JP7158932B2 - Ledウエーハの加工方法 - Google Patents
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- 238000003672 processing method Methods 0.000 title claims description 9
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 253
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 36
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 34
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 31
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 24
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 claims description 22
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 239000010432 diamond Substances 0.000 claims description 22
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 claims description 12
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 7
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000001010 compromised effect Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 230000011218 segmentation Effects 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28D—WORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
- B28D5/00—Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor
- B28D5/02—Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor by rotary tools, e.g. drills
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B9/00—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor
- B24B9/02—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of materials specific to articles to be ground
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02002—Preparing wafers
- H01L21/02005—Preparing bulk and homogeneous wafers
- H01L21/02008—Multistep processes
- H01L21/0201—Specific process step
- H01L21/02021—Edge treatment, chamfering
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
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- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
- H01L21/304—Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting
- H01L21/3043—Making grooves, e.g. cutting
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67092—Apparatus for mechanical treatment
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/70—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
- H01L21/71—Manufacture of specific parts of devices defined in group H01L21/70
- H01L21/76—Making of isolation regions between components
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- H01L21/78—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
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- H01L33/0062—Processes for devices with an active region comprising only III-V compounds
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- Ceramic Engineering (AREA)
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- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
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Description
切削装置40の保持テーブル42に一体化ユニット30を吸引保持すると共に、後に説明する分割工程、研磨工程を実施するための切削ブレード準備工程を行う。以下に、図3を参照しながら、切削ブレード準備工程について説明する。
上記した切削ブレード準備工程が完了したならば、分割工程を実施する。以下に、図4、図5を参照しながら、分割工程について説明する。
切削装置40により上記した分割工程を実施したならば、第一の切削手段60Aを構成する回転スピンドル54の先端部から第一の切削ブレード61を取り外し、切削ブレード準備工程において予め準備しておいた第二の切削ブレード62を、スピンドルユニット50によって回転可能に装着させることで、図6(a)に示すように第二の切削手段60Bを構成する。
図7に示すように、V形状切削ブレード準備工程は、ダイヤモンド砥粒をメタルボンド等により固定して形成された切り刃がV形状に形成されたV形状切削ブレードを準備する工程である。より具体的には、切削装置40のスピンドルユニット50の回転スピンドル54の先端部に装着可能で、研磨溝102の幅よりも厚みがあり(例えば、3mm)、粒径が#1800~#2200、より好ましくは粒径が#2000のダイヤモンド砥粒を含んで構成される直径が60mmの切り刃を有するV形状切削ブレードを準備する工程である。本実施形態では、先端部のV形状の角度が120°の第一のV形状切り刃63aを有する第一のV形状切削ブレード63と、先端部のV形状の角度が90°の第二のV形状切り刃64aを有する第二のV形状切削ブレード64と、先端部のV形状の角度が60°の第三のV形状切り刃65aを有する第三のV形状切削ブレード65と、を準備することで完了する。なお、各V形状切削ブレードは、図7に示すように、回転スピンドル54の先端部に、固定ナット56を螺合することによって固定される。
V形状切削ブレード準備工程と、上記面取り準備工程を終えたならば、図10に示すように、一体化ユニット32を、面取り工程を実施する切削装置40に搬送し、支持基板22側を保持テーブル42に載置して吸引保持する。切削装置40の回転スピンドル54の先端部には、先端部が120°の角度に設定された第一のV形状切り刃63aを有する第一のV形状切削ブレード63が装着され、面取り加工を施すための切削手段が構成されている。保持テーブル42に一体化ユニット32を保持したならば、切削装置40の図示しない撮像カメラ等を含むアライメント手段を用いて、保持テーブル42に保持されたLEDウエーハ10の裏面10bに露出している研磨溝102と、第一のV形状切削ブレード63との位置合わせ(アライメント)を行う。このアライメントを実施したならば、図示しない回転駆動機構により、回転スピンドル54を、例えば、30,000rpmの回転速度で回転させると共に、LEDウエーハ10の裏面10b側の分割予定ライン12に沿って露出している研磨溝102の加工開始位置となる端部の上方に、第一のV形状切削ブレード63を位置付け、所定の切り込み深さ(例えば、裏面10bから0.05mm)になるように下降させる。第一のV形状切削ブレード63を下降させたならば、保持テーブル42を矢印Xで示す方向に5mm/秒の速度で加工送りし、分割予定ライン12に対応する位置に沿って面取り部103を形成する切削加工を実施する。これにより、図11(a)に示すように、裏面10b側の研磨溝102に沿った両側角部に、面取り部103を構成する第一の面取り部103aが、120°の角度で形成される。上記した分割工程、研磨工程と同様の手順により、裏面10b側に露出している全ての研磨溝102に対して、第一のV形状切削ブレード63によって第一の面取り部103aを形成する。
12:分割予定ライン
14:LED
14’:LEDチップ
16:オリエンテーションフラット(オリフラ)
20、22:支持基板
30:一体化ユニット
40:切削装置
42:保持テーブル
50:スピンドルユニット
52:スピンドルハウジング
54:回転スピンドル
56:固定ナット
60A:第一の切削手段
60B:第二の切削手段
61:第一の切削ブレード
61a:第一の切り刃
62:第二の切削ブレード
62a:第二の切り刃
99:凹溝
100:分割溝
100a:分割面
102:研磨溝
120a:研磨面
103:面取り部
103a:第一の面取り部
103b:第二の面取り部
103c:第三の面取り部
Claims (9)
- サファイア基板の上面に分割予定ラインによって区画された領域にLEDが複数形成されたLEDウエーハを個々のLEDチップに分割するLEDウエーハの加工方法であって、
比較的粒径の大きいダイヤモンド砥粒で構成され比較的幅が狭い環状の第一の切り刃を有する第一の切削ブレードと、比較的粒径の小さいダイヤモンド砥粒で構成され比較的幅が広い環状の第二の切り刃を有する第二の切削ブレードと、を準備する切削ブレード準備工程と、
該第一の切削ブレードが回転可能に装着された第一の切削手段とLEDウエーハが保持された保持手段とを相対的に加工送りして該LEDが形成されたLEDウエーハの表面側から該分割予定ラインを切削して、垂直な分割面を有する分割溝を形成しLEDウエーハを個々のLEDチップに分割する分割工程と、
該第二の切削ブレードが回転可能に装着された第二の切削手段とLEDウエーハが保持された保持手段とを相対的に加工送りして該LEDが形成されたLEDウエーハの表面側から該LEDを区画する該分割予定ラインに形成された該分割溝の該分割面を研磨して研磨溝を形成する研磨工程と、
から少なくとも構成され、
切り刃の先端部がV形状に形成されたV形状切削ブレードを準備するV形状切削ブレード準備工程と、
該V形状切削ブレードが回転可能に装着された切削手段と裏面が露出したLEDウエーハが保持された保持手段とを相対的に加工送りして、LEDウエーハの裏面の分割予定ラインに対応して形成された研磨溝に沿って面取り部を形成する面取り加工を施す面取り工程が含まれるLEDウエーハの加工方法。 - 該分割工程において、該第一の切削ブレードの切り込み深さを段階的に深くして分割予定ラインを切削する請求項1に記載のLEDウエーハの加工方法。
- 該第一の切削ブレードを構成するダイヤモンド砥粒の粒径は#300~#500であり、該第二の切削ブレードを構成するダイヤモンド砥粒の粒径は#1800~#2200である請求項1又は2に記載のLEDウエーハの加工方法。
- 該第一の切削ブレードの幅は0.15mm~0.24mmであり、該第二の切削ブレードの幅は0.25mm~0.34mmである請求項1乃至3のいずれかに記載のLEDウエーハの加工方法。
- 該V形状切削ブレード準備工程において、切り刃の先端部がなす角度が異なる複数のV形状切削ブレードを準備し、該面取り工程において、該複数のV形状切削ブレードにより該面取り加工を施す請求項1乃至4のいずれかに記載のLEDウエーハの加工方法。
- 該V形状切削ブレード準備工程において準備されるV形状切削ブレードは3種類であり、該V形状切削ブレードの切り刃の先端部がなす角度は、110°~130°、80°~100°、及び50°~70°の3種類である請求項5に記載のLEDウエーハの加工方法。
- 該V形状切削ブレードを構成するダイヤモンド砥粒の粒径は、#1800~#2200である請求項5又は6のいずれかに記載のLEDウエーハの加工方法。
- 該面取り工程において、該V形状切削ブレード毎に切り込み深さを段階的に深くして、複数回に渡り同じ分割予定ラインに対応する位置に沿って面取り工程を実施する請求項5乃至7のいずれかに記載のLEDウエーハの加工方法。
- 該面取り工程において段階的に深くする際の切り込み深さは、0.04mm~0.06mmである請求項8に記載のLEDウエーハの加工方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018133553A JP7158932B2 (ja) | 2018-07-13 | 2018-07-13 | Ledウエーハの加工方法 |
US16/456,395 US10843381B2 (en) | 2018-07-13 | 2019-06-28 | LED wafer processing method |
CN201910572153.6A CN110718507B (zh) | 2018-07-13 | 2019-06-28 | Led晶片的加工方法 |
KR1020190079335A KR20200007660A (ko) | 2018-07-13 | 2019-07-02 | Led 웨이퍼의 가공 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018133553A JP7158932B2 (ja) | 2018-07-13 | 2018-07-13 | Ledウエーハの加工方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020013832A JP2020013832A (ja) | 2020-01-23 |
JP7158932B2 true JP7158932B2 (ja) | 2022-10-24 |
Family
ID=69139638
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018133553A Active JP7158932B2 (ja) | 2018-07-13 | 2018-07-13 | Ledウエーハの加工方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10843381B2 (ja) |
JP (1) | JP7158932B2 (ja) |
KR (1) | KR20200007660A (ja) |
CN (1) | CN110718507B (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20210202318A1 (en) * | 2019-12-27 | 2021-07-01 | Micron Technology, Inc. | Methods of forming semiconductor dies with perimeter profiles for stacked die packages |
CN113103071B (zh) * | 2021-03-22 | 2022-05-27 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板及其磨边方法 |
CN113733376B (zh) * | 2021-09-03 | 2023-08-01 | 东莞市中镓半导体科技有限公司 | 一种半导体晶圆集成加工装置及其方法 |
CN114750311A (zh) * | 2022-04-21 | 2022-07-15 | 青岛高测科技股份有限公司 | 单线双线切割硅棒的方法、切割设备及切割系统 |
CN114571618A (zh) * | 2022-04-21 | 2022-06-03 | 青岛高测科技股份有限公司 | 三线垂直切割硅棒的方法、切割设备及切割系统 |
CN114589823A (zh) * | 2022-04-21 | 2022-06-07 | 青岛高测科技股份有限公司 | 单线切割硅棒的方法、切割设备及切割系统 |
CN114750312A (zh) * | 2022-04-21 | 2022-07-15 | 青岛高测科技股份有限公司 | 单线三线切割硅棒的方法、切割设备及切割系统 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001127010A (ja) | 1999-10-25 | 2001-05-11 | Hitachi Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2003124151A (ja) | 2001-10-17 | 2003-04-25 | Disco Abrasive Syst Ltd | サファイア基板のダイシング方法 |
JP2003172839A (ja) | 2001-12-04 | 2003-06-20 | Fujitsu Ltd | レジンダイヤモンドブレード及び該ブレードを使用した光導波路の製造方法 |
JP2011254039A (ja) | 2010-06-04 | 2011-12-15 | Disco Abrasive Syst Ltd | サファイア基板の加工方法 |
JP2012146724A (ja) | 2011-01-07 | 2012-08-02 | Disco Abrasive Syst Ltd | 光デバイスウェーハの加工方法および光デバイス |
JP2013021252A (ja) | 2011-07-14 | 2013-01-31 | Toshiba Corp | 半導体発光素子 |
JP2013062429A (ja) | 2011-09-14 | 2013-04-04 | Disco Abrasive Syst Ltd | 被加工物の切削方法 |
JP2014048405A (ja) | 2012-08-30 | 2014-03-17 | Jvc Kenwood Corp | 貼り合わせ基板、及び製造方法 |
JP2016092314A (ja) | 2014-11-10 | 2016-05-23 | 富士ゼロックス株式会社 | 半導体片の製造方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02303050A (ja) * | 1989-05-17 | 1990-12-17 | Fujitsu Ltd | 半導体ウエーハの切断方法 |
JPH09326373A (ja) * | 1996-06-06 | 1997-12-16 | Deisuko Eng Service:Kk | ダイシング方法及びトリプルスピンドルダイサー |
JPH10305420A (ja) | 1997-03-04 | 1998-11-17 | Ngk Insulators Ltd | 酸化物単結晶からなる母材の加工方法、機能性デバイスの製造方法 |
JPH11195627A (ja) * | 1997-12-27 | 1999-07-21 | Hewlett Packard Co <Hp> | 光学素子の製造方法 |
JP3497722B2 (ja) * | 1998-02-27 | 2004-02-16 | 富士通株式会社 | 半導体装置及びその製造方法及びその搬送トレイ |
JP3408805B2 (ja) | 2000-09-13 | 2003-05-19 | 浜松ホトニクス株式会社 | 切断起点領域形成方法及び加工対象物切断方法 |
US6967981B2 (en) * | 2002-05-30 | 2005-11-22 | Xerox Corporation | Nitride based semiconductor structures with highly reflective mirrors |
US7387911B2 (en) * | 2004-11-16 | 2008-06-17 | International Business Machines Corporation | Application of a thermally conductive thin film to a wafer backside prior to dicing to prevent chipping and cracking |
US8895363B2 (en) * | 2013-03-15 | 2014-11-25 | Nxp B.V. | Die preparation for wafer-level chip scale package (WLCSP) |
US9385268B2 (en) * | 2014-11-10 | 2016-07-05 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Method of manufacturing semiconductor chips |
JP7135352B2 (ja) * | 2018-03-14 | 2022-09-13 | 富士電機株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
JP2020013962A (ja) * | 2018-07-20 | 2020-01-23 | 株式会社ディスコ | Ledウエーハの加工方法 |
-
2018
- 2018-07-13 JP JP2018133553A patent/JP7158932B2/ja active Active
-
2019
- 2019-06-28 CN CN201910572153.6A patent/CN110718507B/zh active Active
- 2019-06-28 US US16/456,395 patent/US10843381B2/en active Active
- 2019-07-02 KR KR1020190079335A patent/KR20200007660A/ko not_active Application Discontinuation
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001127010A (ja) | 1999-10-25 | 2001-05-11 | Hitachi Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2003124151A (ja) | 2001-10-17 | 2003-04-25 | Disco Abrasive Syst Ltd | サファイア基板のダイシング方法 |
JP2003172839A (ja) | 2001-12-04 | 2003-06-20 | Fujitsu Ltd | レジンダイヤモンドブレード及び該ブレードを使用した光導波路の製造方法 |
JP2011254039A (ja) | 2010-06-04 | 2011-12-15 | Disco Abrasive Syst Ltd | サファイア基板の加工方法 |
JP2012146724A (ja) | 2011-01-07 | 2012-08-02 | Disco Abrasive Syst Ltd | 光デバイスウェーハの加工方法および光デバイス |
JP2013021252A (ja) | 2011-07-14 | 2013-01-31 | Toshiba Corp | 半導体発光素子 |
JP2013062429A (ja) | 2011-09-14 | 2013-04-04 | Disco Abrasive Syst Ltd | 被加工物の切削方法 |
JP2014048405A (ja) | 2012-08-30 | 2014-03-17 | Jvc Kenwood Corp | 貼り合わせ基板、及び製造方法 |
JP2016092314A (ja) | 2014-11-10 | 2016-05-23 | 富士ゼロックス株式会社 | 半導体片の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN110718507B (zh) | 2024-01-09 |
JP2020013832A (ja) | 2020-01-23 |
CN110718507A (zh) | 2020-01-21 |
US10843381B2 (en) | 2020-11-24 |
US20200020823A1 (en) | 2020-01-16 |
KR20200007660A (ko) | 2020-01-22 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210518 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20220513 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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