥しネガ型感光性層を形成する工程を含む方法が好ましく挙げられる。
また、本開示に係る感光性転写材料の製造方法は、上記ネガ型感光性層を形成する工程の後に、上記ネガ型感光性層上にカバーフィルムを設ける工程を更に含むことが好ましい。
本開示に係る感光性転写材料の製造方法は、特に制限はなく、公知の製造方法、例えば、公知の各層の形成方法等を用いることができる。
中でも、本開示に係る感光性転写材料の製造方法としては、熱可塑性樹脂組成物を仮支持体上に塗布及び乾燥し熱可塑性樹脂層を形成する工程、中間層組成物を熱可塑性樹脂層上に塗布及び乾燥し中間層を形成する工程、並びに、感光性組成物を中間層上に塗布及び乾燥しネガ型感光性層を形成する工程を含む方法が好ましく挙げられる。
また、本開示に係る感光性転写材料の製造方法は、上記ネガ型感光性層を形成する工程の後に、上記ネガ型感光性層上にカバーフィルムを設ける工程を更に含むことが好ましい。
（樹脂パターンの製造方法、及び、回路配線の製造方法）
本開示に係る樹脂パターンの製造方法は、本開示に係る感光性転写材料を用いた樹脂パターンの製造方法であれば、特に制限はないが、本開示に係る感光性転写材料における上記仮支持体に対してネガ型感光性層を有する側の最外層を基板に接触させて貼り合わせる工程（以下、「貼り合わせ工程」ということがある。）と、上記ネガ型感光性層をパターン露光する工程（以下、「露光工程」ということがある。）と、露光された上記ネガ型感光性層を現像してパターンを形成する工程（以下、「現像工程」ということがある。）と、をこの順に含むことが好ましい。
また、本開示に係る樹脂パターンの製造方法における上記基板は、導電層を有する基板であることが好ましく、表面に導電層を有する基板であることがより好ましい。
本開示に係る回路配線の製造方法は、本開示に係る感光性転写材料を用いる方法であればよいが、本開示に係る感光性転写材料の、上記仮支持体に対してネガ型感光性層を有する側の最外層を、導電層を有する基板に貼り合わせる工程（以下、「貼り合わせ工程」ということがある。）と、貼り合わせた上記感光性転写材料における上記ネガ型感光性層をパターン露光する工程と、パターン露光された上記ネガ型感光性層を少なくとも現像して樹脂パターンを形成する工程と、上記樹脂パターンが配置されていない領域における上記基板をエッチング処理する工程（以下、「エッチング工程」ということがある。）と、をこの順に含むことが好ましい。
本開示に係る回路配線の製造方法における上記基板は、表面に上記導電層を有する基板であることが好ましい。
本開示に係る樹脂パターンの製造方法は、本開示に係る感光性転写材料を用いた樹脂パターンの製造方法であれば、特に制限はないが、本開示に係る感光性転写材料における上記仮支持体に対してネガ型感光性層を有する側の最外層を基板に接触させて貼り合わせる工程（以下、「貼り合わせ工程」ということがある。）と、上記ネガ型感光性層をパターン露光する工程（以下、「露光工程」ということがある。）と、露光された上記ネガ型感光性層を現像してパターンを形成する工程（以下、「現像工程」ということがある。）と、をこの順に含むことが好ましい。
また、本開示に係る樹脂パターンの製造方法における上記基板は、導電層を有する基板であることが好ましく、表面に導電層を有する基板であることがより好ましい。
本開示に係る回路配線の製造方法は、本開示に係る感光性転写材料を用いる方法であればよいが、本開示に係る感光性転写材料の、上記仮支持体に対してネガ型感光性層を有する側の最外層を、導電層を有する基板に貼り合わせる工程（以下、「貼り合わせ工程」ということがある。）と、貼り合わせた上記感光性転写材料における上記ネガ型感光性層をパターン露光する工程と、パターン露光された上記ネガ型感光性層を少なくとも現像して樹脂パターンを形成する工程と、上記樹脂パターンが配置されていない領域における上記基板をエッチング処理する工程（以下、「エッチング工程」ということがある。）と、をこの順に含むことが好ましい。
本開示に係る回路配線の製造方法における上記基板は、表面に上記導電層を有する基板であることが好ましい。
＜貼り合わせ工程＞
本開示に係る樹脂パターンの製造方法、又は、本開示に係る回路配線の製造方法は、本開示に係る感光性転写材料における上記仮支持体に対してネガ型感光性層を有する側の最外層を、基板、好ましくは導電層を有する基板に接触させて貼り合わせる工程（貼り合わせ工程）を含むことが好ましい。
上記貼り合わせ工程においては、上記導電層と、本開示に係る感光性転写材料における上記仮支持体に対してネガ型感光性層を有する側の最外層と、が接触するように圧着させることが好ましい。上記態様であると、露光及び現像後のパターン形成されたネガ型感光性層を、導電層をエッチングする際のエッチングレジストとして好適に用いることができる。
上記基板と上記感光性転写材料とを圧着する方法としては、特に制限はなく、公知の転写方法、及び、ラミネート方法を用いることができる。
感光性転写材料の基板への貼り合わせは、感光性転写材料の、ネガ型感光性層を有する側の最外層を基板上に重ね、ロール等による加圧及び加熱することに行われることが好ましい。貼り合わせには、ラミネーター、真空ラミネーター、及び、より生産性を高めることができるオートカットラミネーター等の公知のラミネーターを使用することができる。本開示に係る回路配線の製造方法は、ロールツーロール方式により行われることが好ましい。そのため、基板を構成する基材は、樹脂フィルムであることが好ましい。
以下、ロールツーロール方式について説明する。
ロールツーロール方式とは、基板として、巻き取り及び巻き出しが可能な基板を用い、回路配線の製造方法に含まれるいずれかの工程の前に、基板又は基板を含む構造体を巻き出す工程（「巻き出し工程」ともいう。）と、いずれかの工程の後に、基材又は基板を含む構造体を巻き取る工程（「巻き取り工程」ともいう。）と、を含み、少なくともいずれかの工程（好ましくは、全ての工程、又は加熱工程以外の全ての工程）を、基材又は基板を含む構造体を搬送しながら行う方式をいう。
巻き出し工程における巻き出し方法、及び巻き取り工程における巻取り方法としては、特に制限されず、ロールツーロール方式を適用する製造方法において、公知の方法を用いればよい。
本開示に係る樹脂パターンの製造方法、又は、本開示に係る回路配線の製造方法は、本開示に係る感光性転写材料における上記仮支持体に対してネガ型感光性層を有する側の最外層を、基板、好ましくは導電層を有する基板に接触させて貼り合わせる工程（貼り合わせ工程）を含むことが好ましい。
上記貼り合わせ工程においては、上記導電層と、本開示に係る感光性転写材料における上記仮支持体に対してネガ型感光性層を有する側の最外層と、が接触するように圧着させることが好ましい。上記態様であると、露光及び現像後のパターン形成されたネガ型感光性層を、導電層をエッチングする際のエッチングレジストとして好適に用いることができる。
上記基板と上記感光性転写材料とを圧着する方法としては、特に制限はなく、公知の転写方法、及び、ラミネート方法を用いることができる。
感光性転写材料の基板への貼り合わせは、感光性転写材料の、ネガ型感光性層を有する側の最外層を基板上に重ね、ロール等による加圧及び加熱することに行われることが好ましい。貼り合わせには、ラミネーター、真空ラミネーター、及び、より生産性を高めることができるオートカットラミネーター等の公知のラミネーターを使用することができる。本開示に係る回路配線の製造方法は、ロールツーロール方式により行われることが好ましい。そのため、基板を構成する基材は、樹脂フィルムであることが好ましい。
以下、ロールツーロール方式について説明する。
ロールツーロール方式とは、基板として、巻き取り及び巻き出しが可能な基板を用い、回路配線の製造方法に含まれるいずれかの工程の前に、基板又は基板を含む構造体を巻き出す工程（「巻き出し工程」ともいう。）と、いずれかの工程の後に、基材又は基板を含む構造体を巻き取る工程（「巻き取り工程」ともいう。）と、を含み、少なくともいずれかの工程（好ましくは、全ての工程、又は加熱工程以外の全ての工程）を、基材又は基板を含む構造体を搬送しながら行う方式をいう。
巻き出し工程における巻き出し方法、及び巻き取り工程における巻取り方法としては、特に制限されず、ロールツーロール方式を適用する製造方法において、公知の方法を用いればよい。
本開示に用いられる基板は、導電層を有する基板であることが好ましく、基材の表面に導電層を有する基板であることがより好ましい。
基板は、ガラス、シリコン、フィルムなどの基材上に、導電層を有し、必要により任意の層が形成されてもよい。
基材は透明であることが好ましい。
基材の屈折率は、１．５０～１．５２であることが好ましい。
基材は、ガラス基材等の透光性基材で構成されていてもよく、コーニング社のゴリラガラスに代表される強化ガラスなどを用いることができる。また、上述の透明基材としては、特開２０１０－８６６８４号公報、特開２０１０－１５２８０９号公報及び特開２０１０－２５７４９２号公報に用いられている材料を好ましく用いることができる。
基材として樹脂フィルム基材を用いる場合は、光学的に歪みが小さい基材、及び、透明度が高い基材を用いることがより好ましい。具体的な素材としては、ポリエチレンテレフタレート（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ；ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース、シクロオレフィンポリマーを挙げることができる。
基板は、ガラス、シリコン、フィルムなどの基材上に、導電層を有し、必要により任意の層が形成されてもよい。
基材は透明であることが好ましい。
基材の屈折率は、１．５０～１．５２であることが好ましい。
基材は、ガラス基材等の透光性基材で構成されていてもよく、コーニング社のゴリラガラスに代表される強化ガラスなどを用いることができる。また、上述の透明基材としては、特開２０１０－８６６８４号公報、特開２０１０－１５２８０９号公報及び特開２０１０－２５７４９２号公報に用いられている材料を好ましく用いることができる。
基材として樹脂フィルム基材を用いる場合は、光学的に歪みが小さい基材、及び、透明度が高い基材を用いることがより好ましい。具体的な素材としては、ポリエチレンテレフタレート（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ；ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース、シクロオレフィンポリマーを挙げることができる。
基材上に導電層を有する基板においては、ロールツーロール方式で製造する観点から、フィルム基材であることが好ましい。本開示に係る回路配線の製造方法は、タッチパネル用の回路配線である場合、基材がシート状樹脂組成物であることが特に好ましい。
基材上に形成されている導電層としては、一般的な回路配線又はタッチパネル配線に用いられる任意の導電層を挙げることができる。
導電層としては、導電性及び細線形成性の観点から、金属層、導電性金属酸化物層、グラフェン層、カーボンナノチューブ層、及び、導電ポリマー層よりなる群から選ばれた少なくとも１種の層であることが好ましく挙げられ、金属層であることがより好ましく挙げられ、銅層、又は、銀層であることが特に好ましく挙げられる。
また、基材上に導電層を１層有していても、２層以上有していてもよい。２層以上の場合は、異なる材質の導電層を有することが好ましい。
導電層の材料としては、金属及び導電性金属酸化物などを挙げることができる。
金属としては、Ａｌ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ａｇ、Ａｕ等を挙げることができる。
導電性金属酸化物としては、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）、ＳｉＯ２等を挙げることができる。なお、本開示における「導電性」とは、体積抵抗率が１×１０６Ωｃｍ未満であることをいい、体積抵抗率が１×１０４Ωｃｍ未満であることが好ましい。
導電層としては、導電性及び細線形成性の観点から、金属層、導電性金属酸化物層、グラフェン層、カーボンナノチューブ層、及び、導電ポリマー層よりなる群から選ばれた少なくとも１種の層であることが好ましく挙げられ、金属層であることがより好ましく挙げられ、銅層、又は、銀層であることが特に好ましく挙げられる。
また、基材上に導電層を１層有していても、２層以上有していてもよい。２層以上の場合は、異なる材質の導電層を有することが好ましい。
導電層の材料としては、金属及び導電性金属酸化物などを挙げることができる。
金属としては、Ａｌ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ａｇ、Ａｕ等を挙げることができる。
導電性金属酸化物としては、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）、ＳｉＯ２等を挙げることができる。なお、本開示における「導電性」とは、体積抵抗率が１×１０６Ωｃｍ未満であることをいい、体積抵抗率が１×１０４Ωｃｍ未満であることが好ましい。
本開示に係る回路配線の製造方法において、基材上に複数の導電層を有する基板を用いる場合、複数の導電層のうち少なくとも一つの導電層は導電性金属酸化物を含むことが好ましい。
導電層としては、静電容量型タッチパネルに用いられる視認部のセンサーに相当する電極パターン又は周辺取り出し部の配線であることが好ましい。
導電層としては、静電容量型タッチパネルに用いられる視認部のセンサーに相当する電極パターン又は周辺取り出し部の配線であることが好ましい。
＜露光工程＞
本開示に係る樹脂パターンの製造方法、又は、本開示に係る回路配線の製造方法は、上記貼り合わせる工程後、上記ネガ型感光性層をパターン露光する工程（露光工程）を含むことが好ましい。
本開示に係る樹脂パターンの製造方法、又は、本開示に係る回路配線の製造方法は、上記貼り合わせる工程後、上記ネガ型感光性層をパターン露光する工程（露光工程）を含むことが好ましい。
本開示においてパターンの詳細な配置及び具体的サイズは特に制限されない。本開示に係る回路配線の製造方法により製造される回路配線を有する入力装置を備えた表示装置（例えばタッチパネル）の表示品質を高め、また、取り出し配線の占める面積をできるだけ小さくしたいことから、パターンの少なくとも一部（特にタッチパネルの電極パターン及び取り出し配線の部分）は２０μｍ以下の細線であることが好ましく、１０μｍ以下の細線であることが更に好ましい。
露光に使用する光源としては、ネガ型感光性層を露光可能な波長域の光（例えば、３６５ｎｍ、４０５ｎｍ等）を照射するものであれば、適宜選定して用いることができる。具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）等が挙げられる。
露光量としては、５ｍＪ／ｃｍ２～２００ｍＪ／ｃｍ２であることが好ましく、１０ｍＪ／ｃｍ２～１００ｍＪ／ｃｍ２であることがより好ましい。
露光工程においては、ネガ型感光性層から仮支持体を剥離した後にパターン露光してもよく、仮支持体を剥離する前に、仮支持体を介してパターン露光し、その後、仮支持体を剥離してもよい。マスクは、露光前に仮支持体を剥離した場合には、感光性層と接触させて露光してもよいし、接触させずに近接させて露光してもよい。仮支持体を剥離せずに露光する場合には、マスクは、仮支持体と接触させて露光してもよいし、接触させずに近接させて露光してもよい。ネガ型感光性層とマスクとの接触によるマスク汚染の防止、及びマスクに付着した異物による露光への影響を避けるためには、仮支持体を剥離せずにパターン露光することが好ましい。なお、パターン露光は、マスクを介した露光でもよいし、レーザー等を用いたダイレクト露光でもよい。
露光方式は、接触露光の場合は、コンタクト露光方式、非接触露光方式の場合は、プロキシミティ露光方式、レンズ系又はミラー系のプロジェクション露光方式、露光レーザー等を用いたダイレクト露光方式を適宜選択して用いることができる。レンズ系のミラーのプロジェクション露光の場合、必要な解像力、焦点深度に応じて、適当なレンズの開口数（ＮＡ）を有する露光機を用いることができる。ダイレクト露光方式の場合は、直接感光層に描画を行ってもよいし、レンズを介して感光層に縮小投影露光をしても良い。また、露光は大気下で行うだけでなく、減圧、真空下で行ってもよく、また、光源と感光性層の間に水等の液体を介在させて露光してもよい。
露光方式は、接触露光の場合は、コンタクト露光方式、非接触露光方式の場合は、プロキシミティ露光方式、レンズ系又はミラー系のプロジェクション露光方式、露光レーザー等を用いたダイレクト露光方式を適宜選択して用いることができる。レンズ系のミラーのプロジェクション露光の場合、必要な解像力、焦点深度に応じて、適当なレンズの開口数（ＮＡ）を有する露光機を用いることができる。ダイレクト露光方式の場合は、直接感光層に描画を行ってもよいし、レンズを介して感光層に縮小投影露光をしても良い。また、露光は大気下で行うだけでなく、減圧、真空下で行ってもよく、また、光源と感光性層の間に水等の液体を介在させて露光してもよい。
＜現像工程＞
本開示に係る樹脂パターンの製造方法、又は、本開示に係る回路配線の製造方法は、上記露光する工程後、露光された上記ネガ型感光性層を現像して樹脂パターンを形成する工程（現像工程）を含むことが好ましい。
また、上記感光性転写材料が中間層を有する場合、現像工程においては、非露光部の熱可塑性樹脂層及び中間層も、非露光部のネガ型感光性層とともに除去される。更に、現像工程においては、露光部の熱可塑性樹脂層及び中間層も現像液に溶解あるいは分散する形で除去されてもよい。
本開示に係る樹脂パターンの製造方法、又は、本開示に係る回路配線の製造方法は、上記露光する工程後、露光された上記ネガ型感光性層を現像して樹脂パターンを形成する工程（現像工程）を含むことが好ましい。
また、上記感光性転写材料が中間層を有する場合、現像工程においては、非露光部の熱可塑性樹脂層及び中間層も、非露光部のネガ型感光性層とともに除去される。更に、現像工程においては、露光部の熱可塑性樹脂層及び中間層も現像液に溶解あるいは分散する形で除去されてもよい。
上記現像工程における露光された上記ネガ型感光性層の現像は、現像液を用いて行うことができる。
現像液としては、ネガ型感光性層の非画像部を除去することができれば特に制限はなく、例えば、特開平５－７２７２４号公報に記載の現像液など、公知の現像液を使用することができる。例えば、ｐＫａ＝７～１３の化合物を０．０５ｍｏｌ／Ｌ（リットル）～５ｍｏｌ／Ｌの濃度で含むアルカリ水溶液系の現像液が好ましい。現像液は、更に、水溶性の有機溶剤、界面活性剤等を含有してもよい。本開示において好適に用いられる現像液としては、例えば、国際公開第２０１５／０９３２７１号の段落０１９４に記載の現像液が挙げられる。
現像液としては、ネガ型感光性層の非画像部を除去することができれば特に制限はなく、例えば、特開平５－７２７２４号公報に記載の現像液など、公知の現像液を使用することができる。例えば、ｐＫａ＝７～１３の化合物を０．０５ｍｏｌ／Ｌ（リットル）～５ｍｏｌ／Ｌの濃度で含むアルカリ水溶液系の現像液が好ましい。現像液は、更に、水溶性の有機溶剤、界面活性剤等を含有してもよい。本開示において好適に用いられる現像液としては、例えば、国際公開第２０１５／０９３２７１号の段落０１９４に記載の現像液が挙げられる。
現像方式としては、特に制限はなくパドル現像、シャワー現像、シャワー及びスピン現像、ディップ現像等のいずれでもよい。ここで、シャワー現像について説明すると、露光後のネガ型感光性層に現像液をシャワーにより吹き付けることにより、非露光部を除去することができる。また、現像の後に、洗浄剤などをシャワーにより吹き付け、ブラシなどで擦りながら、現像残渣を除去することが好ましい。現像液の液温度は２０℃～４０℃が好ましい。
＜エッチング工程＞
本開示に係る回路配線の製造方法は、上記樹脂パターンが配置されていない領域における基板をエッチング処理する工程（エッチング工程）を含むことが好ましい。
本開示に係る回路配線の製造方法は、上記樹脂パターンが配置されていない領域における基板をエッチング処理する工程（エッチング工程）を含むことが好ましい。
上記エッチング工程では、上記現像工程により上記ネガ型感光性層から形成されたパターンを、エッチングレジストとして使用し、上記導電層のエッチング処理を行う。
エッチング処理の方法としては、特開２０１７－１２０４３５号公報の段落０２０９～段落０２１０に記載の方法、特開２０１０－１５２１５５号公報の段落００４８～段落００５４等に記載の方法、公知のプラズマエッチング等のドライエッチングによる方法など、公知の方法を適用することができる。
エッチング処理の方法としては、特開２０１７－１２０４３５号公報の段落０２０９～段落０２１０に記載の方法、特開２０１０－１５２１５５号公報の段落００４８～段落００５４等に記載の方法、公知のプラズマエッチング等のドライエッチングによる方法など、公知の方法を適用することができる。
＜除去工程＞
本開示に係る回路配線の製造方法は、樹脂パターンを除去する工程（除去工程）を行うことが好ましい。
除去工程は、特に制限はなく、必要に応じて行うことができるが、エッチング工程の後に行うことが好ましい。
残存するネガ型感光性層を除去する方法としては特に制限はないが、薬品処理により除去する方法を挙げることができ、除去液を用いることが特に好ましく挙げることができる。
ネガ型感光性層の除去方法としては、好ましくは３０℃～８０℃、より好ましくは５０℃～８０℃にて撹拌中の除去液にネガ型感光性層などを有する基板を１分～３０分間浸漬する方法が挙げられる。
本開示に係る回路配線の製造方法は、樹脂パターンを除去する工程（除去工程）を行うことが好ましい。
除去工程は、特に制限はなく、必要に応じて行うことができるが、エッチング工程の後に行うことが好ましい。
残存するネガ型感光性層を除去する方法としては特に制限はないが、薬品処理により除去する方法を挙げることができ、除去液を用いることが特に好ましく挙げることができる。
ネガ型感光性層の除去方法としては、好ましくは３０℃～８０℃、より好ましくは５０℃～８０℃にて撹拌中の除去液にネガ型感光性層などを有する基板を１分～３０分間浸漬する方法が挙げられる。
除去液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機アルカリ成分、又は、第１級アミン化合物、第２級アミン化合物、第３級アミン化合物、第４級アンモニウム塩化合物等の有機アルカリ成分を水、ジメチルスルホキシド、Ｎ－メチルピロリドン又はこれらの混合溶液に溶解させた除去液が挙げられる。
また、除去液を使用し、スプレー法、シャワー法、パドル法等により除去してもよい。
また、除去液を使用し、スプレー法、シャワー法、パドル法等により除去してもよい。
＜その他の工程＞
本開示に係る回路配線の製造方法は、上述した以外の任意の工程（その他の工程）を含んでもよい。例えば、以下のような工程が挙げられるが、これらの工程に制限されない。
また、本開示における露光工程、現像工程、及びその他の工程の例としては、特開２００６－２３６９６号公報の段落００３５～段落００５１に記載の方法を本開示においても好適に用いることができる。
本開示に係る回路配線の製造方法は、上述した以外の任意の工程（その他の工程）を含んでもよい。例えば、以下のような工程が挙げられるが、これらの工程に制限されない。
また、本開示における露光工程、現像工程、及びその他の工程の例としては、特開２００６－２３６９６号公報の段落００３５～段落００５１に記載の方法を本開示においても好適に用いることができる。
＜＜カバーフィルム剥離工程＞＞
本開示に係る樹脂パターンの製造方法、又は、本開示に係る回路配線の製造方法は、本開示に係る感光性転写材料がカバーフィルムを有する場合、上記感光性転写材料のカバーフィルムを剥離する工程（「カバーフィルム剥離工程」ということがある。）を含むことが好ましい。カバーフィルムを剥離する方法は、制限されず、公知の方法を適用することができる。
本開示に係る樹脂パターンの製造方法、又は、本開示に係る回路配線の製造方法は、本開示に係る感光性転写材料がカバーフィルムを有する場合、上記感光性転写材料のカバーフィルムを剥離する工程（「カバーフィルム剥離工程」ということがある。）を含むことが好ましい。カバーフィルムを剥離する方法は、制限されず、公知の方法を適用することができる。
＜＜可視光線反射率を低下させる工程＞＞
本開示に係る回路配線の製造方法は、基材上の複数の導電層の一部又は全ての可視光線反射率を低下させる処理をする工程を含むことが可能である。
可視光線反射率を低下させる処理としては、酸化処理などを挙げることができる。例えば、銅を酸化処理して酸化銅とすることで、黒化することにより、可視光線反射率を低下させることができる。
可視光線反射率を低下させる処理の好ましい態様については、特開２０１４－１５０１１８号公報の段落００１７～段落００２５、並びに、特開２０１３－２０６３１５号公報の段落００４１、段落００４２、段落００４８及び段落００５８に記載があり、この公報の内容は本明細書に組み込まれる。
本開示に係る回路配線の製造方法は、基材上の複数の導電層の一部又は全ての可視光線反射率を低下させる処理をする工程を含むことが可能である。
可視光線反射率を低下させる処理としては、酸化処理などを挙げることができる。例えば、銅を酸化処理して酸化銅とすることで、黒化することにより、可視光線反射率を低下させることができる。
可視光線反射率を低下させる処理の好ましい態様については、特開２０１４－１５０１１８号公報の段落００１７～段落００２５、並びに、特開２０１３－２０６３１５号公報の段落００４１、段落００４２、段落００４８及び段落００５８に記載があり、この公報の内容は本明細書に組み込まれる。
＜＜絶縁膜を形成する工程、絶縁膜上に新たな導電層を形成する工程＞＞
本開示に係る回路配線の製造方法は、形成した回路配線上に絶縁膜を形成する工程と、絶縁膜上に新たな導電層を形成する工程と、を含むことも好ましい。
このような構成により、上述の第二の電極パターンを、第一の電極パターンと絶縁しつつ、形成することができる。
絶縁膜を形成する工程については、特に制限はなく、公知の永久膜を形成する方法を挙げることができる。また、絶縁性を有する感光性材料を用いて、フォトリソグラフィにより所望のパターンの絶縁膜を形成してもよい。
絶縁膜上に新たな導電層を形成する工程については、特に制限はない。導電性を有する感光性材料を用いて、フォトリソグラフィにより所望のパターンの新たな導電層を形成してもよい。
本開示に係る回路配線の製造方法は、形成した回路配線上に絶縁膜を形成する工程と、絶縁膜上に新たな導電層を形成する工程と、を含むことも好ましい。
このような構成により、上述の第二の電極パターンを、第一の電極パターンと絶縁しつつ、形成することができる。
絶縁膜を形成する工程については、特に制限はなく、公知の永久膜を形成する方法を挙げることができる。また、絶縁性を有する感光性材料を用いて、フォトリソグラフィにより所望のパターンの絶縁膜を形成してもよい。
絶縁膜上に新たな導電層を形成する工程については、特に制限はない。導電性を有する感光性材料を用いて、フォトリソグラフィにより所望のパターンの新たな導電層を形成してもよい。
本開示に係る回路配線の製造方法は、基材の両方の表面にそれぞれ複数の導電層を有する基板を用い、基材の両方の表面に形成された導電層に対して逐次又は同時に回路形成することも好ましい。このような構成により、基材の一方の表面に第一の導電パターン、もう一方の表面に第二の導電パターンを形成したタッチパネル用回路配線を形成することができる。また、このような構成のタッチパネル用回路配線を、ロールツーロールで基材の両面から形成することも好ましい。
本開示に係る回路配線の製造方法により製造される回路配線は、種々の装置に適用することができる。本開示に係る回路配線の製造方法により製造される回路配線を備えた装置としては、例えば、入力装置等が挙げられ、タッチパネルであることが好ましく、静電容量型タッチパネルであることがより好ましい。また、上記入力装置は、有機ＥＬ表示装置、液晶表示装置等の表示装置に適用することができる。
（タッチパネルの製造方法）
本開示に係るタッチパネルの製造方法は、本開示に係る感光性転写材料を用いる方法であればよいが、本開示に係る感光性転写材料における上記仮支持体に対してネガ型感光性層を有する側の最外層を導電層を有する基板に接触させて貼り合わせる工程（貼り合わせ工程）と、上記ネガ型感光性層をパターン露光する工程（露光工程）と、露光された上記ネガ型感光性層を現像して樹脂パターンを形成する工程（現像工程）と、上記樹脂パターンが配置されていない領域における上記基板をエッチング処理する工程（エッチング工程）と、をこの順に含むことが好ましい。
本開示に係るタッチパネルの製造方法は、本開示に係る感光性転写材料を用いる方法であればよいが、本開示に係る感光性転写材料における上記仮支持体に対してネガ型感光性層を有する側の最外層を導電層を有する基板に接触させて貼り合わせる工程（貼り合わせ工程）と、上記ネガ型感光性層をパターン露光する工程（露光工程）と、露光された上記ネガ型感光性層を現像して樹脂パターンを形成する工程（現像工程）と、上記樹脂パターンが配置されていない領域における上記基板をエッチング処理する工程（エッチング工程）と、をこの順に含むことが好ましい。
本開示に係るタッチパネルの製造方法における、各工程の具体的な態様、及び、各工程を行う順序等の実施態様については、上述の「回路配線の製造方法」の項において説明した通りであり、好ましい態様も同様である。
本開示に係るタッチパネルの製造方法は、上述した以外は、公知のタッチパネルの製造方法を参照することができる。
また、本開示に係るタッチパネルの製造方法は、上述した以外の任意の工程（その他の工程）を含んでもよい。
本開示に係るタッチパネルの製造方法は、上述した以外は、公知のタッチパネルの製造方法を参照することができる。
また、本開示に係るタッチパネルの製造方法は、上述した以外の任意の工程（その他の工程）を含んでもよい。
本開示に係るタッチパネルの製造方法において用いられるマスクのパターンの一例を、図２及び図３に示す。
図２に示されるパターンＡ、及び、図３に示されるパターンＢにおいて、ＳＬ及びＧは非画像部（遮光部）であり、ＤＬはアライメント合わせの枠を仮想的に示したものである。本開示に係るタッチパネルの製造方法において、例えば、図２に示されるパターンＡを有するマスクを介してネガ型感光性層を露光することで、ＳＬ及びＧに対応するパターンＡを有する回路配線が形成されたタッチパネルを製造できる。具体的には、国際公開第２０１６／０１９０４０５号の図１に記載の方法で作製できる。製造されたタッチパネルの一例においては、Ｇは透明電極（タッチパネル用電極）が形成される部分であり、ＳＬは周辺取出し部の配線が形成される部分である。
図２に示されるパターンＡ、及び、図３に示されるパターンＢにおいて、ＳＬ及びＧは非画像部（遮光部）であり、ＤＬはアライメント合わせの枠を仮想的に示したものである。本開示に係るタッチパネルの製造方法において、例えば、図２に示されるパターンＡを有するマスクを介してネガ型感光性層を露光することで、ＳＬ及びＧに対応するパターンＡを有する回路配線が形成されたタッチパネルを製造できる。具体的には、国際公開第２０１６／０１９０４０５号の図１に記載の方法で作製できる。製造されたタッチパネルの一例においては、Ｇは透明電極（タッチパネル用電極）が形成される部分であり、ＳＬは周辺取出し部の配線が形成される部分である。
本開示に係るタッチパネルは、本開示に係る回路配線の製造方法により製造された回路配線を少なくとも有するタッチパネルである。また、本開示に係るタッチパネルは、透明基板と、電極と、絶縁層又は保護層とを少なくとも有することが好ましい。
本開示に係るタッチパネルにおける検出方法としては、抵抗膜方式、静電容量方式、超音波方式、電磁誘導方式、及び、光学方式など公知の方式いずれでもよい。中でも、静電容量方式が好ましい。
タッチパネル型としては、いわゆる、インセル型（例えば、特表２０１２－５１７０５１号公報の図５、図６、図７、図８に記載のもの）、いわゆる、オンセル型（例えば、特開２０１３－１６８１２５号公報の図１９に記載のもの、特開２０１２－８９１０２号公報の図１や図５に記載のもの）、ＯＧＳ（Ｏｎｅ Ｇｌａｓｓ Ｓｏｌｕｔｉｏｎ）型、ＴＯＬ（Ｔｏｕｃｈ－ｏｎ－Ｌｅｎｓ）型（例えば、特開２０１３－５４７２７号公報の図２に記載のもの）、その他の構成（例えば、特開２０１３－１６４８７１号公報の図６に記載のもの）、各種アウトセル型（いわゆる、ＧＧ、Ｇ１・Ｇ２、ＧＦＦ、ＧＦ２、ＧＦ１、Ｇ１Ｆなど）等を挙げることができる。
本開示に係るタッチパネルとしては、例えば、特開２０１７－１２０３４５号公報の段落０２２９に記載のものが挙げられる。
本開示に係るタッチパネルにおける検出方法としては、抵抗膜方式、静電容量方式、超音波方式、電磁誘導方式、及び、光学方式など公知の方式いずれでもよい。中でも、静電容量方式が好ましい。
タッチパネル型としては、いわゆる、インセル型（例えば、特表２０１２－５１７０５１号公報の図５、図６、図７、図８に記載のもの）、いわゆる、オンセル型（例えば、特開２０１３－１６８１２５号公報の図１９に記載のもの、特開２０１２－８９１０２号公報の図１や図５に記載のもの）、ＯＧＳ（Ｏｎｅ Ｇｌａｓｓ Ｓｏｌｕｔｉｏｎ）型、ＴＯＬ（Ｔｏｕｃｈ－ｏｎ－Ｌｅｎｓ）型（例えば、特開２０１３－５４７２７号公報の図２に記載のもの）、その他の構成（例えば、特開２０１３－１６４８７１号公報の図６に記載のもの）、各種アウトセル型（いわゆる、ＧＧ、Ｇ１・Ｇ２、ＧＦＦ、ＧＦ２、ＧＦ１、Ｇ１Ｆなど）等を挙げることができる。
本開示に係るタッチパネルとしては、例えば、特開２０１７－１２０３４５号公報の段落０２２９に記載のものが挙げられる。
以下に実施例を挙げて本発明の実施形態を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、及び、処理手順等は、本発明の実施形態の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。したがって、本発明の実施形態の範囲は以下に示す具体例に限定されない。なお、特に断りのない限り、「部」、「％」は質量基準である。
＜重合体＞
以下の合成例において、以下の略語はそれぞれ以下の化合物を表す。
Ｓｔ：スチレン（富士フイルム和光純薬（株）製）
ＢｚＭＡ：ベンジルメタクリレート（富士フイルム和光純薬（株）製）
ＭＡＡ：メタクリル酸（富士フイルム和光純薬（株）製）
ＭＭＡ：メタクリル酸メチル（富士フイルム和光純薬（株）製）
ＨＥＭＡ：メタクリル酸ヒドロキシエチル（富士フイルム和光純薬（株）製）
ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（昭和電工（株）製）
Ｖ－６０１：ジメチル ２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオネート）（富士フイルム和光純薬（株）製）
以下の合成例において、以下の略語はそれぞれ以下の化合物を表す。
Ｓｔ：スチレン（富士フイルム和光純薬（株）製）
ＢｚＭＡ：ベンジルメタクリレート（富士フイルム和光純薬（株）製）
ＭＡＡ：メタクリル酸（富士フイルム和光純薬（株）製）
ＭＭＡ：メタクリル酸メチル（富士フイルム和光純薬（株）製）
ＨＥＭＡ：メタクリル酸ヒドロキシエチル（富士フイルム和光純薬（株）製）
ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（昭和電工（株）製）
Ｖ－６０１：ジメチル ２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオネート）（富士フイルム和光純薬（株）製）
＜重合体Ａ－１の合成＞
３つ口フラスコにＰＧＭＥＡ（１１６．５部）を入れ、窒素雰囲気下において９０℃に昇温した。Ｓｔ（５２．０部）、ＭＭＡ（１９．０部）、ＭＡＡ（２９．０部）、Ｖ－６０１（４．０部）、ＰＧＭＥＡ（１１６．５部）を加えた溶液を、９０℃±２℃に維持した３つ口フラスコ溶液中に２時間かけて滴下した。滴下終了後，９０℃±２℃にて２時間撹拌することで、重合体Ａ－１（固形分濃度３０．０％）を得た。
３つ口フラスコにＰＧＭＥＡ（１１６．５部）を入れ、窒素雰囲気下において９０℃に昇温した。Ｓｔ（５２．０部）、ＭＭＡ（１９．０部）、ＭＡＡ（２９．０部）、Ｖ－６０１（４．０部）、ＰＧＭＥＡ（１１６．５部）を加えた溶液を、９０℃±２℃に維持した３つ口フラスコ溶液中に２時間かけて滴下した。滴下終了後，９０℃±２℃にて２時間撹拌することで、重合体Ａ－１（固形分濃度３０．０％）を得た。
＜重合体Ａ－２及びＡ－３の合成＞
モノマーの種類等を下記表１に示す通りに変更し、その他の条件については、重合体Ａ－１と同様の方法で合成した。重合体Ａ－２及びＡ－３の固形分濃度はそれぞれ、３０質量％とした。
なお、表１のモノマーの量の単位は、質量％である。
モノマーの種類等を下記表１に示す通りに変更し、その他の条件については、重合体Ａ－１と同様の方法で合成した。重合体Ａ－２及びＡ－３の固形分濃度はそれぞれ、３０質量％とした。
なお、表１のモノマーの量の単位は、質量％である。
＜色素Ｂ、及び、色素Ｎ＞
Ｂ－１：下記に示す構造の化合物（酸により発色する色素）
Ｂ－２：ＬＣＶ（ロイコクリスタルバイオレット、山田化学工業（株）製、ラジカルにより発色する色素）
Ｂ－３：ＶＰＢ－ＮＡＰＳ（ビクトリアピュアブルー－ナフタレンスルホン酸塩、保土谷化学工業（株）製、酸により発色する色素）
Ｂ－４：クリスタルバイオレットラクトン（東京化成工業（株）製、酸により発色する色素）
Ｂ－１：下記に示す構造の化合物（酸により発色する色素）
Ｂ－２：ＬＣＶ（ロイコクリスタルバイオレット、山田化学工業（株）製、ラジカルにより発色する色素）
Ｂ－３：ＶＰＢ－ＮＡＰＳ（ビクトリアピュアブルー－ナフタレンスルホン酸塩、保土谷化学工業（株）製、酸により発色する色素）
Ｂ－４：クリスタルバイオレットラクトン（東京化成工業（株）製、酸により発色する色素）
＜光酸発生剤、及び、光ラジカル発生剤＞
Ｃ－１：下記に示す構造の化合物（光酸発生剤、特開２０１３－４７７６５号公報の段落０２２７に記載の化合物、段落０２２７に記載の方法に従って合成した。）
Ｃ－１：下記に示す構造の化合物（光酸発生剤、特開２０１３－４７７６５号公報の段落０２２７に記載の化合物、段落０２２７に記載の方法に従って合成した。）
Ｃ－２：Ｂ－ＣＩＭ（光ラジカル発生剤、２－（２－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体、Ｈａｍｐｆｏｒｄ社製）
Ｃ－３：ＮＢＣＡ（増感剤、１０－ブチル－２－クロロアクリドン、黒金化成（株）製）
Ｃ－４：Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＰＡＧ１０３（光酸発生剤、ＢＡＳＦ社製、下記化合物）
Ｃ－３：ＮＢＣＡ（増感剤、１０－ブチル－２－クロロアクリドン、黒金化成（株）製）
Ｃ－４：Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＰＡＧ１０３（光酸発生剤、ＢＡＳＦ社製、下記化合物）
＜可塑剤＞
Ｄ－１：ＮＫエステルＢＰＥ－５００（エトキシ化ビスフェノールＡジメタクリレート、新中村化学工業（株）製）
Ｄ－２：アロニックスＭ－２７０（ポリプロピレングリコールジアクリレート、東亞合成（株）製）
Ｄ－３：ＮＫエステルＡ－ＤＣＰ（トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、新中村化学工業（株）製）
Ｄ－４：８ＵＸ－０１５Ａ（多官能ウレタンアクリレート化合物、大成ファインケミカル（株）製）
Ｄ－５：アロニックスＴＯ－２３４９（カルボキシ基を有する多官能アクリレート化合物、東亞合成（株）製）
Ｄ－６：ポリエチレングリコール４００（富士フイルム和光純薬（株）製）
Ｄ－１：ＮＫエステルＢＰＥ－５００（エトキシ化ビスフェノールＡジメタクリレート、新中村化学工業（株）製）
Ｄ－２：アロニックスＭ－２７０（ポリプロピレングリコールジアクリレート、東亞合成（株）製）
Ｄ－３：ＮＫエステルＡ－ＤＣＰ（トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、新中村化学工業（株）製）
Ｄ－４：８ＵＸ－０１５Ａ（多官能ウレタンアクリレート化合物、大成ファインケミカル（株）製）
Ｄ－５：アロニックスＴＯ－２３４９（カルボキシ基を有する多官能アクリレート化合物、東亞合成（株）製）
Ｄ－６：ポリエチレングリコール４００（富士フイルム和光純薬（株）製）
＜感光性樹脂組成物１の調製＞
以下の成分を混合し感光性樹脂組成物１の調製を行った。なお、各成分の量の単位は、質量部である。
重合体Ａ－１（固形分濃度３０．０％）：２１．８７部
アロニックスＭ２７０（東亞合成（株）製）：０．５１部
ＮＫエステルＢＰＥ－５００（新中村化学工業（株）製）：４．８５部
Ｃ－２（Ｂ－ＣＩＭ、Ｈａｍｐｆｏｒｄ社製）：０．８９部
Ｃ－３（ＮＢＣＡ、１０－ブチル－２－クロロアクリドン、黒金化成（株）製）：０．０５部
Ｎ－フェニルカルバモイルメチル－Ｎ－カルボキシメチルアニリン（富士フイルム和光純薬（株）製）：０．０２部
フェノキサジン（富士フイルム和光純薬（株）製）：０．０２５部
１－フェニル－３－ピラゾリドン（富士フイルム和光純薬（株）製）：０．００１部
Ｂ－２（ＬＣＶ、ロイコクリスタルバイオレット、山田化学工業（株）製）：０．０５３部
Ｂ－３（ＶＰＢ－ＮＡＰＳ、ビクトリアピュアブルー－ナフタレンスルホン酸塩、保土谷化学工業（株）製）：０．００９部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ、三協化学（株）製）：３０．８７部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ、昭和電工（株）製）：３３．９２部
テトラヒドロフラン（ＴＨＦ、三菱ケミカル（株）製）：６．９３部
以下の成分を混合し感光性樹脂組成物１の調製を行った。なお、各成分の量の単位は、質量部である。
重合体Ａ－１（固形分濃度３０．０％）：２１．８７部
アロニックスＭ２７０（東亞合成（株）製）：０．５１部
ＮＫエステルＢＰＥ－５００（新中村化学工業（株）製）：４．８５部
Ｃ－２（Ｂ－ＣＩＭ、Ｈａｍｐｆｏｒｄ社製）：０．８９部
Ｃ－３（ＮＢＣＡ、１０－ブチル－２－クロロアクリドン、黒金化成（株）製）：０．０５部
Ｎ－フェニルカルバモイルメチル－Ｎ－カルボキシメチルアニリン（富士フイルム和光純薬（株）製）：０．０２部
フェノキサジン（富士フイルム和光純薬（株）製）：０．０２５部
１－フェニル－３－ピラゾリドン（富士フイルム和光純薬（株）製）：０．００１部
Ｂ－２（ＬＣＶ、ロイコクリスタルバイオレット、山田化学工業（株）製）：０．０５３部
Ｂ－３（ＶＰＢ－ＮＡＰＳ、ビクトリアピュアブルー－ナフタレンスルホン酸塩、保土谷化学工業（株）製）：０．００９部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ、三協化学（株）製）：３０．８７部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ、昭和電工（株）製）：３３．９２部
テトラヒドロフラン（ＴＨＦ、三菱ケミカル（株）製）：６．９３部
＜感光性樹脂組成物２～４の調製＞
各色素の添加量を下記表２に示す通りに変更した以外は、感光性樹脂組成物１の調製と同様にして、感光性樹脂組成物２～４をそれぞれ調製した。なお、表２における各数値の単位は、質量部である。
各色素の添加量を下記表２に示す通りに変更した以外は、感光性樹脂組成物１の調製と同様にして、感光性樹脂組成物２～４をそれぞれ調製した。なお、表２における各数値の単位は、質量部である。
＜中間層組成物の調製＞
以下の成分を混合し中間層組成物の調製を行った。
イオン交換水：３８．１２部
メタノール（三菱ガス化学（株）製）：５７．１７部
クラレポバールＰＶＡ－２０５（ポリビニルアルコール、（株）クラレ製）：３．２２部
ポリビニルピロリドンＫ－３０（日本触媒（株）製）：１．４９部
メガファックＦ－４４４（フッ素系界面活性剤、ＤＩＣ（株）製）：０．００１５部
以下の成分を混合し中間層組成物の調製を行った。
イオン交換水：３８．１２部
メタノール（三菱ガス化学（株）製）：５７．１７部
クラレポバールＰＶＡ－２０５（ポリビニルアルコール、（株）クラレ製）：３．２２部
ポリビニルピロリドンＫ－３０（日本触媒（株）製）：１．４９部
メガファックＦ－４４４（フッ素系界面活性剤、ＤＩＣ（株）製）：０．００１５部
＜熱可塑性樹脂組成物１の調製＞
以下の成分を混合し熱可塑性樹脂組成物１の調製を行った。
重合体Ａ－２（固形分濃度３０．０％）：４２．８５部
Ｂ－１：０．０８部
Ｃ－１：０．３２部
Ｄ－３（ＮＫエステルＡ－ＤＣＰ、新中村化学工業（株）製）：４．６３部
Ｄ－４（８ＵＸ－０１５Ａ、大成ファインケミカル（株）製）：２．３１部
Ｄ－５（アロニックスＴＯ－２３４９、東亞合成（株）製）：０．７７部
メガファックＦ－５５１（フッ素系界面活性剤、ＤＩＣ（株）製）：０．０３部
ＭＥＫ（三協化学（株）製）：３９．５０部
ＰＧＭＥＡ（昭和電工（株）製）：９．５１部
以下の成分を混合し熱可塑性樹脂組成物１の調製を行った。
重合体Ａ－２（固形分濃度３０．０％）：４２．８５部
Ｂ－１：０．０８部
Ｃ－１：０．３２部
Ｄ－３（ＮＫエステルＡ－ＤＣＰ、新中村化学工業（株）製）：４．６３部
Ｄ－４（８ＵＸ－０１５Ａ、大成ファインケミカル（株）製）：２．３１部
Ｄ－５（アロニックスＴＯ－２３４９、東亞合成（株）製）：０．７７部
メガファックＦ－５５１（フッ素系界面活性剤、ＤＩＣ（株）製）：０．０３部
ＭＥＫ（三協化学（株）製）：３９．５０部
ＰＧＭＥＡ（昭和電工（株）製）：９．５１部
＜熱可塑性樹脂組成物２～７の調製＞
色素、光酸発生剤又は光ラジカル発生剤、重合体、及び、可塑剤を下記表３に示す通りに変更した以外は、熱可塑性樹脂組成物と、熱可塑性樹脂組成物２～７をそれぞれ調製した。なお、表３における各成分の添加量は、熱可塑性樹脂組成物の固形分に対する質量比（質量％）により示す。
色素、光酸発生剤又は光ラジカル発生剤、重合体、及び、可塑剤を下記表３に示す通りに変更した以外は、熱可塑性樹脂組成物と、熱可塑性樹脂組成物２～７をそれぞれ調製した。なお、表３における各成分の添加量は、熱可塑性樹脂組成物の固形分に対する質量比（質量％）により示す。
（実施例１）
＜感光性転写材料の作製＞
下記表４に示す構成となるように熱可塑性樹脂組成物１を仮支持体となる厚さ３０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムの上に、スリット状ノズルを用いて塗布幅が１．０ｍ、層厚４μｍとなるように塗布し、８０℃の乾燥ゾーンを４０秒間かけて通過させて熱可塑性樹脂層を形成した。その後、熱可塑性樹脂層の上に、中間層組成物をスリット状ノズルを用いて塗布幅が１．０ｍ、層厚１．２μｍとなるように塗布し、８０℃の乾燥ゾーンを４０秒間かけて通過させて、中間層を形成した。更に、中間層の上に感光性樹脂組成物１をスリット状ノズルを用いて塗布幅が１．０ｍ、層厚３．０μｍとなるように塗布し、８０℃の乾燥ゾーンを４０秒間かけて通過させて、ネガ型感光性層を形成した。この上にカバーフィルムとしてポリエチレンフィルム（トレデガー社製、ＯＳＭ－Ｎ）を圧着して感光性転写材料を作製し、巻き取ってロール形態にした。
＜感光性転写材料の作製＞
下記表４に示す構成となるように熱可塑性樹脂組成物１を仮支持体となる厚さ３０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムの上に、スリット状ノズルを用いて塗布幅が１．０ｍ、層厚４μｍとなるように塗布し、８０℃の乾燥ゾーンを４０秒間かけて通過させて熱可塑性樹脂層を形成した。その後、熱可塑性樹脂層の上に、中間層組成物をスリット状ノズルを用いて塗布幅が１．０ｍ、層厚１．２μｍとなるように塗布し、８０℃の乾燥ゾーンを４０秒間かけて通過させて、中間層を形成した。更に、中間層の上に感光性樹脂組成物１をスリット状ノズルを用いて塗布幅が１．０ｍ、層厚３．０μｍとなるように塗布し、８０℃の乾燥ゾーンを４０秒間かけて通過させて、ネガ型感光性層を形成した。この上にカバーフィルムとしてポリエチレンフィルム（トレデガー社製、ＯＳＭ－Ｎ）を圧着して感光性転写材料を作製し、巻き取ってロール形態にした。
＜性能評価＞
厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上に厚さ２００ｎｍでスパッタ法にて銅層を作製した銅層付きＰＥＴ基板を使用した。
厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上に厚さ２００ｎｍでスパッタ法にて銅層を作製した銅層付きＰＥＴ基板を使用した。
－露光部及び非露光部の視認性（焼き出し性）－
作製した感光性転写材料を、ロール温度９０℃、線圧０．８ＭＰａ、線速度３．０ｍ／ｍｉｎのラミネート条件で銅層付きＰＥＴ基板にラミネートした。仮支持体を剥離せずに反射型分光測色計（ＣＭ－７００ｄ、コニカミノルタ（株）製、測定径３ｍｍΦ、ＳＣＩモード）を用いて波長５９０ｎｍにおける反射率を測定した。その後高圧水銀灯を用いて５０ｍＪ／ｃｍ２の露光量で露光し、再度、反射型分光測色計（ＣＭ－７００ｄ、コニカミノルタ（株）製、測定径３ｍｍΦ）を用いて波長５９０ｎｍにおける反射率を測定した。露光前後の反射率をそれぞれ下式を用いて反射濃度に換算し、露光前後の反射濃度の差の絶対値を露光部及び非露光部の視認性（焼き出し性）として評価した。露光前後の反射濃度の差が大きいほど焼き出し性が良好である。
反射濃度＝－ｌｏｇ（反射率）
５：反射濃度の差が０．５以上
４：反射濃度の差が０．３５以上０．５未満
３：反射濃度の差が０．２０以上０．３５未満
２：反射濃度の差が０．０５以上０．２０未満
１：反射濃度の差が０．０５未満
３以上であることが好ましい。
作製した感光性転写材料を、ロール温度９０℃、線圧０．８ＭＰａ、線速度３．０ｍ／ｍｉｎのラミネート条件で銅層付きＰＥＴ基板にラミネートした。仮支持体を剥離せずに反射型分光測色計（ＣＭ－７００ｄ、コニカミノルタ（株）製、測定径３ｍｍΦ、ＳＣＩモード）を用いて波長５９０ｎｍにおける反射率を測定した。その後高圧水銀灯を用いて５０ｍＪ／ｃｍ２の露光量で露光し、再度、反射型分光測色計（ＣＭ－７００ｄ、コニカミノルタ（株）製、測定径３ｍｍΦ）を用いて波長５９０ｎｍにおける反射率を測定した。露光前後の反射率をそれぞれ下式を用いて反射濃度に換算し、露光前後の反射濃度の差の絶対値を露光部及び非露光部の視認性（焼き出し性）として評価した。露光前後の反射濃度の差が大きいほど焼き出し性が良好である。
反射濃度＝－ｌｏｇ（反射率）
５：反射濃度の差が０．５以上
４：反射濃度の差が０．３５以上０．５未満
３：反射濃度の差が０．２０以上０．３５未満
２：反射濃度の差が０．０５以上０．２０未満
１：反射濃度の差が０．０５未満
３以上であることが好ましい。
－解像度（解像性）－
作製した感光性転写材料を巻き出した後、ロール温度１２０℃、線圧１．０ＭＰａ、線速度０．５ｍ／ｍｉｎのラミネート条件で、上記銅層付きＰＥＴ基板にラミネートした。仮支持体を剥離せずにラインアンドスペースパターンマスク（Ｄｕｔｙ比 １：１、線幅１μｍ～２０μｍまで１μｍおきに段階的に変化）を介して超高圧水銀灯で露光後、仮支持体を剥離して現像した。現像は２５℃の１．０％炭酸ナトリウム水溶液を用い、シャワー現像で３０秒行った。
上記方法にて２０μｍのラインアンドスペースパターンを形成したとき、スペース部の残渣を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）により観察し、レジスト線幅がちょうど２０μｍとなる露光量で露光した際、レジストパターンが剥離及び残渣なく解像可能な最小の線幅を解像度として評価した。より小さい値であるほど解像性は良好である。
５：解像度が４μｍ以下
４：解像度が５μｍ以上６μｍ以下
３：解像度が７μｍ以上８μｍ以下
２：解像度が９μｍ以上１０μｍ以下
１：解像度が１１μｍ以上
３以上であることが好ましい。
作製した感光性転写材料を巻き出した後、ロール温度１２０℃、線圧１．０ＭＰａ、線速度０．５ｍ／ｍｉｎのラミネート条件で、上記銅層付きＰＥＴ基板にラミネートした。仮支持体を剥離せずにラインアンドスペースパターンマスク（Ｄｕｔｙ比 １：１、線幅１μｍ～２０μｍまで１μｍおきに段階的に変化）を介して超高圧水銀灯で露光後、仮支持体を剥離して現像した。現像は２５℃の１．０％炭酸ナトリウム水溶液を用い、シャワー現像で３０秒行った。
上記方法にて２０μｍのラインアンドスペースパターンを形成したとき、スペース部の残渣を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）により観察し、レジスト線幅がちょうど２０μｍとなる露光量で露光した際、レジストパターンが剥離及び残渣なく解像可能な最小の線幅を解像度として評価した。より小さい値であるほど解像性は良好である。
５：解像度が４μｍ以下
４：解像度が５μｍ以上６μｍ以下
３：解像度が７μｍ以上８μｍ以下
２：解像度が９μｍ以上１０μｍ以下
１：解像度が１１μｍ以上
３以上であることが好ましい。
（実施例２～１０、及び、比較例１～３）
熱可塑性樹脂組成物、感光性樹脂組成物、並びに、熱可塑性樹脂層及びネガ型感光性層の層厚を表４に記載の変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例２～１０及び比較例１～３の感光性転写材料をそれぞれ作製し、それぞれ巻き取ってロール形態にした。
また、実施例１と同様にして性能評価を行った。評価結果を表４にまとめて示す。
熱可塑性樹脂組成物、感光性樹脂組成物、並びに、熱可塑性樹脂層及びネガ型感光性層の層厚を表４に記載の変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例２～１０及び比較例１～３の感光性転写材料をそれぞれ作製し、それぞれ巻き取ってロール形態にした。
また、実施例１と同様にして性能評価を行った。評価結果を表４にまとめて示す。
上記表４に示すように、実施例１～１０の感光性転写材料は、比較例１～３の感光性転写材料と比べ、露光部及び非露光部の視認性、並びに、得られるパターンの解像性に優れる。
（実施例１０１）
１００μｍ厚ＰＥＴ基材上に、第２層の導電層としてＩＴＯをスパッタリングで１５０ｎｍ厚にて成膜し、その上に第１層の導電層として銅を真空蒸着法で２００ｎｍ厚にて成膜して、回路形成用基板とした。
銅層上に実施例１で得られた感光性転写材料を、カバーフィルムを剥離して、基板に貼り合わせて（ラミネートロール温度１００℃、線圧０．８ＭＰａ、線速度３．０ｍ／ｍｉｎ．）、積層体とした。得られた積層体を、仮支持体を剥離せずに一方向に導電層パッドが連結された構成を持つ図２に示すパターンＡを設けたフォトマスクを用いてコンタクトパターン露光した。露光にはｉ線（３６５ｎｍ）を露光主波長とする高圧水銀灯を用いた。
その後仮支持体を剥離し、現像、水洗を行ってパターンＡを得た。次いで銅エッチング液（関東化学（株）製Ｃｕ－０２）を用いて銅層をエッチングした後、ＩＴＯエッチング液（関東化学（株）製ＩＴＯ－０２）を用いてＩＴＯ層をエッチングすることで、銅とＩＴＯが共にパターンＡで描画された基板を得た。
得られた回路配線基板を、顕微鏡で観察したところ、剥がれ、欠けなどは無く、きれいなパターンであった。
１００μｍ厚ＰＥＴ基材上に、第２層の導電層としてＩＴＯをスパッタリングで１５０ｎｍ厚にて成膜し、その上に第１層の導電層として銅を真空蒸着法で２００ｎｍ厚にて成膜して、回路形成用基板とした。
銅層上に実施例１で得られた感光性転写材料を、カバーフィルムを剥離して、基板に貼り合わせて（ラミネートロール温度１００℃、線圧０．８ＭＰａ、線速度３．０ｍ／ｍｉｎ．）、積層体とした。得られた積層体を、仮支持体を剥離せずに一方向に導電層パッドが連結された構成を持つ図２に示すパターンＡを設けたフォトマスクを用いてコンタクトパターン露光した。露光にはｉ線（３６５ｎｍ）を露光主波長とする高圧水銀灯を用いた。
その後仮支持体を剥離し、現像、水洗を行ってパターンＡを得た。次いで銅エッチング液（関東化学（株）製Ｃｕ－０２）を用いて銅層をエッチングした後、ＩＴＯエッチング液（関東化学（株）製ＩＴＯ－０２）を用いてＩＴＯ層をエッチングすることで、銅とＩＴＯが共にパターンＡで描画された基板を得た。
得られた回路配線基板を、顕微鏡で観察したところ、剥がれ、欠けなどは無く、きれいなパターンであった。
本開示に係る感光性転写材料は、フォトリソグラフィによる精密微細加工が必要な各種用途に好適に用いることができる。感光性層をパターニング後に、感光性層を被膜としてエッチングをしてもよいし、電気めっきを主体とするエレクトロフォーミングを行ってもよい。半導体パッケージ、プリント基板、センサー基板の各種配線形成用途、タッチパネル、電磁波シールド材、フィルムヒーターのような導電性フィルム、液晶シール材、マイクロマシンやマイクロエレクトロニクス分野における構造物の形成等の用途に好適に使用することができる。
２０１９年４月５日に出願された日本国特許出願第２０１９－０７２４５９号の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。
本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び、技術規格は、個々の文献、特許出願、及び、技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。
本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び、技術規格は、個々の文献、特許出願、及び、技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。
１０：仮支持体、１２：熱可塑性樹脂層、１４：中間層、１６：ネガ型感光性層、１８：カバーフィルム、１００：感光性転写材料、ＳＬ：非画像部（露光部）、Ｇ：非画像部（露光部）、ＤＬ：アライメント合せの枠
Claims (11)
- 仮支持体、熱可塑性樹脂層、中間層、及び、ネガ型感光性層をこの順に有し、
前記熱可塑性樹脂層が、
アルカリ可溶性樹脂Ａ、
発色時の波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍにおける最大吸収波長が４５０ｎｍ以上であり、酸により最大吸収波長が変化する色素Ｂ、及び、
光により酸を発生する化合物Ｃを含有する
感光性転写材料。 - 前記ネガ型感光性層の層厚が、６μｍ未満である請求項１に記載の感光性転写材料。
- 前記熱可塑性樹脂層に含まれる前記色素Ｂの含有量が、前記熱可塑性樹脂層の全質量に対し、０．２質量％以上である請求項１又は請求項２に記載の感光性転写材料。
- 前記ネガ型感光性層が、発色時の波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍにおける最大吸収波長が４５０ｎｍ以上であり、酸、塩基、又はラジカルにより最大吸収波長が変化する色素Ｎを含有する請求項１～請求項３のいずれか１項に記載の感光性転写材料。
- 前記ネガ型感光性層に含まれる前記色素Ｎの含有量が、前記ネガ型感光性層の全質量に対し、０．１質量％～１質量％である請求項４に記載の感光性転写材料。
- 前記熱可塑性樹脂層が、可塑剤を更に含有する請求項１～請求項５のいずれか１項に記載の感光性転写材料。
- 前記可塑剤が、（メタ）アクリレート化合物を含有する請求項６に記載の感光性転写材料。
- 前記中間層が、ポリビニルアルコールを含有する請求項１～請求項７のいずれか１項に記載の感光性転写材料。
- 請求項１～請求項８のいずれか１項に記載の感光性転写材料における前記仮支持体に対してネガ型感光性層を有する側の最外層を、導電層を有する基板に接触させて貼り合わせる工程と、
前記ネガ型感光性層をパターン露光する工程と、
露光された前記ネガ型感光性層を現像して樹脂パターンを形成する工程と、をこの順に含む
樹脂パターンの製造方法。 - 請求項１～請求項８のいずれか１項に記載の感光性転写材料における前記仮支持体に対してネガ型感光性層を有する側の最外層を、導電層を有する基板に接触させて貼り合わせる工程と、
前記ネガ型感光性層をパターン露光する工程と、
露光された前記ネガ型感光性層を現像して樹脂パターンを形成する工程と、
前記樹脂パターンが配置されていない領域における前記基板をエッチング処理する工程と、をこの順に含む
回路配線の製造方法。 - 請求項１～請求項８のいずれか１項に記載の感光性転写材料における前記仮支持体に対してネガ型感光性層を有する側の最外層を、導電層を有する基板に接触させて貼り合わせる工程と、
前記ネガ型感光性層をパターン露光する工程と、
露光された前記ネガ型感光性層を現像して樹脂パターンを形成する工程と、
前記樹脂パターンが配置されていない領域における前記基板をエッチング処理する工程と、をこの順に含む
タッチパネルの製造方法。
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