JP7177737B2 - 金属酸化物、その分散液、樹脂組成物、及び熱線遮蔽性フィルム - Google Patents
金属酸化物、その分散液、樹脂組成物、及び熱線遮蔽性フィルム Download PDFInfo
- Publication number
- JP7177737B2 JP7177737B2 JP2019055831A JP2019055831A JP7177737B2 JP 7177737 B2 JP7177737 B2 JP 7177737B2 JP 2019055831 A JP2019055831 A JP 2019055831A JP 2019055831 A JP2019055831 A JP 2019055831A JP 7177737 B2 JP7177737 B2 JP 7177737B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin
- parts
- mass
- group
- acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Paints Or Removers (AREA)
Description
本発明は、熱線遮蔽性フィルムへの応用展開が可能な金属酸化物に関する。より詳細には、日射熱取得率に優れ、かつ可視光透過性、透明性にも優れる金属酸化物、その分散液、樹脂組成物、及び熱線遮蔽性フィルムに関する。
建物の窓、乗り物の窓、あるいは冷蔵、冷凍ショーケースの窓等において、暑さの軽減、省エネルギー化等を図るために、これらの窓に熱線（赤外線）を反射または吸収する性能を付与することが求められており、その一方法として透明な熱線遮蔽性透明シートを各窓に貼着する方法がある。
従来の透明性の高い熱線遮蔽性透明シートを作製する方法としては、誘電体の多層薄膜または金属膜または透明導電膜の薄膜をスパッタリング、蒸着等の方法を用いて、透明シート上に熱線遮蔽層として成膜し、さらに粘着剤を塗布する方法が採用されている。
また、特許文献１には、透明フィルム基体の一面上に、アンチモン含有酸化スズ微粒子または錫ドープ酸化インジウム微粒子を含有したハードコート層を形成し、他の一面上に粘着剤層、剥離層を順次積層した積層構造の膜を形成し、このハードコート層が熱線遮蔽層を兼ねた熱線遮蔽膜付き透明フィルムが提案されている。
例えば、特許文献２において、粘着剤に光学的選択吸収特性を有する物質を添加して、安価に光学的選択吸収特性を有する粘着フィルムを製造するアイデアが開示されている。
また、特許文献３においては、疎水性アンチモン含有酸化スズとバインダー樹脂を用い、可視光に対しては透明で熱線のみを遮蔽するコーティング剤が開示されており、特許文献４においては、ハードコート層または粘着剤層に熱線遮蔽性微粒子を含有させた、可視光に対しては透明で熱線のみを遮蔽する粘着シートが開示されている。
更に、特許文献５において、粘着剤に熱線遮蔽性微粒子を分散させることにより、透明性および熱線遮蔽性の付与を簡素化させること、熱線遮蔽性粘着剤およびその製造方法、ならびに熱線遮蔽性透明シートが開示されている。
しかしながら、これらの熱線遮蔽性透明シートでも可視光領域における透過率やヘイズが十分ではなく、可視光領域における透過率、ヘイズ、および熱線遮蔽性のさらなる改善が要求されている。
本発明は、日射熱取得率に優れ、かつ可視光透過性、透明性をより改善することができる金属酸化物を提案するものであり、更にはその金属酸化物を用いた分散液、樹脂組成物、及び熱線遮蔽性フィルムを提供することを目的とする。なお、金属酸化物とは具体的には、酸化スズ、酸化インジウム、及び／又は酸化亜鉛を意味する。
本発明者らは鋭意検討の結果、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系におけるＬ＊ａ＊ｂ＊が特定の範囲にある金属酸化物が上記課題を解決するものであることを見出し、本発明を完成させるに至った。
即ち、本発明は、以下１）～９）に関するものである。
１）
Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系で示したＬ＊ａ＊ｂ＊値が、下記式（１）～（３）全てを満たす、酸化スズ、酸化インジウム及び酸化亜鉛の群から選択される少なくとも一種の金属酸化物。
３９≦Ｌ＊≦６０ （１）
－２０≦ａ＊≦－５ （２）
－３０≦ｂ＊≦－５ （３）
２）
比表面積Ｓが下記式（４）を満たす上記１）に記載の酸化スズ、酸化インジウム、及び酸化亜鉛の群から選択される少なくとも一種の金属酸化物。
２４ｍ２／ｇ≦Ｓ≦４０ｍ２／ｇ （４）
３）
（Ａ）上記１）又は２）に記載の金属酸化物、及び（Ｂ）溶剤を含有する分散液。
４）
上記成分（Ａ）が、錫ドープ酸化インジウムである上記３）に記載の分散液。
５）
粒度分布測定における（Ａ）金属酸化物のＤ９５が下記式（５）を満たす上記３）又は４）に記載の分散液。
５０ｎｍ≦Ｄ９５≦２００ｎｍ （５）
６）
更に（Ｃ）分散剤を含有する上記３）乃至５）のいずれか一項に記載の分散液。
７）
上記３）乃至６）のいずれか一項に記載の分散液と、（Ｄ）バインダー樹脂を含有する樹脂組成物。
８）
更に（Ｅ）熱硬化剤及び／又はラジカル重合開始剤を含有する上記７）に記載の樹脂組成物。
９）
上記８）に記載の樹脂組成物を硬化して得られる熱線遮蔽性フィルム。
即ち、本発明は、以下１）～９）に関するものである。
１）
Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系で示したＬ＊ａ＊ｂ＊値が、下記式（１）～（３）全てを満たす、酸化スズ、酸化インジウム及び酸化亜鉛の群から選択される少なくとも一種の金属酸化物。
３９≦Ｌ＊≦６０ （１）
－２０≦ａ＊≦－５ （２）
－３０≦ｂ＊≦－５ （３）
２）
比表面積Ｓが下記式（４）を満たす上記１）に記載の酸化スズ、酸化インジウム、及び酸化亜鉛の群から選択される少なくとも一種の金属酸化物。
２４ｍ２／ｇ≦Ｓ≦４０ｍ２／ｇ （４）
３）
（Ａ）上記１）又は２）に記載の金属酸化物、及び（Ｂ）溶剤を含有する分散液。
４）
上記成分（Ａ）が、錫ドープ酸化インジウムである上記３）に記載の分散液。
５）
粒度分布測定における（Ａ）金属酸化物のＤ９５が下記式（５）を満たす上記３）又は４）に記載の分散液。
５０ｎｍ≦Ｄ９５≦２００ｎｍ （５）
６）
更に（Ｃ）分散剤を含有する上記３）乃至５）のいずれか一項に記載の分散液。
７）
上記３）乃至６）のいずれか一項に記載の分散液と、（Ｄ）バインダー樹脂を含有する樹脂組成物。
８）
更に（Ｅ）熱硬化剤及び／又はラジカル重合開始剤を含有する上記７）に記載の樹脂組成物。
９）
上記８）に記載の樹脂組成物を硬化して得られる熱線遮蔽性フィルム。
本発明の金属酸化物、その分散液、樹脂組成物、及び熱線遮蔽性フィルムは、可視光透過性、日射取得率およびヘイズに関する性能が総合的に優れている。従って、本発明の熱線遮蔽性フィルムを用いれば、視認性、可視光透明性が高く、高性能な熱線遮蔽機能を有する構造体や、熱線遮蔽シート、熱線遮蔽中間膜、透明基材用中間膜、及び合せガラス等を低コストかつ容易に製造することができる。
［Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系で示したＬ＊値、ａ＊値、ｂ＊値］
本発明の金属酸化物は、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系で示したＬ＊値が、上記式（１）を満たす酸化スズ、酸化インジウム、及び酸化亜鉛の群から選択される少なくとも一種の金属酸化物である。
Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系は可視光透過性、透明性（ヘイズ）、熱線遮蔽性（日射熱取得率）等に影響を与えるファクターであり、Ｌ＊が３９以上６０以下である場合には、その効果が非常に優れたものとなる。
Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系とは、ＪＩＳ Ｚ８７８１－４で規定される三次元の近似的な均等色空間における色相と彩度を示す色度ａ＊、ｂ＊及び明度Ｌ＊のことである。ａ＊は、プラス側で値が大きいほど赤味が強くマイナス側で値が大きいほど緑色味が強いことを表し、ｂ＊はプラス側で値が大きいほど黄色味が強くマイナス側で値が大きいほど青味が強いことを表す。また、明度Ｌ＊は、０に近づくほど黒色味が強く１００に近づくほど白味が強いことを表す。
本発明におけるＬ＊は、３９以上６０以下である。そして、好ましい上限は５９であり、更に好ましくは、５８であり、特に好ましくは５７である。また、好ましい下限は４０であり、更に好ましくは５１であり、特に好ましくは５２である。従って、Ｌ＊値として最も好ましくは５２以上５７以下である。日射熱取得率の特に優れた効果を実現することが可能である。
本発明の金属酸化物は、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系で示したＬ＊値が、上記式（１）を満たす酸化スズ、酸化インジウム、及び酸化亜鉛の群から選択される少なくとも一種の金属酸化物である。
Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系は可視光透過性、透明性（ヘイズ）、熱線遮蔽性（日射熱取得率）等に影響を与えるファクターであり、Ｌ＊が３９以上６０以下である場合には、その効果が非常に優れたものとなる。
Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系とは、ＪＩＳ Ｚ８７８１－４で規定される三次元の近似的な均等色空間における色相と彩度を示す色度ａ＊、ｂ＊及び明度Ｌ＊のことである。ａ＊は、プラス側で値が大きいほど赤味が強くマイナス側で値が大きいほど緑色味が強いことを表し、ｂ＊はプラス側で値が大きいほど黄色味が強くマイナス側で値が大きいほど青味が強いことを表す。また、明度Ｌ＊は、０に近づくほど黒色味が強く１００に近づくほど白味が強いことを表す。
本発明におけるＬ＊は、３９以上６０以下である。そして、好ましい上限は５９であり、更に好ましくは、５８であり、特に好ましくは５７である。また、好ましい下限は４０であり、更に好ましくは５１であり、特に好ましくは５２である。従って、Ｌ＊値として最も好ましくは５２以上５７以下である。日射熱取得率の特に優れた効果を実現することが可能である。
Ｌ＊ａ＊ｂ＊値の測定方法は、日本電色工業社製のＳＥ６０００分光色差計を用いて、Ｌ＊値、ａ＊値、ｂ＊値を測定した。具体的には、無作為に選んだ粉体を専用のセルに入れ、光源Ｄ６５、視野１０°、反射測定径φ３０ｍｍの条件で測定を３回実施し平均化し、Ｌ＊値、ａ＊値、ｂ＊値とする。
本発明の金属酸化物において、ａ＊値は、上記式（２）を満たす。すなわちａ＊値は、－２０以上－５以下である。更に好ましい下限としては－１５であり、特に好ましい下限は－１１である。また、更に好ましい上限は－７であり、特に好ましい上限は－９である。従って、ａ＊値として最も好ましくは－１１以上－９以下である。
また、本発明において、ｂ＊値は、上記式（３）を満たす。すなわちｂ＊値は、－３０以上－５以下である。更に好ましい下限としては－２０であり、特に好ましい下限は－１６である。また、更に好ましい上限は－１０であり、特に好ましい上限は－１５である。従って、ｂ＊値として最も好ましくは－１６以上－１５以下である。
また、本発明において、ｂ＊値は、上記式（３）を満たす。すなわちｂ＊値は、－３０以上－５以下である。更に好ましい下限としては－２０であり、特に好ましい下限は－１６である。また、更に好ましい上限は－１０であり、特に好ましい上限は－１５である。従って、ｂ＊値として最も好ましくは－１６以上－１５以下である。
［比表面積Ｓ］
本発明の金属酸化物の比表面積Ｓは上記式（４）を満たす場合が好ましい。すなわち２４ｍ２／ｇ以上４０ｍ２／ｇ以下である場合が好ましい。
比表面積は、ＢＥＬＳＯＲＰ－ｍｉｎｉＩＩ（日本ベル（株））を用いたＢＥＴ法で測定することができる。
比表面積Ｓの更に好ましい上限は３９ｍ２／ｇであり、特に好ましい上限は３８ｍ２／ｇである。また、更に好ましい下限は２５ｍ２／ｇであり、特に好ましい下限は２９ｍ２／ｇである。
ＢＥＴ法により測定された比表面積から粒子径を求めることができ、比表面積が小さくなりすぎると粒子径が大きくなり、可視光透過性、透明性（ヘイズ）が悪くなる。一方比表面積が大きくなりすぎると粒子径が小さくなりすぎて遮熱性能が悪くなる。
本発明の金属酸化物の比表面積Ｓは上記式（４）を満たす場合が好ましい。すなわち２４ｍ２／ｇ以上４０ｍ２／ｇ以下である場合が好ましい。
比表面積は、ＢＥＬＳＯＲＰ－ｍｉｎｉＩＩ（日本ベル（株））を用いたＢＥＴ法で測定することができる。
比表面積Ｓの更に好ましい上限は３９ｍ２／ｇであり、特に好ましい上限は３８ｍ２／ｇである。また、更に好ましい下限は２５ｍ２／ｇであり、特に好ましい下限は２９ｍ２／ｇである。
ＢＥＴ法により測定された比表面積から粒子径を求めることができ、比表面積が小さくなりすぎると粒子径が大きくなり、可視光透過性、透明性（ヘイズ）が悪くなる。一方比表面積が大きくなりすぎると粒子径が小さくなりすぎて遮熱性能が悪くなる。
本発明の金属酸化物は、可視光の吸収が少なく、近赤外部から遠赤外部にかけて良好な吸収、又は散乱特性を有しているものが適している。そのようなものとして、近赤外域にプラズマ波長を持っている電気伝導性の金属酸化物が挙げられる。具体的には、酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛である。これらのうち、可視光領域に光吸収性の少ない酸化インジウム、酸化亜鉛が好適である。更に好ましくは酸化インジウムである。
また、これらの金属酸化物の電気導電性を向上させるために第三成分をドープすることが好ましい。このためのドーパントとしては、酸化スズに対してはＳｂ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ等が選ばれ、酸化インジウムに対してはＺｎ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｇａ、Ｇｅ等が選ばれ、酸化亜鉛に対しては、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｎｂ等が選ばれる。本発明においては、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯともいう）又はアンチモン含有酸化錫（ＡＴＯ）がより好ましく、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）が更に好ましい。ドーパントの含量は特に限定されないが、ドーパントされた金属の総量に対して、１～２５重量％程度、好ましくは、５～２０重量％程度である。ＩＴＯにおける錫含量も同じである。
なお、本明細書において「～」は以上以下を意味する。すなわち「～」を挟む前後の数値は含むものとする。
なお、本明細書において「～」は以上以下を意味する。すなわち「～」を挟む前後の数値は含むものとする。
さらに６０ＭＰａで圧縮した際の粉体抵抗（粉体抵抗測定システムＭＣＰ－ＰＤ５１型、三菱化学アナリテック製）が１００Ω・ｃｍ以下、好ましくは１０Ω・ｃｍ以下、より好ましくは１Ω・ｃｍ以下の金属酸化物が好ましい。粉体抵抗が１００Ω・ｃｍより高い微粒子を用いた場合、微粒子のプラズマ振動に由来する反射が２５００ｎｍより大きくなり熱線遮蔽効果が低減する。
［溶剤（Ｂ）］
本発明の分散液は、上記金属酸化物（Ａ）と溶剤（Ｂ）を含有するものである。
溶剤（Ｂ）としては、特に限定されるものではないが、本発明では水や有機溶媒、また、各々配合し混合物として使用しても良い。有機溶媒としては、例えば炭化水素系溶媒（トルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ－ヘプタン等）、アルコール系溶媒（メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、ｔ－ブタノール、ベンジルアルコール等）、ケトン系溶媒（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセチルアセトン等）、エステル系溶媒（酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸セロソルブ、酢酸アミル等）、エーテル系溶媒（イソプロピルエーテル、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、１、４－ジオキサン等）、グリコール系溶媒（エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール等）、グリコールエーテル系溶媒（ジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等）、グリコールエステル系溶媒（エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等）、グライム系溶媒（モノグライム、ジグライム等）、ハロゲン系溶媒（ジクロロメタン、クロロホルム等）、アミド系溶媒（Ｎ、Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン）や、ピリジン、テトラヒドロフラン、スルホラン、アセトニトリル、ジメチルスルホキシドが挙げられる。好ましくは、水、ケトン系溶媒、アルコール系溶媒、アミド系溶媒、炭化水素系溶媒であり、より好ましくは、トルエン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトンである。
本発明の分散液は、上記金属酸化物（Ａ）と溶剤（Ｂ）を含有するものである。
溶剤（Ｂ）としては、特に限定されるものではないが、本発明では水や有機溶媒、また、各々配合し混合物として使用しても良い。有機溶媒としては、例えば炭化水素系溶媒（トルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ－ヘプタン等）、アルコール系溶媒（メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、ｔ－ブタノール、ベンジルアルコール等）、ケトン系溶媒（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセチルアセトン等）、エステル系溶媒（酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸セロソルブ、酢酸アミル等）、エーテル系溶媒（イソプロピルエーテル、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、１、４－ジオキサン等）、グリコール系溶媒（エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール等）、グリコールエーテル系溶媒（ジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等）、グリコールエステル系溶媒（エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等）、グライム系溶媒（モノグライム、ジグライム等）、ハロゲン系溶媒（ジクロロメタン、クロロホルム等）、アミド系溶媒（Ｎ、Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン）や、ピリジン、テトラヒドロフラン、スルホラン、アセトニトリル、ジメチルスルホキシドが挙げられる。好ましくは、水、ケトン系溶媒、アルコール系溶媒、アミド系溶媒、炭化水素系溶媒であり、より好ましくは、トルエン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトンである。
［Ｄ９５、Ｄ５０、Ｄ１０］
Ｄ９５とは、粒度分布を測定し、体積分布の累積が９５％に相当するときの粒子径である。具体的には動的光散乱方式の粒径測定装置（日機装製；ナノトラックＵＰＡ－ＥＸ１５０）等により測定することができる。また、Ｄ５０、Ｄ１０も同様に粒度分布を測定し、体積分布の累積がそれぞれ５０％、１０％に相当するときの粒子径を意味する。
本発明の金属酸化物では、Ｄ９５が上記式（５）である場合がより好ましい。すなわち、Ｄ９５の上限は、２００ｎｍが好ましく、更に好ましくは１８０ｎｍであり、特に好ましくは１６０ｎｍである。また、更に好ましい下限は５０ｎｍが好ましく、特に好ましくは７０ｎｍであり、最も好ましくは１４０ｎｍである。従って、Ｄ９５の最も好ましい範囲は１４０ｎｍ以上１６０ｎｍ以下である。
上記式（５）では粒子径が比較的大きい領域であり、一般にはヘイズが悪化する領域である。しかし、上記式（１）乃至（４）の条件と組み合わせることで、ヘイズの悪化を抑制しながら、優れた熱線遮蔽性能を実現することが可能である。
また、Ｄ５０が３０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である場合がより好ましい。Ｄ５０の上限は、更に好ましくは９０ｎｍであり、特に好ましくは８０ｎｍである。また、更に好ましい下限は４０ｎｍであり、特に好ましくは５０ｎｍである。従って、Ｄ１０の最も好ましい範囲は５０ｎｍ以上８０ｎｍ以下である。
更に、Ｄ１０が５ｎｍ以上８０ｎｍ以下である場合がより好ましい。Ｄ１０の上限は、更に好ましくは７０ｎｍであり、特に好ましくは６０ｎｍである。また、更に好ましい下限は１０ｎｍであり、特に好ましくは２０ｎｍである。従って、Ｄ１０の最も好ましい範囲は２０ｎｍ以上６０ｎｍ以下である。
Ｄ９５とは、粒度分布を測定し、体積分布の累積が９５％に相当するときの粒子径である。具体的には動的光散乱方式の粒径測定装置（日機装製；ナノトラックＵＰＡ－ＥＸ１５０）等により測定することができる。また、Ｄ５０、Ｄ１０も同様に粒度分布を測定し、体積分布の累積がそれぞれ５０％、１０％に相当するときの粒子径を意味する。
本発明の金属酸化物では、Ｄ９５が上記式（５）である場合がより好ましい。すなわち、Ｄ９５の上限は、２００ｎｍが好ましく、更に好ましくは１８０ｎｍであり、特に好ましくは１６０ｎｍである。また、更に好ましい下限は５０ｎｍが好ましく、特に好ましくは７０ｎｍであり、最も好ましくは１４０ｎｍである。従って、Ｄ９５の最も好ましい範囲は１４０ｎｍ以上１６０ｎｍ以下である。
上記式（５）では粒子径が比較的大きい領域であり、一般にはヘイズが悪化する領域である。しかし、上記式（１）乃至（４）の条件と組み合わせることで、ヘイズの悪化を抑制しながら、優れた熱線遮蔽性能を実現することが可能である。
また、Ｄ５０が３０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である場合がより好ましい。Ｄ５０の上限は、更に好ましくは９０ｎｍであり、特に好ましくは８０ｎｍである。また、更に好ましい下限は４０ｎｍであり、特に好ましくは５０ｎｍである。従って、Ｄ１０の最も好ましい範囲は５０ｎｍ以上８０ｎｍ以下である。
更に、Ｄ１０が５ｎｍ以上８０ｎｍ以下である場合がより好ましい。Ｄ１０の上限は、更に好ましくは７０ｎｍであり、特に好ましくは６０ｎｍである。また、更に好ましい下限は１０ｎｍであり、特に好ましくは２０ｎｍである。従って、Ｄ１０の最も好ましい範囲は２０ｎｍ以上６０ｎｍ以下である。
［（Ｃ）分散剤］
本発明の熱線遮蔽性樹脂組成物は、（Ｃ）分散剤を含有しても良い。（Ｃ）分散剤を含有させることで、均一な分散を可能とする。
（Ｃ）分散剤としては、例えば以下のものを挙げることができる。フローレンＤＯＰＡ－１５Ｂ、フローレンＤＯＰＡ－１７（共栄社化学株式会社製）、ソルプラスＡＸ５、ソルプラスＴＸ５、ソルスパース９０００、ソルスパース１２０００、ソルスパース１７０００、ソルスパース２００００、ソルスパース２１０００、ソルスパース２４０００、ソルスパース２６０００、ソルスパース２７０００、ソルスパース２８０００、ソルスパース３２０００、ソルスパース３５１００、ソルスパース５４０００、ソルシックス２５０、（日本ルーブリゾール株式会社製）、ＥＦＫＡ４００８、ＥＦＫＡ４００９、ＥＦＫＡ４０１０、ＥＦＫＡ４０１５、ＥＦＫＡ４０４６、ＥＦＫＡ４０４７、ＥＦＫＡ４０６０、ＥＦＫＡ４０８０、ＥＦＫＡ７４６２、ＥＦＫＡ４０２０、ＥＦＫＡ４０５０、ＥＦＫＡ４０５５、ＥＦＫＡ４４００、ＥＦＫＡ４４０１、ＥＦＫＡ４４０２、ＥＦＫＡ４４０３、ＥＦＫＡ４３００、ＥＦＫＡ４３１０、ＥＦＫＡ４３２０、ＥＦＫＡ４３３０、ＥＦＫＡ４３４０、ＥＦＫＡ５０６５、ＥＦＫＡ６２２０、ＥＦＫＡ６２２５、ＥＦＫＡ４３３０、ＥＦＫＡ６７００、ＥＦＫＡ６７８０、ＥＦＫＡ６７８２、ＥＦＫＡ７７０１、ＥＦＫＡ８５０３（ＢＡＳＦ社）、アジスパーＰＡ１１１、アジスパーＰＢ７１１、アジスパーＰＢ８２１、アジスパーＰＢ８２２、アジスパーＰＮ４１１、フェイメックスＬ－１２（味の素ファインテクノ株式会社製）、ＴＥＸＡＰＨＯＲ－ＵＶ２１、ＴＥＸＡＰＨＯＲ－ＵＶ６１（コグニスジャパン株式会社製）、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１０１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１０２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１０６、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１０８、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１１０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１１１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１１６、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１３０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１４０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１４２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１４５、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６３、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６４、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６６、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６７、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６８、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１７０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１７１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１７４、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１８０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１８２ 、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１９２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１９３ 、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０００、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２００１ 、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０２０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０２５、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０５０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０７０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２１５５、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２１６４、ＢＹＫＰ１０４、ＢＹＫ２２０Ｓ、ＢＹＫ３００、ＢＹＫ３０６、ＢＹＫ３２０、ＢＹＫ３２２、ＢＹＫ３２５、ＢＹＫ３３０、ＢＹＫ３４０、ＢＹＫ３５０、ＢＹＫ３７７、ＢＹＫ３７８、ＢＹＫ３８０Ｎ、ＢＹＫ４１０、ＢＹＫ４２５、ＢＹＫ４３０、ＡＮＴＩ ＴＥＲＲＡ Ｕ（ビックケミー・ジャパン株式会社製）、ディスパロン１７５１Ｎ、ディスパロン１８３１、ディスパロン１８５０、ディスパロン１８６０、ディスパロン１９３４、ディスパロンＤＡ－４００Ｎ 、ディスパロンＤＡ－７０３－５０、ディスパロンＤＡ－７２５、ディスパロンＤＡ－７０５、ディスパロンＤＡ－７３０１、ディスパロンＤＮ－９００、ディスパロンＮＳ－５２１０、ディスパロンＮＶＩ－８５１４Ｌ、ヒップラードＥＤ－１５２、ヒップラードＥＤ－２１６ 、ヒップラードＥＤ－２５１、ヒップラードＥＤ－３６０（楠本化成株式会社）、ＦＴＸ－２０７Ｓ、ＦＴＸ－２１２Ｐ、ＦＴＸ－２２０Ｐ、ＦＴＸ－２２０Ｓ、ＦＴＸ－２２８Ｐ、ＦＴＸ－７１０ＬＬ、ＦＴＸ－７５０ＬＬ、フタージェント２１２Ｐ、フタージェント２２０Ｐ、フタージェント２２２Ｆ、フタージェント２２８Ｐ、フタージェント２４５Ｆ、フタージェント２４５Ｐ、フタージェント２５０、フタージェント２５１、フタージェント７１０ＦＭ、フタージェント７３０ＦＭ、フタージェント７３０ＬＬ、フタージェント７３０ＬＳ、フタージェント７５０ＤＭ、フタージェント７５０ＦＭ（ 株式会社ネオス製）、ＡＳ－１１００、ＡＳ－１８００、ＡＳ－２０００（東亞合成株式会社製）、カオーセラ２０００、カオーセラ２１００、ＫＤＨ－１５４、ＭＸ－２０４５Ｌ、ホモゲノールＬ－１８、ホモゲノールＬ－９５、レオドールＳＰ－０１０Ｖ、レオドールＳＰ－０３０Ｖ、レオドールＳＰ－Ｌ１０、レオドールＳＰ－Ｐ１０（花王株式会社製）、エバンＵ１０３、シアノールＤＣ９０２Ｂ、ノイゲンＥＡ－１６７、ブライサーフＡ２１９Ｂ、ブライサーフＡＬ（第一工業製薬株式会社製）、メガファックＦ－４７７、メガファック４８０ＳＦ、メガファックＦ－４８２、（ＤＩＣ株式会社製）、シルフェイスＳＡＧ５０３Ａ、ダイノール６０４（日信化学工業株式会社製）、ＳＮスパーズ２１８０、ＳＮスパーズ２１９０、ＳＮレベラーＳ－９０６（サンノプコ株式会社製）、Ｓ－３８６、Ｓ－４２０（ＡＧＣセイミケミカル株式会社製）といったものが例示できる。
このうち、好ましくはＥＦＫＡ－４３００、ＥＦＫＡ－４３１０、ＥＦＫＡ－４３２０、ＥＦＫＡ－４３３０、ＥＦＫＡ－５０６５、ＥＦＫＡ－６２３０、ＥＦＫＡ－７７０１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１０２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１１０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１１１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１１６、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１４０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１４２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１４５、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６３、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６８、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１７０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１８０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０００、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２００１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０２５、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０５０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２１５５、ＡＮＴＩ ＴＥＲＲＡ Ｕであり、更に好ましくはＥＦＫＡ－４３００、ＥＦＫＡ－４３１０、ＥＦＫＡ－４３２０、ＥＦＫＡ－４３３０、ＥＦＫＡ－７７０１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１０２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１１０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１１１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１４０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６８、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１７０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１８０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０００、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２００１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０２５、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０５０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２１５５、ＡＮＴＩ ＴＥＲＲＡ Ｕ特に好ましくはＥＦＫＡ－４３２０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１１０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１１１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１４０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１８０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２００１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０２５、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０５０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２１５５である。
本発明の熱線遮蔽性樹脂組成物は、（Ｃ）分散剤を含有しても良い。（Ｃ）分散剤を含有させることで、均一な分散を可能とする。
（Ｃ）分散剤としては、例えば以下のものを挙げることができる。フローレンＤＯＰＡ－１５Ｂ、フローレンＤＯＰＡ－１７（共栄社化学株式会社製）、ソルプラスＡＸ５、ソルプラスＴＸ５、ソルスパース９０００、ソルスパース１２０００、ソルスパース１７０００、ソルスパース２００００、ソルスパース２１０００、ソルスパース２４０００、ソルスパース２６０００、ソルスパース２７０００、ソルスパース２８０００、ソルスパース３２０００、ソルスパース３５１００、ソルスパース５４０００、ソルシックス２５０、（日本ルーブリゾール株式会社製）、ＥＦＫＡ４００８、ＥＦＫＡ４００９、ＥＦＫＡ４０１０、ＥＦＫＡ４０１５、ＥＦＫＡ４０４６、ＥＦＫＡ４０４７、ＥＦＫＡ４０６０、ＥＦＫＡ４０８０、ＥＦＫＡ７４６２、ＥＦＫＡ４０２０、ＥＦＫＡ４０５０、ＥＦＫＡ４０５５、ＥＦＫＡ４４００、ＥＦＫＡ４４０１、ＥＦＫＡ４４０２、ＥＦＫＡ４４０３、ＥＦＫＡ４３００、ＥＦＫＡ４３１０、ＥＦＫＡ４３２０、ＥＦＫＡ４３３０、ＥＦＫＡ４３４０、ＥＦＫＡ５０６５、ＥＦＫＡ６２２０、ＥＦＫＡ６２２５、ＥＦＫＡ４３３０、ＥＦＫＡ６７００、ＥＦＫＡ６７８０、ＥＦＫＡ６７８２、ＥＦＫＡ７７０１、ＥＦＫＡ８５０３（ＢＡＳＦ社）、アジスパーＰＡ１１１、アジスパーＰＢ７１１、アジスパーＰＢ８２１、アジスパーＰＢ８２２、アジスパーＰＮ４１１、フェイメックスＬ－１２（味の素ファインテクノ株式会社製）、ＴＥＸＡＰＨＯＲ－ＵＶ２１、ＴＥＸＡＰＨＯＲ－ＵＶ６１（コグニスジャパン株式会社製）、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１０１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１０２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１０６、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１０８、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１１０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１１１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１１６、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１３０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１４０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１４２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１４５、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６３、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６４、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６６、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６７、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６８、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１７０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１７１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１７４、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１８０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１８２ 、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１９２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１９３ 、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０００、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２００１ 、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０２０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０２５、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０５０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０７０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２１５５、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２１６４、ＢＹＫＰ１０４、ＢＹＫ２２０Ｓ、ＢＹＫ３００、ＢＹＫ３０６、ＢＹＫ３２０、ＢＹＫ３２２、ＢＹＫ３２５、ＢＹＫ３３０、ＢＹＫ３４０、ＢＹＫ３５０、ＢＹＫ３７７、ＢＹＫ３７８、ＢＹＫ３８０Ｎ、ＢＹＫ４１０、ＢＹＫ４２５、ＢＹＫ４３０、ＡＮＴＩ ＴＥＲＲＡ Ｕ（ビックケミー・ジャパン株式会社製）、ディスパロン１７５１Ｎ、ディスパロン１８３１、ディスパロン１８５０、ディスパロン１８６０、ディスパロン１９３４、ディスパロンＤＡ－４００Ｎ 、ディスパロンＤＡ－７０３－５０、ディスパロンＤＡ－７２５、ディスパロンＤＡ－７０５、ディスパロンＤＡ－７３０１、ディスパロンＤＮ－９００、ディスパロンＮＳ－５２１０、ディスパロンＮＶＩ－８５１４Ｌ、ヒップラードＥＤ－１５２、ヒップラードＥＤ－２１６ 、ヒップラードＥＤ－２５１、ヒップラードＥＤ－３６０（楠本化成株式会社）、ＦＴＸ－２０７Ｓ、ＦＴＸ－２１２Ｐ、ＦＴＸ－２２０Ｐ、ＦＴＸ－２２０Ｓ、ＦＴＸ－２２８Ｐ、ＦＴＸ－７１０ＬＬ、ＦＴＸ－７５０ＬＬ、フタージェント２１２Ｐ、フタージェント２２０Ｐ、フタージェント２２２Ｆ、フタージェント２２８Ｐ、フタージェント２４５Ｆ、フタージェント２４５Ｐ、フタージェント２５０、フタージェント２５１、フタージェント７１０ＦＭ、フタージェント７３０ＦＭ、フタージェント７３０ＬＬ、フタージェント７３０ＬＳ、フタージェント７５０ＤＭ、フタージェント７５０ＦＭ（ 株式会社ネオス製）、ＡＳ－１１００、ＡＳ－１８００、ＡＳ－２０００（東亞合成株式会社製）、カオーセラ２０００、カオーセラ２１００、ＫＤＨ－１５４、ＭＸ－２０４５Ｌ、ホモゲノールＬ－１８、ホモゲノールＬ－９５、レオドールＳＰ－０１０Ｖ、レオドールＳＰ－０３０Ｖ、レオドールＳＰ－Ｌ１０、レオドールＳＰ－Ｐ１０（花王株式会社製）、エバンＵ１０３、シアノールＤＣ９０２Ｂ、ノイゲンＥＡ－１６７、ブライサーフＡ２１９Ｂ、ブライサーフＡＬ（第一工業製薬株式会社製）、メガファックＦ－４７７、メガファック４８０ＳＦ、メガファックＦ－４８２、（ＤＩＣ株式会社製）、シルフェイスＳＡＧ５０３Ａ、ダイノール６０４（日信化学工業株式会社製）、ＳＮスパーズ２１８０、ＳＮスパーズ２１９０、ＳＮレベラーＳ－９０６（サンノプコ株式会社製）、Ｓ－３８６、Ｓ－４２０（ＡＧＣセイミケミカル株式会社製）といったものが例示できる。
このうち、好ましくはＥＦＫＡ－４３００、ＥＦＫＡ－４３１０、ＥＦＫＡ－４３２０、ＥＦＫＡ－４３３０、ＥＦＫＡ－５０６５、ＥＦＫＡ－６２３０、ＥＦＫＡ－７７０１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１０２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１１０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１１１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１１６、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１４０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１４２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１４５、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６３、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６８、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１７０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１８０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０００、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２００１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０２５、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０５０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２１５５、ＡＮＴＩ ＴＥＲＲＡ Ｕであり、更に好ましくはＥＦＫＡ－４３００、ＥＦＫＡ－４３１０、ＥＦＫＡ－４３２０、ＥＦＫＡ－４３３０、ＥＦＫＡ－７７０１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１０２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１１０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１１１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１４０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６８、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１７０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１８０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０００、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２００１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０２５、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０５０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２１５５、ＡＮＴＩ ＴＥＲＲＡ Ｕ特に好ましくはＥＦＫＡ－４３２０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１１０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１１１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１４０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１８０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２００１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０２５、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０５０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２１５５である。
［（Ｄ）バインダー樹脂］
本発明の金属酸化物や分散液にバインダー樹脂（Ｄ）を混合し、樹脂組成物とすることができる。なお、アクリルモノマーのような低分子化合物も、バインダーとして使用されうるものであれば、本明細書においてはバインダー樹脂と表現する。
（Ｄ）は成分の分散維持できる樹脂であれば、特に制限はない。通常、熱可塑性樹脂、及び／又は、熱又は光で硬化する硬化性樹脂（熱または光硬化性樹脂とも言う）（具体的には熱硬化性樹脂又は光硬化性樹脂）の硬化物等が挙げられる。
成分（Ｄ）の樹脂組成物中の含有量は、樹脂組成物の総量１００質量部中２０質量部以上９５質量部以下が好ましい。
この含有量の好ましい上限としては、９５質量部、更に好ましくは９０質量部、特に好ましくは８０質量部、最も好ましくは７０質量部である。
また好ましい下限としては、２０質量部、更に好ましくは３０質量部、特に好ましくは４０質量部、最も好ましくは５０質量部である。
成分（Ｄ）の熱線吸収膜中の含有量として最も好ましい範囲は５０質量部以上７０質量部以下である。
本発明の金属酸化物や分散液にバインダー樹脂（Ｄ）を混合し、樹脂組成物とすることができる。なお、アクリルモノマーのような低分子化合物も、バインダーとして使用されうるものであれば、本明細書においてはバインダー樹脂と表現する。
（Ｄ）は成分の分散維持できる樹脂であれば、特に制限はない。通常、熱可塑性樹脂、及び／又は、熱又は光で硬化する硬化性樹脂（熱または光硬化性樹脂とも言う）（具体的には熱硬化性樹脂又は光硬化性樹脂）の硬化物等が挙げられる。
成分（Ｄ）の樹脂組成物中の含有量は、樹脂組成物の総量１００質量部中２０質量部以上９５質量部以下が好ましい。
この含有量の好ましい上限としては、９５質量部、更に好ましくは９０質量部、特に好ましくは８０質量部、最も好ましくは７０質量部である。
また好ましい下限としては、２０質量部、更に好ましくは３０質量部、特に好ましくは４０質量部、最も好ましくは５０質量部である。
成分（Ｄ）の熱線吸収膜中の含有量として最も好ましい範囲は５０質量部以上７０質量部以下である。
成分（Ｄ）に用いられうる熱可塑性樹脂としては、高密度ポリエチレン樹脂、低密度ポリエチレン樹脂、直鎖状低密度ポリエチレン樹脂、超低密度ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリブタジエン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、ポリスチレン樹脂、エチレン酢酸ビニルコポリマー、アイオノマー樹脂、エチレンビニルアルコール共重合樹脂、エチレンアクリル酸エチル共重合体、アクリロニトリル・スチレン樹脂、アクリロニトリル・塩素化ポリスチレン・スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル・アクリルゴム・スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル・ＥＰＤＭ・スチレン共重合樹脂、シリコーンゴム・アクリロニトリル・スチレン共重合樹脂、セルロース・アセテート・ブチレート樹脂、酢酸セルロース樹脂、メタクリル樹脂、エチレン・メチルメタクリレートコポリマー樹脂、エチレン・エチルアクリレート樹脂、塩化ビニル樹脂、塩素化ポリエチレン樹脂、ポリ４フッ化エチレン樹脂、４フッ化エチレン・６フッ化プロピレン共重合樹脂、４フッ化エチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合樹脂、４フッ化エチレン・エチレン共重合樹脂、ポリ３フッ化塩化エチレン樹脂、ポリフッ化ビニリデン樹脂、ナイロン４，６、ナイロン６、ナイロン６，６、ナイロン６，１０、ナイロン６，１２、ナイロン１２、ナイロン６，Ｔ、ナイロン９，Ｔ、芳香族ナイロン樹脂、ポリアセタール樹脂、超高分子量ポリエチレン樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、非晶性コポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、変性ポリフェニレンエーテル樹脂、熱可塑性ポリウレタンエラストマー、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、液晶ポリマー、ポリテトラフロロエチレン樹脂、ポリフロロアルコキシ樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリケトン樹脂、熱可塑性ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリサルフォン樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂、生分解樹脂、バイオマス樹脂等が挙げられる。しかし、これらに限定されるものではない。また、これらの樹脂２種以上を混合させたものであっても良い。これらの熱可塑性樹脂の重量平均分子量は１０００～１，０００，０００程度であり、好ましくは２０００乃至５００，０００程度、より好ましくは２０００～２００，０００程度である。熱可塑性樹脂として好ましい樹脂は、透明性等の観点から(メタ)アクリル樹脂が好ましく、例えば(メタ)アクリレートポリマー、特に(メタ)アクリル共重合体等が好ましい。
成分（Ｄ）に用いられうる熱硬化性樹脂としては、例えばエポキシ基、オキセタニル基等の環状エーテルを有する硬化性化合物が挙げられる。
上記環状エーテルを有する熱硬化性樹脂としては特に限定されず、例えば、エポキシ樹脂（脂環式エポキシ樹脂を含む脂肪族エポキシ樹脂または芳香族エポキシ樹脂）、オキセタン樹脂、フラン樹脂等が挙げられる。なかでも、反応速度や汎用性の観点からエポキシ樹脂（ 脂肪族環、例えば炭素数３～１２の脂肪族環を含んでいても良い）、オキセタン樹脂が好適である。上記エポキシ樹脂としては特に限定されず、例えば、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型、ビフェニルノボラック型、トリスフェノールノボラック型、ジシクロペンタジエンノボラック型等のノボラック型； ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型、２，２’－ ジアリルビスフェノールＡ 型、水添ビスフェノール型、ポリオキシプロピレンビスフェノールＡ型等のビスフェノール型等が挙げられる。また、その他にグリシジルアミン等も挙げられる。
上記エポキシ樹脂の市販品としては、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂としては、エピクロン（登録商標）Ｎ－７４０、Ｎ－７７０、Ｎ－７７５（以上、いずれも大日本インキ化学工業株式会社製）、エピコート（登録商標）１５２、エピコート（登録商標）１５４（以上、いずれもジャパンエポキシレジン株式会社製）等が挙げられる。クレゾールノボラック型としては、例えば、エピクロン（登録商標）Ｎ－６６０、Ｎ－６６５、Ｎ－６７０、Ｎ－６７３、Ｎ－６８０、Ｎ－６９５、Ｎ－６６５－ＥＸＰ、Ｎ－６７２－ＥＸＰ（以上、いずれも大日本インキ化学工業株式会社製）；ビフェニルノボラック型としては、例えば、ＮＣ－３０００Ｐ（日本化薬社製）；トリスフェノールノボラック型としては、例えば、ＥＰ１０３２Ｓ５０、ＥＰ１０３２Ｈ６０（以上、いずれもジャパンエポキシレジン株式会社製）；ジシクロペンタジエンノボラック型としては、例えば、ＸＤ－１０００－Ｌ（日本化薬株式会社製）、ＨＰ－７２００（大日本インキ化学工業株式会社製）；ビスフェノールＡ 型エポキシ化合物としては、例えば、エピコート（登録商標）８２８、エピコート（登録商標）８３４、エピコート１００１、エピコート（登録商標）１００４（以上、いずれもジャパンエポキシレジン株式会社製）、エピクロン（登録商標）８５０、エピクロン（登録商標）８６０、エピクロン（登録商標）４０５５（以上、いずれも大日本インキ化学工業株式会社製）；ビスフェノールＦ型エポキシ化合物の市販品としては、例えば、エピコート（登録商標）８０７（ジャパンエポキシレジン株式会社製）、エピクロン（登録商標）８３０（大日本インキ化学工業株式会社製）；２，２’－ジアリルビスフェノールＡ型としては、例えば、ＲＥ－８１０ＮＭ（日本化薬株式会社製）；水添ビスフェノール型としては、例えば、ＳＴ－５０８０（東都化成株式会社製）；ポリオキシプロピレンビスフェノールＡ型としては、例えば、ＥＰ－４０００、ＥＰ－４００５（以上、いずれも旭電化工業株式会社製）等が挙げられる。
上記オキセタン化合物の市販品として、例えば、エタナコール（登録商標）ＥＨＯ、エタナコール（登録商標）ＯＸＢＰ、エタナコール（登録商標）ＯＸＴＰ、エタナコール（登録商標）ＯＸＭＡ（以上、いずれも宇部興産株式会社製）等が挙げられる。また、上記脂環式エポキシ化合物としては特に限定されず、例えば、セロキサイド（登録商標）２０２１、セロキサイド（登録商標）２０８０、セロキサイド（登録商標）３０００（以上、いずれもダイセル・ユーシービー株式会社製） 等が挙げられる。これらの環状エーテル基を有する硬化性化合物は、単独で用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
上記環状エーテルを有する熱硬化性樹脂としては特に限定されず、例えば、エポキシ樹脂（脂環式エポキシ樹脂を含む脂肪族エポキシ樹脂または芳香族エポキシ樹脂）、オキセタン樹脂、フラン樹脂等が挙げられる。なかでも、反応速度や汎用性の観点からエポキシ樹脂（ 脂肪族環、例えば炭素数３～１２の脂肪族環を含んでいても良い）、オキセタン樹脂が好適である。上記エポキシ樹脂としては特に限定されず、例えば、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型、ビフェニルノボラック型、トリスフェノールノボラック型、ジシクロペンタジエンノボラック型等のノボラック型； ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型、２，２’－ ジアリルビスフェノールＡ 型、水添ビスフェノール型、ポリオキシプロピレンビスフェノールＡ型等のビスフェノール型等が挙げられる。また、その他にグリシジルアミン等も挙げられる。
上記エポキシ樹脂の市販品としては、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂としては、エピクロン（登録商標）Ｎ－７４０、Ｎ－７７０、Ｎ－７７５（以上、いずれも大日本インキ化学工業株式会社製）、エピコート（登録商標）１５２、エピコート（登録商標）１５４（以上、いずれもジャパンエポキシレジン株式会社製）等が挙げられる。クレゾールノボラック型としては、例えば、エピクロン（登録商標）Ｎ－６６０、Ｎ－６６５、Ｎ－６７０、Ｎ－６７３、Ｎ－６８０、Ｎ－６９５、Ｎ－６６５－ＥＸＰ、Ｎ－６７２－ＥＸＰ（以上、いずれも大日本インキ化学工業株式会社製）；ビフェニルノボラック型としては、例えば、ＮＣ－３０００Ｐ（日本化薬社製）；トリスフェノールノボラック型としては、例えば、ＥＰ１０３２Ｓ５０、ＥＰ１０３２Ｈ６０（以上、いずれもジャパンエポキシレジン株式会社製）；ジシクロペンタジエンノボラック型としては、例えば、ＸＤ－１０００－Ｌ（日本化薬株式会社製）、ＨＰ－７２００（大日本インキ化学工業株式会社製）；ビスフェノールＡ 型エポキシ化合物としては、例えば、エピコート（登録商標）８２８、エピコート（登録商標）８３４、エピコート１００１、エピコート（登録商標）１００４（以上、いずれもジャパンエポキシレジン株式会社製）、エピクロン（登録商標）８５０、エピクロン（登録商標）８６０、エピクロン（登録商標）４０５５（以上、いずれも大日本インキ化学工業株式会社製）；ビスフェノールＦ型エポキシ化合物の市販品としては、例えば、エピコート（登録商標）８０７（ジャパンエポキシレジン株式会社製）、エピクロン（登録商標）８３０（大日本インキ化学工業株式会社製）；２，２’－ジアリルビスフェノールＡ型としては、例えば、ＲＥ－８１０ＮＭ（日本化薬株式会社製）；水添ビスフェノール型としては、例えば、ＳＴ－５０８０（東都化成株式会社製）；ポリオキシプロピレンビスフェノールＡ型としては、例えば、ＥＰ－４０００、ＥＰ－４００５（以上、いずれも旭電化工業株式会社製）等が挙げられる。
上記オキセタン化合物の市販品として、例えば、エタナコール（登録商標）ＥＨＯ、エタナコール（登録商標）ＯＸＢＰ、エタナコール（登録商標）ＯＸＴＰ、エタナコール（登録商標）ＯＸＭＡ（以上、いずれも宇部興産株式会社製）等が挙げられる。また、上記脂環式エポキシ化合物としては特に限定されず、例えば、セロキサイド（登録商標）２０２１、セロキサイド（登録商標）２０８０、セロキサイド（登録商標）３０００（以上、いずれもダイセル・ユーシービー株式会社製） 等が挙げられる。これらの環状エーテル基を有する硬化性化合物は、単独で用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
成分（Ｄ）に用いられうる光硬化性樹脂としては、例えば、ビニル基、ビニルエーテル基、アリル基、マレイミド基、（メタ）アクリロイル基等を有する樹脂が挙げられる。なかでも反応性や汎用性の面より（メタ）アクリロイル基を有する樹脂、例えば(メタ）アクリレート化合物、が好ましい。なお、本明細書において、「（メタ）アクリロイル」等の用語は、「アクリロイル」又は「メタクリロイ」を意味し、例えば「（メタ）アクリレート」は、「アクリレート」又は「メタクリレート」を意味する。
（メタ）アクリロイル基を有する樹脂としては例えば、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールモノ（メタ）アクリレート、カルビトール（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、水酸基含有（メタ）アクリレートと多カルボン酸化合物の酸無水物の反応物であるハーフエステル，ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンポリエトキシトリ（メタ）アクリレート、グリセリンポリプロポキシトリ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのε－カプロラクトン付加物のジ（メタ）アクリレート（例えば、日本化薬株式会社製、ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＨＸ－２２０、ＨＸ－６２０等）、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールとε－カプロラクトンの反応物のポリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート（例えば日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＨＡ等）、モノ又はポリグリシジル化合物と（メタ）アクリル酸の反応物であるエポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート化合物を挙げることができる。
モノ又はポリグリシジル化合物と（メタ）アクリル酸の反応物であるエポキシ（メタ）アクリレートに用いられるグリシジル化合物としては、特に制限はなく、例えば、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、４，４’－ビフェニルフェノール、テトラメチルビスフェノールＡ、ジメチルビスフェノールＡ、テトラメチルビスフェノールＦ、ジメチルビスフェノールＦ、テトラメチルビスフェノールＳ、ジメチルビスフェノールＳ、テトラメチル－４，４’－ビフェノール、ジメチル－４，４’－ ビフェニルフェノール、１－（４－ヒドロキシフェニル）－２－［４－（１，１－ビス－（４－ヒドロキシフェニル）エチル）フェニル］プロパン、２，２’－メチレン－ビス（４－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、４，４’－ブチリデン－ビス（３－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、トリスヒドロキシフェニルメタン、レゾルシノール、ハイドロキノン、ピロガロール、ジイソプロピリデン骨格を有するフェノール類、１，１－ジ－４－ヒドロキシフェニルフルオレン等のフルオレン骨格を有するフェノール類、フェノール化ポリブタジエン、ブロム化ビスフェノールＡ、ブロム化ビスフェノールＦ、ブロム化ビスフェノールＳ、ブロム化フェノールノボラック、ブロム化クレゾールノボラック、クロル化ビスフェノールＳ、クロル化ビスフェノールＡ等のポリフェノール類のグリシジルエーテル化物が挙げられる。
これらモノ又はポリグリシジル化合物と（メタ）アクリル酸の反応物であるエポキシ（メタ）アクリレートは、そのエポキシ基に当量の（メタ）アクリル酸をエステル化反応させる事によって得ることができる。この合成反応は一般的に知られている方法により行うことが出来る。例えば、レゾルシンジグリシジルエーテルにその当量の（メタ）アクリル酸を、触媒（例えば、ベンジルジメチルアミン、トリエチルアミン、ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、トリフェニルホスフィン、トリフェニルスチビン等）及び重合防止剤（例えば、メトキノン、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、フェノチアジン、ジブチルヒドロキシトルエン等）と共に添加して、例えば８０～１１０℃でエステル化反応を行う。こうして得られた（メタ）アクリル化レゾルシンジグリシジルエーテルは、ラジカル重合性の（メタ）アクリロイル基を有する樹脂である。
（メタ）アクリロイル基を有する樹脂としては例えば、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールモノ（メタ）アクリレート、カルビトール（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、水酸基含有（メタ）アクリレートと多カルボン酸化合物の酸無水物の反応物であるハーフエステル，ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンポリエトキシトリ（メタ）アクリレート、グリセリンポリプロポキシトリ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのε－カプロラクトン付加物のジ（メタ）アクリレート（例えば、日本化薬株式会社製、ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＨＸ－２２０、ＨＸ－６２０等）、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールとε－カプロラクトンの反応物のポリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート（例えば日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＨＡ等）、モノ又はポリグリシジル化合物と（メタ）アクリル酸の反応物であるエポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート化合物を挙げることができる。
モノ又はポリグリシジル化合物と（メタ）アクリル酸の反応物であるエポキシ（メタ）アクリレートに用いられるグリシジル化合物としては、特に制限はなく、例えば、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、４，４’－ビフェニルフェノール、テトラメチルビスフェノールＡ、ジメチルビスフェノールＡ、テトラメチルビスフェノールＦ、ジメチルビスフェノールＦ、テトラメチルビスフェノールＳ、ジメチルビスフェノールＳ、テトラメチル－４，４’－ビフェノール、ジメチル－４，４’－ ビフェニルフェノール、１－（４－ヒドロキシフェニル）－２－［４－（１，１－ビス－（４－ヒドロキシフェニル）エチル）フェニル］プロパン、２，２’－メチレン－ビス（４－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、４，４’－ブチリデン－ビス（３－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、トリスヒドロキシフェニルメタン、レゾルシノール、ハイドロキノン、ピロガロール、ジイソプロピリデン骨格を有するフェノール類、１，１－ジ－４－ヒドロキシフェニルフルオレン等のフルオレン骨格を有するフェノール類、フェノール化ポリブタジエン、ブロム化ビスフェノールＡ、ブロム化ビスフェノールＦ、ブロム化ビスフェノールＳ、ブロム化フェノールノボラック、ブロム化クレゾールノボラック、クロル化ビスフェノールＳ、クロル化ビスフェノールＡ等のポリフェノール類のグリシジルエーテル化物が挙げられる。
これらモノ又はポリグリシジル化合物と（メタ）アクリル酸の反応物であるエポキシ（メタ）アクリレートは、そのエポキシ基に当量の（メタ）アクリル酸をエステル化反応させる事によって得ることができる。この合成反応は一般的に知られている方法により行うことが出来る。例えば、レゾルシンジグリシジルエーテルにその当量の（メタ）アクリル酸を、触媒（例えば、ベンジルジメチルアミン、トリエチルアミン、ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、トリフェニルホスフィン、トリフェニルスチビン等）及び重合防止剤（例えば、メトキノン、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、フェノチアジン、ジブチルヒドロキシトルエン等）と共に添加して、例えば８０～１１０℃でエステル化反応を行う。こうして得られた（メタ）アクリル化レゾルシンジグリシジルエーテルは、ラジカル重合性の（メタ）アクリロイル基を有する樹脂である。
成分（Ｄ）としては、熱硬化性樹脂又は光硬化性樹脂が好ましく、光硬化性樹脂である場合が更に好ましい。
また、分子内に３以上の（メタ）アクリロイル基とを併せ持つバインダー樹脂である場合が特に好ましい。
分子内に３以上の（メタ）クリロイル基と極性官能基を併せ持つバインダー樹脂としては、例えば、ペンタエリスリトルトリアクリレート（ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ－３０ 日本化薬製）、ジペンタエリスリトルペンタアクリレートとジペンタエリスリトルヘキサアクリレートの混合物（ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ 日本化薬製）、２－ヒドロキシ－３－アクリロイロキシプロピルメタクリレート（７０１Ａ 新中村化学製）、エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート（Ａ－９３００ 新中村化学製）、ε－カプロラクトン変性トリス－（２－アクリロキシエチル）イソシアヌレート（Ａ－９３００－１ＣＬ 新中村化学）等の（メタ）アクリレートモノマー化合物、ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート（Ｒ－１１５Ｆ、Ｒ－１３０、Ｒ－３８１等 日本化薬製）、ビスフェノールＦ型エポキシアクリレート（ＺＦＡ－２６６Ｈ 日本化薬製）、酸変性エポキシアクリレート（ＺＡＲシリーズ、ＺＣＲシリーズ 日本化薬製）等のエポキシアクリレート樹脂、ポリエステル系ウレタンアクリレート（ＵＸ３２０４、ＵＸ－４１０１、ＵＸＴ－６１００ 日本化薬製）、混合系ウレタンアクリレート（ＵＸ－６１０１、ＵＸ－８１０１ 日本化薬製）、ポリエーテル系ウレタンアクリレート（ＵＸ－９３７、ＵＸＦ－４００１－Ｍ３５ 日本化薬製）、エステル系ウレタンアクリレート（ＤＰＨＡ－４０Ｈ、ＵＸ－５０００、ＵＸ－５１０２Ｄ－Ｍ２０、ＵＸ－５１０３Ｄ、ＵＸ－５００５ 日本化薬製）等のウレタンアクリレート樹脂を挙げることができる。
分子内に３以上の（メタ）アクリロイル基を持つバインダー樹脂としては、より好ましくは３以上１０以下の（メタ）クリロイル基を持つ場合であり、更に好ましくは４以上８以下の（メタ）アクリロイル基をもつ場合である。。
また、分子内に３以上の（メタ）アクリロイル基とを併せ持つバインダー樹脂である場合が特に好ましい。
分子内に３以上の（メタ）クリロイル基と極性官能基を併せ持つバインダー樹脂としては、例えば、ペンタエリスリトルトリアクリレート（ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ－３０ 日本化薬製）、ジペンタエリスリトルペンタアクリレートとジペンタエリスリトルヘキサアクリレートの混合物（ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ 日本化薬製）、２－ヒドロキシ－３－アクリロイロキシプロピルメタクリレート（７０１Ａ 新中村化学製）、エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート（Ａ－９３００ 新中村化学製）、ε－カプロラクトン変性トリス－（２－アクリロキシエチル）イソシアヌレート（Ａ－９３００－１ＣＬ 新中村化学）等の（メタ）アクリレートモノマー化合物、ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート（Ｒ－１１５Ｆ、Ｒ－１３０、Ｒ－３８１等 日本化薬製）、ビスフェノールＦ型エポキシアクリレート（ＺＦＡ－２６６Ｈ 日本化薬製）、酸変性エポキシアクリレート（ＺＡＲシリーズ、ＺＣＲシリーズ 日本化薬製）等のエポキシアクリレート樹脂、ポリエステル系ウレタンアクリレート（ＵＸ３２０４、ＵＸ－４１０１、ＵＸＴ－６１００ 日本化薬製）、混合系ウレタンアクリレート（ＵＸ－６１０１、ＵＸ－８１０１ 日本化薬製）、ポリエーテル系ウレタンアクリレート（ＵＸ－９３７、ＵＸＦ－４００１－Ｍ３５ 日本化薬製）、エステル系ウレタンアクリレート（ＤＰＨＡ－４０Ｈ、ＵＸ－５０００、ＵＸ－５１０２Ｄ－Ｍ２０、ＵＸ－５１０３Ｄ、ＵＸ－５００５ 日本化薬製）等のウレタンアクリレート樹脂を挙げることができる。
分子内に３以上の（メタ）アクリロイル基を持つバインダー樹脂としては、より好ましくは３以上１０以下の（メタ）クリロイル基を持つ場合であり、更に好ましくは４以上８以下の（メタ）アクリロイル基をもつ場合である。。
［（Ｅ）熱硬化剤及び／又はラジカル重合開始剤］
本発明の樹脂組成物は、（Ｅ）熱硬化剤及び／又はラジカル重合開始剤を含有しても良い。
なお、成分（Ｄ）バインダー樹脂として、熱硬化性樹脂が用いられる場合には、成分（Ｅ）熱硬化剤が用いられ、光硬化性樹脂が用いられる場合には、成分（Ｅ）光開始剤が用いられる。ただし、光硬化性樹脂は不飽和二重結合のラジカル重合反応によって硬化する為、熱ラジカル重合開始剤を用いても同様である。
本発明の樹脂組成物は、（Ｅ）熱硬化剤及び／又はラジカル重合開始剤を含有しても良い。
なお、成分（Ｄ）バインダー樹脂として、熱硬化性樹脂が用いられる場合には、成分（Ｅ）熱硬化剤が用いられ、光硬化性樹脂が用いられる場合には、成分（Ｅ）光開始剤が用いられる。ただし、光硬化性樹脂は不飽和二重結合のラジカル重合反応によって硬化する為、熱ラジカル重合開始剤を用いても同様である。
成分（Ｅ）として用いられうる熱硬化剤としては、非共有電子対や分子内のアニオンによって、求核的に反応するものであって、例えばアミン系硬化剤（以下アミン類とも言う）、ヒドラジド系硬化剤（以下ヒドラジド類とも言う）、イミダゾール系硬化剤（以下イミダゾール類とも言う）、ポリアミド樹脂、ジシアンジアミド、イソシアネート、チオール系硬化剤（チオール類）、フェノール系硬化剤（フェノール類）等を挙げることができる。ただしこれらに限定されるものではない。
アミン類としては、脂肪族鎖状アミン、脂肪族環状アミン、芳香族アミン、変性アミン（アミンアダクト、ケチミン等）等を挙げることができる。また１級アミン、２級アミン、３級アミン、４級アミンのいずれであっても良いが、反応性の見地からは１級又は２級アミンが好ましい。
アミン類として具体的には、例えばジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルフォン、４，４’－ジアミノ－３，３’－ジメチルジフェニルメタン、ジアミノジフェニルエーテル、ジエチルメチルベンゼンジアミン、２－メチル－４，６－ビス（メチルチオ）－１，３－ベンゼンジアミン、ビスアニリン、ジエチルトルエンジアミンを、ジエチルチオトルエンジアミン、Ｎ，Ｎ’－ビス（ｓｅｃ－ブチルアミノ）ジフェニルメタン等の芳香族アミン、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、エチレンジアミン、テトラメチルエチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ノルボルナンジアミン、ポリエーテルアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン等の脂肪族アミン、変性アミン等が挙げられる。特に好ましくは、ジエチルメチルベンゼンジアミン、４，４’－ジアミノ－３，３’－ジメチルジフェニルメタン、ジエチルトルエンジアミンを挙げることができる。
ヒドラジド類としては、有機酸ヒドラジド化合物が特に好適に用いられる。例えば、芳香族ヒドラジドであるサリチル酸ヒドラジド、テレフタル酸ジヒドラジド、イソフタル酸ジヒドラジド、２，６－ナフトエ酸ジヒドラジド、２，６－ピリジンジヒドラジド、１，２，４－ベンゼントリヒドラジド、１，４，５，８－ナフトエ酸テトラヒドラジド、ピロメリット酸テトラヒドラジド等をあげることが出来る。また、脂肪族ヒドラジド化合物であれば、例えば、ホルムヒドラジド、アセトヒドラジド、プロピオン酸ヒドラジド、シュウ酸ジヒドラジド、マロン酸ジヒドラジド、コハク酸ジヒドラジド、グルタル酸ジヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジド、ピメリン酸ジヒドラジド、セバシン酸ジヒドラジド、１，４－シクロヘキサンジヒドラジド、酒石酸ジヒドラジド、リンゴ酸ジヒドラジド、イミノジ酢酸ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’－ヘキサメチレンビスセミカルバジド、クエン酸トリヒドラジド、ニトリロ酢酸トリヒドラジド、シクロヘキサントリカルボン酸トリヒドラジド、１，３－ビス（ヒドラジノカルボノエチル）－５－イソプロピルヒダントイン等のヒダントイン骨格、好ましくはバリンヒダントイン骨格（ヒダントイン環の炭素原子がイソプロピル基で置換された骨格）を有するジヒドラジド化合物、トリス（１－ヒドラジノカルボニルメチル）イソシアヌレート、トリス（２－ヒドラジノカルボニルエチル）イソシアヌレート、トリス（１－ヒドラジノカルボニルエチル）イソシアヌレート、トリス（３－ヒドラジノカルボニルプロピル）イソシアヌレート、ビス（２－ヒドラジノカルボニルエチル）イソシアヌレート等をあげることができる。硬化反応性と潜在性のバランスから好ましくは、イソフタル酸ジヒドラジド、マロン酸ジヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジド、トリス（ヒドラジノカルボニルメチル）イソシアヌレート、トリス（１－ヒドラジノカルボニルエチル）イソシアヌレート、トリス（２－ヒドラジノカルボニルエチル）イソシアヌレート、トリス（３－ヒドラジノカルボニルプロピル）イソシアヌレートであり、特に好ましくはトリス（２－ヒドラジノカルボニルエチル）イソシアヌレートである。
イミダゾール類としては、例えば２－メチルイミダゾール、２－フェニルイミダゾール、２－ウンデシルイミダゾール、２－ヘプタデシルイミダゾール、２－フェニル－４－メチルイミダゾール、１－ベンジル－２－フェニルイミダゾール、１－ベンジル－２－メチルイミダゾール、１－シアノエチル－２－メチルイミダゾール、１－シアノエチル－２－フェニルイミダゾール、１－シアノエチル－２－ウンデシルイミダゾール、２，４－ジアミノ－６（２’－メチルイミダゾール（１’））エチル－ｓ－トリアジン、２，４－ジアミノ－６（２’－ウンデシルイミダゾール（１’））エチル－ｓ－トリアジン、２，４－ジアミノ－６（２’－エチル，４－メチルイミダゾール（１’））エチル－ｓ－トリアジン、２，４－ジアミノ－６（２’－メチルイミダゾール（１’））エチル－ｓ－トリアジン・イソシアヌル酸付加物、２－メチルイミダゾールイソシアヌル酸の２：３付加物、２－フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、２－フェニル－３，５－ジヒドロキシメチルイミダゾール、２－フェニル－４－ヒドロキシメチル－５－メチルイミダゾール、１－シアノエチル－２－フェニル－３，５－ジシアノエトキシメチルイミダゾールの各種イミダゾール類、及び、それらイミダゾール類とフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ナフタレンジカルボン酸、マレイン酸、蓚酸等の多価カルボン酸との塩類が挙げられる。
チオール類としては、カレンズＭＴ ＰＥ１、ＢＤ１、ＮＲ１、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトブチレート）、トリメチロールエタントリス（３－メルカプトブチレート）（いずれも昭和電工（株）製）等を挙げることができる。なお、チオール系硬化剤とは、分子内に少なくとも１つのチオール基（ＳＨ）を有する硬化剤である。
フェノール類としては、フェノール（各種置換基を有しても良い）にホルマリンを酸触媒下で縮合反応させて得られるフェノールノボラック類やビスフェノールＡ、ビスフェノールＳ等を例示することができる。
成分（Ｅ）として熱硬化剤が用いられる場合、その含有量は樹脂組成物の総量１００質量部中０．０１質量部以上２０質量部以下が好ましい。
この含有量の好ましい上限としては、１５質量部、更に好ましくは１０質量部、特に好ましくは８質量部、最も好ましくは５質量部である。
また好ましい下限としては、０．０１質量部、更に好ましくは０．１質量部、特に好ましくは１質量部、最も好ましくは１．５質量部である。
成分（Ｅ）の樹脂組成物中の含有量として最も好ましい範囲は１．５質量部以上５質量部以下である。
アミン類としては、脂肪族鎖状アミン、脂肪族環状アミン、芳香族アミン、変性アミン（アミンアダクト、ケチミン等）等を挙げることができる。また１級アミン、２級アミン、３級アミン、４級アミンのいずれであっても良いが、反応性の見地からは１級又は２級アミンが好ましい。
アミン類として具体的には、例えばジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルフォン、４，４’－ジアミノ－３，３’－ジメチルジフェニルメタン、ジアミノジフェニルエーテル、ジエチルメチルベンゼンジアミン、２－メチル－４，６－ビス（メチルチオ）－１，３－ベンゼンジアミン、ビスアニリン、ジエチルトルエンジアミンを、ジエチルチオトルエンジアミン、Ｎ，Ｎ’－ビス（ｓｅｃ－ブチルアミノ）ジフェニルメタン等の芳香族アミン、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、エチレンジアミン、テトラメチルエチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ノルボルナンジアミン、ポリエーテルアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン等の脂肪族アミン、変性アミン等が挙げられる。特に好ましくは、ジエチルメチルベンゼンジアミン、４，４’－ジアミノ－３，３’－ジメチルジフェニルメタン、ジエチルトルエンジアミンを挙げることができる。
ヒドラジド類としては、有機酸ヒドラジド化合物が特に好適に用いられる。例えば、芳香族ヒドラジドであるサリチル酸ヒドラジド、テレフタル酸ジヒドラジド、イソフタル酸ジヒドラジド、２，６－ナフトエ酸ジヒドラジド、２，６－ピリジンジヒドラジド、１，２，４－ベンゼントリヒドラジド、１，４，５，８－ナフトエ酸テトラヒドラジド、ピロメリット酸テトラヒドラジド等をあげることが出来る。また、脂肪族ヒドラジド化合物であれば、例えば、ホルムヒドラジド、アセトヒドラジド、プロピオン酸ヒドラジド、シュウ酸ジヒドラジド、マロン酸ジヒドラジド、コハク酸ジヒドラジド、グルタル酸ジヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジド、ピメリン酸ジヒドラジド、セバシン酸ジヒドラジド、１，４－シクロヘキサンジヒドラジド、酒石酸ジヒドラジド、リンゴ酸ジヒドラジド、イミノジ酢酸ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’－ヘキサメチレンビスセミカルバジド、クエン酸トリヒドラジド、ニトリロ酢酸トリヒドラジド、シクロヘキサントリカルボン酸トリヒドラジド、１，３－ビス（ヒドラジノカルボノエチル）－５－イソプロピルヒダントイン等のヒダントイン骨格、好ましくはバリンヒダントイン骨格（ヒダントイン環の炭素原子がイソプロピル基で置換された骨格）を有するジヒドラジド化合物、トリス（１－ヒドラジノカルボニルメチル）イソシアヌレート、トリス（２－ヒドラジノカルボニルエチル）イソシアヌレート、トリス（１－ヒドラジノカルボニルエチル）イソシアヌレート、トリス（３－ヒドラジノカルボニルプロピル）イソシアヌレート、ビス（２－ヒドラジノカルボニルエチル）イソシアヌレート等をあげることができる。硬化反応性と潜在性のバランスから好ましくは、イソフタル酸ジヒドラジド、マロン酸ジヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジド、トリス（ヒドラジノカルボニルメチル）イソシアヌレート、トリス（１－ヒドラジノカルボニルエチル）イソシアヌレート、トリス（２－ヒドラジノカルボニルエチル）イソシアヌレート、トリス（３－ヒドラジノカルボニルプロピル）イソシアヌレートであり、特に好ましくはトリス（２－ヒドラジノカルボニルエチル）イソシアヌレートである。
イミダゾール類としては、例えば２－メチルイミダゾール、２－フェニルイミダゾール、２－ウンデシルイミダゾール、２－ヘプタデシルイミダゾール、２－フェニル－４－メチルイミダゾール、１－ベンジル－２－フェニルイミダゾール、１－ベンジル－２－メチルイミダゾール、１－シアノエチル－２－メチルイミダゾール、１－シアノエチル－２－フェニルイミダゾール、１－シアノエチル－２－ウンデシルイミダゾール、２，４－ジアミノ－６（２’－メチルイミダゾール（１’））エチル－ｓ－トリアジン、２，４－ジアミノ－６（２’－ウンデシルイミダゾール（１’））エチル－ｓ－トリアジン、２，４－ジアミノ－６（２’－エチル，４－メチルイミダゾール（１’））エチル－ｓ－トリアジン、２，４－ジアミノ－６（２’－メチルイミダゾール（１’））エチル－ｓ－トリアジン・イソシアヌル酸付加物、２－メチルイミダゾールイソシアヌル酸の２：３付加物、２－フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、２－フェニル－３，５－ジヒドロキシメチルイミダゾール、２－フェニル－４－ヒドロキシメチル－５－メチルイミダゾール、１－シアノエチル－２－フェニル－３，５－ジシアノエトキシメチルイミダゾールの各種イミダゾール類、及び、それらイミダゾール類とフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ナフタレンジカルボン酸、マレイン酸、蓚酸等の多価カルボン酸との塩類が挙げられる。
チオール類としては、カレンズＭＴ ＰＥ１、ＢＤ１、ＮＲ１、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトブチレート）、トリメチロールエタントリス（３－メルカプトブチレート）（いずれも昭和電工（株）製）等を挙げることができる。なお、チオール系硬化剤とは、分子内に少なくとも１つのチオール基（ＳＨ）を有する硬化剤である。
フェノール類としては、フェノール（各種置換基を有しても良い）にホルマリンを酸触媒下で縮合反応させて得られるフェノールノボラック類やビスフェノールＡ、ビスフェノールＳ等を例示することができる。
成分（Ｅ）として熱硬化剤が用いられる場合、その含有量は樹脂組成物の総量１００質量部中０．０１質量部以上２０質量部以下が好ましい。
この含有量の好ましい上限としては、１５質量部、更に好ましくは１０質量部、特に好ましくは８質量部、最も好ましくは５質量部である。
また好ましい下限としては、０．０１質量部、更に好ましくは０．１質量部、特に好ましくは１質量部、最も好ましくは１．５質量部である。
成分（Ｅ）の樹脂組成物中の含有量として最も好ましい範囲は１．５質量部以上５質量部以下である。
成分（Ｅ）として熱硬化剤が用いられる場合には、熱硬化促進剤を併用しても良い。硬化促進剤としては、硬化促進剤としては、フェノール類、有機酸、ホスフィン類、イミダゾール等を挙げることができる。
有機酸としては、有機カルボン酸や有機リン酸等が挙げられるが、有機カルボン酸である場合が好ましい。具体的には、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、フランジカルボン酸等の芳香族カルボン酸、コハク酸、アジピン酸、ドデカン二酸、セバシン酸、チオジプロピオン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、トリス（２－カルボキシメチル）イソシアヌレート、トリス（２－カルボキシエチル）イソシアヌレート、トリス（２－カルボキシプロピル）イソシアヌレート、ビス（２－カルボキシエチル）イソシアヌレート等を挙げることができる。
ホスフィン類としてはトリフェニルホスフィン、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート等を挙げることができる。
イミダゾール類としては、２－メチルイミダゾール、２－フェニルイミダゾール、２－ウンデシルイミダゾール、２－ヘプタデシルイミダゾール、２－フェニル－４－メチルイミダゾール、１－ベンジル－２－フェニルイミダゾール、１－ベンジル－２－メチルイミダゾール、１－シアノエチル－２－メチルイミダゾール、１－シアノエチル－２－フェニルイミダゾール、１－シアノエチル－２－ウンデシルイミダゾール、２,４－ジアミノ－６（２’－メチルイミダゾール（１’））エチル－ｓ－トリアジン、２,４－ジアミノ－６（２’－ウンデシルイミダゾール（１’））エチル－ｓ－トリアジン、２,４－ジアミノ－６（２’－エチル－４－メチルイミダゾール（１’））エチル－ｓ－トリアジン、２,４－ジアミノ－６（２’－メチルイミダゾール（１’））エチル－ｓ－トリアジン・イソシアヌル酸付加物、２－メチルイミダゾールイソシアヌル酸の２：３付加物、２－フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、２－フェニル－３,５－ジヒドロキシメチルイミダゾール、２－フェニル－４－ヒドロキシメチル－５－メチルイミダゾール、１－シアノエチル－２－フェニル－３,５－ジシアノエトキシメチルイミダゾール等が挙げられる。
硬化促進剤を使用する場合に、その含有量は、熱線吸収膜の総量１００質量部中、通常０．１～１０質量部、好ましくは１～５質量部である。
有機酸としては、有機カルボン酸や有機リン酸等が挙げられるが、有機カルボン酸である場合が好ましい。具体的には、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、フランジカルボン酸等の芳香族カルボン酸、コハク酸、アジピン酸、ドデカン二酸、セバシン酸、チオジプロピオン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、トリス（２－カルボキシメチル）イソシアヌレート、トリス（２－カルボキシエチル）イソシアヌレート、トリス（２－カルボキシプロピル）イソシアヌレート、ビス（２－カルボキシエチル）イソシアヌレート等を挙げることができる。
ホスフィン類としてはトリフェニルホスフィン、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート等を挙げることができる。
イミダゾール類としては、２－メチルイミダゾール、２－フェニルイミダゾール、２－ウンデシルイミダゾール、２－ヘプタデシルイミダゾール、２－フェニル－４－メチルイミダゾール、１－ベンジル－２－フェニルイミダゾール、１－ベンジル－２－メチルイミダゾール、１－シアノエチル－２－メチルイミダゾール、１－シアノエチル－２－フェニルイミダゾール、１－シアノエチル－２－ウンデシルイミダゾール、２,４－ジアミノ－６（２’－メチルイミダゾール（１’））エチル－ｓ－トリアジン、２,４－ジアミノ－６（２’－ウンデシルイミダゾール（１’））エチル－ｓ－トリアジン、２,４－ジアミノ－６（２’－エチル－４－メチルイミダゾール（１’））エチル－ｓ－トリアジン、２,４－ジアミノ－６（２’－メチルイミダゾール（１’））エチル－ｓ－トリアジン・イソシアヌル酸付加物、２－メチルイミダゾールイソシアヌル酸の２：３付加物、２－フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、２－フェニル－３,５－ジヒドロキシメチルイミダゾール、２－フェニル－４－ヒドロキシメチル－５－メチルイミダゾール、１－シアノエチル－２－フェニル－３,５－ジシアノエトキシメチルイミダゾール等が挙げられる。
硬化促進剤を使用する場合に、その含有量は、熱線吸収膜の総量１００質量部中、通常０．１～１０質量部、好ましくは１～５質量部である。
成分（Ｅ）として用いられうるラジカル重合開始剤は、光ラジカル重合開始剤及び／又は熱ラジカル重合開始剤を意味する。これらは、本発明の熱線吸収膜である熱線遮蔽構造体の製造方法によって使い分けることができる。
（Ｅ）として用いられうる光ラジカル重合開始剤としては、紫外線や可視光の照射によって、ラジカルや酸を発生し、連鎖重合反応を開始させる化合物であれば特に限定されないが、例えば、ベンジルジメチルケタール、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ジエチルチオキサントン、ベンゾフェノン、２－エチルアンスラキノン、２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオフェノン、２－メチル－〔４－（メチルチオ）フェニル〕－２－モルフォリノ－１－プロパン、２,４,６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスヒンオキサイド、カンファーキノン、９－フルオレノン、ジフェニルジスルヒド等を挙げることができる。具体的には、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ６５１、１８４、２９５９、１２７、９０７、３６９、３７９ＥＧ、８１９、７８４、７５４、５００、ＯＸＥ０１、ＯＸＥ０２、ＤＡＲＯＣＵＲＥＲＴＭ１１７３、ＬＵＣＩＲＩＮＲＴＭ ＴＰＯ（いずれもＢＡＳＦ社製）、セイクオールＲＴＭＺ、ＢＺ、ＢＥＥ、ＢＩＰ、ＢＢＩ（いずれも精工化学株式会社製）等を挙げることができる。
また、成分（Ｅ）は３６５ｎｍにおけるモル吸光係数（ε）が５０以上１００００（ｍＬ／ｇ・ｃｍ）以下である場合が好ましく、１００以上８０００（ｍＬ／ｇ・ｃｍ）以下である場合がさらに好ましく、１０００以上７５００（ｍＬ／ｇ・ｃｍ）以下である場合が特にに好ましい。なお、モル吸光係数は、メタノール又はアセトニトリルを溶剤として測定したものである。
３６５ｎｍにおけるモル吸光係数（ε）が１００以上１００００（ｍＬ／ｇ・ｃｍ）以下である光重合開始剤とは、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ６５１（メタノール中ε＝３６０ｍＬ／ｇ・ｃｍ）、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ９０７（メタノール中ε＝４７００ｍＬ／ｇ・ｃｍ）、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ３６９（メタノール中ε＝７９００ｍＬ／ｇ・ｃｍ）、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ３７９（メタノール中ε＝７９００ｍＬ／ｇ・ｃｍ）、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ８１９（メタノール中ε＝２３００ｍＬ／ｇ・ｃｍ）、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ＴＰＯ（アセトニトリル中ε＝４７００ｍＬ／ｇ・ｃｍ）、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ＯＸＥ－０１（アセトニトリル中ε＝７０００ｍＬ／ｇ・ｃｍ）、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ＯＸＥ－０２（アセトニトリル中ε＝７７００ｍＬ／ｇ・ｃｍ）等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
成分（Ｅ）として光ラジカル重合開始剤が用いられる場合、その含有量は樹脂組成物の総量１００質量部中０．０１質量部以上１０質量部以下が好ましい。
この含有量の好ましい上限としては、７質量部、更に好ましくは５質量部、特に好ましくは４質量部、最も好ましくは３質量部である。
また好ましい下限としては、０．０１質量部、更に好ましくは０．１質量部、特に好ましくは１質量部、最も好ましくは１．５質量部である。
成分（Ｅ）の熱線吸収膜中の含有量として最も好ましい範囲は１．５質量部以上３質量部以下である。
（Ｅ）として用いられうる光ラジカル重合開始剤としては、紫外線や可視光の照射によって、ラジカルや酸を発生し、連鎖重合反応を開始させる化合物であれば特に限定されないが、例えば、ベンジルジメチルケタール、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ジエチルチオキサントン、ベンゾフェノン、２－エチルアンスラキノン、２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオフェノン、２－メチル－〔４－（メチルチオ）フェニル〕－２－モルフォリノ－１－プロパン、２,４,６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスヒンオキサイド、カンファーキノン、９－フルオレノン、ジフェニルジスルヒド等を挙げることができる。具体的には、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ６５１、１８４、２９５９、１２７、９０７、３６９、３７９ＥＧ、８１９、７８４、７５４、５００、ＯＸＥ０１、ＯＸＥ０２、ＤＡＲＯＣＵＲＥＲＴＭ１１７３、ＬＵＣＩＲＩＮＲＴＭ ＴＰＯ（いずれもＢＡＳＦ社製）、セイクオールＲＴＭＺ、ＢＺ、ＢＥＥ、ＢＩＰ、ＢＢＩ（いずれも精工化学株式会社製）等を挙げることができる。
また、成分（Ｅ）は３６５ｎｍにおけるモル吸光係数（ε）が５０以上１００００（ｍＬ／ｇ・ｃｍ）以下である場合が好ましく、１００以上８０００（ｍＬ／ｇ・ｃｍ）以下である場合がさらに好ましく、１０００以上７５００（ｍＬ／ｇ・ｃｍ）以下である場合が特にに好ましい。なお、モル吸光係数は、メタノール又はアセトニトリルを溶剤として測定したものである。
３６５ｎｍにおけるモル吸光係数（ε）が１００以上１００００（ｍＬ／ｇ・ｃｍ）以下である光重合開始剤とは、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ６５１（メタノール中ε＝３６０ｍＬ／ｇ・ｃｍ）、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ９０７（メタノール中ε＝４７００ｍＬ／ｇ・ｃｍ）、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ３６９（メタノール中ε＝７９００ｍＬ／ｇ・ｃｍ）、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ３７９（メタノール中ε＝７９００ｍＬ／ｇ・ｃｍ）、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ８１９（メタノール中ε＝２３００ｍＬ／ｇ・ｃｍ）、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ＴＰＯ（アセトニトリル中ε＝４７００ｍＬ／ｇ・ｃｍ）、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ＯＸＥ－０１（アセトニトリル中ε＝７０００ｍＬ／ｇ・ｃｍ）、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ＯＸＥ－０２（アセトニトリル中ε＝７７００ｍＬ／ｇ・ｃｍ）等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
成分（Ｅ）として光ラジカル重合開始剤が用いられる場合、その含有量は樹脂組成物の総量１００質量部中０．０１質量部以上１０質量部以下が好ましい。
この含有量の好ましい上限としては、７質量部、更に好ましくは５質量部、特に好ましくは４質量部、最も好ましくは３質量部である。
また好ましい下限としては、０．０１質量部、更に好ましくは０．１質量部、特に好ましくは１質量部、最も好ましくは１．５質量部である。
成分（Ｅ）の熱線吸収膜中の含有量として最も好ましい範囲は１．５質量部以上３質量部以下である。
（Ｅ）として用いられうる熱ラジカル重合開始剤としては、当該熱ラジカル重合開始剤は、加熱によりラジカルを生じ、連鎖重合反応を開始させる化合物であれば特に限定されないが、有機過酸化物、アゾ化合物、ベンゾイン化合物、ベンゾインエーテル化合物、アセトフェノン化合物、ベンゾピナコール等が挙げられ、ベンゾピナコールが好適に用いられる。例えば、有機過酸化物としては、カヤメック（登録商標）Ａ、Ｍ、Ｒ、Ｌ、ＬＨ、ＳＰ-３０Ｃ、パーカドックスＣＨ－５０Ｌ、ＢＣ－ＦＦ、カドックスＢ－４０ＥＳ、パーカドックス１４、トリゴノックスＲＴＭ２２－７０Ｅ、２３－Ｃ７０、１２１、１２１－５０Ｅ、１２１－ＬＳ５０Ｅ、２１－ＬＳ５０Ｅ、４２、４２ＬＳ、カヤエステルＲＴＭＰ－７０、ＴＭＰＯ－７０、ＣＮＤ－Ｃ７０、ＯＯ－５０Ｅ、ＡＮ、カヤブチルＲＴＭＢ、パーカドックス１６、カヤカルボン（登録商標）ＢＩＣ－７５、ＡＩＣ－７５（化薬アクゾ株式会社製）、パーメック（登録商標）Ｎ、Ｈ、Ｓ、Ｆ、Ｄ、Ｇ、パーヘキサ（登録商標）Ｈ、ＨＣ、ＴＭＨ、Ｃ、Ｖ、２２、ＭＣ、パーキュアー（登録商標）ＡＨ、ＡＬ、ＨＢ、パーブチル（登録商標）Ｈ、Ｃ、ＮＤ、Ｌ、パークミル（登録商標）Ｈ、Ｄ、パーロイル（登録商標）ＩＢ、ＩＰＰ、パーオクタ（登録商標）ＮＤ（日油株式会社製）などが市販品として入手可能である。また、アゾ化合物としては、ＶＡ－０４４、Ｖ－０７０、ＶＰＥ－０２０１、ＶＳＰ－１００１（和光純薬工業株式会社製）等が市販品として入手可能である。
成分（Ｅ）として熱ラジカル重合開始剤が用いられる場合、その含有量は樹脂組成物の総量１００質量部中０．０１質量部以上１０質量部以下が好ましい。
この含有量の好ましい上限としては、７質量部、更に好ましくは５質量部、特に好ましくは４質量部、最も好ましくは３質量部である。
また好ましい下限としては、０．０１質量部、更に好ましくは０．１質量部、特に好ましくは１質量部、最も好ましくは１．５質量部である。
成分（Ｅ）の樹脂組成物中の含有量として最も好ましい範囲は１．５質量部以上３質量部以下である。
成分（Ｅ）として熱ラジカル重合開始剤が用いられる場合、その含有量は樹脂組成物の総量１００質量部中０．０１質量部以上１０質量部以下が好ましい。
この含有量の好ましい上限としては、７質量部、更に好ましくは５質量部、特に好ましくは４質量部、最も好ましくは３質量部である。
また好ましい下限としては、０．０１質量部、更に好ましくは０．１質量部、特に好ましくは１質量部、最も好ましくは１．５質量部である。
成分（Ｅ）の樹脂組成物中の含有量として最も好ましい範囲は１．５質量部以上３質量部以下である。
［その他成分］
本発明の樹脂組成物は、必要に応じ、例えば色素、レベリング剤、消泡剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、酸化防止剤、重合禁止剤架橋剤、可塑剤、無機微粒子、フィラー等を添加し、それぞれ目的とする機能性を付与することも可能である。
［色素］
上記色素は、無機系、有機系のいずれでも良く特に限定されないが、可視光透過率を損なわずに熱線遮蔽性能を向上するためには波長５００ｎｍ～６００ｎｍに極大吸収を有さない色素が好ましい。例えば以下記述のものを用いることができる。
無機系顔料として、例えばコバルト系色素、鉄系色素、クロム系色素、チタン系色素、バナジウム系色素、ジルコニウム系色素、モリブデン系色素、ルテニウム系色素、マンガン系色素、銅系色素、ランタン系色素等を用いることができる。この内好ましくはコバルト系色素、鉄系色素、クロム系色素、チタン系色素、バナジウム系色素、ジルコニウム系色素、モリブデン系色素、鉛系色素、マンガン系色素、銅系色素、ランタン系色素であり、更に好ましくはコバルト系色素、鉄系色素、クロム系色素、バナジウム系色素、ジルコニウム系色素、モリブデン系色素、マンガン系色素、銅系色素、ランタン系色素であり、特に好ましくはコバルト系色素、鉄系色素、クロム系色素、マンガン系色素、銅系色素、ランタン系色素である。
有機系顔料としては、例えばジイモニウム系色素、アンスラキノン系色素、アミニウム系色素、シアニン系色素、メロシアニン系色素、クロコニウム系色素、スクアリウム系色素、アズレニウム系色素、ポリメチン系色素、ナフトキノン系色素、ピリリウム系色素、ポルフィラジン系色素、ナフトラクタム系色素、アゾ系色素、縮合アゾ系色素、インジゴ系色素、ペリノン系色素等を用いることができる。このうち好ましくはポルフィラジン系色素であり、下記式（１）で表されるものが好ましい。
本発明の樹脂組成物は、必要に応じ、例えば色素、レベリング剤、消泡剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、酸化防止剤、重合禁止剤架橋剤、可塑剤、無機微粒子、フィラー等を添加し、それぞれ目的とする機能性を付与することも可能である。
［色素］
上記色素は、無機系、有機系のいずれでも良く特に限定されないが、可視光透過率を損なわずに熱線遮蔽性能を向上するためには波長５００ｎｍ～６００ｎｍに極大吸収を有さない色素が好ましい。例えば以下記述のものを用いることができる。
無機系顔料として、例えばコバルト系色素、鉄系色素、クロム系色素、チタン系色素、バナジウム系色素、ジルコニウム系色素、モリブデン系色素、ルテニウム系色素、マンガン系色素、銅系色素、ランタン系色素等を用いることができる。この内好ましくはコバルト系色素、鉄系色素、クロム系色素、チタン系色素、バナジウム系色素、ジルコニウム系色素、モリブデン系色素、鉛系色素、マンガン系色素、銅系色素、ランタン系色素であり、更に好ましくはコバルト系色素、鉄系色素、クロム系色素、バナジウム系色素、ジルコニウム系色素、モリブデン系色素、マンガン系色素、銅系色素、ランタン系色素であり、特に好ましくはコバルト系色素、鉄系色素、クロム系色素、マンガン系色素、銅系色素、ランタン系色素である。
有機系顔料としては、例えばジイモニウム系色素、アンスラキノン系色素、アミニウム系色素、シアニン系色素、メロシアニン系色素、クロコニウム系色素、スクアリウム系色素、アズレニウム系色素、ポリメチン系色素、ナフトキノン系色素、ピリリウム系色素、ポルフィラジン系色素、ナフトラクタム系色素、アゾ系色素、縮合アゾ系色素、インジゴ系色素、ペリノン系色素等を用いることができる。このうち好ましくはポルフィラジン系色素であり、下記式（１）で表されるものが好ましい。
環Ａ、Ｂ、Ｃ又はＤの破線部が、上記式（３）又は（４）であるとき、形成される芳香環はピリジン環であり、該破線部が上記式（５）～（７）のいずか一つであるとき形成される芳香環はピラジン環であり、該破線部が上記式（８）であるとき、形成される芳香環はナフタレン環である。Ｚにおける第１又は第２級アミンの窒素原子上の水素の少なくとも１つを除いた残基としてはモノ低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基等を挙げることが出来る。また、酸アミド基としては、置換基を有してもよいフタル酸アミド基等を挙げることが出来る。窒素原子を含む複素環の窒素原子上の水素の少なくとも１つを除いた残基としては、置換基を有してもよいピリジノ基、置換基を有してもよいピペラジノ基、又は置換基を有してもよいピペリジノ基等を挙げることができる。
前記式（１）中、環Ａ乃至Ｄにおける芳香環としては、例えば、ベンゼン環またはナフタレン環をはじめ、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環等の窒素原子を１個又は２個含む含窒素複素芳香環が挙げられる。これらの中ではベンゼン環、ピリジン環及びナフタレン環からなる群から選択される何れか一つ又は２つの組み合わせが好ましく、全てが同じ芳香環であってもよい。環Ａ乃至Ｄのうち、平均で、１～４個、好ましくは２～４個の、ピリジン環又はナフタレン環を含む方が好ましい。この場合、残りはベンゼン環である。より好ましくはベンゼン環が０～２個で、ピリジン環が０～３個、ナフタレン環が１～４個の範囲内で合計が４となる組合せである。更に好ましい組み合わせを挙げれば、ベンゼン環が０～２個で、ナフタレン環が２～４個の範囲で合計が４となる組み合わせ又はピリジン環が１～３個及びナフタレン環が１～３個の範囲で、両者の合計が４となる組み合わせである。なお、環Ａ乃至Ｄがピリジン環とナフタレン環の組合せからなる態様はより好ましい態様の一つである。また、ピリジン環の中では、前記式（４）の構造から形成されるピリジン環が好ましい。
前記式（１）において、Ｍは水素原子、金属原子、金属酸化物、金属水酸化物、又は金属ハロゲン化物を表す。Ｍが水素原子以外である場合、該Ｍは式（１）におけるポルフィリン環がいわゆる中心金属を有することを意味する。又、Ｍが水素原子である場合、該ポルフィリン環は中心金属を有しないことを意味する。
前記Ｍにおける金属原子の具体例としては例えば、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｈｇ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ又はＢｉ等が挙げられる。
金属酸化物としてはＶＯ又はＧｅＯ等が挙げられる。金属水酸化物としては例えば、Ｓｉ（ＯＨ）２、Ｃｒ（ＯＨ）２、Ｓｎ（ＯＨ）２又はＡｌＯＨ等が挙げられる。金属ハロゲン化物としては例えば、ＳｉＣｌ２、ＶＣｌ、ＶＣｌ２、ＶＯＣｌ、ＦｅＣｌ、ＧａＣｌ、ＺｒＣｌ又はＡｌＣｌ等が挙げられる。これらの中でも、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ａｌ又はＶ等の金属原子、ＶＯ等の金属酸化物、又は、ＡｌＯＨ等の金属水酸化物等が好ましい。より好ましくはＣｕ又はＶＯが挙げられ、ＶＯが最も好ましい。
前記式（１）中のＸは低級アルキル基、低級アルコキシ基、アミノ基、ニトロ基、ハロゲン基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホン酸基又はスルホンアミド基を示す。なお、本明細書における「低級」とは炭素数１～４を示す。
Ｙにおける二価の連結基としては例えば炭素数１～３のアルキレン基、－ＣＯ２－、－ＳＯ２－又は－ＳＯ２ＮＨ（ＣＨ２）ｃ－（ここで、ｃは０～４を表す）が挙げられる。好ましいＹは、炭素数１～３のアルキレン基又は－ＳＯ２ＮＨ－であり、炭素数１～３のアルキレン基がより好ましい。好ましいＺとしては例えば、カルボキシ基、スルホン酸基、置換基を有してもよいフタルイミド基、置換基を有してもよいピペラジノ基、置換基を有してもよいピペリジノ基等を挙げることができる。より好ましいＺはカルボキシ基、スルホン酸基、又は、置換基を有してもよいフタルイミド基であり、置換基を有してもよいフタルイミド基が更に好ましい。なお、Ｚが置換基を有してもよいフタルイミド基、置換基を有してもよいピペラジノ基又は置換基を有してもよいピペリジノ基であるときの置換基としては低級アルキル基、低級アルコキシ基、置換アミノ基、ニトロ基、ハロゲン原子又はスルホン酸基等を挙げることができる。Ｚが、上記の置換基を有してもよい基であるとき、無置換又はハロゲノ置換された基が好ましい。より好ましいＺは、無置換又はハロゲノ置換フタルイミド基であり、無置換フタルイミドが最も好ましい。
式（１）の近赤外線吸収色素において置換アミノ基は特に限定されないが、例えば低級アルキル基又は低級アルコキシ基が置換したアミノ基が含まれる。なおハロゲン原子としてはＣｌ、Ｂｒ又はＩが好ましい。
前記式（１）中のａ、ｂはそれぞれ０以上１２以下、かつ、ａとｂとの和は０以上１２以下である。好ましくはａ、ｂはそれぞれ独立に０以上４以下で、且つ、ａとｂとの和は０以上４以下である。本発明においては、式（１）においてａとｂが共に０であるポルフィラジン色素が好ましい。
前記Ｍにおける金属原子の具体例としては例えば、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｈｇ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ又はＢｉ等が挙げられる。
金属酸化物としてはＶＯ又はＧｅＯ等が挙げられる。金属水酸化物としては例えば、Ｓｉ（ＯＨ）２、Ｃｒ（ＯＨ）２、Ｓｎ（ＯＨ）２又はＡｌＯＨ等が挙げられる。金属ハロゲン化物としては例えば、ＳｉＣｌ２、ＶＣｌ、ＶＣｌ２、ＶＯＣｌ、ＦｅＣｌ、ＧａＣｌ、ＺｒＣｌ又はＡｌＣｌ等が挙げられる。これらの中でも、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ａｌ又はＶ等の金属原子、ＶＯ等の金属酸化物、又は、ＡｌＯＨ等の金属水酸化物等が好ましい。より好ましくはＣｕ又はＶＯが挙げられ、ＶＯが最も好ましい。
前記式（１）中のＸは低級アルキル基、低級アルコキシ基、アミノ基、ニトロ基、ハロゲン基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホン酸基又はスルホンアミド基を示す。なお、本明細書における「低級」とは炭素数１～４を示す。
Ｙにおける二価の連結基としては例えば炭素数１～３のアルキレン基、－ＣＯ２－、－ＳＯ２－又は－ＳＯ２ＮＨ（ＣＨ２）ｃ－（ここで、ｃは０～４を表す）が挙げられる。好ましいＹは、炭素数１～３のアルキレン基又は－ＳＯ２ＮＨ－であり、炭素数１～３のアルキレン基がより好ましい。好ましいＺとしては例えば、カルボキシ基、スルホン酸基、置換基を有してもよいフタルイミド基、置換基を有してもよいピペラジノ基、置換基を有してもよいピペリジノ基等を挙げることができる。より好ましいＺはカルボキシ基、スルホン酸基、又は、置換基を有してもよいフタルイミド基であり、置換基を有してもよいフタルイミド基が更に好ましい。なお、Ｚが置換基を有してもよいフタルイミド基、置換基を有してもよいピペラジノ基又は置換基を有してもよいピペリジノ基であるときの置換基としては低級アルキル基、低級アルコキシ基、置換アミノ基、ニトロ基、ハロゲン原子又はスルホン酸基等を挙げることができる。Ｚが、上記の置換基を有してもよい基であるとき、無置換又はハロゲノ置換された基が好ましい。より好ましいＺは、無置換又はハロゲノ置換フタルイミド基であり、無置換フタルイミドが最も好ましい。
式（１）の近赤外線吸収色素において置換アミノ基は特に限定されないが、例えば低級アルキル基又は低級アルコキシ基が置換したアミノ基が含まれる。なおハロゲン原子としてはＣｌ、Ｂｒ又はＩが好ましい。
前記式（１）中のａ、ｂはそれぞれ０以上１２以下、かつ、ａとｂとの和は０以上１２以下である。好ましくはａ、ｂはそれぞれ独立に０以上４以下で、且つ、ａとｂとの和は０以上４以下である。本発明においては、式（１）においてａとｂが共に０であるポルフィラジン色素が好ましい。
前記式（１）で表されるポルフィラジン色素の具体例を下記表２－１に化合物Ｎｏ．と共に示す。下記の例は、本発明の色素を具体的に説明するために代表的な色素を示すものであり、本発明は下記の例に限定されるものではない。また、環Ａ乃至Ｄの含窒素複素芳香環が前記式（３）、（４）及び（６）である場合、窒素原子の位置異性体が存在し、色素合成の際には異性体の混合物として得られる。これら異性体の単離は困難であり、また分析による異性体の特定も困難である。このため、通常は混合物のまま使用する。本発明の色素は、このような混合物も含むものである。本明細書においては、これらの異性体等を区別することなく、構造式で表示される場合は、便宜的に代表的な１つの構造式を記載する。表１において、Ａ乃至Ｄの欄の数字は、前記式（２）～（８）の式番号を示し、ａ及びｂの欄には、それぞれ、ａ及びｂの値を示し、Ｘ、Ｙ及びＺの欄には基名を示した。Ｘ、Ｙ及びＺの欄における横線－は置換基が無いことを示す。
前記式（１）で表されるポルフィラジン色素は一般に公知の化合物であるか、若しくは公知の化合物に準じて容易に合成することができる。前記式（１）で表されるポルフィラジン色素は、例えば、国際公開第２０１０／１４３６１９号パンフレット及び国際公開第２０１０／０１３４５５号パンフレットに開示された公知の方法に準じて合成することができる。なお、上記方法によって得られる前記式（１）で表される化合物は、環Ａ乃至Ｄにおける含窒素複素芳香環の置換位置、及び含窒素複素芳香環の窒素原子の置換位置に関する位置異性体の混合物となることも、上記公知文献に記載の通りである。また、前記表１におけるＮｏ．３やＮｏ．１８で示される化合物は、上記国際公開パンフレットの他、例えば、特許第２５０７７８６号パンフレット及び特許第３８１３７５０号パンフレットに開示された公知の方法に準じても合成することが出来る。
［レベリング剤］
レベリング剤としてはフッ素系化合物、シリコーン系化合物、アクリル系化合物等が挙げられる。紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、トリアジン系化合物等が挙げられる。
レベリング剤としてはフッ素系化合物、シリコーン系化合物、アクリル系化合物等が挙げられる。紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、トリアジン系化合物等が挙げられる。
［光安定剤］
光安定化剤としてはヒンダードアミン系化合物、ベンゾエート系化合物等が挙げられ、酸化防止剤としてはフェノール系化合物等が挙げられる。
光安定化剤としてはヒンダードアミン系化合物、ベンゾエート系化合物等が挙げられ、酸化防止剤としてはフェノール系化合物等が挙げられる。
［重合禁止剤］
重合禁止剤としては、メトキノン、メチルハイドロキノン、ハイドロキノン等が挙げられる。
重合禁止剤としては、メトキノン、メチルハイドロキノン、ハイドロキノン等が挙げられる。
［架橋剤］
ポリイソシアネート類、メラミン化合物等が挙げられる。
ポリイソシアネート類、メラミン化合物等が挙げられる。
［可塑剤］
可塑剤としてはジメチルフタレートやジエチルフタレートのようなフタル酸エステル、トリス（２－エチルヘキシル）トリメリテートのようなトリメリト酸エステル、ジメチルアジペートやジブチルアジペートのような脂肪族二塩基酸エステル、トリブチルホスフェートやトリフェニルホスフェートのような正燐酸エステル、グリセルトリアセテートや２－エチルヘキシルアセテートのような酢酸エステルが挙げられる。
可塑剤としてはジメチルフタレートやジエチルフタレートのようなフタル酸エステル、トリス（２－エチルヘキシル）トリメリテートのようなトリメリト酸エステル、ジメチルアジペートやジブチルアジペートのような脂肪族二塩基酸エステル、トリブチルホスフェートやトリフェニルホスフェートのような正燐酸エステル、グリセルトリアセテートや２－エチルヘキシルアセテートのような酢酸エステルが挙げられる。
本発明の金属酸化物の分散液中での含有量は、総量１００質量部中０．１質量部以上５０質量部以下が好ましい。
成分（Ａ）の好ましい上限は、５０質量部であり、更に好ましくは４０質量部であり、特に好ましくは３５質量部であり、最も好ましくは３０質量部である。また、成分（Ａ）の好ましい下限は、０．１質量部であり、更に好ましくは１質量部であり、特に好ましくは５質量部であり、最も好ましくは１０質量部である。
成分（Ａ）の好ましい上限は、５０質量部であり、更に好ましくは４０質量部であり、特に好ましくは３５質量部であり、最も好ましくは３０質量部である。また、成分（Ａ）の好ましい下限は、０．１質量部であり、更に好ましくは１質量部であり、特に好ましくは５質量部であり、最も好ましくは１０質量部である。
本発明の金属酸化物の熱線遮蔽性フィルムでの含有量は、総量１００質量部中５質量部以上６０質量部以下が好ましい。
成分（Ａ）の好ましい上限は、６０質量部であり、更に好ましくは５０質量部であり、特に好ましくは４０質量部であり、最も好ましくは３０質量部である。また、成分（Ａ）の好ましい下限は、５質量部であり、更に好ましくは１０質量部であり、特に好ましくは１５質量部であり、最も好ましくは２０質量部である。
成分（Ａ）の好ましい上限は、６０質量部であり、更に好ましくは５０質量部であり、特に好ましくは４０質量部であり、最も好ましくは３０質量部である。また、成分（Ａ）の好ましい下限は、５質量部であり、更に好ましくは１０質量部であり、特に好ましくは１５質量部であり、最も好ましくは２０質量部である。
＜金属酸化物の製造方法＞
本発明の金属酸化物は、例えば以下方法で製造することができる。 該微粒子の製法は、特に制限はなく、気相合成法、液層合成法等の公知の方法により得ることができる。例えば酸化インジウム微粒子については、特開平６－２２７８１５号公報に開示されている方法で良い。すなわち、特定の微粒子元素を含んだ塩の水溶液をアルカリにより中和し、得られた沈殿物をろ過、洗浄し、高温で加熱処理することにより微粒子を得る方法である。また、酸化錫微粒子、酸化亜鉛微粒子の製法については、それぞれ特開平２－１０５８７５号公報、特開平６－２３４５２２号公報に開示されている。また、上記性能を満たす微粒子であれば、市販されているものでも構わない。市販品としては、ＩＴＯまたは超微粒ＩＴＯ等として、三菱マテリアル株式会社、マクセル株式会社、株式会社巴製作所、大日本塗料株式会社、Sigma-Aldrich社、アズワン社、一丸貿易株式会社、ＣＩＫナノテック株式会社等から販売されており、上記のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系と比表面積Ｓを満たすものは何れも使用可能である。
本発明の金属酸化物は窒素、アルゴンまたは水素雰囲気下で加熱焼成することにより表面改質処理を行ってもよい。
本発明の金属酸化物は、例えば以下方法で製造することができる。 該微粒子の製法は、特に制限はなく、気相合成法、液層合成法等の公知の方法により得ることができる。例えば酸化インジウム微粒子については、特開平６－２２７８１５号公報に開示されている方法で良い。すなわち、特定の微粒子元素を含んだ塩の水溶液をアルカリにより中和し、得られた沈殿物をろ過、洗浄し、高温で加熱処理することにより微粒子を得る方法である。また、酸化錫微粒子、酸化亜鉛微粒子の製法については、それぞれ特開平２－１０５８７５号公報、特開平６－２３４５２２号公報に開示されている。また、上記性能を満たす微粒子であれば、市販されているものでも構わない。市販品としては、ＩＴＯまたは超微粒ＩＴＯ等として、三菱マテリアル株式会社、マクセル株式会社、株式会社巴製作所、大日本塗料株式会社、Sigma-Aldrich社、アズワン社、一丸貿易株式会社、ＣＩＫナノテック株式会社等から販売されており、上記のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系と比表面積Ｓを満たすものは何れも使用可能である。
本発明の金属酸化物は窒素、アルゴンまたは水素雰囲気下で加熱焼成することにより表面改質処理を行ってもよい。
＜分散液＞
本発明の分散液は、以下方法で製造することができる。
本発明の分散液は、以下方法で製造することができる。
本発明の分散液は、本発明の金属酸化物の一次粒子を有機溶媒中に分散エネルギーを加えて分散して得られる。
一次粒子を有機溶媒へ分散する方法としては従来の方法を用いることができる。すなわち、一次粒子と有機溶剤を所定比率に混合し、必要に応じて分散剤、界面活性剤等を添加し、サンドミル、アトライター、ボールミル、ホモジナイザー、ロールミル、ビーズミル等の分散装置を用いて分散することができる。分散エネルギーが該特定な範囲を外れて低すぎる場合は、粒子同士が凝集した状態となり、導電パスが形成され、表面抵抗が下がるだけでなく、シート平滑性が悪化し、遮熱性能の低下、高ヘイズが問題となる。また、分散エネルギーを高くし過ぎると、遮熱性能が低下する。粗粒子が残る場合は更にろ過、遠心分離などの処理で粗粒子を除くことが好ましい。
＜樹脂組成物＞
本発明の樹脂組成物は、以下方法で製造することができる。
本発明の樹脂組成物は公知の方法で作製することができる。例えば、金属酸化物の分散液に、バインダー樹脂、必要に応じて色素の分散液、熱硬化剤及び／又はラジカル重合開始剤、有機溶剤を混合し、最適な分散方法を用いて分散し、目的の樹脂組成物を得ることができる。
本発明の樹脂組成物は、以下方法で製造することができる。
本発明の樹脂組成物は公知の方法で作製することができる。例えば、金属酸化物の分散液に、バインダー樹脂、必要に応じて色素の分散液、熱硬化剤及び／又はラジカル重合開始剤、有機溶剤を混合し、最適な分散方法を用いて分散し、目的の樹脂組成物を得ることができる。
＜熱線遮蔽性フィルム＞
本発明の熱線遮蔽性フィルムは、以下方法で製造することができる。
金属酸化物の分散液、バインダー樹脂、必要に応じて熱硬化剤及び／又はラジカル重合開始剤、有機溶剤を混合し、最適な分散方法を用いて分散し得られた樹脂組成物を、例えば熱線反射膜、熱可塑性樹脂膜、ガラス等、また剥離性を有する基材（ＰＥＴ）の上に塗布し硬化させることで得られる。なお、剥離性を有する基材（例えばＰＥＴ）を用いる場合には、熱線反射膜、熱可塑性樹脂膜、ガラス等に転写することで熱線吸収膜の層を形成する。
（塗布方法）
塗布方法に関しては、表面を平滑に塗布できれば、特に限定はない。例えば、場合により、コンマコーター、スプレーコーター、ロールコーター、ナイフコーター等も使用出来るが、シート平滑性の為に好ましくはバーコーター、スピンコーター、ダイコーター、マイクログラビアコーター等の薄膜作製に適したコーティング装置の使用が好ましい。
熱線遮蔽性材料を塗工したシートの光学性能としては、可視光透過率が高く、日射熱取得率が低いものが理想的であるが、一般には両者は比例関係にあり、どちらの性能を重視するかにより光学性能を決定することになる。本発明においては、熱線遮蔽層の可視光透過率は、少なくとも７０％以上が好ましく、より好ましくは８０％以上となる厚さに調整するのが好ましく、一般的には、乾燥後の厚さで、０．１μｍ～５０μｍ程度の間で調整すれば良い。より好ましくは０．１μｍ～４０μｍ程度である。樹脂バインダーとして硬化性樹脂を用いる場合、通常０．１μｍ～３０μｍ、好ましくは０．１μｍ～２０μｍ程度、更に好ましくは０．１μｍ～１０μｍの間で調整することができる。上記のようにして得られた熱線遮蔽層における可視光透過率は通常５０％以上、好ましくは７０％以上、より好ましくは８０％以上である。また、該熱線遮蔽層におけるヘイズ値は通常８％以下であり、好ましくは５％以下であり、より好ましくは３％以下であり、更に好ましくは２％以下、最も好ましくは１％以下である。ヘイズ値は低い方が好ましく、本発明の好ましい態様では、０．８％以下であり、より好ましい態様では０．５％以下までにすることができる。ヘイズ値の下限は特にないが、０．１％程度までと思われる。
熱線遮蔽フィルム通過後の日射熱取得率は７０％以下、好ましくは、６８％以下、より好ましくは６０％以下を達成することが出来る。
また構造は以下の通りである。
本発明の熱線遮蔽性フィルムは、以下方法で製造することができる。
金属酸化物の分散液、バインダー樹脂、必要に応じて熱硬化剤及び／又はラジカル重合開始剤、有機溶剤を混合し、最適な分散方法を用いて分散し得られた樹脂組成物を、例えば熱線反射膜、熱可塑性樹脂膜、ガラス等、また剥離性を有する基材（ＰＥＴ）の上に塗布し硬化させることで得られる。なお、剥離性を有する基材（例えばＰＥＴ）を用いる場合には、熱線反射膜、熱可塑性樹脂膜、ガラス等に転写することで熱線吸収膜の層を形成する。
（塗布方法）
塗布方法に関しては、表面を平滑に塗布できれば、特に限定はない。例えば、場合により、コンマコーター、スプレーコーター、ロールコーター、ナイフコーター等も使用出来るが、シート平滑性の為に好ましくはバーコーター、スピンコーター、ダイコーター、マイクログラビアコーター等の薄膜作製に適したコーティング装置の使用が好ましい。
熱線遮蔽性材料を塗工したシートの光学性能としては、可視光透過率が高く、日射熱取得率が低いものが理想的であるが、一般には両者は比例関係にあり、どちらの性能を重視するかにより光学性能を決定することになる。本発明においては、熱線遮蔽層の可視光透過率は、少なくとも７０％以上が好ましく、より好ましくは８０％以上となる厚さに調整するのが好ましく、一般的には、乾燥後の厚さで、０．１μｍ～５０μｍ程度の間で調整すれば良い。より好ましくは０．１μｍ～４０μｍ程度である。樹脂バインダーとして硬化性樹脂を用いる場合、通常０．１μｍ～３０μｍ、好ましくは０．１μｍ～２０μｍ程度、更に好ましくは０．１μｍ～１０μｍの間で調整することができる。上記のようにして得られた熱線遮蔽層における可視光透過率は通常５０％以上、好ましくは７０％以上、より好ましくは８０％以上である。また、該熱線遮蔽層におけるヘイズ値は通常８％以下であり、好ましくは５％以下であり、より好ましくは３％以下であり、更に好ましくは２％以下、最も好ましくは１％以下である。ヘイズ値は低い方が好ましく、本発明の好ましい態様では、０．８％以下であり、より好ましい態様では０．５％以下までにすることができる。ヘイズ値の下限は特にないが、０．１％程度までと思われる。
熱線遮蔽フィルム通過後の日射熱取得率は７０％以下、好ましくは、６８％以下、より好ましくは６０％以下を達成することが出来る。
また構造は以下の通りである。
本発明における熱線遮蔽フィルムは、支持体を用いない状態でも良く、支持体を用いたシート状であっても良い。支持体を用いない場合は、例えば塗布時に剥離性を有する基材（例えば剥離ＰＥＴ）上に、該熱線遮蔽構造体を形成した後に、接着用の熱可塑性樹脂膜に転写して用いる方法が例示できる。
支持体を用いた場合は、透明性を担保できる支持体上に形成されていれば支障はなく、無機材料又は有機材料の何れであってもよい。例えば、ＰＥＴフィルムやＴＡＣフィルム等の、光学用途に用いられる有機フィルムを用いても良いし、熱可塑性樹脂膜に直接塗工もしくは転写しても良い。また、近赤外線を吸収する機能や反射する機能等を有する機能性のシートであってもよい。通常、樹脂シート、無機ガラス板など光の透過性を阻害しない薄い板状体が使用される。厚さは特に限定されないが、通常、５０μｍ～３ｍｍ程度である。
支持体を用いた場合は、透明性を担保できる支持体上に形成されていれば支障はなく、無機材料又は有機材料の何れであってもよい。例えば、ＰＥＴフィルムやＴＡＣフィルム等の、光学用途に用いられる有機フィルムを用いても良いし、熱可塑性樹脂膜に直接塗工もしくは転写しても良い。また、近赤外線を吸収する機能や反射する機能等を有する機能性のシートであってもよい。通常、樹脂シート、無機ガラス板など光の透過性を阻害しない薄い板状体が使用される。厚さは特に限定されないが、通常、５０μｍ～３ｍｍ程度である。
以下、実施例、比較例により本発明を詳細に説明する。尚、本発明はその趣旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
［実施例１］
塩化第２スズ（ＳｎＣｌ４・５Ｈ２Ｏ）５．９ｇ及び塩化インジウム（ＩｎＣｌ３）７５．９ｇを水４０００ｍｌに溶解し、これに２％アンモニア水を５８分かけて添加し、ｐＨを最終的に７．８５とすることにより酸化スズおよび酸化インジウムの水和物を共沈させた。この間、液温は５℃を維持するようにした。次いで、該共沈物を洗浄後乾燥、更に９００℃にて２時間焼成し、スズ含有酸化インジウム（ＩＴＯ）微粉末（金属酸化物）を得た。
塩化第２スズ（ＳｎＣｌ４・５Ｈ２Ｏ）５．９ｇ及び塩化インジウム（ＩｎＣｌ３）７５．９ｇを水４０００ｍｌに溶解し、これに２％アンモニア水を５８分かけて添加し、ｐＨを最終的に７．８５とすることにより酸化スズおよび酸化インジウムの水和物を共沈させた。この間、液温は５℃を維持するようにした。次いで、該共沈物を洗浄後乾燥、更に９００℃にて２時間焼成し、スズ含有酸化インジウム（ＩＴＯ）微粉末（金属酸化物）を得た。
得られたＩＴＯ粒子２０部、分散剤ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１４０を１２部、ＭＥＫ溶液６８部、充填率５４．３％相当の平均粒径が３０μｍのジルコニアビーズを入れたペイントシェーカーで２時間分散処理した。また、得られた分散体（金属微粒子分散液）を遠心分離機（日立工機株式会社 ＣＲ２１ＧＩＩＩ）を用いて回転数３０００ｒｐｍで１０分間遠心処理を行った。
ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬株式会社製）３４部、イルガキュア ＴＰＯ ２部を溶解させた溶液中にＩＴＯのＭＥＫ分散液６４部を分散させ熱線遮蔽性樹脂組成物を得た。また、基材としてポリエステル製フィルム（商品名「Ａ４１００」 東洋クロス株式会社製）を用い、バーコーターを用いて塗布し、８０℃、２分間乾燥させたあと紫外線照射することで熱線遮蔽性フィルムを作製した。
［実施例２］
ＩＴＯ微粉末をＣＩＫナノテック社製（製品名ＩＴＯ‐Ｒ）の粒子を用いた以外は実施例１と同様に作製した。
ＩＴＯ微粉末をＣＩＫナノテック社製（製品名ＩＴＯ‐Ｒ）の粒子を用いた以外は実施例１と同様に作製した。
［実施例３］
ＣＩＫナノテック社製のＩＴＯ粒子を更に水素雰囲気下で処理温度３００℃、３時間還元処理した以外は実施例１と同様に作製した。
ＣＩＫナノテック社製のＩＴＯ粒子を更に水素雰囲気下で処理温度３００℃、３時間還元処理した以外は実施例１と同様に作製した。
［実施例４］
ＣＩＫナノテック社製のＩＴＯ粒子を更に水素雰囲気下で処理温度３００℃、時間還元処理した以外は実施例１と同様にして作製した。
［比較例１］
ＩＴＯ微粉末を三菱マテリアル電子化成社製（製品名Ｅ－ＩＴＯ）の粒子を用いた以外は実施例１と同様に作製した。
ＩＴＯ微粉末を三菱マテリアル電子化成社製（製品名Ｅ－ＩＴＯ）の粒子を用いた以外は実施例１と同様に作製した。
［比較例２］
ＩＴＯ微粉末を西北稀有金属材料研究院製（製品名ＩＴＯ粉）の粒子を用いた以外は実施例１と同様に作製した。
ＩＴＯ微粉末を西北稀有金属材料研究院製（製品名ＩＴＯ粉）の粒子を用いた以外は実施例１と同様に作製した。
［比較例３］
ＣＩＫナノテック社製のＩＴＯ粒子を更に水素雰囲気下で処理温度３５０℃、３時間還元処理した以外は実施例１と同様に作製した。
ＣＩＫナノテック社製のＩＴＯ粒子を更に水素雰囲気下で処理温度３５０℃、３時間還元処理した以外は実施例１と同様に作製した。
実施例１～３および比較例１～３について、金属酸化物の比表面積、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系、分散液の粒度分布、熱線遮蔽フィルムの可視光透過率、日射熱取得率、全光線透過率、ヘイズ値を測定した結果を表２、３、４に示す。
（比表面積の測定）
ＢＥＬＳＯＲＰ－ｍｉｎｉＩＩ（日本ベル（株））を用いたＢＥＴ法で測定した。
ＢＥＬＳＯＲＰ－ｍｉｎｉＩＩ（日本ベル（株））を用いたＢＥＴ法で測定した。
（Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系の測定）
日本電色工業社製のＳＥ６０００分光色差計を用いて、Ｌ＊値、ａ＊値、ｂ＊値を測定した。
日本電色工業社製のＳＥ６０００分光色差計を用いて、Ｌ＊値、ａ＊値、ｂ＊値を測定した。
（可視光透過率、全日射エネルギー透過率の測定）
分光光度計（島津製作所社製 ＵＶ－３１００）を用いて、ＪＩＳ Ｒ３１０６に準拠して、得られた熱線遮蔽シートの波長３００ｎｍ～２５００ｎｍにおける上記可視光透過率を測定した。
分光光度計（島津製作所社製 ＵＶ－３１００）を用いて、ＪＩＳ Ｒ３１０６に準拠して、得られた熱線遮蔽シートの波長３００ｎｍ～２５００ｎｍにおける上記可視光透過率を測定した。
（全光線透過率、ヘイズ値の測定）
ヘーズメーター（東京電色社製 ＴＣ－ＨＩＩＩＤＰＫ）を用いて、ＪＩＳ Ｋ６７１４に準拠して、得られた熱線遮蔽シートのヘイズ値を測定した。
ヘーズメーター（東京電色社製 ＴＣ－ＨＩＩＩＤＰＫ）を用いて、ＪＩＳ Ｋ６７１４に準拠して、得られた熱線遮蔽シートのヘイズ値を測定した。
本発明の金属酸化物、その分散液、樹脂組成物、及び熱線遮蔽性フィルムは、可視光透過性、日射取得率およびヘイズに関する性能が総合的に優れている。従って、本発明の熱線遮蔽性フィルムを用いれば、視認性、可視光透明性が高く、高性能な熱線遮蔽機能を有する構造体や、熱線遮蔽シート、熱線遮蔽中間膜、透明基材用中間膜、及び合せガラス等を低コストかつ容易に製造することができる。
Claims (7)
- Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系で示したＬ＊ａ＊ｂ＊値が、下記式（１）～（３）、比表面積Ｓが下記式（４）’、及び粒度分布測定におけるＤ５０が下記式（６）を全て満たす、錫ドープ酸化インジウム。
３９≦Ｌ＊≦６０ （１）
－２０≦ａ＊≦－７ （２）
－３０≦ｂ＊≦－１０ （３）
２４ｍ ２ ／ｇ≦Ｓ≦３９ｍ ２ ／ｇ （４）’
３０ｎｍ≦Ｄ５０≦１００ｎｍ （６）
- （Ａ）請求項１に記載の錫ドープ酸化インジウム、及び（Ｂ）溶剤を含有する分散液。
- 粒度分布測定における（Ａ）錫ドープ酸化インジウムのＤ９５が下記式（５）を満たす請求項２に記載の分散液。
５０ｎｍ≦Ｄ９５≦２００ｎｍ （５）
- 更に（Ｃ）分散剤を含有する請求項２又は３に記載の分散液。
- 請求項２乃至４のいずれか一項に記載の分散液と、（Ｄ）バインダー樹脂を含有する樹脂組成物。
- 更に（Ｅ）熱硬化剤及び／又はラジカル重合開始剤を含有する請求項５に記載の樹脂組成物。
- 請求項６に記載の樹脂組成物を硬化して得られる熱線遮蔽性フィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2019055831A JP7177737B2 (ja) | 2019-03-25 | 2019-03-25 | 金属酸化物、その分散液、樹脂組成物、及び熱線遮蔽性フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2019055831A JP7177737B2 (ja) | 2019-03-25 | 2019-03-25 | 金属酸化物、その分散液、樹脂組成物、及び熱線遮蔽性フィルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2020158313A JP2020158313A (ja) | 2020-10-01 |
| JP7177737B2 true JP7177737B2 (ja) | 2022-11-24 |
Family
ID=72641689
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2019055831A Active JP7177737B2 (ja) | 2019-03-25 | 2019-03-25 | 金属酸化物、その分散液、樹脂組成物、及び熱線遮蔽性フィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7177737B2 (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003327429A (ja) | 2002-05-14 | 2003-11-19 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 日射遮蔽用微粒子とこの微粒子を含む日射遮蔽膜形成用塗布液および日射遮蔽膜 |
| WO2004060807A1 (ja) | 2002-12-27 | 2004-07-22 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | 日射遮蔽用Ｉｎ４Ｓｎ３Ｏ１２複合酸化物微粒子及びその製造方法並びに日射遮蔽膜形成用塗布液及び日射遮蔽膜及び日射遮蔽用基材 |
| JP2008230954A (ja) | 2007-02-21 | 2008-10-02 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 日射遮蔽体形成用アンチモン含有酸化錫微粒子の製造方法、日射遮蔽体形成用分散液、日射遮蔽体、および、日射遮蔽用基材 |
-
2019
- 2019-03-25 JP JP2019055831A patent/JP7177737B2/ja active Active
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003327429A (ja) | 2002-05-14 | 2003-11-19 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 日射遮蔽用微粒子とこの微粒子を含む日射遮蔽膜形成用塗布液および日射遮蔽膜 |
| WO2004060807A1 (ja) | 2002-12-27 | 2004-07-22 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | 日射遮蔽用Ｉｎ４Ｓｎ３Ｏ１２複合酸化物微粒子及びその製造方法並びに日射遮蔽膜形成用塗布液及び日射遮蔽膜及び日射遮蔽用基材 |
| JP2008230954A (ja) | 2007-02-21 | 2008-10-02 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 日射遮蔽体形成用アンチモン含有酸化錫微粒子の製造方法、日射遮蔽体形成用分散液、日射遮蔽体、および、日射遮蔽用基材 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2020158313A (ja) | 2020-10-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP2910985B1 (en) | Heat-ray-shielding sheet | |
| KR101355929B1 (ko) | 편광판용 접착제 및 이를 포함하는 편광판 | |
| JP7240918B2 (ja) | 熱線遮蔽構造体、透明基材用中間膜及び合わせガラス | |
| JP4780105B2 (ja) | 電磁波シールド性光透過部材の製造方法 | |
| JP2012012399A (ja) | ジイモニウム化合物 | |
| WO2011074619A1 (ja) | 近赤外線吸収色素及び近赤外線吸収組成物 | |
| TWI598229B (zh) | Electronic equipment, electronic equipment and the use of surface protection board | |
| JP2006188653A (ja) | 近赤外線吸収性コーティング剤およびそれを用いてなる近赤外線吸収積層体 | |
| JP7177737B2 (ja) | 金属酸化物、その分散液、樹脂組成物、及び熱線遮蔽性フィルム | |
| JP6342645B2 (ja) | 積層用樹脂組成物及びその用途 | |
| JP6972541B2 (ja) | 銀ナノ粒子積層体及び銀ナノ粒子積層体の製造方法 | |
| JP7256583B2 (ja) | 熱線遮蔽構造体、透明基材用中間膜及び合わせガラス | |
| JP7188859B2 (ja) | 熱線遮蔽構造体、熱線遮蔽シート、熱線遮蔽中間膜、及び合わせガラス | |
| JP4862334B2 (ja) | 電磁波シールド性光透過部材の製造方法 | |
| JP2020132453A (ja) | 熱線遮蔽構造体、熱線遮蔽シート、熱線遮蔽中間膜、及び合わせガラス | |
| JP2006284630A (ja) | 近赤外線吸収積層体 | |
| JP2006137933A (ja) | 近赤外線吸収性コーティング剤およびそれを用いてなる近赤外線吸収積層体 | |
| JP2021151730A (ja) | 熱線遮蔽構造体 | |
| JP2006137934A (ja) | 近赤外線吸収性コーティング剤およびそれを用いてなる近赤外線吸収積層体 | |
| JP2006137936A (ja) | 近赤外線吸収性コーティング剤およびそれを用いてなる近赤外線吸収積層体 | |
| JP2020132452A (ja) | 熱線遮蔽構造体、熱線遮蔽シート、熱線遮蔽中間膜、及び合わせガラス | |
| JP6004566B2 (ja) | 近赤外線吸収剤分散液の製造方法及び近赤外線吸収積層体 | |
| JP2005255913A (ja) | コーティング組成物、その塗膜、反射防止膜、及び画像表示装置 | |
| JP6903974B2 (ja) | 銀ナノ粒子積層体及び銀ナノ粒子積層体の製造方法 | |
| JP2017087604A (ja) | 導電性積層体及び金属酸化物組成物 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20211007 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20220809 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220825 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220929 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20221107 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20221111 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7177737 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |