JP2021151730A - 熱線遮蔽構造体 - Google Patents
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Abstract
【課題】反射光の着色を抑えることができるため、用いる窓やガラスの意匠を損ねることなく高い遮熱特性を有するものであり、同時に可視光透過性、全日射透過率およびヘイズに関する性能が総合的に優れる熱線遮蔽構造体の提供。【解決手段】（Ａ）高屈折率層（Ａ−１）および低屈折率層（Ａ−２）の繰り返し多層構造を有する熱線反射膜を有し、該熱線反射膜の入射角１０度で入光した際の反射色と入射角５０度で入光した際の反射色の色差ΔＥ＊が１５以下である熱線遮蔽構造体。【選択図】図１
Description
本発明は、太陽光の熱輻射によって生じる車両や建物の室内温度上昇を低減するために用いられる熱線遮蔽機能を有する熱線遮蔽構造体、それを用いた熱線遮蔽シート、熱線遮蔽中間体、透明機材用中間膜、及び合わせガラスに関するものである。
近年、省エネルギーや地球環境問題の観点から、空調機器の負荷を軽減することが求められている。例えば、住宅や自動車の分野では太陽光からの熱線を遮蔽できる熱線遮蔽性シート（フィルム）等を窓ガラスに添付する、または熱線遮蔽機能を有する中間層を２枚のガラスの間に担持するなどして室内や社内の温度上昇を抑えることが行われている。
窓部材に熱線遮蔽機能を付与する方法として、特許文献１ではガラスとガラスの間に担持された中間層に熱線遮蔽機能を付与することが提案されており、吸収性の熱線吸収材料を含有した熱可塑性樹脂を中間層として用いることが例示されている。しかしながら熱線吸収材料は可視域の光も吸収するために熱線遮熱性能向上のため含有量を増やすと可視光透過率が損なわれるといった課題があり、熱線吸収材料だけでは熱線遮蔽性能の著しい向上は困難である。
特許文献２には、基材上の一方の面に、屈折率が相互に異なる二層以上の層で構成される熱線反射ユニットを少なくとも二つ以上有し、かつ前記基材上の反対の面に、紫外線硬化樹脂と錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）又はアンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）を含有する熱線吸収層を有する熱線遮断フィルムであって、当該熱線吸収層に熱伝導性フィラーを含有することを特徴とする熱線遮断フィルムが開示されている。しかしながら、熱線吸収層における蓄熱による熱割れを防ぐために、熱線吸収層に熱伝導フィラーを入れる必要があり、さらに表面粗さと最大断面高さを一定範囲内とすることにより放熱を促進している。そのため、熱伝導フィラーを配合する必要があると共に、複雑な構造を必要とするため、コスト的に不利であると共に、設計自由度も低下する。
特許文献３には、遮熱微粒子と、ケイ素化合物、又は、酸化ジルコニウム等のジルコニウム化合物若しくは酸化チタン等のチタン化合物を含むコーティング液をガラス上塗布した後、５００乃至６００℃で焼き付けて、遮熱粒子と酸化珪素、又は、酸化ジルコニウム若しくは酸化チタンを含み、表面抵抗が１０ＫΩ／□の電波透過性を有する熱線反射膜が開示されている。しかし、基材に塗布後６００℃で焼き付けて膜を作製しているため、作成プロセスの負荷が高く、またＰＥＴフィルムのような汎用の樹脂基材には適用できないという問題がある。
また、特許文献４ではＡｇ、Ａｕ、Ｐｔ等の貴金属微粒子を用いて電波透過性あるいは電波遮蔽性を有する熱線反射膜が開示されている。しかし、本構成では熱微粒子として貴金属を用いているため高価である事や、膜作製時に貴金属微粒子が互いに連結されている為、電波透過性能を十分に付与できないという問題がある。
さらに、特許文献５では、近赤外線領域の光線を反射するコレステリック液晶と、コレステリック液晶が反射する波長より長波長の熱線を吸収する遮熱微粒子を積層した断熱部材が開示されている。しかし、コレステリック液晶が反射する波長より長波長の熱線を吸収する遮熱微粒子を積層しているが、遮熱微粒子の樹脂バインダーに対する濃度が低く、近赤外線の長波長側の遮熱効果が不十分という問題がある。
加えて、実際に建物の窓ガラスや、自動車のフロントガラスに用いる際には、ガラスの色味についての課題も挙げられる。特に、ギラツキや、角度によって色調が変化する窓ガラスは敬遠されるため、貼付したり、合わせガラスの中に挟み込んだりした際に、反射光に着色が無い熱線遮熱膜が求められている。
特に、自動車のフロントガラスの様に、曲率を有するガラスに用いる際には、様々な角度の入射光が照射されるため、反射色が目立ちやすくなる。自動車への遮熱機能の付与は、今後の低エネルギー社会に向けて重要な課題であるが、用いている熱線反射膜に起因する着色があると、消費者の購買意欲が損なわれ、十分に社会に浸透しなくなってしまう。そのため、単純に遮熱性能が高い熱線遮蔽膜ではなく、総合的に性能に優れ、反射光の着色が少ない、実用性の高い構成の熱線遮熱膜が求められている。
特に、自動車のフロントガラスの様に、曲率を有するガラスに用いる際には、様々な角度の入射光が照射されるため、反射色が目立ちやすくなる。自動車への遮熱機能の付与は、今後の低エネルギー社会に向けて重要な課題であるが、用いている熱線反射膜に起因する着色があると、消費者の購買意欲が損なわれ、十分に社会に浸透しなくなってしまう。そのため、単純に遮熱性能が高い熱線遮蔽膜ではなく、総合的に性能に優れ、反射光の着色が少ない、実用性の高い構成の熱線遮熱膜が求められている。
これまでにも熱線遮蔽構造体は数多く研究されているが、熱線遮蔽性を向上することを目的とするものがほとんどであり、それ以外の特性が不十分である為に実用化に至っていないものも相当数存在する。特に実使用を鑑みると、熱線遮蔽構造体による反射光に着色があると、建物の窓や、自動車のガラスの意匠性が損なわれ、消費者から敬遠される懸念が高い。
本発明は、熱線遮蔽構造体の基本特性である熱線遮蔽性や低ヘイズ性、透明性、可視光透過性を損なうことなく、熱線遮蔽構造体による反射光の着色を無くし、実用性の高い構成を実現するものである。
これによって建物の窓や、自動車のガラスの意匠を損ねることなく、高い遮熱特性を備えた熱線遮蔽構造体の提供を可能となる。
本発明は、熱線遮蔽構造体の基本特性である熱線遮蔽性や低ヘイズ性、透明性、可視光透過性を損なうことなく、熱線遮蔽構造体による反射光の着色を無くし、実用性の高い構成を実現するものである。
これによって建物の窓や、自動車のガラスの意匠を損ねることなく、高い遮熱特性を備えた熱線遮蔽構造体の提供を可能となる。
本発明者らの研究によれば、熱線反射膜の入射角１０度で入光した際の反射色と入射角５０度で入光した際の反射色の色差ΔＥ＊に注目し、これを１５以下とすることで、熱線遮蔽構造体による反射光の着色を抑えることができ、遮熱特性と意匠性に優れる熱線遮蔽構造体が実現することを見出し、本発明を完成させるに至った。
即ち、本発明は、以下１）〜１７）に関するものである。
１）
（Ａ）高屈折率層（Ａ−１）および低屈折率層（Ａ−２）の繰り返し多層構造を有する熱線反射膜を有し、該熱線反射膜の入射角１０度で入光した際の反射色と入射角５０度で入光した際の反射色の色差ΔＥ＊が１５以下である熱線遮蔽構造体。
２）
前記（Ａ）高屈折率層および低屈折率層の繰り返し多層構造を有する熱線反射膜の極大反射波長が９５０ｎｍ以上１１７０ｎｍ以下であり、かつ４００ｎｍ以上７５０ｎｍ以下の波長領域の極大反射率が２０％以下である上記１）に記載の熱線遮蔽構造体。
３）
上記（Ａ−１）高屈折率層及び（Ａ−２）低屈折率樹脂層が微粒子を含有する上記１）又は２）に記載の熱線遮蔽構造体。
４）
上記（Ａ−１）高屈折率樹脂層に含有される微粒子が酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化タンタル、酸化タングステン、酸化ニオブ、酸化セリウム、酸化鉛、ダイヤモンド、酸化亜鉛、ホウ化物、窒化物の群から選択される少なくとも一種の微粒子である上記３）に記載の熱線遮蔽構造体。
５）
上記（Ａ−２）低屈折率樹脂層に含有される微粒子が酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化タングステン、中空酸化ケイ素の群から選択される少なくとも一種の微粒子である上記３）又は４）に記載の熱線遮蔽構造体。
６）
上記（Ａ）において、高屈折率層（Ａ−１）および低屈折率層（Ａ−２）の繰り返し多層構造が４層以上１１層以下である上記１）乃至５）のいずれか一項に記載の熱線遮蔽構造体。
７）
上記（Ａ）において、繰り返し多層構造における高屈折率層（Ａ−１）の各層厚の最大値と最小値の差が５０ｎｍ以内であり、繰り返し多層構造における低屈折率層（Ａ−２）の各層厚の最大値と最小値の差が５０ｎｍ以内である上記１）乃至６）のいずれか一項に記載の熱線遮蔽構造体。
８）
更に（Ｂ）熱線吸収膜を有する上記１）乃至７）のいずれか一項に記載の熱線遮蔽構造体。
９）
上記（Ｂ）熱線吸収膜が、（Ｂ−１）無機酸化物及び／又は色素、（Ｂ−２）バインダー樹脂、及び（Ｂ−３）光重合開始剤を含有する熱線吸収膜である上記８）に記載の熱線遮蔽構造体。
１０）
上記（Ｂ−１）が無機酸化物、及び色素である請求項９に記載の熱線遮蔽構造体。
１１）
上記（Ｂ−２）が極性官能基と２以上のアクリロイル基を併せ持つバインダー樹脂である上記９）又は１０）に記載の熱線遮蔽構造体。
１２）
上記（Ｂ−３）が、３６５ｎｍにおけるモル吸光係数（ε）が５０以上１０００（ｍＬ／ｇ・ｃｍ）以下である上記８）乃至１１）のいずれか一項に記載の熱線遮蔽構造体。
１３）
上記（Ｂ）熱線吸収膜が、更に（Ｂ−４）シランカップリング剤を含有する上記９）乃至１２）のいずれか一項に記載の熱線遮蔽構造体。
１４）
上記（Ｂ）熱線吸収膜が、更に（Ｂ−５）分散剤を含有する上記９）乃至１３）のいずれか一項に記載の熱線遮蔽構造体。
１５）
更に支持体を有する上記１）乃至１４）に記載の熱線遮蔽構造体。
１６）
更に（Ｃ）熱可塑性樹脂膜を２層以上有し、上記１）乃至１５）に記載の熱線遮蔽構造体を挟み込んでなる熱線遮蔽構造体。
１７）
更に（Ｄ）ガラスを２枚以上有し、上記１）乃至１６）に記載の熱線遮蔽構造体を挟み込んでなる熱線遮蔽構造体。
即ち、本発明は、以下１）〜１７）に関するものである。
１）
（Ａ）高屈折率層（Ａ−１）および低屈折率層（Ａ−２）の繰り返し多層構造を有する熱線反射膜を有し、該熱線反射膜の入射角１０度で入光した際の反射色と入射角５０度で入光した際の反射色の色差ΔＥ＊が１５以下である熱線遮蔽構造体。
２）
前記（Ａ）高屈折率層および低屈折率層の繰り返し多層構造を有する熱線反射膜の極大反射波長が９５０ｎｍ以上１１７０ｎｍ以下であり、かつ４００ｎｍ以上７５０ｎｍ以下の波長領域の極大反射率が２０％以下である上記１）に記載の熱線遮蔽構造体。
３）
上記（Ａ−１）高屈折率層及び（Ａ−２）低屈折率樹脂層が微粒子を含有する上記１）又は２）に記載の熱線遮蔽構造体。
４）
上記（Ａ−１）高屈折率樹脂層に含有される微粒子が酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化タンタル、酸化タングステン、酸化ニオブ、酸化セリウム、酸化鉛、ダイヤモンド、酸化亜鉛、ホウ化物、窒化物の群から選択される少なくとも一種の微粒子である上記３）に記載の熱線遮蔽構造体。
５）
上記（Ａ−２）低屈折率樹脂層に含有される微粒子が酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化タングステン、中空酸化ケイ素の群から選択される少なくとも一種の微粒子である上記３）又は４）に記載の熱線遮蔽構造体。
６）
上記（Ａ）において、高屈折率層（Ａ−１）および低屈折率層（Ａ−２）の繰り返し多層構造が４層以上１１層以下である上記１）乃至５）のいずれか一項に記載の熱線遮蔽構造体。
７）
上記（Ａ）において、繰り返し多層構造における高屈折率層（Ａ−１）の各層厚の最大値と最小値の差が５０ｎｍ以内であり、繰り返し多層構造における低屈折率層（Ａ−２）の各層厚の最大値と最小値の差が５０ｎｍ以内である上記１）乃至６）のいずれか一項に記載の熱線遮蔽構造体。
８）
更に（Ｂ）熱線吸収膜を有する上記１）乃至７）のいずれか一項に記載の熱線遮蔽構造体。
９）
上記（Ｂ）熱線吸収膜が、（Ｂ−１）無機酸化物及び／又は色素、（Ｂ−２）バインダー樹脂、及び（Ｂ−３）光重合開始剤を含有する熱線吸収膜である上記８）に記載の熱線遮蔽構造体。
１０）
上記（Ｂ−１）が無機酸化物、及び色素である請求項９に記載の熱線遮蔽構造体。
１１）
上記（Ｂ−２）が極性官能基と２以上のアクリロイル基を併せ持つバインダー樹脂である上記９）又は１０）に記載の熱線遮蔽構造体。
１２）
上記（Ｂ−３）が、３６５ｎｍにおけるモル吸光係数（ε）が５０以上１０００（ｍＬ／ｇ・ｃｍ）以下である上記８）乃至１１）のいずれか一項に記載の熱線遮蔽構造体。
１３）
上記（Ｂ）熱線吸収膜が、更に（Ｂ−４）シランカップリング剤を含有する上記９）乃至１２）のいずれか一項に記載の熱線遮蔽構造体。
１４）
上記（Ｂ）熱線吸収膜が、更に（Ｂ−５）分散剤を含有する上記９）乃至１３）のいずれか一項に記載の熱線遮蔽構造体。
１５）
更に支持体を有する上記１）乃至１４）に記載の熱線遮蔽構造体。
１６）
更に（Ｃ）熱可塑性樹脂膜を２層以上有し、上記１）乃至１５）に記載の熱線遮蔽構造体を挟み込んでなる熱線遮蔽構造体。
１７）
更に（Ｄ）ガラスを２枚以上有し、上記１）乃至１６）に記載の熱線遮蔽構造体を挟み込んでなる熱線遮蔽構造体。
本発明の熱線遮蔽構造体は、熱線遮蔽構造体による反射光の着色を抑えることができるため、用いる窓やガラスの意匠を損ねることなく高い遮熱特性を有するものである。また同時に可視光透過性、全日射透過率およびヘイズに関する性能が総合的に優れている。
特に、自動車のフロントガラスの様に、曲率を有するガラスに用いる際には、様々な角度の入射光が照射されるため、反射色が目立ちやすくなるが、本発明の熱線遮蔽構造体を用いると、着色を抑えた状態で、高い熱線遮蔽効果を期待することができる。
また、本発明の熱線遮蔽構造体を用いると、熱線反射膜の製造時に発生する色ムラも抑制することができるため、窓やフロントガラスの外観を損ねること無く、遮熱機能を付与することができる。
従って、本発明の熱線遮蔽構造体を用いれば、社会に受け入れられ易く、高性能な熱線遮蔽機能を有する構造体や、熱線遮蔽シート、熱線遮蔽中間膜、透明基材用中間膜、及び合せガラスを提供することができる。
特に、自動車のフロントガラスの様に、曲率を有するガラスに用いる際には、様々な角度の入射光が照射されるため、反射色が目立ちやすくなるが、本発明の熱線遮蔽構造体を用いると、着色を抑えた状態で、高い熱線遮蔽効果を期待することができる。
また、本発明の熱線遮蔽構造体を用いると、熱線反射膜の製造時に発生する色ムラも抑制することができるため、窓やフロントガラスの外観を損ねること無く、遮熱機能を付与することができる。
従って、本発明の熱線遮蔽構造体を用いれば、社会に受け入れられ易く、高性能な熱線遮蔽機能を有する構造体や、熱線遮蔽シート、熱線遮蔽中間膜、透明基材用中間膜、及び合せガラスを提供することができる。
本発明の熱線遮蔽構造体は、高屈折率層（Ａ−１）と低屈折率層（Ａ−２）の繰り返し多層構造を有する熱線反射膜（Ａ）を有する熱線遮蔽構造体に関する。なお、本明細書中、上付きのＲＴＭは登録商標を意味する。
［（Ａ）熱線反射膜］
本発明を構成する熱線反射膜（Ａ）とは、７８０ｎｍ〜２５００ｎｍの波長の光を反射し、熱エネルギーを透過させない膜である。ただし、全ての熱エネルギーを完全に透過させないものである必要はなく、反射率が２０％以上、より好ましくは２５％以上程度であってもよい。一般的に熱線反射膜は、高屈折率層と低屈折率層の繰り返し多層構造を有する熱線反射膜、コレステリック液晶を用いた熱線反射膜、少なくともＡｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌのいずれかを含有する熱線反射層等を挙げることができるが、本願発明を構成する（Ａ）熱線反射膜は、高屈折率層（Ａ−１）と低屈折率層（Ａ−２）の繰り返し多層構造である。ただし、当該多層構造であれば、例えばコレステリック液晶を用いた熱線反射膜やＡｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌのいずれかを含有する熱線反射層を併用することを除外するものではない。
［（Ａ）熱線反射膜］
本発明を構成する熱線反射膜（Ａ）とは、７８０ｎｍ〜２５００ｎｍの波長の光を反射し、熱エネルギーを透過させない膜である。ただし、全ての熱エネルギーを完全に透過させないものである必要はなく、反射率が２０％以上、より好ましくは２５％以上程度であってもよい。一般的に熱線反射膜は、高屈折率層と低屈折率層の繰り返し多層構造を有する熱線反射膜、コレステリック液晶を用いた熱線反射膜、少なくともＡｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌのいずれかを含有する熱線反射層等を挙げることができるが、本願発明を構成する（Ａ）熱線反射膜は、高屈折率層（Ａ−１）と低屈折率層（Ａ−２）の繰り返し多層構造である。ただし、当該多層構造であれば、例えばコレステリック液晶を用いた熱線反射膜やＡｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌのいずれかを含有する熱線反射層を併用することを除外するものではない。
本発明を構成する熱線反射膜（Ａ）は、入射角１０度で入光した際の反射色と入射角５０度で入光した際の反射色の色差ΔＥ＊が１５以下である。
ここでΔＥ＊とはＣ光源（ＣＩＥが規定する標準光）の反射光の色調をＣＩＥ１９７６に規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表色系で数値化したときの、入射角１０度で入光した際の座標と入射角５０度で入光した時の座標の距離を意味する。
入射角１０度および５０度のＬ＊ａ＊ｂ＊は、例えば可変角絶対反射測定装置などの、試料に対して入射光の角度を変更して測定できる分光光度計を用いて、１０度および５０度で入光した際の可視域のスペクトルを測定し、得られたスペクトルデータよりＣＩＥ１９７６に規定される計算式に基づいて、算出することができる。
ΔＥ＊として好ましくは１４以下であり、更に好ましくは１３以下であり、特に好ましくは１２以下である。なお下限としては特に制限はないが、０が好ましい。
ΔＥ＊が１５を上回ると、例えば正面から見た際の反射色が無色であったとしても、角度を変えて観察すると着色が見られるようになり、好ましくない。また、自動車のフロントガラスのように、曲率を有する曲げガラス等に熱線反射膜を用いる際には、様々な入射光が入るため、反射色が目立ちやすくなるため、ΔＥ＊が１５以下であることが、特に重要である。
ここでΔＥ＊とはＣ光源（ＣＩＥが規定する標準光）の反射光の色調をＣＩＥ１９７６に規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表色系で数値化したときの、入射角１０度で入光した際の座標と入射角５０度で入光した時の座標の距離を意味する。
入射角１０度および５０度のＬ＊ａ＊ｂ＊は、例えば可変角絶対反射測定装置などの、試料に対して入射光の角度を変更して測定できる分光光度計を用いて、１０度および５０度で入光した際の可視域のスペクトルを測定し、得られたスペクトルデータよりＣＩＥ１９７６に規定される計算式に基づいて、算出することができる。
ΔＥ＊として好ましくは１４以下であり、更に好ましくは１３以下であり、特に好ましくは１２以下である。なお下限としては特に制限はないが、０が好ましい。
ΔＥ＊が１５を上回ると、例えば正面から見た際の反射色が無色であったとしても、角度を変えて観察すると着色が見られるようになり、好ましくない。また、自動車のフロントガラスのように、曲率を有する曲げガラス等に熱線反射膜を用いる際には、様々な入射光が入るため、反射色が目立ちやすくなるため、ΔＥ＊が１５以下であることが、特に重要である。
本発明を構成する熱線反射膜（Ａ）は、極大反射波長が９５０ｎｍ以上１１７０ｎｍ以下であり、かつ４００ｎｍ以上７５０ｎｍ以下の波長領域の極大反射率が２０％以下である。
極大反射波長の上限として更に好ましくは１１５０ｎｍであり、特に好ましくは１０２０ｎｍである。また下限として更に好ましくは９９０ｎｍであり、特に好ましくは１０１５ｎｍである。従って最も好ましい極大反射波長の範囲は１０１５ｎｍ以上１１２０ｎｍ以下である。
極大反射波長が９５０ｎｍより短くなると、可視光領域に反射が見られ、反射光が赤味を帯びると共に、入射光の角度によって色味が変化するようになり、実用的でなくなる。特に入射角が大きい状態になると、強い赤味を帯びるようになり、好ましくない。また、極大反射波長が１１７０ｎｍを超えると、短波長側にある第二の極大反射が可視光領域に到達し、反射光が青味を帯びると共に、入射光の角度によって色味が変化するようになり、好ましくない。
４００ｎｍ以上７５０ｎｍ以下の波長領域の極大反射率として、更に好ましくは１８％であり、特に好ましくは１５％である。なお下限としては特に制限はないが、０％が好ましい。
熱線反射膜（Ａ）の極大反射波長は、例えば分光光度計等で測定して求めることができる。極大反射波長を測定する場合は、正反射スペクトルもしくは積分級を用いた拡散反射スペクトルを測定し、極大反射波長を求める。また、正反射スペクトルを測定する際は、入射角を可能な限り０度に近づけて測定する。なお、再外層に低屈折率層（Ａ−２）が配されている場合、反射防止効果により反射層の真の極大反射波長が得られない場合がある。その場合は、例えば粘着剤付きの透明ポリエステルフィルムを、熱線反射膜（Ａ）の低屈折率層（Ａ−２）の上にラミネートしたり、熱可塑性樹脂を用いて２枚のガラスの間に熱線反射膜（Ａ）を挟み込んだ合わせガラスを作製したりして、極大反射波長を求める。
極大反射波長の上限として更に好ましくは１１５０ｎｍであり、特に好ましくは１０２０ｎｍである。また下限として更に好ましくは９９０ｎｍであり、特に好ましくは１０１５ｎｍである。従って最も好ましい極大反射波長の範囲は１０１５ｎｍ以上１１２０ｎｍ以下である。
極大反射波長が９５０ｎｍより短くなると、可視光領域に反射が見られ、反射光が赤味を帯びると共に、入射光の角度によって色味が変化するようになり、実用的でなくなる。特に入射角が大きい状態になると、強い赤味を帯びるようになり、好ましくない。また、極大反射波長が１１７０ｎｍを超えると、短波長側にある第二の極大反射が可視光領域に到達し、反射光が青味を帯びると共に、入射光の角度によって色味が変化するようになり、好ましくない。
４００ｎｍ以上７５０ｎｍ以下の波長領域の極大反射率として、更に好ましくは１８％であり、特に好ましくは１５％である。なお下限としては特に制限はないが、０％が好ましい。
熱線反射膜（Ａ）の極大反射波長は、例えば分光光度計等で測定して求めることができる。極大反射波長を測定する場合は、正反射スペクトルもしくは積分級を用いた拡散反射スペクトルを測定し、極大反射波長を求める。また、正反射スペクトルを測定する際は、入射角を可能な限り０度に近づけて測定する。なお、再外層に低屈折率層（Ａ−２）が配されている場合、反射防止効果により反射層の真の極大反射波長が得られない場合がある。その場合は、例えば粘着剤付きの透明ポリエステルフィルムを、熱線反射膜（Ａ）の低屈折率層（Ａ−２）の上にラミネートしたり、熱可塑性樹脂を用いて２枚のガラスの間に熱線反射膜（Ａ）を挟み込んだ合わせガラスを作製したりして、極大反射波長を求める。
［（Ａ−１）高屈折率層］
本発明を構成する（Ａ−１）高屈折率層は、屈折率が高い誘電体微粒子を含有する構成である場合が好ましい。屈折率が高い誘電体微粒子としては、可視光領域の吸収が少なく、赤外線領域で高屈折率を示す微粒子が適しており、例えば酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化タンタル、酸化タングステン、酸化ニオブ、酸化セリウム、酸化鉛、酸化亜鉛、ダイヤモンド等の誘電体微粒子を例示することができる。このうち、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、ダイヤモンドが好ましく、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛がより好ましく、酸化チタンが特に好ましい。また、前記誘電体微粒子ではないが、赤外線領域で高屈折率を示し、かつ、赤外吸収能を有する微粒子としてホウ化物、窒化物を例示することができる。具体的には六ホウ化ランタン、窒化チタンが好適である。なおこれらの微粒子は単独または２種類以上で用いても良く、さらに積層膜中の各々の高屈折率樹脂層において別々の微粒子を用いても構わない。
（Ａ−１）高屈折率層の屈折率は、好ましくは、１．６０以上２．４０以下程度であり、より好ましくは１．８０以上２．１０以下程度である。
また、５５０ｎｍでの屈折率から７８０ｎｍ〜１５００ｎｍでの任意波長における屈折率を差し引いた値が０．１以下である事が好ましい。
なお本明細書中において「〜」は前後の数値を含むものとする。
本発明を構成する（Ａ−１）高屈折率層は、屈折率が高い誘電体微粒子を含有する構成である場合が好ましい。屈折率が高い誘電体微粒子としては、可視光領域の吸収が少なく、赤外線領域で高屈折率を示す微粒子が適しており、例えば酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化タンタル、酸化タングステン、酸化ニオブ、酸化セリウム、酸化鉛、酸化亜鉛、ダイヤモンド等の誘電体微粒子を例示することができる。このうち、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、ダイヤモンドが好ましく、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛がより好ましく、酸化チタンが特に好ましい。また、前記誘電体微粒子ではないが、赤外線領域で高屈折率を示し、かつ、赤外吸収能を有する微粒子としてホウ化物、窒化物を例示することができる。具体的には六ホウ化ランタン、窒化チタンが好適である。なおこれらの微粒子は単独または２種類以上で用いても良く、さらに積層膜中の各々の高屈折率樹脂層において別々の微粒子を用いても構わない。
（Ａ−１）高屈折率層の屈折率は、好ましくは、１．６０以上２．４０以下程度であり、より好ましくは１．８０以上２．１０以下程度である。
また、５５０ｎｍでの屈折率から７８０ｎｍ〜１５００ｎｍでの任意波長における屈折率を差し引いた値が０．１以下である事が好ましい。
なお本明細書中において「〜」は前後の数値を含むものとする。
（Ａ−１）高屈折層に含まれる上記微粒子としては、一次粒子径が３００ｎｍ以下、好ましくは１ｎｍ〜２００ｎｍのものが用いられる。一次粒子径が３００ｎｍより大きくなると赤外線遮蔽シートにした際、ヘイズ値が高くなり視認性が劣ってしまう。なお、粒径はＢＥＴ法で測定された比表面積より算出された平均一次粒子径である。
当該微粒子の一次粒子径の下限としては、更に好ましい順に２ｎｍ、３ｎｍ、４ｎｍ、５ｎｍ、６ｎｍ、８ｎｍであり、上限としては更に好ましい順に１５０ｎｍ、１２０ｎｍ、１００ｎｍ、８０ｎｍ、５０ｎｍ、４０ｎｍ、２５ｎｍである。すなわち最も好ましい一次粒子径の範囲は、８ｎｍ〜２５ｎｍである。
当該微粒子の一次粒子径の下限としては、更に好ましい順に２ｎｍ、３ｎｍ、４ｎｍ、５ｎｍ、６ｎｍ、８ｎｍであり、上限としては更に好ましい順に１５０ｎｍ、１２０ｎｍ、１００ｎｍ、８０ｎｍ、５０ｎｍ、４０ｎｍ、２５ｎｍである。すなわち最も好ましい一次粒子径の範囲は、８ｎｍ〜２５ｎｍである。
さらに（Ａ−１）高屈折層の厚さとしては、用いる粒子の屈折率により最適な膜厚は異なるが、一般的に８０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である場合が好ましい。更に好ましい上限としては１８０ｎｍであり、特に好ましい上限としては１６０ｎｍである。更に好ましい下限としては１００ｎｍであり、特に好ましい下限としては１２０ｎｍである。従って、最も好ましい厚さは１２０ｎｍ以上１６０ｎｍ以下である。
［（Ａ−２）低屈折率層］
本発明を構成する（Ａ−２）低屈折率層は、屈折率が低い誘電体微粒子を含有する構成である場合が好ましい。屈折率が低い誘電体微粒子とは、可視光領域の吸収が少なく、赤外線領域で良好な吸収を有し、且つ屈折率が高屈折率樹脂層含有微粒子よりも相対的に低い屈折率を有しているものが適している。そのようなものとして、赤外線領域にプラズマ波長を持っている電気伝導性の金属酸化物微粒子が挙げられる。具体的には、酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化タングステン、酸化クロム、酸化モリブデン等を例示することができる。また低屈折率である、中空酸化ケイ素、中空アクリルビーズ等の中空微粒子も有用な例として挙げることができる。このうち、可視光領域に光吸収性の少ない酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化タングステン、中空酸化ケイ素、が好ましく、酸化インジウム又は中空酸化ケイ素がさらに好ましく、酸化インジウムが特に好ましい。
またこれらの金属酸化物微粒子の電気導電性を向上させるために第三成分をドープまたは酸素欠陥を有することが好ましい。このためのドーパントとしては、酸化スズに対してはＳｂ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ等が挙げられ、酸化インジウムに対してはＺｎ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｇａ、Ｇｅ等が挙げられ、酸化亜鉛に対しては、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｎｂ等が挙げられ、酸化タングステンに対して酸素欠陥ＷＯｘ（但し、２．４５≦ｘ≦２．９９９）、Ｃｓ、Ｒｂ、Ｋ、Ｔｌ、Ｉｎ、Ｂａ、Ｌｉ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｆｅ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｃｕ等が挙げられる。これらの中でも、Ｓｎドープ酸化インジウム（ＩＴＯともいう）が好ましい。
本発明を構成する（Ａ−２）低屈折率層は、屈折率が低い誘電体微粒子を含有する構成である場合が好ましい。屈折率が低い誘電体微粒子とは、可視光領域の吸収が少なく、赤外線領域で良好な吸収を有し、且つ屈折率が高屈折率樹脂層含有微粒子よりも相対的に低い屈折率を有しているものが適している。そのようなものとして、赤外線領域にプラズマ波長を持っている電気伝導性の金属酸化物微粒子が挙げられる。具体的には、酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化タングステン、酸化クロム、酸化モリブデン等を例示することができる。また低屈折率である、中空酸化ケイ素、中空アクリルビーズ等の中空微粒子も有用な例として挙げることができる。このうち、可視光領域に光吸収性の少ない酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化タングステン、中空酸化ケイ素、が好ましく、酸化インジウム又は中空酸化ケイ素がさらに好ましく、酸化インジウムが特に好ましい。
またこれらの金属酸化物微粒子の電気導電性を向上させるために第三成分をドープまたは酸素欠陥を有することが好ましい。このためのドーパントとしては、酸化スズに対してはＳｂ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ等が挙げられ、酸化インジウムに対してはＺｎ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｇａ、Ｇｅ等が挙げられ、酸化亜鉛に対しては、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｎｂ等が挙げられ、酸化タングステンに対して酸素欠陥ＷＯｘ（但し、２．４５≦ｘ≦２．９９９）、Ｃｓ、Ｒｂ、Ｋ、Ｔｌ、Ｉｎ、Ｂａ、Ｌｉ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｆｅ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｃｕ等が挙げられる。これらの中でも、Ｓｎドープ酸化インジウム（ＩＴＯともいう）が好ましい。
さらに低屈折率樹脂層に含有される微粒子は、６０ＭＰａで圧縮した際の粉体抵抗が１００Ω・ｃｍ以下、好ましくは１０Ω・ｃｍ以下、より好ましくは１Ω・ｃｍ以下の微粒子が用いられる。粉体抵抗が１００Ω・ｃｍより高い微粒子を用いた場合、微粒子のプラズマ共鳴に由来する吸収が２５００ｎｍより大きくなり赤外線遮蔽効果が低減する。なお、粉体抵抗の測定法として、粉体抵抗測定システムＭＣＰ−ＰＤ５１型（三菱化学アナリテック製）が好ましいが、これに限定されるものではない。
（Ａ−２）低屈折層に含まれる上記微粒子としては、一次粒子径が３００ｎｍ以下、好ましくは１ｎｍ〜２００ｎｍのものが用いられる。一次粒子径が３００ｎｍより大きくなると赤外線遮蔽シートにした際、ヘイズ値が高くなり視認性が劣ってしまう。なお、粒径はＢＥＴ法で測定された比表面積より算出されたものである。
当該微粒子の一次粒子径の下限としては、更に好ましい順に２ｎｍ、３ｎｍ、４ｎｍ、５ｎｍであり、上限としては更に好ましい順に１５０ｎｍ、１２０ｎｍ、１００ｎｍ、８０ｎｍである。すなわち最も好ましい一次粒子径の範囲は、５ｎｍ〜８０ｎｍである。
当該微粒子の一次粒子径の下限としては、更に好ましい順に２ｎｍ、３ｎｍ、４ｎｍ、５ｎｍであり、上限としては更に好ましい順に１５０ｎｍ、１２０ｎｍ、１００ｎｍ、８０ｎｍである。すなわち最も好ましい一次粒子径の範囲は、５ｎｍ〜８０ｎｍである。
（Ａ−２）低屈折層の厚さとしては、用いる粒子の屈折率により最適な膜厚は異なるが、一般的に１３０ｎｍ以上２８０ｎｍ以下である場合が好ましい。更に好ましい上限としては２６０ｎｍであり、特に好ましい上限としては２４０ｎｍである。更に好ましい下限としては１５０ｎｍであり、特に好ましい下限としては１７０ｎｍである。従って、最も好ましい厚さは１７０ｎｍ以上２４０ｎｍ以下である。
［（Ａ−１）高屈折率層と（Ａ−２）低屈折率層との関係について］
（Ａ−１）高屈折率層と（Ａ−２）低屈折率層とを交互に積層してなる熱線遮蔽構造体は、赤外線領域における両者の屈折率差と、高屈折率層の屈折率の絶対値とが赤外線反射機能を決定するのに重要となる。即ち、屈折率差、屈折率の絶対値とも大きい方が熱線反射機能は大きくなる。
本発明において、少なくとも隣接した２層（高屈折率層と低屈折率層）の屈折率差が反射させる赤外線波長において０．２以上であることを特徴とする。好ましくは０．３以上であり、さらに好ましくは０．３５以上である。屈折率差が０．２未満の場合は、熱線反射率を所望の値にする為には積層数が多くなり、可視透過率が低下し、また製造コストが増加するため好ましくない。
反射させる赤外線波長λは一般的に式（１）で与えられる。ｎＨ、ｄＨは高屈折率樹脂層の屈折率、幾何学膜厚、ｎＬ、ｄＬは低屈折率樹脂層の屈折率、幾何学膜厚である。
ｎＨｄＨ ＋ ｎＬｄＬ ＝ λ／２ ・・・ （１）
ここで、高屈折率樹脂層と低屈折率樹脂層はλ／４の整数倍となるよう同じ光学膜厚（屈折率ｎと幾何学膜厚ｄの積）にすることが好ましい。また、反射させる赤外線波長は７８０ｎｍ〜１５００ｎｍが好ましい。７８０ｎｍ未満の場合は、可視光領域になるため可視光透過率が低下するので好ましくない。加えて、可視光領域に反射波長が達するため、反射光が赤味を帯びるようになり実用的でなくなる。また、１５００ｎｍ以上では低屈折率樹脂層に含有される微粒子による吸収があるので赤外線遮蔽効果が薄れる為好ましくない。即ち高屈折率樹脂層、低屈折率樹脂層の７８０ｎｍ〜１５００ｎｍの波長における光学膜厚は１９５ｎｍ〜３７５ｎｍが好ましい。
（Ａ−１）高屈折率層と（Ａ−２）低屈折率層とを交互に積層してなる熱線遮蔽構造体は、赤外線領域における両者の屈折率差と、高屈折率層の屈折率の絶対値とが赤外線反射機能を決定するのに重要となる。即ち、屈折率差、屈折率の絶対値とも大きい方が熱線反射機能は大きくなる。
本発明において、少なくとも隣接した２層（高屈折率層と低屈折率層）の屈折率差が反射させる赤外線波長において０．２以上であることを特徴とする。好ましくは０．３以上であり、さらに好ましくは０．３５以上である。屈折率差が０．２未満の場合は、熱線反射率を所望の値にする為には積層数が多くなり、可視透過率が低下し、また製造コストが増加するため好ましくない。
反射させる赤外線波長λは一般的に式（１）で与えられる。ｎＨ、ｄＨは高屈折率樹脂層の屈折率、幾何学膜厚、ｎＬ、ｄＬは低屈折率樹脂層の屈折率、幾何学膜厚である。
ｎＨｄＨ ＋ ｎＬｄＬ ＝ λ／２ ・・・ （１）
ここで、高屈折率樹脂層と低屈折率樹脂層はλ／４の整数倍となるよう同じ光学膜厚（屈折率ｎと幾何学膜厚ｄの積）にすることが好ましい。また、反射させる赤外線波長は７８０ｎｍ〜１５００ｎｍが好ましい。７８０ｎｍ未満の場合は、可視光領域になるため可視光透過率が低下するので好ましくない。加えて、可視光領域に反射波長が達するため、反射光が赤味を帯びるようになり実用的でなくなる。また、１５００ｎｍ以上では低屈折率樹脂層に含有される微粒子による吸収があるので赤外線遮蔽効果が薄れる為好ましくない。即ち高屈折率樹脂層、低屈折率樹脂層の７８０ｎｍ〜１５００ｎｍの波長における光学膜厚は１９５ｎｍ〜３７５ｎｍが好ましい。
本発明の多層膜は、繰り返し多層構造における高屈折率層（Ａ−１）の各層厚の最大値と最小値の差が５０ｎｍ以内であり、繰り返し多層構造における低屈折率層（Ａ−２）の各層厚の最大値と最小値の差が５０ｎｍ以内であることが好ましい。高屈折率層（Ａ−１）においても、低屈折率層（Ａ−２）においても、各層の厚みが異なると、光学干渉が起こる波長がずれて、極大反射率が低くなり、遮熱性能が下がる。また、各層で異なる厚みの設計にすると、製造時の条件が複雑になり、コストアップに繋がる。そのため、高屈折率層（Ａ−１）および低屈折率層（Ａ−２）のそれぞれにおいて、各層の厚みのばらつきが、小さいことが好ましい。
本発明の多層膜の層数は、（Ａ−１）２層（Ａ−２）１層、又は（Ａ−１）１層（Ａ−２）２層の３層以上であれば特に制限はない。しかし、（Ａ−１）、（Ａ−２）がそれぞれ２層以上である、４層以上１１層以下であることが好がましい。多層膜の層数が４未満であると赤外線の反射機能が不十分であり、また、１１層以上になると製造コストの増加、可視光透過率、耐久性の低下、膜応力増加によるフィルムのカールが問題となるので好ましくない。好ましい層数の下限としては更に好ましくは５層である。また好ましい層数の上限は１０層でありさらに好ましくは７層である。従って、最も好ましい層数は５層以上７層以下である。
本発明において高屈折率層、低屈折率層の表面抵抗は１０３Ω／□以上、好ましくは１０４Ω／□以上、より好ましくは１０６Ω／□以上である。１０３Ω／□より低いと、電波を透過しなくなるので好ましくない。
また、各層の表面の最大高低差は７０ｎｍ以下、好ましくは６０ｎｍ以下、より好ましくは５０ｎｍ以下である。凝集微粒子がなくなるまで分散させてから薄膜塗工をすると、好ましい微粒子層表面の最大高低差が得られる。また、７０ｎｍ以上の表面粗さがあると、膜表面で入射した近赤外光の散乱が起きてしまい、良好な反射性能を付与できなくなる。
また、各層の表面の最大高低差は７０ｎｍ以下、好ましくは６０ｎｍ以下、より好ましくは５０ｎｍ以下である。凝集微粒子がなくなるまで分散させてから薄膜塗工をすると、好ましい微粒子層表面の最大高低差が得られる。また、７０ｎｍ以上の表面粗さがあると、膜表面で入射した近赤外光の散乱が起きてしまい、良好な反射性能を付与できなくなる。
＜（Ａ）熱線反射膜の製造方法＞
本発明に用いられる（Ａ）熱線反射膜の製造方法としては、一般的に１）高屈折率樹脂の製造、２）低屈折率樹脂の製造、３）積層、乾燥という工程からなる。
［樹脂の製造工程］
１）高屈折率樹脂及び２）低屈折率樹脂の製造においては、バインダーとなるバインダー樹脂に上記各微粒子を分散することによって製造する。なお、アクリルモノマーのような低分子化合物も、バインダーとして使用されうるものであれば、本明細書においてはバインダー樹脂と表現する。
ここで、平滑性、低ヘイズ、電波透過性を満たす為に微粒子を適切に分散する事は重要である。分散方法として、サンドミル、アトライター、ボールミル、ホモジナイザー、ロールミル、ビーズミルを用いることが好ましい。これらの中でもビーズミルが特に好ましい。ビーズミルを用いた場合、周速は３ｍ／ｓ〜１０ｍ／ｓが好ましい。３ｍ／ｓより低くなると、微粒子を十分分散できずに、１０ｍ／ｓより高くなると特に低屈折率樹脂層に含有される微粒子の表面が傷つけられ、性能が低下する。適正な範囲は用いる装置、バインダー、分散時の微粒子濃度等によって若干異なるが、比較的低い分散エネルギーで分散させた方が良い。さらに、粗粒子が残る場合は更に濾過、遠心分離などの処理で粗粒子を除く事が好ましい。
本発明に用いられる（Ａ）熱線反射膜の製造方法としては、一般的に１）高屈折率樹脂の製造、２）低屈折率樹脂の製造、３）積層、乾燥という工程からなる。
［樹脂の製造工程］
１）高屈折率樹脂及び２）低屈折率樹脂の製造においては、バインダーとなるバインダー樹脂に上記各微粒子を分散することによって製造する。なお、アクリルモノマーのような低分子化合物も、バインダーとして使用されうるものであれば、本明細書においてはバインダー樹脂と表現する。
ここで、平滑性、低ヘイズ、電波透過性を満たす為に微粒子を適切に分散する事は重要である。分散方法として、サンドミル、アトライター、ボールミル、ホモジナイザー、ロールミル、ビーズミルを用いることが好ましい。これらの中でもビーズミルが特に好ましい。ビーズミルを用いた場合、周速は３ｍ／ｓ〜１０ｍ／ｓが好ましい。３ｍ／ｓより低くなると、微粒子を十分分散できずに、１０ｍ／ｓより高くなると特に低屈折率樹脂層に含有される微粒子の表面が傷つけられ、性能が低下する。適正な範囲は用いる装置、バインダー、分散時の微粒子濃度等によって若干異なるが、比較的低い分散エネルギーで分散させた方が良い。さらに、粗粒子が残る場合は更に濾過、遠心分離などの処理で粗粒子を除く事が好ましい。
分散に使用する溶媒とは、特に限定されるものではないが、本発明では水や有機溶媒、また、各々配合し混合物として使用しても良い。有機溶媒としては、例えば炭化水素系溶媒（トルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ヘプタン等）、アルコール系溶媒（メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、ｔ−ブタノール、ベンジルアルコール等）、ケトン系溶媒（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセチルアセトン等）、エステル系溶媒（酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸セロソルブ、酢酸アミル等）、エーテル系溶媒（イソプロピルエーテル、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、１、４−ジオキサン等）、グリコール系溶媒（エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール等）、グリコールエーテル系溶媒（ジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等）、グリコールエステル系溶媒（エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等）、グライム系溶媒（モノグライム、ジグライム等）、ハロゲン系溶媒（ジクロロメタン、クロロホルム等）、アミド系溶媒（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン）や、ピリジン、テトラヒドロフラン、スルホラン、アセトニトリル、ジメチルスルホキシドが挙げられる。好ましくは、水、ケトン系溶媒、アルコール系溶媒、アミド系溶媒、炭化水素系溶媒であり、より好ましくは、トルエン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトンである。
分散剤としては、例えば以下のものを挙げることができる。フローレンＤＯＰＡ−１５Ｂ、フローレンＤＯＰＡ−１７（共栄社化学（株）製）、ソルプラスＡＸ５、ソルプラスＴＸ５、ソルスパース９０００、ソルスパース１２０００、ソルスパース１７０００、ソルスパース２００００、ソルスパース２１０００、ソルスパース２４０００、ソルスパース２６０００、ソルスパース２７０００、ソルスパース２８０００、ソルスパース３２０００、ソルスパース３５１００、ソルスパース５４０００、ソルシックス２５０（日本ルーブリゾール（株）製）、ＥＦＫＡ４００８、ＥＦＫＡ４００９、ＥＦＫＡ４０１０、ＥＦＫＡ４０１５、ＥＦＫＡ４０４６、ＥＦＫＡ４０４７、ＥＦＫＡ４０６０、ＥＦＫＡ４０８０、ＥＦＫＡ７４６２、ＥＦＫＡ４０２０、ＥＦＫＡ４０５０、ＥＦＫＡ４０５５、ＥＦＫＡ４４００、ＥＦＫＡ４４０１、ＥＦＫＡ４４０２、ＥＦＫＡ４４０３、ＥＦＫＡ４３００、ＥＦＫＡ４３２０、ＥＦＫＡ４３３０、ＥＦＫＡ４３４０、ＥＦＫＡ５０６５、ＥＦＫＡ５２２０、ＥＦＫＡ６２２０、ＥＦＫＡ６２２５、ＥＦＫＡ６２３０、ＥＦＫＡ６７００、ＥＦＫＡ６７８０、ＥＦＫＡ６７８２、ＥＦＫＡ８５０３（ＢＡＳＦジャパン（株）製）、アジスパーＰＡ１１１、アジスパーＰＢ７１１、アジスパーＰＢ８２１、アジスパーＰＢ８２２、アジスパーＰＮ４１１、フェイメックスＬ−１２（味の素ファインテクノ（株）製）、ＴＥＸＡＰＨＯＲ−ＵＶ２１、ＴＥＸＡＰＨＯＲ−ＵＶ６１（コグニスジャパン（株）製）、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１０１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１０２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１０６、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１０８、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１１０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１１１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１１６、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１３０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１４０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１４２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１４５、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６３、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６４、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６６、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６７、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６８、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１７０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１７１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１７４、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１８０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１８２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１９２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１９３、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０００、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２００１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０２０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０２５、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０５０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０７０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２１５５、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２１６４、ＢＹＫ２２０Ｓ、ＢＹＫ３００、ＢＹＫ３０６、ＢＹＫ３２０、ＢＹＫ３２２、ＢＹＫ３２５、ＢＹＫ３３０、ＢＹＫ３４０、ＢＹＫ３５０、ＢＹＫ３７７、ＢＹＫ３７８、ＢＹＫ３８０Ｎ、ＢＹＫ４１０、ＢＹＫ４２５、ＢＹＫ４３０（ビックケミー・ジャパン（株）製）、ディスパロン１７５１Ｎ、ディスパロン１８３１、ディスパロン１８５０、ディスパロン１８６０、ディスパロン１９３４、ディスパロンＤＡ−４００Ｎ、ディスパロンＤＡ−７０３−５０、ディスパロンＤＡ−７２５、ディスパロンＤＡ−７０５、ディスパロンＤＡ−７３０１、ディスパロンＤＮ−９００、ディスパロンＮＳ−５２１０、ディスパロンＮＶＩ−８５１４Ｌ、ヒップラードＥＤ−１５２、ヒップラードＥＤ−２１６、ヒップラードＥＤ−２５１、ヒップラードＥＤ−３６０（楠本化成（株））、ＦＴＸ−２０７Ｓ、ＦＴＸ−２１２Ｐ、ＦＴＸ−２２０Ｐ、ＦＴＸ−２２０Ｓ、ＦＴＸ−２２８Ｐ、ＦＴＸ−７１０ＬＬ、ＦＴＸ−７５０ＬＬ、フタージェント２１２Ｐ、フタージェント２２０Ｐ、フタージェント２２２Ｆ、フタージェント２２８Ｐ、フタージェント２４５Ｆ、フタージェント２４５Ｐ、フタージェント２５０、フタージェント２５１、フタージェント７１０ＦＭ、フタージェント７３０ＦＭ、フタージェント７３０ＬＬ、フタージェント７３０ＬＳ、フタージェント７５０ＤＭ、フタージェント７５０ＦＭ（（株）ネオス製）、ＡＳ−１１００、ＡＳ−１８００、ＡＳ−２０００（東亞合成（株）製）、カオーセラ２０００、カオーセラ２１００、ＫＤＨ−１５４、ＭＸ−２０４５Ｌ、ホモゲノールＬ−１８、ホモゲノールＬ−９５、レオドールＳＰ−０１０Ｖ、レオドールＳＰ−０３０Ｖ、レオドールＳＰ−Ｌ１０、レオドールＳＰ−Ｐ１０（花王（株）製）、エバンＵ１０３、シアノールＤＣ９０２Ｂ、ノイゲンＥＡ−１６７、ブライサーフＡ２１９Ｂ、ブライサーフＡＬ（第一工業製薬（株）製）、メガファックＦ−４７７、メガファック４８０ＳＦ、メガファックＦ−４８２、（ＤＩＣ（株）製）、シルフェイスＳＡＧ５０３Ａ、ダイノール６０４（日信化学工業（株）製）、ＳＮスパーズ２１８０、ＳＮスパーズ２１９０、ＳＮレベラーＳ−９０６（サンノプコ（株）製）、Ｓ−３８６、Ｓ−４２０（ＡＧＣセイミケミカル（株）製）といったものが例示できる。
このうち、アニオン系分散剤がより好ましく、酸価が１０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以上４００（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以下のアニオン系分散剤が更に好ましく、酸価が４０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以上２５０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以下のアニオン系分散剤が特に好ましく、酸価が５０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以上１５０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以下のアニオン系分散剤が最も好ましい。
分散剤を使用する場合にその含有量は、高屈折率樹脂又は低屈折率樹脂の総量１００質量部中１質量部以上４５質量部以下が好ましい。
この含有量の好ましい上限としては、４０質量部、更に好ましくは３５質量部、特に好ましくは３０質量部、最も好ましくは２５質量部である。
また好ましい下限としては、５質量部、更に好ましくは８質量部、特に好ましくは１０質量部、最も好ましくは１５質量部である。
このうち、アニオン系分散剤がより好ましく、酸価が１０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以上４００（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以下のアニオン系分散剤が更に好ましく、酸価が４０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以上２５０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以下のアニオン系分散剤が特に好ましく、酸価が５０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以上１５０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以下のアニオン系分散剤が最も好ましい。
分散剤を使用する場合にその含有量は、高屈折率樹脂又は低屈折率樹脂の総量１００質量部中１質量部以上４５質量部以下が好ましい。
この含有量の好ましい上限としては、４０質量部、更に好ましくは３５質量部、特に好ましくは３０質量部、最も好ましくは２５質量部である。
また好ましい下限としては、５質量部、更に好ましくは８質量部、特に好ましくは１０質量部、最も好ましくは１５質量部である。
分散に使用するバインダーとしては、微粒子を分散維持できる樹脂であれば、特に制限はなく、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂等が挙げられる。
熱可塑性樹脂としては、高密度ポリエチレン樹脂、低密度ポリエチレン樹脂、直鎖状低密度ポリエチレン樹脂、超低密度ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリブタジエン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、ポリスチレン樹脂、エチレン酢酸ビニルコポリマー、アイオノマー樹脂、エチレンビニルアルコール共重合樹脂、エチレンアクリル酸エチル共重合体、アクリロニトリル・スチレン樹脂、アクリロニトリル・塩素化ポリスチレン・スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル・アクリルゴム・スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル・ＥＰＤＭ・スチレン共重合樹脂、シリコーンゴム・アクリロニトリル・スチレン共重合樹脂、セルロース・アセテート・ブチレート樹脂、酢酸セルロース樹脂、メタクリル樹脂、エチレン・メチルメタクリレートコポリマー樹脂、エチレン・エチルアクリレート樹脂、塩化ビニル樹脂、塩素化ポリエチレン樹脂、ポリ４フッ化エチレン樹脂、４フッ化エチレン・６フッ化プロピレン共重合樹脂、４フッ化エチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合樹脂、４フッ化エチレン・エチレン共重合樹脂、ポリ３フッ化塩化エチレン樹脂、ポリフッ化ビニリデン樹脂、ナイロン４，６、ナイロン６、ナイロン６，６、ナイロン６，１０、ナイロン６，１２、ナイロン１２、ナイロン６，Ｔ、ナイロン９，Ｔ、芳香族ナイロン樹脂、ポリアセタール樹脂、超高分子量ポリエチレン樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、非晶性コポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、変性ポリフェニレンエーテル樹脂、熱可塑性ポリウレタンエラストマー、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、液晶ポリマー、ポリテトラフロロエチレン樹脂、ポリフロロアルコキシ樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリケトン樹脂、熱可塑性ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリサルフォン樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂、生分解樹脂、バイオマス樹脂が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、これらの樹脂２種以上を混合させたものであっても良い。
熱可塑性樹脂としては、高密度ポリエチレン樹脂、低密度ポリエチレン樹脂、直鎖状低密度ポリエチレン樹脂、超低密度ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリブタジエン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、ポリスチレン樹脂、エチレン酢酸ビニルコポリマー、アイオノマー樹脂、エチレンビニルアルコール共重合樹脂、エチレンアクリル酸エチル共重合体、アクリロニトリル・スチレン樹脂、アクリロニトリル・塩素化ポリスチレン・スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル・アクリルゴム・スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル・ＥＰＤＭ・スチレン共重合樹脂、シリコーンゴム・アクリロニトリル・スチレン共重合樹脂、セルロース・アセテート・ブチレート樹脂、酢酸セルロース樹脂、メタクリル樹脂、エチレン・メチルメタクリレートコポリマー樹脂、エチレン・エチルアクリレート樹脂、塩化ビニル樹脂、塩素化ポリエチレン樹脂、ポリ４フッ化エチレン樹脂、４フッ化エチレン・６フッ化プロピレン共重合樹脂、４フッ化エチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合樹脂、４フッ化エチレン・エチレン共重合樹脂、ポリ３フッ化塩化エチレン樹脂、ポリフッ化ビニリデン樹脂、ナイロン４，６、ナイロン６、ナイロン６，６、ナイロン６，１０、ナイロン６，１２、ナイロン１２、ナイロン６，Ｔ、ナイロン９，Ｔ、芳香族ナイロン樹脂、ポリアセタール樹脂、超高分子量ポリエチレン樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、非晶性コポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、変性ポリフェニレンエーテル樹脂、熱可塑性ポリウレタンエラストマー、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、液晶ポリマー、ポリテトラフロロエチレン樹脂、ポリフロロアルコキシ樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリケトン樹脂、熱可塑性ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリサルフォン樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂、生分解樹脂、バイオマス樹脂が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、これらの樹脂２種以上を混合させたものであっても良い。
熱硬化性樹脂としては、加熱により硬化可能な官能基を有する化合物であれば特に限定されず、例えば、エポキシ基、オキセタニル基等の環状エーテルを有する硬化性化合物が挙げられる。また、光硬化性樹脂としては、光照射により硬化可能な官能基を有する化合物であれば特に限定されず、例えば、ビニル基、ビニルエーテル基、アリル基、マレイミド基、（メタ）アクリル基等の不飽和二重結合を有する硬化性化合物を有する樹脂が挙げられる。
上記環状エーテルを有する熱硬化性樹脂としては特に限定されず、例えば、エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、フラン樹脂等が挙げられる。なかでも、反応速度や汎用性の観点からエポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、オキセタン樹脂が好適である。上記エポキシ樹脂としては特に限定されず、例えば、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型、ビフェニルノボラック型、トリスフェノールノボラック型、ジシクロペンタジエンノボラック型等のノボラック型；ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型、２，２’−ジアリルビスフェノールＡ型、水添ビスフェノール型、ポリオキシプロピレンビスフェノールＡ型等のビスフェノール型等が挙げられる。また、その他にグリシジルアミン等も挙げられる。
上記エポキシ樹脂の市販品としては、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂としては、エピクロンＮ−７４０、Ｎ−７７０、Ｎ−７７５（以上、いずれも大日本インキ化学製）、エピコート１５２、エピコート１５４（以上、いずれもジャパンエポキシレジン製）等が挙げられる。クレゾールノボラック型としては、例えば、エピクロンＮ−６６０、Ｎ−６６５、Ｎ−６７０、Ｎ−６７３、Ｎ−６８０、Ｎ−６９５、Ｎ−６６５−ＥＸＰ、Ｎ−６７２−ＥＸＰ（以上、いずれも大日本インキ化学製）；ビフェニルノボラック型としては、例えば、ＮＣ−３０００Ｐ（日本化薬製）；トリスフェノールノボラック型としては、例えば、ＥＰ１０３２Ｓ５０、ＥＰ１０３２Ｈ６０（以上、いずれもジャパンエポキシレジン製）；ジシクロペンタジエンノボラック型としては、例えば、ＸＤ−１０００−Ｌ（日本化薬製）、ＨＰ−７２００（大日本インキ化学製）；ビスフェノールＡ型エポキシ化合物としては、例えば、エピコート８２８、エピコート８３４、エピコート１００１、エピコート１００４（以上、いずれもジャパンエポキシレジン製）、エピクロン８５０、エピクロン８６０、エピクロン４０５５（以上、いずれも大日本インキ化学工業製）；ビスフェノールＦ型エポキシ化合物の市販品としては、例えば、エピコート８０７（ジャパンエポキシレジン製）、エピクロン８３０（大日本インキ化学工業製）；２，２’−ジアリルビスフェノールＡ型としては、例えば、ＲＥ−８１０ＮＭ（日本化薬製）；水添ビスフェノール型としては、例えば、ＳＴ−５０８０（東都化成製）；ポリオキシプロピレンビスフェノールＡ型としては、例えば、ＥＰ−４０００、ＥＰ−４００５（以上、いずれも旭電化工業製）等が挙げられる。
上記オキセタン化合物の市販品として、例えば、エタナコールＥＨＯ、エタナコールＯＸＢＰ、エタナコールＯＸＴＰ、エタナコールＯＸＭＡ（以上、いずれも宇部興産製）等が挙げられる。また、上記脂環式エポキシ化合物としては特に限定されず、例えば、セロキサイド２０２１、セロキサイド２０８０、セロキサイド３０００（以上、いずれもダイセル・ユーシービー製）等が挙げられる。これらの環状エーテル基を有する硬化性化合物は、単独で用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
ビニルエーテル基、アリル基、マレイミド基、（メタ）アクリル基等を有する樹脂が挙げられ、なかでも反応性や汎用性の面より（メタ）アクリル基を有する樹脂が好ましい。なお、本明細書において、（メタ）アクリル基とは、アクリル基又はメタクリル基のことをいう。
（メタ）アクリル基を有する樹脂としては例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、１、４−ブタンジオールモノ（メタ）アクリレート、カルビトール（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、水酸基含有（メタ）アクリレートと多カルボン酸化合物の酸無水物の反応物であるハーフエステル、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンポリエトキシトリ（メタ）アクリレート、グリセリンポリプロポキシトリ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのε−カプロラクトン付加物のジ（メタ）アクリレート（例えば日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ ＨＸ−２２０、ＨＸ−６２０等）、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールとε−カプロラクトンの反応物のポリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート（例えば日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ等）、モノ又はポリグリシジル化合物と（メタ）アクリル酸の反応物であるエポキシ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
モノ又はポリグリシジル化合物と（メタ）アクリル酸の反応物であるエポキシ（メタ）アクリレートに用いられるグリシジル化合物としては、特に制限はなく、例えば、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、４，４’−ビフェニルフェノール、テトラメチルビスフェノールＡ、ジメチルビスフェノールＡ、テトラメチルビスフェノールＦ、ジメチルビスフェノールＦ、テトラメチルビスフェノールＳ、ジメチルビスフェノールＳ、テトラメチル−４，４’−ビフェノール、ジメチル−４、４’−ビフェニルフェノール、１−（４−ヒドロキシフェニル）−２−［４−（１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）エチル）フェニル］プロパン、２，２’−メチレン−ビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、トリスヒドロキシフェニルメタン、レゾルシノール、ハイドロキノン、ピロガロール、ジイソプロピリデン骨格を有するフェノール類、１，１−ジ−４−ヒドロキシフェニルフルオレン等のフルオレン骨格を有するフェノール類、フェノール化ポリブタジエン、ブロム化ビスフェノールＡ、ブロム化ビスフェノールＦ、ブロム化ビスフェノールＳ、ブロム化フェノールノボラック、ブロム化クレゾールノボラック、クロル化ビスフェノールＳ、クロル化ビスフェノールＡ等のポリフェノール類のグリシジルエーテル化物が挙げられる。
これらモノ又はポリグリシジル化合物と（メタ）アクリル酸の反応物であるエポキシ（メタ）アクリレートは、そのエポキシ基に当量の（メタ）アクリル酸をエステル化反応させる事によって得ることができる。この合成反応は一般的に知られている方法により行うことができる。例えば、レゾルシンジグリシジルエーテルにその当量の（メタ）アクリル酸を、触媒（例えば、ベンジルジメチルアミン、トリエチルアミン、ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、トリフェニルホスフィン、トリフェニルスチビン等）及び重合防止剤（例えば、メトキノン、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、フェノチアジン、ジブチルヒドロキシトルエン等）と共に添加して、例えば８０℃〜１１０℃でエステル化反応を行う。こうして得られた（メタ）アクリル化レゾルシンジグリシジルエーテルは、ラジカル重合性の（メタ）アクリロイル基を有する樹脂である。
また、上記バインダーは、必要に応じて、光反応開始剤や熱硬化剤を加える事ができる。光反応開始剤としては、光照射により、硬化性樹脂中の不飽和二重結合やエポキシ基等を重合反応させるためのものであれば特に制限は無く、例えば、カチオン重合型光開始剤やラジカル重合型光開始剤が挙げられる。また、熱硬化剤としては、加熱により硬化性樹脂中の不飽和二重結合やエポキシ基等を反応させ、架橋させるためのものであれば特に制限は無く、例えば酸無水物、アミン類、フェノール類、イミダゾール類、ジヒドラジン類、ルイス酸、ブレンステッド酸塩類、ポリメルカプトン類、イソシアネート類、ブロックイソシアネート類等が挙げられる。
高屈折率樹脂又は低屈折率樹脂中の微粒子の含有率は２０質量％〜９５質量％、好ましくは３０質量％〜９０質量％、より好ましくは４０質量％〜９０質量％である。９５質量％より多くなると、バインダー成分が少なくなる為、膜が硬化しなくなり、積層することが困難となる。さらに、電気伝導性微粒子の場合、微粒子同士が繋がるため電波透過性能が付与できなくなる。また、２０質量％より少なくなると、樹脂バインダーの屈折率が支配的となり赤外反射性能を付与できなくなる。
［積層、乾燥工程］
高屈折率樹脂、低屈折率樹脂が、公知の塗布方式から適宜選択して、支持体上に塗布、乾燥して製造することが好ましい。塗布方式について特に限定しないが、コンマコーター、スプレーコーター、ロールコーター、ナイフコーター等が挙げられるが、各層の平滑性の為に好ましくはバーコーター、スピンコーター、ダイコーター、マイクログラビアコーター等の薄膜作製に適したコーティング装置の使用が良い。また塗布後、一定の温度条件下で乾燥させ、これを繰り返すことで（Ａ−１）高屈折率層、（Ａ−２）低屈折率層を形成する。塗布後の乾燥温度は、溶剤の揮発性や、基材フィルムの耐熱性等を鑑みて設定する。一般的には４０度〜１２０度の範囲で設定することが多い。
高屈折率樹脂、低屈折率樹脂が、公知の塗布方式から適宜選択して、支持体上に塗布、乾燥して製造することが好ましい。塗布方式について特に限定しないが、コンマコーター、スプレーコーター、ロールコーター、ナイフコーター等が挙げられるが、各層の平滑性の為に好ましくはバーコーター、スピンコーター、ダイコーター、マイクログラビアコーター等の薄膜作製に適したコーティング装置の使用が良い。また塗布後、一定の温度条件下で乾燥させ、これを繰り返すことで（Ａ−１）高屈折率層、（Ａ−２）低屈折率層を形成する。塗布後の乾燥温度は、溶剤の揮発性や、基材フィルムの耐熱性等を鑑みて設定する。一般的には４０度〜１２０度の範囲で設定することが多い。
［（Ｂ）熱線吸収膜］
本発明の熱線遮蔽構造体は、（Ａ）熱線反射膜に加えて、更に（Ｂ）熱線吸収膜を有する構造が好ましい。この（Ｂ）熱線吸収膜としては、（Ｂ−１）無機酸化物及び／又は色素、（Ｂ−２）バインダー樹脂、（Ｂ−３）光重合開始剤を有する場合が更に好ましい。
本発明の熱線遮蔽構造体は、（Ａ）熱線反射膜に加えて、更に（Ｂ）熱線吸収膜を有する構造が好ましい。この（Ｂ）熱線吸収膜としては、（Ｂ−１）無機酸化物及び／又は色素、（Ｂ−２）バインダー樹脂、（Ｂ−３）光重合開始剤を有する場合が更に好ましい。
［（Ｂ−１）無機酸化物及び／又は色素］
無機酸化物としては、近赤外部から遠赤外部にかけて良好な吸収特性を有している遮熱微粒子が適しているものであれば特に限定されないが、可視光の透過性に優れているものを用いることが好ましい。例えば、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化タングステン、酸化クロム、酸化モリブデン等を例示することができる。このうち、可視光領域に光吸収性のない酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛又は酸化タングステン等の金属酸化物の微粒子が好ましく、酸化インジウム又は酸化タングステンがより好ましく、酸化インジウムの微粒子が特に好ましい。また、これらの酸化物の電気導電性を向上させるために第三成分をドープすることが好ましい。このためのドーパントとしては、酸化錫に対してはＳｂ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ等が選ばれ、酸化インジウムに対してはＺｎ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｇａ、Ｇｅ等が選ばれ、酸化亜鉛に対しては、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｎｂ等が選ばれ、酸化タングステンに対しては、Ｃｓ、Ｒｂ、Ｋ、Ｔｌ、Ｉｎ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｆｅ、Ｓｎ、Ａｌ等が選ばれる。本発明においては、錫含有酸化インジウム（ＩＴＯともいう）、セシウム含有酸化タングステン（ＣＷＯともいう）又はアンチモン含有酸化錫（ＡＴＯ）がより好ましく、錫含有酸化インジウム（ＩＴＯ）又はセシウム含有酸化タングステン（ＣＷＯともいう）が更に好ましい。ドーパントの含量は特に限定されないが、ドーパントされた金属の総量に対して、１〜２０質量％程度、好ましくは、５〜１５質量％程度である。ＩＴＯにおける錫含量も同じである。
無機酸化物としては、近赤外部から遠赤外部にかけて良好な吸収特性を有している遮熱微粒子が適しているものであれば特に限定されないが、可視光の透過性に優れているものを用いることが好ましい。例えば、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化タングステン、酸化クロム、酸化モリブデン等を例示することができる。このうち、可視光領域に光吸収性のない酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛又は酸化タングステン等の金属酸化物の微粒子が好ましく、酸化インジウム又は酸化タングステンがより好ましく、酸化インジウムの微粒子が特に好ましい。また、これらの酸化物の電気導電性を向上させるために第三成分をドープすることが好ましい。このためのドーパントとしては、酸化錫に対してはＳｂ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ等が選ばれ、酸化インジウムに対してはＺｎ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｇａ、Ｇｅ等が選ばれ、酸化亜鉛に対しては、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｎｂ等が選ばれ、酸化タングステンに対しては、Ｃｓ、Ｒｂ、Ｋ、Ｔｌ、Ｉｎ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｆｅ、Ｓｎ、Ａｌ等が選ばれる。本発明においては、錫含有酸化インジウム（ＩＴＯともいう）、セシウム含有酸化タングステン（ＣＷＯともいう）又はアンチモン含有酸化錫（ＡＴＯ）がより好ましく、錫含有酸化インジウム（ＩＴＯ）又はセシウム含有酸化タングステン（ＣＷＯともいう）が更に好ましい。ドーパントの含量は特に限定されないが、ドーパントされた金属の総量に対して、１〜２０質量％程度、好ましくは、５〜１５質量％程度である。ＩＴＯにおける錫含量も同じである。
また、上記無機酸化物は、平均粒子径が２００ｎｍ以下、通常１〜１００ｎｍの微粒子が用いられる。該微粒子の平均粒子径としては、１０〜５０ｎｍが好ましく、より好ましくは１０〜４０ｎｍであり、最も好ましくは１０〜３０ｎｍ程度である。該平均粒子径は、ＢＥＴ（Ｂｒｕｎａｕｅｒ,Ｅｍｍｅｔ ａｎｄ Ｔｅｌｌｅｒ ｅｑｕａｔｉｏｎ）法によって求められた比表面積より算出されたものである。平均粒子径が大きくなり過ぎると熱線遮蔽シートにした際、ヘイズ値が高くなり視認性が劣ってしまう。
また、該微粒子としては、６０ＭＰａで圧縮した際の粉体抵抗（粉体抵抗測定システムＭＣＰ−ＰＤ５１型、三菱化学アナリテック（株）製で測定）が通常１００Ω・ｃｍ以下、好ましくは１０Ω・ｃｍ以下、より好ましくは２Ω・ｃｍ以下であり、最も好ましくは、１Ω・ｃｍ以下の微粒子が用いられる。下限は特にないが、通常０．１Ω・ｃｍ以上であり、製造のし易さなどからは０．４Ω・ｃｍ以上が好ましい。粉体抵抗が１００Ω・ｃｍより高い微粒子を用いた場合、該微粒子のプラズマ振動に由来する反射が２５００ｎｍより大きくなり熱線遮蔽効果が低減する。
また、該微粒子としては、６０ＭＰａで圧縮した際の粉体抵抗（粉体抵抗測定システムＭＣＰ−ＰＤ５１型、三菱化学アナリテック（株）製で測定）が通常１００Ω・ｃｍ以下、好ましくは１０Ω・ｃｍ以下、より好ましくは２Ω・ｃｍ以下であり、最も好ましくは、１Ω・ｃｍ以下の微粒子が用いられる。下限は特にないが、通常０．１Ω・ｃｍ以上であり、製造のし易さなどからは０．４Ω・ｃｍ以上が好ましい。粉体抵抗が１００Ω・ｃｍより高い微粒子を用いた場合、該微粒子のプラズマ振動に由来する反射が２５００ｎｍより大きくなり熱線遮蔽効果が低減する。
該微粒子の製法は、上記のものが得られれば特に制限はなく、気相合成法、液層合成法等の公知の方法により得ることができる。例えば酸化インジウム微粒子については、特開平６−２２７８１５号公報に開示されている方法で良い。すなわち、特定の微粒子元素を含んだ塩の水溶液をアルカリにより中和し、得られた沈殿物をろ過、洗浄し、高温で加熱処理することにより微粒子を得る方法である。また、酸化錫微粒子、酸化亜鉛微粒子の製法については、それぞれ特開平２−１０５８７５号公報、特開平６−２３４５２２号公報に開示されている。また、上記性能を満たす微粒子であれば、市販されているものでも構わない。市販品としては、ＩＴＯまたは超微粒ＩＴＯ等として、ＣＩＫナノテック（株）、住友金属工業（株）、三菱マテリアル（株）等から販売されており、上記の平均粒子経と粉体抵抗値を満たすものは何れも使用可能である。その中でも、ＩＴＯ−Ｒ（ＣＩＫナノテック（株）製）はより好ましい。
また色素としては、無機系、有機系の染料および顔料のいずれでも良く特に限定されないが、可視光透過率を損なわずに熱線遮蔽性能を向上するためには波長５００ｎｍ〜６００ｎｍに極大吸収を有さない色素が好ましい。
無機系顔料として、例えばコバルト系色素、鉄系色素、クロム系色素、チタン系色素、バナジウム系色素、ジルコニウム系色素、モリブデン系色素、ルテニウム系色素、マンガン系色素、銅系色素、ランタン系色素等を用いることができる。この内好ましくはコバルト系色素、鉄系色素、クロム系色素、チタン系色素、バナジウム系色素、ジルコニウム系色素、モリブデン系色素、鉛系色素、マンガン系色素、銅系色素、ランタン系色素であり、更に好ましくはコバルト系色素、鉄系色素、クロム系色素、バナジウム系色素、ジルコニウム系色素、モリブデン系色素、マンガン系色素、銅系色素、ランタン系色素であり、特に好ましくはコバルト系色素、鉄系色素、クロム系色素、マンガン系色素、銅系色素、ランタン系色素である。
有機系顔料、有機系染料としては、例えばジイモニウム系色素、アンスラキノン系色素、アミニウム系色素、シアニン系色素、メロシアニン系色素、クロコニウム系色素、スクアリウム系色素、アズレニウム系色素、ポリメチン系色素、ナフトキノン系色素、ピリリウム系色素、ポルフィラジン系色素、ナフトラクタム系色素、アゾ系色素、縮合アゾ系色素、インジゴ系色素、ペリノン系色素等を用いることができる。このうち好ましくはポルフィラジン系色素であり、下記式（１）で表されるものが好ましい。
無機系顔料として、例えばコバルト系色素、鉄系色素、クロム系色素、チタン系色素、バナジウム系色素、ジルコニウム系色素、モリブデン系色素、ルテニウム系色素、マンガン系色素、銅系色素、ランタン系色素等を用いることができる。この内好ましくはコバルト系色素、鉄系色素、クロム系色素、チタン系色素、バナジウム系色素、ジルコニウム系色素、モリブデン系色素、鉛系色素、マンガン系色素、銅系色素、ランタン系色素であり、更に好ましくはコバルト系色素、鉄系色素、クロム系色素、バナジウム系色素、ジルコニウム系色素、モリブデン系色素、マンガン系色素、銅系色素、ランタン系色素であり、特に好ましくはコバルト系色素、鉄系色素、クロム系色素、マンガン系色素、銅系色素、ランタン系色素である。
有機系顔料、有機系染料としては、例えばジイモニウム系色素、アンスラキノン系色素、アミニウム系色素、シアニン系色素、メロシアニン系色素、クロコニウム系色素、スクアリウム系色素、アズレニウム系色素、ポリメチン系色素、ナフトキノン系色素、ピリリウム系色素、ポルフィラジン系色素、ナフトラクタム系色素、アゾ系色素、縮合アゾ系色素、インジゴ系色素、ペリノン系色素等を用いることができる。このうち好ましくはポルフィラジン系色素であり、下記式（１）で表されるものが好ましい。
環Ａ、Ｂ、Ｃ又はＤの破線部が、上記式（３）又は（４）であるとき、形成される芳香環はピリジン環であり、該破線部が上記式（５）〜（７）のいずか一つであるとき形成される芳香環はピラジン環であり、該破線部が上記式（８）であるとき、形成される芳香環はナフタレン環である。Ｚにおける第１又は第２級アミンの窒素原子上の水素の少なくとも１つを除いた残基としてはモノ低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基等を挙げることができる。また、酸アミド基としては、置換基を有してもよいフタル酸アミド基等を挙げることができる。窒素原子を含む複素環の窒素原子上の水素の少なくとも１つを除いた残基としては、置換基を有してもよいピリジノ基、置換基を有してもよいピペラジノ基、又は置換基を有してもよいピペリジノ基等を挙げることができる。
前記式（１）中、環Ａ乃至Ｄにおける芳香環としては、例えば、ベンゼン環またはナフタレン環をはじめ、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環等の窒素原子を１個又は２個含む含窒素複素芳香環が挙げられる。これらの中ではベンゼン環、ピリジン環及びナフタレン環からなる群から選択される何れか一つ又は２つの組み合わせが好ましく、全てが同じ芳香環であってもよい。環Ａ乃至Ｄのうち、平均で、１〜４個、好ましくは２〜４個の、ピリジン環又はナフタレン環を含む方が好ましい。この場合、残りはベンゼン環である。より好ましくはベンゼン環が０〜２個で、ピリジン環が０〜３個、ナフタレン環が１〜４個の範囲内で合計が４となる組合せである。更に好ましい組み合わせを挙げれば、ベンゼン環が０〜２個で、ナフタレン環が２〜４個の範囲で合計が４となる組み合わせ又はピリジン環が１〜３個及びナフタレン環が１〜３個の範囲で、両者の合計が４となる組み合わせである。なお、環Ａ乃至Ｄがピリジン環とナフタレン環の組合せからなる態様はより好ましい態様の一つである。また、ピリジン環の中では、前記式（４）の構造から形成されるピリジン環が好ましい。
前記式（１）において、Ｍは水素原子、金属原子、金属酸化物、金属水酸化物、又は金属ハロゲン化物を表す。Ｍが水素原子以外である場合、該Ｍは式（１）におけるポルフィリン環がいわゆる中心金属を有することを意味する。又、Ｍが水素原子である場合、該ポルフィリン環は中心金属を有しないことを意味する。
前記Ｍにおける金属原子の具体例としては例えば、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｈｇ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ又はＢｉ等が挙げられる。
金属酸化物としてはＶＯ又はＧｅＯ等が挙げられる。金属水酸化物としては例えば、Ｓｉ（ＯＨ）２、Ｃｒ（ＯＨ）２、Ｓｎ（ＯＨ）２又はＡｌＯＨ等が挙げられる。金属ハロゲン化物としては例えば、ＳｉＣｌ２、ＶＣｌ、ＶＣｌ２、ＶＯＣｌ、ＦｅＣｌ、ＧａＣｌ、ＺｒＣｌ又はＡｌＣｌ等が挙げられる。これらの中でも、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ａｌ又はＶ等の金属原子、ＶＯ等の金属酸化物、又は、ＡｌＯＨ等の金属水酸化物等が好ましい。より好ましくはＣｕ又はＶＯが挙げられ、ＶＯが最も好ましい。
前記式（１）中のＸは低級アルキル基、低級アルコキシ基、アミノ基、ニトロ基、ハロゲン基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホン酸基又はスルホンアミド基を示す。なお、本明細書における「低級」とは炭素数１〜４を示す。
Ｙにおける二価の連結基としては例えば炭素数１〜３のアルキレン基、−ＣＯ２−、−ＳＯ２−又は−ＳＯ２ＮＨ（ＣＨ２）ｃ−（ここで、ｃは０〜４を表す）が挙げられる。好ましいＹは、炭素数１〜３のアルキレン基又は−ＳＯ２ＮＨ−であり、炭素数１〜３のアルキレン基がより好ましい。好ましいＺとしては例えば、カルボキシ基、スルホン酸基、置換基を有してもよいフタルイミド基、置換基を有してもよいピペラジノ基、置換基を有してもよいピペリジノ基等を挙げることができる。より好ましいＺはカルボキシ基、スルホン酸基、又は、置換基を有してもよいフタルイミド基であり、置換基を有してもよいフタルイミド基が更に好ましい。なお、Ｚが置換基を有してもよいフタルイミド基、置換基を有してもよいピペラジノ基又は置換基を有してもよいピペリジノ基であるときの置換基としては低級アルキル基、低級アルコキシ基、置換アミノ基、ニトロ基、ハロゲン原子又はスルホン酸基等を挙げることができる。Ｚが、上記の置換基を有してもよい基であるとき、無置換又はハロゲノ置換された基が好ましい。より好ましいＺは、無置換又はハロゲノ置換フタルイミド基であり、無置換フタルイミドが最も好ましい。
式（１）の近赤外線吸収色素において置換アミノ基は特に限定されないが、例えば低級アルキル基又は低級アルコキシ基が置換したアミノ基が含まれる。なおハロゲン原子としてはＣｌ、Ｂｒ又はＩが好ましい。
前記式（１）中のａ、ｂはそれぞれ０以上１２以下、かつ、ａとｂとの和は０以上１２以下である。好ましくはａ、ｂはそれぞれ独立に０以上４以下で、且つ、ａとｂとの和は０以上４以下である。本発明においては、式（１）においてａとｂが共に０であるポルフィラジン色素が好ましい。
前記Ｍにおける金属原子の具体例としては例えば、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｈｇ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ又はＢｉ等が挙げられる。
金属酸化物としてはＶＯ又はＧｅＯ等が挙げられる。金属水酸化物としては例えば、Ｓｉ（ＯＨ）２、Ｃｒ（ＯＨ）２、Ｓｎ（ＯＨ）２又はＡｌＯＨ等が挙げられる。金属ハロゲン化物としては例えば、ＳｉＣｌ２、ＶＣｌ、ＶＣｌ２、ＶＯＣｌ、ＦｅＣｌ、ＧａＣｌ、ＺｒＣｌ又はＡｌＣｌ等が挙げられる。これらの中でも、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ａｌ又はＶ等の金属原子、ＶＯ等の金属酸化物、又は、ＡｌＯＨ等の金属水酸化物等が好ましい。より好ましくはＣｕ又はＶＯが挙げられ、ＶＯが最も好ましい。
前記式（１）中のＸは低級アルキル基、低級アルコキシ基、アミノ基、ニトロ基、ハロゲン基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホン酸基又はスルホンアミド基を示す。なお、本明細書における「低級」とは炭素数１〜４を示す。
Ｙにおける二価の連結基としては例えば炭素数１〜３のアルキレン基、−ＣＯ２−、−ＳＯ２−又は−ＳＯ２ＮＨ（ＣＨ２）ｃ−（ここで、ｃは０〜４を表す）が挙げられる。好ましいＹは、炭素数１〜３のアルキレン基又は−ＳＯ２ＮＨ−であり、炭素数１〜３のアルキレン基がより好ましい。好ましいＺとしては例えば、カルボキシ基、スルホン酸基、置換基を有してもよいフタルイミド基、置換基を有してもよいピペラジノ基、置換基を有してもよいピペリジノ基等を挙げることができる。より好ましいＺはカルボキシ基、スルホン酸基、又は、置換基を有してもよいフタルイミド基であり、置換基を有してもよいフタルイミド基が更に好ましい。なお、Ｚが置換基を有してもよいフタルイミド基、置換基を有してもよいピペラジノ基又は置換基を有してもよいピペリジノ基であるときの置換基としては低級アルキル基、低級アルコキシ基、置換アミノ基、ニトロ基、ハロゲン原子又はスルホン酸基等を挙げることができる。Ｚが、上記の置換基を有してもよい基であるとき、無置換又はハロゲノ置換された基が好ましい。より好ましいＺは、無置換又はハロゲノ置換フタルイミド基であり、無置換フタルイミドが最も好ましい。
式（１）の近赤外線吸収色素において置換アミノ基は特に限定されないが、例えば低級アルキル基又は低級アルコキシ基が置換したアミノ基が含まれる。なおハロゲン原子としてはＣｌ、Ｂｒ又はＩが好ましい。
前記式（１）中のａ、ｂはそれぞれ０以上１２以下、かつ、ａとｂとの和は０以上１２以下である。好ましくはａ、ｂはそれぞれ独立に０以上４以下で、且つ、ａとｂとの和は０以上４以下である。本発明においては、式（１）においてａとｂが共に０であるポルフィラジン色素が好ましい。
前記式（１）で表されるポルフィラジン色素の具体例を下記表２−１に化合物Ｎｏ．と共に示す。下記の例は、本発明の色素を具体的に説明するために代表的な色素を示すものであり、本発明は下記の例に限定されるものではない。また、環Ａ乃至Ｄの含窒素複素芳香環が前記式（３）、（４）及び（６）である場合、窒素原子の位置異性体が存在し、色素合成の際には異性体の混合物として得られる。これら異性体の単離は困難であり、また分析による異性体の特定も困難である。このため、通常は混合物のまま使用する。本発明の色素は、このような混合物も含むものである。本明細書においては、これらの異性体等を区別することなく、構造式で表示される場合は、便宜的に代表的な１つの構造式を記載する。表１において、Ａ乃至Ｄの欄の数字は、前記式（２）〜（８）の式番号を示し、ａ及びｂの欄には、それぞれ、ａ及びｂの値を示し、Ｘ、Ｙ及びＺの欄には基名を示した。Ｘ、Ｙ及びＺの欄における横線−は置換基が無いことを示す。
前記式（１）で表されるポルフィラジン色素は一般に公知の化合物であるか、若しくは公知の化合物に準じて容易に合成することができる。前記式（１）で表されるポルフィラジン色素は、例えば、国際公開第２０１０／１４３６１９号及び国際公開第２０１０／０１３４５５号に開示された公知の方法に準じて合成することができる。なお、上記方法によって得られる前記式（１）で表される化合物は、環Ａ乃至Ｄにおける含窒素複素芳香環の置換位置、及び含窒素複素芳香環の窒素原子の置換位置に関する位置異性体の混合物となることも、上記公知文献に記載の通りである。また、前記表１におけるＮｏ．３やＮｏ．１８で示される化合物は、上記国際公開の他、例えば、特許第２５０７７８６号公報及び特許第３８１３７５０号公報に開示された公知の方法に準じても合成することができる。
また、無機酸化物と色素はいずれか一方が存在すれば本願発明の効果は得られるが、より好ましい態様としては、無機酸化物及び色素の両方を含有する態様である。
成分（Ｂ−１）の（Ｂ）熱線吸収膜中の含有量は、熱線吸収膜の総量１００質量部中５質量部以上６０質量部以下が好ましい。
この含有量の好ましい上限としては、６０質量部、更に好ましくは５０質量部、特に好ましくは４０質量部、最も好ましくは３０質量部である。
また好ましい下限としては、５質量部、更に好ましくは１０質量部、特に好ましくは１５質量部、最も好ましくは２０質量部である。
成分（Ｂ−１）の熱線吸収膜中の含有量として最も好ましい範囲は２０質量部以上３０質量部以下である。
なお、無機酸化物及び色素の両方を用いる場合、無機酸価物：色素の比として、好ましくは２０：１〜１：１であり、更に好ましくは１５：１〜２：１であり、特に好ましくは１２：１〜５：１である。
この含有量の好ましい上限としては、６０質量部、更に好ましくは５０質量部、特に好ましくは４０質量部、最も好ましくは３０質量部である。
また好ましい下限としては、５質量部、更に好ましくは１０質量部、特に好ましくは１５質量部、最も好ましくは２０質量部である。
成分（Ｂ−１）の熱線吸収膜中の含有量として最も好ましい範囲は２０質量部以上３０質量部以下である。
なお、無機酸化物及び色素の両方を用いる場合、無機酸価物：色素の比として、好ましくは２０：１〜１：１であり、更に好ましくは１５：１〜２：１であり、特に好ましくは１２：１〜５：１である。
［（Ｂ−２）バインダー樹脂］
本発明の熱線吸収構造体に用いられる熱線吸収膜は、（Ｂ−２）バインダー樹脂を含有する。なお、アクリルモノマーのような低分子化合物も、バインダーとして使用されうるものであれば、本明細書においてはバインダー樹脂と表現する。
（Ｂ−２）は成分（Ｂ−１）の微粒子を分散維持できる樹脂であれば、特に制限はない。通常、熱可塑性樹脂、又は／及び、熱又は光で硬化する硬化性樹脂（熱または光硬化性樹脂とも言う）（具体的には熱硬化性樹脂又は光硬化性樹脂）の硬化物等が挙げられる。
成分（Ｂ−２）の熱線吸収膜中の含有量は、熱線吸収膜の総量１００質量部中２０質量部以上９５質量部以下が好ましい。
この含有量の好ましい上限としては、９５質量部、更に好ましくは９０質量部、特に好ましくは８０質量部、最も好ましくは７０質量部である。
また好ましい下限としては、２０質量部、更に好ましくは３０質量部、特に好ましくは４０質量部、最も好ましくは５０質量部である。
成分（Ｂ−２）の熱線吸収膜中の含有量として最も好ましい範囲は５０質量部以上７０質量部以下である。
本発明の熱線吸収構造体に用いられる熱線吸収膜は、（Ｂ−２）バインダー樹脂を含有する。なお、アクリルモノマーのような低分子化合物も、バインダーとして使用されうるものであれば、本明細書においてはバインダー樹脂と表現する。
（Ｂ−２）は成分（Ｂ−１）の微粒子を分散維持できる樹脂であれば、特に制限はない。通常、熱可塑性樹脂、又は／及び、熱又は光で硬化する硬化性樹脂（熱または光硬化性樹脂とも言う）（具体的には熱硬化性樹脂又は光硬化性樹脂）の硬化物等が挙げられる。
成分（Ｂ−２）の熱線吸収膜中の含有量は、熱線吸収膜の総量１００質量部中２０質量部以上９５質量部以下が好ましい。
この含有量の好ましい上限としては、９５質量部、更に好ましくは９０質量部、特に好ましくは８０質量部、最も好ましくは７０質量部である。
また好ましい下限としては、２０質量部、更に好ましくは３０質量部、特に好ましくは４０質量部、最も好ましくは５０質量部である。
成分（Ｂ−２）の熱線吸収膜中の含有量として最も好ましい範囲は５０質量部以上７０質量部以下である。
成分（Ｂ−２）に用いられうる熱可塑性樹脂としては、高密度ポリエチレン樹脂、低密度ポリエチレン樹脂、直鎖状低密度ポリエチレン樹脂、超低密度ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリブタジエン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、ポリスチレン樹脂、エチレン酢酸ビニルコポリマー、アイオノマー樹脂、エチレンビニルアルコール共重合樹脂、エチレンアクリル酸エチル共重合体、アクリロニトリル・スチレン樹脂、アクリロニトリル・塩素化ポリスチレン・スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル・アクリルゴム・スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル・ＥＰＤＭ・スチレン共重合樹脂、シリコーンゴム・アクリロニトリル・スチレン共重合樹脂、セルロース・アセテート・ブチレート樹脂、酢酸セルロース樹脂、メタクリル樹脂、エチレン・メチルメタクリレートコポリマー樹脂、エチレン・エチルアクリレート樹脂、塩化ビニル樹脂、塩素化ポリエチレン樹脂、ポリ４フッ化エチレン樹脂、４フッ化エチレン・６フッ化プロピレン共重合樹脂、４フッ化エチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合樹脂、４フッ化エチレン・エチレン共重合樹脂、ポリ３フッ化塩化エチレン樹脂、ポリフッ化ビニリデン樹脂、ナイロン４，６、ナイロン６、ナイロン６，６、ナイロン６，１０、ナイロン６，１２、ナイロン１２、ナイロン６，Ｔ、ナイロン９，Ｔ、芳香族ナイロン樹脂、ポリアセタール樹脂、超高分子量ポリエチレン樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、非晶性コポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、変性ポリフェニレンエーテル樹脂、熱可塑性ポリウレタンエラストマー、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、液晶ポリマー、ポリテトラフロロエチレン樹脂、ポリフロロアルコキシ樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリケトン樹脂、熱可塑性ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリサルフォン樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂、生分解樹脂、バイオマス樹脂等が挙げられる。しかし、これらに限定されるものではない。また、これらの樹脂２種以上を混合させたものであっても良い。これらの熱可塑性樹脂の重量平均分子量は１０００〜１，０００，０００程度であり、好ましくは２０００乃至５００，０００程度、より好ましくは２０００〜２００，０００程度である。熱可塑性樹脂として好ましい樹脂は、透明性等の観点から(メタ)アクリル樹脂が好ましく、例えば(メタ)アクリレートポリマー、特に(メタ)アクリル共重合体等が好ましい。
成分（Ｂ−２）に用いられうる熱硬化性樹脂としては、例えばエポキシ基、オキセタニル基等の環状エーテルを有する硬化性化合物が挙げられる。
上記環状エーテルを有する熱硬化性樹脂としては特に限定されず、例えば、エポキシ樹脂（脂環式エポキシ樹脂を含む脂肪族エポキシ樹脂または芳香族エポキシ樹脂）、オキセタン樹脂、フラン樹脂等が挙げられる。なかでも、反応速度や汎用性の観点からエポキシ樹脂（脂肪族環、例えば炭素数３〜１２の脂肪族環を含んでいても良い）、オキセタン樹脂が好適である。上記エポキシ樹脂としては特に限定されず、例えば、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型、ビフェニルノボラック型、トリスフェノールノボラック型、ジシクロペンタジエンノボラック型等のノボラック型；ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型、２，２’−ジアリルビスフェノールＡ型、水添ビスフェノール型、ポリオキシプロピレンビスフェノールＡ型等のビスフェノール型等が挙げられる。また、その他にグリシジルアミン等も挙げられる。
上記エポキシ樹脂の市販品としては、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂としては、エピクロン（登録商標）Ｎ−７４０、Ｎ−７７０、Ｎ−７７５（以上、いずれも大日本インキ化学工業（株）製）、エピコート（登録商標）１５２、エピコート（登録商標）１５４（以上、いずれもジャパンエポキシレジン（株）製）等が挙げられる。クレゾールノボラック型としては、例えば、エピクロン（登録商標）Ｎ−６６０、Ｎ−６６５、Ｎ−６７０、Ｎ−６７３、Ｎ−６８０、Ｎ−６９５、Ｎ−６６５−ＥＸＰ、Ｎ−６７２−ＥＸＰ（以上、いずれも大日本インキ化学工業（株）製）；ビフェニルノボラック型としては、例えば、ＮＣ−３０００Ｐ（日本化薬製）；トリスフェノールノボラック型としては、例えば、ＥＰ１０３２Ｓ５０、ＥＰ１０３２Ｈ６０（以上、いずれもジャパンエポキシレジン（株）製）；ジシクロペンタジエンノボラック型としては、例えば、ＸＤ−１０００−Ｌ（日本化薬（株）製）、ＨＰ−７２００（大日本インキ化学工業（株）製）；ビスフェノールＡ型エポキシ化合物としては、例えば、エピコート（登録商標）８２８、エピコート（登録商標）８３４、エピコート１００１、エピコート（登録商標）１００４（以上、いずれもジャパンエポキシレジン（株）製）、エピクロン（登録商標）８５０、エピクロン（登録商標）８６０、エピクロン（登録商標）４０５５（以上、いずれも大日本インキ化学工業（株）製）；ビスフェノールＦ型エポキシ化合物の市販品としては、例えば、エピコート（登録商標）８０７（ジャパンエポキシレジン（株）製）、エピクロン（登録商標）８３０（大日本インキ化学工業（株）製）；２，２’−ジアリルビスフェノールＡ型としては、例えば、ＲＥ−８１０ＮＭ（日本化薬（株）製）；水添ビスフェノール型としては、例えば、ＳＴ−５０８０（東都化成（株）製）；ポリオキシプロピレンビスフェノールＡ型としては、例えば、ＥＰ−４０００、ＥＰ−４００５（以上、いずれも旭電化工業（株）製）等が挙げられる。
上記オキセタン化合物の市販品として、例えば、エタナコール（登録商標）ＥＨＯ、エタナコール（登録商標）ＯＸＢＰ、エタナコール（登録商標）ＯＸＴＰ、エタナコール（登録商標）ＯＸＭＡ（以上、いずれも宇部興産（株）製）等が挙げられる。また、上記脂環式エポキシ化合物としては特に限定されず、例えば、セロキサイド（登録商標）２０２１、セロキサイド（登録商標）２０８０、セロキサイド（登録商標）３０００（以上、いずれもダイセル・ユーシービー（株）製）等が挙げられる。これらの環状エーテル基を有する硬化性化合物は、単独で用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
上記環状エーテルを有する熱硬化性樹脂としては特に限定されず、例えば、エポキシ樹脂（脂環式エポキシ樹脂を含む脂肪族エポキシ樹脂または芳香族エポキシ樹脂）、オキセタン樹脂、フラン樹脂等が挙げられる。なかでも、反応速度や汎用性の観点からエポキシ樹脂（脂肪族環、例えば炭素数３〜１２の脂肪族環を含んでいても良い）、オキセタン樹脂が好適である。上記エポキシ樹脂としては特に限定されず、例えば、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型、ビフェニルノボラック型、トリスフェノールノボラック型、ジシクロペンタジエンノボラック型等のノボラック型；ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型、２，２’−ジアリルビスフェノールＡ型、水添ビスフェノール型、ポリオキシプロピレンビスフェノールＡ型等のビスフェノール型等が挙げられる。また、その他にグリシジルアミン等も挙げられる。
上記エポキシ樹脂の市販品としては、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂としては、エピクロン（登録商標）Ｎ−７４０、Ｎ−７７０、Ｎ−７７５（以上、いずれも大日本インキ化学工業（株）製）、エピコート（登録商標）１５２、エピコート（登録商標）１５４（以上、いずれもジャパンエポキシレジン（株）製）等が挙げられる。クレゾールノボラック型としては、例えば、エピクロン（登録商標）Ｎ−６６０、Ｎ−６６５、Ｎ−６７０、Ｎ−６７３、Ｎ−６８０、Ｎ−６９５、Ｎ−６６５−ＥＸＰ、Ｎ−６７２−ＥＸＰ（以上、いずれも大日本インキ化学工業（株）製）；ビフェニルノボラック型としては、例えば、ＮＣ−３０００Ｐ（日本化薬製）；トリスフェノールノボラック型としては、例えば、ＥＰ１０３２Ｓ５０、ＥＰ１０３２Ｈ６０（以上、いずれもジャパンエポキシレジン（株）製）；ジシクロペンタジエンノボラック型としては、例えば、ＸＤ−１０００−Ｌ（日本化薬（株）製）、ＨＰ−７２００（大日本インキ化学工業（株）製）；ビスフェノールＡ型エポキシ化合物としては、例えば、エピコート（登録商標）８２８、エピコート（登録商標）８３４、エピコート１００１、エピコート（登録商標）１００４（以上、いずれもジャパンエポキシレジン（株）製）、エピクロン（登録商標）８５０、エピクロン（登録商標）８６０、エピクロン（登録商標）４０５５（以上、いずれも大日本インキ化学工業（株）製）；ビスフェノールＦ型エポキシ化合物の市販品としては、例えば、エピコート（登録商標）８０７（ジャパンエポキシレジン（株）製）、エピクロン（登録商標）８３０（大日本インキ化学工業（株）製）；２，２’−ジアリルビスフェノールＡ型としては、例えば、ＲＥ−８１０ＮＭ（日本化薬（株）製）；水添ビスフェノール型としては、例えば、ＳＴ−５０８０（東都化成（株）製）；ポリオキシプロピレンビスフェノールＡ型としては、例えば、ＥＰ−４０００、ＥＰ−４００５（以上、いずれも旭電化工業（株）製）等が挙げられる。
上記オキセタン化合物の市販品として、例えば、エタナコール（登録商標）ＥＨＯ、エタナコール（登録商標）ＯＸＢＰ、エタナコール（登録商標）ＯＸＴＰ、エタナコール（登録商標）ＯＸＭＡ（以上、いずれも宇部興産（株）製）等が挙げられる。また、上記脂環式エポキシ化合物としては特に限定されず、例えば、セロキサイド（登録商標）２０２１、セロキサイド（登録商標）２０８０、セロキサイド（登録商標）３０００（以上、いずれもダイセル・ユーシービー（株）製）等が挙げられる。これらの環状エーテル基を有する硬化性化合物は、単独で用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
成分（Ｂ−２）に用いられうる光硬化性樹脂としては、例えば、ビニル基、ビニルエーテル基、アリル基、マレイミド基、（メタ）アクリロイル基等を有する樹脂が挙げられる。なかでも反応性や汎用性の面より（メタ）アクリロイル基を有する樹脂、例えば(メタ）アクリレート化合物、が好ましい。なお、本明細書において、「（メタ）アクリロイル」等の用語は、「アクリロイル」又は「メタクリロイル」を意味し、例えば「（メタ）アクリレート」は、「アクリレート」又は「メタクリレート」を意味する。
（メタ）アクリロイル基を有する樹脂としては例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールモノ（メタ）アクリレート、カルビトール（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、水酸基含有（メタ）アクリレートと多カルボン酸化合物の酸無水物の反応物であるハーフエステル，ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンポリエトキシトリ（メタ）アクリレート、グリセリンポリプロポキシトリ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのε−カプロラクトン付加物のジ（メタ）アクリレート（例えば、日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＨＸ−２２０、ＨＸ−６２０等）、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールとε−カプロラクトンの反応物のポリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート（例えば日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＨＡ等）、モノ又はポリグリシジル化合物と（メタ）アクリル酸の反応物であるエポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート化合物を挙げることができる。
モノ又はポリグリシジル化合物と（メタ）アクリル酸の反応物であるエポキシ（メタ）アクリレートに用いられるグリシジル化合物としては、特に制限はなく、例えば、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、４，４’−ビフェニルフェノール、テトラメチルビスフェノールＡ、ジメチルビスフェノールＡ、テトラメチルビスフェノールＦ、ジメチルビスフェノールＦ、テトラメチルビスフェノールＳ、ジメチルビスフェノールＳ、テトラメチル−４，４’−ビフェノール、ジメチル−４，４’−ビフェニルフェノール、１−（４−ヒドロキシフェニル）−２−［４−（１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）エチル）フェニル］プロパン、２，２’−メチレン−ビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、トリスヒドロキシフェニルメタン、レゾルシノール、ハイドロキノン、ピロガロール、ジイソプロピリデン骨格を有するフェノール類、１，１−ジ−４−ヒドロキシフェニルフルオレン等のフルオレン骨格を有するフェノール類、フェノール化ポリブタジエン、ブロム化ビスフェノールＡ、ブロム化ビスフェノールＦ、ブロム化ビスフェノールＳ、ブロム化フェノールノボラック、ブロム化クレゾールノボラック、クロル化ビスフェノールＳ、クロル化ビスフェノールＡ等のポリフェノール類のグリシジルエーテル化物が挙げられる。
これらモノ又はポリグリシジル化合物と（メタ）アクリル酸の反応物であるエポキシ（メタ）アクリレート基は、そのエポキシ基に当量の（メタ）アクリル酸をエステル化反応させる事によって得ることができる。この合成反応は一般的に知られている方法により行うことができる。例えば、レゾルシンジグリシジルエーテルにその当量の（メタ）アクリル酸を、触媒（例えば、ベンジルジメチルアミン、トリエチルアミン、ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、トリフェニルホスフィン、トリフェニルスチビン等）及び重合防止剤（例えば、メトキノン、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、フェノチアジン、ジブチルヒドロキシトルエン等）と共に添加して、例えば８０〜１１０℃でエステル化反応を行う。こうして得られた（メタ）アクリル化レゾルシンジグリシジルエーテルは、ラジカル重合性の（メタ）アクリロイル基を有する樹脂である。
（メタ）アクリロイル基を有する樹脂としては例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールモノ（メタ）アクリレート、カルビトール（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、水酸基含有（メタ）アクリレートと多カルボン酸化合物の酸無水物の反応物であるハーフエステル，ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンポリエトキシトリ（メタ）アクリレート、グリセリンポリプロポキシトリ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのε−カプロラクトン付加物のジ（メタ）アクリレート（例えば、日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＨＸ−２２０、ＨＸ−６２０等）、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールとε−カプロラクトンの反応物のポリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート（例えば日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＨＡ等）、モノ又はポリグリシジル化合物と（メタ）アクリル酸の反応物であるエポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート化合物を挙げることができる。
モノ又はポリグリシジル化合物と（メタ）アクリル酸の反応物であるエポキシ（メタ）アクリレートに用いられるグリシジル化合物としては、特に制限はなく、例えば、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、４，４’−ビフェニルフェノール、テトラメチルビスフェノールＡ、ジメチルビスフェノールＡ、テトラメチルビスフェノールＦ、ジメチルビスフェノールＦ、テトラメチルビスフェノールＳ、ジメチルビスフェノールＳ、テトラメチル−４，４’−ビフェノール、ジメチル−４，４’−ビフェニルフェノール、１−（４−ヒドロキシフェニル）−２−［４−（１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）エチル）フェニル］プロパン、２，２’−メチレン−ビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、トリスヒドロキシフェニルメタン、レゾルシノール、ハイドロキノン、ピロガロール、ジイソプロピリデン骨格を有するフェノール類、１，１−ジ−４−ヒドロキシフェニルフルオレン等のフルオレン骨格を有するフェノール類、フェノール化ポリブタジエン、ブロム化ビスフェノールＡ、ブロム化ビスフェノールＦ、ブロム化ビスフェノールＳ、ブロム化フェノールノボラック、ブロム化クレゾールノボラック、クロル化ビスフェノールＳ、クロル化ビスフェノールＡ等のポリフェノール類のグリシジルエーテル化物が挙げられる。
これらモノ又はポリグリシジル化合物と（メタ）アクリル酸の反応物であるエポキシ（メタ）アクリレート基は、そのエポキシ基に当量の（メタ）アクリル酸をエステル化反応させる事によって得ることができる。この合成反応は一般的に知られている方法により行うことができる。例えば、レゾルシンジグリシジルエーテルにその当量の（メタ）アクリル酸を、触媒（例えば、ベンジルジメチルアミン、トリエチルアミン、ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、トリフェニルホスフィン、トリフェニルスチビン等）及び重合防止剤（例えば、メトキノン、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、フェノチアジン、ジブチルヒドロキシトルエン等）と共に添加して、例えば８０〜１１０℃でエステル化反応を行う。こうして得られた（メタ）アクリル化レゾルシンジグリシジルエーテルは、ラジカル重合性の（メタ）アクリロイル基を有する樹脂である。
成分（Ｂ−２）としては、熱硬化性樹脂又は光硬化性樹脂が好ましく、光硬化性樹脂である場合が更に好ましい。
また、分子内に極性官能基及び２以上の（メタ）アクリロイル基とを併せ持つバインダー樹脂である場合が特に好ましい。
極性官能基とは、例えばヒドロキシ基、カルボキシ基、ホスホ基、アミノ基、イミノ基、カルバモイル基、シアノ基、イソシアナト基、ニトロ基、ニトロソ基、ヒドラジノ基、ウレイド基、グアニジノ基、スルファニル基、スルフィノ基、スルホ基等、又はフリル基、チエニル基、ピロリル基、ピロリジニル基、ピリジル基、ピロリジノ基、ピペリジニル基、モルフォリノ、基、キノリル基等の複素環基等を挙げることができる。なお、各置換基は可能であればアルキル基、アルコキシ基等で置換されていても良い。また、ウレタン結合、エーテル結合、エステル結合（（メタ）アクリロイル基中のエステル結合を除く）等置換基とは異なる極性結合部位も、本明細書においては極性官能基として記載する。
極性官能基を有する２以上の（メタ）アクリロイル基と極性官能基を併せ持つバインダー樹脂としては、例えば、ペンタエリスリトルトリアクリレート（ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０ 日本化薬製）、ジペンタエリスリトルペンタアクリレートとジペンタエリスリトルヘキサアクリレートの混合物又（ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ 日本化薬製）、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート（７０１Ａ 新中村化学製）、エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート（Ａ−９３００ 新中村化学製）、ε−カプロラクトン変性トリス−（２−アクリロキシエチル）イソシアヌレート（Ａ−９３００−１ＣＬ 新中村化学）等の（メタ）アクリレートモノマー化合物、ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート（Ｒ−１１５Ｆ、Ｒ−１３０、Ｒ−３８１等 日本化薬製）、ビスフェノールＦ型エポキシアクリレート（ＺＦＡ−２６６Ｈ 日本化薬製）、酸変性エポキシアクリレート（ＺＡＲシリーズ、ＺＣＲシリーズ、ＺＣＲシリーズ 日本化薬製）等のエポキシアクリレート樹脂、ポリエステル系ウレタンアクリレート（ＵＸ３２０４、ＵＸ−４１０１、ＵＸＴ−６１００ 日本化薬製）、混合系ウレタンアクリレート（ＵＸ−６１０１、ＵＸ−８１０１ 日本化薬製）、ポリエーテル系ウレタンアクリレート（ＵＸ−９３７、ＵＸＦ−４００１−Ｍ３５ 日本化薬製）、エステル系ウレタンアクリレート（ＤＰＨＡ−４０Ｈ、ＵＸ−５０００、ＵＸ−５１０２Ｄ−Ｍ２０、ＵＸ−５１０３Ｄ、ＵＸ−５００５ 日本化薬製）等のウレタンアクリレート樹脂を挙げることができる。
また、分子内に極性官能基及び２以上の（メタ）アクリロイル基とを併せ持つバインダー樹脂である場合が特に好ましい。
極性官能基とは、例えばヒドロキシ基、カルボキシ基、ホスホ基、アミノ基、イミノ基、カルバモイル基、シアノ基、イソシアナト基、ニトロ基、ニトロソ基、ヒドラジノ基、ウレイド基、グアニジノ基、スルファニル基、スルフィノ基、スルホ基等、又はフリル基、チエニル基、ピロリル基、ピロリジニル基、ピリジル基、ピロリジノ基、ピペリジニル基、モルフォリノ、基、キノリル基等の複素環基等を挙げることができる。なお、各置換基は可能であればアルキル基、アルコキシ基等で置換されていても良い。また、ウレタン結合、エーテル結合、エステル結合（（メタ）アクリロイル基中のエステル結合を除く）等置換基とは異なる極性結合部位も、本明細書においては極性官能基として記載する。
極性官能基を有する２以上の（メタ）アクリロイル基と極性官能基を併せ持つバインダー樹脂としては、例えば、ペンタエリスリトルトリアクリレート（ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０ 日本化薬製）、ジペンタエリスリトルペンタアクリレートとジペンタエリスリトルヘキサアクリレートの混合物又（ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ 日本化薬製）、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート（７０１Ａ 新中村化学製）、エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート（Ａ−９３００ 新中村化学製）、ε−カプロラクトン変性トリス−（２−アクリロキシエチル）イソシアヌレート（Ａ−９３００−１ＣＬ 新中村化学）等の（メタ）アクリレートモノマー化合物、ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート（Ｒ−１１５Ｆ、Ｒ−１３０、Ｒ−３８１等 日本化薬製）、ビスフェノールＦ型エポキシアクリレート（ＺＦＡ−２６６Ｈ 日本化薬製）、酸変性エポキシアクリレート（ＺＡＲシリーズ、ＺＣＲシリーズ、ＺＣＲシリーズ 日本化薬製）等のエポキシアクリレート樹脂、ポリエステル系ウレタンアクリレート（ＵＸ３２０４、ＵＸ−４１０１、ＵＸＴ−６１００ 日本化薬製）、混合系ウレタンアクリレート（ＵＸ−６１０１、ＵＸ−８１０１ 日本化薬製）、ポリエーテル系ウレタンアクリレート（ＵＸ−９３７、ＵＸＦ−４００１−Ｍ３５ 日本化薬製）、エステル系ウレタンアクリレート（ＤＰＨＡ−４０Ｈ、ＵＸ−５０００、ＵＸ−５１０２Ｄ−Ｍ２０、ＵＸ−５１０３Ｄ、ＵＸ−５００５ 日本化薬製）等のウレタンアクリレート樹脂を挙げることができる。
成分（Ｂ−２）のバインダー樹脂として、より好ましくは２以上８以下の（メタ）アクリロイルと極性官能基を併せ持つ場合であり、更に好ましくは３以上６以下の（メタ）アクリロイルと極性官能基を併せ持つ場合である。反応性基である（メタ）アクリロイルが１０以上である場合、硬化物が剛直になり過ぎて、接着強度の低下を招く可能性がある。
成分（Ｂ−２）のバインダー樹脂として、更に好ましくは、極性官能基がヒドロキシ基（ＯＨ）、又はウレタン結合（ＮＨＣＯ）である。ヒドロキシ基は基材への密着性を向上する効果があり、ウレタン結合は硬化物を柔軟にする効果がある。上記例示の中では、ペンタエリスリトルトリアクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート、エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート等及びウレタン樹脂を好適な成分（Ｂ−２）として挙げることができ、更に好ましくは、ペンタエリスリトルトリアクリレート、ジペンタエリスリトルペンタアクリレートとジペンタエリスリトルヘキサアクリレートの混合物又はエステル系ウレタンアクリレート（ＵＸ−５０００、ＤＰＨＡ−４０Ｈ）である。
［（Ｂ−３）光重合開始剤］
本発明の熱線吸収構造体に用いられる熱線吸収膜は、（Ｂ−３）光重合開始剤を含有する。光ラジカル重合開始剤としては、紫外線や可視光の照射によって、ラジカルや酸を発生し、連鎖重合反応を開始させる化合物であれば特に限定されないが、例えば、ベンジルジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ジエチルチオキサントン、ベンゾフェノン、２−エチルアンスラキノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−メチル−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノ−１−プロパン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスヒンオキサイド、カンファーキノン、９−フルオレノン、ジフェニルジスルヒド等を挙げることができる。具体的には、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ６５１、１８４、２９５９、１２７、９０７、３６９、３７９ＥＧ、８１９、７８４、７５４、５００、ＯＸＥ０１、ＯＸＥ０２、ＤＡＲＯＣＵＲＥＲＴＭ１１７３、ＬＵＣＩＲＩＮＲＴＭ ＴＰＯ（いずれもＢＡＳＦ製）、セイクオールＲＴＭＺ、ＢＺ、ＢＥＥ、ＢＩＰ、ＢＢＩ（いずれも精工化学（株）製）等を挙げることができる。
本発明の熱線吸収構造体に用いられる熱線吸収膜は、（Ｂ−３）光重合開始剤を含有する。光ラジカル重合開始剤としては、紫外線や可視光の照射によって、ラジカルや酸を発生し、連鎖重合反応を開始させる化合物であれば特に限定されないが、例えば、ベンジルジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ジエチルチオキサントン、ベンゾフェノン、２−エチルアンスラキノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−メチル−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノ−１−プロパン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスヒンオキサイド、カンファーキノン、９−フルオレノン、ジフェニルジスルヒド等を挙げることができる。具体的には、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ６５１、１８４、２９５９、１２７、９０７、３６９、３７９ＥＧ、８１９、７８４、７５４、５００、ＯＸＥ０１、ＯＸＥ０２、ＤＡＲＯＣＵＲＥＲＴＭ１１７３、ＬＵＣＩＲＩＮＲＴＭ ＴＰＯ（いずれもＢＡＳＦ製）、セイクオールＲＴＭＺ、ＢＺ、ＢＥＥ、ＢＩＰ、ＢＢＩ（いずれも精工化学（株）製）等を挙げることができる。
（Ｂ−３）成分は、３６５ｎｍにおけるモル吸光係数（ε）が５０以上１００００（ｍＬ／ｇ・ｃｍ）以下である場合が好ましく、１００以上８０００（ｍＬ／ｇ・ｃｍ）以下である場合がさらに好ましく、１０００以上７５００（ｍＬ／ｇ・ｃｍ）以下である場合が特にに好ましい。なお、モル吸光係数は、メタノール又はアセトニトリルを溶剤として測定したものである。
３６５ｎｍにおけるモル吸光係数（ε）が１００以上１００００（ｍＬ／ｇ・ｃｍ）以下である光重合開始剤とは、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ６５１（メタノール中ε＝３６０ｍＬ／ｇ・ｃｍ）、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ９０７（メタノール中ε＝４７００ｍＬ／ｇ・ｃｍ）、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ３６９（メタノール中ε＝７９００ｍＬ／ｇ・ｃｍ）、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ３７９（メタノール中ε＝７９００ｍＬ／ｇ・ｃｍ）、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ８１９（メタノール中ε＝２３００ｍＬ／ｇ・ｃｍ）、ＬＵＣＩＲＩＮＲＴＭ ＴＰＯ（アセトニトリル中ε＝４７００ｍＬ／ｇ・ｃｍ）、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ＯＸＥ−０１（アセトニトリル中ε＝７０００ｍＬ／ｇ・ｃｍ）、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ＯＸＥ−０２（アセトニトリル中ε＝７７００ｍＬ／ｇ・ｃｍ）等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
３６５ｎｍにおけるモル吸光係数（ε）が１００以上１００００（ｍＬ／ｇ・ｃｍ）以下である光重合開始剤とは、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ６５１（メタノール中ε＝３６０ｍＬ／ｇ・ｃｍ）、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ９０７（メタノール中ε＝４７００ｍＬ／ｇ・ｃｍ）、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ３６９（メタノール中ε＝７９００ｍＬ／ｇ・ｃｍ）、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ３７９（メタノール中ε＝７９００ｍＬ／ｇ・ｃｍ）、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ８１９（メタノール中ε＝２３００ｍＬ／ｇ・ｃｍ）、ＬＵＣＩＲＩＮＲＴＭ ＴＰＯ（アセトニトリル中ε＝４７００ｍＬ／ｇ・ｃｍ）、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ＯＸＥ−０１（アセトニトリル中ε＝７０００ｍＬ／ｇ・ｃｍ）、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ＯＸＥ−０２（アセトニトリル中ε＝７７００ｍＬ／ｇ・ｃｍ）等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
成分（Ｂ−３）の熱線吸収膜中の含有量は、熱線吸収膜の総量１００質量部中０．０１質量部以上１０質量部以下が好ましい。
この含有量の好ましい上限としては、７質量部、更に好ましくは５質量部、特に好ましくは４質量部、最も好ましくは３質量部である。
また好ましい下限としては、０．０１質量部、更に好ましくは０．１質量部、特に好ましくは１質量部、最も好ましくは１．５質量部である。
成分（Ａ−２）の熱線吸収膜中の含有量として最も好ましい範囲は１．５質量部以上３質量部以下である。
この含有量の好ましい上限としては、７質量部、更に好ましくは５質量部、特に好ましくは４質量部、最も好ましくは３質量部である。
また好ましい下限としては、０．０１質量部、更に好ましくは０．１質量部、特に好ましくは１質量部、最も好ましくは１．５質量部である。
成分（Ａ−２）の熱線吸収膜中の含有量として最も好ましい範囲は１．５質量部以上３質量部以下である。
［（Ｂ−４）シランカップリング剤］
本発明の熱線吸収構造体に用いられる熱線吸収膜は、（Ｂ−４）シランカップリング剤を含有しても良い。シランカップリング剤を含有させることで、更なる接着強度向上が実現できる。
（Ｂ−４）シランカップリング剤としては、例えばビニルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−１００３）、ビニルトリエトキシシラン（ＫＢＥ−１００３）、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−３０３）、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン（ＫＢＭ−４０２）、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−４０３）、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン（ＫＢＥ−４０２）、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン（ＫＢＥ−４０３）、ｐ−スチリルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−１４０３）、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン（ＫＢＭ−５０２）、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５０３）、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン（ＫＢＥ−５０３）、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５１０３）、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン（ＫＢＭ−６０２）、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−６０３）、３−アミノプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−９０３）、３−アミノプロピルトリエトキシシラン（ＫＢＥ−９０３）、３−トリエトキシシリル−Ｎ−（１，３−ジメチル−ブチリデン）プロピルアミン（ＫＢＥ−９１０３Ｐ）、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５７３）、Ｎ−（ビニルベンジル）−２−アミノエチル−３−アミノプロピルトリメトキシシランの塩酸塩（ＫＢＭ−５７５）、トリス−（トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレート（ＫＢＭ−９６５９）、３−ウレイドプロピルトリアルコキシシラン（ＫＢＢ−５８５）、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン（ＫＢＭ−８０２）、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−８０３）、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン（ＫＢＥ−９００７Ｎ）、３−トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物（Ｘ−１２−９６７Ｃ）等を挙げることができる。これらは信越化学工業（株）等によって販売されている為、市場から容易に入手可能である。
このうち、本発明の効果をより顕著に奏するものは、分子内にウレイド系のシランカップリング剤（ＫＢＥ−５８５）又は酸無水物系のシランカップリング剤（Ｘ−１２−９６７Ｃ）である。
成分（Ｂ−４）を用いる場合の熱線吸収膜中の含有量は、熱線吸収膜の総量１００質量部中０．１質量部以上３５質量部以下が好ましい。
この含有量の好ましい上限としては、３０質量部、更に好ましくは２５質量部、特に好ましくは２０質量部、最も好ましくは１０質量部である。
また好ましい下限としては、１質量部、更に好ましくは３質量部、特に好ましくは５質量部、最も好ましくは６質量部である。
成分（Ｂ−４）の熱線吸収膜中の含有量として最も好ましい範囲は６質量部以上１０質量部以下である。
本発明の熱線吸収構造体に用いられる熱線吸収膜は、（Ｂ−４）シランカップリング剤を含有しても良い。シランカップリング剤を含有させることで、更なる接着強度向上が実現できる。
（Ｂ−４）シランカップリング剤としては、例えばビニルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−１００３）、ビニルトリエトキシシラン（ＫＢＥ−１００３）、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−３０３）、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン（ＫＢＭ−４０２）、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−４０３）、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン（ＫＢＥ−４０２）、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン（ＫＢＥ−４０３）、ｐ−スチリルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−１４０３）、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン（ＫＢＭ−５０２）、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５０３）、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン（ＫＢＥ−５０３）、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５１０３）、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン（ＫＢＭ−６０２）、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−６０３）、３−アミノプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−９０３）、３−アミノプロピルトリエトキシシラン（ＫＢＥ−９０３）、３−トリエトキシシリル−Ｎ−（１，３−ジメチル−ブチリデン）プロピルアミン（ＫＢＥ−９１０３Ｐ）、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５７３）、Ｎ−（ビニルベンジル）−２−アミノエチル−３−アミノプロピルトリメトキシシランの塩酸塩（ＫＢＭ−５７５）、トリス−（トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレート（ＫＢＭ−９６５９）、３−ウレイドプロピルトリアルコキシシラン（ＫＢＢ−５８５）、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン（ＫＢＭ−８０２）、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−８０３）、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン（ＫＢＥ−９００７Ｎ）、３−トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物（Ｘ−１２−９６７Ｃ）等を挙げることができる。これらは信越化学工業（株）等によって販売されている為、市場から容易に入手可能である。
このうち、本発明の効果をより顕著に奏するものは、分子内にウレイド系のシランカップリング剤（ＫＢＥ−５８５）又は酸無水物系のシランカップリング剤（Ｘ−１２−９６７Ｃ）である。
成分（Ｂ−４）を用いる場合の熱線吸収膜中の含有量は、熱線吸収膜の総量１００質量部中０．１質量部以上３５質量部以下が好ましい。
この含有量の好ましい上限としては、３０質量部、更に好ましくは２５質量部、特に好ましくは２０質量部、最も好ましくは１０質量部である。
また好ましい下限としては、１質量部、更に好ましくは３質量部、特に好ましくは５質量部、最も好ましくは６質量部である。
成分（Ｂ−４）の熱線吸収膜中の含有量として最も好ましい範囲は６質量部以上１０質量部以下である。
［（Ｂ−５）分散剤］
本発明の熱線吸収構造体に用いられる熱線吸収膜は、（Ｂ−５）分散剤を含有しても良い。分散剤を含有させることで、成分（Ｂ−１）の成分中での均一性を向上することが可能である。
（Ｂ−５）分散剤としては、例えば以下のものを挙げることができる。フローレンＤＯＰＡ−１５Ｂ、フローレンＤＯＰＡ−１７（共栄社化学（株）製）、ソルプラスＡＸ５、ソルプラスＴＸ５、ソルスパース９０００、ソルスパース１２０００、ソルスパース１７０００、ソルスパース２００００、ソルスパース２１０００、ソルスパース２４０００、ソルスパース２６０００、ソルスパース２７０００、ソルスパース２８０００、ソルスパース３２０００、ソルスパース３５１００、ソルスパース５４０００、ソルシックス２５０、（日本ルーブリゾール（株）製）、ＥＦＫＡ４００８、ＥＦＫＡ４００９、ＥＦＫＡ４０１０、ＥＦＫＡ４０１５、ＥＦＫＡ４０４６、ＥＦＫＡ４０４７、ＥＦＫＡ４０６０、ＥＦＫＡ４０８０、ＥＦＫＡ７４６２、ＥＦＫＡ４０２０、ＥＦＫＡ４０５０、ＥＦＫＡ４０５５、ＥＦＫＡ４４００、ＥＦＫＡ４４０１、ＥＦＫＡ４４０２、ＥＦＫＡ４４０３、ＥＦＫＡ４３００、ＥＦＫＡ４３２０、ＥＦＫＡ４３３０、ＥＦＫＡ４３４０、ＥＦＫＡ５０６５、ＥＦＫＡ５２２０、ＥＦＫＡ６２２０、ＥＦＫＡ６２２５、ＥＦＫＡ６２３０、ＥＦＫＡ６７００、ＥＦＫＡ６７８０、ＥＦＫＡ６７８２、ＥＦＫＡ８５０３（ＢＡＳＦジャパン（株）製）、アジスパーＰＡ１１１、アジスパーＰＢ７１１、アジスパーＰＢ８２１、アジスパーＰＢ８２２、アジスパーＰＮ４１１、フェイメックスＬ−１２（味の素ファインテクノ（株）製）、ＴＥＸＡＰＨＯＲ−ＵＶ２１、ＴＥＸＡＰＨＯＲ−ＵＶ６１（コグニスジャパン（株）製）、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１０１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１０２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１０６、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１０８、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１１０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１１１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１１６、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１３０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１４０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１４２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１４５、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６３、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６４、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６６、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６７、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６８、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１７０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１７１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１７４、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１８０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１８２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１９２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１９３、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０００、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２００１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０２０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０２５、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０５０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０７０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２１５５、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２１６４、ＢＹＫ２２０Ｓ、ＢＹＫ３００、ＢＹＫ３０６、ＢＹＫ３２０、ＢＹＫ３２２、ＢＹＫ３２５、ＢＹＫ３３０、ＢＹＫ３４０、ＢＹＫ３５０、ＢＹＫ３７７、ＢＹＫ３７８、ＢＹＫ３８０Ｎ、ＢＹＫ４１０、ＢＹＫ４２５、ＢＹＫ４３０（ビックケミー・ジャパン（株）製）、ディスパロン１７５１Ｎ、ディスパロン１８３１、ディスパロン１８５０、ディスパロン１８６０、ディスパロン１９３４、ディスパロンＤＡ−４００Ｎ、ディスパロンＤＡ−７０３−５０、ディスパロンＤＡ−７２５、ディスパロンＤＡ−７０５、ディスパロンＤＡ−７３０１、ディスパロンＤＮ−９００、ディスパロンＮＳ−５２１０、ディスパロンＮＶＩ−８５１４Ｌ、ヒップラードＥＤ−１５２、ヒップラードＥＤ−２１６、ヒップラードＥＤ−２５１、ヒップラードＥＤ−３６０（楠本化成（株））、ＦＴＸ−２０７Ｓ、ＦＴＸ−２１２Ｐ、ＦＴＸ−２２０Ｐ、ＦＴＸ−２２０Ｓ、ＦＴＸ−２２８Ｐ、ＦＴＸ−７１０ＬＬ、ＦＴＸ−７５０ＬＬ、フタージェント２１２Ｐ、フタージェント２２０Ｐ、フタージェント２２２Ｆ、フタージェント２２８Ｐ、フタージェント２４５Ｆ、フタージェント２４５Ｐ、フタージェント２５０、フタージェント２５１、フタージェント７１０ＦＭ、フタージェント７３０ＦＭ、フタージェント７３０ＬＬ、フタージェント７３０ＬＳ、フタージェント７５０ＤＭ、フタージェント７５０ＦＭ（（株）ネオス製）、ＡＳ−１１００、ＡＳ−１８００、ＡＳ−２０００（東亞合成（株）製）、カオーセラ２０００、カオーセラ２１００、ＫＤＨ−１５４、ＭＸ−２０４５Ｌ、ホモゲノールＬ−１８、ホモゲノールＬ−９５、レオドールＳＰ−０１０Ｖ、レオドールＳＰ−０３０Ｖ、レオドールＳＰ−Ｌ１０、レオドールＳＰ−Ｐ１０（花王（株）製）、エバンＵ１０３、シアノールＤＣ９０２Ｂ、ノイゲンＥＡ−１６７、ブライサーフＡ２１９Ｂ、ブライサーフＡＬ（第一工業製薬（株）製）、メガファックＦ−４７７、メガファック４８０ＳＦ、メガファックＦ−４８２、（ＤＩＣ（株）製）、シルフェイスＳＡＧ５０３Ａ、ダイノール６０４（日信化学工業（株）製）、ＳＮスパーズ２１８０、ＳＮスパーズ２１９０、ＳＮレベラーＳ−９０６（サンノプコ（株）製）、Ｓ−３８６、Ｓ−４２０（ＡＧＣセイミケミカル（株）製）といったものが例示できる。
このうち、アニオン系分散剤がより好ましく、酸価が１０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以上４００（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以下のアニオン系分散剤が更に好ましく、酸価が４０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以上２５０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以下のアニオン系分散剤が特に好ましく、酸価が５０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以上１５０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以下のアニオン系分散剤が最も好ましい。
本発明の熱線吸収構造体に用いられる熱線吸収膜は、（Ｂ−５）分散剤を含有しても良い。分散剤を含有させることで、成分（Ｂ−１）の成分中での均一性を向上することが可能である。
（Ｂ−５）分散剤としては、例えば以下のものを挙げることができる。フローレンＤＯＰＡ−１５Ｂ、フローレンＤＯＰＡ−１７（共栄社化学（株）製）、ソルプラスＡＸ５、ソルプラスＴＸ５、ソルスパース９０００、ソルスパース１２０００、ソルスパース１７０００、ソルスパース２００００、ソルスパース２１０００、ソルスパース２４０００、ソルスパース２６０００、ソルスパース２７０００、ソルスパース２８０００、ソルスパース３２０００、ソルスパース３５１００、ソルスパース５４０００、ソルシックス２５０、（日本ルーブリゾール（株）製）、ＥＦＫＡ４００８、ＥＦＫＡ４００９、ＥＦＫＡ４０１０、ＥＦＫＡ４０１５、ＥＦＫＡ４０４６、ＥＦＫＡ４０４７、ＥＦＫＡ４０６０、ＥＦＫＡ４０８０、ＥＦＫＡ７４６２、ＥＦＫＡ４０２０、ＥＦＫＡ４０５０、ＥＦＫＡ４０５５、ＥＦＫＡ４４００、ＥＦＫＡ４４０１、ＥＦＫＡ４４０２、ＥＦＫＡ４４０３、ＥＦＫＡ４３００、ＥＦＫＡ４３２０、ＥＦＫＡ４３３０、ＥＦＫＡ４３４０、ＥＦＫＡ５０６５、ＥＦＫＡ５２２０、ＥＦＫＡ６２２０、ＥＦＫＡ６２２５、ＥＦＫＡ６２３０、ＥＦＫＡ６７００、ＥＦＫＡ６７８０、ＥＦＫＡ６７８２、ＥＦＫＡ８５０３（ＢＡＳＦジャパン（株）製）、アジスパーＰＡ１１１、アジスパーＰＢ７１１、アジスパーＰＢ８２１、アジスパーＰＢ８２２、アジスパーＰＮ４１１、フェイメックスＬ−１２（味の素ファインテクノ（株）製）、ＴＥＸＡＰＨＯＲ−ＵＶ２１、ＴＥＸＡＰＨＯＲ−ＵＶ６１（コグニスジャパン（株）製）、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１０１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１０２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１０６、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１０８、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１１０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１１１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１１６、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１３０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１４０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１４２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１４５、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６３、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６４、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６６、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６７、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６８、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１７０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１７１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１７４、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１８０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１８２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１９２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１９３、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０００、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２００１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０２０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０２５、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０５０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０７０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２１５５、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２１６４、ＢＹＫ２２０Ｓ、ＢＹＫ３００、ＢＹＫ３０６、ＢＹＫ３２０、ＢＹＫ３２２、ＢＹＫ３２５、ＢＹＫ３３０、ＢＹＫ３４０、ＢＹＫ３５０、ＢＹＫ３７７、ＢＹＫ３７８、ＢＹＫ３８０Ｎ、ＢＹＫ４１０、ＢＹＫ４２５、ＢＹＫ４３０（ビックケミー・ジャパン（株）製）、ディスパロン１７５１Ｎ、ディスパロン１８３１、ディスパロン１８５０、ディスパロン１８６０、ディスパロン１９３４、ディスパロンＤＡ−４００Ｎ、ディスパロンＤＡ−７０３−５０、ディスパロンＤＡ−７２５、ディスパロンＤＡ−７０５、ディスパロンＤＡ−７３０１、ディスパロンＤＮ−９００、ディスパロンＮＳ−５２１０、ディスパロンＮＶＩ−８５１４Ｌ、ヒップラードＥＤ−１５２、ヒップラードＥＤ−２１６、ヒップラードＥＤ−２５１、ヒップラードＥＤ−３６０（楠本化成（株））、ＦＴＸ−２０７Ｓ、ＦＴＸ−２１２Ｐ、ＦＴＸ−２２０Ｐ、ＦＴＸ−２２０Ｓ、ＦＴＸ−２２８Ｐ、ＦＴＸ−７１０ＬＬ、ＦＴＸ−７５０ＬＬ、フタージェント２１２Ｐ、フタージェント２２０Ｐ、フタージェント２２２Ｆ、フタージェント２２８Ｐ、フタージェント２４５Ｆ、フタージェント２４５Ｐ、フタージェント２５０、フタージェント２５１、フタージェント７１０ＦＭ、フタージェント７３０ＦＭ、フタージェント７３０ＬＬ、フタージェント７３０ＬＳ、フタージェント７５０ＤＭ、フタージェント７５０ＦＭ（（株）ネオス製）、ＡＳ−１１００、ＡＳ−１８００、ＡＳ−２０００（東亞合成（株）製）、カオーセラ２０００、カオーセラ２１００、ＫＤＨ−１５４、ＭＸ−２０４５Ｌ、ホモゲノールＬ−１８、ホモゲノールＬ−９５、レオドールＳＰ−０１０Ｖ、レオドールＳＰ−０３０Ｖ、レオドールＳＰ−Ｌ１０、レオドールＳＰ−Ｐ１０（花王（株）製）、エバンＵ１０３、シアノールＤＣ９０２Ｂ、ノイゲンＥＡ−１６７、ブライサーフＡ２１９Ｂ、ブライサーフＡＬ（第一工業製薬（株）製）、メガファックＦ−４７７、メガファック４８０ＳＦ、メガファックＦ−４８２、（ＤＩＣ（株）製）、シルフェイスＳＡＧ５０３Ａ、ダイノール６０４（日信化学工業（株）製）、ＳＮスパーズ２１８０、ＳＮスパーズ２１９０、ＳＮレベラーＳ−９０６（サンノプコ（株）製）、Ｓ−３８６、Ｓ−４２０（ＡＧＣセイミケミカル（株）製）といったものが例示できる。
このうち、アニオン系分散剤がより好ましく、酸価が１０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以上４００（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以下のアニオン系分散剤が更に好ましく、酸価が４０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以上２５０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以下のアニオン系分散剤が特に好ましく、酸価が５０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以上１５０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以下のアニオン系分散剤が最も好ましい。
（Ｂ−５）成分を含有する場合にその含有量は、熱線吸収膜の総量１００質量部中１質量部以上４５質量部以下が好ましい。
この含有量の好ましい上限としては、４０質量部、更に好ましくは３５質量部、特に好ましくは３０質量部、最も好ましくは２５質量部である。
また好ましい下限としては、５質量部、更に好ましくは８質量部、特に好ましくは１０質量部、最も好ましくは１５質量部である。
この含有量の好ましい上限としては、４０質量部、更に好ましくは３５質量部、特に好ましくは３０質量部、最も好ましくは２５質量部である。
また好ましい下限としては、５質量部、更に好ましくは８質量部、特に好ましくは１０質量部、最も好ましくは１５質量部である。
［その他成分］
（Ｂ）熱線吸収膜には、必要に応じ、例えばレベリング剤、消泡剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、酸化防止剤、重合禁止剤架橋剤、可塑剤、無機微粒子、フィラー等を添加し、それぞれ目的とする機能性を付与することも可能である。レベリング剤としてはフッ素系化合物、シリコーン系化合物、アクリル系化合物等が挙げられる。紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、トリアジン系化合物等が挙げられ、光安定化剤としてはヒンダードアミン系化合物、ベンゾエート系化合物等が挙げられ、酸化防止剤としてはフェノール系化合物等が挙げられる。重合禁止剤としては、メトキノン、メチルハイドロキノン、ハイドロキノン等が挙げられ、架橋剤としては、前記ポリイソシアネート類、メラミン化合物等が挙げられる。可塑剤としてはジメチルフタレートやジエチルフタレートのようなフタル酸エステル、トリス（２−エチルヘキシル）トリメリテートのようなトリメリト酸エステル、ジメチルアジペートやジブチルアジペートのような脂肪族二塩基酸エステル、トリブチルホスフェートやトリフェニルホスフェートのような正燐酸エステル、グリセルトリアセテートや２−エチルヘキシルアセテートのような酢酸エステルが挙げられる。
（Ｂ）熱線吸収膜には、必要に応じ、例えばレベリング剤、消泡剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、酸化防止剤、重合禁止剤架橋剤、可塑剤、無機微粒子、フィラー等を添加し、それぞれ目的とする機能性を付与することも可能である。レベリング剤としてはフッ素系化合物、シリコーン系化合物、アクリル系化合物等が挙げられる。紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、トリアジン系化合物等が挙げられ、光安定化剤としてはヒンダードアミン系化合物、ベンゾエート系化合物等が挙げられ、酸化防止剤としてはフェノール系化合物等が挙げられる。重合禁止剤としては、メトキノン、メチルハイドロキノン、ハイドロキノン等が挙げられ、架橋剤としては、前記ポリイソシアネート類、メラミン化合物等が挙げられる。可塑剤としてはジメチルフタレートやジエチルフタレートのようなフタル酸エステル、トリス（２−エチルヘキシル）トリメリテートのようなトリメリト酸エステル、ジメチルアジペートやジブチルアジペートのような脂肪族二塩基酸エステル、トリブチルホスフェートやトリフェニルホスフェートのような正燐酸エステル、グリセルトリアセテートや２−エチルヘキシルアセテートのような酢酸エステルが挙げられる。
＜（Ｂ）熱線吸収膜の製造方法＞
（Ｂ−１）無機酸化物及び／又は色素、（Ｂ−２）２以上の（メタ）アクリロイル基と極性官能基を併せ持つバインダー樹脂、（Ｂ−３）光重合開始剤、必要に応じて、（Ｂ−４）シランカップリング剤、（Ｂ−５）分散剤、トルエン等の有機溶剤を混合し、最適な分散方法を用いて分散した後、例えば（Ａ）熱線反射膜、後述する（Ｃ）熱可塑性樹脂膜、ガラス等、また剥離性を有する基材（ＰＥＴ）の上に塗布する。なお、剥離性を有する基材（例えばＰＥＴ）を用いる場合には、（Ａ）熱線反射膜、（Ｃ）熱可塑性樹脂膜、ガラス等に転写することで熱線吸収膜の層を形成する。
（Ｂ−１）無機酸化物及び／又は色素、（Ｂ−２）２以上の（メタ）アクリロイル基と極性官能基を併せ持つバインダー樹脂、（Ｂ−３）光重合開始剤、必要に応じて、（Ｂ−４）シランカップリング剤、（Ｂ−５）分散剤、トルエン等の有機溶剤を混合し、最適な分散方法を用いて分散した後、例えば（Ａ）熱線反射膜、後述する（Ｃ）熱可塑性樹脂膜、ガラス等、また剥離性を有する基材（ＰＥＴ）の上に塗布する。なお、剥離性を有する基材（例えばＰＥＴ）を用いる場合には、（Ａ）熱線反射膜、（Ｃ）熱可塑性樹脂膜、ガラス等に転写することで熱線吸収膜の層を形成する。
［分散方法］
好ましい分散方法はビーズミルであり、特定な分散エネルギー領域で分散させる方法を挙げることができる。分散エネルギーが該特定な範囲を外れて低すぎる場合は、粒子同士が凝集した状態となり、導電パスが形成され、表面抵抗が下がるだけでなく、シート平滑性が悪化し、近赤外反射性能の低下、高ヘイズが問題となる。また、分散エネルギーを高くし過ぎると、微粒子の近赤外反射機能が低下する事が判明した。この原因は不明であるが、あまり高エネルギーでの分散では、微粒子表面に傷が付くなど微粒子に変化が生じ、反射性能が低下すると推察される。上記の反射率と上記の表面抵抗を達成するには特定な分散エネルギー領域が存在し、該特定なエネルギー領域で分散させた場合、個々の該微粒子がバインダー成分で覆われて、該微粒子の再凝集や連結が防止され、バインダー成分中にマトリックス状に分散され、成膜した際に、上記の反射率と上記の表面抵抗を達成するものと推察される。ビーズミルを用いた場合、上記の特定なエネルギー領域としては３〜１２ｍ／ｓの周速、好ましくは３〜１１ｍ／ｓの周速、より好ましくは３〜１０ｍ／ｓの周速が適当であり、更に好ましい態様としては、４〜１２ｍ／ｓの周速又は４〜１１ｍ／ｓの周速を挙げることができ、最も好ましい態様としては、５〜１２ｍ／ｓの周速、又は、場合により、５〜１１ｍ／ｓ又は５〜１０ｍの周速を挙げることができる。上記した様に、周速が遅すぎると、微粒子を十分分散できずに、周速があまり早すぎると反射性能の低下で、遮熱性能が低下する。
好ましい分散方法はビーズミルであり、特定な分散エネルギー領域で分散させる方法を挙げることができる。分散エネルギーが該特定な範囲を外れて低すぎる場合は、粒子同士が凝集した状態となり、導電パスが形成され、表面抵抗が下がるだけでなく、シート平滑性が悪化し、近赤外反射性能の低下、高ヘイズが問題となる。また、分散エネルギーを高くし過ぎると、微粒子の近赤外反射機能が低下する事が判明した。この原因は不明であるが、あまり高エネルギーでの分散では、微粒子表面に傷が付くなど微粒子に変化が生じ、反射性能が低下すると推察される。上記の反射率と上記の表面抵抗を達成するには特定な分散エネルギー領域が存在し、該特定なエネルギー領域で分散させた場合、個々の該微粒子がバインダー成分で覆われて、該微粒子の再凝集や連結が防止され、バインダー成分中にマトリックス状に分散され、成膜した際に、上記の反射率と上記の表面抵抗を達成するものと推察される。ビーズミルを用いた場合、上記の特定なエネルギー領域としては３〜１２ｍ／ｓの周速、好ましくは３〜１１ｍ／ｓの周速、より好ましくは３〜１０ｍ／ｓの周速が適当であり、更に好ましい態様としては、４〜１２ｍ／ｓの周速又は４〜１１ｍ／ｓの周速を挙げることができ、最も好ましい態様としては、５〜１２ｍ／ｓの周速、又は、場合により、５〜１１ｍ／ｓ又は５〜１０ｍの周速を挙げることができる。上記した様に、周速が遅すぎると、微粒子を十分分散できずに、周速があまり早すぎると反射性能の低下で、遮熱性能が低下する。
［塗布方法］
塗布方法に関しては、表面を平滑に塗布できれば、特に限定はない。例えば、場合により、コンマコーター、スプレーコーター、ロールコーター、ナイフコーター等も使用できるが、シート平滑性の為に好ましくはバーコーター、スピンコーター、ダイコーター、マイクログラビアコーター等の薄膜作製に適したコーティング装置の使用が好ましい。
（Ｂ）熱線吸収膜の厚みは、一概には言えず、目的とする熱線遮蔽性能や可視光透過率、（Ａ）熱線反射膜の種類や厚み等により決定される。本発明においては、熱線遮蔽層の可視光透過率は、少なくとも７０％以上が好ましく、より好ましくは７５％以上となる厚さに調整するのが好ましく、一般的には、乾燥後の厚さで、０．１μｍ〜５０μｍ程度の間で調整すれば良い。より好ましくは０．１μｍ〜４０μｍ程度である。樹脂バインダーとして硬化性樹脂を用いる場合、通常０．１μｍ〜３０μｍ、好ましくは０．１μｍ〜２０μｍ程度、更に好ましくは０．１μｍ〜１０μｍの間で調整することができる。上記のようにして得られた熱線遮蔽層における可視光透過率は通常５０％以上、好ましくは７０％以上、より好ましくは７５％以上である。また、該熱線遮蔽層におけるヘイズ値は通常８％以下であり、好ましくは５％以下であり、より好ましくは３％以下であり、更に好ましくは２％以下、最も好ましくは１％以下である。ヘイズ値は低い方が好ましく、本発明の好ましい態様では、０．８％以下であり、より好ましい態様では０．５％以下までにすることができる。ヘイズ値の下限は特にないが、０．１％程度までと思われる。
また（Ｂ）熱線反射膜の厚みは、用いる反射層のタイプによって大きく異なる。一般的に、塗布やスプレーなどの方法で作製される反射層は、乾燥後の厚さで、０．１μｍ〜５０μｍ程度の間が好ましくより好ましくは０．１μｍ〜４０μｍ程度である。樹脂バインダーとして硬化性樹脂を用いる場合、通常０．１μｍ〜３０μｍ、好ましくは０．１μｍ〜２０μｍ程度、更に好ましくは０．１μｍ〜１０μｍの間で調整することができる。また、蒸着やスパッタリング法で作製される場合は、通常０．１ｎｍ〜１００ｎｍであり、より好ましくは１ｎｍ〜５０ｎｍ程度である。
塗布方法に関しては、表面を平滑に塗布できれば、特に限定はない。例えば、場合により、コンマコーター、スプレーコーター、ロールコーター、ナイフコーター等も使用できるが、シート平滑性の為に好ましくはバーコーター、スピンコーター、ダイコーター、マイクログラビアコーター等の薄膜作製に適したコーティング装置の使用が好ましい。
（Ｂ）熱線吸収膜の厚みは、一概には言えず、目的とする熱線遮蔽性能や可視光透過率、（Ａ）熱線反射膜の種類や厚み等により決定される。本発明においては、熱線遮蔽層の可視光透過率は、少なくとも７０％以上が好ましく、より好ましくは７５％以上となる厚さに調整するのが好ましく、一般的には、乾燥後の厚さで、０．１μｍ〜５０μｍ程度の間で調整すれば良い。より好ましくは０．１μｍ〜４０μｍ程度である。樹脂バインダーとして硬化性樹脂を用いる場合、通常０．１μｍ〜３０μｍ、好ましくは０．１μｍ〜２０μｍ程度、更に好ましくは０．１μｍ〜１０μｍの間で調整することができる。上記のようにして得られた熱線遮蔽層における可視光透過率は通常５０％以上、好ましくは７０％以上、より好ましくは７５％以上である。また、該熱線遮蔽層におけるヘイズ値は通常８％以下であり、好ましくは５％以下であり、より好ましくは３％以下であり、更に好ましくは２％以下、最も好ましくは１％以下である。ヘイズ値は低い方が好ましく、本発明の好ましい態様では、０．８％以下であり、より好ましい態様では０．５％以下までにすることができる。ヘイズ値の下限は特にないが、０．１％程度までと思われる。
また（Ｂ）熱線反射膜の厚みは、用いる反射層のタイプによって大きく異なる。一般的に、塗布やスプレーなどの方法で作製される反射層は、乾燥後の厚さで、０．１μｍ〜５０μｍ程度の間が好ましくより好ましくは０．１μｍ〜４０μｍ程度である。樹脂バインダーとして硬化性樹脂を用いる場合、通常０．１μｍ〜３０μｍ、好ましくは０．１μｍ〜２０μｍ程度、更に好ましくは０．１μｍ〜１０μｍの間で調整することができる。また、蒸着やスパッタリング法で作製される場合は、通常０．１ｎｍ〜１００ｎｍであり、より好ましくは１ｎｍ〜５０ｎｍ程度である。
本明細書においては、（Ａ）熱線反射膜を有する構成又は（Ａ）熱線反射膜及び（Ｂ）熱線吸収膜を有する構成を、「熱線遮蔽構造体」と定義する。この「熱線遮蔽構造体」はそれ自体で流通する場合や、他のフィルム積層体において形成される場合が想定されるが、上記構造になっている場合には「熱線遮蔽構造体」とする。
また、上記「熱線遮蔽構造体」を支持体の上に形成した場合には、「熱線遮蔽シート」と定義する。支持体としては無機材料、有機材料の何れであっても良いが、例えばＰＥＴフィルムやＴＡＣフィルムといった光学用途に用いられる有機フィルムが好ましい。また、例えば剥離ＰＥＴ上に形成した場合も、「熱線遮蔽シート」であり、この状態での流通が容易である。
そして、上記「熱線遮蔽構造体」及び／又は「熱線遮蔽シート」を、後述する（Ｃ）熱可塑性樹脂膜上に形成したものを「熱線遮蔽中間膜」と定義する。（Ｃ）熱可塑性樹脂膜は、１枚であっても、複数枚であっても良いが、通常は上記「熱線遮蔽構造体」及び／又は「熱線遮蔽シート」を挟み込む形で２枚使用する。また、（Ｃ）熱可塑性樹脂膜上への形成方法としては、上記「熱線遮蔽シート」をそのまま（Ｃ）熱可塑性樹脂膜上へ形成する方法や、剥離ＰＥＴ上に形成し、「熱線遮蔽シート」を（Ｃ）熱可塑性樹脂膜上へ転写して（この場合、形成後、剥離ＰＥＴを取り除く）形成することもできる。
上記「熱線遮蔽中間膜」は、「透明基材用中間膜」として用いることができる。透明基材とは、例えばガラス、ポリカーボネートを挙げることができるが、ガラスを使用し、合わせガラスとする場合が特に好ましい。
また、上記「熱線遮蔽構造体」を支持体の上に形成した場合には、「熱線遮蔽シート」と定義する。支持体としては無機材料、有機材料の何れであっても良いが、例えばＰＥＴフィルムやＴＡＣフィルムといった光学用途に用いられる有機フィルムが好ましい。また、例えば剥離ＰＥＴ上に形成した場合も、「熱線遮蔽シート」であり、この状態での流通が容易である。
そして、上記「熱線遮蔽構造体」及び／又は「熱線遮蔽シート」を、後述する（Ｃ）熱可塑性樹脂膜上に形成したものを「熱線遮蔽中間膜」と定義する。（Ｃ）熱可塑性樹脂膜は、１枚であっても、複数枚であっても良いが、通常は上記「熱線遮蔽構造体」及び／又は「熱線遮蔽シート」を挟み込む形で２枚使用する。また、（Ｃ）熱可塑性樹脂膜上への形成方法としては、上記「熱線遮蔽シート」をそのまま（Ｃ）熱可塑性樹脂膜上へ形成する方法や、剥離ＰＥＴ上に形成し、「熱線遮蔽シート」を（Ｃ）熱可塑性樹脂膜上へ転写して（この場合、形成後、剥離ＰＥＴを取り除く）形成することもできる。
上記「熱線遮蔽中間膜」は、「透明基材用中間膜」として用いることができる。透明基材とは、例えばガラス、ポリカーボネートを挙げることができるが、ガラスを使用し、合わせガラスとする場合が特に好ましい。
［（Ｃ）熱可塑性樹脂膜］
（Ｃ）熱可塑性樹脂膜は、例えばポチビニルブチラール、高密度ポリエチレン樹脂、低密度ポリエチレン樹脂、直鎖状低密度ポリエチレン樹脂、超低密度ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリブタジエン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、ポリスチレン樹脂、エチレン酢酸ビニルコポリマー、アイオノマー樹脂、エチレンビニルアルコール共重合樹脂、エチレンアクリル酸エチル共重合体、アクリロニトリル・スチレン樹脂、アクリロニトリル・塩素化ポリスチレン・スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル・アクリルゴム・スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル・ＥＰＤＭ・スチレン共重合樹脂、シリコーンゴム・アクリロニトリル・スチレン共重合樹脂、セルロース・アセテート・ブチレート樹脂、酢酸セルロース樹脂、メタクリル樹脂、エチレン・メチルメタクリレートコポリマー樹脂、エチレン・エチルアクリレート樹脂、塩化ビニル樹脂、塩素化ポリエチレン樹脂、ポリ４フッ化エチレン樹脂、４フッ化エチレン・６フッ化プロピレン共重合樹脂、４フッ化エチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合樹脂、４フッ化エチレン・エチレン共重合樹脂、ポリ３フッ化塩化エチレン樹脂、ポリフッ化ビニリデン樹脂、ナイロン４，６、ナイロン６、ナイロン６，６、ナイロン６，１０、ナイロン６，１２、ナイロン１２、ナイロン６，Ｔ、ナイロン９，Ｔ、芳香族ナイロン樹脂、ポリアセタール樹脂、超高分子量ポリエチレン樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、非晶性コポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、変性ポリフェニレンエーテル樹脂、熱可塑性ポリウレタンエラストマー、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、液晶ポリマー、ポリテトラフロロエチレン樹脂、ポリフロロアルコキシ樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリケトン樹脂、熱可塑性ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリサルフォン樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂、生分解樹脂、バイオマス樹脂等を主成分とする膜を例示することができる。この内好ましくはポリビニルブチラール膜である。
また、本発明の熱線遮蔽構造体では、（Ｃ）熱可塑性樹脂膜を２層以上用いても良く、好ましい態様は２層用いた場合である。
（Ｃ）熱可塑性樹脂膜は、例えばポチビニルブチラール、高密度ポリエチレン樹脂、低密度ポリエチレン樹脂、直鎖状低密度ポリエチレン樹脂、超低密度ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリブタジエン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、ポリスチレン樹脂、エチレン酢酸ビニルコポリマー、アイオノマー樹脂、エチレンビニルアルコール共重合樹脂、エチレンアクリル酸エチル共重合体、アクリロニトリル・スチレン樹脂、アクリロニトリル・塩素化ポリスチレン・スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル・アクリルゴム・スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル・ＥＰＤＭ・スチレン共重合樹脂、シリコーンゴム・アクリロニトリル・スチレン共重合樹脂、セルロース・アセテート・ブチレート樹脂、酢酸セルロース樹脂、メタクリル樹脂、エチレン・メチルメタクリレートコポリマー樹脂、エチレン・エチルアクリレート樹脂、塩化ビニル樹脂、塩素化ポリエチレン樹脂、ポリ４フッ化エチレン樹脂、４フッ化エチレン・６フッ化プロピレン共重合樹脂、４フッ化エチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合樹脂、４フッ化エチレン・エチレン共重合樹脂、ポリ３フッ化塩化エチレン樹脂、ポリフッ化ビニリデン樹脂、ナイロン４，６、ナイロン６、ナイロン６，６、ナイロン６，１０、ナイロン６，１２、ナイロン１２、ナイロン６，Ｔ、ナイロン９，Ｔ、芳香族ナイロン樹脂、ポリアセタール樹脂、超高分子量ポリエチレン樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、非晶性コポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、変性ポリフェニレンエーテル樹脂、熱可塑性ポリウレタンエラストマー、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、液晶ポリマー、ポリテトラフロロエチレン樹脂、ポリフロロアルコキシ樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリケトン樹脂、熱可塑性ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリサルフォン樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂、生分解樹脂、バイオマス樹脂等を主成分とする膜を例示することができる。この内好ましくはポリビニルブチラール膜である。
また、本発明の熱線遮蔽構造体では、（Ｃ）熱可塑性樹脂膜を２層以上用いても良く、好ましい態様は２層用いた場合である。
以下に本発明に係る熱線遮蔽シート、熱線遮蔽用中間膜、透明基材用中間膜、合わせガラスについて説明する。ただし、これらは全て本発明の熱線遮蔽構造体の実施態様に含まれるものである。
＜熱線遮蔽シート＞
本発明における熱線遮蔽シートは、該熱線遮蔽構造体が、合わせガラス化した際に透明性を担保できる支持体上に形成されていれば支障はなく、無機材料又は有機材料の何れであってもよい。例えば、ＰＥＴフィルムやＴＡＣフィルム等の、光学用途に用いられる有機フィルムを用いても良いし、前記（Ｃ）熱可塑性樹脂膜に直接塗工もしくは転写しても良い。また、近赤外線を吸収する機能や反射する機能等を有する機能性のシートであってもよい。通常、樹脂シート、無機ガラス板など光の透過性を阻害しない薄い板状体が使用される。厚さは特に限定されないが、通常、１０μｍ〜３ｍｍ程度である。
＜熱線遮蔽シート＞
本発明における熱線遮蔽シートは、該熱線遮蔽構造体が、合わせガラス化した際に透明性を担保できる支持体上に形成されていれば支障はなく、無機材料又は有機材料の何れであってもよい。例えば、ＰＥＴフィルムやＴＡＣフィルム等の、光学用途に用いられる有機フィルムを用いても良いし、前記（Ｃ）熱可塑性樹脂膜に直接塗工もしくは転写しても良い。また、近赤外線を吸収する機能や反射する機能等を有する機能性のシートであってもよい。通常、樹脂シート、無機ガラス板など光の透過性を阻害しない薄い板状体が使用される。厚さは特に限定されないが、通常、１０μｍ〜３ｍｍ程度である。
＜熱線遮蔽用中間膜＞
本発明の熱線遮蔽構造体及び／又は熱線遮蔽シートは上記（Ｃ）熱可塑性樹脂膜を用いて、熱線遮蔽用中間膜として用いることができる。
この場合、（Ｃ）熱可塑性樹脂膜、熱線遮蔽構造体、（Ｃ）熱可塑性樹脂膜の順に積層されてなる熱線遮蔽用中間膜や、（Ｃ）熱可塑性樹脂膜、熱線遮蔽シート、（Ｃ）熱可塑性樹脂膜の順に積層されてなる熱線遮蔽用中間膜が特に好ましい。その際に、熱線遮蔽構造体又は熱線遮蔽シートと、一方もしくは双方の（Ｃ）熱可塑性樹脂膜は、貼り合わされた状態でも良く、それぞれ独立の状態で用いても良い。ただし、加工性等を鑑みると、熱線遮蔽構造体又は熱線遮蔽シートと、一方もしくは双方の（Ｃ）熱可塑性樹脂膜が、何らかの形で一体化されている事が好ましい。
本発明の熱線遮蔽構造体及び／又は熱線遮蔽シートは上記（Ｃ）熱可塑性樹脂膜を用いて、熱線遮蔽用中間膜として用いることができる。
この場合、（Ｃ）熱可塑性樹脂膜、熱線遮蔽構造体、（Ｃ）熱可塑性樹脂膜の順に積層されてなる熱線遮蔽用中間膜や、（Ｃ）熱可塑性樹脂膜、熱線遮蔽シート、（Ｃ）熱可塑性樹脂膜の順に積層されてなる熱線遮蔽用中間膜が特に好ましい。その際に、熱線遮蔽構造体又は熱線遮蔽シートと、一方もしくは双方の（Ｃ）熱可塑性樹脂膜は、貼り合わされた状態でも良く、それぞれ独立の状態で用いても良い。ただし、加工性等を鑑みると、熱線遮蔽構造体又は熱線遮蔽シートと、一方もしくは双方の（Ｃ）熱可塑性樹脂膜が、何らかの形で一体化されている事が好ましい。
熱線遮蔽構造体又は熱線遮蔽シートと、一方もしくは双方の（Ｃ）熱可塑性樹脂膜を貼り合せる方法としては、特に限定はないが、例えば熱圧着または粘着剤を塗布し粘着層を形成した後に貼り合わせる感圧接着法、液状接着材層を塗布形成後に紫外線硬化や加熱硬化にて接着し転写する方法等が挙げられる。接着剤を用いないプラズマ接合法等を用いても良い。その中では、生産性の観点から、粘着層または接着層を必要としない熱圧着やプラズマ接合方式が好ましい。
前記、熱線遮蔽用中間膜の構成には、（Ｃ）熱可塑性樹脂膜の内側に、熱線遮蔽構造体、熱線遮蔽シート以外の機能を有する層を有していても良い。追加する機能は、特に限定はないが、可視光透過率が大きく損なわれない物が好ましい。具体的には、遮音性を有する層や、自動車用のヘッドアップディスプレイ等に対応した映像投影機能を有する層等が挙げられる。追加する機能の数に制限は無く、またこれらの層は、熱線遮蔽構造体に形成されていても良く、それぞれ独立に形成された層を貼り合せて用いても良い。
＜透明基材用中間膜＞
上記「熱線遮蔽中間膜」は、「透明基材用中間膜」として用いることができる。透明基材とは、例えばガラス、ポリカーボネートを挙げることができるが、ガラスを使用し、合わせガラスとする場合が特に好ましい。
上記「熱線遮蔽中間膜」は、「透明基材用中間膜」として用いることができる。透明基材とは、例えばガラス、ポリカーボネートを挙げることができるが、ガラスを使用し、合わせガラスとする場合が特に好ましい。
＜合わせガラス＞
第１のガラス板と第２のガラス板の間に前記透明基材用中間膜を配置するよう貼合わせることで、本発明の合わせガラスを製造することができる。
具体的には、第１のガラス板と第２のガラス板の間に透明基材用中間膜を配置するよう貼合わせる。その際に、２枚のガラス間の気泡を除くため、減圧下で圧着する第一の圧着段階（予備圧着）と、気泡の発生を抑えつつ高い密着性を発現させるため、高温高圧下で圧着する第二の圧着段階（本圧着）を経て作製されるのが一般的である。
第１のガラス板と第２のガラス板の間に前記透明基材用中間膜を配置するよう貼合わせることで、本発明の合わせガラスを製造することができる。
具体的には、第１のガラス板と第２のガラス板の間に透明基材用中間膜を配置するよう貼合わせる。その際に、２枚のガラス間の気泡を除くため、減圧下で圧着する第一の圧着段階（予備圧着）と、気泡の発生を抑えつつ高い密着性を発現させるため、高温高圧下で圧着する第二の圧着段階（本圧着）を経て作製されるのが一般的である。
以下、実施例、比較例により本発明を詳細に説明する。尚、本発明はその趣旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
［製造例１］
（熱線反射層用高屈折率樹脂塗布液１〜５の作製）
平均一次粒子径３５ｎｍである酸化チタン微粒子（商品名「ＴＴＯ−５１Ａ」、石原産業（株）製）１．４部、ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ３０（日本化薬（株）製）０．４部、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン（ＢＡＳＦジャパン（株）製「イルガキュア９０７」）０．０５部、および分散剤（商品名「ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２００１」、ビックケミー・ジャパン（株）製）０．３部をエタノールに加え、高屈折率樹脂塗布液１〜８を作製した。それぞれ高屈折率樹脂塗布液の濃度は、基材として５０μｍ厚みのポリエステル製フィルム（商品名「Ａ４３００」 東洋クロス（株）製）を用い、マイクログラビアコーターにより基材上に高屈折率樹脂塗布液１〜５を塗布し、８０℃で１分乾燥後、紫外線照射することで基材上に高屈折率樹脂層を作製した際に、表２に記載の極大反射波長になる濃度に調整した。
（熱線反射層用高屈折率樹脂塗布液１〜５の作製）
平均一次粒子径３５ｎｍである酸化チタン微粒子（商品名「ＴＴＯ−５１Ａ」、石原産業（株）製）１．４部、ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ３０（日本化薬（株）製）０．４部、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン（ＢＡＳＦジャパン（株）製「イルガキュア９０７」）０．０５部、および分散剤（商品名「ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２００１」、ビックケミー・ジャパン（株）製）０．３部をエタノールに加え、高屈折率樹脂塗布液１〜８を作製した。それぞれ高屈折率樹脂塗布液の濃度は、基材として５０μｍ厚みのポリエステル製フィルム（商品名「Ａ４３００」 東洋クロス（株）製）を用い、マイクログラビアコーターにより基材上に高屈折率樹脂塗布液１〜５を塗布し、８０℃で１分乾燥後、紫外線照射することで基材上に高屈折率樹脂層を作製した際に、表２に記載の極大反射波長になる濃度に調整した。
［製造例２］
（熱線反射層用低屈折率樹脂塗布液１、２の作製）
ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ ０．４部およびイルガキュア９０７ ０．０５部をエタノールに溶解した溶液中に、中空シリカ微粒子（商品名「スルーリア」、平均一次粒子径５０ｎｍ、固形分濃度２０重量％、日揮触媒化成（株）製、分散媒：メチルイソブチルケトン）３部を分散させ、低屈折率樹脂層塗布液１、２を調製した。それぞれ低屈折率樹脂塗布液の濃度は、基材として５０μｍ厚みのポリエステル製フィルム（商品名「Ａ４３００」 東洋クロス（株）製）を用い、マイクログラビアコーターにより基材上に低屈折率樹脂塗布液１、２を塗布し、８０℃で１分乾燥後、紫外線照射することで基材上に低屈折率樹脂層を作製した際に、表３に記載の極小反射波長になる濃度に調整した。
（熱線反射層用低屈折率樹脂塗布液１、２の作製）
ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ ０．４部およびイルガキュア９０７ ０．０５部をエタノールに溶解した溶液中に、中空シリカ微粒子（商品名「スルーリア」、平均一次粒子径５０ｎｍ、固形分濃度２０重量％、日揮触媒化成（株）製、分散媒：メチルイソブチルケトン）３部を分散させ、低屈折率樹脂層塗布液１、２を調製した。それぞれ低屈折率樹脂塗布液の濃度は、基材として５０μｍ厚みのポリエステル製フィルム（商品名「Ａ４３００」 東洋クロス（株）製）を用い、マイクログラビアコーターにより基材上に低屈折率樹脂塗布液１、２を塗布し、８０℃で１分乾燥後、紫外線照射することで基材上に低屈折率樹脂層を作製した際に、表３に記載の極小反射波長になる濃度に調整した。
［製造例３］
（熱線反射層用低屈折率樹脂塗布液３〜７の作製）
スズドープ酸化インジウム微粒子（商品名「ＩＴＯ−Ｒ」、ＣＩＫナノテック（株）製）１．４部、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）０．４部、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン（ＢＡＳＦジャパン（株）製「イルガキュア９０７」）０．０５部、および分散剤（商品名「ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１１１」、ビックケミー・ジャパン（株）製）０．３部をエタノールに加え、低屈折率樹脂塗布液３〜８を作製した。それぞれ低屈折率樹脂塗布液の濃度は、基材として５０μｍ厚みのポリエステル製フィルム（商品名「Ａ４３００」 東洋クロス（株）製）を用い、マイクログラビアコーターにより基材上に低屈折率樹脂塗布液３〜７を塗布し、８０℃で１分乾燥後、紫外線照射することで基材上に低屈折率樹脂層を作製した際に、表３に記載の極小反射波長になる濃度に調整した。
（熱線反射層用低屈折率樹脂塗布液３〜７の作製）
スズドープ酸化インジウム微粒子（商品名「ＩＴＯ−Ｒ」、ＣＩＫナノテック（株）製）１．４部、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）０．４部、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン（ＢＡＳＦジャパン（株）製「イルガキュア９０７」）０．０５部、および分散剤（商品名「ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１１１」、ビックケミー・ジャパン（株）製）０．３部をエタノールに加え、低屈折率樹脂塗布液３〜８を作製した。それぞれ低屈折率樹脂塗布液の濃度は、基材として５０μｍ厚みのポリエステル製フィルム（商品名「Ａ４３００」 東洋クロス（株）製）を用い、マイクログラビアコーターにより基材上に低屈折率樹脂塗布液３〜７を塗布し、８０℃で１分乾燥後、紫外線照射することで基材上に低屈折率樹脂層を作製した際に、表３に記載の極小反射波長になる濃度に調整した。
［実施例１］
（熱線遮蔽層の作製）
基材として５０μｍ厚みのポリエステル製フィルム（商品名「Ａ４３００」 東洋クロス（株）製）を用い、マイクログラビアコーターにより基材上に高屈折率樹脂塗布液３を塗布し、８０℃で１分乾燥後、紫外線照射することで基材上に高屈折率樹脂層を作製した。続いて高屈折樹脂層上に低屈折率樹脂塗布液２を塗布し、８０℃で１分乾燥後、紫外線照射することで基材上に高屈折樹脂層、低屈折樹脂層の順に積層した。以降同様に高屈折率樹脂層、低屈折率樹脂層、高屈折率樹脂層の順に積層し、計５層の熱線反射層１を作製した。得られた熱線遮蔽層の極大反射波長を分光光度計（島津製作所ＵＶ−３１００）で測定し、表４に記載した。
（熱線遮蔽層の作製）
基材として５０μｍ厚みのポリエステル製フィルム（商品名「Ａ４３００」 東洋クロス（株）製）を用い、マイクログラビアコーターにより基材上に高屈折率樹脂塗布液３を塗布し、８０℃で１分乾燥後、紫外線照射することで基材上に高屈折率樹脂層を作製した。続いて高屈折樹脂層上に低屈折率樹脂塗布液２を塗布し、８０℃で１分乾燥後、紫外線照射することで基材上に高屈折樹脂層、低屈折樹脂層の順に積層した。以降同様に高屈折率樹脂層、低屈折率樹脂層、高屈折率樹脂層の順に積層し、計５層の熱線反射層１を作製した。得られた熱線遮蔽層の極大反射波長を分光光度計（島津製作所ＵＶ−３１００）で測定し、表４に記載した。
［比較例１］
高屈折樹脂層作製時に高屈折率樹脂塗布液１を用い、低屈折樹脂層作製時に低屈折率樹脂塗布液１を用いた以外は、実施例１と同様の操作を行い、比較例１の熱線反射層６を作製した。得られた熱線遮蔽層の極大反射波長を分光光度計で測定し、表４に記載した。
高屈折樹脂層作製時に高屈折率樹脂塗布液１を用い、低屈折樹脂層作製時に低屈折率樹脂塗布液１を用いた以外は、実施例１と同様の操作を行い、比較例１の熱線反射層６を作製した。得られた熱線遮蔽層の極大反射波長を分光光度計で測定し、表４に記載した。
［実施例２〜５および比較例２］
基材として５０μｍ厚みのポリエステル製フィルム（商品名「Ａ４３００」 東洋クロス（株）製）を用い、マイクログラビアコーターにより基材上に表４に記載の低屈折率樹脂塗布液を塗布し、８０℃で１分乾燥後、紫外線照射することで基材上に低屈折率樹脂層を作製した。続いて低屈折樹脂層上に表４に記載の高屈折率樹脂塗布液を塗布し、８０℃で１分乾燥後、紫外線照射することで基材上に低屈折樹脂層、高屈折樹脂層の順に積層した。以降同様に低屈折率樹脂層、高屈折率樹脂層、低屈折率樹脂層、高屈折率樹脂層の順に積層し、計６層の熱線反射層２〜５、７を作製した。得られた熱線遮蔽層の極大反射波長を分光光度計（島津製作所ＵＶ−３１００）で測定し、表４に記載した。
基材として５０μｍ厚みのポリエステル製フィルム（商品名「Ａ４３００」 東洋クロス（株）製）を用い、マイクログラビアコーターにより基材上に表４に記載の低屈折率樹脂塗布液を塗布し、８０℃で１分乾燥後、紫外線照射することで基材上に低屈折率樹脂層を作製した。続いて低屈折樹脂層上に表４に記載の高屈折率樹脂塗布液を塗布し、８０℃で１分乾燥後、紫外線照射することで基材上に低屈折樹脂層、高屈折樹脂層の順に積層した。以降同様に低屈折率樹脂層、高屈折率樹脂層、低屈折率樹脂層、高屈折率樹脂層の順に積層し、計６層の熱線反射層２〜５、７を作製した。得られた熱線遮蔽層の極大反射波長を分光光度計（島津製作所ＵＶ−３１００）で測定し、表４に記載した。
［製造例４］
（熱線吸収層用樹脂塗布液の作製）
ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０（日本化薬（株）製）６０部、分散剤（ＢＹＫ１１１ビックケミー・ジャパン（株）製）８部およびイルガキュア９０７ ５部を、メチルエチルケトン ２００部に溶解させた溶液中にスズドープ酸化インジウム微粒子（商品名「ＩＴＯ−Ｒ」、ＣＩＫナノテック（株）製）２０部、銅（ＩＩ）２，３−ナフタロシアニン（シグマアルドリッチジャパン合同会製）２部を分散させ熱線吸収層用樹脂塗布液を調整した。
（熱線吸収層用樹脂塗布液の作製）
ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０（日本化薬（株）製）６０部、分散剤（ＢＹＫ１１１ビックケミー・ジャパン（株）製）８部およびイルガキュア９０７ ５部を、メチルエチルケトン ２００部に溶解させた溶液中にスズドープ酸化インジウム微粒子（商品名「ＩＴＯ−Ｒ」、ＣＩＫナノテック（株）製）２０部、銅（ＩＩ）２，３−ナフタロシアニン（シグマアルドリッチジャパン合同会製）２部を分散させ熱線吸収層用樹脂塗布液を調整した。
［実施例６〜１０および比較例３、４］
（熱線遮蔽層の作製）
表５に記載の熱線反射層１〜７の上に、マイクログラビアコーターを用いて熱線吸収層用樹脂塗布液を、乾燥後層厚１．５μｍの厚みになるように塗布し、５０℃で１分乾燥後、紫外線照射することで熱線吸収層を作製した。これにより基材上に熱線反射層と熱線吸収層を有する熱線遮蔽層１〜７を作製した。得られた熱線遮蔽層の極大反射波長を分光光度計（島津製作所ＵＶ−３１００）で測定し、表５に記載した。
（熱線遮蔽層の作製）
表５に記載の熱線反射層１〜７の上に、マイクログラビアコーターを用いて熱線吸収層用樹脂塗布液を、乾燥後層厚１．５μｍの厚みになるように塗布し、５０℃で１分乾燥後、紫外線照射することで熱線吸収層を作製した。これにより基材上に熱線反射層と熱線吸収層を有する熱線遮蔽層１〜７を作製した。得られた熱線遮蔽層の極大反射波長を分光光度計（島津製作所ＵＶ−３１００）で測定し、表５に記載した。
［製造例５］
（シート状接着樹脂１の作製）
ポリビニルブチラール樹脂３６０ｇ、トリエチレングリコールビス（２−エチルブチレート）１３０ｇを、３本ロールミキサーにより約７０℃で１５分間練りこみ混合することでシート状接着樹脂原料を得た。次いで押出し成形機を用い成形温度２００℃で押出し成形することで、厚み約０．４ｍｍのシート状接着樹脂１を作製した。
（シート状接着樹脂１の作製）
ポリビニルブチラール樹脂３６０ｇ、トリエチレングリコールビス（２−エチルブチレート）１３０ｇを、３本ロールミキサーにより約７０℃で１５分間練りこみ混合することでシート状接着樹脂原料を得た。次いで押出し成形機を用い成形温度２００℃で押出し成形することで、厚み約０．４ｍｍのシート状接着樹脂１を作製した。
［実施例１１〜２０および比較例５〜８］
（熱線遮蔽構造体を配置した合わせガラスの作製）
厚さ２ｍｍのソーダガラス、製造例５で得られたシート状接着樹脂１、実施例１〜５および比較例１、２で作製した熱線反射層１〜７もしくは実施例６〜１０および比較例３、４作製した熱線遮蔽層１〜７、製造例４で得られたシート状接着樹脂１、厚さ２ｍｍのソーダガラスの順でそれぞれ重ねあわせた後、真空バッグに入れ、−０．０９ＭＰａまで真空ポンプで減圧した。その後、減圧下で１１０℃、３０分間保持し予備圧着した。予備圧着後、オートクレーブにて圧力１．５Ｍｐａ、１５０℃の条件で３０分間保持し本圧着した。その後常温常圧まで戻すことで、本発明の熱線遮蔽構造体を配置した合わせガラス１〜５、８〜１２と比較用の合わせガラス６、７、１３、１４を作製した。
（熱線遮蔽構造体を配置した合わせガラスの作製）
厚さ２ｍｍのソーダガラス、製造例５で得られたシート状接着樹脂１、実施例１〜５および比較例１、２で作製した熱線反射層１〜７もしくは実施例６〜１０および比較例３、４作製した熱線遮蔽層１〜７、製造例４で得られたシート状接着樹脂１、厚さ２ｍｍのソーダガラスの順でそれぞれ重ねあわせた後、真空バッグに入れ、−０．０９ＭＰａまで真空ポンプで減圧した。その後、減圧下で１１０℃、３０分間保持し予備圧着した。予備圧着後、オートクレーブにて圧力１．５Ｍｐａ、１５０℃の条件で３０分間保持し本圧着した。その後常温常圧まで戻すことで、本発明の熱線遮蔽構造体を配置した合わせガラス１〜５、８〜１２と比較用の合わせガラス６、７、１３、１４を作製した。
（ΔＥ＊の測定）
実施例１１〜２０および比較例５〜８で作成した合わせガラス１〜１４の入射角１０度における可視光領域のスペクトルと、入射角５０度における可視光領域のスペクトルと、光学薄膜用分光光度計Ｐｈｏｔｏｎｅ ＲＴ（ＥｓｓｅｎｔＯｐｔｉｃｓ Ｌｔｄ．製）を用いて測定した。スペクトルは、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの波長領域を、０．５ｎｍ刻みで測定した。得られたスペクトルデータから、ＣＩＥ１９７６に規定される計算式を用いて、入射角１０度でのＬ＊ａ＊ｂ＊と入射角５０度でのＬ＊ａ＊ｂ＊を求めた。その後、２点のユークリッド距離を求めることで、入射角１０度で入光した際の反射色と入射角５０度で入光した際の反射色の色差ΔＥ＊を算出した。結果を表６に記した。
実施例１１〜２０および比較例５〜８で作成した合わせガラス１〜１４の入射角１０度における可視光領域のスペクトルと、入射角５０度における可視光領域のスペクトルと、光学薄膜用分光光度計Ｐｈｏｔｏｎｅ ＲＴ（ＥｓｓｅｎｔＯｐｔｉｃｓ Ｌｔｄ．製）を用いて測定した。スペクトルは、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの波長領域を、０．５ｎｍ刻みで測定した。得られたスペクトルデータから、ＣＩＥ１９７６に規定される計算式を用いて、入射角１０度でのＬ＊ａ＊ｂ＊と入射角５０度でのＬ＊ａ＊ｂ＊を求めた。その後、２点のユークリッド距離を求めることで、入射角１０度で入光した際の反射色と入射角５０度で入光した際の反射色の色差ΔＥ＊を算出した。結果を表６に記した。
（反射色の色味評価）
実施例１１〜２０および比較例５〜８で作成した合わせガラス１〜１４の反射色の色味を目視で評価した。蛍光灯を垂直方向（０度）に配置し、垂直方向から見た場合の色味と、蛍光灯を垂直方向から６０度の位置に配置し、蛍光灯と反対方向から見た場合の色味を確認し、以下の判断基準で評価した。結果を表６に記した。
Ａ ： ０度および６０度の双方で反射色に色味が無い
Ｂ ： ０度および／または６０度で反射色が赤味を帯びている
Ｃ ： ０度および／または６０度で反射色が青味を帯びている
実施例１１〜２０および比較例５〜８で作成した合わせガラス１〜１４の反射色の色味を目視で評価した。蛍光灯を垂直方向（０度）に配置し、垂直方向から見た場合の色味と、蛍光灯を垂直方向から６０度の位置に配置し、蛍光灯と反対方向から見た場合の色味を確認し、以下の判断基準で評価した。結果を表６に記した。
Ａ ： ０度および６０度の双方で反射色に色味が無い
Ｂ ： ０度および／または６０度で反射色が赤味を帯びている
Ｃ ： ０度および／または６０度で反射色が青味を帯びている
（反射色ムラ評価）
実施例１１〜２０および比較例５〜８で作成した合わせガラス１〜１４の反射色の色味を目視で評価した。熱線反射層を塗工時の塗りムラが見えるものを×、 熱線反射層を塗工時の塗りムラが僅かに見えるものを△、熱線反射層を塗工時の塗りムラが目立たない物を〇として評価した。結果を表６に記した。
実施例１１〜２０および比較例５〜８で作成した合わせガラス１〜１４の反射色の色味を目視で評価した。熱線反射層を塗工時の塗りムラが見えるものを×、 熱線反射層を塗工時の塗りムラが僅かに見えるものを△、熱線反射層を塗工時の塗りムラが目立たない物を〇として評価した。結果を表６に記した。
［実施例２１］
（熱線遮蔽構造体を配置した合わせガラスの作製）
厚さ２ｍｍのソーダガラス、製造例５で得られたシート状接着樹脂１、実施例８で作製した熱線反射層３、製造例４で得られたシート状接着樹脂１、厚さ２ｍｍのグリーンガラスの順でそれぞれ重ねあわせた後、真空バッグに入れ、−０．０９ＭＰａまで真空ポンプで減圧した。その後、減圧下で１１０℃、３０分間保持し予備圧着した。予備圧着後、オートクレーブにて圧力１．５Ｍｐａ、１５０℃の条件で３０分間保持し本圧着した。その後常温常圧まで戻すことで、本発明の熱線遮蔽構造体を配置した合わせガラス１５を作製した。
（熱線遮蔽構造体を配置した合わせガラスの作製）
厚さ２ｍｍのソーダガラス、製造例５で得られたシート状接着樹脂１、実施例８で作製した熱線反射層３、製造例４で得られたシート状接着樹脂１、厚さ２ｍｍのグリーンガラスの順でそれぞれ重ねあわせた後、真空バッグに入れ、−０．０９ＭＰａまで真空ポンプで減圧した。その後、減圧下で１１０℃、３０分間保持し予備圧着した。予備圧着後、オートクレーブにて圧力１．５Ｍｐａ、１５０℃の条件で３０分間保持し本圧着した。その後常温常圧まで戻すことで、本発明の熱線遮蔽構造体を配置した合わせガラス１５を作製した。
実施例２１で得られた合わせガラス１５の可視光透過率、ヘイズ、全日射エネルギーを測定した。
（可視光透過率（Ｔｖｉｓ）の測定）
分光光度計（島津製作所製ＵＶ−３１００）を用いて、合わせガラス１２の波長３００ｎｍ〜２５００ｎｍにおける透過率及び反射率を測定した。得られたスペクトルを図１に示す。また、ＪＩＳ Ｒ３１０６に準拠して、可視光透過率（Ｔｖｉｓ）を算出したところ、７０．１％であった。
（全日射エネルギー（Ｔｔｓ）の測定）
全日射エネルギー（Ｔｔｓ；Ｔｏｔａｌ Ｓｏｌａｒ Ｔｒａｎｓｍｉｔｔａｎｃｅ）は、太陽からの熱的エネルギーのうち、対象となる材料をどの程度透過するかという尺度である。ＪＩＳ Ｒ３１０６に定義されている計算式にて合わせガラス１２の全日射エネルギーを算出したところ、４９．９％であった。
（ヘイズ値の測定）
ヘーズメーター（東京電色製ＴＣ−ＨＩＩＩＤＰＫ）を用いて、ＪＩＳ Ｋ６７１４に準拠して合わせガラス１２のヘイズ値を測定したところ、０．３であった。
（可視光透過率（Ｔｖｉｓ）の測定）
分光光度計（島津製作所製ＵＶ−３１００）を用いて、合わせガラス１２の波長３００ｎｍ〜２５００ｎｍにおける透過率及び反射率を測定した。得られたスペクトルを図１に示す。また、ＪＩＳ Ｒ３１０６に準拠して、可視光透過率（Ｔｖｉｓ）を算出したところ、７０．１％であった。
（全日射エネルギー（Ｔｔｓ）の測定）
全日射エネルギー（Ｔｔｓ；Ｔｏｔａｌ Ｓｏｌａｒ Ｔｒａｎｓｍｉｔｔａｎｃｅ）は、太陽からの熱的エネルギーのうち、対象となる材料をどの程度透過するかという尺度である。ＪＩＳ Ｒ３１０６に定義されている計算式にて合わせガラス１２の全日射エネルギーを算出したところ、４９．９％であった。
（ヘイズ値の測定）
ヘーズメーター（東京電色製ＴＣ−ＨＩＩＩＤＰＫ）を用いて、ＪＩＳ Ｋ６７１４に準拠して合わせガラス１２のヘイズ値を測定したところ、０．３であった。
表６の実施例１１〜１５で示される通り、該熱線反射膜の入射角１０度で入光した際の反射色と入射角５０度で入光した際の反射色の色差ΔＥ＊が１５以下である熱線遮蔽構造体は、反射色の着色が少なく、製造時に発生する色ムラも目立たない。特に、低屈折層にスズドープ酸化インジウム微粒子（ＩＴＯ）を用いると、製造時に発生する色ムラが特に目立たないため、より好適な構成と言える。
対して、比較例５、６で示されるように、ΔＥ＊が１５以上であると、反射色が色味を帯びると共に、色ムラも目立つ様になるため、実用的でなくなる。
また実施例１６〜２０の、熱線反射層に加えて熱線吸収層も有する熱線遮蔽構造体を用いた際にも、ΔＥ＊が１５以下であると反射色の着色が少なく、色ムラも目立たない。また、低屈折層にスズドープ酸化インジウム微粒子（ＩＴＯ）を用いると、製造時に発生する色ムラが特に目立たないため、より好適な構成と言える。
同様に、比較例１０、１１で示されるように、ΔＥ＊が１５以上であると、反射色が色味を帯びると共に、色ムラも目立つ様になるため、好ましい構成とは言い難い。
以上の結果より、本発明の熱線遮蔽構造体は、可視光透過性、全日射透過率およびヘイズに関する性能が総合的に優れていると共に、反射色に着色が少なく実用性が高い構成と言える。
対して、比較例５、６で示されるように、ΔＥ＊が１５以上であると、反射色が色味を帯びると共に、色ムラも目立つ様になるため、実用的でなくなる。
また実施例１６〜２０の、熱線反射層に加えて熱線吸収層も有する熱線遮蔽構造体を用いた際にも、ΔＥ＊が１５以下であると反射色の着色が少なく、色ムラも目立たない。また、低屈折層にスズドープ酸化インジウム微粒子（ＩＴＯ）を用いると、製造時に発生する色ムラが特に目立たないため、より好適な構成と言える。
同様に、比較例１０、１１で示されるように、ΔＥ＊が１５以上であると、反射色が色味を帯びると共に、色ムラも目立つ様になるため、好ましい構成とは言い難い。
以上の結果より、本発明の熱線遮蔽構造体は、可視光透過性、全日射透過率およびヘイズに関する性能が総合的に優れていると共に、反射色に着色が少なく実用性が高い構成と言える。
本発明の熱線遮蔽構造体は、可視光透過性、全日射透過率およびヘイズに関する性能が総合的に優れていると共に、反射色に着色が少なく、実用的な構成となっている。従って、住宅の窓や自動車のガラスの意匠を損ねることなく、空間の温度上昇を抑え、空調機器の負荷を軽減し、省エネルギーや地球環境問題に貢献できるものである。
Claims (17)
- （Ａ）高屈折率層（Ａ−１）および低屈折率層（Ａ−２）の繰り返し多層構造を有する熱線反射膜を有し、該熱線反射膜の入射角１０度で入光した際の反射色と入射角５０度で入光した際の反射色の色差ΔＥ＊が１５以下である熱線遮蔽構造体。
- 前記（Ａ）高屈折率層および低屈折率層の繰り返し多層構造を有する熱線反射膜の極大反射波長が９５０ｎｍ以上１１７０ｎｍ以下であり、かつ４００ｎｍ以上７５０ｎｍ以下の波長領域の極大反射率が２０％以下である請求項１に記載の熱線遮蔽構造体。
- 前記（Ａ−１）高屈折率層及び（Ａ−２）低屈折率樹脂層が微粒子を含有する請求項１又は２に記載の熱線遮蔽構造体。
- 前記（Ａ−１）高屈折率樹脂層に含有される微粒子が酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化タンタル、酸化タングステン、酸化ニオブ、酸化セリウム、酸化鉛、ダイヤモンド、酸化亜鉛、ホウ化物、窒化物の群から選択される少なくとも一種の微粒子である請求項３に記載の熱線遮蔽構造体。
- 前記（Ａ−２）低屈折率樹脂層に含有される微粒子が酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化タングステン、中空酸化ケイ素の群から選択される少なくとも一種の微粒子である請求項３又は４に記載の熱線遮蔽構造体。
- 前記（Ａ）において、高屈折率層（Ａ−１）および低屈折率層（Ａ−２）の繰り返し多層構造が４層以上１１層以下である請求項１乃至５のいずれか一項に記載の熱線遮蔽構造体。
- 前記（Ａ）において、繰り返し多層構造における高屈折率層（Ａ−１）の各層厚の最大値と最小値の差が５０ｎｍ以内であり、繰り返し多層構造における低屈折率層（Ａ−２）の各層厚の最大値と最小値の差が５０ｎｍ以内である請求項１乃至６のいずれか一項に記載の熱線遮蔽構造体。
- 更に（Ｂ）熱線吸収膜を有する請求項１乃至７のいずれか一項に記載の熱線遮蔽構造体。
- 前記（Ｂ）熱線吸収膜が、（Ｂ−１）無機酸化物及び／又は色素、（Ｂ−２）バインダー樹脂、及び（Ｂ−３）光重合開始剤を含有する熱線吸収膜である請求項８に記載の熱線遮蔽構造体。
- 前記（Ｂ−１）が無機酸化物、及び色素である請求項９に記載の熱線遮蔽構造体。
- 前記（Ｂ−２）が極性官能基と２以上のアクリロイル基を併せ持つバインダー樹脂である請求項９又は１０に記載の熱線遮蔽構造体。
- 前記（Ｂ−３）が、３６５ｎｍにおけるモル吸光係数（ε）が５０以上１０００（ｍＬ／ｇ・ｃｍ）以下である請求項８乃至１１のいずれか一項に記載の熱線遮蔽構造体。
- 前記（Ｂ）熱線吸収膜が、更に（Ｂ−４）シランカップリング剤を含有する請求項９乃至１２のいずれか一項に記載の熱線遮蔽構造体。
- 前記（Ｂ）熱線吸収膜が、更に（Ｂ−５）分散剤を含有する請求項９乃至１３のいずれか一項に記載の熱線遮蔽構造体。
- 更に支持体を有する請求項１乃至１４に記載の熱線遮蔽構造体。
- 更に（Ｃ）熱可塑性樹脂膜を２層以上有し、請求項１乃至１５に記載の熱線遮蔽構造体を挟み込んでなる熱線遮蔽構造体。
- 更に（Ｄ）ガラスを２枚以上有し、請求項１乃至１６に記載の熱線遮蔽構造体を挟み込んでなる熱線遮蔽構造体。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2020052750A JP2021151730A (ja) | 2020-03-24 | 2020-03-24 | 熱線遮蔽構造体 |
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| JP2020052750A JP2021151730A (ja) | 2020-03-24 | 2020-03-24 | 熱線遮蔽構造体 |
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| JP (1) | JP2021151730A (ja) |
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2020
- 2020-03-24 JP JP2020052750A patent/JP2021151730A/ja active Pending
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