JP7165743B2 - 半導体装置の製造方法、基板処理装置、及びプログラム - Google Patents
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Description
例えば、特許文献1では、半導体基板上にゲート酸化膜を形成した後、ポリシリコン膜及び高融点金属シリサイド膜を順次堆積してゲート電極配線形状にパターン化し、酸素プラズマに曝してゲート電極配線の露出面に酸化膜を形成する半導体装置の製造方法が開示されている。
また、特許文献2では、シリコンをプラズマ酸化処理し、酸化珪素膜を形成した後、熱酸化処理する酸化珪素膜の形成方法が開示されている。
特許文献2:特開2010-171128号公報
一方、低温での酸化処理では、Doped Si膜からのドーパントの抜けは抑制できるが、十分な膜質が得られず、スループットが低下する。
なお、本明細書中の「工程」の用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば本用語に含まれる。
また、本明細書中、第1酸化工程と第2酸化工程を合わせて「酸化工程」と記す場合がある。
また、第1酸素含有ガス及び第2酸素含有ガスを合わせて「酸素含有ガス」と記す場合がある。
また、第1酸化層及び第1酸化層を厚くした第2酸化層を合わせて「酸化層」と記す場合がある。なお、本明細書における「酸化層」は、基板表面上に酸化物を堆積させて形成する酸化層ではなく、基板の表面を改質することによって形成された酸化層を意味する。例えば、基板の表面に既に膜が存在する場合は、膜の表面を改質することによって形成される酸化層を意味する。
図1は、表面にリン(P)がドーピングされたSi膜300を有する基板に対し、本実施形態に係る半導体装置の製造方法によって、第1酸化層310aを形成した後、第1酸化層310aの厚みを増大させた第2酸化層310bを形成することを模式的に示している。第1酸化工程では、不純物(ドーパント)としてPがドーピングされたSi膜300を有する基板を比較的低温である第1温度にした状態で、少なくとも酸素(O)を含む第1酸素含有ガスを供給してプラズマ酸化を行うことでSi膜300は表面から酸化されて、主にSiO2で構成されるSi酸化層である第1酸化層310aが形成される。このような第1酸化工程では、膜中からの不純物(ドーパント)の抜け(放出)が抑制され、ドーパント抜けによる膜の特性変化が抑制される。また、処理室内がドーパントで汚染されることによる酸化レートの低下及び酸化層の面内均一性の低下を防ぐことができる。
本実施形態に係る基板処理装置は、基板を処理する処理室と、前記処理室内に酸素含有ガスを供給するガス供給部と、前記処理室内に配置された前記基板を加熱可能な加熱部と、前記処理室内に供給された前記酸素含有ガスを励起してプラズマを生成させるプラズマ生成部と、前記処理室内で、第1温度である前記基板の表面を、第1酸素含有ガスのプラズマによって改質して第1酸化層を形成する第1酸化工程、及び前記基板を前記第1温度よりも高い第2温度に加熱して、前記第1酸化層が形成された前記基板の表面を、第2酸素含有ガスのプラズマによって改質して前記第1酸化層の厚みが増した第2酸化層を形成する第2酸化工程を実行するように、前記ガス供給部、前記加熱部、及び前記プラズマ生成部を制御する制御部と、を備えている。
図2及び図3は、本実施形態に係る基板処理装置の構成の一例(第1実施形態)を示している。図2は、第1酸化工程を行う場合の一例を示し、図3は、第1実施形態に係る基板処理装置において第2酸化工程を行う場合の一例を示している。
基板処理装置100は、ウエハ(基板)200をプラズマ処理する処理炉202を備えている。処理炉202は、処理室201を構成する処理容器203を備えている。処理容器203は、第1の容器であるドーム型の上側容器210と、第2の容器である碗型の下側容器211とを備えている。上側容器210が下側容器211の上に被さることにより、処理室201が形成される。
処理室201の底側中央には、ウエハ200を載置する基板載置部としてのサセプタ(基板載置台)217が配置されている。
処理室201の上方、つまり上側容器210の上部には、ガス供給ヘッド236が設けられている。ガス供給ヘッド236は、キャップ状の蓋体233と、ガス導入口234と、バッファ室237と、開口238と、遮蔽プレート240と、ガス吹出口239とを備え、ガスを処理室201内へ供給できるように構成されている。バッファ室237は、ガス導入口234より導入されるガスを分散する分散空間としての機能を持つ。
ガス供給管232aには、上流側から順に、H2ガス供給源250a、流量制御装置としてのマスフローコントローラ(MFC)252a、開閉弁としてのバルブ253aが設けられている。
ガス供給管232bには、上流側から順に、O2ガス供給源250b、MFC252b、バルブ253bが設けられている。
ガス供給管232cには、上流側から順に、N2ガス供給源250c、MFC252c、バルブ253cが設けられている。
ガス供給管232aとガス供給管232bとガス供給管232cとが合流した下流側には、バルブ243aが設けられ、ガス導入口234の上流端に接続されている。バルブ253a、253b、253c、243aを開閉させることによって、MFC252a、252b、252cによりそれぞれのガスの流量を調整しつつ、ガス供給管232a、232b、232cを介して、水素ガス、酸素ガス、窒素ガス等のガスをそれぞれ処理室201内へ供給することができる。
なお、本実施形態に係る本実施形態に係る基板処理装置では、ガス供給部から、少なくとも酸素を含む酸素含有ガスを供給できればよく、水素ガス供給系及び窒素ガス供給系を備えていなくてもよい。
下側容器211の側壁には、処理室201内からガスを排気するガス排気口235が設けられている。ガス排気口235には、ガス排気管231の上流端が接続されている。ガス排気管231には、上流側から順に圧力調整器(圧力調整部)としてのAPC(Auto Pressure Controller)バルブ242、バルブ243b、真空排気装置としての真空ポンプ246が設けられている。
処理室201の外周部、すなわち上側容器210の側壁の外側には、処理室201を囲うように螺旋状の共振コイル212が設けられている。共振コイル212には、RF(Radio Frequency)センサ272、高周波電源273及び周波数整合器274が接続される。
図4に示すように、放電するための電極として、共振コイル212が石英ドームの周辺にらせん状に巻かれている。この高周波誘導結合プラズマ(Inductively Coupled Plasma)電極(ICP電極)が、所謂λ―ICPの場合、電極の両端はアースに接地され、そのアース間の電極長は印加される高周波電力の波長とほぼ同等の長さに調整される。
図5に示すように、制御部としてのコントローラ221は、CPU(Central Processing Unit)221a、RAM(Random Access Memory)221b、記憶装置221c、I/Oポート221dを備えたコンピュータとして構成されている。RAM221b、記憶装置221c、I/Oポート221dは、内部バス221eを介して、CPU221aとデータ交換可能なように構成されている。コントローラ221には、入出力装置225として、例えばタッチパネル、マウス、キーボード、操作端末等が接続されていてもよい。また、コントローラ221には、表示部として、例えばディスプレイ等が接続されていてもよい。
RAM221bは、CPU221aによって読み出されたプログラムやデータ等が一時的に保持されるメモリ領域(ワークエリア)として構成されている。
次に、本実施形態に係る半導体装置の製造方法により、基板を処理する工程について説明する。本実施形態における基板処理工程は、例えばフラッシュメモリ等の半導体デバイスの製造工程の一工程として、上述の基板処理装置100により実施される。なお、以下の説明において、基板処理装置100を構成する各部の動作は、コントローラ221により制御される。図10は、本実施形態における基板処理工程における被処理基板(ウエハ200)の温度の時間推移と各工程との関係を示す図である。
本実施形態に係る半導体装置の製造方法を実施する際、処理する基板は特に限定されず、製造する半導体装置の用途等に応じて選択すればよい。
基板として、シリコン基板、化合物半導体基板等の半導体基板のほか、ガラス基板などの絶縁基板等を用いてもよい。また、酸化層が形成される側の表面が平坦な基板でもよいし、表面に膜を有する基板でもよいし、半導体装置の製造工程の一部を経て表面に凹凸が形成されている基板でもよい。
基板の表面に形成されている膜としては、例えばSi含有膜、具体的にはPoly-Si膜が挙げられる。
膜にドーピングされた不純物(ドーパント)は特に限定されず、P、As、Sb、B、Al等が挙げられる。
第1酸化工程で用いる第1酸素含有ガスと第2酸化工程で用いる第2酸素含有ガスはそれぞれ少なくとも酸素(O)を含むガスであれば使用することができる。酸素含有ガスとしては、O2ガス単独、O2ガスとH2ガスとの混合ガス、さらに、H2Oガス(水蒸気)、H2O2ガス、オゾン(O3)ガス単独、などが挙げられる。
第1酸素含有ガス又は第2酸素含有ガスの少なくともいずれかは、酸素のほか、水素(H)を含有するガスであることが好ましい。酸素含有ガスが、酸素以外に水素を含むことで、酸化レートを向上させることができる。
酸素及び水素を含有する酸素含有ガスとしては、H2Oガス(水蒸気)を使用することもできるが、酸化レートの向上、取扱いの容易さ、流量比を変えることにより酸素と水素の比率を調整可能とする、などの観点から、O2ガスとH2ガスとの混合ガスであることが好ましい。
また、第1酸素含有ガス又は第2酸素含有ガスの少なくともいずれかがO2ガスであってもよい。
まず、ゲートバルブ244を開き、被処理基板として、酸化層が形成される側の表面に、不純物がドーピングされた膜を有するウエハ200(以下、単に「ウエハ」又は「基板」と記す場合がある。)を、図示しない搬送ロボットにより処理室201内に搬入する。ウエハ200を処理室201内に搬入する際、ウエハ200をサセプタ217の基板載置面217dから突出した支持ピン266上に載置する。具体的には、サセプタ昇降機構268がサセプタ217を下降させて、サセプタ217の貫通孔217aから、支持ピン266をサセプタ217の表面(基板載置面)217dよりも所定の高さ分だけ突出させる。図2に示すように、サセプタ217の基板載置面217dとウエハ200とが離間されるように基板載置面217dから突出した支持ピン266上にウエハ200を載置することで、ウエハ200は支持ピン266上に水平姿勢で支持される。
続いて、処理室201内に搬入されたウエハ200の昇温を行う。ヒータ217bは予め加熱されており、処理室201内に搬入されたウエハ200を、ヒータ217bが埋め込まれたサセプタ217の基板載置面217dから突出した支持ピン266上に保持した状態でウエハ200とサセプタ217との離間距離の調整を行うことで、サセプタ217の内蔵ヒータ217bの温度を変化させることなく、ウエハ200の温度を容易に調整することができる。例えば、室温(25℃)~300℃の範囲内の第1温度、例えば250℃にウエハ200を加熱する。第1酸化工程を行う際のウエハ200の温度(第1温度)を300℃以下に制御することで、第1酸化工程においてウエハ表面の膜中のドーパントが処理室201内に放出されることを抑制することができる。
なお、第1酸化工程では、ドーパントの放出を抑制するという観点から、ウエハ200の温度は低いほど望ましい。好適な例として、処理室201内に搬入されたウエハ200を加熱せずに、プラズマ酸化によって第1酸化層を形成することもできる。また、酸化レートを向上させる観点からは、ウエハ200の温度は高いほど望ましい。好適な例として、第1温度としてウエハを200℃以上に加熱することが好ましい。
第1酸化工程では、上記のようにヒータ217bが内蔵されたサセプタ217の基板載置面217dの上方でウエハ200を支持するよう構成された支持ピン266により、サセプタ217の基板載置面217bとウエハ200とが離間するようにウエハ200を支持した状態で第1酸化層の形成を行うことが好ましい。
ウエハ200が第1温度まで加熱された後、少なくとも酸素を含む第1酸素含有ガスを処理室201内に供給し、当該ガスを励起してプラズマを生成することにより第1酸化工程を実施する。ウエハ200を処理室201内に搬入した後、ウエハ200を支持ピン266上に載置した状態のまま第1酸化工程を実行することで、内蔵ヒータ217bの温度を変化させることなくウエハ200の温度を容易に調整することができるので、プロセスレシピを簡素化したり、スループットを向上させたりすることができる。
第1酸化層の厚みの上限も特に限定されないが、第1酸化工程では、第2酸化工程よりもウエハ温度を低くして酸化層を形成するため、第2酸化工程よりも酸化レートが遅くなる。すなわち、第1酸化工程で形成する第1酸化層を厚くするほど酸化層を形成する全体の工程時間が長くなる。また、第1酸化工程では、第2酸化工程よりもウエハ温度を低くして酸化層を形成するため、形成される酸化層の所望の特性も第2酸化工程に比べて劣ることがある(例えば、酸化層の緻密性が低くなる、不要な不純物の含有量が多くなる、等)。すなわち、第1酸化工程で形成する第1酸化層を厚くするほど、第2酸化工程で形成する酸化層を含む酸化層全体(すなわち後述の第2酸化層)の質が低くなることがある。従って、生産性の観点、及び酸化層の質の観点から、第1酸化層の厚みは、ドーパントの抜けを抑制するという目的を達成可能な厚み以上であれば、できるだけ薄いことがより好ましい。例えば第1酸化層の厚みは、4nm以下が好ましく、2nm以下がより好ましい。
第1酸化工程を所定時間実行した後、共振コイル212に対する高周波電力の印加を停止してプラズマ酸化処理を停止する。続いて、後続の第2酸化工程を行うため、ウエハ200を第1温度よりも高い第2温度まで昇温する。この間、真空ポンプ246による真空排気は継続して行われる。
具体的には、図3に示すように、サセプタ昇降機構268が、共振コイル212の下端と搬入出口245の上端の間の所定の位置となるよう、サセプタ217を上昇させる。その結果、ウエハ200はサセプタ217の上面(基板載置面)217dに支持される。サセプタ217の基板載置面217dと接した状態でウエハ200が加熱されることでウエハ温度が上昇し、ウエハ200を第1温度よりも高い第2温度にすることができる。
なお、第2昇温工程では、必ずしもサセプタ217の基板載置面217d上にウエハ200を載置する必要はなく、サセプタ217を上昇させてウエハ200とサセプタ217との距離を近づけることでウエハ200を第2温度にしてもよい。
ウエハ200を支持ピン266によってサセプタ217から離間した状態のまま処理室201内の圧力を上げてヒータ217bからの熱伝導率を大きくすることにより、ウエハ200を昇温させることができる。この場合、排気バルブ243bによって処理室201からの排気量を調整して処理室201内の圧力を調整すればよい。
また、第2昇温工程では、処理室201内の圧力を第1酸化工程における圧力よりも高くするとともに、サセプタ217を上昇させてウエハ200とサセプタ217との距離を近づける、あるいはウエハ200をサセプタ217上に載置することでウエハ200をより迅速に第2温度にしてもよい。
なお、第2昇温工程において基板載置面217d上にウエハ200を載置する場合、少なくとも一時的に処理室201内へのガス供給を停止して処理室201内を減圧(真空排気)することが望ましい。これにより、基板載置面217dとウエハ200との間にガスが滞留することを防止し、基板載置面217d上にウエハ200を載置した際に発生するウエハの横滑りや位置ずれ等が発生するのを防ぐことができる。
第2温度を上記温度範囲とすることにより、第2酸化工程において第1酸化工程よりも酸化レートを向上させることができるとともに、酸化層の質を向上させることができる。第2温度を800℃未満とすることで、膜中の不純物が酸化層を介して処理室201内に放出されたり、不純物がドーピングされている膜以外の部分に拡散するのを抑制することができる。
ウエハ200を第2温度まで昇温した後、第2酸化工程を行う。第2酸化工程では、少なくとも酸素を含む第2酸素含有ガスのプラズマを用いて、第1酸化層が形成されたウエハ200の表面を酸化(改質)して、第1酸化層の厚みが増した第2酸化層を形成する。具体的には、第2昇温工程においてウエハ200を第2温度まで昇温した後、再び第2酸素含有ガスとしてO2ガスとH2ガスとの混合ガスを処理室201内に供給するとともに、共振コイル212に対する高周波電力の印加を開始して、第2酸素含有ガスをプラズマ励起することにより第2酸化工程を実行する。
なお、第1酸化工程及び第2酸化工程のいずれにおいてもウエハ自体の温度を必ずしも測定する必要はなく、例えば、サセプタ217の温度をそれぞれ目標とする第1温度、第2温度の範囲内に設定することでウエハ温度を制御してもよい。
図12で示す例では、ウエハ200の温度が第2温度である500℃まで昇温された時点から第2酸化工程を開始している。すなわちこの例では、第2酸化工程が実行されるウエハ200の温度である500~600℃が第2温度となっている。
サセプタ217の上面217d上でウエハ200を昇温しながら第2酸化工程を実行することにより、ウエハ200の温度が、昇温途中の比較的低い状態から第2酸化工程を開始することができるので、所望の厚さの第2酸化層を形成するまでの時間を短縮することができる。ただし、第2酸化層の質を高めるという観点からは、ウエハ200をサセプタ217の上面217dで支持しながら加熱し、ウエハ200が所望の温度(第2酸化層を所望の質とするのに十分に高い温度)に安定してから、第2酸素含有ガスをプラズマ励起することにより第2酸化工程を実行することが望ましい。
H2ガス、O2ガスの供給を停止した後、ガス排気管231を用いて処理室201内を真空排気する。これにより、処理室201内のH2ガス、O2ガスや、その他の残留物が含まれる排ガス等を処理室201外へと排気する。その後、APCバルブ242の開度を調整し、処理室201内の圧力を処理室201に隣接する、図示しない真空搬送室と同じ圧力に調整する。
処理室201内が所定の圧力となったら、サセプタ217をウエハ200の搬送位置まで下降させ、支持ピン266上にウエハ200を載置させる。そして、ゲートバルブ244を開き、図示しない搬送機構を用いてウエハ200を処理室201外へ搬出する。以上により、本実施形態に係る基板処理工程を終了する。
なお、本開示における半導体装置の製造方法では、上述したように第1昇温工程、第1酸化工程、第2昇温工程、第2酸化工程を順次実行すれば、各酸化工程における基板温度は必ずしも測定する必要はない。
次に、本開示の他の実施形態について説明する。なお、第1実施形態と同様の構成となる部分については、同一符号を付して説明を省略する。
具体的には、処理室201の上方、つまり上側容器210の上面には、光透過窓278が設けられ、光透過窓278上の処理容器203外側には、ランプ加熱ユニット280が設置されている。ランプ加熱ユニット280は、サセプタ217と対向する位置に設けられ、ウエハ200の上方から、光を透過する光透過窓278と遮蔽プレート240を介してウエハ200を加熱するよう構成されている。また、ランプ加熱ユニット280は、制御部としてのコントローラ121により、信号線Gを通じて制御するように構成されている。
ランプ加熱ユニット280を点灯することで、ヒータ217bと比較してより短時間でウエハ200を加熱することができる。また、ヒータ217bを併用することで迅速、かつ、高温に加熱することができ、ウエハ表面の温度を急速に例えば900℃にすることができる。
次に、少なくとも酸素を含む第1酸素含有ガスを処理室201内に供給し、第1酸素含有ガスを励起してプラズマを生成させることにより第1酸化工程を実施する。第1実施形態と同様に、第1酸素含有ガスとして、O2ガスとH2ガスとの混合ガスを供給し、プラズマ酸化によって第1温度のウエハ200の表面を改質して第1酸化層を形成する。
第2昇温工程では、図7に示されるように、サセプタ217を上昇させてウエハ200をサセプタ217上に載置し、ランプ加熱ユニット280も作動させることで、サセプタ217に内蔵されているヒータ217bとともにランプ加熱ユニット280によりウエハ200を加熱する。ランプ加熱ユニット280も用いてウエハ200を加熱することにより、ウエハ200をより急速に昇温させて第1温度よりも高い第2温度に昇温することができる。第2酸化工程ではウエハ200が第2温度に昇温された状態で、第1実施形態と同様に、第2酸素含有ガスとして、O2ガスとH2ガスとの混合ガスを供給し、プラズマ酸化によって第2温度のウエハ200の表面を改質して第1酸化層の厚みが増した第2酸化層を形成する。
第1実施形態及び第2実施形態では、第1酸化工程及び第2酸化工程において基板表面を改質して酸化層を形成する場合について説明したが、本実施形態の半導体装置の製造方法では、第1酸化工程で形成した第1酸化層によってドーパントの抜けが抑制されるため、酸化工程は2段階に限られず、3段階、又はそれ以上に段階を分けて行ってもよい。
例えば、第2酸化工程後に、さらに基板温度を上げて第3酸化工程を行ってもよい。すなわち、第2酸化工程後に、基板を第2温度よりも高い第3温度まで昇温する第3昇温工程を実行して、第2酸化層が形成された基板の表面を、少なくとも酸素を含む第3酸素含有ガスのプラズマによって改質して第2酸化層の厚みが増した第3酸化層を形成する第3酸化工程をさらに行ってもよい。
(プラズマ酸化)
被処理基板として、表面に膜が形成されていないSiウエハ(ベアSiウエハ)を準備した。
図2及び図3に示す概略構成を有する基板処理装置を用い、サセプタ217に内蔵されているヒータ217bによってウエハの温度を変えてプラズマ酸化によってベアSiウエハの表面を酸化させることで酸化層を形成した。
まず、被処理基板を搬送ロボットにより処理室内に搬入してサセプタ上に載置した後、O2及びH2を含んだ混合ガス(H2ガスの導入量:100sccm、O2ガスの導入量:1900sccm)を処理室内に導入し、排気口後方にある圧力調整バルブ(排気バルブ)にて、処理室内の圧力を200Paに調整した。
サセプタの温度を制御することによりサセプタ上に載置されたウエハの温度を調整し、高周波電極に27.12MHzの高周波電力を3.5kW印加して処理室内にプラズマを生成させ、ベアSiウエハの表面をプラズマ酸化させてSiO2膜(酸化層)を形成させた。
上記と同様のベアSiウエハを準備し、ウエハの温度を変えて熱酸化によってベアSiウエハの表面を熱酸化させることで酸化層を形成した。
例えば、熱酸化では20Å(2nm)程度の厚みの酸化層を形成するには600℃程度までウエハを加熱する必要がある。
一方、プラズマ酸化によれば、ウエハ温度が比較的低温の300℃以下であっても30Å(3nm)以上の厚さの酸化層を形成することできる。また、600℃であれば、60Å(6nm)以上の厚みの酸化層を形成することができる。そのため、プラズマ酸化によれば、300℃以下の比較的低温でSi膜中のドーパントの放出、拡散を抑制しながら酸化層を形成することができる。このように比較的低温で形成された酸化層は、Si膜からのドーパントの放出を抑制するキャップ層として機能するため、次いで、400℃を超える比較的高い温度でプラズマ酸化を行うことで、Si膜からのドーパントの放出を抑制しながら高い酸化レートで酸化層の厚みを増大させることができる。
被処理基板として、Pをドーピングした、厚さ1200μmのP-doped poly Si膜(以下、単に「Si膜」と記す場合がある。)を表面に有するSiウエハを準備した。
図7に示す概略構成を有する基板処理装置を用い、被処理基板を搬送ロボットにより処理室内に搬入してサセプタの基板載置面から突出する支持ピン上にウエハを載置した。その後、サセプタの高さを制御して、支持ピン上に載置されたウエハと基板との距離を調整することにより、基板温度を300℃に調整した。
基板温度を調整した後、O2及びH2を含んだ混合ガス(H2ガスの導入量:100sccm、O2ガスの導入量:1900sccm)を処理室内に導入し、排気口後方にある圧力調整バルブにて、処理室内の圧力を200Paに調整した。更に、1段階目の酸化工程として、高周波電極に27.12MHzの高周波電力を0.5kW印加して処理室内に混合ガスのプラズマを生成させることでSi膜の表面に厚さが約2nmのSiO2膜(第1酸化層)を形成させた。
第2酸化層を形成後、ウエハを処理室内から搬出した。
酸化層を形成したウエハについて、5枚ごとに酸化層の厚みの平均値及び厚みの面内均一性を測定した。なお、酸化層の厚みの値は分光エリプソメータを用いてウエハ面内の複数点(49点)を測定し、その平均値とした。また、酸化層の厚みの面内均一性は、ウエハ面内に形成された酸化層の厚さの最大値、最小値、及び平均値に基づいて、「((最大値-最小値)/2)/平均値*100」を均一性の指標として算出した。
図9は、実施例において処理したウエハの処理枚数と、酸化層の厚みの平均値及び厚みの面内均一性との関係を示している。左側縦軸は酸化層の厚みの平均値を示し、右側の縦軸は酸化層の厚さの面内均一性の値(バラつき度合い)を示している。図9に見られるように、P-doped poly Si膜のプラズマ酸化処理を繰り返し行っても、形成されたSiO2膜の厚みの変化はほとんどなく、安定して装置運用が行えることを示している。
例えば、上記実施形態及び実施例では、表面に、不純物がドーピングされた膜を有する基板を用い、プラズマ酸化によって膜を酸化させる場合について主に説明したが、被処理基板はこのような基板に限定されない。例えば、炭素元素を含む酸窒化シリコン(SiOCN)の膜のように、酸化処理によって膜中から脱離し易い、炭素元素のような元素を含む膜が表面に形成された基板を用い、本実施形態における第1酸化工程と第2酸化工程によって表面を改質して酸化層を形成してもよい。このような基板に対して上記実施形態に係る酸化処理を行うことにより、膜中から炭素元素のような所望の元素が脱離するのを抑制しながら膜の表面に酸化層を形成可能となる、等の上述の実施形態と同様の効果を得ることができる。
また、図7に示す基板処理装置は、加熱部としてサセプタとランプを備えているが、加熱部としてランプのみを備えた基板処理装置を用いて、本実施形態に係る半導体装置の製造方法を実施してもよい。
200・・・ウエハ(基板)
201・・・処理室
217・・・サセプタ(基板載置台)
217b・・・ヒータ(加熱部)
266・・・支持ピン(支持体)
280・・・ランプ加熱ユニット(加熱部)
Claims (17)
- 不純物がドーピングされた膜を有し、第1温度である基板の前記膜の表面を、第1酸素含有ガスのプラズマによって改質して厚さが1.6nm以上の第1酸化層を形成する第1酸化工程と、
前記基板を前記第1温度よりも高い第2温度に加熱して、前記第1酸化層が形成された前記膜の表面を、第2酸素含有ガスのプラズマによって改質して前記第1酸化層の厚みが増した第2酸化層を形成する第2酸化工程と、
を有する半導体装置の製造方法。 - 前記第1酸化層の厚さは2nm以上である請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第2温度は800℃未満である請求項1又は請求項2に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1酸化層及び前記第2酸化層は、それぞれSiを含有する酸化層である請求項1~請求項3のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1酸素含有ガスと前記第2酸素含有ガスとが同じ成分組成のガスである請求項1~請求項4のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1酸化工程と前記第2酸化工程とが、同一の処理室内において実行される請求項1~請求項5のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1酸化工程では、ヒータが内蔵された基板載置台の基板載置面の上方で前記基板を支持するよう構成された支持体により、前記基板載置台の前記基板載置面と前記基板とが離間するように前記基板を支持した状態で前記第1酸化層の形成を行う請求項6に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記基板を前記処理室内に搬入する際に、前記基板を前記支持体上に載置する請求項7に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1酸化工程は、前記基板を昇温させながら実行される請求項7又は請求項8に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第2酸化工程では、前記基板載置台の前記基板載置面上に前記基板が載置された状態で前記第2酸化層の形成が行われる請求項7~請求項9のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第2酸化工程では、前記基板をランプによって加熱する請求項1~請求項10のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第2酸化工程後に、前記基板を前記第2温度よりも高い第3温度にして、前記第2酸化層が形成された前記膜の表面を、第3酸素含有ガスのプラズマによって改質して前記第2酸化層の厚みが増した第3酸化層を形成する第3酸化工程をさらに有する請求項1~請求項11のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 基板を処理する処理室と、
前記処理室内に、酸素含有ガスを供給するガス供給部と、
前記処理室内に配置された前記基板を加熱可能な加熱部と、
前記処理室内に供給された前記酸素含有ガスを励起してプラズマを生成させるプラズマ生成部と、
前記処理室内で、不純物がドーピングされた膜を有し、第1温度である前記基板の前記膜の表面を、第1酸素含有ガスのプラズマによって改質して厚さが1.6nm以上の第1酸化層を形成する第1酸化工程、及び前記基板を前記第1温度よりも高い第2温度に加熱して、前記第1酸化層が形成された前記膜の表面を、第2酸素含有ガスのプラズマによって改質して前記第1酸化層の厚みが増した第2酸化層を形成する第2酸化工程を実行するように、前記ガス供給部、前記加熱部、及び前記プラズマ生成部を制御することが可能なように構成された制御部と、
を有する基板処理装置。 - 不純物がドーピングされた膜を有し、基板処理装置の処理室内に配置された第1温度である基板の前記膜の表面を、第1酸素含有ガスのプラズマによって改質して厚さが1.6nm以上の第1酸化層を形成する第1酸化手順と、
前記基板を前記第1温度よりも高い第2温度に加熱して、前記第1酸化層が形成された前記膜の表面を、第2酸素含有ガスのプラズマによって改質して酸化し、前記第1酸化層の厚みが増した第2酸化層を形成する第2酸化手順と、
をコンピュータにより前記基板処理装置に実行させるプログラムを記録したコンピュータにより読み取り可能な記録媒体。 - 前記第1酸化層の厚さは、前記不純物の抜けを抑制する厚みである請求項1~請求項12のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第2酸化工程では、前記第1酸化工程よりも前記処理室内の圧力を高くする請求項6~請求項9のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第2酸化工程において、前記基板載置台の前記基板載置面上に前記基板を載置する前に、前記処理室内を減圧する請求項10に記載の半導体装置の製造方法。
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