JP7199241B2 - 半導体検査システム及び半導体検査装置 - Google Patents
半導体検査システム及び半導体検査装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7199241B2 JP7199241B2 JP2019020417A JP2019020417A JP7199241B2 JP 7199241 B2 JP7199241 B2 JP 7199241B2 JP 2019020417 A JP2019020417 A JP 2019020417A JP 2019020417 A JP2019020417 A JP 2019020417A JP 7199241 B2 JP7199241 B2 JP 7199241B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lead
- semiconductor package
- light source
- mirror
- semiconductor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
- H01L22/10—Measuring as part of the manufacturing process
- H01L22/12—Measuring as part of the manufacturing process for structural parameters, e.g. thickness, line width, refractive index, temperature, warp, bond strength, defects, optical inspection, electrical measurement of structural dimensions, metallurgic measurement of diffusions
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
- G01N21/95684—Patterns showing highly reflecting parts, e.g. metallic elements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/02—Containers; Seals
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/31—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
- H01L23/3107—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Pathology (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Description
H=LA×tanθ-LB/cosθ・・・(式)
H=LA×tanθ-LB/cosθ・・・(式)
11 半導体チップ
12 封止部
12a 上面
12b 下面
12c 第1の側面
12d 第2の側面
13 第1のリード
14 第2のリード
31 光源(第1の光源)
32 光源(第2の光源)
34 CCDカメラ(カメラ)
35 第1のミラー
36 第2のミラー
100 半導体検査システム
101 第1の撮像部
102 第1の算出部
103 第2の撮像部(半導体検査装置)
104 第2の算出部
105 第3の算出部
106 記憶部
107 判定部
BP 基準面
LA 正面長さ
LB 斜方長さ
H 浮き量
Claims (7)
- 上面、下面、第1の側面、及び、前記第1の側面に対向する第2の側面を有し半導体チップを封止する封止部と、前記封止部の前記第1の側面から側方に延びる第1のリードと、を有する半導体パッケージの前記上面及び前記下面に垂直な第1の方向から前記第1のリードを撮像する第1の撮像部と、
前記第1の撮像部で撮像された画像から前記第1のリードの正面長さを算出する第1の算出部と、
前記上面及び前記下面に斜行する第2の方向から前記第1のリードを撮像する第2の撮像部と、
前記第2の撮像部で撮像された画像から前記第1のリードの斜方長さを算出する第2の算出部と、
前記正面長さと前記斜方長さを用いて、前記上面及び前記下面に平行な基準面からの前記第1のリードの浮き量を算出する第3の算出部と、
を備え、
前記第3の算出部は、前記基準面と前記第2の方向の間の角度をθ、前記正面長さをLA、前記斜方長さをLB、前記浮き量をHとした場合に、下記式を用いて前記浮き量を算出する半導体検査システム。
H=LA×tanθ-LB/cosθ・・・(式) - 前記浮き量の閾値を記憶する記憶部と、
前記浮き量と前記浮き量の閾値を比較し、前記半導体パッケージの良否を判定する判定部と、
を更に備える請求項1記載の半導体検査システム。 - 前記半導体パッケージは、前記第2の側面から側方に延びる第2のリードを、更に有し、
前記第2の撮像部は、第1の光源、第2の光源、第1のミラー、第2のミラー、及び、カメラを有し、
前記第1の光源は、前記半導体パッケージの前記上面の側かつ前記第1の側面の側に設けられ、
前記第2の光源は、前記半導体パッケージの前記上面の側かつ前記第2の側面の側に設けられ、
前記第1のミラーは、前記半導体パッケージの前記下面の側かつ前記第2の側面の側に設けられ、前記第1の光源により照明された前記第1のリードのシルエット像を反射し、
前記第2のミラーは、前記半導体パッケージの前記下面の側かつ前記第1の側面の側に設けられ、前記第2の光源により照明された前記第2のリードのシルエット像を反射し、
前記カメラは、前記半導体パッケージの前記下面の側に設けられ、前記第1のリードのシルエット像、及び、前記第2のリードのシルエット像を同時に撮像可能な請求項1又は請求項2記載の半導体検査システム。 - 前記第1のミラーは、前記基準面に対する角度が可変であり、
前記第2のミラーは、前記基準面に対する角度が可変である請求項3記載の半導体検査システム。 - 上面、下面、第1の側面、及び、前記第1の側面に対向する第2の側面を有し半導体チップを封止する封止部と、前記封止部の前記第1の側面から側方に延びる第1のリードと、を有する半導体パッケージの前記上面及び前記下面に垂直な第1の方向から前記第1のリードを撮像する第1の撮像部と、
前記第1の撮像部で撮像された画像から前記第1のリードの正面長さを算出する第1の算出部と、
前記上面及び前記下面に斜行する第2の方向から前記第1のリードを撮像する第2の撮像部と、
前記第2の撮像部で撮像された画像から前記第1のリードの斜方長さを算出する第2の算出部と、
前記正面長さと前記斜方長さを用いて、前記上面及び前記下面に平行な基準面からの前記第1のリードの浮き量を算出する第3の算出部と、
を備え、
前記半導体パッケージは、前記第2の側面から側方に延びる第2のリードを、更に有し、
前記第2の撮像部は、第1の光源、第2の光源、第1のミラー、第2のミラー、及び、カメラを有し、
前記第1の光源は、前記半導体パッケージの前記上面の側かつ前記第1の側面の側に設けられ、
前記第2の光源は、前記半導体パッケージの前記上面の側かつ前記第2の側面の側に設けられ、
前記第1のミラーは、前記半導体パッケージの前記下面の側かつ前記第2の側面の側に設けられ、前記第1の光源により照明された前記第1のリードのシルエット像を反射し、
前記第2のミラーは、前記半導体パッケージの前記下面の側かつ前記第1の側面の側に設けられ、前記第2の光源により照明された前記第2のリードのシルエット像を反射し、
前記カメラは、前記半導体パッケージの前記下面の側に設けられ、前記第1のリードのシルエット像、及び、前記第2のリードのシルエット像を同時に撮像可能で、
前記第1の光源の前記半導体パッケージの側の端部から前記基準面に下した垂線は、前記半導体パッケージ又は前記第1のリードと交差し、
前記第2の光源の前記半導体パッケージの側の端部から前記基準面に下した垂線は、前記半導体パッケージ又は前記第2のリードと交差する半導体検査システム。 - 上面、下面、第1の側面、及び、前記第1の側面に対向する第2の側面を有し半導体チップを封止する封止部と、前記封止部の前記第1の側面から側方に延びる第1のリードと、前記第2の側面から側方に延びる第2のリードと、を有する半導体パッケージを検査する半導体検査装置であって、
前記半導体パッケージの前記上面の側かつ前記第1の側面の側に設けられた第1の光源と、
前記半導体パッケージの前記上面の側かつ前記第2の側面の側に設けられた第2の光源と、
前記半導体パッケージの前記下面の側かつ前記第2の側面の側に設けられ、前記第1の光源により照明された前記第1のリードのシルエット像を反射する第1のミラーと、
前記半導体パッケージの前記下面の側かつ前記第1の側面の側に設けられ、前記第2の光源により照明された前記第2のリードのシルエット像を反射する第2のミラーと、
前記半導体パッケージの前記下面の側に設けられ、前記第1のリードのシルエット像、及び、前記第2のリードのシルエット像を同時に撮像可能なカメラと、
を備え、
前記第1の光源の前記半導体パッケージの側の端部から前記上面及び前記下面に下した垂線は、前記半導体パッケージ又は前記第1のリードと交差し、
前記第2の光源の前記半導体パッケージの側の端部から前記上面及び前記下面に下した垂線は、前記半導体パッケージ又は前記第2のリードと交差する半導体検査装置。 - 前記第1のミラーは、前記上面及び前記下面に対する角度が可変であり、
前記第2のミラーは、前記上面及び前記下面に対する角度が可変である請求項6記載の半導体検査装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019020417A JP7199241B2 (ja) | 2019-02-07 | 2019-02-07 | 半導体検査システム及び半導体検査装置 |
US16/562,502 US10871456B2 (en) | 2019-02-07 | 2019-09-06 | Semiconductor inspection system and semiconductor inspection apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019020417A JP7199241B2 (ja) | 2019-02-07 | 2019-02-07 | 半導体検査システム及び半導体検査装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020128880A JP2020128880A (ja) | 2020-08-27 |
JP7199241B2 true JP7199241B2 (ja) | 2023-01-05 |
Family
ID=71945171
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019020417A Active JP7199241B2 (ja) | 2019-02-07 | 2019-02-07 | 半導体検査システム及び半導体検査装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10871456B2 (ja) |
JP (1) | JP7199241B2 (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001228098A (ja) | 2000-02-14 | 2001-08-24 | Sony Corp | 検査・テーピング装置 |
JP2008039482A (ja) | 2006-08-02 | 2008-02-21 | Toshiba Corp | リードの検査方法及びリード検査装置 |
JP2009276338A (ja) | 2008-04-14 | 2009-11-26 | Ueno Seiki Kk | 外観検査装置 |
Family Cites Families (32)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0726832B2 (ja) * | 1988-11-10 | 1995-03-29 | 三菱電機株式会社 | Icの外観検査装置 |
JPH0387609A (ja) * | 1989-08-30 | 1991-04-12 | Toyo Denshi Kk | Icリード外観検査装置 |
JPH04105341A (ja) * | 1990-08-24 | 1992-04-07 | Hitachi Ltd | 半導体装置のリード曲がり、浮き検出方法及び検出装置 |
JP2743617B2 (ja) | 1991-05-29 | 1998-04-22 | 松下電器産業株式会社 | 実装基板外観検査装置 |
US5309223A (en) * | 1991-06-25 | 1994-05-03 | Cyberoptics Corporation | Laser-based semiconductor lead measurement system |
JPH05172755A (ja) | 1991-12-20 | 1993-07-09 | Sony Corp | 半導体装置の外観検査方法とその装置 |
JPH05249049A (ja) * | 1992-03-09 | 1993-09-28 | Komatsu Ltd | 部品の外観検査装置 |
US5212390A (en) * | 1992-05-04 | 1993-05-18 | Motorola, Inc. | Lead inspection method using a plane of light for producing reflected lead images |
JPH05340733A (ja) | 1992-06-05 | 1993-12-21 | Asahi Kasei Micro Syst Kk | 半導体装置の検査装置 |
JPH0781849B2 (ja) | 1992-11-24 | 1995-09-06 | 株式会社ジャスト | 電子部品のリード形状検査装置 |
JP3181435B2 (ja) | 1992-12-01 | 2001-07-03 | 株式会社日立製作所 | 画像処理装置及び画像処理方法 |
JP2001304836A (ja) | 1992-12-01 | 2001-10-31 | Hitachi Ltd | 半導体パッケージ外観検査装置 |
US5452080A (en) * | 1993-06-04 | 1995-09-19 | Sony Corporation | Image inspection apparatus and method |
JP3333615B2 (ja) * | 1993-12-21 | 2002-10-15 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置の寸法測定装置及び方法 |
JPH08128816A (ja) * | 1994-10-28 | 1996-05-21 | Tosok Corp | リード検査方法 |
US6118538A (en) * | 1995-01-13 | 2000-09-12 | Cyberoptics Corporation | Method and apparatus for electronic component lead measurement using light based sensors on a component placement machine |
JPH09178453A (ja) | 1995-12-27 | 1997-07-11 | Hitachi Ltd | リード測定方法およびリード測定装置 |
JP3995030B2 (ja) * | 1996-09-17 | 2007-10-24 | コグネックス・テクノロジー・アンド・インベストメント・コーポレーション | 半導体パッケージの検査装置 |
US5909285A (en) * | 1997-05-05 | 1999-06-01 | Beaty; Elwin M. | Three dimensional inspection system |
US5910844A (en) * | 1997-07-15 | 1999-06-08 | Vistech Corporation | Dynamic three dimensional vision inspection system |
US6055055A (en) * | 1997-12-01 | 2000-04-25 | Hewlett-Packard Company | Cross optical axis inspection system for integrated circuits |
JPH11237210A (ja) * | 1998-02-19 | 1999-08-31 | Komatsu Ltd | 半導体パッケージの検査装置 |
US6242756B1 (en) * | 1998-05-21 | 2001-06-05 | Agilent Technologies, Inc | Cross optical axis inspection system for integrated circuits |
US6292261B1 (en) * | 1998-05-22 | 2001-09-18 | Cyberoptics Corporation | Rotary sensor system with at least two detectors |
JPH11351828A (ja) * | 1998-06-03 | 1999-12-24 | Tosok Corp | リード検査方法及びリード検査装置 |
US6243164B1 (en) * | 1998-07-13 | 2001-06-05 | Electro Scientific Industries | Method and system for determining lead coplanarity |
JP2000266525A (ja) * | 1999-03-19 | 2000-09-29 | Komatsu Ltd | 電子部品検査装置 |
JP2001336919A (ja) | 2000-03-31 | 2001-12-07 | Agilent Technol Inc | リード付き集積回路の検査システム |
US6567161B1 (en) * | 2000-11-28 | 2003-05-20 | Asti Holdings Limited | Three dimensional lead inspection system |
US6813016B2 (en) * | 2002-03-15 | 2004-11-02 | Ppt Vision, Inc. | Co-planarity and top-down examination method and optical module for electronic leaded components |
KR100629921B1 (ko) * | 2004-09-07 | 2006-09-28 | 에스피반도체통신 주식회사 | 반도체 패키지의 테스트 핸들러 및 그 검사 방법 |
TWM445353U (zh) | 2012-08-16 | 2013-01-21 | Sound Team Entpr Co Ltd | 附加耳機之毛線帽 |
-
2019
- 2019-02-07 JP JP2019020417A patent/JP7199241B2/ja active Active
- 2019-09-06 US US16/562,502 patent/US10871456B2/en active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001228098A (ja) | 2000-02-14 | 2001-08-24 | Sony Corp | 検査・テーピング装置 |
JP2008039482A (ja) | 2006-08-02 | 2008-02-21 | Toshiba Corp | リードの検査方法及びリード検査装置 |
JP2009276338A (ja) | 2008-04-14 | 2009-11-26 | Ueno Seiki Kk | 外観検査装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2020128880A (ja) | 2020-08-27 |
US10871456B2 (en) | 2020-12-22 |
US20200256808A1 (en) | 2020-08-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN102439708B (zh) | 检查基板的接合结构的方法和接合结构检验设备 | |
KR101612535B1 (ko) | 웨이퍼 검사 시스템 및 방법 | |
KR101646743B1 (ko) | 웨이퍼 검사 시스템 및 방법 | |
CN106248695B (zh) | 用于线连接的缺陷分析的检查系统和方法 | |
TWI507660B (zh) | 發光二極體元件的三維視覺檢查方法及三維視覺檢查裝置 | |
KR101482580B1 (ko) | 유리병 검사 장치 및 텔레센트릭 렌즈 유닛 | |
JP2010151479A (ja) | 配線パターン検査装置 | |
KR20160004099A (ko) | 결함 검사 장치 | |
JP5594923B2 (ja) | 基板面高さ測定方法及びその装置 | |
US20160254199A1 (en) | An apparatus and method for inspecting a semiconductor package | |
JP7199241B2 (ja) | 半導体検査システム及び半導体検査装置 | |
JP2015068779A (ja) | 3次元測定装置、3次元測定方法および基板の製造方法 | |
JP2004006504A (ja) | バンプ検査方法及び装置 | |
KR101667687B1 (ko) | 반도체 패키지 검사장치 | |
WO2016111025A1 (ja) | 外観検査装置 | |
JP2022064880A (ja) | 重なり合うボンドワイヤのループ高さの測定 | |
KR20120086333A (ko) | 적응 초점을 갖는 고속 광학 검사 시스템 | |
KR20060003709A (ko) | 반도체 안착상태 및 외관형상 검사장치 | |
KR20170047140A (ko) | 검사장치 | |
US11079336B2 (en) | Semiconductor inspection apparatus and semiconductor device inspection method | |
KR20110012965A (ko) | 와이어 검사 장치 | |
JP2008039482A (ja) | リードの検査方法及びリード検査装置 | |
KR101124566B1 (ko) | 웨이퍼 검사장치 | |
KR20160082392A (ko) | 조명장치 및 검사장치 | |
JP2021001770A (ja) | 外観検査装置および外観検査方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210729 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20220608 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220621 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220812 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20221122 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20221220 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7199241 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |