JP7233358B2 - 表面処理液、及び表面処理方法 - Google Patents
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Description
このため、特許文献1では、表面調整剤の溶液に、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミン樹脂等の樹脂を被膜形成成分として配合した液を、表面処理液として用いている。
(A)樹脂が、水酸基、シアノ基、及びカルボキシル基からなる群より選択される1以上の基である官能基Iと、前記官能基I以外の親水性基又は疎水性基である官能基IIとを有し、
ただし、官能基IIが水酸基、シアノ基、及びカルボキシル基から選択される1以上の基を含む場合、(A)樹脂は官能基Iを有していなくてもよく、
(A)樹脂の重量平均分子量が100,000以上である、表面処理液である。
表面処理液(以下、単に処理液とも記す。)は、(A)樹脂と、(C)溶媒とを含む。
(A)樹脂は、水酸基、シアノ基、及びカルボキシル基からなる群より選択される1以上の基である官能基Iと、官能基I以外の親水性基又は疎水性基である官能基IIとを有する。なお、官能基IIが水酸基、シアノ基、及びカルボキシル基から選択される1以上の基を含む場合には、(A)樹脂は官能基Iを有していなくてもよい。
また、表面処理液は、(B)強酸を含んでいてもよい。(B)強酸のpKaは1以下である。
(A)樹脂は、水酸基、シアノ基、及びカルボキシル基からなる群より選択される1以上の基である官能基Iを有する。また、(A)樹脂の重量平均分子量が100,000以上である。かかる分子量を有する(A)樹脂を用いる場合、処理液による処理時に、官能基Iと非処理体表面との反応又は相互作用に起因して、(A)樹脂が被処理体表面に結合ないし付着しやすい。
(A)樹脂の重量平均分子量の上限は、(A)樹脂が(C)溶媒に可溶である限りにおいて特に限定されない。(A)樹脂の重量平均分子量は、例えば、250万以下であってよく、400万以下であってよい。
親水性基又は疎水性基は、従来から、当業者に親水性基又は疎水性基であると認識されている官能基であれば特に限定されず、その中から適宜選択できる。
このため、(A)樹脂が、官能基IIとして、水酸基、シアノ基、及びカルボキシル基を含む親水性基又は疎水性基を有する場合、(A)樹脂は、官能基Iを有していなくてもよい。
なお、水酸基、及びカルボキシル基を含む親水性基には、水酸基そのもの、及びカルボキシル基そのものが含まれる。
-NH-R1・・・(A1)
(式(A1)中、R1は、アミノ基、スルホン酸基、及び水酸基からなる群より選択される1以上の基で置換された炭素原子数1~4のアルキル基、又は水素原子である。)
で表される基が好ましい。
フッ素化炭化水素基としては、式(A3)について後述する基が好ましい。
シリル基の好適な例としては、後述する式(A4)で表され、nが0である基が挙げられる。シリル基の具体例としては、例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、tert-ブチルジメチルシリル基、及びトリフェニルシリル基等が挙げられる。
シロキサン基の好適な例としては、後述する式(A4)で表され、nが1以上である基が挙げられる。
CH2=CR2-(R3)a-CO-R4・・・(A2)
(式(A2)中、R2は水素原子又はメチル基であり、R3は2価の炭化水素基であり、aは0又は1であり、R4は、-OH、-O-R5、又は-NH-R5であり、R5は、水酸基、シアノ基、及びカルボキシル基からなる群より選択される1以上の官能基で置換された炭化水素基である。)
で表される単量体に由来する基であるのが好ましい。
R5の基の主骨格を構成する炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状、又は環状の脂肪族基であってもよく、芳香族炭化水素基であってもよい。
直鎖状、分岐鎖状、又は環状の脂肪族基の炭素原子数は1~20が好ましく、1~12がより好ましい。
直鎖状、又は分岐鎖状の脂肪族基の好適な例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、sec-ペンチル基、tert-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、n-ノニル基、n-デシル基等が挙げられる。
環状の脂肪族基の好適な例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、及びシクロオクチル基等のシクロアルキル基や、アダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、及びテトラシクロドデカン等のポリシクロアルカンから1個の水素原子を除いた基や、これらのポリシクロアルカンのC1-C4アルキル置換体から1個の水素原子を除いた基が挙げられる。
芳香族炭化水素基の好適な例としては、フェニル基、ナフチル基、アントラニル基、フェナントレニル基、及びビフェニリル基等が挙げられる。芳香族炭化水素基は、メチル基、エチル基等のC1-C4アルキル基で置換されていてもよい。
CH2=CR2-(CO-O)b-R6・・・(A3)
(式(A3)中、R2は水素原子又はメチル基であり、bは0又は1であり、R6は、フッ素化炭化水素基、又は下式(A4):
-SiR7R8-(-O-SiR7R8-)n-R9・・・(A4)
で表される基であり、R7、R8、及びR9は、それぞれ独立に炭素原子数1~6の炭化水素基であり、nは0以上の整数である。)
で表される単量体に由来するのが好ましい。
R6としてのフッ素化炭化水素基の具体例としては、-CF3、-CF2CF3、-(CF2)2CF3、-(CF2)3CF3、-(CF2)4CF3、-(CF2)5CF3、-(CF2)6CF3、-(CF2)7CF3、-(CF2)8CF3、-(CF2)9CF3、-CH2CF3、-CH2CF2CF3、-CH2(CF2)2CF3、-CH2(CF2)3CF3、-CH2(CF2)4CF3、-CH2(CF2)5CF3、-CH2(CF2)6CF3、-CH2(CF2)7CF3、-CH2(CF2)8CF3、-CH2CH2CF3、-CH2CH2CF2CF3、-CH2CH2(CF2)2CF3、-CH2CH2(CF2)3CF3、-CH2CH2(CF2)4CF3、-CH2CH2(CF2)5CF3、-CH2CH2(CF2)6CF3、-CH2CH2(CF2)7CF3、及び-CH(CF3)2等の鎖状フッ素化アルキル基;ペンタフルオロフェニル基、o-トリフルオロメチルフェニル基、m-トリフルオロメチルフェニル基、p-トリフルオロメチルフェニル基等のフッ素化芳香族炭化水素基;オクタフルオロアダマンチル基等のフッ素化脂環式基が挙げられる。
式(A4)中、nの上限は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。nは、0以上35以下の整数であるのが好ましく、0以上10以下の整数であるのがより好ましい。
CH2=CR2-CO-NH-R1・・・(A5)
(式(A5)中、R1は、アミノ基、スルホン酸基、及び水酸基からなる群より選択される1以上の基で置換された炭素原子数1~4のアルキル基、又は水素原子であり、R2は水素原子又はメチル基である。)
で表される単量体に由来するのが好ましい。
ただし、式(A5)で表される単量体に由来する構成単位が水酸基、シアノ基、カルボキシル基のいずれか1つの基を含む場合、重合体に含まれる全構成単位中の式(A5)で表される単量体に由来する構成単位の比率は100%であってもよい。
処理液中の樹脂の質量を100質量部とする場合に、後述する(C)溶媒の量が100~10000質量部であるのが好ましく、500~8000質量部であるのがより好ましく、1000~6000質量部であるのが特に好ましい。
処理液は、(B)強酸を含んでいてもよい。(B)強酸のpKaは1以下である。なお、pKaは水中での値である。
(B)強酸は、(A)樹脂が有する官能基Iに作用することで、(A)樹脂の被処理体の表面への付着又は結合を促進させる。
(B)強酸の種類は、pKaが1以下である限り特に限定されない。(B)強酸としては、pKaが1以下である酸を2種以上組み合わせて用いることができる。
電子吸引性基で置換された炭化水素基としては、フッ素化アルキル基、ニトロ基を有するアリール基が好ましい。フッ素化アルキル基は、直鎖状でも、分岐鎖状でも、環状でもよい。フッ素化アルキル基は、完全にフッ素化されたパーフルオロアルキル基であるのが好ましい。ニトロ基を有するアリール基としては、o-ニトロフェニル基、m-ニトロフェニル基、及びp-ニトロフェニル基が好ましく、p-ニトロフェニル基がより好ましい。
X5は、炭化水素基である。炭化水素基について、前述のR5の基の主骨格を構成する炭化水素基と同様である
(C)溶媒は、(A)樹脂と、(B)強酸とが可溶である溶媒であれば特に限定されない。処理液中に、(A)樹脂と、(B)強酸とが、所定量溶解していれば、処理液は、溶解していない状態の(A)樹脂と、(B)強酸とを含んでいてもよい。(A)樹脂と、(B)強酸とは、処理液に完全に溶解しているのが好ましい。
処理液が、不溶物を含む場合、表面処理時に、被処理体の表面に不溶物が付着する場合がある。この場合、表面処理された被処理体の表面を、後述するような方法でリンスすることにより、被処理体の表面に付着する不溶物を除去することができる。
ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類;
ジメチルスルホン、ジエチルスルホン、ビス(2-ヒドロキシエチル)スルホン、テトラメチレンスルホン等のスルホン類;
N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルアセトアミド、N,N-ジエチルアセトアミド等のアミド類;
N-メチル-2-ピロリドン、N-エチル-2-ピロリドン、N-プロピル-2-ピロリドン、N-ヒドロキシメチル-2-ピロリドン、N-ヒドロキシエチル-2-ピロリドン等のラクタム類;
1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、1,3-ジエチル-2-イミダゾリジノン、1,3-ジイソプロピル-2-イミダゾリジノン等のイミダゾリジノン類;
ジメチルグリコール、ジメチルジグリコール、ジメチルトリグリコール、メチルエチルジグリコール、ジエチルグリコール、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル等のジアルキルグリコールエーテル類;
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ-n-プロピルエーテル、エチレングリコールモノ-n-ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ-n-プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ-n-ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ-n-プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ-n-ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ-n-プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ-n-ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテル類;
エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;
ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、メチルエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソアミルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の他のエーテル類;
メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン、3-ヘプタノン等のケトン類;
2-ヒドロキシプロピオン酸メチル、2-ヒドロキシプロピオン酸エチル等の乳酸アルキルエステル類;2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸エチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2-ヒドロキシ-3-メチルブタン酸メチル、3-メチル-3-メトキシブチルアセテート、3-メチル-3-メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸-n-プロピル、酢酸-i-プロピル、酢酸-n-ブチル、酢酸-i-ブチル、ぎ酸-n-ペンチル、酢酸-i-ペンチル、プロピオン酸-n-ブチル、酪酸エチル、酪酸-n-プロピル、酪酸-i-プロピル、酪酸-n-ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸-n-プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2-オキソブタン酸エチル等の他のエステル類;
β-プロピロラクトン、γ-ブチロラクトン、δ-ペンチロラクトン等のラクトン類;
n-ヘキサン、n-ヘプタン、n-オクタン、n-ノナン、メチルオクタン、n-デカン、n-ウンデカン、n-ドデカン、2,2,4,6,6-ペンタメチルヘプタン、2,2,4,4,6,8,8-ヘプタメチルノナン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の直鎖状、分岐鎖状、又は環状の脂肪族炭化水素類;
ベンゼン、トルエン、キシレン、1,3,5-トリメチルベンゼン、ナフタレン等の芳香族炭化水素類;
p-メンタン、ジフェニルメンタン、リモネン、テルピネン、ボルナン、ノルボルナン、ピナン等のテルペン類;等が挙げられる。
処理液は、本発明の目的を阻害しない範囲で、上記した(A)樹脂、及び(C)溶媒以外に、種々の成分を含んでいてもよい。その他の成分としては、例えば、前述の(B)強酸以外に、着色剤、界面活性剤、消泡剤、粘度調整剤等が挙げられる。
処理液を調製する方法は特に限定されない。処理液は、典型的には、それぞれ所定量の(A)樹脂と、(C)溶媒と、必要に応じてその他の成分を、均一に混合することにより調製される。
被処理体の表面を、以上説明した処理液により処理する場合、被処理体表面におけるタンパク質の吸着と、細胞の接着とを抑制することができる。
以上説明した表面処理液を用いる表面処理方法は、通常、被処理体の表面への表面処理液の塗布を含む。表面処理液の塗布方法は特に限定されない。塗布方法の具体例としては、スピンコート法、スプレー法、ローラーコート法、浸漬法等が挙げられる。被処理体が基板である場合、表面処理液を均一に塗布することで、基板表面を均一に親水化又は疎水化できることから、塗布方法としてスピンコート法が好ましい。
有機材料としては、PET樹脂やPBT樹脂等のポリエステル樹脂、各種ナイロン、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエチレンやポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリスチレン、(メタ)アクリル樹脂等、種々の樹脂材料が挙げられる。
また、種々のレジスト材料に含まれる感光性の樹脂成分や、アルカリ可溶性の樹脂成分も有機材料として好ましい。
無機材料としては、ガラス、シリコンや、銅、アルミニウム、鉄、タングステン等の種々の金属が挙げられる。金属は、合金であってもよい。
表面処理液が塗布される面の材質が無機材料である場合は、官能基Iとして水酸基及び/又はシアノ基を有する(A)樹脂を含む表面処理液を用いるのが好ましい。
また、前述の通り、被処理体の表面を、以上説明した処理液により処理する場合、被処理体表面におけるタンパク質の吸着と、細胞の接着とを抑制することができる。
このため、以上説明した表面処理方法は、被処理体の表面におけるタンパク質吸着を抑制する目的、又は非処理体の表面における細胞接着を抑制する目的で好ましく実施される。
各実施例及び比較例において、表1に記載の比率で、以下に説明する構成単位を含有する樹脂を(A)樹脂として用いた。
単位A-1~A-5は、親水性基又は疎水性基である官能基IIを(A)樹脂に導入する構成単位である。単位A-1~A-3は親水性基を有する。単位A-4及びA-5は疎水性基を有する。
単位B-1~B-3は、(A)樹脂に官能基Iを導入する構成単位である。
表1及び2に記載される種類及びモル比率の構成単位からなる(A)樹脂を、濃度1質量%となるように表1及び2に記載される種類の溶媒に溶解させて、各実施例及び比較例の表面処理液を得た。
各実施例及び比較例で用いた樹脂(A)の重量平均分子量を表1及び表2に記す。
以上の方法により得られた、実施例1~11、及び比較例1~4の表面処理液を用いて、以下の方法に従って被処理体の表面処理を行った。
実施例1~9、及び比較例1~3では、被処理体としてシクロオレフィンポリマーのフィルム(ZEONOR(登録商標)(日本ゼオン社製))を用いた。
実施例10、実施例11、及び比較例4では、被処理体としてシリコンウエハーを用いた。
被処理体の種類について、表1及び表2中に、シクロオレフィンポリマーのフィルムを「樹脂」と記載し、シリコンウエハーを「Si」と記載した。
まず、被処理体のフィルムに、処理液を浸漬塗布した後、オーブンで5分間フィルムを乾燥させた。
乾燥後、被処理体のフィルムの表面を純水で洗浄し、次いで風乾させて、表面処理されたフィルムを得た。
まず、シリコンウエハー上に、表面処理液を1000rpm、60秒の条件でスピンコートし、次いで、ホットプレート上で100℃、60秒の条件で乾燥を行った。
乾燥後、シリコンウエハーの表面をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで洗浄し、次いで風乾させて、表面処理されたシリコンウエハーを得た。
水の接触角の測定は、Dropmaster700(協和界面科学株式会社製)を用い表面処理された基板の表面に純水液滴(2.0μL)を滴下して、滴下10秒後における接触角として測定した。水の接触角の測定結果を表1及び2に記す。なお、表面処理前の被処理体の水の接触角も、表1及び表2に記す。
実施例12では、構成単位の比率が、A-1/A-3/B-3として85/10/5(モル%)であり、重量平均分子量が80万である(A)樹脂を、(C)溶媒であるエタノール水溶液(濃度90質量%)中に、濃度1.0質量%となるように溶解させて表面処理液を得た。
実施例13では、構成単位の比率が、A-3/B-1として95/5(モル%)であり重量平均分子量が100万である(A)樹脂を、(C)溶媒である水中に、濃度1.0質量%となるように溶解させて表面処理液を得た。
実施例12の表面処理液を用いて表面処理された被処理体と、未処理の被処理体とについて、以下の方法に従って、細胞接着の確認試験を行った。
また、実施例12の表面処理液を用いて表面処理された被処理体と、実施例13の表面処理液を用いて表面処理された被処理体と、未処理の被処理体とについて、以下の方法に従って、タンパク質吸着の確認試験を行った。
セルカルチャー24ウェルマイクロプレート(Falcon(登録商標)、353047)のウェル内に、実施例12の表面処理液を500μL添加した。次いで、アスピレーターで、ウェルの表面一面に薄く液が残る程度に表面処理液を除去した。その後、65℃のオーブンで30分間乾燥させ、PBS1mLで3回洗浄し、表面処理されたプレートを作製した。比較対象として、無処理のプレートを用意した。
10%FBS添加MEMα培地にA549ヒト肺胞基底上皮腺癌細胞を1ウェルあたり300,000個となるよう調製し、表面処理プレート及び無処理のプレートに播種した。37℃5%CO2のインキュベーターで40時間培養した。Cellstain Hoechst 33342をウェルに添加し、5分間核を染色した。ウェルをPBS1mLで1回洗浄後、10%FBS添加MEMα培地1mLを添加し、蛍光顕微鏡(キーエンス社、BZ-9000)で細胞の蛍光を観察して、視野中の細胞数を計測した。
無処理のプレートでは、視野あたりの細胞数は2,560個であった。一方、表面処理されたプレートでは、視野あたりの細胞数は0個であり、実施例12の表面処理液を用いた処理による細胞接着抑制効果が確認された。
96ウェルイムノプレート(Nunc(登録商標) MaxiSorp、442404)のウェル内に実施例12又は実施例13の表面処理液を200μL添加した。次いで、アスピレーターで、ウェルの表面一面に薄く液が残る程度に表面処理液を除去した。その後、65℃のオーブンで30分間乾燥させ、PBS1mLで3回洗浄し、表面処理されたプレートを作製した。比較対象として、無処理のプレートを用意した。
HRP標識Goat Anti-Mouse IgG Fc Fragment(Bethyl Laboratories Inc.、A90-131P)を0.2μg/mlとなるようPBSで希釈し、100μlをウェルに添加した。室温で1時間静置後、PBSで5回洗浄した。100μLのTMB One Component HRP Microwell Substrate(Bethyl Laboratories Inc.、E102)を添加し、呈色反応を行った。100μLのELISA Stop Solution(Bethyl Laboratories Inc.、E115)を添加し酵素反応を停止させ、マイクロプレートリーダー(BioTek Instruments Inc.、Synergy 4)で吸光度(波長450nm)を測定した。
無処理のプレートでは、吸光度は1.414(3ウェル平均、標準偏差0.027)であった。一方、実施例12の処理液で表面処理されたプレートでは、吸光度は0.669(3ウェル平均、標準偏差0.049)、実施例13の処理液で表面処理されたプレートでは、吸光度は0.223(3ウェル平均、標準偏差0.118)であった。上記の試験により、実施例12又は実施例13の表面処理液を用いた表面処理によりプレート表面へのタンパク質の吸着が抑制されることが確認された。
Claims (10)
- (A)樹脂と、(C)溶媒とのみからなり、
前記(A)樹脂が、水酸基、及びシアノ基からなる群より選択される1以上の基である官能基Iと、前記官能基I以外の親水性基又は疎水性基である官能基IIとを有し、
ただし、前記官能基IIが水酸基、及びシアノ基から選択される1以上の基を含む場合、前記(A)樹脂は前記官能基Iを有していなくてもよく、
前記(A)樹脂の重量平均分子量が100,000以上であり、
前記官能基Iが、下式(A2):
CH2=CR2-(R3)a-CO-R4・・・(A2)
(式(A2)中、R2は水素原子又はメチル基であり、R3は2価の炭化水素基であり、aは0又は1であり、R4は、-O-R5、又は-NH-R5であり、R5は、水酸基、及びシアノ基からなる群より選択される1以上の官能基で置換された炭化水素基である。)
で表される単量体に由来し、
前記官能基IIが、疎水性基であるとき、前記官能基IIは下式(A3):
CH2=CR2-(CO-O)b-R6・・・(A3)
(式(A3)中、R2は水素原子又はメチル基であり、bは0又は1であり、R6は、下式(A4):
-SiR7R8-(-O-SiR7R8-)n-R9・・・(A4)
で表される基であり、R7、R8、及びR9は、それぞれ独立に炭素原子数1~6の炭化水素基であり、nは0以上の整数である。)
で表される単量体に由来し、
前記官能基IIが、親水性基であるとき、前記官能基IIは下式(A5):
CH2=CR2-CO-NH-R1・・・(A5)
(式(A5)中、R1は、アミノ基、スルホン酸基、及び水酸基からなる群より選択される1以上の基で置換された炭素原子数2、3又は4のアルキル基、又は水素原子であり、R2は水素原子又はメチル基である。)
で表される単量体に由来する、
表面処理液(ただし、下記繰り返し単位(a)と下記繰り返し単位(b)とを有する重合体を含む、メディカルデバイス用組成物、細胞接着防止剤及びシリコーン基材処理用組成物からなる群より選ばれる1種の重合体組成物からなる表面処理液を除く。)。
(a)親水性繰り返し単位
(b)側鎖にポリオキシアルキレン基を有し、その側鎖末端が炭素数5~30のアルキル基、炭素数5~30のアルカノイル基または炭素数6~30のアリール基で構成される繰り返し単位 - (A)樹脂と、(C)溶媒とを含み、
前記(A)樹脂が、水酸基、シアノ基、及びカルボキシル基からなる群より選択される1以上の基である官能基Iと、前記官能基I以外の親水性基又は疎水性基である官能基IIとを有し、
ただし、前記官能基IIが水酸基、シアノ基、及びカルボキシル基から選択される1以上の基を含む場合、前記(A)樹脂は前記官能基Iを有していなくてもよく、
前記(A)樹脂の重量平均分子量が100,000以上であり、
前記官能基Iが、下式(A2):
CH 2 =CR 2 -(R 3 ) a -CO-R 4 ・・・(A2)
(式(A2)中、R 2 は水素原子又はメチル基であり、R 3 は2価の炭化水素基であり、aは0又は1であり、R 4 は、-OH、-O-R 5 、又は-NH-R 5 であり、R 5 は、水酸基、シアノ基、及びカルボキシル基からなる群より選択される1以上の官能基で置換された炭化水素基である。)
で表される単量体に由来し、
前記官能基IIが、疎水性基であるとき、前記官能基IIは下式(A3):
CH 2 =CR 2 -(CO-O) b -R 6 ・・・(A3)
(式(A3)中、R 2 は水素原子又はメチル基であり、bは0又は1であり、R 6 は、下式(A4):
-SiR 7 R 8 -(-O-SiR 7 R 8 -) n -R 9 ・・・(A4)
で表される基であり、R 7 、R 8 、及びR 9 は、それぞれ独立に炭素原子数1~6の炭化水素基であり、nは0以上の整数である。)
で表される単量体に由来し、
前記官能基IIが、親水性基であるとき、前記官能基IIは下式(A5):
CH 2 =CR 2 -CO-NH-R 1 ・・・(A5)
(式(A5)中、R 1 は、アミノ基、スルホン酸基、及び水酸基からなる群より選択される1以上の基で置換された炭素原子数1~4のアルキル基、又は水素原子であり、R 2 は水素原子又はメチル基である。)
で表される単量体に由来し、
被処理体の表面におけるタンパク質吸着抑制処理に用いられる、表面処理液(ただし、下記繰り返し単位(a)と下記繰り返し単位(b)とを有する重合体を含む、メディカルデバイス用組成物、細胞接着防止剤及びシリコーン基材処理用組成物からなる群より選ばれる1種の重合体組成物からなる表面処理液を除く。)。
(a)親水性繰り返し単位
(b)側鎖にポリオキシアルキレン基を有し、その側鎖末端が炭素数5~30のアルキル基、炭素数5~30のアルカノイル基または炭素数6~30のアリール基で構成される繰り返し単位 - (A)樹脂と、(C)溶媒とを含み、
前記(A)樹脂が、水酸基、シアノ基、及びカルボキシル基からなる群より選択される1以上の基である官能基Iと、前記官能基I以外の親水性基又は疎水性基である官能基IIとを有し、
ただし、前記官能基IIが水酸基、シアノ基、及びカルボキシル基から選択される1以上の基を含む場合、前記(A)樹脂は前記官能基Iを有していなくてもよく、
前記(A)樹脂の重量平均分子量が100,000以上であり、
前記官能基Iが、下式(A2):
CH 2 =CR 2 -(R 3 ) a -CO-R 4 ・・・(A2)
(式(A2)中、R 2 は水素原子又はメチル基であり、R 3 は2価の炭化水素基であり、aは0又は1であり、R 4 は、-OH、-O-R 5 、又は-NH-R 5 であり、R 5 は、水酸基、シアノ基、及びカルボキシル基からなる群より選択される1以上の官能基で置換された炭化水素基である。)
で表される単量体に由来し、
前記官能基IIが、疎水性基であるとき、前記官能基IIは下式(A3):
CH 2 =CR 2 -(CO-O) b -R 6 ・・・(A3)
(式(A3)中、R 2 は水素原子又はメチル基であり、bは0又は1であり、R 6 は、下式(A4):
-SiR 7 R 8 -(-O-SiR 7 R 8 -) n -R 9 ・・・(A4)
で表される基であり、R 7 、R 8 、及びR 9 は、それぞれ独立に炭素原子数1~6の炭化水素基であり、nは0以上の整数である。)
で表される単量体に由来し、
前記官能基IIが、親水性基であるとき、前記官能基IIは下式(A5):
CH 2 =CR 2 -CO-NH-R 1 ・・・(A5)
(式(A5)中、R 1 は、アミノ基、スルホン酸基、及び水酸基からなる群より選択される1以上の基で置換された炭素原子数1~4のアルキル基、又は水素原子であり、R 2 は水素原子又はメチル基である。)
で表される単量体に由来し、
被処理体の表面における細胞接着抑制処理に用いられる、表面処理液(ただし、下記繰り返し単位(a)と下記繰り返し単位(b)とを有する重合体を含む、メディカルデバイス用組成物、細胞接着防止剤及びシリコーン基材処理用組成物からなる群より選ばれる1種の重合体組成物からなる表面処理液を除く。)。
(a)親水性繰り返し単位
(b)側鎖にポリオキシアルキレン基を有し、その側鎖末端が炭素数5~30のアルキル基、炭素数5~30のアルカノイル基または炭素数6~30のアリール基で構成される繰り返し単位 - 請求項1~3のいずれか1項に記載の表面処理液の、被処理体の表面への塗布を含む、表面処理方法。
- 被処理体上の前記表面処理液が塗布された箇所のリンスを含む、請求項4に記載の表面処理方法。
- 前記被処理体が基板であり、前記表面処理液の塗布がスピンコートにより行われる、請求項4又は5に記載の表面処理方法。
- 前記表面処理液が塗布される面の材質が有機材料であり、前記(A)樹脂が、前記官能基Iとして、水酸基及び/又はカルボキシル基を有する、請求項4~6のいずれか1項に記載の表面処理方法。
- 前記表面処理液が塗布される面の材質が無機材料であり、前記(A)樹脂が、前記官能基Iとして、水酸基及び/又はシアノ基を有する、請求項4~6のいずれか1項に記載の表面処理方法。
- 請求項2に記載の表面処理液を用いて、前記被処理体の表面のタンパク質吸着を抑制する処理を行う、請求項4~8のいずれか1項に記載の表面処理方法。
- 請求項3に記載の表面処理液を用いて、前記被処理体の表面の細胞接着を抑制する処理を行う、請求項4~8のいずれか1項に記載の表面処理方法。
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