JP7204857B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
まず、本発明の一実施形態に係るバッチ型の処理装置と、比較例に係るバッチ型の処理装置とを比較して説明する。図1(a)は比較例に係るバッチ型の処理装置9の一例であり、図1(b)は本発明の一実施形態に係るバッチ型の処理装置1の一例である。
動翼及び静翼の配置と動作について、図2及び図3を参照しながら説明する。図2(a)は、図1のA1-A1断面を示す図である。図2(b)は、図1のA2-A2断面を示す図である。図3は、図1のB-B断面を示す図である。
次に、排気装置の変形例について図4を参照しながら説明する。図4は、本実施形態の変形例1~3に係る排気装置を搭載した処理装置1の一例を示す図である。図4(a)は、本実施形態の変形例1に係る排気装置を搭載した処理装置1を示す図である。変形例1に係る処理装置1では、排気装置は、排気機構3とAPC19とターボ分子ポンプ20に加えて、排気機構3の上流側にバッフル板21,22を有する。バッフル板21,22は、処理室101、102毎に載置台12,13を囲むようにそれぞれ設けられる。バッフル板21,22は、排気機構3の上方にて、ウェハWを処理する処理空間(処理室101,102)と排気空間17,18とに処理容器10内を仕切る。バッフル板21,22には複数の貫通孔が形成されている。
次に、本実施形態に係る排気装置を搭載した処理装置1において実行される排気方法の一例について図5を参照しながら説明する。図5は、一実施形態に係る排気処理の一例を示すフローチャートである。本処理は制御部50により制御される。
次に、本実施形態に係るバッチ型の処理装置1の、搬入及び搬出時のウェハWの搬送について、図6~図9を参照しながら説明する。図6~図9は、本実施形態に係る処理装置1の搬入及び搬出時のウェハの搬送の一例を示す図である。
3 排気機構
10 処理容器
12、13 載置台
14,15 高周波電源
16 ガス供給部
17,18 排気空間
19 APC
20 ターボ分子ポンプ
21、22 バッフル板
23,24 ガスシャワーヘッド
26,27 給電棒
28 搬入出口
29 壁
30、32 動翼
30a 第1のブレード
30b 第1の基材
31、33 静翼
31a 第2のブレード
31b 第2の基材
40,41 シールド部材
50 制御部
101,102 処理室
Claims (12)
- 各々が基板支持台を内部に有する複数のプラズマ処理容器と、
前記複数のプラズマ処理容器の各々の前記基板支持台の周囲に配置される動翼及び静翼と、
前記動翼の回転速度を制御する制御部と、
前記複数のプラズマ処理容器の下方に配置され、前記複数のプラズマ処理容器の各々と接続される排気空間と、
を備え、
前記動翼を構成する複数のブレードと、前記静翼を構成する複数のブレードは各々傾斜しており、互いに交互に配置される、プラズマ処理装置。 - 前記複数のプラズマ処理容器の各々の前記動翼は独立して回転制御される、請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 各々が基板支持台を内部に有する複数のプラズマ処理容器と、
前記複数のプラズマ処理容器の各々の前記基板支持台の周囲に配置される動翼及び静翼と、
前記動翼の回転速度を制御する制御部と、
前記複数のプラズマ処理容器の下方に配置され、前記複数のプラズマ処理容器の各々と接続される排気空間と、
を備え、
前記複数のプラズマ処理容器の各々の前記動翼は独立して回転制御され、
前記動翼を構成する複数のブレードと、前記静翼を構成する複数のブレードは各々傾斜しており、互いに交互に配置される、プラズマ処理装置。 - 前記排気空間には排気ポンプが配置されている、請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記排気空間には排気ポンプが配置されている、請求項2に記載のプラズマ処理装置。
- 前記排気空間には排気ポンプが配置されている、請求項3に記載のプラズマ処理装置。
- 前記複数のプラズマ処理容器の少なくとも1つのプラズマ処理容器の内部には前記排気空間とプラズマ処理空間を仕切る少なくとも1つのバッフル板が設けられている、請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記複数のプラズマ処理容器の少なくとも1つのプラズマ処理容器の内部には前記排気空間とプラズマ処理空間を仕切る少なくとも1つのバッフル板が設けられている、請求項2に記載のプラズマ処理装置。
- 前記複数のプラズマ処理容器の少なくとも1つのプラズマ処理容器の内部には前記排気空間とプラズマ処理空間を仕切る少なくとも1つのバッフル板が設けられている、請求項3に記載のプラズマ処理装置。
- 前記少なくとも1つのバッフル板は上下方向に移動又は回転する、請求項7に記載のプラズマ処理装置。
- 前記少なくとも1つのバッフル板は上下方向に移動又は回転する、請求項8に記載のプラズマ処理装置。
- 前記少なくとも1つのバッフル板は上下方向に移動又は回転する、請求項9に記載のプラズマ処理装置。
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JP2000183037A (ja) | 1998-12-11 | 2000-06-30 | Tokyo Electron Ltd | 真空処理装置 |
JP2001193914A (ja) | 2000-01-11 | 2001-07-17 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | プラズマcvd装置からの可燃性廃ガスの燃焼処理方法とそのためのシステム |
JP2003071271A (ja) | 2001-09-03 | 2003-03-11 | Foi:Kk | プラズマ処理装置 |
JP2005207275A (ja) | 2004-01-21 | 2005-08-04 | Anelva Corp | 真空ポンプ及びこれを備えた基板処理装置 |
JP2010504422A (ja) | 2006-08-08 | 2010-02-12 | エドワーズ リミテッド | 廃棄流を搬送するための装置 |
JP2010534952A (ja) | 2007-07-27 | 2010-11-11 | マットソン テクノロジー インコーポレイテッド | 多数の加工物を処理する進歩したチャンバ |
-
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- 2021-10-26 JP JP2021174606A patent/JP7204857B2/ja active Active
Patent Citations (6)
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