JP7181839B2 - 配線基板、および配線基板の製造方法 - Google Patents
配線基板、および配線基板の製造方法 Download PDFInfo
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Description
本発明の一形態によれば、配線基板が提供される。この配線基板は、基材と、第1導電性材料から成る第1導電層と、前記第1導電性材料と異なる第2導電性材料から成る第2導電層であって、前記基材の上に略均一な厚さに形成され、前記第1導電層が積層される第1薄膜と、前記第1薄膜の上に略均一な厚さに形成され、前記第1導電層の表面の少なくとも一部および前記第1導電層の側面の少なくとも一部を覆う第2薄膜とを備える第2導電層と、を備え、前記第2導電層は、前記第1導電層の表面の少なくとも一部を覆う第1部分と、前記第1導電層の側面の少なくとも一部を覆う第2部分と、前記基材の表面の少なくとも一部を覆う第3部分と、を備え、前記第1部分と前記第3部分はそれぞれ前記第2部分と連接されており、前記第2導電層において、前記第3部分は前記第1薄膜と前記第2薄膜とが積層されており、前記第1部分は前記第2薄膜のみであり、前記第3部分の厚みは、前記第1部分の厚みより厚い。
・配線基板10の構成:
図1は、本発明の第1実施形態の配線基板10の構成を概略的示す説明図である。配線基板10は、基材2と、第1導電層4と、第2導電層6と、第3導電層8と、第4導電層7を備える。第2導電層6は、第1薄膜6Aと第2薄膜6Bを含む。第1薄膜6Aと第2薄膜6Bは、それぞれ、略均一な厚さに形成されている。
図2、図3は、配線基板10の製造方法を示す工程図である。図2、図3において、配線基板10の端部近傍の一部の断面(図1に示す断面に相当する)を、概略的に図示している。
本実施形態の配線基板10の効果を、比較例の配線基板10Pと比較して説明する。図4は、比較例の配線基板10Pの構成を概略的に示す説明図である。
図7は、第2実施形態の照明装置100の構成を概略的に示す説明図である。照明装置100は、第1実施形態の配線基板10と、LED照明部20と、モールド樹脂26と、配線回路30と、配線40と、ヒートシンク50と、放熱樹脂60と、を備える。LED照明部20は、LED素子22と蛍光体24とを備える。図7では、図1における断面に相当する断面を示している。なお、図7に示す配線基板10において、第4導電層7の図示を省略している。
本発明は上記の実施形態に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の態様において実施することが可能であり、例えば次のような変形も可能である。
4…第1導電層
6…第2導電層
6A…第1薄膜
6B…第2薄膜
7…第4導電層
8…第3導電層
10、10P…配線基板
14、16…レジスト
20…LED照明部
22…LED素子
24…蛍光体
26…モールド樹脂
30…配線回路
40…配線
50…ヒートシンク
60…放熱樹脂
100…照明装置
P1、PP1…第1部分
P2、PP2…第2部分
P3、PP3…第3部分
PP1…第1部分
PP2…第2部分
PP3…第3部分
S…隙間
Claims (4)
- 配線基板であって、
基材と、
第1導電性材料から成る第1導電層と、
前記第1導電性材料と異なる第2導電性材料から成る第2導電層であって、前記基材の上に略均一な厚さに形成され、前記第1導電層が積層される第1薄膜と、前記第1薄膜の上に略均一な厚さに形成され、前記第1導電層の表面の少なくとも一部および前記第1導電層の側面の少なくとも一部を覆う第2薄膜とを備える第2導電層と、
を備え、
前記第2導電層は、
前記第1導電層の表面の少なくとも一部を覆う第1部分と、前記第1導電層の側面の少なくとも一部を覆う第2部分と、前記基材の表面の少なくとも一部を覆う第3部分と、を備え、前記第1部分と前記第3部分はそれぞれ前記第2部分と連接されており、
前記第2導電層において、前記第3部分は前記第1薄膜と前記第2薄膜とが積層されており、前記第1部分は前記第2薄膜のみであり、前記第3部分の厚みは、前記第1部分の厚みより厚いことを特徴とする、
配線基板。 - 請求項1に記載の配線基板であって、
さらに、
前記第1導電性材料および第2導電性材料と異なる第3導電性材料で形成される第3導電層であって、前記第2導電層の上に略均一な厚みで形成される第3導電層
を備えることを特徴とする、
配線基板。 - 請求項1および請求項2のいずれか一方に記載の配線基板であって、
前記基材は、セラミックで形成されることを特徴とする、
配線基板。 - 配線基板の製造方法であって、
基材を準備する準備工程と、
前記基材の上に、第2導電性材料から成る略均一な厚さの第1薄膜を形成する第1薄膜形成工程と、
前記第1薄膜の上に、前記第1薄膜の一部が露出した状態で、前記第2導電性材料と異なる第1導電性材料から成る第1導電層を形成する第1導電層形成工程と、
前記第1導電層の表面の少なくとも一部と、前記第1導電層の側面の少なくとも一部と、露出している前記第1薄膜の表面と、を連続して覆う、前記第2導電性材料から成る略均一な厚さの第2薄膜を形成する第2薄膜形成工程と、
を備えることを特徴とする、
配線基板の製造方法。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000299540A (ja) | 1999-04-13 | 2000-10-24 | Toshiba Corp | メタライズ基板 |
JP2002185108A (ja) | 2000-12-11 | 2002-06-28 | Kyocera Corp | 配線基板 |
JP2017017156A (ja) | 2015-06-30 | 2017-01-19 | アオイ電子株式会社 | 配線基板、サーマルヘッドおよび配線基板の製造方法 |
JP2018098440A (ja) | 2016-12-16 | 2018-06-21 | 日本特殊陶業株式会社 | 配線基板及び配線基板の製造方法 |
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JP2002185108A (ja) | 2000-12-11 | 2002-06-28 | Kyocera Corp | 配線基板 |
JP2017017156A (ja) | 2015-06-30 | 2017-01-19 | アオイ電子株式会社 | 配線基板、サーマルヘッドおよび配線基板の製造方法 |
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